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CN106773263B - 显示面板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

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CN106773263B CN201710025116.4A CN201710025116A CN106773263B CN 106773263 B CN106773263 B CN 106773263B CN 201710025116 A CN201710025116 A CN 201710025116A CN 106773263 B CN106773263 B CN 106773263B
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Abstract

本发明公开了一种显示面板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。所述显示面板包括第一基板，第二基板，以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层，所述第一基板远离所述液晶层的一侧设置有分光结构，所述分光结构用于对入射至所述分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将所述至少一种颜色的光投射至所述显示面板对应颜色的像素上。本发明解决了显示面板的光透过率较低，显示面板的显示效果较差的问题，提高了显示面板的光透过率，提高了显示面板的显示效果，用于显示装置。

Description

显示面板及其制造方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。
背景技术
液晶显示器是平板显示装置中的一种，液晶显示器包括液晶显示面板和设置在液晶显示面板背面的背光源，背光源发出的光透过液晶显示面板，实现图像显示。
相关技术中，液晶显示器如图1所示，包括液晶显示面板和背光源100。其中，液晶显示面板包括薄膜晶体管(英文：Thin Film Transistor；简称：TFT)基板001、彩色滤光片(英文：Color Filter；简称：CF)基板(即彩膜基板)002、设置在TFT基板001和CF基板002之间的液晶层003和封框胶004，设置在彩膜基板002远离液晶层003的一侧的上偏光片005、设置在TFT基板001远离液晶层003的一侧的下偏光片006。该液晶显示器工作时，背光源01所发出的光依次通过下偏光片006、TFT基板001、液晶层003、CF基板002和上偏光片005，最后射入人眼。下偏光片006用于对光进行偏光处理，下偏光片006和上偏光片005的设置，使得背光源100发出的按特定方向振动的光通过。CF基板002用于对光进行滤光处理。显示面板包括多个像素单元，每个像素单元可以包括三个像素，每个像素可以在背光源的照射下发出一种颜色的光线。
但CF基板的使用会造成光能损耗，所以显示面板的光透过率较低，显示面板的显示效果较差。
发明内容
为了解决相关技术中显示面板的光透过率较低，显示面板的显示效果较差的问题，本发明实施例提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置。所述技术方案如下：
第一方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括第一基板，第二基板，以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层，所述第一基板远离所述液晶层的一侧设置有分光结构，
所述分光结构用于对入射至所述分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将所述至少一种颜色的光投射至所述显示面板对应颜色的像素上。
可选的，所述显示面板还包括：偏光结构，所述偏光结构设置在所述分光结构上或所述第一基板上，用于对入射至所述偏光结构的光进行偏光处理。
可选的，所述分光结构包括纳米分光薄膜，所述纳米分光薄膜包括阵列排布的多个分光模块，每个所述分光模块包括多阶光栅单元。
可选的，所述偏光结构包括线栅偏光片，所述线栅偏光片包括多条线栅，所述多条线栅阵列排布在所述分光结构上或所述第一基板上。
可选的，所述显示面板还包括：
所述第二基板远离所述液晶层的一侧设置有扩散膜。
可选的，所述多阶光栅单元包括多个高度不同且台阶宽度相同的光栅，所述多阶光栅单元的光栅周期a、光栅台阶数b和光栅台阶宽度c满足：b*c＝a，光栅高度为0微米～10微米。
可选的，所述纳米分光薄膜的台阶面朝向所述第一基板，所述线栅偏光片集成设置在所述纳米分光薄膜靠近所述第一基板的一侧，所述纳米分光薄膜的折射率与所述线栅偏光片的折射率的差的绝对值大于0，所述纳米分光薄膜的折射率大于空气的折射率；
或者，所述线栅偏光片集成设置在所述纳米分光薄膜远离所述第一基板的一侧，所述纳米分光薄膜的折射率大于空气的折射率。
可选的，所述纳米分光薄膜靠近所述第一基板的一面与所述第二基板靠近所述第一基板的一面之间的距离为50微米～500微米。
可选的，线栅宽度e和光栅台阶宽度c满足：e*m＝c，m为正整数，线栅宽度为10纳米～200纳米，线栅占空比为50％。
第二方面，提供了一种显示面板的制造方法，所述制造方法包括：
形成显示面板，所述显示面板包括第一基板，第二基板，以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层；
在所述第一基板远离所述液晶层的一侧形成分光结构，所述分光结构用于对入射至所述分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将所述至少一种颜色的光投射至所述显示面板对应颜色的像素上。
可选的，所述制造方法还包括：
在所述分光结构上或所述第一基板上形成偏光结构。
可选的，所述制造方法还包括：
在所述第二基板远离所述液晶层的一侧形成扩散膜。
可选的，所述分光结构包括纳米分光薄膜，所述偏光结构包括线栅偏光片，所述纳米分光薄膜包括阵列排布的多个分光模块，每个所述分光模块包括多阶光栅单元，所述多阶光栅单元包括多个高度不同且台阶宽度相同的光栅，所述纳米分光薄膜的台阶面朝向所述第一基板，所述纳米分光薄膜的台阶面朝向所述第一基板，
在所述分光结构上形成偏光结构，包括：
在所述纳米分光薄膜靠近所述第一基板的一侧集成形成所述线栅偏光片，所述纳米分光薄膜的折射率与所述线栅偏光片的折射率的差的绝对值大于0，所述纳米分光薄膜的折射率大于空气的折射率；
或者，在所述纳米分光薄膜远离所述第一基板的一侧集成形成所述线栅偏光片，所述纳米分光薄膜的折射率大于空气的折射率。
第三方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括显示面板和准直背光源，
所述显示面板为第一方面所述的显示面板；
所述准直背光源设置在所述第一基板远离所述液晶层的一侧。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：
显示面板的第一基板远离液晶层的一侧设置有分光结构，该分光结构能够对入射至分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上，无需彩膜基板进行滤光处理，所以提高了光透过率，提高了显示面板的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是相关技术中液晶显示器的结构示意图；
图2-1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图2-2是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
图2-3是本发明实施例提供的多阶光栅单元的分光显示效果图；
图3-1是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
图3-2是本发明实施例提供的一种纳米分光薄膜设置于分光结构的结构示意图；
图3-3是本发明实施例提供的另一种纳米分光薄膜设置于分光结构的结构示意图；
图4-1是本发明实施例提供的再一种显示面板的结构示意图；
图4-2是本发明实施例提供的一种纳米分光薄膜的结构示意图；
图4-3是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图5是本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图；
图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的制造方法的流程图；
图7是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
本发明实施例提供了一种显示面板，如图2-1所示，显示面板210包括第一基板211，第二基板212，以及设置在第一基板211和第二基板212之间的液晶层213。第一基板211远离液晶层213的一侧设置有分光结构214。
分光结构214用于对入射至分光结构214的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上。图2-1中的10为封框胶。
综上所述，本发明实施例提供的显示面板，该显示面板的第一基板远离液晶层的一侧设置有分光结构，该分光结构能够对入射至分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上，无需彩膜基板进行滤光处理，所以提高了光透过率，提高了显示面板的显示效果。
其中，第一基板可以为TFT基板。
由于分光结构可以实现分光效果，所以图2-1中的第二基板212可以为玻璃基板。也即在制造该显示面板时无需形成彩膜基板，这样一来，简化了显示面板的制造过程，显示面板的结构更加简单。
本发明实施例中的分光结构能够对入射至分光结构的光进行分光处理，入射至分光结构的光可以为准直背光源发出的光，为了保证分光效果，准直背光源发出的光需要有一定的准直度。可选的，准直背光源发出的光的准直度可以为-5°～+5°。优选的，准直背光源发出的光的准直度为-2°～+2°。为了进一步提高分光结构的分光效果，准直背光源发出的光的准直度为-0.5°～+0.5°。准直度指的是准直背光源发出的光与分光结构的入光面的法线之间的夹角(夹角越小，准直度越高)。
如图2-2所示，显示面板210还包括：偏光结构01，该偏光结构01可以设置在分光结构上，用于对入射至偏光结构的光进行偏光处理。该偏光结构01可以为偏光片(该偏光片也称作下偏光片)。分光结构位于该偏光片和第一基板211之间，该偏光片与分光结构直接贴合。分光结构的四周通过贴合胶与第一基板211贴合在一起，使得分光结构与第一基板211之间存在空气间隙。
进一步的，如图2-2所示，显示面板210还包括：第二基板212远离液晶层213的一侧设置有扩散膜215。具体的，第二基板212远离液晶层213的一侧设置有偏光片02(该偏光片也称作上偏光片)。设置有该偏光片02的第二基板212上设置有扩散膜215。由于从偏光片02发射出的光的准直度较高，所以用户通过显示面板仅能观察到极少部分的内容。为了使用户观察到更多的内容，可以采用扩散膜对显示面板对应颜色的像素上的光进行扩散处理，进而增大可视视角，提高显示效果。另外，实际应用中，也可以按照需求选用不同散射程度的扩散膜。比如对于防窥产品来说，可以选用散射程度为10％～30％的扩散膜；对于电视(英文：Television；简称：TV)等非防窥产品来说，可以选用散射程度大于40％的扩散膜。
具体的，如图2-2所示，分光结构包括纳米分光薄膜，纳米分光薄膜包括阵列排布的多个分光模块2141，每个分光模块包括多阶光栅单元。多阶光栅单元包括多个高度不同且台阶宽度相同的光栅。纳米分光薄膜的台阶面朝向第一基板，为了使光发生衍射现象，该纳米分光薄膜的折射率大于空气的折射率，且纳米分光薄膜的折射率与空气的折射率的差值越大，纳米分光薄膜对光的分光效果就越好。可选的，1.2＜n＜2.0(n为纳米分光薄膜的折射率)。实际应用中，1.45＜n＜1.65。
可选的，分光模块可以以像素长度为单位进行周期排布，也可以以像素长度的整数倍为单位进行周期排布，还可以以像素长度的非整数倍为单位进行周期排布。其中，像素长度指的是每个像素单元包括的所有像素所在区域的长度。比如，每个像素单元包括三个像素，那么该像素长度指的是三个像素所在区域的总长度。
示例的，纳米分光薄膜可以由有机透明材料或无机透明材料制成，可以由高分子聚合物材料、树脂材料等制成。纳米分光薄膜可以是氧化物，比如氧化铟锡(英文：IndiumTin Oxide；简称：ITO)、铟锌氧化物(英文：indium zinc oxide；简称：IZO)等，也可以是高分子氧化物(或有机颗粒)与高分子聚合物的混合物。如图2-2所示，在基板2142上形成膜层来得到。该基板2142可以是光学玻璃基板，也可以是采用有机材料制成的有机膜。另外，纳米分光薄膜也可以由玻璃基板直接得到。
可选的，可以采用纳米压印的方式形成纳米分光薄膜，可以采用激光直写的方式形成纳米分光薄膜，也可以采用电子束直写的方式形成纳米分光薄膜，还可以采用构图工艺形成纳米分光薄膜。关于纳米压印、激光直写、电子束直写和构图工艺的具体流程可以参考相关技术，在此不再赘述。
图2-3示出了多阶光栅单元的分光显示效果图。多阶光栅单元对入射至多阶光栅单元的光进行分光处理得到不同颜色的光，如红光、绿光和蓝光。且每种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上，具体的，红光投射至红色像素(R)上，绿光投射至绿色像素(G)上，蓝光投射至蓝色像素(B)上。图2-3中的212为第二基板，214为分光结构。
具体的，光栅的参数包括光栅周期、光栅台阶数、光栅台阶宽度和光栅高度。光栅周期指的是完成一次分光的纳米分光薄膜的总长度。多阶光栅单元的光栅周期a、光栅台阶数b和光栅台阶宽度c满足：b*c＝a。光栅台阶数b和光栅台阶宽度c除了满足：b*c＝a之外，还可以满足：b*c＝m*a，m为大于等于1的正整数。另外，光栅周期、光波长以及光栅材料的折射率共同决定光栅高度。可选的，光栅高度可以为0微米～10微米，优选的，光栅高度为0微米～5微米。
考虑到第一基板的折射率、纳米分光薄膜的折射率、纳米分光薄膜的光栅台阶宽度和光栅高度等因素，如图2-2所示，纳米分光薄膜靠近第一基板211的一面与第二基板212靠近第一基板211的一面之间的距离d为50微米～500微米。优选的，d为100微米～300微米。
需要补充说明的是，本发明实施例中显示面板的显示模式可以为高级超维场转换(英文：ADvanced Super Dimension Switch；简称：ADS)模式、边缘场开关(英文：FringeField Switching；简称：FFS)模式、垂直取向(英文：Vertical Alignment；简称：VA)模式或扭曲向列型(英文：twisted nematic；简称：TN)模式等，本发明实施例对此不作限定。
现以每个像素单元包括R、G、B三个像素为例对显示面板的工作过程进行说明。参见图2-2，在需要进行图像显示时，可以控制准直背光源发白色准直光，该白色准直光经过分光结构发生衍射现象，分光结构将该白色准直光分为红光、绿光和蓝光。三种颜色的光在液晶层213的光开关作用下分别投射至显示面板对应颜色的像素上。扩散膜215再对每种颜色的像素上的光进行扩散处理，增大可视视角，提高显示效果。该显示面板的光透过率可提升200％。
综上所述，本发明实施例提供的显示面板，显示面板的第一基板远离液晶层的一侧设置有分光结构，该分光结构能够对入射至分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上，无需彩膜基板进行滤光处理，所以提高了光透过率，提高了显示面板的显示效果。
本发明实施例提供了另一种显示面板，参见图3-1，显示面板210包括第一基板211，第二基板212，以及设置在第一基板211和第二基板212之间的液晶层213。第一基板211远离液晶层213的一侧设置有分光结构214。
分光结构214用于对入射至分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上。图3-1中的10为封框胶。分光结构的四周通过贴合胶与第一基板贴合在一起，使得分光结构与第一基板之间存在空气间隙。
其中，第一基板可以为TFT基板。
显示面板210还包括：偏光结构01，该偏光结构01包括线栅偏光片。偏光结构01设置在分光结构上，用于对入射至偏光结构的光进行偏光处理。
如图3-2所示，分光结构214包括纳米分光薄膜，纳米分光薄膜包括阵列排布的多个分光模块2141，每个分光模块包括多阶光栅单元。多阶光栅单元包括多个高度不同且台阶宽度相同的光栅。多阶光栅单元的光栅周期a、光栅台阶数b和光栅台阶宽度c可以满足：b*c＝a，还可以满足：b*c＝m*a，m为大于等于1的正整数。可选的，光栅高度为0微米～10微米，优选的，光栅高度为0微米～5微米。
偏光结构01包括线栅偏光片，线栅偏光片包括多条线栅011，多条线栅阵列排布在分光结构上。纳米分光薄膜的台阶面A朝向第一基板。
参见图3-2，线栅偏光片可以集成设置在纳米分光薄膜远离第一基板的一侧。为了使光发生衍射现象，纳米分光薄膜的折射率大于空气的折射率。
同样的，分光模块可以以像素长度为单位进行周期排布，也可以以像素长度的整数倍为单位进行周期排布，还可以以像素长度的非整数倍为单位进行周期排布。
示例的，纳米分光薄膜可以由有机透明材料或无机透明材料制成，也可以由其他材料制成。该纳米分光薄膜可以由玻璃基板直接得到。
示例的，线栅偏光片可以由介电常数较高的金属材料或金属化合物材料制成。线栅周期与纳米分光薄膜的光栅台阶宽度、线栅宽度相匹配。线栅宽度e和光栅台阶宽度c满足：e*m＝c，m为正整数。线栅宽度e和光栅台阶宽度c满足的这一条件使得多阶光栅单元中的每一个光栅能够对应至少一个线栅，进而使得该至少一个线栅对光进行偏光处理后，每个光栅能够对偏光处理后的光进行分光处理。
线栅宽度为纳米量级，线栅宽度小于可见光波长尺寸。可选的，线栅宽度为10纳米～200纳米。线栅厚度也为纳米量级。另外，线栅占空比可以为50％。实际应用中也可以根据工艺条件确定线栅占空比。线栅占空比为刻蚀宽度与线栅周期的比值。线栅周期指的是完成一次偏光的线栅偏光片的总长度。
相关技术中，用于对光进行偏光处理的下偏光片由多层高分子材料复合而成，如聚乙烯醇、三醋酸纤维素等，下偏光片还包括压敏胶，离型膜及保护膜等，厚度较大，所以下偏光片对光具有较强的吸收作用，而本发明实施例中的线栅偏光片的厚度较小，所以相较于相关技术中的下偏光片，本发明实施例提供的显示面板能够有效降低光吸收率，进而提高显示效果。另外，设置有线栅偏光片的显示面板的总厚度减小。
此外，如图3-3所示，线栅偏光片也可以集成设置在纳米分光薄膜靠近第一基板的一侧。图3-3中的011为线栅偏光片包括的线栅，214为分光结构。为了使光发生衍射现象，纳米分光薄膜的折射率与线栅偏光片的折射率的差的绝对值大于0，纳米分光薄膜的折射率大于空气的折射率。优选的，纳米分光薄膜的折射率与线栅偏光片的折射率的差的绝对值为0.2～1.0。优选的，纳米分光薄膜的折射率与线栅偏光片的折射率的差的绝对值为0.45～0.65。
示例的，可以采用纳米压印的方式、激光直写的方式或电子束直写的方式形成图3-2(或图3-3)所示的纳米分光薄膜与线栅偏光片。
进一步的，如图3-1所示，显示面板210还包括：第二基板212远离液晶层213的一侧设置有偏光片02(该偏光片也称作上偏光片)。设置有偏光片02的第二基板212上设置有扩散膜215。扩散膜215用于对显示面板对应颜色的像素上的光进行扩散处理，以便于增大可视视角，提高显示效果。
参见图3-1，分光结构214包括纳米分光薄膜，纳米分光薄膜靠近第一基板211的一面与第二基板212靠近第一基板211的一面之间的距离d为50微米～500微米。优选的，d为100微米～300微米。
示例的，显示面板的显示模式可以为ADS模式、FFS模式、VA模式或TN模式等。
现以图3-1所示的显示面板为例，对显示面板的工作过程进行说明。在需要进行图像显示时，可以控制准直背光源(准直背光源设置在第一基板远离液晶层的一侧)发白色准直光，线栅偏光片对该白色准直光进行偏光处理。由于线栅偏光片由金属材料制成，所以一部分光发生透射现象，一部分光发生反射现象。来自线栅偏光片的光再经过分光结构214发生衍射现象，分光结构214将该白色准直光分为红光、绿光和蓝光。三种颜色的光在液晶层213的光开关作用下分别投射至显示面板对应颜色的像素上。扩散膜215再对每种颜色的像素上的光进行扩散处理，以便于增大可视视角，提高显示效果。该显示器的光透过率可提升240％。
本发明实施例还提供了又一种显示面板，如图4-1所示，偏光结构01设置在第一基板211上。
分光结构214包括纳米分光薄膜，纳米分光薄膜包括阵列排布的多个分光模块，每个分光模块包括多阶光栅单元，多阶光栅单元包括多个高度不同且台阶宽度相同的光栅。
参见图4-1，偏光结构01包括线栅偏光片，线栅偏光片包括多条线栅011，多条线栅阵列排布在第一基板211上。线栅偏光片设置在第一基板211靠近液晶层213的一侧。为了使光发生衍射现象，如图4-2所示，当纳米分光薄膜的台阶面A朝向第一基板时，纳米分光薄膜与第一基板之间保持空气间隙；当纳米分光薄膜的台阶面A朝向用于发光的准直背光源时，纳米分光薄膜与准直背光源之间保持空气间隙。
参见图4-3，线栅偏光片也可以设置在第一基板211远离液晶层的一侧。且为了使光发生衍射现象，如图4-2所示，当纳米分光薄膜的台阶面A朝向第一基板时，纳米分光薄膜与线栅偏光片之间保持空气间隙；当纳米分光薄膜的台阶面A朝向用于发光的准直背光源时，纳米分光薄膜与准直背光源之间保持空气间隙。
可选的，可以采用纳米压印的方式、激光直写的方式或电子束直写的方式将线栅偏光片集成设置在第一基板上。
图4-1和图4-3中的其他标记含义可以参考图3-1。
需要补充说明的是，相关技术中，为了提高显示面板的光透过率，常常给背光源增加电压以增大光能量，但这样会导致显示装置的功耗较高，而本发明实施例提供的显示面板，无需增大光能量便能实现提高光透过率的效果，因此，降低了显示装置功耗，且能提升产品的待机时长。
综上所述，本发明实施例提供的显示面板，显示面板的第一基板远离液晶层的一侧设置有分光结构，该分光结构能够对入射至分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上，无需彩膜基板进行滤光处理，且偏光结构包括的线栅偏光片能够对入射至偏光结构的光进行偏光处理，有效降低光吸收率，提高了光透过率，提高了显示面板的显示效果。
本发明实施例提供了一种显示面板的制造方法，如图5所示，该制造方法包括：
步骤501、形成显示面板，该显示面板包括第一基板，第二基板，以及设置在第一基板和第二基板之间的液晶层。
步骤502、在第一基板远离液晶层的一侧形成分光结构，该分光结构用于对入射至分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上。
综上所述，本发明实施例提供的显示面板的制造方法，通过该制造方法，在显示面板的第一基板远离液晶层的一侧形成分光结构，该分光结构能够对入射至分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上，无需彩膜基板进行滤光处理，该制造方法提高了光透过率，提高了显示面板的显示效果。
本发明实施例提供了另一种显示面板的制造方法，如图6所示，该制造方法包括：
步骤601、形成显示面板。
如图2-1所示，形成显示面板210。该显示面板210包括第一基板211，第二基板212，以及设置在第一基板211和第二基板212之间的液晶层213。该第一基板可以为TFT基板。
步骤602、在第一基板远离液晶层的一侧形成分光结构。
如图2-1所示，在第一基板211远离液晶层213的一侧形成分光结构214。分光结构214用于对入射至分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上。可选的，分光结构可以对准直背光源发出的光进行分光处理。
分光结构包括纳米分光薄膜。纳米分光薄膜包括阵列排布的多个分光模块，每个分光模块包括多阶光栅单元，多阶光栅单元包括多个高度不同且台阶宽度相同的光栅。光栅的主要参数(如光栅周期、光栅台阶数等)可以参考上述装置实施例中的相关说明。
步骤603、在分光结构上或第一基板上形成偏光结构。
如图2-2所示，该偏光结构可以为偏光片，该偏光片与分光结构直接贴合。分光结构的四周通过贴合胶与第一基板211贴合在一起，使得分光结构与第一基板211之间存在空气间隙。
此外，该偏光结构也可以为线栅偏光片，纳米分光薄膜的台阶面朝向第一基板，相应的，步骤603中在分光结构上形成偏光结构，可以包括：
如图3-3所示，在纳米分光薄膜靠近第一基板的一侧集成形成线栅偏光片，且纳米分光薄膜的折射率与线栅偏光片的折射率的差的绝对值大于0，纳米分光薄膜的折射率大于空气的折射率。
或者，如图3-2所示，在纳米分光薄膜远离第一基板的一侧集成形成线栅偏光片，且纳米分光薄膜的折射率大于空气的折射率。
步骤603中在第一基板上形成偏光结构，可以包括：
如图4-1所示，在第一基板靠近液晶层213的一侧形成线栅偏光片。且当纳米分光薄膜的台阶面(即图4-2中的A所指示的面)朝向第一基板211时，纳米分光薄膜与第一基板211之间保持空气间隙；当纳米分光薄膜的台阶面朝向用于发光的准直背光源时，纳米分光薄膜与准直背光源之间保持空气间隙。
或者，如图4-3所示，在第一基板远离液晶层312的一侧形成线栅偏光片。且当纳米分光薄膜的台阶面朝向第一基板211时，纳米分光薄膜与线栅偏光片之间保持空气间隙；当纳米分光薄膜的台阶面朝向用于发光的准直背光源时，纳米分光薄膜与准直背光源之间保持空气间隙。
步骤604、在第二基板远离液晶层的一侧形成偏光片。
如图2-2、图3-1、图4-1或图4-3所示，在第二基板212远离液晶层213的一侧形成偏光片02。
步骤605、在形成有偏光片的第二基板上形成扩散膜。
如图2-2、图3-1、图4-1或图4-3所示，在形成有偏光片02的第二基板212上形成扩散膜215。扩散膜用于对显示面板对应颜色的像素上的光进行扩散处理，以增大可视视角，提高显示效果。
综上所述，本发明实施例提供的显示面板的制造方法，通过该制造方法，在显示面板的第一基板远离液晶层的一侧形成分光结构，并在分光结构上或第一基板上形成偏光结构，该分光结构能够对入射至分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上，无需彩膜基板进行滤光处理，偏光结构包括的线栅偏光片能够对入射至所述偏光结构的光进行偏光处理，有效降低光吸收率，该制造方法提高了光透过率，提高了显示面板的显示效果。
本发明实施例还提供了一种显示装置，如图7所示，该显示装置700包括：显示面板210和准直背光源220。
其中，显示面板210可以为图2-1、图2-2、图3-1、图4-1或图4-3所示的显示面板。
显示面板210包括第一基板211，第二基板212，以及设置在第一基板211和第二基板212之间的液晶层213。第一基板211远离液晶层213的一侧设置有分光结构214。准直背光源220设置在第一基板211远离液晶层213的一侧。
分光结构214用于对准直背光源220的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上。
可选的，准直背光源发出的光的准直度可以为-5°～+5°。优选的，准直背光源发出的光的准直度为-2°～+2°。为了进一步提高分光结构的分光效果，准直背光源发出的光的准直度为-0.5°～+0.5°。
综上所述，本发明实施例提供的显示装置，显示面板的第一基板远离液晶层的一侧设置有分光结构，该分光结构能够对入射至分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将至少一种颜色的光投射至显示面板对应颜色的像素上，无需彩膜基板进行滤光处理，所以提高了光透过率，提高了显示装置的显示效果。
本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分步骤可以通过硬件来完成，也可以通过程序来指令相关的硬件完成，所述的程序可以存储于一种计算机可读存储介质中，上述提到的存储介质可以是只读存储器，磁盘或光盘等。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括第一基板，第二基板，以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层，所述第一基板远离所述液晶层的一侧设置有分光结构，
所述分光结构用于对入射至所述分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将所述至少一种颜色的光投射至所述显示面板对应颜色的像素上；
所述显示面板还包括：偏光结构，所述偏光结构设置在所述第一基板上，用于对入射至所述偏光结构的光进行偏光处理，所述第一基板为阵列基板；所述偏光结构包括线栅偏光片，所述线栅偏光片包括多条线栅，所述多条线栅阵列排布在所述分光结构上，所述分光结构包括纳米分光薄膜，所述线栅偏光片集成设置在所述纳米分光薄膜靠近所述第一基板的一侧，所述纳米分光薄膜的折射率与所述线栅偏光片的折射率的差的绝对值为0.2～1.0。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述纳米分光薄膜包括阵列排布的多个分光模块，每个所述分光模块包括多阶光栅单元。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
所述第二基板远离所述液晶层的一侧设置有扩散膜。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述多阶光栅单元包括多个高度不同且台阶宽度相同的光栅，所述多阶光栅单元的光栅周期a、光栅台阶数b和光栅台阶宽度c满足：b*c＝a，光栅高度为0微米～10微米。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述纳米分光薄膜的台阶面朝向所述第一基板，
所述纳米分光薄膜的折射率大于空气的折射率。
6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述纳米分光薄膜靠近所述第一基板的一面与所述第二基板靠近所述第一基板的一面之间的距离为50微米～500微米。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，线栅宽度e和光栅台阶宽度c满足：e*m＝c，m为正整数，线栅宽度为10纳米～200纳米，线栅占空比为50％。
8.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：
形成显示面板，所述显示面板包括第一基板，第二基板，以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层；
在所述第一基板远离所述液晶层的一侧形成分光结构，所述分光结构用于对入射至所述分光结构的光进行分光处理，得到至少一种颜色的光，并将所述至少一种颜色的光投射至所述显示面板对应颜色的像素上，所述分光结构包括纳米分光薄膜；
所述制造方法还包括：
在所述第一基板上形成偏光结构，所述第一基板为阵列基板，所述偏光结构包括线栅偏光片，所述线栅偏光片包括多条线栅，所述多条线栅阵列排布在所述分光结构上，所述线栅偏光片集成设置在所述纳米分光薄膜靠近所述第一基板的一侧，所述纳米分光薄膜的折射率与所述线栅偏光片的折射率的差的绝对值为0.2～1.0。
9.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括：
在所述第二基板远离所述液晶层的一侧形成扩散膜。
10.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述偏光结构包括线栅偏光片，所述纳米分光薄膜包括阵列排布的多个分光模块，每个所述分光模块包括多阶光栅单元，所述多阶光栅单元包括多个高度不同且台阶宽度相同的光栅，所述纳米分光薄膜的台阶面朝向所述第一基板，
在所述分光结构上形成偏光结构，包括：
在所述纳米分光薄膜靠近所述第一基板的一侧集成形成所述线栅偏光片，所述纳米分光薄膜的折射率大于空气的折射率。
11.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括显示面板和准直背光源，
所述显示面板为权利要求1至7任一所述的显示面板；
所述准直背光源设置在所述第一基板远离所述液晶层的一侧。
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