CN108920003B

CN108920003B - 触控面板及其制备方法

Info

Publication number: CN108920003B
Application number: CN201810718538.4A
Authority: CN
Inventors: 吴高翔; 张志华; 李维国; 蔺帅; 朱盛祖; 王洋; 何小利
Original assignee: Guangzhou Guoxian Technology Co Ltd
Current assignee: Guangzhou Guoxian Technology Co Ltd
Priority date: 2018-06-30
Filing date: 2018-06-30
Publication date: 2022-03-18
Anticipated expiration: 2038-06-30
Also published as: CN108920003A

Abstract

本发明提供了一种触控面板及其制备方法，在边框区的纳米金属线导电层上形成走线层后，再在所述走线层及纳米金属线导电层上整片覆盖透明绝缘层，然后再在所述绝缘层上形成不透明层，所述不透明层去除了可操作区部分，即，所述不透明层的内边缘与所述可操作区的边缘对准，若所述走线层被涂进了可视区，由于所述透明绝缘层是透明的，所述不透明层是不透明的，所述不透明层覆盖住所述走线层及所述可操作区的边缘与所述可视区的边缘的间隙，也可以覆盖住所述走线层被涂进所述可视区的部分，降低了触控面板产生可视性外观不良的几率。

Description

触控面板及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控面板及其制备方法。

背景技术

触控面板(Touch Panel)因其便于操作、成像效果好、功能多元化等优点逐渐受到电子通讯行业的青睐，并广泛应用于资讯系统设备、家电设备、通讯设备、个人便携设备等产品上。

现有的触控面板通常包括可视区及围绕可视区的边框区，所述可视区中形成有触控电极，所述边框区中形成有走线，通过走线将所述触控电极与主板连接。然而，发明人发现，目前的触控面板较难实现窄边框设计。

发明内容

本发明的目的在于提供一种触控面板的制备方法、触控面板及触控面板，以解决触控面板的走线容易进入可视区，造成触控面板的可见性外观不良等问题。

为了达到上述目的，本发明提供了一种触控面板，所述触控面板包括：

基板，所述基板包括可视区及围绕所述可视区的边框区，所述可视区包括可操作区，所述可操作区的边缘与所述可视区的边缘具有间隙；

纳米金属线导电层，所述纳米金属线导电层位于所述基板的可视区及边框区上；

走线层，所述走线层位于所述边框区的纳米金属线导电层上；

透明绝缘层，所述透明绝缘层位于所述走线层及所述可视区的纳米金属线导电层上；以及

不透明层，所述不透明层位于位于所述边框区以及所述间隙处的透明绝缘层上并暴露所述可操作区。

可选的，所述可操作区的边缘与所述可视区的边缘的间隙小于等于0.3mm。

可选的，所述透明绝缘层的材料包括氧化硅和/或氮化硅，且所述透明绝缘层的厚度为50nm-500nm。

可选的，所述不透明层的材料包括纳米银、纳米金或纳米铜中的一种或多种，且所述不透明层的厚度为500nm-1500nm。

可选的，所述触控面板还包括盖板以及贴合层，所述贴合层位于所述不透明层及所述盖板之间以将所述不透明层与所述盖板贴合。

本发明还提供了一种触控面板的制备方法，所述触控面板的制备方法包括：

提供基板，所述基板包括可视区及围绕所述可视区的边框区，所述可视区包括可操作区，所述可操作区的边缘与所述可视区的边缘具有间隙；

形成纳米金属线导电层，所述纳米金属线导电层位于所述基板的可视区及边框区上；

形成走线层，所述走线层位于所述边框区的纳米金属线导电层上；以及

形成透明绝缘层和不透明层，所述透明绝缘层位于所述走线层及所述可视区的纳米金属线导电层上，所述不透明层位于位于所述边框区以及所述间隙处的透明绝缘层上并暴露所述可操作区。

可选的，形成所述纳米金属线导电层之后，所述触控面板的制备方法还包括：

形成增粘层，所述增粘层覆盖所述纳米金属线导电层；

刻蚀所述增粘层及所述纳米金属线导电层，以形成触控电极。

可选的，所述增粘层在其厚度方向上至少部分与所述纳米金属线导电层相互嵌入。

可选的，形成所述透明绝缘层和不透明层的步骤包括：

形成所述透明绝缘层，所述透明绝缘层位于所述走线层及所述可视区的纳米金属线导电层上；

形成不透明材料层，所述不透明材料层覆盖所述透明绝缘层；

去除所述可操作区的不透明材料层，形成所述不透明层，所述不透明层位于所述边框区以及所述间隙处的透明绝缘层上并暴露所述可操作区。

可选的，采用化学气相沉积、物理气相沉积或原子层沉积中的至少一种方法形成所述透明绝缘层及所述不透明材料层。

在本发明提供的触控面板及其制备方法中，在边框区的纳米金属线导电层上形成走线层后，再在所述走线层及纳米金属线导电层上整片覆盖透明绝缘层，然后再在所述绝缘层上形成不透明层，所述不透明层去除了可操作区部分，即，所述不透明层的内边缘与所述可操作区的边缘对准，若所述走线层被涂进了可视区，由于所述透明绝缘层是透明的，所述不透明层是不透明的，所述不透明层覆盖住所述走线层及所述可操作区的边缘与所述可视区的边缘的间隙，也可以覆盖住所述走线层被涂进所述可视区的部分，降低了触控面板产生可视性外观不良的几率。

附图说明

图1为一种触控面板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的触控面板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的触控面板的制备方法的流程图；

图4为本发明实施例提供的在基板上形成纳米金属线导电层后的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的刻蚀所述纳米金属线导电层后的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的形成走线层后的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的形成透明绝缘层及不透明材料层后的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的触控面板的又一结构示意图；

其中，1-基板，1’-基板，11-可视区，11’-可视区，111-可操作区，111’-可操作区，112-间隙，12-边框区，12’-边框区，2-纳米金属线导电层，3-增粘层，4-走线层，4’-走线层，5-透明绝缘层，6-不透明材料层，61-不透明层。

具体实施方式

在背景技术中已经提及，目前的触控面板较难实现窄边框设计。这是因为，走线通常是采用印刷工艺形成，但印刷工艺的工艺偏差比较大，走线容易进入可视区，造成触控面板的可见性外观不良。为此，发明人发现，在触控面板的后续工艺中，会贴合一盖板，通常可视区的边缘会留出一定的距离以保证贴合平整不出现气泡，而可视区边缘的这一间隙可以充分的被利用。

具体参考图1所示，一种触控面板包括基板1’上，所述基板1’包括可视区11’及边框区12’，所述边框区12’围绕所述可视区11’，触控面板的走线层4’覆盖所述边框区12’，为了避免所述走线层4’进入所述可视区11’，造成外观不良，需要在所述边框区12’与所述可视区11’之间留出了一定的距离(大于0.3mm)。而为了贴合盖板，所述可视区11’的边缘也需要留出一定的距离(大于0.3mm)，即可操作区111’与所述可视区11’边缘的间隙，这来一来，在所述边框区12’印刷所述走线层4’时，所述走线层4’可以被涂进所述可视区11’边缘的距离，从而不会影响到所述可视区11’。但是，这种方法需要在所述边框区12’与所述可视区11’之间及可视区11’的边缘与可操作区111’之间均留出间隙，进一步增大所述边框区12’的尺寸，不符合窄边框的设计需求。

有鉴于此，本发明提供了一种触控面板及其制备方法，在边框区的纳米金属线导电层上形成走线层后，再在所述走线层及纳米金属线导电层上整片覆盖透明绝缘层，然后再在所述绝缘层上形成不透明层，所述不透明层去除了可操作区部分，即，所述不透明层的内边缘与所述可操作区的边缘对准，若所述走线层被涂进了可视区，由于所述透明绝缘层是透明的，所述不透明层是不透明的，所述不透明层覆盖住所述走线层及所述可操作区的边缘与所述可视区的边缘的间隙，也可以覆盖住所述走线层被涂进所述可视区的部分，降低了触控面板产生可视性外观不良的几率。

下面将结合附图对本发明实施例提出的触控面板及其制备方法进行更详细的描述。根据下列描述，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

请参阅图2及图8，本实施例提供了一种触控面板，所述触控面板包括：基板1，所述基板1包括可视区11及围绕所述可视区11的边框区12，所述可视区11包括可操作区111，所述可操作区111的边缘与所述可视区11的边缘具有间隙112；纳米金属线导电层2，所述纳米金属线导电层2位于所述基板1的可视区11及边框区12上；走线层4，所述走线层4位于所述边框区12的纳米金属线导电层2上；透明绝缘层5，所述透明绝缘层5位于所述走线层4及所述可视区11的纳米金属线导电层2上；不透明层61，所述不透明层61位于所述边框区12以及所述间隙112处的透明绝缘层5上并暴露所述可操作区111。

本文中所指的“透明”指的是在可见光区域中透射率大于或等于80％，“不透明”指的是在可见光区域中透射率小于或等于10％，可以理解的是，本实施例中的所述透明绝缘层5的透明度越大越好，而所述不透明层61的透明度越小越好。

进一步，所述触控面板还包括盖板以及贴合层，所述贴合层位于所述不透明层61及所述盖板之间以将所述不透明层61与所述盖板贴合。

请参阅图3，本实施例提供了一种触控面板的制备方法，包括：

S1：提供基板，所述基板包括可视区及围绕所述可视区的边框区，所述可视区包括可操作区，所述可操作区的边缘与所述可视区的边缘具有间隙；

S2：形成纳米金属线导电层，所述纳米金属线导电层位于所述基板的可视区及边框区上；

S3：形成走线层，所述走线层位于所述边框区的纳米金属线导电层上；以及

S4：形成透明绝缘层和不透明层，所述透明绝缘层位于所述走线层及所述可视区的纳米金属线导电层上，所述不透明层位于所述边框区以及所述间隙处的透明绝缘层上并暴露所述可操作区。

请参阅图4，首先提供基板1，所述基板1为整个所述触控面板提供支撑。所述基板1通常由透明的绝缘材料制成，例如：所述基板1的材料可以是采用如玻璃、金属、或陶瓷等材料形成的刚性基板，也可以是采用如压克力、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚酰胺(PA)、聚酰亚胺(PI)、聚苯并咪唑聚丁烯(PB)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚碳酸酯(PC)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚醚砜(PES)、聚乙烯(PE)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯四氟乙烯(ETFE)、聚环氧乙烷、聚乙醇酸(PGA)、聚甲基戊烯(PMP)、聚甲醛(POM)、聚苯醚(PPE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)、聚氟乙烯(PVF)、聚偏二氯乙烯(PVDC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)或苯乙烯-丙烯腈(SAN)等任意合适的绝缘材料形成的柔性基板。

所述基板1包括可视区11及围绕所述可视区11的边框区12，所述可视区11通常用于透光显示，所述边框区12通常不透光以突出所述可视区11的显示内容。进一步的，所述可视区11包括可操作区111，所述可操作区111的边缘与所述可视区11的边缘具有间隙112。例如，所述基板1的形状为矩形，所述边框区12和间隙112的形状为环状。并且，所述可操作区111的边缘与所述可视区11的边缘的间隙112的宽度处处相等。可选的，所述间隙112的截面宽度小于等于0.3mm，例如是0.1mm、0.15mm、0.2mm或0.25mm，本发明不作限制。

接下来，在所述基板1上涂布纳米金属线溶液，所述纳米金属线溶液为纳米金属线溶在特定的溶剂里而形成的悬浮溶液，该溶剂可以是水、水溶液、离子溶液、含盐溶液、超临界流体、油或其混合物等，所述溶剂中还可以含有如分散剂、表面活性剂、交联剂、稳定剂、润湿剂或增稠剂等添加剂，在所述基板1上涂布好纳米金属线溶液，进行加热烘干，以对所述基板1上涂布的纳米金属线溶液进行固化，形成所述纳米金属线导电层2，所述纳米金属线导电层2包括基质及嵌入所述基质中的纳米金属线，所述纳米金属线之间通过分子力搭接以形成导电网络，所述基质用于保护所述纳米金属线不被腐蚀、磨损等外界环境的影响。所述纳米金属线可以是金(Au)、银(Ag)、铂(Pt)、铜(Cu)、钴(Co)、钯(Pd)等的纳米线，根据导电性、透光性等特点，所述纳米金属线优选为银纳米线(即纳米银线)。银纳米线的长度约10μm至300μm，优选为20μm至100μm，银纳米线的剖面直径(即线径)小于500nm，优选小于100nm。纳米金属线导电层2的厚度例如是在10nm至1μm之间。

请继续参阅图4，在所述纳米金属线导电层2上形成增粘层3。可选的，所述增粘层3的材料可以是如高分子聚合物、氮化物及氧化物等材料中的一种或多种，所述高分子聚合物可以是聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯醇缩丁醛(PVB树脂)、聚苯胺(PAN或PANI)、聚苯撑醚(PPE)、聚对苯撑乙炔(PPV)、聚3，4-亚乙基二氧吩(PEDOT)、聚苯乙烯磺酸(PSS)、聚3-己基噻吩(P3HT)、聚3-辛基噻吩(P3OT)、聚C-61-丁酸-甲酯(PCBM)、聚[2-甲氧基-5-(2-乙基-己氧基)-1，4-苯撑乙烯](MEH-PPV)等具有粘性的有机材料，所述氮化物可以是氮化硅，所述氧化物可以是氧化硅。本实施例中，所述增粘层3的材料为采用聚酰胺树脂、聚氨酯树脂及环氧树脂等胶粘剂材料中的一种或多种调配而成透明光学胶，形成所述增粘层3的步骤可以是：将透明光学胶溶液采用喷涂工艺涂布在所述纳米金属线导电层2上；再进行加热烘干，固化形成所述增粘层3。进一步，所述透明光学胶溶液具有流动性，而所述纳米金属线导电层2通常呈网状，在未固化前，所述透明光学胶溶液会渗入所述纳米金属线导电层2中，使得固化后形成的增粘层3在其厚度方向上至少部分会嵌入所述纳米金属线导电层2中，使所述纳米金属线导电层2更好的附着在所述基板1上，并且所述纳米金属线之间不易发生游移，搭接更加牢固，进而增加了所述触控面板导电率和灵敏性。

接着，请参阅图5，刻蚀所述增粘层3及所述纳米金属线导电层2以形成图形，所述可视区11的增粘层3及纳米金属线导电层2构成触控电极，所述边框区12的增粘层3及纳米金属线导电层2用于将所述触控电极引出。

接着，请参阅图6，在所述边框区12的纳米金属线导电层2上印刷走线层4，所述走线层4覆盖所述边框区12的纳米金属线导电层2。所述走线层4的材料可以是银、金、氧化铟锡或石墨烯中的一种或多种。本实施例中，在采用印刷工艺形成所述走线层4后，还采用激光刻蚀工艺对所述走线层4进行刻蚀，以在所述边框区12的纳米金属线导电层2上形成多条走线，通过后续的工艺将所述走线与所述触控电极搭接。进一步，由于印刷工艺的不稳定，在所述边框区12印刷所述走线层4时，所述走线层4很容易被涂进所述可视区11，具体的，所述走线层4更容易被涂进所述可视区11边缘与所述可操作区111边缘之间的间隙112中，造成可视性外观不良。

接下来，请参阅图7，形成透明绝缘层5及不透明材料层6，所述透明绝缘层5覆盖整个所述边框区12及可视区11，所述不透明材料层6覆盖在所述透明绝缘层5上，所述透明绝缘层5用于隔离所述走线层4与所述不透明材料层6及隔离所述触控电极与所述不透明材料层6。进一步，所述透明绝缘层5的材料为透明的绝缘材料，例如是氧化硅和/或氮化硅，所述不透明材料层6为不透明的导电材料或不透明的不导电材料均可，例如是纳米银、纳米金或纳米铜中的一种或多种，当然，所述透明绝缘层5及所述不透明材料层6的材料还可以是其他的材料，这里不再一一举例。本实施例中，采用化学气相沉积、物理气相沉积或原子层沉积中的至少一种工艺形成所述透明绝缘层5及所述不透明材料层6，这些沉积工艺比较稳定，可以形成非常薄的透明绝缘层5及不透明材料层6，避免所述透明绝缘层5及所述不透明材料层6过厚导致后续在贴合盖板时产生气泡，影响良率。具体的，所述透明绝缘层5的厚度例如为50nm-500nm，所述不透明材料层6的厚度例如为500nm-1500nm。

接着请参阅图8，刻蚀所述不透明材料层6，以去除所述可操作区111的不透明材料层6，形成所述不透明层61，所述不透明层61覆盖所述边框区12的透明绝缘层5及所述间隙112中的透明绝缘层5，若所述走线层4被涂进了所述间隙112中，由于所述不透明层61是不透明的，而所述不透明层61的内边缘与所述可操作区111的边缘对准，即所述不透明层61可以挡住所述被涂进所述间隙112中的走线层4，从而避免可视性外观不良品的产生。

综上，在本发明实施例提供的触控面板及其制备方法中，在边框区的纳米金属线导电层上形成走线层后，再在所述走线层及纳米金属线导电层上整片覆盖透明绝缘层，然后再在所述绝缘层上形成不透明层，所述不透明层去除了可操作区部分，即，所述不透明层的内边缘与所述可操作区的边缘对准，若所述走线层被涂进了可视区，由于所述透明绝缘层是透明的，所述不透明层是不透明的，所述不透明层覆盖住所述走线层及所述可操作区的边缘与所述可视区的边缘的间隙，也可以覆盖住所述走线层被涂进所述可视区的部分，降低了触控面板产生可视性外观不良的几率。

上述仅为本发明的优选实施例而已，并不对本发明起到任何限制作用。任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本发明的技术方案的范围内，对本发明揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本发明的技术方案的内容，仍属于本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种触控面板，其特征在于，所述触控面板包括：

基板，所述基板包括可视区及围绕所述可视区的边框区，所述可视区包括可操作区，所述可操作区的边缘与所述可视区的边缘具有用于贴合盖板的间隙；

不透明层，所述不透明层位于所述边框区以及所述间隙处的透明绝缘层上并暴露所述可操作区。

2.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述可操作区的边缘与所述可视区的边缘的间隙小于等于0.3mm。

3.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述透明绝缘层的材料包括氧化硅和/或氮化硅，且所述透明绝缘层的厚度为50nm-500nm。

4.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述不透明层的材料包括纳米银、纳米金或纳米铜中的一种或多种，且所述不透明层的厚度为500nm-1500nm。

5.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述触控面板还包括盖板以及贴合层，所述贴合层位于所述不透明层及所述盖板之间以将所述不透明层与所述盖板贴合。

6.一种触控面板的制备方法，其特征在于，所述触控面板的制备方法包括：

提供基板，所述基板包括可视区及围绕所述可视区的边框区，所述可视区包括可操作区，所述可操作区的边缘与所述可视区的边缘具有用于贴合盖板的间隙；

形成透明绝缘层和不透明层，所述透明绝缘层位于所述走线层及所述可视区的纳米金属线导电层上，所述不透明层位于所述边框区以及所述间隙处的透明绝缘层上并暴露所述可操作区。

7.如权利要求6所述的触控面板的制备方法，其特征在于，形成所述纳米金属线导电层之后，所述触控面板的制备方法还包括：

形成增粘层，所述增粘层覆盖所述纳米金属线导电层；

8.如权利要求7所述的触控面板的制备方法，其特征在于，所述增粘层在其厚度方向上至少部分与所述纳米金属线导电层相互嵌入。

9.如权利要求6所述的触控面板的制备方法，其特征在于，形成所述透明绝缘层和不透明层的步骤包括：

10.如权利要求9所述的触控面板的制备方法，其特征在于，采用化学气相沉积、物理气相沉积或原子层沉积中的至少一种方法形成所述透明绝缘层及所述不透明材料层。