CN101671354A - 一种脱模剂的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种脱膜剂的制备方法，采用硅烷偶联剂单体经水解缩合反应进行制备。所述硅烷偶联剂单体可以为4－甲基－(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷，还可以为正硅酸乙酯，将经过本发明方法制备的脱模剂改性过的模具用在微透镜阵列光栅的制作上，制得的光栅表面形貌好，不会出现发毛、橘皮、水纹、透光不均匀等，能够满足生产高质量光栅的要求。
Description
技术领域
本发明涉及一种脱模剂的制备方法。
背景技术
在立体显示技术中，尤其是裸眼立体显示技术中，微透镜阵列光栅的使用越来越广泛，微透镜阵列光栅的生产工艺也日趋成熟和多样，尤其是采用UV固化胶(紫外光照射固化胶)生产微透镜阵列光栅的工艺越来越受到关注和发展。UV固化胶粘剂是由预聚物，活性单体，光引发剂等主成分配以稳定剂、流平剂等助剂组成。其在适当波长的UV光照射下，光引发剂迅速生成自由基或离子，引发预聚物和活性单体聚合交联成网状结构，从而完成与被粘材料的粘接。
在微凹形阵列模具上可制备微凸透镜阵列光栅，在微凸形阵列模具上可制备微凹透镜阵列光栅，制备中模具的材质可以为金属(铜、铁、锡等)，也可以是UV固化胶材料(环氧树脂、聚酯、聚氨酯等)，或者有机聚合物(聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、聚苯乙烯等)。下面对现有技术中制作微凹透镜阵列光栅的方法进行详细说明。
制作方法包括如下步骤：
步骤一：在模具上涂布UV固化胶。将UV固化胶涂布于柱状微凸形阵列模具上，在UV固化胶上面覆盖一层PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)材料或玻璃等基底材料，通过调整好间距的辊压机或覆膜机滚压平整，多余胶量被挤出；也可以将UV固化胶涂布后经过间距合适的UV辊涂机使UV固化胶自然流平。
步骤二：紫外光固化。将涂布完成的微凸形阵列模具放置在无氧环境中，如氮气环境等，用紫外灯照射使UV固化胶固化。
步骤三：脱模。也就是剥离，可以人工剥离也可以机械剥离得到柱状微凹透镜阵列光栅。
为了能够完整无缺的进行剥离，在制作光栅前，需要对模具的表面进行改性处理，改变模具表面的性能，使得光栅从模具上脱离更加容易。目前的改性方式是表面镀膜和使用脱膜剂，表面镀膜的优点是制得的光栅表面形貌好。但是镀膜温度高，易使得模具发生变形，对于拱宽窄且拱高大的凸光栅和大部分的凹光栅不适用，制作光栅的脱膜次数有限，工艺成本较高等。使用脱膜剂的优点是价格低廉，对所有光栅都适用，脱膜次数比采用镀膜的多。但是目前市售的脱膜剂改性模具后也能顺利制作出光栅，但制得的子光栅会出现发毛、橘皮、水纹、透光不均匀等，不能满足应用。
发明内容
本发明的目的在于提供一种成本低廉改性效果更好的脱模剂的制备方法，该方法获得的脱模剂能弥补现有脱模剂的不足。
为了实现本发明的目的，特提供一种脱膜剂的制备方法，采用硅烷偶联剂单体经水解缩合反应进行制备。
所述硅烷偶联剂单体可以为4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷，具体制备步骤如下：
1)用量筒分别量取1份纯度96％的4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷和15份去离子水混合于圆底烧瓶中；
2)加入磁力搅拌子并开动磁力搅拌2分钟使溶液混合均匀，此时溶液呈浑浊状态；
3)向烧瓶中滴加酸性溶液使得溶液PH值至3.0至4.0之间，然后加入16份无水乙醇，加热回流24小时后得到无色透明的脱膜剂。
所述硅烷偶联剂单体还可以为正硅酸乙酯，具体制备步骤如下：
1)用量筒分别量取7份无水乙醇和3份去离子水混合于圆底烧瓶中，加入磁力搅拌子并开动磁力搅拌；
2)向烧瓶中滴加8份正硅酸乙酯，再向烧瓶中滴加酸性溶液使得PH值至3.0至4.0之间，室温下搅拌反应5小时后得到无色透明溶液；
3)将该无色透明溶液均匀混合于由200份乙醇和2000份去离子水组成的溶剂中，搅拌1小时，即获得脱膜剂。
所述酸性溶液可为冰醋酸或盐酸。
将经过上述方法制备的脱模剂改性过的模具用在微透镜阵列光栅制作上，制得的光栅表面形貌好，不会出现发毛、橘皮、水纹、透光不均匀等，能够满足生产高质量光栅的要求。
附图说明
无
具体实施方式
本发明中脱膜剂的制备均采用硅烷偶联剂单体进行水解缩合反应的方法。本发明实施例列举了利用两种硅烷偶联剂单体制备脱模剂的方法，两种硅烷偶联剂单体分别为4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷和正硅酸乙酯，下面分别进行说明。
(一)利用4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷制备脱膜剂的方法
1)用量筒分别量取10ml纯度96％的4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷和150ml去离子水混合于圆底烧瓶中；
2)加入磁力搅拌子并开动磁力搅拌2分钟使溶液混合均匀，此时溶液呈浑浊状态；
3)向烧瓶中滴加冰醋酸或盐酸调节溶液PH值至3.0至4.0之间，然后加入160ml无水乙醇做增溶剂，加热回流反应24小时后得到无色透明溶液，即为脱膜剂。
上述方法中，4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷、去离子水及无水乙醇的比例为1∶15∶16。
(二)利用正硅酸乙酯制备脱膜剂的方法
1)用量筒分别量取7ml无水乙醇和3ml去离子水混合于圆底烧瓶中，加入磁力搅拌子并开动磁力搅拌；
2)向烧瓶中滴加8ml正硅酸乙酯，再滴加向烧瓶中滴加冰醋酸或盐酸调节溶液PH值至3.0至4.0之间，室温下搅拌反应5小时后得到无色透明溶液；
3)将该溶液均匀滴入由200ml乙醇和2000ml去离子水组成的溶剂中，搅拌1小时，即获得脱膜剂。
制得上述脱模剂后，将待改性模具浸泡在上述利用4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷制备的脱膜剂中，浸泡0.5分钟后取出，沿模具沟壑方向竖直放入60℃的恒温电热鼓风干燥箱内，放置0.5-1.5小时后改性过程完成。放置时间长短根据模具的栅距而定，栅距越小，相应需要的改性时间越长。
对于上述利用正硅酸乙酯制备的脱膜剂，同样将待改性模具浸泡其中0.5分钟后取出，室温下沿模具沟壑方向竖直放置，时间1-3天后改性过程完成，放置时间长短根据模具的栅距而定，栅距越小，相应需要的改性时间越长。
将经过上述改性过的模具用在光栅制作过程中，制得的光栅表面形貌好。不会出现发毛、橘皮、水纹、透光不均匀等，能够满足生产高质量光栅的要求。本领域技术人员可以预见，依照本发明制备的脱模剂的应用不限于光栅的制备，还可以用于其它采用模具进行生产的领域。而且并不限于上述两种硅烷偶联剂单体，其它硅烷偶联剂单体同样可以获得相同的效果。
本发明制备出适合模具表面改性的脱膜剂，模具经表面改性后可无限次制备光栅且光栅的表面形貌光洁、透光均匀，能够满足应用。
上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的技术人员在本方法的启示下，在不脱离本方法宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可以做出很多变形，这些均属于本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1、一种脱膜剂的制备方法，其特征在于，采用硅烷偶联剂单体经水解缩合反应进行制备。
2、根据权利要求1所述的脱膜剂的制备方法，其特征在于，所述硅烷偶联剂单体为4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷，具体制备步骤如下：
1)用量筒分别量取1份纯度96％的4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷和15份去离子水混合于圆底烧瓶中；
2)加入磁力搅拌子并开动磁力搅拌2分钟使溶液混合均匀，此时溶液呈浑浊状态；
3)向烧瓶中滴加酸性溶液使得溶液PH值至3.0至4.0之间，然后加入16份无水乙醇，加热回流24小时后得到无色透明的脱膜剂。
3、根据权利要求1所述的脱膜剂的制备方法，其特征在于，所述硅烷偶联剂单体为正硅酸乙酯，具体制备步骤如下：
1)用量筒分别量取7份无水乙醇和3份去离子水混合于圆底烧瓶中，加入磁力搅拌子并开动磁力搅拌；
2)向烧瓶中滴加8份正硅酸乙酯，再向烧瓶中滴加酸性溶液使得PH值至3.0至4.0之间，室温下搅拌反应5小时后得到无色透明溶液；
3)将该无色透明溶液均匀混合于由200份乙醇和2000份去离子水组成的溶剂中，搅拌1小时，即获得脱膜剂。
4、根据权利要求2或3所述的脱膜剂的制备方法，其特征在于，所述酸性溶液为冰醋酸。
5、根据权利要求2或3所述的脱膜剂的制备方法，其特征在于，所述酸性溶液为盐酸。
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Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110383113A (zh) * | 2017-03-07 | 2019-10-25 | 日本板硝子株式会社 | 光学部件及光学部件的制造方法 |
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| CN108312396B (zh) * | 2018-01-31 | 2021-10-26 | 漳州丰笙新材料有限公司 | 一种硅离型剂及其制备方法 |
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