CN101362312B - 一种釉面上光机 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种釉面上光机，包括瓷砖输送装置，还包括沿着输送装置延伸方向设置的抛光装置，所述抛光装置包括摆动磨台装置，以及置于摆动磨台装置上的磨头装置，所述磨头装置上还设置有冷却系统。该釉面上光机是在精抛机精抛基础上，继续进行釉面抛光。最大程度地消除切削痕迹，达到市场需求的表面光泽度，该釉面上光机以其抛光效率高，抛光面广，有效地提高瓷砖产品的表面质量，满足消费者对高品质砖的需求。
Description
技术领域
本发明属于陶瓷及石材制品加工技术领域，具体为一种在精抛机精抛基础上继续进行釉面抛光，高端产品的釉面上光机。
背景技术
目前，釉面砖种类繁多，现在市场上广泛生产的有仿古砖、高档花样砖、抛晶砖等。这些瓷砖产品需要满足其表面质量高，光泽度高，无瑕疵，使之能呈现出高品质、高雅文化、仿古风格。而目前这些瓷砖常用的抛光方法是经过精抛机精抛，但是釉面砖在精抛后其表面还仍存在一定的切削痕迹，这样就使得表面光泽度不高，其表面质量不高，不能满足消费对高档瓷砖的需求。
发明内容
本发明的目的是克服所述现有技术的不足，提供一种釉面上光机，该釉面上光机是在精抛机精抛基础上继续进行釉面抛光，最大程度地消除切削痕迹，以取得较好的表面光泽度，有效地提高瓷砖产品的表面质量，满足消费者对高品质砖的需求。
为了达到所述目的，本发明的技术方案是：
一种釉面上光机，包括瓷砖输送装置，还包括沿着输送装置延伸方向设置的抛光装置，所述抛光装置包括摆动磨台装置，以及置于摆动磨台装置上的磨头装置，所述磨头装置上还设置有冷却系统。
所述摆动磨台装置包括机架、设置在机架上的支撑架、横梁、转动磨台，以及与转动磨台相连的摆动装置，该转动磨台通过横梁上的转轴装置连接且可绕转轴作匀速摆动。
所述转动磨台上设置有偶数数目的磨头装置，所有磨头装置对称地分居于转动磨台的中心轴线位置的两侧。
所述磨头装置包括中心轴、气缸升降装置、置于转动磨台上下分布的磨头装置，置于转动磨台上部的是磨头上部，置于转动磨台下部的是行星磨头及连接在磨头上的磨轮，在中心轴上设置有直达磨轮上的冷却液通道。
所述冷却系统包括置于输送装置下方的冷却液储存箱、设置在储存箱上的冷却泵，所述冷却泵上连接有将冷却液输送至中心轴的冷却液通道的连接管。
所述输送装置的下方对应于磨头装置的下方设置有集液槽，该集液槽与冷却液储存箱连通，其底面呈坡形斜面结构，该集液槽的最低点位置为集液槽与冷却液储存箱连通点。
所述冷却液为强氧化性的氧化铈水溶液，该氧化铈水溶液的浓度范围是5～40％。
所述冷却液储存箱内设置有搅拌装置，该搅拌装置包括驱动电机、减速器，与减速器的输出端连接的搅拌手。
所述输送装置包括机架及带有驱动沿着输送线方向平行设置的辊棒台。
所述输送装置的进砖入口处设置有以适应于不同砖尺寸的进砖调宽装置，所述输送装置的两端部还设置有调节张紧度的张紧装置，且在输送装置上设置有防止抛光时冷却液飞溅出来的防护装置。
与现有技术相比，本发明的有益效果：
(1)本发明由于使用了曲柄摆动磨台装置，该曲柄摆动磨台装置有效地解决了双磨头均匀摆动、覆盖被加工表面的问题，从而有效地提高抛光机的抛光效率及大幅度地提高抛光面积；
(2)本发明首次将强氧化性的氧化铈水溶液应用于瓷砖抛光技术领域，充分利用氧化铈的机械摩擦性能和化学分解性能，在一定压力和转速的作用下，实现其较好的研磨效果，最大程度地消除切削痕迹，有效地提高表面光泽度，达到预期的抛光效果。
(3)本发明由于设置有搅拌装置及集液槽，将研磨使用后的氧化铈水溶液通过集液槽可回收至氧化铈的储存箱，清洁卫生，而且通过搅拌装置将沉淀于底部的氧化铈搅拌后悬浮于溶液表面，循环利用，极大地节约了氧化铈的使用量；
(4)本发明由于使用了辊棒状支撑辊输送台用于输送瓷砖，且在辊棒台的两端部设置有调节用的张紧装置，保证辊棒台能匀速且平稳地运转，确保瓷砖能平稳持续地向前输送。
附图说明
图1是本发明釉面上光机正面结构示意图。
图2是本发明釉面上光机侧面结构示意图。
图3是本发明釉面上光机俯视图。
图4是本发明输送装置正面结构示意图。
图5是本发明输送装置侧面结构示意图。
图6是本发明曲柄摆动磨台装置正面结构示意图。
图7是本发明曲柄摆动磨台装置侧面结构示意图。
图8是本发明磨头装置结构示意图。
图9是本发明冷却系统正面结构示意图。
图10是本发明中冷却系统侧面结构示意图。
图11是本发明中搅拌装置结构示意图。
具体实施方式
如图1～3所示，本发明的一种釉面上光机，包括瓷砖输送装置1，还包括沿着输送装置1延伸方向设置的抛光装置。所述抛光装置包括摆动磨台装置2，以及置于摆动磨台装置2上的转动磨台以及分布在转动磨台上的磨头装置3，所述磨头装置3上还设置有冷却系统4。在本发明中，沿着输送装置1的轴向延伸方向设置有三组摆动磨台装置2及磨头装置3，通常，为了达到更好的抛光研磨效果，摆动磨台装置2及磨头装置3还可以设置有更多组。
如图4、图5所示，输送装置1包括支撑脚101及置于支撑脚101上的横梁102，在横梁102的延伸方向设置支撑轴103，在该支撑轴103上平行设置有多个用于输送瓷砖的辊棒状支撑辊104，该辊棒状支撑辊104上设有齿轮；另外，在支撑轴103的对应位置也设置有齿轮，该两齿轮相互啮合组成齿轮传动副105传动，即可使得每个辊棒状支撑辊104均能绕着自己的中心轴线转动。在支撑脚101上还设置有第一驱动电机106，该第一驱动电机106通过链传动装置与支撑轴103配合传动。这样，第一驱动电机105启动后带动链传动装置的传动后，接着带动支撑轴103转动，支撑轴103转动后通过两齿轮组成的齿轮传动副105带动每个辊棒状支撑辊104转动，从而实现了瓷砖平稳的输送传动过程。另外，为了能适应不同尺寸规格的瓷砖的输送，在输送装置1的进砖入口处设置有以适应于不同砖尺寸的进砖调宽装置107；同时，在输送装置1的两端部所设的端部轴承处还设置有调节张紧度的张紧装置108，这样就确保瓷砖能平稳匀速地向前输送；除此以外，输送装置1上还设置有防止抛光时冷却液飞溅出来的防护装置109。
如图6及图7所示，所述摆动磨台装置2包括机架201、设置在机架201上的支撑架202及横梁203，还包括第二驱动电机及减速器204、与第二驱动电机及减速器204连接的摆动装置205，以及与摆动装置205相连的转动磨台206，该转动磨台206与横梁203活动连接且可绕着横梁203的中心轴线位置所设的转轴装置摆动。在转动磨台206上设置有偶数数目的磨头装置3，且所有成对设置的磨头装置3对称地分居于转动磨台206的中心轴线位置的两侧，在本发明中，所述摆动装置205为曲柄连杆装置，该曲柄连杆装置包括曲柄及与曲柄连接的连杆，所述连杆的另一端与转动磨台的一侧面铰接，所述横梁202为方形钢制成。
如图8所示，所述磨头装置3包括中心轴301、气缸升降装置302、置于横梁204上表面的磨头上部303、置于横梁204空腔内部且从空腔底部开口处露出的行星磨头304及连接在行星磨头304上的磨轮305，另外，在中心轴301上设置有将冷却液输送至磨轮上的冷却液通道306。该磨头装置3的中心轴301与驱动其旋转的第三驱动电机307间通过带轮传动驱使行星磨头304公转，除此以外，每个行星磨头304还通过自身的驱动装置自转。
如图9至图11所示，所述冷却系统4包括置于输送装置1下方的冷却液储存箱401、设置在储存箱401上的冷却泵402，冷却液储存箱410上还连接有进水管404，该冷却泵402上连接有将冷却液输送至磨头装置中心轴301的冷却液通道306的连接管。所述输送装置1的下方对应于磨头装置3的下方位置还设置有集液槽403，该集液槽403与冷却液储存箱401连通，且集液槽403的底面呈坡形斜面结构，其斜面最低点位置为集液槽403与冷却液储存箱401连通口处，这样，就可以即时的将已经使用过的冷却液收集到集液槽403内，利用集液槽403本身的底面倾斜的高度差特点将收集到的冷却液全部又回收到冷却液储存箱401中，从而保证冷却液回收利用的目的。在本发明中，为了有较好的抛光效果，所述冷却液通常选用强氧化性较强的氧化铈水溶液，该氧化铈水溶液是通过氧化铈粉末及水调配而成，浓度范围是5～40％，通常，氧化铈粉末粒度不同，其抛光效果也不同，为了使瓷砖有更高的表面抛光效果，所用的氧化铈粒度要小一点。另外，由于氧化铈水溶性差，又由于其有一定的重量，当静置一段时间后，氧化铈会积淀于储存箱的底部，其抛光效果不好，为了更好地解决氧化铈沉淀的问题，在冷却液储存箱内设置有搅拌装置5，该搅拌装置5包括第四驱动电机及减速器501，及与其输出端连接的搅拌手502，当氧化铈冷却液静置一段时间后，氧化铈会沉淀于储存箱底部时，启动搅拌装置5的搅拌手502进行搅拌后，可以将置于底部的氧化铈搅起后使其悬浮于溶液的表面，有效地保证了氧化铈冷却液即使多次循环使用后人仍有较好的抛光性能。
本发明所述釉面上光机的工作过程是：
开启第一驱动电机106，驱动瓷砖在辊棒状支撑辊104组成的辊棒台上向前输送，与此同时，驱动摆动磨台装置2及磨头装置3工作，并开启冷却系统4中的冷却泵402，使得瓷砖在向前输送至摆动磨台装置2及磨头装置3的下方时，第二驱动电机及减速器205驱动摆动磨台装置2不停地做匀速偏摆运动，同时磨头装置3中的行星磨头304公转的同时也绕着其自身自转，复合运转，通常其转速可以达到3000转/分钟的高速；另外，在行星磨头304上的磨轮305抛光打磨瓷砖表面的同时，氧化铈冷却液也不断地经过冷却液通道306输送至磨轮305与瓷砖之间，氧化铈冷却液不仅起到较好的冷却作用，同时，还起到较好的抛光打磨的作用，这样，在磨轮305的高速抛光研磨、压力及冷却液的冷却及抛光等作用下，即可消除瓷砖在精抛工序时其表面所产生的切削痕迹，上光并达到光泽度90以上，极大地提高了釉面砖的表面质量，能满足高档砖的市场需求。氧化铈冷却液经过集液槽403将溶液回收至冷却液储存箱401后回收利用，通过搅拌装置5搅拌后再将溶液输送到行星磨头处进行抛光研磨，如此循环，做到清洁环保且节约材料的目的。
Claims (7)
1.一种釉面上光机，包括瓷砖输送装置，其特征在于：还包括沿着输送装置延伸方向设置的抛光装置，所述抛光装置包括摆动磨台装置，以及置于摆动磨台装置上的磨头装置，所述磨头装置上还设置有冷却系统；
所述摆动磨台装置包括机架、设置在机架上的支撑架、横梁、转动磨台，以及与转动磨台相连的摆动装置，该转动磨台通过横梁上的转轴装置连接横梁，且该转动磨台绕转轴装置做匀速摆动；
所述转动磨台上设置有偶数数目的所述磨头装置，所有所述磨头装置对称地分居于转动磨台的中心轴线位置的两侧；
所述磨头装置包括中心轴、气缸升降装置、置于转动磨台上下分布的磨头、置于转动磨台上部的是磨头上部、置于转动磨台下部的行星磨头及连接在该行星磨头上的磨轮，在中心轴上设置有直达磨轮上的冷却液通道。
2.根据权利要求1所述的釉面抛光机，其特征在于：所述冷却系统包括置于输送装置下方的冷却液储存箱、设置在储存箱旁的冷却泵，所述冷却泵通过管路连接将冷却液输送至中心轴的冷却液通道直达磨轮。
3.根据权利要求2所述的釉面上光机，其特征在于：所述输送装置的下方对应于磨头装置的下方设置有集液槽，该集液槽与冷却液储存箱连通，所述集液槽底面呈坡形斜面结构，该集液槽的最低点位置为集液槽与冷却液储存箱连通点。
4.根据权利要求3所述的釉面上光机，其特征在于：所述冷却液为强氧化性的氧化铈水溶液，该氧化铈水溶液的浓度范围是5～40％。
5.根据权利要求4所述釉面上光机，其特征在于：所述冷却液储存箱内设置有搅拌装置，该搅拌装置包括驱动电机、减速器，与减速器的输出端连接的搅拌手。
6.根据权利要求1所述的釉面上光机，其特征在于：上述输送装置包括机架及辊棒台，所述辊棒台带有驱动且沿着机架输送线方向平行设置。
7.根据权利要求1所述的釉面上光机，其特征在于：上述输送装置的进砖入口处设置有以适应于不同砖尺寸的进砖调宽装置。
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