Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

CN102830137B - 氮化镓基液体传感器及其制备方法 - Google Patents

氮化镓基液体传感器及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102830137B
CN102830137B CN201210319891.8A CN201210319891A CN102830137B CN 102830137 B CN102830137 B CN 102830137B CN 201210319891 A CN201210319891 A CN 201210319891A CN 102830137 B CN102830137 B CN 102830137B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
contact electrode
algan
liquid sensor
gan
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201210319891.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102830137A (zh
Inventor
罗卫军
陈晓娟
袁婷婷
庞磊
刘新宇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Institute of Microelectronics of CAS
Original Assignee
Institute of Microelectronics of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Institute of Microelectronics of CAS filed Critical Institute of Microelectronics of CAS
Priority to CN201210319891.8A priority Critical patent/CN102830137B/zh
Publication of CN102830137A publication Critical patent/CN102830137A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102830137B publication Critical patent/CN102830137B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)

Abstract

本发明公开了一种氮化镓基液体传感器,包括:欧姆接触电极、表面钝化层、肖特基接触电极及半导体衬底;所述半导体衬底外延上生长有AlGaN/GaN异质结材料结构;所述欧姆接触电极、表面钝化层、肖特基接触电极分别设置在所述AlGaN/GaN异质结材料结构上表面。本发明还公开了一种氮化镓基液体传感器的制备方法。本发明提供的一种氮化镓基液体传感器及其制备方法,结合AlGaN/GaN材料体系所具有的高化学稳定性、高极化2DEG浓度、无毒环保、耐高温、便于系统集成等优点,研制出性能优异的液体传感器,在国家安全、环境保护、医疗卫生、食品安全等领域都具有广泛的应用前景。

Description

氮化镓基液体传感器及其制备方法
技术领域
本发明涉及半导体器件和传感器的技术领域,特别涉及一种氮化镓基液体传感器及其制备方法。
背景技术
液体传感器有着广泛的应用,如在军事医学中,在苛刻的战争条件下进行快速血液分析;在工农业生产中,可对高分子聚合物、pH值、蛋白分子和某种特定官能团等进行检测与分析;在环境保护中,可对水环境中的有害离子种类和浓度进行检测。随着半导体和微电子技术的发展,半导体液体传感器成为各国的研究热点之一。传统的Si、GaAs等半导体材料研制而成的传感器,化学稳定性较差、响应时间长,而且不能工作在高温、辐射等恶劣环境中,限制了半导体传感器的发展和应用。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种高化学稳定性、高灵敏度和适于工作在恶劣环境的氮化镓基液体传感器及其制备方法。
为解决上述技术问题,本发明一个方面,提供的一种氮化镓基液体传感器,包括:欧姆接触电极、表面钝化层、肖特基接触电极及半导体衬底;
所述半导体衬底外延上生长有AlGaN/GaN异质结材料结构;
所述表面钝化层设置在所述欧姆接触电极及肖特基接触电极之间;
所述欧姆接触电极、表面钝化层、肖特基接触电极分别设置在所述AlGaN/GaN异质结材料结构上表面。
进一步地,所述AlGaN/GaN异质结材料结构包括:
GaN层、AlN插入层及AlGaN层;
所述AlGaN层上表面设有所述欧姆接触电极、表面钝化层及肖特基接触电极;
所述AlGaN层依次通过AlN插入层、GaN层与所述半导体衬底连接。
进一步地,所述欧姆接触电极为圆形电极,直径为100-200um。
进一步地,所述表面钝化层为环形结构,宽度为20-40um。
进一步地,所述GaN层的厚度为2-3um;
所述AlN插入层的厚度为1-2nm;
所述AlGaN层的厚度为22-25nm,Al组分为23-26%。
本发明的另一个方面,提供一种氮化镓基液体传感器制备方法,包括:先采用金属有机物汽相外延方法在半导体SiC衬底外延上生长AlGaN/GaN异质结材料结构;
再采用电子束蒸发工艺在AlGaN/GaN异质结材料结构上沉积Ni/Au金属层作为肖特基电极;
再采用电子束蒸发工艺沉积Ti/Al/Ti/Au金属层作为欧姆接触电极;
最后采用等离子体增强化学汽相沉积的方法在两个电极之间的环形部分生长SiNX薄膜作为表面钝化层。
进一步地,所述AlGaN/GaN异质结材料结构包括GaN层、AlN插入层及AlGaN层;
所述欧姆接触电极、表面钝化层及肖特基接触电极设置在所述AlGaN层上表面;
所述AlGaN层依次通过AlN插入层、GaN层与所述半导体衬底连接。
进一步,所述欧姆接触电极的制作在氮气保护下快速退火完成。
进一步地,所述欧姆接触电极为圆形电极,直径为100-200um;
所述表面钝化层为环形结构,宽度为20-40um。
进一步地,所述GaN层的厚度为2-3um;
所述AlN插入层的厚度为1-2nm;
所述AlGaN层的厚度为22-25nm,Al组分为23-26%。
本发明提供的一种氮化镓基液体传感器及其制备方法,结合AlGaN/GaN材料体系所具有的高化学稳定性、高极化2DEG浓度、无毒环保、耐高温、便于系统集成等优点,研制出性能优异的液体传感器,在国家安全、环境保护、医疗卫生、食品安全等领域都具有广泛的应用前景。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种氮化镓基液体传感器的俯视图;
图2为图1所示结构的剖视图;
图3为图1所示结构在乙醇和丙酮溶液中的响应曲线示意图;
图4为图1所示结构在丙酮溶液中的时间响应曲线示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的,技术方案和优点描述的更清晰,以下结合具体的实施例及附图加以说明。
参见图1、图2,本发明提供的一种氮化镓基液体传感器,包括本发明提供的一种氮化镓基液体传感器,包括:肖特基接触电极101、欧姆接触电极102、表面钝化层103及半导体衬底107。表面钝化层103设置在欧姆接触电极102及肖特基接触电极101之间。欧姆接触电极103为圆形电极,直径为100-200um,本实施例采用200um。表面钝化层102为环形结构,宽度为20-40um,本实施例采用40um。
半导体衬底107外延上生长有AlGaN/GaN异质结材料结构。其中,AlGaN/GaN异质结材料结构包括:GaN层106、AlN插入层105及AlGaN层104。AlGaN层104上表面设有欧姆接触电极102、表面钝化层103及肖特基接触电极101。AlGaN层104依次通过GaN层105、AlN插入层106与半导体衬底107连接。GaN层106的厚度为2-3um,本实施例采用3um。AlN插入层105的厚度为1-2nm,本实施例采用1nm。AlGaN层104的厚度为22-25nm,本实施例采用23nm,Al组分为23-26%,本实施例采用25%。由于压电极化和自发极化效应,AlGaN/GaN异质结可以形成高浓度、高迁移率的二维电子气(2DEG),该2DEG对于半导体表面的变化将迅速作出响应。因此,AlGaN/GaN异质结所具有的化学和电学等优点,使得该结构非常适合于研制高化学稳定性、高灵敏度和适于工作在恶劣环境的新型液体传感器。
本发明提供的制备上述氮化镓基液体传感器的方法,包括以下几个步骤:
步骤S1:先采用金属有机物汽相外延方法(MOCVD)在半导体SiC衬底107外延上生长AlGaN/GaN异质结材料结构。AlGaN/GaN异质结材料结构包括GaN层106、AlN插入层105及AlGaN层104。AlGaN层104依次通过AlN插入层105、GaN层106与半导体衬底107连接。其中,GaN106层的厚度为2-3um,本实施例采用3um;AlN插入层105的厚度为1-2nm,本实施例采用1nm;AlGaN层104的厚度为22-25nm,本实施例采用23nm,Al组分为23-26%,本实施例采用25%。
步骤S2:再采用电子束蒸发工艺在AlGaN/GaN异质结材料结构上沉积Ni/Au金属层作为肖特基电极102。具体是在AlGaN/GaN异质结材料结构的AlGaN层104上采用电子束蒸发工艺沉积Ni(40nm)/Au(300nm)金属层作为肖特基电极102。
步骤S3:再采用电子束蒸发工艺沉积Ti/Al/Ti/Au金属层作为欧姆接触电极101。具体是采用电子束蒸发工艺沉积Ti(20nm)/Al(200nm)/Ti(20nm)/Au(40nm)金属层,并在氮气保护下870℃/50s快速退火形成欧姆接触电极101。欧姆接触电极101为圆形电极,直径为100-200um,本实施例采用200um。
步骤S4:最后采用等离子体增强化学汽相沉积的方法在两个电极之间的环形部分生长100nm厚度SiNX薄膜作为表面钝化层103保护传感器的表面。表面钝化层103为环形结构,宽度为20-40um,本实施例采用40um。
如图3所示,横轴为电压,纵轴为肖特基电流,方形图注SiNx,In Air表示液体传感器在空气中的响应曲线,圆形图注SiNx,Ethanol表示该传感器在乙醇溶液中的响应曲线,三角形图注SiNx,Acetone表示该传感器在丙酮溶液中的响应曲线。本实施例提供的氮化镓基液体传感器在乙醇和丙酮溶液中肖特基结正、反向电流均出现明显增大的现象,表明该传感器在正、反向偏压下都可以工作。在反向电压V=-20V的偏置下,传感器在空气、乙醇和丙酮中的电流分别为3.14、10.79和80.80uA,即该新型传感器在乙醇和丙酮溶液中分别表现出3.4倍和29倍的电流响应。不同的相应度是由于待测溶液本身的极化偶极矩大小不同,对AlGaN/GaN新型液体传感器表面电势的改变也不同,使得传感器的电流响应不同。AlGaN/GaN新型液体传感器可以根据待测极性溶液的不同特性,精确地给出电流响应曲线,从而可以有效地进行极性分子溶液的辨别和检测。
由图4可见,横轴表示时间,纵轴表示肖特基响应电流,两段曲线分别表示该传感器在空气中和丙酮溶液中的响应结果。本实施例提供的氮化镓基液体传感器在V=-20V的偏置下(300K),对丙酮溶液迅速做出响应,肖特基结电流从3uA增加到35uA,相应时间小于0.1s,说明该新型传感器具有非常好的灵敏度,其原因是因为AlGaN/GaN异质结由于极化效应所形成的二维电子气(2DEG),该2DEG具有高浓度、高迁移率的特性,能够迅速对传感器表面电势的变化做出相应,从而改变其电流的大小。
传统的Si、GaAs等半导体材料研制而成的传感器,化学稳定性较差、效应时间长,而且不能工作在高温、辐射等恶劣环境中,限制了半导体传感器的发展和应用。
本发明提供的氮化镓基液体传感器及其制备方法,结合AlGaN/GaN材料体系所具有的高化学稳定性、高极化2DEG浓度、无毒环保、耐高温、便于系统集成等优点,使其非常适用于液体传感器的研制,能够有效弥补传统的半导体传感器的缺点和不足,在国家安全、环境保护、医疗卫生、食品安全等领域都具有广泛的应用前景。
最后所应说明的是,以上具体实施方式仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照实例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的精神和范围,其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

Claims (8)

1.一种氮化镓基液体传感器,其特征在于,包括:
欧姆接触电极、表面钝化层、肖特基接触电极及半导体SiC衬底;
所述半导体SiC衬底外延上生长有AlGaN/GaN异质结材料结构;
所述表面钝化层设置在所述欧姆接触电极及肖特基接触电极之间;
所述欧姆接触电极、表面钝化层、肖特基接触电极分别设置在所述AlGaN/GaN异质结材料结构上表面;
所述AlGaN/GaN异质结材料结构包括:GaN层、AlN插入层及AlGaN层;
所述AlGaN层上表面设有所述欧姆接触电极、表面钝化层及肖特基接触电极;
所述AlGaN层依次通过AlN插入层、GaN层与所述半导体SiC衬底连接。
2.如权利要求1所述的氮化镓基液体传感器,其特征在于:
所述欧姆接触电极为圆形电极,直径为100-200um。
3.如权利要求2所述的氮化镓基液体传感器,其特征在于:
所述表面钝化层为环形结构,宽度为20-40um。
4.如权利要求1所述的氮化镓基液体传感器,其特征在于:
所述GaN层的厚度为2-3um;
所述AlN插入层的厚度为1-2nm;
所述AlGaN层的厚度为22-25nm,Al组分为23-26%。
5.一种氮化镓基液体传感器制备方法,其特征在于,包括:
先采用金属有机物汽相外延方法在半导体SiC衬底外延上生长AlGaN/GaN异质结材料结构;
再采用电子束蒸发工艺在AlGaN/GaN异质结材料结构上沉积Ni/Au金属层作为肖特基电极;
再采用电子束蒸发工艺沉积Ti/Al/Ti/Au金属层作为欧姆接触电极;
最后采用等离子体增强化学汽相沉积的方法在两个电极之间的环形部分生长SiNX薄膜作为表面钝化层;
所述AlGaN/GaN异质结材料结构包括GaN层、AlN插入层及AlGaN层;
所述欧姆接触电极、表面钝化层及肖特基接触电极设置在所述AlGaN层上表面;
所述AlGaN层依次通过AlN插入层、GaN层与所述半导体衬底连接。
6.如权利要求5所述的氮化镓基液体传感器,其特征在于:
所述欧姆接触电极的制作在氮气保护下快速退火完成。
7.如权利要求5所述的氮化镓基液体传感器,其特征在于:
所述欧姆接触电极为圆形电极,直径为100-200um;
所述表面钝化层为环形结构,宽度为20-40um。
8.如权利要求5所述的氮化镓基液体传感器,其特征在于:
所述GaN层的厚度为2-3um;
所述AlN插入层的厚度为1-2nm;
所述AlGaN层的厚度为22-25nm,Al组分为23-26%。
CN201210319891.8A 2012-08-31 2012-08-31 氮化镓基液体传感器及其制备方法 Active CN102830137B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210319891.8A CN102830137B (zh) 2012-08-31 2012-08-31 氮化镓基液体传感器及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210319891.8A CN102830137B (zh) 2012-08-31 2012-08-31 氮化镓基液体传感器及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102830137A CN102830137A (zh) 2012-12-19
CN102830137B true CN102830137B (zh) 2014-08-13

Family

ID=47333348

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210319891.8A Active CN102830137B (zh) 2012-08-31 2012-08-31 氮化镓基液体传感器及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102830137B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103928525A (zh) * 2014-04-25 2014-07-16 中国科学院微电子研究所 场效应晶体管液体传感器及其制备方法
CN103944534A (zh) * 2014-04-25 2014-07-23 中国科学院微电子研究所 一种数字移相器
CN105206524A (zh) * 2015-10-22 2015-12-30 中国科学院微电子研究所 GaN基器件中阻止欧姆接触铝元素横向扩散的方法
CN108649117B (zh) * 2018-05-17 2020-01-10 大连理工大学 二维电子气沟道半耗尽型霍尔传感器及其制作方法
CN108878576B (zh) * 2018-07-03 2020-11-20 中国科学院微电子研究所 一种氧化镓基紫外探测器
CN110988065A (zh) * 2019-12-03 2020-04-10 中国科学院微电子研究所 氮化镓传感器件及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6690042B2 (en) * 2000-09-27 2004-02-10 Sensor Electronic Technology, Inc. Metal oxide semiconductor heterostructure field effect transistor
US20090045438A1 (en) * 2005-12-28 2009-02-19 Takashi Inoue Field effect transistor, and multilayered epitaxial film for use in preparation of field effect transistor

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6690042B2 (en) * 2000-09-27 2004-02-10 Sensor Electronic Technology, Inc. Metal oxide semiconductor heterostructure field effect transistor
US20090045438A1 (en) * 2005-12-28 2009-02-19 Takashi Inoue Field effect transistor, and multilayered epitaxial film for use in preparation of field effect transistor

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
《2DEG GaN Hot Electron Microbolometers and Quantum Cascade Lasers for THz Heterodyne Sensing》;R. Ramaswamy等;《Micro- and Nanotechnology Sensors, Systems, and Applications》;20111231;第8031卷 *
《Improved Sensitivity of AlGaN/GaN Field Effect Transistor Biosensors by Optimized Surface Functionalization》;Xuejin Wen等;《IEEE SENSORS JOURNAL》;20110831;第11卷(第8期);1726-1735 *
《Liquid-phase sensors using open-gate AlGaN/GaN high electron mobility transistor structure》;Kokawa等;《Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures》;20060830;第24卷(第4期);1972-1976 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN102830137A (zh) 2012-12-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102830137B (zh) 氮化镓基液体传感器及其制备方法
CN105424780B (zh) 一种氮化镓传感器、制备方法和多传感器系统
Zhang et al. High performance flexible visible-blind ultraviolet photodetectors with two-dimensional electron gas based on unconventional release strategy
CN103928525A (zh) 场效应晶体管液体传感器及其制备方法
US10418495B2 (en) Gallium nitride-based sensor having heater structure and method of manufacturing the same
JP2016219632A (ja) 半導体装置とその製造方法
US20140175516A1 (en) Two-dimensional electron gas sensor and methods for making and using the sensor
US8008691B2 (en) Ion sensitive field effect transistor and production method thereof
CN110890457B (zh) 集成背面垂直型和正面水平型三维磁场探测功能的高温霍尔传感器及其制作方法
Podolska et al. Ion versus pH sensitivity of ungated AlGaN/GaN heterostructure-based devices
CN104897762A (zh) GaN基生物传感器及其制作方法
CN108519174B (zh) GaN电桥式绝压压力传感器及制作方法
CN205193005U (zh) 一种氮化镓传感器和多传感器系统
Downey et al. Electrical characterization of Schottky contacts to N-polar GaN
US11828820B2 (en) High-temperature three-dimensional hall sensor with real-time working temperature monitoring function and manufacturing method therefor
CN110459471B (zh) 一种双栅结构GaN基pH传感器的制备方法
JP6024317B2 (ja) 半導体装置
CN104897741A (zh) GaN基生物传感器及其制作方法
WO2015049598A1 (en) Mems pressure sensor with a high electron mobility transistor and a production method thereof
Pletschen et al. CIP (cleaning-in-place) stability of AlGaN/GaN pH sensors
Monroy et al. Reliability of Schottky contacts on AlGaN
CN105576119A (zh) 一种高灵敏度霍尔元件及其制备方法
CN111103346B (zh) 一种场效应传感器及其检测方法和检测系统
US11137310B2 (en) Micro-hall effect devices for simultaneous current and temperature measurements for both high and low temperature environments
Taher et al. High electron mobility transistor-based hydrogen sensor using ITO as a sensing layer

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant