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CN103246106B - 一种显示装置、彩色滤光片及其制备方法 - Google Patents

一种显示装置、彩色滤光片及其制备方法 Download PDF

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CN103246106B CN201310157258.8A CN201310157258A CN103246106B CN 103246106 B CN103246106 B CN 103246106B CN 201310157258 A CN201310157258 A CN 201310157258A CN 103246106 B CN103246106 B CN 103246106B
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Abstract

本发明提供了一种显示装置、彩色滤光片及其制备方法,所述的方法包括以下步骤:步骤一、在衬底基板上至少形成相互绝缘的黑矩阵电极、第一电极、第二电极和第三电极;步骤二、利用所述黑矩阵电极、所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极,分别采用电泳沉积方式在所述衬底基板上至少沉积黑矩阵层、第一彩膜图形、第二彩膜图形和第三彩膜图形。上述方案,采用电泳沉积法来制备彩色滤光片中的黑矩阵层、第一彩膜图形、第二彩膜图形和第三彩膜图形,以制得彩色滤光片,工艺简单,操作方便,成膜快,工艺较易控制。

Description

一种显示装置、彩色滤光片及其制备方法
技术领域
本发明涉及液晶显示领域,尤其涉及一种显示装置、彩色滤光片及其制备方法。
背景技术
TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,即薄膜晶体管有源矩阵液晶显示器件)在近几年一直呈现快速增长趋势,已在整个平板显示技术中占据主导地位,凭借其低成本、高自动化生产、响应速度快、广视角、亮度较高、易于实现全色视频图像显示,成为21世纪最具发展前途的显示技术之一。从目前液晶显示器的市场状况看,屏上系统、3D显示、In-Cell技术已成为研究热点,因此,要求显示屏具有高画面质量、色再现范围更大、响应时间更快、低电能消耗,因此需要制备出品质更高,色彩度更好的彩色滤光片。
TFT-LCD是由阵列基板和彩色滤光片构成液晶盒,液晶盒中灌封有液晶,由阵列基板控制液晶偏转来调节光线透过彩色滤光片的强弱来显示,而彩色滤光片决定显示颜色的质量。
现有彩色滤光片包括衬底基板,在衬底基板上设有黑矩阵,在黑矩阵的开口区域设有彩膜图形,通常情况下彩膜图形可以包括分别对应于红绿蓝三基色中一种的第一彩膜图形、第二彩膜图形、第三彩膜图形,或者还可以包括白色、黄色等其他颜色的彩膜图形。在黑矩阵和彩膜图形之上还可以形成平坦化层,在平坦化层之上还可以布设公共电极和形成隔垫物。
现有彩色滤光片的制造工艺中,黑矩阵和各彩膜图形的制造过程大体相同,均是利用掩模来进行构图工艺实现的,具体是将相应颜色的树脂涂覆或沉积在衬底基板上,利用掩模板对其进行曝光,而后显影得到设定图案的黑矩阵或彩膜图形。现有的彩色滤光片的制造工艺过程需要经过涂布、曝光、显影等步骤,过程较复杂,工艺较难控制。
发明内容
本发明的目的就在于提供一种彩色滤光片的制备方法,其工艺简单,操作方便,成膜快,且工艺较易控制。
本发明所提供的技术方案如下:
一种彩色滤光片的制备方法,包括以下步骤:
步骤一、在衬底基板上至少形成相互绝缘的黑矩阵电极、第一电极、第二电极和第三电极;
步骤二、利用所述黑矩阵电极、所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极,分别采用电泳沉积方式在所述衬底基板上至少沉积黑矩阵层、第一彩膜图形、第二彩膜图形和第三彩膜图形。
优选的,所述步骤一具体包括:
在衬底基板上形成一黑矩阵电极,所述黑矩阵电极的开口区域至少限定出第一子像素区、第二子像素区和第三子像素区;
在所述黑矩阵电极的远离所述衬底基板的一侧形成一绝缘层;
在所述绝缘层的远离所述黑矩阵电极的一侧,对应于所述第一子像素区的部分形成所述第一电极,对应于所述第二子像素区的部分形成所述第二电极,对应于所述第三子像素区的部分形成所述第三电极。
优选的,所述步骤二具体包括:
提供一盛装有第一悬浮液的电泳池,所述第一悬浮液含有带电的黑矩阵色料粒子;
提供一电极基板;
将完成步骤一的衬底基板与所述电极基板浸泡于所述第一悬浮液内,其中所述衬底基板上的黑矩阵电极与所述电极基板相对设置;
分别向所述黑矩阵电极与所述电极基板上施加极性相反的电压,其中所述黑矩阵电极上施加的电压与所述黑矩阵色料粒子所带电荷的极性相反,所述黑矩阵色料粒子在所述衬底基板上对应于所述黑矩阵电极的部分进行沉积,形成所述黑矩阵层。
优选的,所述步骤二中所述黑矩阵色料粒子在所述衬底基板上对应于所述黑矩阵电极的部分进行沉积,形成所述黑矩阵层之后还包括:
取出所述衬底基板,进行清洗和固化。
优选的,所述黑矩阵色料粒子采用酸性黑1、酸性黑210或酸性黑234材料。
优选的,所述步骤二具体包括:
提供一盛装有第二悬浮液的电泳池,所述第二悬浮液含有带电的第一彩色色料粒子;
提供一电极基板;
将完成步骤一的衬底基板与所述电极基板浸泡于所述第二悬浮液内,其中所述衬底基板上的第一电极与所述电极基板相对设置;
分别向所述第一电极与所述电极基板上施加极性相反的电压,其中所述第一电极上施加的电压与所述第一彩色色料粒子所带电荷的极性相反,所述第一彩色色料粒子在所述衬底基板的所述第一电极上进行沉积,形成所述第一彩膜图形。
优选的,所述第一彩色色料粒子采用酸性红或金属络合红Red04材料。
优选的,所述步骤二中所述第一彩色色料粒子在所述衬底基板上的第一电极上进行沉积之后还包括:
取出所述衬底基板,进行清洗和固化。
优选的,所述步骤二具体包括:
提供一盛装有第三悬浮液的电泳池,所述第三悬浮液含有带电的第二彩色色料粒子;
提供一电极基板;
将完成步骤一的衬底基板与所述电极基板浸泡于所述第三悬浮液内,其中所述衬底基板上的第二电极与所述电极基板相对设置;
分别向所述第二电极与所述电极基板上施加极性相反的电压,其中所述第二电极上施加的电压与所述第二彩色色料粒子所带电荷的极性相反,所述第二彩色色料粒子在所述衬底基板的所述第二电极上进行沉积,形成所述第二彩膜图形。
优选的,所述第二彩色色料粒子采用金属络合绿GN-20材料。
优选的,所述步骤二中所述第二彩色色料粒子在所述衬底基板的第二电极上进行沉积之后还包括:
取出所述衬底基板,进行清洗和固化。
优选的,所述步骤二具体包括:
提供一盛装有第四悬浮液的电泳池,所述第四悬浮液含有带电的第三彩色色料粒子;
提供一电极基板;
将完成步骤一的衬底基板与所述电极基板浸泡于所述第四悬浮液内,其中所述衬底基板上的第三电极与所述电极基板相对设置;
分别向所述第三电极与所述电极基板上施加极性相反的电压,其中所述第三电极上施加的电压与所述第三彩色色料粒子所带电荷的极性相反,所述第三彩色色料粒子在所述衬底基板的所述第三电极上进行沉积,形成所述第三彩膜图形。
优选的,所述第三彩色色料粒子采用金属络合蓝BL-03材料。
优选的,所述步骤二中所述第三彩色色料粒子在所述衬底基板的所述第三电极上进行沉积之后还包括:
取出所述衬底基板,进行清洗和固化。
本发明的另一个目的在于提供一种彩色滤光片,包括:
一衬底基板;
形成于所述衬底基板上的相互绝缘的黑矩阵电极、第一电极、第二电极和第三电极;
在所述衬底基板上对应于所述黑矩阵电极的部分形成的黑矩阵层;
在所述衬底基板上对应于所述第一电极的部分形成的第一彩膜图形;
在所述衬底基板上对应于所述第二电极的部分形成的第二彩膜图形;
在所述衬底基板上对应于所述第三电极的部分形成的第三彩膜图形。
优选的,所述黑矩阵电极的开口区域至少形成有第一子像素区、第二子像素区和第三子像素区;
在所述衬底基板上还形成有一绝缘层,所述绝缘层覆盖于所述黑矩阵电极的远离所述衬底基板的一侧;
其中,所述第一电极形成于所述绝缘层的远离所述黑矩阵电极的一侧,并与所述第一子像素区相对应;
所述第二电极形成于所述绝缘层的远离所述黑矩阵电极的一侧,并与所述第二子像素区相对应;
所述第三电极形成于所述绝缘层的远离所述黑矩阵电极的一侧,并与所述第三子像素区相对应。
优选的,所述黑矩阵层形成于所述绝缘层的远离所述黑矩阵电极的一侧,并与所述黑矩阵电极的位置相对应;
所述第一彩膜图形形成于所述第一电极的远离所述绝缘层的一侧,并与所述第一电极的位置相对应;
所述第二彩膜图形形成于所述第二电极的远离所述绝缘层的一侧,并与所述第二电极的位置相对应;
所述第三彩膜图形形成于所述第三电极的远离所述绝缘层的一侧,并与所述第三电极的位置相对应。
本发明还提供了一种显示装置,其包括如上任一所述的彩色滤光片。
本发明的有益效果如下:
上述方案是采用电泳沉积法来制备彩色滤光片,彩色滤光片制备过程是在溶液中进行,相对于使用传统的构图工艺相比,材料浪费较少,制备过程中基本无废弃物产生;所采用的设备简单,操作方便;并且成膜快,沉积工艺容易控制,较易通过控制沉积电场强度以及沉积时间控制成膜厚度;此外,可以适用于各种彩色滤光片的制备。
附图说明
图1表示本发明所提供的彩色滤光片的制备方法的流程示意图;
图2表示采用步骤一得到的带有黑矩阵层、第一电极层、第二电极层和第三电极层的衬底基板的结构示意图;
图3所示为采用电泳沉积法在衬底基板上沉积形成黑矩阵层的过程示意图;
图4所示为采用电泳沉积法在衬底基板上沉积形成第一彩膜图形的过程示意图;
图5所示为采用电泳沉积法在衬底基板上沉积形成第二彩膜图形的过程示意图;
图6所示为采用电泳沉积法在衬底基板上沉积形成第三彩膜图形的过程示意图;
图7所示为采用本发明提供的方法制备得到的彩色滤光片的结构示意图;
图8所示为黑矩阵电极200的结构示意图;
图9所示为Stripe型彩色滤光片第一电极、第二电极和第三电极的排布方式;
图10表示Mosaic型彩色滤光片第一电极、第二电极和第三电极的排布方式;
图11表示Delta型彩色滤光片第一电极、第二电极和第三电极的排布方式。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本发明,并非用于限定本发明的范围。
针对现有技术中采用曝光显影技术制备彩色滤光片存在的制备过程复杂,工艺较难控制的问题,本发明提供了一种彩色滤光片的制备方法,其是采用电泳沉积法将各色料粒子沉积形成彩色滤光片的黑矩阵层和红、绿、蓝子像素,该方法具有工艺简单,操作方便,成膜快,工艺较易控制等优点。
电泳沉积法是一种利用悬浮液中带电粒子在外电场作用下不断向电极的一端移动,进而聚集形成粘结的沉积物的方法。
本发明提供的彩色滤光片的制备方法包括以下步骤:
步骤一、在衬底基板上至少形成相互绝缘的黑矩阵电极、第一电极、第二电极和第三电极;
步骤二、利用所述黑矩阵电极、所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极,分别采用电泳沉积方式在所述衬底基板上至少沉积黑矩阵层、第一彩膜图形、第二彩膜图形和第三彩膜图形。
具体的,对应于所述黑矩阵电极的部分沉积黑矩阵层、对应于所述第一电极的部分沉积第一彩膜图形、对应于所述第二电极的部分沉积第二彩膜图形、对应于所述第三电极的部分沉积第三彩膜图形。
上述方案,采用电泳沉积法来制备彩色滤光片中的黑矩阵层、第一彩膜图形、第二彩膜图形和第三彩膜图形,以制得彩色滤光片,工艺简单,操作方便,成膜快,工艺较易控制。
需要说明的是,通常情况下彩膜图形可以包括分别对应于红绿蓝三基色中一种的第一彩膜图形、第二彩膜图形、第三彩膜图形,或者还可以包括白色、黄色等其他颜色的彩膜图形,在此不做限定;相应的,因在所述衬底基板上对应于不同电极的部分形成不同的彩膜图形,衬底基板上还可以包括其他电极,在此不做限定。
如图1所示为本发明的彩色滤光片的制备方法的一种优选实施例的流程图。
图2所示为采用步骤一得到的带有黑矩阵层、第一电极层、第二电极层和第三电极层的衬底基板的结构示意图。如图1和图2所示,本发明所提供的优选实施例中,彩色滤光片的制备方法的步骤一具体包括:
清洗衬底基板100;
在衬底基板100上形成一黑矩阵电极200,其中,所述黑矩阵电极200上具有开口区域,该开口区域至少限定出第一子像素区、第二子像素区和第三子像素区;
在所述黑矩阵电极200的远离所述衬底基板100的一侧覆盖形成一层绝缘层300;
在所述绝缘层300的远离所述黑矩阵电极200的一侧,对应于所述第一子像素区的部分形成所述第一电极400;
在所述绝缘层300的远离所述黑矩阵电极200的一侧,对应于所述第二子像素区的部分形成所述第二电极500;
在所述绝缘层300的远离所述黑矩阵电极200的一侧,对应于所述第三子像素区的部分形成所述第三电极600,通过步骤一得到的衬底基板100的结构如图2所示。
其中,所述黑矩阵电极200、所述第一电极400、所述第二电极500以及所述第三电极600均可以采用透明电极形成,衬底基板100可以采用白玻璃、石英、透明塑料等材质。
此外,需要说明的是,通常情况下彩膜图形可以包括分别对应于红绿蓝三基色中一种的第一彩膜图形、第二彩膜图形、第三彩膜图形,或者还可以包括白色、黄色等其他颜色的彩膜图形,在此不做限定;相对应的,因不同颜色的彩膜图形对应不同的子像素区,所述黑矩阵电极200的开口区域还可以限定出其他子像素区,在此也不做限定。
在进行了上述步骤一在衬底基板100上形成黑矩阵电极200、第一电极400、第二电极500以及第三电极600之后,进行步骤二在衬底基板100上采用电泳沉积法至少沉积形成黑矩阵层、第一彩膜图形、第二彩膜图形和第三彩膜图形。
其中,步骤二中,首先采用电泳沉积法来沉积形成黑矩阵层。图3所示为采用电泳沉积法在衬底基板上沉积黑矩阵层的示意图。如图3所示,黑矩阵层具有优选的采用以下方式通过电泳沉积法形成于衬底基板100上:
提供一盛装有第一悬浮液的电泳池10,所述第一悬浮液含有带电的黑矩阵色料粒子20;
提供一电极基板30;
将步骤一得到的衬底基板100与所述电极基板30浸泡于所述第一悬浮液内,其中如图3所示,所述衬底基板100上的黑矩阵电极200与所述电极基板30相对设置;
分别向所述黑矩阵电极200与所述电极基板30上施加极性相反的电压,其中所述黑矩阵电极200上施加的电压与所述黑矩阵色料粒子20所带电荷的极性相反(图3仅示出黑矩阵色料粒子20带正电荷,黑矩阵电极200上施加阴极电压的情况),黑矩阵色料粒子20在黑矩阵电极200与电极基板30形成的电场作用下,向黑矩阵电极200一侧移动,并聚集沉积在所述衬底基板100的绝缘层300上对应于所述黑矩阵电极200的部分,形成所述黑矩阵层;
通过控制电场大小以及沉积时间控制黑矩阵色料粒子20的沉积物的厚度,当黑矩阵色料粒子20沉积完全后,取出带有粘结的沉积物的衬底基板100;
将带有粘结的沉积物的衬底基板100进行清洗,再固化,即得到带有黑矩阵层的衬底基板100。
需要说明的是,上述方案中,黑矩阵色料粒子20所带电荷可以为正电荷或负电荷,相应地,黑矩阵电极200上施加的电压与黑矩阵色料粒子20所带电荷的极性相反即可,在此,并不局限黑矩阵色料粒子20所带电荷。
此外,黑矩阵色料粒子20优选的可以采用酸性黑1、酸性黑210或酸性黑234材料。第一悬浮液优选的可以采用吡啶或者苯胺和乙醇的混合溶液等。将采用酸性黑1、酸性黑210或酸性黑234材料放入吡啶或者苯胺和乙醇的混合溶液,即得到带电荷的黑矩阵色料粒子20。当然在实际应用中,黑矩阵色料粒子20以及第一悬浮液也可以根据需要采用其他材料实现。
步骤二中,在黑矩阵层完成后,再采用电泳沉积法在带有黑矩阵层的衬底基板100上沉积形成第一彩膜图形。图4所示为采用电泳沉积法在衬底基板上沉积形成第一彩膜图形的示意图。如图4所示,第一彩膜图形具体优选的采用以下方式通过电泳沉积法形成于衬底基板100上:
提供一盛装有第二悬浮液的电泳池10,所述第二悬浮液含有带电的第一彩色色料粒子40;
提供一电极基板30;
将带有黑矩阵层50的衬底基板100与所述电极基板30浸泡于所述第二悬浮液内,其中所述衬底基板100上的第一电极400与所述电极基板30相对设置;
分别向所述第一电极400与所述电极基板30上施加极性相反的电压,其中所述第一电极400上施加的电压与所述第一彩色色料粒子40所带电荷的极性相反(图4仅示出第一彩色色料粒子40带正电荷,第一电极400上施加阴极电压的情况),第一彩色色料粒子40在第一电极400与电极基板30形成的电场作用下,向第一电极400一侧移动,并聚集沉积在所述衬底基板100的第一电极400上,形成所述第一彩膜图形;
通过控制电场大小以及沉积时间控制第一彩色色料粒子40的沉积物的厚度,当第一彩色色料粒子40沉积完全后,取出带有粘结的沉积物的衬底基板100;
将带有粘结的沉积物的衬底基板100进行清洗,再固化,即得到带有黑矩阵层50和第一彩膜图形的衬底基板100。
步骤二中,在第一彩膜图形完成后,再采用电泳沉积法在带有黑矩阵层和第一彩膜图形的衬底基板100上沉积形成第二彩膜图形。图5所示为采用电泳沉积法在衬底基板上沉积形成第二彩膜图形的示意图。如图5所示,第二彩膜图形具体优选的采用以下方式通过电泳沉积法形成于衬底基板100上:
提供一盛装有第三悬浮液的电泳池10,所述第三悬浮液含有带电的第二彩色色料粒子60;
提供一电极基板30;
将带有黑矩阵层50和第一彩膜图形70的衬底基板100与所述电极基板30浸泡于所述第三悬浮液内,其中所述衬底基板100上的第二电极500与所述电极基板30相对设置;
分别向所述第二电极500与所述电极基板30上施加极性相反的电压,其中所述第二电极500上施加的电压与所述第二彩色色料粒子60所带电荷的极性相反(图5仅示出第二彩色色料粒子60带正电荷,第二电极500上施加阴极电压的情况),第二彩色色料粒子60在第二电极500与电极基板30形成的电场作用下,向第二电极500一侧移动,并聚集沉积在所述衬底基板100的第二电极500上,形成所述第二彩膜图形;
通过控制电场大小以及沉积时间控制第二彩色色料粒子60的沉积物的厚度,当第二彩色色料粒子60沉积完全后,取出带有粘结的沉积物的衬底基板100;
将带有粘结的沉积物的衬底基板100进行清洗,再固化,即得到带有黑矩阵层50、第一彩膜图形70和第二彩膜图形的衬底基板100。
步骤二中,在黑矩阵层、第一彩膜图形和第二彩膜图形完成后,采用电泳沉积法再在带有黑矩阵层、第一彩膜图形和第二彩膜图形的衬底基板100上沉积形成第三彩膜图形。图6所示为采用电泳沉积法在衬底基板上沉积形成第三彩膜图形的示意图。如图6所示,第三彩膜图形具体优选的采用以下方式通过电泳沉积法形成于衬底基板100上:
提供一盛装有第四悬浮液的电泳池10,所述第四悬浮液含有带电的第三彩色色料粒子80;
提供一电极基板30;
将带有黑矩阵层50、第一彩膜图形70和第二彩膜图形90的衬底基板100与所述电极基板30浸泡于所述第四悬浮液内,其中所述衬底基板100上的第三电极600与所述电极基板30相对设置;
分别向所述第三电极600与所述电极基板30上施加极性相反的电压,其中所述第三电极600上施加的电压与所述第三彩色色料粒子80所带电荷的极性相反(图6仅示出第三彩色色料粒子80带正电荷,第三电极600上施加阴极电压的情况),第三彩色色料粒子80在第三电极600与电极基板30形成的电场作用下,向第三电极600一侧移动,并聚集沉积在所述衬底基板100的第三电极600上,形成所述第三彩膜图形;
通过控制电场大小以及沉积时间控制第三彩色色料粒子80的沉积物的厚度,当第三彩色色料粒子80沉积完全后,取出带有粘结的沉积物的衬底基板100;
将带有粘结的沉积物的衬底基板100进行清洗,再固化,即得到如图8所示的带有黑矩阵层50、第一彩膜图形70、第二彩膜图形90和第三彩膜图形110的彩色滤光片,完成彩色滤光片的制备。
需要说明的是,上述第一彩膜图形、第二彩膜图形和第三彩膜图形分别对应于红绿蓝三基色中一种;此外,上述对黑矩阵层、第一彩膜图形、第二彩膜图形和第三彩膜图形的制作顺序仅仅是示例性的说明,实际上可以根据生产需要或设计要求自行进行调整,在此并不对黑矩阵层和各彩膜图形的电泳沉积形成顺序进行限定。
其中,第一彩色色料粒子40优选的可以采用酸性红或金属络合红Red04材料,第二悬浮液可以采用吡啶或者苯胺和乙醇的混合溶液等。将酸性红或金属络合红Red04材料粒子放入吡啶或者苯胺和乙醇的混合溶液,即得到带电荷的第一彩色色料粒子40。当然在实际应用中,第一彩色色料粒子40以及第二悬浮液也可以根据需要采用其他材料实现。
第二彩色色料粒子60可以采用金属络合绿GN-20材料,第三悬浮液可以采用吡啶或者苯胺和乙醇的混合溶液等。将金属络合绿GN-20材料粒子放入吡啶或者苯胺和乙醇的混合溶液,即得到带电荷的第二彩色色料粒子60。当然在实际应用中,第二彩色色料粒子60以及第三悬浮液也可以根据需要采用其他材料实现。
第三彩色色料粒子80可以优选采用金属络合蓝BL-03材料。第四悬浮液可以采用吡啶或者苯胺和乙醇的混合溶液等。将金属络合蓝BL-03材料粒子放入吡啶或者苯胺和乙醇的混合溶液,即得到带电荷的第三彩色色料粒子80。当然在实际应用中,第三彩色色料粒子80以及第四悬浮液也可以根据需要采用其他材料实现。
采用上述本发明所提供的方法制备彩色滤光片,制备过程是在溶液中进行,相对于使用传统的构图工艺相比,材料浪费较少,制备过程中基本无废弃物产生;所采用的设备简单,操作方便;并且成膜快,沉积工艺容易控制,较易通过控制沉积电场强度以及沉积时间控制成膜厚度;此外,可以通过控制黑矩阵电极200、第一电极400、第二电极500和第三电极600的形状结构来制备各种排列的彩色滤光片,可以适用于各种彩色滤光片的制备,如:图9所示为Stripe(直条)型彩色滤光片第一电极、第二电极和第三电极的排布方式;图10表示Mosaic(马赛克)型彩色滤光片第一电极、第二电极和第三电极的排布方式;图11表示Delta(三角)型彩色滤光片第一电极、第二电极和第三电极的排布方式。
此外,还需说明的是,本发明所提供的彩色滤光片的制备方法尤其适用于制备TN面板(全称Twisted Nematic,扭曲向列型面板)的彩色滤光片。
此外,本发明实施例中还提供了一种能够采用上述方法制备得到的彩色滤光片。如图7所示,该彩色滤光片包括:
一衬底基板100;
形成于所述衬底基板100上的相互绝缘的黑矩阵电极200、第一电极400、第二电极500和第三电极600;
在所述衬底基板100上对应于所述黑矩阵电极200的部分形成的黑矩阵层50;
在所述衬底基板100上对应于所述第一电极400的部分形成的第一彩膜图形70;
在所述衬底基板100上对应于所述第二电极500的部分形成的第二彩膜图形90;
在所述衬底基板100上对应于所述第三电极600的部分形成的第三彩膜图形110。
本实施例中,优选的,如图9所示,所述黑矩阵电极200的开口区域至少形成有第一子像素区、第二子像素区和第三子像素区;
在所述衬底基板100上还形成有一绝缘层300,所述绝缘层300覆盖于所述黑矩阵电极200的远离所述衬底基板100的一侧;
其中,所述第一电极400形成于所述绝缘层300的远离所述黑矩阵电极200的一侧,并与所述第一子像素区相对应;
所述第二电极500形成于所述绝缘层300的远离所述黑矩阵电极200的一侧,并与所述第二子像素区相对应;
所述第三电极600形成于所述绝缘层300的远离所述黑矩阵电极200的一侧,并与所述第三子像素区相对应。
优选的,所述黑矩阵层50形成于所述绝缘层300的远离所述黑矩阵电极200的一侧,并与所述黑矩阵电极200的位置相对应;
所述第一彩膜图形70形成于所述第一电极400的远离所述绝缘层300的一侧,并与所述第一电极400的位置相对应;
所述第二彩膜图形90形成于所述第二电极500的远离所述绝缘层300的一侧,并与所述第二电极500的位置相对应;
所述第三彩膜图形110形成于所述第三电极600的远离所述绝缘层300的一侧,并与所述第三电极600的位置相对应。
另外,本发明的实施例还提供了一种显示装置,其包括如上所述的任意一种彩色滤光片。所述显示装置可以为:液晶面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
以上是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (16)

1.一种彩色滤光片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一、在衬底基板上至少形成相互绝缘的黑矩阵电极、第一电极、第二电极和第三电极;
步骤二、利用所述黑矩阵电极、所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极,分别采用电泳沉积方式在所述衬底基板上至少沉积黑矩阵层、第一彩膜图形、第二彩膜图形和第三彩膜图形,
其中所述步骤一具体包括:
在衬底基板上形成一黑矩阵电极,所述黑矩阵电极的开口区域至少限定出第一子像素区、第二子像素区和第三子像素区;
在所述黑矩阵电极的远离所述衬底基板的一侧形成一绝缘层;
在所述绝缘层的远离所述黑矩阵电极的一侧,对应于所述第一子像素区的部分形成所述第一电极,对应于所述第二子像素区的部分形成所述第二电极,对应于所述第三子像素区的部分形成所述第三电极。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,
所述步骤二具体包括:
提供一盛装有第一悬浮液的电泳池,所述第一悬浮液含有带电的黑矩阵色料粒子;
提供一电极基板;
将完成步骤一的衬底基板与所述电极基板浸泡于所述第一悬浮液内,其中所述衬底基板上的黑矩阵电极与所述电极基板相对设置;
分别向所述黑矩阵电极与所述电极基板上施加极性相反的电压,其中所述黑矩阵电极上施加的电压与所述黑矩阵色料粒子所带电荷的极性相反,所述黑矩阵色料粒子在所述衬底基板上对应于所述黑矩阵电极的部分进行沉积,形成所述黑矩阵层。
3.根据权利要求2所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述步骤二中所述黑矩阵色料粒子在所述衬底基板上对应于所述黑矩阵电极的部分进行沉积之后还包括:
取出所述衬底基板,进行清洗和固化。
4.根据权利要求2所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述黑矩阵色料粒子采用酸性黑1、酸性黑210或酸性黑234材料。
5.根据权利要求1所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,
所述步骤二具体包括:
提供一盛装有第二悬浮液的电泳池,所述第二悬浮液含有带电的第一彩色色料粒子;
提供一电极基板;
将完成步骤一的衬底基板与所述电极基板浸泡于所述第二悬浮液内,其中所述衬底基板上的第一电极与所述电极基板相对设置;
分别向所述第一电极与所述电极基板上施加极性相反的电压,其中所述第一电极上施加的电压与所述第一彩色色料粒子所带电荷的极性相反,所述第一彩色色料粒子在所述衬底基板的所述第一电极上进行沉积,形成所述第一彩膜图形。
6.根据权利要求5所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述第一彩色色料粒子采用酸性红或金属络合红Red04材料。
7.根据权利要求5所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述步骤二中所述第一彩色色料粒子在所述衬底基板的所述第一电极上进行沉积之后还包括:
取出所述衬底基板,进行清洗和固化。
8.根据权利要求1所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,
所述步骤二具体包括:
提供一盛装有第三悬浮液的电泳池,所述第三悬浮液含有带电的第二彩色色料粒子;
提供一电极基板;
将完成步骤一的衬底基板与所述电极基板浸泡于所述第三悬浮液内,其中所述衬底基板上的第二电极与所述电极基板相对设置;
分别向所述第二电极与所述电极基板上施加极性相反的电压,其中所述第二电极上施加的电压与所述第二彩色色料粒子所带电荷的极性相反,所述第二彩色色料粒子在所述衬底基板的所述第二电极上进行沉积,形成所述第二彩膜图形。
9.根据权利要求8所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述第二彩色色料粒子采用金属络合绿GN-20材料。
10.根据权利要求8所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述步骤二中所述第二彩色色料粒子在所述衬底基板的所述第二电极上进行沉积之后还包括:
取出所述衬底基板,进行清洗和固化。
11.根据权利要求1所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,
所述步骤二具体包括:
提供一盛装有第四悬浮液的电泳池,所述第四悬浮液含有带电的第三彩色色料粒子;
提供一电极基板;
将完成步骤一的衬底基板与所述电极基板浸泡于所述第四悬浮液内,其中所述衬底基板上的第三电极与所述电极基板相对设置;
分别向所述第三电极与所述电极基板上施加极性相反的电压,其中所述第三电极上施加的电压与所述第三彩色色料粒子所带电荷的极性相反,所述第三彩色色料粒子在所述衬底基板的所述第三电极上进行沉积,形成所述第三彩膜图形。
12.根据权利要求11所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述第三彩色色料粒子采用金属络合蓝BL-03材料。
13.根据权利要求11所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述步骤二中所述第三彩色色料粒子在所述衬底基板的所述第三电极上进行沉积之后还包括:
取出所述衬底基板,进行清洗和固化。
14.一种彩色滤光片,其特征在于,包括:
一衬底基板;
形成于所述衬底基板上的相互绝缘的黑矩阵电极、第一电极、第二电极和第三电极;
在所述衬底基板上对应于所述黑矩阵电极的部分形成的黑矩阵层;
在所述衬底基板上对应于所述第一电极的部分形成的第一彩膜图形;
在所述衬底基板上对应于所述第二电极的部分形成的第二彩膜图形;
在所述衬底基板上对应于所述第三电极的部分形成的第三彩膜图形;
其中,
所述黑矩阵电极的开口区域至少形成有第一子像素区、第二子像素区和第三子像素区;
在所述衬底基板上还形成有一绝缘层,所述绝缘层覆盖于所述黑矩阵电极的远离所述衬底基板的一侧;
其中,所述第一电极形成于所述绝缘层的远离所述黑矩阵电极的一侧,并与所述第一子像素区相对应;
所述第二电极形成于所述绝缘层的远离所述黑矩阵电极的一侧,并与所述第二子像素区相对应;
所述第三电极形成于所述绝缘层的远离所述黑矩阵电极的一侧,并与所述第三子像素区相对应。
15.根据权利要求14所述的彩色滤光片,其特征在于,
所述黑矩阵层形成于所述绝缘层的远离所述黑矩阵电极的一侧,并与所述黑矩阵电极的位置相对应;
所述第一彩膜图形形成于所述第一电极的远离所述绝缘层的一侧,并与所述第一电极的位置相对应;
所述第二彩膜图形形成于所述第二电极的远离所述绝缘层的一侧,并与所述第二电极的位置相对应;
所述第三彩膜图形形成于所述第三电极的远离所述绝缘层的一侧,并与所述第三电极的位置相对应。
16.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求14-15任一项所述的彩色滤光片。
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