CN105629508A - 一种多功能镜片及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种多功能镜片及其制备方法，该镜片包括基片，基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九膜层、第十膜层和第十一膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第三膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为ITO层，厚度为10-100nm；所述第九膜层为纳米银层，厚度为5-20nm；所述第十膜层为高硬度层，厚度为10-50nm；所述第十一膜层为氟化物层，厚度为3-10nm。该制备方法包括以下步骤：1）对基片进行清洗；2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜。本发明的镜片能有效过滤33％以上有害蓝光、炫光，能有效缓解视觉疲劳，高硬度层能够显著提高镜片耐磨性。
Description
技术领域
本发明涉及一种镜片技术领域，尤其是涉及一种多功能镜片及其制备方法。
背景技术
随着人们文化、生活水平的不断提高，视力保健工作的开展，眼镜作为矫正视力或保护眼睛而制作的简单光学器件，在人们生活领域中发挥了重要的作用。眼镜通常是由镜片和镜架组成，从镜片的功能上讲，它具有调节进入眼睛之光量，增加视力，保护眼睛安全和临床治疗眼病等作用。
目前镜片的种类繁多，如目前常见的TAC偏光镜片，其可100％阻隔有害光线，因此颇受消费者的青睐，特别适于户外运动使用，然而，在运动过程中镜片难免发生刮擦，因此镜片的耐磨程度也是消费者选购的一个考虑因素，目前市售的TAC 偏光镜片，其表面的硬度只能达到H，其耐磨性为1.5 级，很容易被硬物刮花或摔坏，影响使用者观察事物的效果，既给使用者带来不便，而且还需经常更换，增加使用成本，有待改进。
蓝光是波长为 400-500nm 的高能量可见光，蓝光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶体、直达视网膜，在紫外线和蓝光的作用下会引起人们的视觉疲劳，视力会逐渐下降，易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。为了避免蓝光伤害，具有部分滤除蓝光波段的光学镜片被发明，此光学镜片又称为抗蓝光镜片。现有的抗蓝光镜片大都是利用在镜片材料中加入色粉制成的抗蓝光镜片，如中国发明专利所公开的专利号为CN101813832A的抗蓝光茶色太阳镜片，还有利用在镜片表层镀膜制成的抗蓝光镜片，如
CN1564052 专利所揭示的防蓝光伤害保健眼镜片。
夜间行车时，对面行驶车辆若违规采用大功率的车灯，司机就会产生炫目的感觉，而且在较长一段时间内视觉难以恢复正常状态，极易造成交通事故。人在此情况下，产生炫目的机理是：当人从强光环境下进入暗处，或从暗处到明处，眼睛都需要经历一段适应时间才能看清周围物体，相应地称为暗适应和明适应。有关科学资料表明，这种适应需要的时间大约为5-10min，而完全适应新的亮度环境需要20-30min。夜间行车过程中，当对面车辆迎面驶来时，司机就会有一个明适应的过程，而车辆驶过时，又有一个暗适应的过程，极易造成人眼疲劳。为解决此安全隐患，人们通常采用电子学与光学相结合的方法，例如ADS晶望镜，此产品是汽车遮阳板的升级换代产品，可以有效防止炫目，并且有随外界光强自动调整透射率的优点，但它是与车型相匹配的，其他车型若想采用此产品必须另行安装，大大降低了其通用性，而且此类产品的价格偏高。
此外，人们的手触摸到镜片时，手上的油污和水渍很容易在镜片上留下痕迹，这些痕迹又很不容易擦除掉，这样就会影响使用者观察事物的效果，给使用者带来不便。眼镜在长期佩戴后，镜片不仅容易滋生细菌，而且还容易吸附周围环境中的灰尘等细小颗粒，从而不利于佩戴者的身体健康，污染镜片，影响其透光性。
针对上述问题，结合人们常佩戴的眼镜，研发一种多功能镜片是至关重要的。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种可有效防止蓝光对人体的伤害，耐磨性好，增透性好，杀菌抗菌能力强，可防辐射、防紫外线、防炫目、防水防油污的多功能镜片及其制备方法。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种多功能镜片，包括基片，所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九膜层、第十膜层和第十一膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，所述第三膜层为金属层，所述第八膜层为ITO层，所述第九膜层为纳米银层，所述第十膜层为高硬度层，所述第十一膜层为氟化物层。
每层五氧化三钛层的厚度均为10-100nm，每层二氧化硅层的厚度均为50-100nm，金属层的厚度为5-20nm，ITO层的厚度为10-100nm，纳米银层的厚度为5-20nm，高硬度层的厚度为10-50nm，氟化物层的厚度为3-10nm。
所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。
所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型；所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型；所述氟化物层的膜材为氟化镁，并由电阻蒸镀成型。
所述基片由树脂或玻璃成型。
一种多功能镜片的制备方法，所述基片由树脂成型时，其具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第八膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；
I、镀第九膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，其中第九膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第九膜层的膜材的氧离子分离，第九膜层的膜材中的银以纳米级分子形式附着于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中，所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
J、镀第十膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm；其中，所述第十一膜层的膜材为氟化镁，形成氟化物层。
所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行再次清洗。
一种多功能镜片的制备方法，所述基片由玻璃成型时，其具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第八膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；
I、镀第九膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，其中第九膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第九膜层的膜材的氧离子分离，第九膜层的膜材中的银以纳米级分子形式附着于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中，所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
J、镀第十膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm；其中，所述第十一膜层的膜材为氟化镁，形成氟化物层。
所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内用离子枪轰击基片的外表面5-10分钟进行再次清洗。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基片制成的电极，并通过电子枪高温轰击将单质存在的高纯度金属、金属合金或其它氧化物，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。
本发明在基片上真空蒸镀有若干层五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在镜片基片上镀制增透性好的多层膜。本发明在基片上真空蒸镀有若干层氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。本发明的五氧化三钛层和二氧化硅层相互配合，起到控制过滤波长和增透的效果，本发明在镜片基片内、外表面蒸镀若干交替设置的五氧化三钛层和二氧化硅层，不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光，而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波，减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激。
本发明在基片上真空蒸镀有诸如过氧化银等纳米银层，利用银的氧化物在电子枪蒸镀的作用下氧离子分离，银的氧化物中的银离子以纳米级单质银的形式附着形成薄层的纳米银层，纳米单质银杀菌效应使其拥有杀菌能力，能够有效抑制细菌或其它微生物生长并具有卓越的杀灭有害细菌的性能，避免了因细菌感染引起急性红眼等问题；本发明在基片内、外表面上设置高硬度层，有效提高了镜片的耐磨性，可以防止其刮花；本发明在基片上通过采用电阻蒸镀的方式来镀诸如氟化镁层等低熔点的氟化物层，使其具有很好的疏水性和防油污功能，从而使得镜片能够有效地防水和防油污，使用者手上的油污和水渍不会在镜片上留下污渍；本发明的金属层，不仅提升了防蓝光效果和清晰度，而且也可以反射有害光、炫目光波、强闪动光波等；本发明通过上述膜层相互配合，可有效防止蓝光对人体的伤害，耐磨性好，增透性好，杀菌抗菌能力强，具有防辐射、防紫外线、防炫目、防水防油污等功能。
本发明的镜片基片由树脂成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs；本发明的镜片基片由玻璃成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：
图1为本发明多功能镜片的分解图。
具体实施方式
如图1所示，本发明包括基片1，所述基片1的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层2、第二膜层3、第三膜层4、第四膜层5、第五膜层6、第六膜层7、第七膜层8、第八膜层9、第九膜层10、第十膜层11和第十一膜层12；所述第一膜层2、第四膜层5和第六膜层7均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层3、第五膜层6和第七膜层8均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第三膜层4为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层9为ITO层，厚度为10-100nm；所述第九膜层10为纳米银层，厚度为5-20nm；所述第十膜层11为高硬度层，厚度为10-50nm；所述第十一膜层12为氟化物层，厚度为3-10nm。
每层五氧化三钛层的厚度均为10-100nm，每层二氧化硅层的厚度均为50-100nm，金属层的厚度为5-20nm，ITO层的厚度为10-100nm，纳米银层的厚度为5-20nm，高硬度层的厚度为10-50nm，氟化物层的厚度为3-10nm。
所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。
所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型；所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型；所述氟化物层的膜材为氟化镁，并由电阻蒸镀成型。
所述基片由树脂或玻璃成型。
实施例1
一种多功能镜片的制备方法，所述基片由树脂成型时，其具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第八膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；
I、镀第九膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，其中第九膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第九膜层的膜材的氧离子分离，第九膜层的膜材中的银以纳米级分子形式附着于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中，所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
J、镀第十膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm；其中，所述第十一膜层的膜材为氟化镁，形成氟化物层。
所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行再次清洗。
实施例2
一种多功能镜片的制备方法，所述基片由玻璃成型时，其具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第八膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；
I、镀第九膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，其中第九膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第九膜层的膜材的氧离子分离，第九膜层的膜材中的银以纳米级分子形式附着于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中，所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
J、镀第十膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm；其中，所述第十一膜层的膜材为氟化镁，形成氟化物层。
所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内用离子枪轰击基片的外表面5-10分钟进行再次清洗。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基片制成的电极，并通过电子枪高温轰击将单质存在的高纯度金属、金属合金或其它氧化物，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。
本发明在基片上真空蒸镀有若干层五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在镜片基片上镀制增透性好的多层膜。本发明在基片上真空蒸镀有若干层氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。本发明的五氧化三钛层和二氧化硅层相互配合，起到控制过滤波长和增透的效果，本发明在镜片基片内、外表面蒸镀若干交替设置的五氧化三钛层和二氧化硅层，不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光，而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波，减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激。
本发明在基片上真空蒸镀有诸如过氧化银等纳米银层，利用银的氧化物在电子枪蒸镀的作用下氧离子分离，银的氧化物中的银离子以纳米级单质银的形式附着形成薄层的纳米银层，纳米单质银杀菌效应使其拥有杀菌能力，能够有效抑制细菌或其它微生物生长并具有卓越的杀灭有害细菌的性能，避免了因细菌感染引起急性红眼等问题；本发明在基片内、外表面上设置高硬度层，有效提高了镜片的耐磨性，可以防止其刮花；本发明在基片上通过采用电阻蒸镀的方式来镀诸如氟化镁层等低熔点的氟化物层，使其具有很好的疏水性和防油污功能，从而使得镜片能够有效地防水和防油污，使用者手上的油污和水渍不会在镜片上留下污渍；本发明的金属层，不仅提升了防蓝光效果和清晰度，而且也可以反射有害光、炫目光波、强闪动光波等；本发明通过上述膜层相互配合，可有效防止蓝光对人体的伤害，耐磨性好，增透性好，杀菌抗菌能力强，具有防辐射、防紫外线、防炫目、防水防油污等功能。
本发明的镜片基片由树脂成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs；本发明的镜片基片由玻璃成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs。
以上描述不应对本发明的保护范围有任何限定。
Claims (10)
1.一种多功能镜片，包括基片，其特征在于：所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九膜层、第十膜层和第十一膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，所述第三膜层为金属层，所述第八膜层为ITO层，所述第九膜层为纳米银层，所述第十膜层为高硬度层，所述第十一膜层为氟化物层。
2.根据权利要求1所述的一种多功能镜片，其特征在于：每层五氧化三钛层的厚度均为10-100nm，每层二氧化硅层的厚度均为50-100nm，金属层的厚度为5-20nm，ITO层的厚度为10-100nm，纳米银层的厚度为5-20nm，高硬度层的厚度为10-50nm，氟化物层的厚度为3-10nm。
3.根据权利要求1所述的一种多功能镜片，其特征在于：所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。
4.根据权利要求1所述的一种多功能镜片，其特征在于：所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
5.根据权利要求1所述的一种杀菌防水油污耐磨镜片，其特征在于：所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型；所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型；所述氟化物层的膜材为氟化镁，并由电阻蒸镀成型。
6.根据权利要求1所述的一种多功能镜片，其特征在于：所述基片由树脂或玻璃成型。
7. 根据权利要求6所述多功能镜片的制备方法，其特征在于：所述基片由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第八膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；
I、镀第九膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，其中第九膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第九膜层的膜材的氧离子分离，第九膜层的膜材中的银以纳米级分子形式附着于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中，所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
J、镀第十膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm；其中，所述第十一膜层的膜材为氟化镁，形成氟化物层。
8.根据权利要求7所述的一种多功能镜片的制备方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行再次清洗。
9. 根据权利要求6所述多功能镜片的制备方法，其特征在于：所述基片由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第八膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；
I、镀第九膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，其中第九膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第九膜层的膜材的氧离子分离，第九膜层的膜材中的银以纳米级分子形式附着于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中，所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
J、镀第十膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm；其中，所述第十一膜层的膜材为氟化镁，形成氟化物层。
10.根据权利要求9所述的一种多功能镜片的制备方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内用离子枪轰击基片的外表面5-10分钟进行再次清洗。
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