CN102582190A - 一种光学用双向拉伸聚酯基膜及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光学用双向拉伸聚酯基膜及其制作方法,该基膜是以聚酯为主要成分的双向拉伸聚酯薄膜,由上表层、芯层和下表层构成,其雾度为0~1.0%,高透明度≥95%,薄膜不含任何气泡、鱼眼,表面无划痕、擦痕、异物。这样的双向拉伸聚酯薄膜,其高透明性、低雾度、光学均匀度等光学性能优异,且易于涂布。本发明的基膜适合制作光学功能薄膜,如光扩散膜、增亮膜、棱镜膜等,用作LCD、PDP等光学显示时,其光学性能提高,画面亮度均匀,降低能耗,画面显示质量提高。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学用双向拉伸聚酯基膜及其制作方法,更具体地说是一种低雾度、高透明度的光学级聚酯基膜,用于光学功能薄膜如光扩散膜、增亮膜、棱镜膜等的制造。
背景技术
LCD、PDP显示对光学薄膜的需求很高,要求薄膜具有很高透明度以降低能耗,同时薄膜不能有异物划痕擦痕。通常在一张液晶显示屏要用到7~8张不同功能的光学薄膜(主要包括:放射膜、增亮膜、扩散膜、广视角膜、防反射膜、离型膜和保护膜),这些功能膜基本都是以光学用双向拉伸聚酯薄膜为基膜经涂布特殊涂层来实现的。因此基膜的质量决定了液晶显示的质量。
现有的双向拉伸聚酯薄膜是采用有辊式的异步拉伸方式生产的,靠拉伸辊的速比不同产生拉伸,这样薄膜会与辊面摩擦产生细小的擦痕划痕,若用于光学薄膜则严重影响显示器的光学显示。
发明内容
针对上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种光学用双向拉伸聚酯基膜,其适合制作光学功能薄膜,如光扩散膜、增亮膜、光棱镜膜等,用作LCD、PDP等光学显示时,其光学性能提高,画面亮度均匀,降低能耗,画面显示质量高。
本发明为实现其目的所采取的技术方案为:一种光学用双向拉伸聚酯基膜,由上表层、芯层和下表层三层结构构成,其中:芯层的组份为光学级聚酯,上、下表层的组份均由聚酯母料,或聚酯母料和光学级聚酯构成;该基膜雾度为0~1.0%,透明度≥95%。
所述上、下表层组份,按重量百分比计:聚酯母料为40-100%wt,光学级聚酯为0-60%wt。
所述聚酯母料采用光学级PET聚酯母料。
所述聚酯母料,其有效成分含有圆形SiO2微粒、聚甲基丙烯酸甲酯微粒、交联聚苯乙烯微粒的一种或几种,浓度为30000ppm~100000ppm。
所述上表层、下表层厚度为25~50μm,芯层厚度为200~250μm。
该基膜的一面或两面进行电晕处理,或者两面都不进行电晕处理。
本发明的另一目的是提供制作光学用双向拉伸聚酯基膜的方法,按如下步骤进行:
a、聚酯切片经过流化床以140~160℃的温度干燥4~5小时得干燥原料;所述干燥原料在熔融挤出机中加热成熔融状态,经过滤后进入进入计量挤出机,精过滤后得到无气泡高质量熔体,作为芯层熔体。
两台辅助双螺杆挤出机中将聚酯母料,或聚酯母料和聚酯切片经过熔融、抽真空处理后,过滤除去原料中的水份与杂质得到分别作为上表层和下表层的辅挤熔体;芯层熔体与辅挤熔体在三层模头中汇合挤出,汇合挤出温度为270~290℃;
b、对于所述步骤a中挤出的混合熔体,经过第一、第二急冷辊两面冷却形成铸片,再将铸片冷却到60~65℃;
c、铸片经过纵拉机进行纵向拉伸,经红外线加热后115~125℃进行采用无辊式拉伸。
d、经过纵向拉伸的厚片进入横向拉伸机,采用悬浮式热空气电加热,加热到130~140℃进行横向拉伸;拉伸后在横拉机以80~120℃进行热定型。
e、经过d步骤的薄膜经修边后进入牵引机,薄膜经牵引辊展平进行电晕处理。
f、电晕处理后的薄膜进入在线分切机进行分切、卷取、制成成品。
该制作方法在牵引机第一根辊子前设置有一清洁辊。
上述各步骤均在洁净车间中进行,车间洁净度为100000级,在车间的生产设备独立空间内,其洁净度为10000级。
本发明采用无辊式纵向拉伸工艺和悬浮式横向拉伸工艺,薄膜在热定型之前不与任何机械物体接触,确保薄膜表面无细小划痕、擦痕等。另一方面,用作光学薄膜的基膜需经过精密涂布上光学功能层,为确保光学功能层涂布均匀,涂层不脱落,薄膜表面的直径≥5μm灰尘个数小于10个/m2,因此必须在洁净车间内生产。
纵向机不是普通的辊式拉伸,靠拉伸辊的速比不同进行拉伸,而是采用无辊的红外加热拉伸,膜面不与任何辊面接触,膜面避免产生细微的划痕、擦痕。
由上述技术方案可知:本发明采用无辊式纵向拉伸工艺和悬浮横拉工艺,薄膜在生产中在热定型之前不与任何机械物体接触,确保薄膜表面无细小划痕、擦痕等。同时在洁净车间内生产有效控制薄膜表面的细小灰尘。本发明的基膜适合制作光学功能薄膜,如光扩散膜、增亮膜、光棱镜膜等,用作LCD、PDP等光学显示时,其光学性能提高,画面亮度均匀,降低能耗,画面显示质量高。
具体实施方式
实施例1
上表层由聚酯母料和光学级聚酯切片构成,按重量百分比计,其中:聚酯母料为40%wt,余量为光学级聚酯切片;下表层由聚酯母料和光学级聚酯切片构成,按重量百分比计,其中:聚酯母料为40%wt,余量为光学级聚酯切片;芯层为100%光学级聚酯切片。聚酯母料的有效成分为SiO2微粒,有效浓度为30000ppm。
该薄膜按下列方法进行:
a、光学级聚酯切片经过流化床以140~160℃的温度干燥4~5小时得干燥原料;所述干燥原料在熔融挤出机中加热成熔融状态,经过滤后进入进入计量挤出机,精过滤后得到无气泡高质量熔体,作为芯层熔体。
两台辅助双螺杆挤出机中将聚酯母料,或聚酯母料和光学级聚酯切片经过熔融、抽真空处理后,过滤除去原料中的水份与杂质得到分别作为上表层和下表层的辅挤熔体;芯层熔体与辅挤熔体在三层模头中汇合挤出,汇合挤出温度为270~290℃;
b、对于所述步骤a中挤出的混合熔体,经过第一、第二急冷辊两面冷却形成铸片,再将铸片冷却到60~65℃;
c、铸片经过纵拉机进行纵向拉伸,经红外线加热后115~125℃进行采用无辊式拉伸;
d、经过纵向拉伸的厚片进入横向拉伸机,采用悬浮式热空气电加热,加热到130~140℃进行横向拉伸;拉伸后在横拉机以80~120℃进行热定型;
e、经过d步骤的薄膜经修边后进入牵引机,薄膜经牵引辊展平进行一面或二面电晕处理(根据实际需要也可不进行电晕处理);
f、电晕处理后的薄膜进入在线分切机进行分切、卷取、制成成品。
实施例2
上表层由聚酯母料和光学级聚酯切片构成,按重量百分比计,其中:聚酯母料为60%wt,余量为光学级聚酯切片;下表层由聚酯母料和光学级聚酯切片构成,按重量百分比计,其中:聚酯母料为60%wt,余量为光学级聚酯切片;芯层为100%光学级聚酯切片。聚酯母料的有效成分为聚甲基丙烯酸甲酯微粒,有效浓度为50000ppm。
生产方法与实施例1同。
实施例3
上、下表层由100%wt聚酯母料构成;芯层为100%光学级聚酯切片。聚酯母料的有效成分为交联聚苯乙烯微粒,有效浓度为100000ppm。
生产方法与实施例1同。
上述实施方案,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明做任何形式的限制。凡是依据本发明的技术和方法实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明的技术和方法方案的范围内。
Claims (10)
1.一种光学用双向拉伸聚酯基膜,其特征在于:该基膜为三层结构,由上表层、芯层和下表层构成,其中:芯层的组份为光学级聚酯,上、下表层的组份均由聚酯母料,或聚酯母料和光学级聚酯构成;该基膜雾度为0~1.0%,透明度≥95%。
2.根据权利要求1所述的光学用双向拉伸聚酯基膜,其特征在于:所述上、下表层组份,按重量百分比计:聚酯母料为40-100%wt,光学级聚酯为0-60%wt。
3.根据权利要求1所述的光学用双向拉伸聚酯基膜,其特征在于:所述聚酯母料采用光学级PET聚酯母料。
4.根据权利要求3所述的光学用双向拉伸聚酯基膜,其特征在于:所述聚酯母料,其有效成分含有圆形SiO2微粒、聚甲基丙烯酸甲酯微粒、交联聚苯乙烯微粒的一种或几种,浓度为30000ppm~100000ppm。
5.根据权利要求1所述的光学用双向拉伸聚酯基膜,其特征在于:所述上表层、下表层厚度为25~50μm,芯层厚度为200~250μm。
6.根据权利要求1所述的光学用双向拉伸聚酯基膜,其特征在于:该基膜的一面或两面进行电晕处理,或者两面都不进行电晕处理。
7.制作权利要求1-6任一项所述的光学用双向拉伸聚酯基膜的方法,其特征在于包括如下步骤:
a、光学级聚酯经过流化床以140~160℃的温度干燥4~5小时得干燥原料;所述干燥原料在熔融挤出机中加热成熔融状态,经过滤后进入计量挤出机,精过滤后得到无气泡高质量熔体,作为芯层熔体;两台辅助双螺杆挤出机将聚酯母料,或聚酯母料和光学级聚酯切片经过熔融、抽真空处理后,过滤除去原料中的水份与杂质得到分别作为上表层和下表层的辅挤熔体;芯层熔体与辅挤熔体在三层模头中汇合挤出混合熔体,汇合挤出温度为270~290℃;
b、将步骤a中所得的混合熔体经过急冷辊两面冷却形成铸片,将铸片冷却到60~65℃;
c、无辊红外加热拉伸,铸片经红外线加热至115~125℃,进行无辊式拉伸;
d、经过纵向拉伸的厚片进入横向拉伸机,采用悬浮式热空气电加热,加热到130~140℃进行横向拉伸成薄膜,并在横拉机上以80~120℃进行热定型;
e、将步骤d中所得的薄膜经修边后进入牵引机,薄膜经牵引辊冷却展平;
f、冷却展平后的薄膜进入在线分切机进行分切、卷取、制成成品。
8.根据权利要求7所述的光学用双向拉伸聚酯基膜的制作方法,其特征在于:步骤e中所述薄膜经牵引辊冷却展平并进行电晕处理。
9.根据权利要求7所述的光学用双向拉伸聚酯基膜的制作方法,其特征在于:步骤e中在牵引机的第一根辊子前设置一清洁辊。
10.根据权利要求7所述的光学用双向拉伸聚酯基膜的制作方法,其特征在于:该方法中各步骤均在洁净车间中进行,车间洁净度为100000级,在车间的生产设备独立空间内,其洁净度为10000级。
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