CN107742637A - 一种像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置 - Google Patents
一种像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107742637A CN107742637A CN201711079011.3A CN201711079011A CN107742637A CN 107742637 A CN107742637 A CN 107742637A CN 201711079011 A CN201711079011 A CN 201711079011A CN 107742637 A CN107742637 A CN 107742637A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sub
- pixel
- dot structure
- mask plate
- pixel group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 8
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013290 Sagittaria latifolia Nutrition 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 235000015246 common arrowhead Nutrition 0.000 description 1
- 238000004134 energy conservation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本发明公开了一种像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置,该像素结构,包括:多个呈阵列排布的重复单元;每一个重复单元包括在行方向上并排设置的三个子像素组,且每一个重复单元中的各子像素组的颜色不同;每一个子像素组包括排列在两行三列的六个颜色相同的子像素;在列方向上相邻的两个重复单元,在列方向上错开个子像素组的宽度。由于每一个子像素组中包括六个颜色相同的子像素,在制作该像素结构的显示面板时,同一个子像素组中的六个子像素对应掩膜版上的同一个开口,可以采用掩膜版上一个开口同时蒸镀六个子像素,降低了掩膜版的加工难度和显示面板的工艺要求,也提高了显示面板的解析度。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤指一种像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)具有主动发光、视角大、色域广、响应快、对比度高的显示特性,且具有轻薄、柔性、节能等优点,已成为最具潜力的新型平板显示技术。
传统技术中,如图1所示,有机发光二极管像素排列结构通常由多个像素点(如图中虚线框A所示)组成矩阵,每个像素点包含红色子像素(R)、绿色子像素(G)和蓝色子像素(B),各子像素按照特定的顺序排列,构成了呈矩阵排列的多个像素点。
OLED器件中的发光层一般采用蒸镀的方式制作,在蒸镀工艺过程中,采用精细金属掩膜板(Fine Metal Mask,FMM)进行遮挡,因而发光材料按照掩膜板的开口形状被蒸镀到背板玻璃的指定位置,一般掩膜版上的一个开口对应OLED器件像素结构中的一个子像素。然而,由于受掩膜板制作工艺及蒸镀工艺的限制,很难通过减小FMM开口尺寸的方式提高OLED器件像素结构的分辨率。
发明内容
本发明实施例提供了一种像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置,用以解决现有技术中存在的无法提高OLED器件像素结构的分辨率的问题。
第一方面,本发明实施例提供了一种像素结构,包括:多个呈阵列排布的重复单元;
每一个所述重复单元包括在行方向上并排设置的三个子像素组,且每一个所述重复单元中的各所述子像素组的颜色不同;
每一个所述子像素组包括排列在两行三列的六个颜色相同的子像素,且两行所述子像素之间在列方向上相互对齐;
在列方向上相邻的两个所述重复单元,在列方向上错开个所述子像素组的宽度,所述子像素组的宽度为三个所述子像素在行方向上的宽度。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述像素结构中,每一个所述子像素组中,两行所述子像素之间在列方向上相互对齐。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述像素结构中,在列方向上相邻的两个所述重复单元,在列方向上错开个所述子像素组的宽度。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述像素结构中,每一个所述子像素组中的各所述子像素的大小相同。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述像素结构中,所述子像素的形状为正方形。
第二方面,本发明实施例还提供了一种制作上述像素结构的掩膜版,包括:多个呈阵列排布的开口区域;
所述开口区域的形状与所述子像素组的形状一致,且各所述开口区域对应的各所述子像素组的子像素的颜色相同。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述掩膜版中,各所述开口区域在行方向上等间距分布,且在列方向上等间距分布。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述掩膜版中,在相邻两行所述开口区域中,在列方向上相邻的两个所述开口区域,在列方向上错开个所述子像素组的宽度。
第三方面,本发明实施例还提供了一种显示面板,包括:上述像素结构。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述显示面板中,所述显示面板为有机电致发光显示面板。
第四方面,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括:上述显示面板。
本发明有益效果如下:
本发明实施例提供的像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置,该像素结构,包括:多个呈阵列排布的重复单元;每一个重复单元包括在行方向上并排设置的三个子像素组,且每一个重复单元中的各子像素组的颜色不同;每一个子像素组包括排列在两行三列的六个颜色相同的子像素;在列方向上相邻的两个重复单元,在列方向上错开个子像素组的宽度,子像素组的宽度为三个子像素在行方向上的宽度。本发明实施例提供的像素结构中,由于每一个子像素组中包括六个颜色相同的子像素,在制作该像素结构时,同一个子像素组中的六个子像素可以对应掩膜版上的同一个开口,即可以采用掩膜版上的一个开口同时蒸镀六个子像素,降低了掩膜版的加工难度和显示面板的工艺要求,也提高了显示面板的解析度。
附图说明
图1为现有技术中像素结构的示意图;
图2为本发明实施例提供的像素结构的示意图之一;
图3为本发明实施例提供的像素结构的示意图之二;
图4为本发明实施例提供的像素结构的示意图之三;
图5为本发明实施例中红色子像素对应的掩膜版的结构示意图;
图6为本发明实施例中绿色子像素对应的掩膜版的结构示意图;
图7为本发明实施例中蓝色子像素对应的掩膜版的结构示意图。
具体实施方式
针对现有技术中存在的无法提高OLED器件像素结构的分辨率的问题,本发明实施例提供了一种像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置。
下面结合附图,对本发明实施例提供的像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各结构的形状和大小不反映真实比例,目的只是示意说明本发明内容。
第一方面,本发明实施例提供了一种像素结构,如图2所示,包括:多个呈阵列排布的重复单元10;
每一个重复单元10包括在行方向上并排设置的三个子像素组101,且每一个重复单元10中的各子像素组101的颜色不同;
每一个子像素组101包括排列在两行三列的六个颜色相同的子像素(如图2中的子像素R、子像素G或子像素B);
在列方向上相邻的两个重复单元10,在列方向上错开个子像素组的宽度,子像素组的宽度为三个子像素在行方向上的宽度。
本发明实施例提供的像素结构中,由于每一个子像素组中包括六个颜色相同的子像素,在制作该像素结构时,同一个子像素组中的六个子像素可以对应掩膜版上的同一个开口,即可以采用掩膜版上的一个开口同时蒸镀六个子像素,降低了掩膜版的加工难度和显示面板的工艺要求,也提高了显示面板的解析度。
如图2所示,在具体实施时,可以将重复单元10按照特定的顺序排列,以得到显示面板的像素结构,一般重复单元10以阵列排布的方式排列,当然,也可以将每一个重复单元10旋转90°后再进行排列。为了更清楚的示意本发明实施例中的像素结构的排列方式,图2中仅有限数量的重复单元,此处不对重复单元的数量进行限定,在具体实施时,可以根据实际需要来确定重复单元的个数以及排列方式。此外,在实际应用中,在整个显示面板的边缘,难免会出现部分重复单元的情况,但是在整体上显示面板的像素结构是由重复单元排列构成,该情况也应属于本发明实施例的具体实现方式。
由于每一个子像素组101包括排列在两行三列的六个颜色相同的子像素,因而在制作该像素结构时,可以通过掩膜版上一个开口区域制作六个子像素,而现有技术中,使用一个开口区域只能制作一个子像素,对于相同大小的开口区域,本发明实施例中得到的子像素更多,也就是说,本发明实施例中的像素结构的分辨率更高,举例来说,例如开口区域的面积为30μm*30μm,对于现有技术中的像素结构,可得到面积大约为30μm*30μm的一个子像素,而对于本发明实施例中的像素结构,可得到面积大约为10μm*15μm的六个子像素,可见,对于相同大小的开口区域,本发明实施例中得到的像素结构的分辨率(即解析度)更高。此外,对于相同大小的子像素,制作本发明实施例中的像素结构的掩膜版中的开口区域可以做得更大些,降低了掩膜版的加工难度,例如同样是制作面积约为10μm*15μm的子像素,对于现有技术中的像素结构,需要制作开口区域约为10μm*15μm的掩膜版,对于本发明实施例中的像素结构,只需制作开口区域约为30μm*30μm的掩膜版。
参照图2,在列方向上相邻的两个重复单元10,在列方向上错开个子像素组的宽度,即图2中所示的w的长度为个子像素组的宽度,且每一个重复单元10中的各子像素组101的颜色不同,图2中以每个重复单元10中包括红(R)色子像素组101,绿(G)色子像素组101以及蓝(B)色子像素组依次排列进行示意,在实际应用中,也可以采用其他排列方式,此处不做限定。
本发明实施例提供的像素结构,使得每一个子像素与相邻的两个其他颜色的子像素可以构成一个完整的像素单元。图2以在列方向上相邻的两个重复单元10在列方向上错开个子像素组的宽度为例进行示意,图中第二行子像素中的第二个绿色子像素与第三行子像素中的第三个蓝色子像素以及第一个红色子像素,构成一个“正三角形”的像素单元。图中第二行子像素中第三个绿色子像素和第一个蓝色子像素与第三行子像素中的第一个红色子像素,构成一个“倒三角形”的像素单元。
图3中以列方向上相邻两个重复单元10在列方向上错开个子像素组的宽度(即w的长度为个子像素的宽度)为例进行示意,图3中第二行子像素中的第二个绿色子像素与第三行子像素中的第三个蓝色子像素以及第一个红色子像素,构成一个“与L形对称的形状”的像素单元。图中第二行子像素中第三个绿色子像素和第一个蓝色子像素与第三行子像素中的第一个红色子像素,构成一个“倒L形”的像素单元。图4中以在列方向上相邻的两个重复单元10在列方向上错开个子像素组的宽度(即w的长度为个子像素的宽度)为例进行示意,图4中第二行子像素中的第二个绿色子像素与第三行子像素中的第三个蓝色子像素以及第一个红色子像素,构成一个“正L形”的像素单元。图中第二行子像素中第三个绿色子像素和第一个蓝色子像素与第三行子像素中的第一个红色子像素,构成一个“倒L形”的像素单元。图2~图4只是进行举例说明,在实际应用中,在列方向上相邻的两个重复单元在列方向上也可以错开个子像素组之间的其他数值,得到的像素单元的形状可能会稍微有些变化,介于“L形”与“三角形”之间。
如图2所示,本发明实施例提供的上述像素结构中,每一个子像素组101中,两行子像素之间在列方向上相互对齐,例如图2中左上角第一个红色的子像素组101,六个红色字像素呈二行三列排列,且在列方向上相邻的两个子像素相互对齐,比如第一行中的第一个子像素与第二行中的第一个子像素对齐。这样可以使每一个子像素组101的形状更加规则,每一个子像素组对应的掩膜版上的开口区域也比较规则,因而在制作掩膜版的过程中,掩膜版各个方向上的应力比较均匀,不容易出现褶皱或破损,从而利用该掩膜版蒸镀得到的子像素的良率较高。
具体地,本发明实施例提供的上述像素结构中,如图2所示,在列方向上相邻的两个重复单元10,在列方向上错开个子像素组的宽度。也就是说,图2中w的长度为个子像素组的宽度,从图2中可以看出,此时,对于相同颜色的子像素,例如红色子像素,子像素组101的分布在行方向上和列方向上都比较均匀,因而,制作该像素结构的掩膜版上开口区域的分布也比较均匀,可以使制作掩膜版的工艺中张网过程中的应力较为均匀,即制作出来的掩膜版不容易出现褶皱畸形等,因而在蒸镀过程中形成的子像素的效果较好。
在实际应用中,本发明实施例提供的上述像素结构中,参照图2,每一个子像素组101中的各子像素的大小相同。因而,相邻两行中的子像素构成的像素单元的大小大致相同,使显示面板的均一性较好,提高显示面板的显示效果。
具体地,本发明实施例提供的上述像素结构中,同样参照图2,子像素的形状优选为正方形。也可以是其他形状,例如矩形,六边形等,此处不对子像素的形状进行限定。
第二方面,基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种制作上述像素结构的掩膜版。由于该掩膜版解决问题的原理与上述像素结构相似,因此该掩膜版的实施可以参见上述像素结构的实施,重复之处不再赘述。
本发明实施例还提供的制作上述像素结构的掩膜版,如图5~图7所示,包括:多个呈阵列排布的开口区域,如图5中的201R,图6中的201G以及图7中的201B;
开口区域的形状与子像素组的形状一致,且各开口区域对应的各子像素组的子像素的颜色相同。
由于像素结构中不同颜色的子像素是由不同的蒸镀工艺制作的,因而不同颜色的子像素对应不同的掩膜版,例如图5为用于制作红色子像素的掩膜版,图6为用于制作绿色子像素的掩膜版,图7为用于制作蓝色子像素的掩膜版。
本发明实施例提供的制作上述像素结构的掩膜版,该掩膜版上的开口区域对应上述像素结构中具有相同颜色的子像素组,即每一个开口区域可以制作六个子像素区域,而且,由于上述像素结构中,每一个子像素组中的两行子像素为对齐设置,因而对应的开口区域的形状比较规则,此外,由于上述像素结构中,在列方向上相邻的两个重复单元在列方向上错开个子像素组的宽度,对应的掩膜版上的开口区域分布比较均匀,因而,制作该像素结构的掩膜版上开口区域的分布也比较均匀,可以使制作掩膜版的工艺中张网过程中的应力较为均匀,即制作出来的掩膜版不容易出现褶皱畸形等,因而在蒸镀过程中形成的子像素的效果较好。
进一步地,本发明实施例提供的上述掩膜版中,如图5~图7所示,各开口区域在行方向上等间距分布,且在列方向上等间距分布。
例如参照图5,各开口区域201R在行方向上等间距分布,即任意两个相邻的开口区域201R在行方向上的距离L1都相等,各开口区域201R在列方向上等间距分布,即任意两个相邻的开口区域201R在列方向上的距离L2都相等,使得掩膜版上的开口区域在行方向和列方向分布都比较均匀,则制作出来的掩膜版在张网过程中不容易出现褶皱畸形等,因而在蒸镀过程中形成的子像素的效果较好。
具体地,本发明实施例提供的上述掩膜版中,参照图5,在相邻两行开口区域中,在列方向上相邻的两个开口区域,在列方向上域错开个子像素组的宽度。例如图5中第一行和第二行开口区域中,在列方向上相邻的开口区域b和开口区域a在列方向上错开的距离为个子像素组的宽度。这样,位于奇数行(或偶数行)中的开口区域中,列方向上相邻的开口区域是对齐的,例如图5中位于第一行的开口区域b和第三行中的开口区域c,在列方向上是对齐的。
同样以图5为例,在相邻两行开口区域中,在列方向上相邻两个开口区域201R错开个子像素组的宽度,则任意两列开口区域201R之间的距离相等,以图5中第二列第一个开口区域a为例,开口区域a与附近的四个开口区域(即开口区域b、c、d和e)的距离L3均相等。在实际应用中,相邻两个开口区域201R之间的部位也可以称为连接桥,即图5中箭头L1、箭头L2以及箭头L3的位置为连接桥,由于开口区域等间距分布,相邻行的开口区域错开一个半子像素组的宽度,使得行方向上的连接桥相同,列方向上的连接桥相同,以及斜线方向上的连接桥也相同,降低了制作掩膜版的工艺难度,得到的掩膜版在张网过程中不容易出现褶皱和畸形,使得蒸镀得到的像素结构的效果也比较好。
第三方面,基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种显示面板,包括上述像素结构。由于该显示面板解决问题的原理与上述像素结构相似,因此该显示面板的实施可以参见上述像素结构的实施,重复之处不再赘述。
具体地,本发明实施例提供的上述显示面板优选为有机电致发光显示面板。包括上述像素结构的OLED显示面板,可以制作解析度(即分辨率)较高的OLED显示面板。当然本发明实施例也可以为其他显示面板,此处不做限定。
第四方面,基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括上述显示面板,该显示装置可以应用于手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。由于该显示装置解决问题的原理与上述显示面板相似,因此该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施,重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置,由于每一个子像素组中包括六个颜色相同的子像素,在制作该像素结构时,同一个子像素组中的六个子像素可以对应掩膜版上的同一个开口,即可以采用掩膜版上的一个开口同时蒸镀六个子像素,降低了掩膜版的加工难度和显示面板的工艺要求,也提高了显示面板的解析度。此外,由于该像素结构的结构特征,使得制作该像素结构的掩膜版上开口区域的分布也比较均匀,可以使制作掩膜版的工艺中张网过程中的应力较为均匀,即制作出来的掩膜版不容易出现褶皱畸形等,因而在蒸镀过程中形成的子像素的效果较好。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (11)
1.一种像素结构,其特征在于,包括:多个呈阵列排布的重复单元;
每一个所述重复单元包括在行方向上并排设置的三个子像素组,且每一个所述重复单元中的各所述子像素组的颜色不同;
每一个所述子像素组包括排列在两行三列的六个颜色相同的子像素;
在列方向上相邻的两个所述重复单元,在列方向上错开个所述子像素组的宽度,所述子像素组的宽度为三个所述子像素在行方向上的宽度。
2.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,每一个所述子像素组中,两行所述子像素之间在列方向上相互对齐。
3.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,在列方向上相邻的两个所述重复单元,在列方向上错开个所述子像素组的宽度。
4.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,每一个所述子像素组中的各所述子像素的大小相同。
5.如权利要求4所述的像素结构,其特征在于,所述子像素的形状为正方形。
6.一种制作如权利要求1~5任一项所述的像素结构的掩膜版,其特征在于,包括:多个呈阵列排布的开口区域;
所述开口区域的形状与所述子像素组的形状一致,且各所述开口区域对应的各所述子像素组的子像素的颜色相同。
7.如权利要求6所述的掩膜版,其特征在于,各所述开口区域在行方向上等间距分布,且在列方向上等间距分布。
8.如权利要求7所述的掩膜版,其特征在于,在相邻两行所述开口区域中,在列方向上相邻的两个所述开口区域,在列方向上错开个所述子像素组的宽度。
9.一种显示面板,其特征在于,包括:如权利要求1~5任一项所述的像素结构。
10.如权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板为有机电致发光显示面板。
11.一种显示装置,其特征在于,包括:如权利要求9或10所述的显示面板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201711079011.3A CN107742637A (zh) | 2017-11-06 | 2017-11-06 | 一种像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201711079011.3A CN107742637A (zh) | 2017-11-06 | 2017-11-06 | 一种像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107742637A true CN107742637A (zh) | 2018-02-27 |
Family
ID=61234116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201711079011.3A Withdrawn CN107742637A (zh) | 2017-11-06 | 2017-11-06 | 一种像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN107742637A (zh) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109713027A (zh) * | 2019-02-28 | 2019-05-03 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种有机发光显示面板的像素排布及有机发光显示面板 |
CN110164943A (zh) * | 2019-05-31 | 2019-08-23 | 上海天马微电子有限公司 | 一种显示面板和显示装置 |
WO2019201170A1 (zh) * | 2018-04-17 | 2019-10-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素排列结构、显示面板、掩膜版组件及蒸镀设备 |
CN110578112A (zh) * | 2019-08-09 | 2019-12-17 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种掩膜版和像素结构 |
CN112216714A (zh) * | 2019-07-09 | 2021-01-12 | 陕西坤同半导体科技有限公司 | 像素结构及其制备方法、掩膜版、显示面板及显示装置 |
WO2022061505A1 (zh) * | 2020-09-22 | 2022-03-31 | 苏州晶湛半导体有限公司 | 半导体结构的制作方法 |
-
2017
- 2017-11-06 CN CN201711079011.3A patent/CN107742637A/zh not_active Withdrawn
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019201170A1 (zh) * | 2018-04-17 | 2019-10-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素排列结构、显示面板、掩膜版组件及蒸镀设备 |
US11081530B2 (en) | 2018-04-17 | 2021-08-03 | Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Pixel arrangement structure, display panel, mask component, and evaporation apparatus |
CN109713027A (zh) * | 2019-02-28 | 2019-05-03 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种有机发光显示面板的像素排布及有机发光显示面板 |
CN110164943A (zh) * | 2019-05-31 | 2019-08-23 | 上海天马微电子有限公司 | 一种显示面板和显示装置 |
US11114508B2 (en) | 2019-05-31 | 2021-09-07 | Shanghai Tianma Micro-electronics Co., Ltd. | Display panel including image points arranged in rectangular grid and display device |
CN112216714A (zh) * | 2019-07-09 | 2021-01-12 | 陕西坤同半导体科技有限公司 | 像素结构及其制备方法、掩膜版、显示面板及显示装置 |
CN110578112A (zh) * | 2019-08-09 | 2019-12-17 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种掩膜版和像素结构 |
US11313025B2 (en) | 2019-08-09 | 2022-04-26 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Mask sheet and pixel structure |
WO2022061505A1 (zh) * | 2020-09-22 | 2022-03-31 | 苏州晶湛半导体有限公司 | 半导体结构的制作方法 |
TWI786832B (zh) * | 2020-09-22 | 2022-12-11 | 中國商蘇州晶湛半導體有限公司 | 半導體結構的製作方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10950666B2 (en) | Pixel structure, OLED display screen and evaporation mask | |
US9735207B2 (en) | Display substrate and driving method thereof, display apparatus | |
CN105242436B (zh) | 一种阵列基板、显示面板及显示装置 | |
CN109148543B (zh) | 一种像素结构及显示面板 | |
US10074301B2 (en) | Display panel and driving method thereof, and display device | |
CN114355678B (zh) | 显示基板和显示装置 | |
CN107742637A (zh) | 一种像素结构、掩膜版、显示面板及显示装置 | |
CN104362170B (zh) | 一种有机电致发光显示器件、其驱动方法及相关装置 | |
KR102466271B1 (ko) | 픽셀 구조체, oled 디스플레이 디바이스, 및 구동 방법 | |
CN104916661B (zh) | 像素结构、掩膜板、有机电致发光显示面板及显示装置 | |
CN110364558B (zh) | 像素排布结构及显示面板 | |
US9935155B2 (en) | Pixel structure, display panel, and display apparatus | |
US20180269264A1 (en) | Micro light-emitting diode display panel | |
US20210384267A1 (en) | Pixel structure, mask and display device | |
CN107086239A (zh) | 像素结构及其制备方法和显示装置 | |
WO2018077006A1 (zh) | 一种像素阵列、显示面板、显示装置及驱动方法 | |
CN108321179A (zh) | 像素结构、掩膜板及显示装置 | |
CN108511480A (zh) | 像素结构以及oled显示装置 | |
CN110133885B (zh) | 像素排列结构、显示基板和显示装置 | |
CN108321178A (zh) | 像素结构、掩膜板及显示装置 | |
CN110491927A (zh) | 一种阵列基板、显示面板及显示装置 | |
CN109585508B (zh) | 显示面板的像素排列结构及显示装置 | |
CN207052607U (zh) | 一种显示面板、掩膜板及显示装置 | |
CN204270613U (zh) | 一种像素结构、显示基板及显示装置 | |
CN108511482B (zh) | 像素结构、掩膜版及显示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20180227 |