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CN106458715B - 包含SiO2作为主晶相的玻璃陶瓷 - Google Patents

包含SiO2作为主晶相的玻璃陶瓷 Download PDF

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CN106458715B CN201580024195.6A CN201580024195A CN106458715B CN 106458715 B CN106458715 B CN 106458715B CN 201580024195 A CN201580024195 A CN 201580024195A CN 106458715 B CN106458715 B CN 106458715B
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Abstract

本发明涉及包含SiO2作为主晶相的玻璃陶瓷及其前驱体，其特征在于具有非常好的机械性质和光学性质，且特别是可用作牙医学中的修复材料。

Description

包含SiO2作为主晶相的玻璃陶瓷
本发明涉及包含SiO2作为主晶相的玻璃陶瓷，其特别适用于牙医学，且优选用于制备牙科修复体，以及涉及用以制备玻璃陶瓷的前驱体。
由现有技术水平已知含有石英状晶体的玻璃陶瓷。它们通常是含有所谓的高温石英固溶晶体的玻璃陶瓷。这些晶体在SiO2结构硅酸盐中含有不同的另外的离子，这使得这种特定类型的晶体甚至在室温下也具有亚稳态的存在。如果玻璃陶瓷中不包含这些离子，则玻璃陶瓷中的在高温下形成的高温石英在573℃下将变为低温石英。
Figure GDA0003803044600000011
和Beall描述了具有高温石英结构的晶体的玻璃陶瓷在大的温度范围内具有低热膨胀或甚至零膨胀的特殊性质(“玻璃陶瓷技术(Glass-Ceramic Technology)”第2版,Wi ley,2012,272-273)。对于这样的玻璃陶瓷而言，(在20-700℃的温度范围内)通常测得小于1.5·10-6K-1的线性热膨胀系数(CTE)。在高温石英结构的帮助下，可以提供甚至具有负膨胀系数的玻璃陶瓷。
另外，由EP916625已知焦硅酸锂玻璃陶瓷，其包含焦硅酸锂作为主晶相，并且由于它们的高半透明性和非常好的机械性质，其特别地用在牙科领域中并主要用于制备牙冠和齿桥。
本发明的目的是提供一种玻璃陶瓷，除了高强度和非常好的光学性质以外，其特征还在于高的热膨胀系数。另外，该玻璃陶瓷应该易于加工，特别是通过机械加工，以形成牙科修复体和因此适合以极好的方式用作修复性牙科材料。如果还可以借助热压制赋予玻璃陶瓷希望的形状，将是被希望的。
根据本发明的玻璃陶瓷的特征在于其包含以下组分
组分 wt.-％
SiO2 58.0至92.0
Li2O 2.0至10.0
并且包含SiO2作为主晶相。
该玻璃陶瓷令人惊讶地显示出用于修复性牙科材料所希望的机械性质和光学性质的有利结合，并且还可以以希望用于牙科材料的方式赋予其希望的形状。
根据本发明的玻璃陶瓷包含特别是60.0至90.0wt.-％，优选为70.0至83.0wt.-％和特别优选为73.0至81.0wt.-％的SiO2。
进一步优选的是，该玻璃陶瓷包含2.8至9.0wt.-％，特别是5.0至9.0 wt.-％，且特别优选为5.0至7.8wt.-％的Li2O。Li2O作用是改善起始玻璃的可熔性。另外，其也可以促进离子在玻璃基体中的移动，并且认为这对一些晶相的结晶，例如对低温石英和硅酸锂的结晶有积极的影响。
还优选的是，除了Li2O之外，该玻璃陶瓷还以0至13.0wt.-％，特别是1.0至13.0wt.-％和特别优选为2.0至13.0wt.-％的量包含另外的碱金属氧化物MeI 2O。术语“另外的碱金属氧化物MeI 2O”是指除了Li2O之外的碱金属氧化物，其中该MeI 2O特别选自Na2O、K2O、Rb2O和/或Cs2O。该玻璃陶瓷特别优选地以示出的量包含以下另外的碱金属氧化物MeI 2O中的至少一种且特别是全部：
Figure GDA0003803044600000021
在特别优选的实施方案中，根据本发明的玻璃陶瓷包含1.0至4.0 wt.-％的K2O。
此外，优选的是，该玻璃陶瓷包含0至11.0wt.-％，特别是1.0至7.0 wt.-％的二价元素的氧化物MeIIO，其中该氧化物MeIIO特别选自MgO、 CaO、SrO和/或ZnO。该玻璃陶瓷特别优选地以示出的量包含以下二价元素的氧化物MeIIO中的至少一种且特别是全部：
Figure GDA0003803044600000022
在特别优选的实施方案中，根据本发明的玻璃陶瓷包含1.0至7.0 wt.-％，特别是1.0至2.0wt.-％的MgO。
另外，包含0至10.0wt.-％，特别是2.0至9.0wt.-％的三价元素的氧化物MeIII 2O3的玻璃陶瓷是优选的，其中该MeIII 2O3特别选自Al2O3、B2O3、 Y2O3、La2O3、Ga2O3和/或In2O3。该玻璃陶瓷特别优选地以示出的量包含以下三价元素的氧化物MeIII 2O3中的至少一种且特别是全部：
Figure GDA0003803044600000031
在特别优选的实施方案中，根据本发明的玻璃陶瓷包含2.0至8.0 wt.-％的Al2O3。
另外，以0至21.0wt.-％的量包含另外的四价元素的氧化物MeIVO2的玻璃陶瓷是优选的。术语“另外的四价元素的氧化物MeIVO2”是指除了 SiO2之外的四价氧化物，其中该MeIVO2特别选自ZrO2、GeO2、CeO2、TiO2和/或SnO2。该玻璃陶瓷特别优选地以示出的量包含以下另外的四价元素的氧化物MeIVO2中的至少一种且特别是全部：
Figure GDA0003803044600000032
在进一步优选的实施方案中，该玻璃陶瓷包含0至7.0wt.-％，特别是 0至6.5wt.-％，特别优选为1.0至6.5wt.-％，且非常特别优选为2.0至6.5 wt.-％的P2O5。
P2O5可以起到成核剂的作用。然而，成核剂的存在对于作为主晶相的 SiO2的形成而言不是绝对必要的。
另外，以0至6.0wt.-％，特别是0至5.0wt.-％的量包含另外的五价元素的氧化物MeV 2O5的玻璃陶瓷是优选的。术语“另外的五价元素的氧化物MeV 2O5”是指除了P2O5之外的五价氧化物，其中该MeV 2O5特别选自 V2O5、Ta2O5和/或Nb2O5。该玻璃陶瓷特别优选地以示出的量包含以下另外的五价元素的氧化物MeV 2O5中的至少一种且特别是全部：
Figure GDA0003803044600000041
包含0至6.0wt.-％的六价元素的氧化物MeVIO3的玻璃陶瓷也是优选的，其中该MeVIO3特别选自WO3和/或MoO3。该玻璃陶瓷特别优选地以示出的量包含以下氧化物MeVIO3中的至少一种且特别是全部：
组分 wt.-％
WO3 0至6.0
MoO3 0至5.0。
此外，包含0至5.0wt.-％，特别是0至1.0wt.-％的氟的玻璃陶瓷是优选的。
以示出的量包含以下组分中的至少一种且优选全部的玻璃陶瓷是特别优选的：
Figure GDA0003803044600000042
其中，MeI 2O、MeIIO、MeIII 2O3、MeIVO2、MeV 2O5和MeVIO3具有上述指定的含义。
在进一步特别优选的实施方案中，该玻璃陶瓷包含以下组分中的至少一种且优选全部：
Figure GDA0003803044600000043
Figure GDA0003803044600000051
上述组分中的一些可以充当着色剂和/或荧光剂。此外，根据本发明的玻璃陶瓷还可以包含另外的着色剂和/或荧光剂，其可特别地选自无机颜料和/或d-元素和f-元素的氧化物，诸如Sc、Mn、Fe、Co、Pr、Nd、Tb、 Er、Dy、Gd、Eu和Yb的氧化物。另外也可以充当成核剂的金属胶体，例如Ag、Au和Pd的胶体，也可以被用作另外的着色剂。例如可以通过在熔融和结晶过程期间还原相应的氧化物、氯化物或硝酸盐形成这些金属胶体。
该玻璃陶瓷的性质实质上受到主晶相的影响。根据本发明的玻璃陶瓷包含SiO2作为主晶相。在优选的实施方案中，根据本发明的玻璃陶瓷包含低温石英、方晶石或其混合物，优选低温石英或方晶石，且特别优选低温石英作为主晶相。
术语“主晶相”是指在玻璃陶瓷中存在的所有晶相中按质量计具有最高比例的晶相。这些晶相的质量特别是使用Rietveld方法测定的。使用 Rietveld方法进行晶相的定量分析的合适方法描述在例如耶拿大学2011年 M.Dittmer的博士论文“
Figure GDA0003803044600000061
undGlaskeramiken im System MgO-Al2O3-SiO2 mit ZrO2 als Keimbildner”(用ZrO2作为成核剂的 MgO-Al2O3-SiO2体系的玻璃和玻璃陶瓷(Glasses and glass ceramics in the MgO-Al2O3-SiO2 system with ZrO2 as nucleating agent))中。
进一步优选的是，根据本发明的玻璃陶瓷包含5.0至50.0wt.-％，且特别是10.0至30.0wt.-％的SiO2作为晶相，特别是呈低温石英、方晶石或其混合物的形式。
除了包含SiO2作为主晶相之外，根据本发明的玻璃陶瓷还可以包含另外的晶相，诸如特别是磷酸锂和/或硅酸锂。在根据本发明的玻璃陶瓷中，同样也可存在再另外的呈无定形或晶体形式的纳米级相。
优选的是，根据本发明的玻璃陶瓷包含5.0至30.0wt.-％，且特别是 10.0至25.0wt.-％的焦硅酸锂。
所形成的晶相的类型和量可以特别地通过起始玻璃的组成以及用于由起始玻璃制备玻璃陶瓷的热处理来控制。实施例通过改变应用的组分和施加的热处理对此进行说明。
根据本发明的玻璃陶瓷具有特别是至少5.0·10-6K-1，优选为10.0至 20.0·10- 6K-1，且特别优选为13.0至18.0·10-6K-1的热膨胀系数CTE(在100 至500℃的范围内测得的)。该CTE是根据ISO 6872(2008)测定的。
根据本发明的玻璃陶瓷的特征在于非常好的化学稳定性。为了测定化学稳定性，根据ISO标准6872(2008)通过测定储存在乙酸水溶液期间的质量损失对玻璃陶瓷进行测试。根据本发明的玻璃陶瓷显示出优选地小于 30μg/cm2的质量损失。
另外，根据本发明的玻璃陶瓷的特征特别在于以下机械性质，该机械性质实现特别简单且快速的机械加工，以赋予玻璃陶瓷例如牙科修复体的形状。
该玻璃陶瓷具有优选至少200MPa，且特别优选200至500MPa的双轴断裂强度。双轴断裂强度是根据ISO 6872(2008)(活塞三球测试 (piston-on-three-balls test))测定的。
玻璃陶瓷的半透明性是根据英国标准BS 5612测定为相对值(CR值) 的形式，且其优选为35至80。
本发明同样涉及具有相应组成的前驱体，根据本发明的玻璃陶瓷可以由这些前驱体通过热处理制得。这些前驱体是具有相应组成的起始玻璃和具有相应组成的含有核的起始玻璃。术语“相应组成”是指这些前驱体以与玻璃陶瓷相同的量包含相同的组分，其中除了氟以外的组分都是以氧化物计算的，这对于玻璃和玻璃陶瓷是常见的。
因此，本发明还涉及包含根据本发明的玻璃陶瓷的组分的起始玻璃。
因此，根据本发明的起始玻璃包含以下组分：
组分 wt.-％
SiO2 58.0至92.0
Li2O 2.0至10.0。
另外，起始玻璃也可以包含其它组分，诸如上文示出的根据本发明的玻璃陶瓷的组分。所有那些对于根据本发明的玻璃陶瓷的组分而言指定为优选的实施方案对于该起始玻璃的组分而言也是优选的。
本发明还涉及这样的起始玻璃，其包含用于SiO2的结晶，且特别是低温石英和/或方晶石的结晶，优选为低温石英的结晶的核。
首先可以通过热处理起始玻璃制备含有核的起始玻璃，对于该含有核的起始玻璃而言，其部分可以通过进一步的热处理被转化成具有SiO2作为主晶相的根据本发明的玻璃陶瓷。
特别地，以这样的方式进行起始玻璃的制备，以使在特别是1500至 1800的温度下将合适的起始材料，诸如碳酸盐、氧化物和磷酸盐的混合物熔融0.5至10h。为了达到特别高的均质性，可以将获得的玻璃熔体倒入水中，以形成玻璃颗粒，然后再次将得到的颗粒熔融。
然后可以将熔体倒入模具，例如钢模具或石墨模具中，以产生起始玻璃的坯料，即所谓的固体玻璃坯料或整块坯料。通常首先例如通过将这些整块坯料保持在450至600℃下5至120min对它们进行应力消除。在示出的温度范围内的应力消除通常导致用于SiO2晶相的结晶，且特别是低温石英晶相的结晶的核的形成。
也可以再次将熔体放入水中，以制备熔块，即颗粒。可以在研磨之后，以及任选地添加另外的组分诸如粘结剂和/或着色剂和荧光剂之后，压制该熔块，以形成坯料，即所谓的粉末压块(powder compact)。
最后，还可以在产生玻璃熔块之后，处理起始玻璃以形成粉末。
然后可以通过热处理由起始玻璃制备具有核的起始玻璃。这也被称为成核过程。
因此，本发明还涉及用于制备包含用于SiO2的结晶，特别是低温石英的结晶的核的起始玻璃的方法，其中，起始玻璃在450至600℃的温度下，且特别是在500至550℃的温度下经受特别是5至120min且优选为10至40 min的时间段的热处理。
然后可以通过热处理由所述包含核的起始玻璃形成根据本发明的玻璃陶瓷。
因此，本发明还涉及用于制备根据本发明的玻璃陶瓷的方法，其中，起始玻璃，特别是包含核的起始玻璃，在700至950℃的温度下经受至少一次特别是5至40min且优选为10至30min的时间段的热处理。
可以使起始玻璃或包含核的起始玻璃，例如以固体玻璃坯料或者以粉末压块的形式经受至少一次热处理。
在根据本发明的方法中进行的至少一次热处理也可以发生在热压制过程中，特别是固体玻璃坯料的热压制过程中，或者发生在烧结(sinter-on) 过程中，特别是粉末的烧结过程中。
因此，在优选的实施方案中，本发明涉及用于制备根据本发明的玻璃陶瓷的方法，其中
(a)任选地在添加另外的组分，诸如压制辅助剂(pressing aid)、着色剂和/或荧光剂之后，压制起始玻璃的粉末，以形成粉末压块，和
(b)使粉末压块在700至950℃的温度下经受特别是5至40min的时间段的热处理。
在进一步优选的实施方案中，本发明涉及用于制备根据本发明的玻璃陶瓷的方法，其中
(a’)特别是通过将起始玻璃的熔体倒入模具中，使其成型，以形成玻璃坯料，和
(b’)使玻璃坯料在700至900℃的温度下经受特别是5至40min的时间段的热处理。
在根据本发明的方法的两种优选的实施方案中，可以在步骤(b)或(b’) 中的热处理之前进行另外的上述成核。
根据本发明的玻璃陶瓷和根据本发明的玻璃特别是以如下形式存在：粉末；颗粒；或任何形状或尺寸的坯料，例如单块坯料，诸如薄片(platelets)、立方体或柱体；或粉末压块，以未烧结、部分烧结或致密烧结的形式。它们可以以这些形状容易地进一步加工，例如以形成牙科修复体。然而，它们也可以以牙科修复体的形式存在，诸如以嵌体、高嵌体、牙冠、饰面、小面或基牙的形式存在。
可以由根据本发明的玻璃陶瓷和根据本发明的玻璃制备牙科修复体，诸如齿桥、嵌体、高嵌体、牙冠、贴面、小面或基牙。因此，本发明还涉及它们作为牙科材料的用途，且特别涉及它们用于制备牙科修复体的用途。优选的是，通过压制或机械加工赋予玻璃陶瓷或玻璃希望的牙科修复体的形状。
压制通常在升高的压力和升高的温度下进行。优选地，压制在700至 1200℃的温度下进行。进一步优选地，在10至30巴的压力下进行压制。在压制期间，通过所用材料的粘滞流动(viscous flow)来实现所希望的形状变化。根据本发明的起始玻璃和根据本发明的含有核的起始玻璃，以及优选地根据本发明的玻璃陶瓷可用于压制。特别地，根据本发明的玻璃和玻璃陶瓷可以以具有任意形状或尺寸的坯料，例如固体坯料或粉末压块的形式来使用，所述粉末压块例如以未烧结、部分烧结或致密烧结的形式来使用。
机械加工通常通过材料去除过程和特别地通过铣削和/或磨削来进行。特别优选地，机械加工作为CAD/CAM工艺的部分进行。根据本发明的起始玻璃、根据本发明的含有核的起始玻璃以及根据本发明的玻璃陶瓷可用于机械加工。特别地，根据本发明的玻璃和玻璃陶瓷可以以坯料例如固体坯料或粉末压块的形式来使用，所述粉末压块例如以未烧结、部分烧结或致密烧结的形式来使用。优选地，根据本发明的玻璃陶瓷用于机械加工。根据本发明的玻璃陶瓷也可以以由通过在较低温度下的热处理制备的尚未完全结晶的形式来使用。这具有以下优点：可以更容易地机械加工和因此可以使用更简单的机械加工装置。在机械加工这样的部分结晶的材料后，通常使后者经受进一步的热处理，以导致作为晶相的SiO2的进一步结晶。
然而，根据本发明的玻璃陶瓷和根据本发明的玻璃也适合作为涂层材料，例如陶瓷、玻璃陶瓷和金属的涂层材料。因此，本发明还涉及根据本发明的玻璃或根据本发明的玻璃陶瓷用于涂布特别是陶瓷、玻璃陶瓷和金属的用途。
本发明还涉及用于涂布陶瓷、玻璃陶瓷和金属的方法，其中将根据本发明的玻璃陶瓷或根据本发明的玻璃施加至陶瓷、玻璃陶瓷或金属，并暴露于至少600℃的温度。
特别地，这可通过烧结和优选地通过压紧(pressing-on)来进行。在烧结的情况下，将所述玻璃陶瓷或玻璃以常规方式，例如作为粉末，施加到待涂布的材料，诸如陶瓷、玻璃陶瓷或金属，然后烧结。在优选的压紧的情况下，在升高的温度例如700至1200℃下，伴随着施加压力例如10至 30巴，将根据本发明的玻璃陶瓷或根据本发明的玻璃压紧，例如以粉末压块或整块坯料的形式。特别地，在EP231773中描述的方法和其中公开的压制炉可以特别用于此。适合的市售炉为得自列支敦士登的Ivoclar Vivadent AG的Programat型炉。
由于根据本发明的玻璃陶瓷和根据本发明的玻璃的上述性能，它们特别适合用于牙科学。因此，根据本发明的玻璃陶瓷或根据本发明的玻璃作为牙科材料的用途，特别是用于制备牙科修复体的用途，或作为用于牙科修复体诸如牙冠、齿桥和基牙的涂层材料的用途也是本发明的主题。
因此，本发明还涉及用于制备牙科修复体，特别是齿桥、嵌体、高嵌体、饰面、基牙、部分冠、牙冠或小面的方法，其中通过压制、烧结或机械加工，特别是作为CAD/CAM工艺的部分的机械加工赋予根据本发明的玻璃陶瓷或根据本发明的起始玻璃希望的牙科修复体的形状。
以下参照非限制性实施例更加详细地描述本发明。
实施例
实施例1至35—组成和晶相
通过将相应的起始玻璃熔融、任选的成核或应力消除、然后的用于结晶的热处理，制备总共35种具有表I中给出的组成的玻璃和玻璃陶瓷。
以下含义适用于表I：
Figure GDA0003803044600000101
Figure GDA0003803044600000111
在实施例1至35中，首先按照100至200g的规模在温度Ts下将来自常规原材料的起始玻璃进行时间段ts的熔融。通过将熔融的起始玻璃倒入水中制备玻璃熔块。为了进一步处理玻璃熔块，使用了下面示出的三种方法变形A)、B)和C)：
A)固体玻璃块
在其TC和tC示于表1的实施例(实施例3-5、7-12、14、16-24和26-35) 中，由固体玻璃块制备玻璃陶瓷。为此，在温度Ts下再次对得到的玻璃熔块进行时间段ts的熔融。然后将得到的起始玻璃的熔体倒入石墨模具中，以制备固体玻璃块。然后通常在温度TKb下对这些玻璃整块材料进行时间段tKb的应力消除，借此可以发生成核。然后将成核的起始玻璃加热到温度TC达时间段tC。从而形成根据本发明的包含SiO2作为主晶相的玻璃陶瓷，如可以在室温下通过X射线衍射实验确定的。
认为在该方法变形中，已经发生SiO2晶相的大量结晶。
B)粉末压块
在其T烧结和t烧结示于表1的实施例(实施例1、2、6、15和25)中，由粉末压块制备玻璃陶瓷。为此，将得到的玻璃熔块在氧化锆研磨机中研磨至<90μm的粒径。然后将约4g该粉末压制，以形成圆柱形坯料，并且在烧结炉(来自Ivoclar Vivadent AG的
Figure GDA0003803044600000112
)中在温度T烧结下对其进行t烧结的保持时间的烧结，以形成致密的玻璃陶瓷体。通过烧结形成根据本发明的包含SiO2作为主晶相的玻璃陶瓷，如可以在室温下通过X射线衍射实验确定的。
认为在该方法变形中，已经发生SiO2晶相的表面结晶。
C)固体玻璃块的热压制
在示出其T压制和t压制的实施例13中，通过热压制固体玻璃块制备玻璃陶瓷。
为此，在温度Ts下再次对得到的玻璃熔块进行时间段ts的熔融。然后将得到的起始玻璃的熔体倒入预加热过的钢模具中，以制备棒状物(rod)。然后在温度TKb下对这些整块玻璃棒状物进行时间段tKb的应力消除，借以发生成核。然后将这些棒状物锯成质量约4至6g的块。然后在温度T压制下在热压制炉中对这些固体玻璃块进行压制，并持续t压制的保持时间，以形成成型体。通过热压制形成根据本发明的包含SiO2作为主晶相的玻璃陶瓷，如可以在室温下通过对所形成的成型体的X射线衍射实验确定的。
在CAD/CAM单元中机械加工根据实施例1至12和14至35制备的玻璃陶瓷块，以根据牙科标准形成希望的试件(test piece)，和形成牙科修复体，诸如牙冠。为此，用合适的夹具提供结晶的块，然后在得自奥地利的Sirona Dental GmbH的inLab MC XL研磨单元中赋予结晶的块希望的形状。
根据DIN5033和DIN6174另外测得根据实施例1的玻璃陶瓷的色值(L， a，b)如下：
L:90.68
a:-0.54
b:4.82
根据ISO 6872(2008)检查根据实施例1的玻璃陶瓷的化学稳定性，得到仅5μg/cm2的酸溶解度。
另外，用合适的夹具提供根据实施例1得到的玻璃陶瓷块，并且用得自SironaDental GmbH的inLab研磨单元由其研磨出用于测定双轴强度的试件。将这些试件抛光至15μm，然后测定双轴强度，而不进一步热处理。如此制备的试件的平均强度为247MPa。
表I
Figure GDA0003803044600000131
Figure GDA0003803044600000141
Figure GDA0003803044600000151
Figure GDA0003803044600000161
Figure GDA0003803044600000171
Figure GDA0003803044600000181
Figure GDA0003803044600000191

Claims (59)

1.玻璃陶瓷用于制备牙科修复体的用途，所述玻璃陶瓷包含以下组分：
组分 wt.-%
SiO2 58.0至92.0
Li2O 2.0至10.0
三价元素的氧化物MeIII 2O3 0至10.0
并且包含5.0至50.0 wt.-%的呈低温石英、方晶石或其混合物的形式的SiO2作为主晶相，其中通过烧结或机械加工，赋予所述玻璃陶瓷希望的牙科修复体的形状。
2.根据权利要求1所述的用途，其中通过压制，赋予所述玻璃陶瓷希望的牙科修复体的形状。
3.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含60.0至90.0 wt.-%的SiO2。
4.根据权利要求3所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含70.0至83.0 wt.-%的SiO2。
5.根据权利要求4所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含73.0至81.0 wt.-%的SiO2。
6.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含2.8至9.0 wt.-%的Li2O。
7.根据权利要求6所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含5.0至9.0 wt.-%的Li2O。
8.根据权利要求7所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含5.0至7.8 wt.-%的Li2O。
9.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含0至13.0 wt.-%的除了Li2O之外的碱金属氧化物MeI 2O。
10.根据权利要求9所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含1.0至13.0 wt.-%的除了Li2O之外的碱金属氧化物MeI 2O。
11.根据权利要求10所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含2.0至13.0 wt.-%的除了Li2O之外的碱金属氧化物MeI 2O。
12.根据权利要求9所述的用途，其中MeI 2O选自Na2O、K2O、Rb2O和/或Cs2O。
13.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含0至11.0 wt.-%的二价元素的氧化物MeIIO。
14.根据权利要求13所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含1.0至7.0 wt.-%的二价元素的氧化物MeIIO。
15.根据权利要求13所述的用途，其中MeIIO选自MgO、CaO、SrO和/或ZnO。
16.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含2.0至9.0 wt.-%的三价元素的氧化物MeIII 2O3。
17.根据权利要求1所述的用途，其中MeIII 2O3选自Al2O3、B2O3、Y2O3、La2O3、Ga2O3和/或In2O3。
18.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含0至21.0 wt.-%的除了SiO2之外的四价元素的氧化物MeIVO2。
19.根据权利要求18所述的用途，其中MeIVO2选自ZrO2、GeO2、CeO2、TiO2和/或SnO2。
20.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含0至7.0 wt.-%的P2O5。
21.根据权利要求20所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含0至6.5 wt.-%的P2O5。
22.根据权利要求21所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含1.0至6.5 wt.-%的P2O5。
23.根据权利要求22所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含2.0至6.5 wt.-%的P2O5。
24.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含0至6.0 wt.-%的除了P2O5之外的五价元素的氧化物MeV 2O5。
25.根据权利要求24所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含0至5.0 wt.-%的除了P2O5之外的五价元素的氧化物MeV 2O5。
26.根据权利要求24所述的用途，其中MeV 2O5选自V2O5、Ta2O5和/或Nb2O5。
27.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含0至6.0 wt.-%的六价元素的氧化物MeVIO3。
28.根据权利要求27所述的用途，其中MeVIO3选自WO3和/或MoO3。
29.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含0至5.0 wt.-%的氟。
30.根据权利要求29所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含0至1.0 wt.-%的氟。
31.根据权利要求1所述的用途，其中以下组分中的至少两种以示出的量存在于所述玻璃陶瓷中：
组分 wt.-%
除了Li2O之外的
碱金属氧化物MeI 2O 0至13.0
MeIIO 0至11.0
除了SiO2之外的四
价元素的氧化物MeIVO2 0至21.0
P2O5 0至7.0
除了P2O5之外的五
价元素的氧化物MeV 2O5 0至6.0
MeVIO3 0至6.0
氟 0至5.0。
32.根据权利要求31所述的用途，其中全部组分以示出的量存在于所述玻璃陶瓷中。
33.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含呈低温石英或方晶石的形式的SiO2作为主晶相。
34.根据权利要求33所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含呈低温石英的形式的SiO2作为主晶相。
35.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含10.0至30.0 wt.-%的SiO2作为晶相。
36.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含磷酸锂和/或硅酸锂作为另外的晶相。
37.根据权利要求36所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含5.0至30.0 wt.-%的焦硅酸锂。
38.根据权利要求37所述的用途，其中所述玻璃陶瓷包含10.0至25.0 wt.-%的焦硅酸锂。
39.根据权利要求1所述的用途，其中所述玻璃陶瓷以粉末、熔块、坯料或牙科修复体的形式存在。
40.根据权利要求1至39中任一项所述的用途，其中通过使包含所述玻璃陶瓷的组分的起始玻璃在700至950℃的温度下经受至少一次热处理制备所述玻璃陶瓷。
41.根据权利要求40所述的用途，其中使所述起始玻璃经受至少一次5至40 min的时间段的所述热处理。
42.根据权利要求41所述的用途，其中使所述起始玻璃经受至少一次10至30 min的时间段的所述热处理。
43.根据权利要求40所述的用途，其中
（a）任选地在添加另外的组分之后，压制所述起始玻璃的粉末，以形成粉末压块，其中所述另外的组分选自压制辅助剂、着色剂和/或荧光剂，和
（b）使所述粉末压块在700至950℃的温度下经受热处理。
44.根据权利要求43所述的用途，其中使所述粉末压块经受5至40 min的时间段的所述热处理。
45.根据权利要求40所述的用途，其中
（a’）使所述起始玻璃的熔体成型，以形成玻璃坯料，和
（b’）使所述玻璃坯料在700至900℃的温度下经受热处理。
46.根据权利要求45所述的用途，其中通过将所述起始玻璃的熔体倒入模具中，使其成型，以形成玻璃坯料。
47.根据权利要求45所述的用途，其中使所述玻璃坯料经受5至40 min的时间段的所述热处理。
48.根据权利要求1至39中任一项所述的用途，其中所述机械加工为铣削。
49.根据权利要求1至39中任一项所述的用途，其中在CAD/CAM方法中赋予所述的玻璃陶瓷希望的牙科修复体的形状。
50.根据权利要求1至39中任一项所述的用途，其中所述牙科修复体是齿桥、嵌体、饰面、基牙、牙冠或小面。
51.根据权利要求50所述的用途，其中所述牙冠是部分冠。
52.根据权利要求1至39中任一项所述的用途，其中所述牙科修复体是高嵌体。
53.用于制备牙科修复体的方法，其中通过烧结或机械加工，赋予根据权利要求1至39中任一项所述的用途中的玻璃陶瓷希望的牙科修复体的形状。
54.根据权利要求53所述的方法，其中通过压制，赋予根据权利要求1至39中任一项所述的用途中的玻璃陶瓷希望的牙科修复体的形状。
55.根据权利要求53所述的方法，其中所述机械加工为铣削。
56.根据权利要求53所述的方法，其中在CAD/CAM方法中赋予所述的玻璃陶瓷希望的牙科修复体的形状。
57.根据权利要求53所述的方法，其中所述牙科修复体是齿桥、嵌体、饰面、基牙、牙冠或小面。
58.根据权利要求57所述的方法，其中所述牙冠是部分冠。
59.根据权利要求53所述的方法，其中所述牙科修复体是高嵌体。
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