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CN102828150A - 镀膜件及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种镀膜件，包括基体、真空镀膜的方式依次形成于基体上的陶瓷层及色彩层；该陶瓷层主要由金属或非金属M、O及N三种元素构成，其中M为Al或Si；所述色彩层主要由金属M′、O及N三种元素构成，其中M′为Al或Zn。该镀膜件呈现出纯正的骨瓷质感的外观。本发明还提供了所述镀膜件的制造方法。

Description

镀膜件及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种镀膜件及其制造方法，尤其涉及一种具有骨瓷质感的镀膜件及其制造方法。
背景技术
现有技术，通常采用喷涂、阳极处理及PVD镀膜等技术于电子产品(如手机、PDA等)的壳体表面形成装饰性膜层，以使壳体呈现出彩色的外观。然而，上述壳体虽然呈现出彩色的外观，却不能呈现出如骨瓷般的洁白、细腻、通透、清洁等视觉或外观效果。
传统的骨瓷产品的制作方法是以动物骨灰(主要成分为Ca3(PO4)2)、优质高岭土及石英为基本原料，经过高温素烧和低温釉烧两次烧制而成，其制作工艺复杂、成品率低、价格十分高昂，因而难以实现大批量地工业生产。此外，传统的骨瓷产品还具有轻脆易碎的特点。
发明内容
鉴于此，本发明提供一种具有骨瓷质感的镀膜件。
另外，本发明还提供一种上述镀膜件的制造方法。
一种镀膜件，包括基体、真空镀膜的方式依次形成于基体上的陶瓷层及色彩层；该陶瓷层主要由金属或非金属M、O及N三种元素构成，其中M为Al或Si；所述色彩层主要由金属M′、O及N三种元素构成，其中M′为Al或Zn。
一种镀膜件的制造方法，其包括如下步骤：
提供基体；
采用真空镀膜法，以铝、铝合金、硅或硅合金为靶材，以氧气及氮气为反应气体，在该基体的表面形成陶瓷层，该陶瓷层主要由Al、O及N三种元素构成或Si、O及N三种元素构成；
采用真空镀膜法，以铝、铝合金、锌或锌合金为靶材，以氧气及氮气为反应气体，在该陶瓷层上形成色彩层，该色彩层主要由Al、O及N三种元素构成或Zn、O及N三种元素构成。
所述镀膜件通过于基体上结合溅射陶瓷层与色彩层，使该镀膜件呈现出纯正的骨瓷质感的外观。相较于传统的骨瓷产品，该镀膜件的制作方法简单、良率较高且生产成本较低，可实现大批量地工业生产，因而可运用于电子产品壳体、建筑装饰件、汽车装饰件及家居生活用品等诸多产品中。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图；
图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。
主要元件符号说明
镀膜件                10
基体                  11
陶瓷层                13
色彩层                15
镀膜机                100
镀膜室                20
真空泵                30
轨迹                  21
第一靶材              22
第二靶材              23
气源通道              24
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1，本发明一较佳实施例的镀膜件10包括基体11、依次形成于基体11上的陶瓷层13及色彩层15。该镀膜件10可以为电子装置外壳，也可以为钟表外壳、金属卫浴件及建筑用件。
基体11的材质为金属或非金属，其中金属可为不锈钢、铝、铝合金、镁或镁合金，非金属可为塑料。
所述陶瓷层13主要由金属或非金属M、O及N三种元素构成，其中M可为铝(Al)或硅(Si)。当M为Al时，该陶瓷层13主要由Al2O3及氮固溶体组成，其中Al的质量百分含量为35～42％，O的质量百分含量为50～55％，N的质量百分含量为3～15％。当M为Si时，该陶瓷层13主要由SiO2及氮固溶体组成，其中Si的质量百分含量为30～40％，O的质量百分含量为50～55％，N的质量百分含量为5～20％。
所述陶瓷层13呈透明的类玻璃状外观。该陶瓷层13通过磁控溅射、真空蒸镀等真空镀膜的方式形成。所述陶瓷层的厚度可为1～2μm。
所述色彩层15通过磁控溅射、真空蒸镀及电弧离子镀等真空镀膜的方式形成。该色彩层15主要由金属M′、O及N三种元素构成，其中M′为铝(Al)或锌(Zn)。当M′为Al时，该色彩层15主要由Al2O3、Al单质及氮固溶体组成；当M′为Zn时，该色彩层15主要由ZnO2、Zn单质及氮固溶体组成。该色彩层15中M′的质量百分含量为80～90％，O的质量百分含量为5～9％，N的质量百分含量为1～15％。
所述色彩层15的光泽度为90～106。该色彩层15的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为90至95，a*坐标为-0.5至0.5，b*坐标为-0.5至0.5，呈现为白色。
所述透明的类玻璃状的陶瓷层13与所述色彩层15的结合可使所述镀膜件10呈现骨瓷质感的外观。
本发明镀膜件10的制造方法包括以下步骤：
提供基体11，该基体11的材质为金属或非金属，其中金属可为不锈钢、铝或铝合金、镁合金，非金属可为塑料。
将基体11进行预处理。该预处理包括分别用去离子水和无水乙醇对基体11表面进行擦拭、以及用丙酮溶液对基体11进行超声波清洗等步骤。
对经上述处理后的基体11的表面进行氩气等离子体清洗，以进一步去除基体11表面的油污，以及改善基体11表面与后续镀层的结合力。结合参阅图2，提供一真空镀膜机100，该真空镀膜机100包括一镀膜室20及连接于镀膜室20的一真空泵30，真空泵30用以对镀膜室20抽真空。该镀膜室20内设有转架(未图示)、相对设置的二第一靶材22及相对设置的二第二靶材23。转架带动基体11沿圆形的轨迹21公转，且基体11在沿轨迹21公转时亦自转。每一第一靶材22及每一第二靶材23的两端均设有气源通道24，气体经该气源通道24进入所述镀膜室20中。其中，所述第一靶材22为铝靶、铝合金靶、硅或者硅合金靶，所述第二靶材23为铝靶、铝合金靶、锌靶或锌合金靶。所述第一靶材22为铝合金靶或硅合金靶靶时，其中铝或硅的质量百分含量为85～90％；所述第二靶材23为铝合金靶或锌合金靶时，其中铝或锌的质量百分含量为85～90％。
该等离子体清洗的具体操作及工艺参数可为：将基体11固定于真空镀膜机100的镀膜室20中的转架上，将该镀膜室20抽真空至3.0×10-5Torr，然后向镀膜室20内通入流量约为100～400sccm(标准状态毫升/分钟)的氩气(纯度为99.999％)，并施加-200～-500V的偏压于基体11，对基体11的表面进行氩气等离子体清洗，清洗时间为3～20min。
采用磁控溅射镀膜法，在经氩气等离子体清洗后的基体11上溅镀陶瓷层13。溅镀该陶瓷层13在所述真空镀膜机100中进行。开启第一靶材22，并设定第一靶材22的功率为5～10kw；以氧气及氮气为反应气体，调节氧气的流量为50～200sccm、氮气的流量为80～300sccm，以氩气为工作气体，调节氩气的流量为100～300sccm。溅镀时，对基体11施加-100～-300V的偏压，并加热所述镀膜室20至温度为20～200℃(即镀膜温度为20～200℃)，镀膜时间为10～30min。该陶瓷层13的厚度为1～2μm。
采用磁控溅射镀膜法，在所述陶瓷层13上溅射一色彩层15。开启第二靶材23，并设定第二靶材23的功率为5～10kw；以氧气及氮气为反应气体，调节氧气的流量为50～200sccm、氮气的流量为80～300sccm，以氩气为工作气体，调节氩气的流量为100～300sccm。溅镀时，对基体11施加-100～-300V的偏压，并加热所述镀膜室20至温度为20～200℃(即镀膜温度为20～200℃)，镀膜时间为3～20min。
可以理解的，所述镀膜件10还可以在基体11与陶瓷层13之间设置一铝合金或硅合金的打底层，以增加膜基之间的结合力。
可以理解的，所述镀膜件10还可以在陶瓷层13与色彩层15之间设置一铝、铝合金、锌或锌合金的结合层，以增加膜层之间的结合力。
可以理解的，所述陶瓷层13及色彩层15还可通过真空蒸镀及电弧离子镀等真空镀膜的方式形成。
所述镀膜件10通过于基体11上结合溅射陶瓷层13与色彩层15，使该镀膜件10呈现出纯正的骨瓷质感的外观。相较于传统的骨瓷产品，该镀膜件10的制作方法简单、良率较高且生产成本较低，可实现大批量地工业生产，因而可运用于3C电子产品壳体、建筑装饰件、汽车装饰件及家居生活用品等诸多产品中。
此外，相较于传统的骨瓷产品，不锈钢、铝、铝合金、镁或镁合金等金属或塑料材质的基体11可增强所述镀膜件10的韧性，因而所述镀膜件10还具有不易碎的特点；且当基体11的材质为铝、铝合金、镁或镁合金等轻金属或塑料时，所述镀膜件10还能呈现出较传统的骨瓷产品更为轻盈的质地。

Claims (15)

1.一种镀膜件，包括基体，其特征在于：该镀膜件还包括通过真空镀膜的方式依次形成于基体上的陶瓷层及色彩层；该陶瓷层主要由金属或非金属M、O及N三种元素构成，其中M为Al或Si；所述色彩层主要由金属M′、O及N三种元素构成，其中M′为Al或Zn。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：当M为Al时，该陶瓷层主要由Al2O3及氮固溶体组成。
3.如权利要求2所述的镀膜件，其特征在于：所述陶瓷层中Al的质量百分含量为35～42％，O的质量百分含量为50～55％，N的质量百分含量为3～15％。
4.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：当M为Si时，该陶瓷层主要由SiO2及氮固溶体组成。
5.如权利要求4所述的镀膜件，其特征在于：所述陶瓷层中Si的质量百分含量为30～40％，O的质量百分含量为50～55％，N的质量百分含量为5～20％。
6.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：当M′为Al时，该色彩层主要由Al2O3、Al单质及氮固溶体组成；当M′为Zn时，该色彩层主要由ZnO2、Zn单质及氮固溶体组成。
7.如权利要求6所述的镀膜件，其特征在于：所述色彩层中M′的质量百分含量为80～90％，O的质量百分含量为5～9％，N的质量百分含量为1～15％。
8.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该陶瓷层的厚度为1～2μm。
9.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述色彩层的光泽度为90～106。
10.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述色彩层的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为90至95，a*坐标为-0.5至0.5，b*坐标为-0.5至0.5。
11.一种镀膜件的制造方法，其包括如下步骤：
提供基体；
采用真空镀膜法，以铝、铝合金、硅或硅合金为靶材，以氧气及氮气为反应气体，在该基体的表面形成陶瓷层，该陶瓷层主要由Al、O及N三种元素构成或Si、O及N三种元素构成；
采用真空镀膜法，以铝、铝合金、锌或锌合金为靶材，以氧气及氮气为反应气体，在该陶瓷层上形成色彩层，该色彩层主要由Al、O及N三种元素构成或Zn、O及N三种元素构成。
12.如权利要求11所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：用以形成所述陶瓷层的靶材中，铝合金靶材中铝的质量百分含量为85～90％，硅合金靶材中硅的质量百分含量为85～90％。
13.如权利要求11所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：用以形成所述色彩层的靶材中，铝合金靶材中铝的质量百分含量为85～90％，锌合金靶材中锌的质量百分含量为85～90％。
14.如权利要求11或12所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：形成所述陶瓷层的工艺参数为：采用磁控溅射镀膜法，设置铝靶、铝合金靶、硅靶或硅合金靶的功率为5～10kw，氧气的流量为50～200sccm、氮气的流量为80～300sccm，以氩气为工作气体，氩气的流量为100～300sccm，施加于基体的偏压为-100～-300V，镀膜温度为20～200℃，镀膜时间为10～30min。
15.如权利要求11或13所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：形成所述色彩层的工艺参数为：采用磁控溅射镀膜法，设置铝靶、铝合金靶、硅靶或硅合金靶的功率为5～10kw，氧气的流量为50～200sccm、氮气的流量为80～300sccm，以氩气为工作气体，氩气的流量为100～300sccm，施加于基体的偏压为-100～-300V，镀膜温度为20～200℃，镀膜时间为3～20min。
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