CN105319613B - 光学膜和带触控面板的显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供能够在抑制映照、牛顿环的同时抑制眩光且总雾度和内部雾度低的光学膜、以及能够充分抑制水印和眩光产生的带触控面板的显示装置。一种光学膜，其具有在透光性基材上层叠有表面具有凹凸形状的光学层的构成，其特征在于，总雾度值为0％以上且5％以下，内部雾度值为0％以上且5％以下，在将使用0.125mm宽的光梳测定的透射图像清晰度设为C(0.125)、将使用0.25mm宽的光梳测定的透射图像清晰度设为C(0.25)时，满足下述式(1)和式(2)。C(0.25)‑C(0.125)≥2％ (1)；C(0.125)≤64％ (2)。

Description

光学膜和带触控面板的显示装置

技术领域

本发明涉及光学膜和带触控面板的显示装置。

背景技术

在液晶显示器(LCD)、阴极射线管显示装置(CRT)、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)、场发射显示器(FED)等图像显示装置的图像显示面上，通常，为了抑制观察者和观察者的背景等的映照，设置有在表面具有凹凸的防眩膜、在最外表面具有防反射层的防反射性膜。

防眩膜是使外部光线在防眩层的凹凸面发生散射从而抑制观察者和观察者的背景等的映照的膜。防眩膜主要具备透光性基材和设置在透光性基材上的具有凹凸面的防眩层。

防眩层通常含有粘结剂树脂和存在于粘结剂树脂中且用于形成凹凸面的微粒。

但是，在将这样的防眩膜配置于图像显示装置的表面的情况下，防眩层的凹凸面使得影像光散射，有可能产生所谓的眩光。针对这样的问题，提出了提高防眩膜的内部雾度来抑制眩光的方案(例如，参见专利文献1)。

近年来，开发出了被称为4K2K(水平像素数3840×垂直像素数2160)的水平像素数为3000以上的超高精细的图像显示装置。

在这样的超高精细的图像显示装置中，也与上述的图像显示装置同样地在图像显示面设置防眩膜，但对于超高精细的图像显示装置而言，要求高于以往的亮度、透光性。

在此，若提高防眩膜的总雾度、内部雾度，则会引起亮度、透光率的降低，因此，在超高精细的图像显示装置中，作为如上所述用于抑制眩光的手段，不能采用提高防眩膜的内部雾度这样的手段。另外，若提高防眩膜的内部雾度，则影像光在防眩膜内漫射，一部分影像光有可能成为杂散光，结果，暗对比度降低，并且图像也可能模糊。因此，目前，作为组装在超高精细的图像显示装置中的膜，期望能够抑制眩光且总雾度和内部雾度低的膜。

另外，近年来，智能手机、平板终端等搭载有触控面板的小型移动设备快速普及，但在这样的小型移动设备中，由于显示图像的超高精细化，图像显示装置的眩光的问题也变得更为显著，另一方面，要求高于以往的亮度、透光性。

以往，已知在液晶显示器等显示面板上配置有触控面板的带触控面板的显示装置，在如上所述的小型移动设备中，也多使用在图像显示装置上配置有触控面板的带触控面板的显示装置。这样的带触控面板的显示装置中，可以通过用手指等触碰图像显示面来直接输入信息。

在将触控面板固定于显示面板上时，显示面板与触控面板大多留出间隔而配置。即，显示面板与触控面板大多隔着空气层(气隙)而配置(例如，参见专利文献2)。

对于带触控面板的显示装置的图像显示面，其性质上不仅是用手指等触碰的程度，而且有时还会用手指等强力按压。在图像显示面被强力按压的情况下，触控面板发生变形，因此，触控面板与显示面板之间的距离变窄(空气层的厚度变薄)，在触控面板的显示面板侧的表面被反射的光与在显示面板的触控面板侧的表面被反射的光发生干涉而产生牛顿环，存在使画面的可视性降低的问题。

另外，近年来，正在推进带触控面板的显示装置的薄型化和大面积化。随着带触控面板的显示装置的薄型化的进展，触控面板与显示面板之间的距离变得更狭窄，另外，随着带触控面板的显示装置的大面积化的进展，触控面板变得容易变形。因此，牛顿环的问题变得更为显著。

需要说明的是，以下，将伴随触控面板的变形而产生的牛顿环也特别地称为水印。

针对这样的水印的问题，例如，专利文献3中提出了如下方案：在触控面板与液晶显示面板的间隙内填充树脂材料而形成树脂层，由此，消除在与触控面板和液晶显示面板的间隙的界面处的反射。

但是，在填充树脂材料来制造最终的制品时，在制造出最终制品后即使在触控面板中发现不良情况，也无法仅对该触控面板进行更换。另外，难以将树脂材料完全填充到触控面板与液晶显示面板的间隙内，若形成含有气泡的状态，则会成为显示图像的缺陷的原因。

在此，已知如下方法：在显示面板与触控面板留出间隔而配置的显示装置中，在显示面板的表面设置凹凸面，利用该凹凸面使入射光漫射，从而抑制牛顿环的产生(例如，参见专利文献4)。

但是，在这样的在显示面板的表面设置有凹凸面的带触控面板的显示装置中，该凹凸面使得影像光散射，有时产生所谓的眩光。

针对这样的眩光的问题，与上述的组装在超高精细的图像显示装置中的膜同样，也无法采用提高显示面板的内部雾度的方法。

另外，针对这样的眩光的问题，还对例如使凹凸面的凹凸间隔(Sm)与像素的尺寸相比为一半以下的方法等减小凹凸的间隔的方向进行了研究。但是，对于超高精细的图像显示装置而言，使用现有的减小凹凸间隔的方法有时无法充分抑制眩光。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-102186号公报

专利文献2：日本特开2010-15412号公报

专利文献3：日本特开2004-077887号公报

专利文献4：日本特开2002-189565号公报

发明内容

发明所要解决的课题

鉴于上述现状，本发明的目的在于提供能够在抑制映照、牛顿环的同时抑制眩光且总雾度和内部雾度低的光学膜、以及能够充分抑制水印和眩光产生的带触控面板的显示装置。

用于解决课题的手段

本发明为一种光学膜，其具有在透光性基材上层叠有表面具有凹凸形状的光学层的构成，其特征在于，总雾度值为0％以上且5％以下，内部雾度值为0％以上且5％以下，在将使用0.125mm宽的光梳测定的透射图像清晰度设为C(0.125)、将使用0.25mm宽的光梳测定的透射图像清晰度设为C(0.25)时，满足下述式(1)和式(2)，

C(0.25)-C(0.125)≥2％ (1)

C(0.125)≤64％ (2)。

另外，本发明的另一方式为一种光学膜，其具有在透光性基材上层叠有表面具有凹凸形状的光学层的构成，其特征在于，所述光学膜的表面的表面高度分布的半峰宽为200nm以上，表面凹凸的平均曲率为0.30mm^-1以下。

对于本发明的光学膜，优选上述光学膜的总雾度值为0％以上且5％以下，上述光学膜的内部雾度值为0％以上且5％以下。

另外，对于本发明的光学膜，优选上述光学膜的总雾度值为0％以上且1％以下，上述光学膜的内部雾度值实质上为0％。

另外，对于本发明的光学膜，优选上述光学层含有粘结剂树脂和微粒。

另外，优选上述微粒为无机氧化物微粒。

优选上述无机氧化物微粒的平均一次粒径为1nm以上且100nm以下，另外，优选上述无机氧化物微粒为表面被进行了疏水化处理的无机氧化物微粒。

另外，本发明为一种带触控面板的显示装置，其具有将本发明的光学膜与触控面板对向配置的构成，其特征在于，本发明的光学膜与上述触控面板在相互之间具有间隙的状态下以上述光学膜中的光学层与上述触控面板彼此面对的方式对向配置。

以下，详细地说明本发明。

需要说明的是，本说明书中，“树脂”在没有特别说明的情况下是指也包含单体、低聚物等在内的概念。

另外，以下，对于在本发明的光学膜与其他方式的本发明的光学膜中共通的事项，仅称本发明的光学膜来进行说明。

本发明人进行了深入研究，结果发现，通过使光学膜的表面形成特定的凹凸形状，能够高度地抑制眩光的产生而不受光学膜的内部雾度的影响，进而发现，通过光学膜与触控面板对向配置的构成，即使在光学膜与触控面板之间设有间隙，也能够高度地抑制水印的产生，能够得到良好的显示图像，从而完成了本发明。

需要说明的是，由于这样的本发明的光学膜还能够高度地抑制水印这样的牛顿环的产生，因此，也可以用作与触控面板对向配置来使用的光学层。

图1是示意性地示出本发明的光学膜的截面图。

本发明的光学膜11中，具有透光性基材12与表面具有凹凸形状的光学层13层叠而成的构成。

本发明的光学膜11的总雾度值为0％以上且5％以下，并且，内部雾度值为0％以上且5％以下。

总雾度值和内部雾度值为作为光学膜整体进行测定时的值。

需要说明的是，上述总雾度值和内部雾度值可以使用雾度计(HM-150，村上色彩技术研究所制造)通过基于JIS K7136的方法来测定。具体而言，使用雾度计依照JIS K7136测定光学膜的总雾度值。然后，在光学膜的表面，借助透明光学粘合层粘贴三乙酰纤维素基材(富士胶片公司制造，TD60UL)。由此，光学膜的表面的凹凸形状垮塌，光学膜的表面变得平坦。然后，在该状态下，使用雾度计(HM-150，村上色彩技术研究所制造)依照JIS K7136测定雾度值，由此求出内部雾度值。该内部雾度为光学膜的表面未附加凹凸形状时的内部雾度。

本发明的光学膜11的总雾度值优选为1％以下，更优选为0.3％以上且0.5％以下。内部雾度值优选实质上为0％。在此，“内部雾度值实质上为0％”不限于内部雾度值完全为0％的情况，其含义包含即使内部雾度值大于0％但仍在测定误差的范围内、内部雾度值可以基本视为0％的范围(例如，0.3％以下的内部雾度值)。

在光学膜11的总雾度值为0％以上且5％以下、内部雾度值为0％以上且5％以下的情况下，光学膜11的表面雾度值为0％以上且5％以下。光学膜11的表面雾度值优选为0％以上且1％以下，更优选为0％以上且0.3％以下。表面雾度值仅由光学膜11的表面的凹凸形状引起，通过从总雾度值中减去内部雾度值，可求出仅由光学膜11的表面的凹凸形状引起的表面雾度值。

本发明的光学膜11中，在将使用0.125mm宽的光梳测定的光学膜11的透射图像清晰度设为C(0.125)、将使用0.25mm宽的光梳测定的光学膜11的透射图像清晰度设为C(0.25)时，满足下述式(1)和式(2)。

C(0.25)-C(0.125)≥2％ (1)

C(0.125)≤64％ (2)

需要说明的是，上述“透射图像清晰度”可以利用基于JIS K7374的图像清晰度的透射法的透射图像清晰度测定装置来测定。作为这样的测定装置，例如可以举出SUGA TESTINSTRUMENTS公司制造的图像清晰度测定器ICM-1T等。

另外，如图2所示，透射图像清晰度测定装置100具备光源101、狭缝102、透镜103、透镜104、光梳105以及光接收器106，利用透镜103使从光源101发出且从狭缝102中通过的光成为平行光，使该平行光照射到光学膜11的透光性基材12侧，利用透镜104使从光学膜11的光学层13的凹凸形状14透射的光会聚，利用光接收器106接收从光梳105中通过的光，基于由该光接收器106接收的光量，通过下式(3)计算出透射图像清晰度C。

C(n)＝{(M-m)/(M+m)}×100(％) (3)

需要说明的是，式(3)中，C(n)为光梳的宽度为n(mm)时的透射图像清晰度(％)，M为光梳的宽度为n(mm)时的最高光量，m为光梳的宽度为n(mm)时的最低光量。

光梳105可沿光梳105的长度方向移动，其具有遮光部分和透射部分。光梳105的遮光部分与透射部分的宽度之比为1：1。在此，在JIS K7374中，作为光梳，规定为宽度为0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm、2.0mm的5种光梳。

本发明中，光学膜需要满足上述式(1)和式(2)。其理由如下。

即，首先，在光学膜中，为了得到防映照性、水印等牛顿环防止性，在光学层的表面形成凹凸形状，但本发明人研究发现，通过满足上述式(2)的条件，即，使C(0.125)的值为64％以下，能够有效地防止映照、水印。

需要说明的是，本发明中的防映照性是指观察者(观测者)和观察者的背景的映照不引人注意的程度的特性，例如是指：虽然可辨认观察者的存在，但其轮廓为不清晰的模糊状态；并且，虽然可辨认处于观察者的背景中的物体的存在，但轮廓、边界不清晰。这样，观察者的轮廓等只是模糊的，达到对于观察者而言映照不引起注意的状态。

另一方面，该凹凸形状的凹部、凸部有时使光会聚、漫射而起到透镜那样的作用(透镜效应)。并且认为，产生这样的透镜效应时，将液晶显示器等的像素分隔的黑色矩阵和来自像素的透射光被随机地增强，由此产生了眩光。

于是，本发明人进一步进行了研究，结果弄清了，通过使由形成在光学膜的光学层的表面的凹凸形状引起的光的漫射为更微小角度的漫射，具体而言，通过满足上述式(1)的条件，即，使C(0.25)-C(0.125)的值为2％以上，能够抑制眩光的产生。认为其理由如下。

即，越是小光梳，透射图像清晰度越会受到微小角度漫射的影响而值下降。因此可以说，在小光梳下的值越小且在大光梳下的值越大，则广角度的漫射越少。

因此认为，相对于C(0.25)的值，通过使作为大一个号的光梳的C(0.25)的值比C(0.125)的值大2％以上，能够进行微小角度的漫射，另外认为，通过进行微小角度的漫射，能够使透镜效应极小，因此，能够极有效地防止眩光。

由此，光学膜需要满足上述式(1)和式(2)。

需要说明的是，通常，本领域技术人员可以预测，从抑制眩光的观点出发，C(0.25)的值与C(0.125)的值之差越小越好，该差大时，眩光加剧。这一点在例如日本特开2010-269504号公报中也得到了证实。该公开公报中记载了，从抑制眩光的观点出发，使使用0.125mm的光梳得到的透射图像清晰度与使用2.0mm的光梳得到的透射图像清晰度之比为0.70以上，以及优选使该比为0.80以上且0.93以下。即，该公开公报中，虽然未使用0.25mm的光梳，但记载了上述比相较于0.70以上更优选为0.80以上，因此，给出了使用0.125mm的光梳得到的透射图像清晰度与使用2.0mm的光梳得到的透射图像清晰度之差优选更小的方向性。与此相对，与该预测相反，本发明中，1为了抑制眩光，使C(0.25)的值与C(0.125)的值之差为2％以上。

因此可以说，满足上述式(1)和式(2)的光学膜是超出了基于现有公知的光学膜的技术水准可预测到的范围的光学膜。

需要说明的是，本申请说明书中，在称为光学层叠体的情况下，也表示光学膜。

图3是示意性地示出使用了本发明的光学膜11的带触控面板的显示装置的截面图。

如图3所示，本发明的带触控面板的显示装置30中，光学膜31与触控面板35对向配置，光学膜31在透光性基材32的一个表面上层叠有表面具有凹凸形状34的光学层33。

本发明的带触控面板的显示装置30中，光学膜3与触控面板35在相互之间具有间隙的状态下以光学层33(凹凸形状34)与触控面板35彼此面对的方式对向配置。

在此，作为触控面板35，可以举出电阻膜式触控面板、静电电容式触控面板等，本发明的带触控面板的显示装置30中，可以使用任意一种方式，其中，优选静电电容式触控面板。

本发明的带触控面板的显示装置30中，光学膜31的总雾度值为0％以上且5％以下，并且，内部雾度值为0％以上且5％以下。

总雾度值和内部雾度值为作为光学膜整体进行测定时的值。

本发明的带触控面板的显示装置中，光学膜31的总雾度值优选为1％以下，更优选为0.3％以上且0.5％以下。

内部雾度值优选实质上为0％。

在此，“内部雾度值实质上为0％”不限于内部雾度值完全为0％的情况，其含义包含即使内部雾度值大于0％但仍在测定误差的范围内、内部雾度值可以基本视为0％的范围(例如，0.3％以下的内部雾度值)。

在光学膜31的总雾度值为0％以上且5％以下、内部雾度值为0％以上且5％以下的情况下，光学膜31的表面雾度值为0％以上且5％以下。

光学膜31的表面雾度值优选为0％以上且1％以下，更优选为0％以上且0.3％以下。

表面雾度值仅由光学膜31的表面的凹凸形状引起，通过从总雾度值中减去内部雾度值，可求出仅由光学膜31的表面的凹凸形状引起的表面雾度值。

本发明的带触控面板的显示装置中，在将使用0.125mm宽的光梳测定的光学膜31的透射图像清晰度设为C(0.125)、将使用0.25mm宽的光梳测定的光学膜31的透射图像清晰度设为C(0.25)时，满足下式(1)和(2)。

C(0.25)-C(0.125)≥2％ (1)

C(0.125)≤64％ (2)

本发明的带触控面板的显示装置中，上述C(0.25)的值与C(0.125)的值之差优选为5％以上，更优选为10％以上。另外，上述C(0.25)的值与C(0.125)的值之差优选为30％以下。

上述C(0.125)的值优选为60％以下，更优选为50％以下。另外，上述C(0.125)的值优选为5％以上，更优选为20％以上。

另外，对于另一方式的本发明的光学膜，图1所示的光学膜11的表面的表面高度分布的半峰宽为200nm以上。

在此，使上述光学膜的表面的表面高度分布的半峰宽为200nm以上的原因在于，若在该范围内，则人眼观察不到水印，即，能够使水印不可见。

作为其理由，设想了各种理论，例如可以举出以下所示的理论。

图4为表示入射到使用了另一方式的本发明的光学膜11的带触控面板的显示装置中的光发生反射的状况的示意图。

如图4所示，对于从触控面板45侧入射的光而言，在光学层43侧的与间隙46的界面发生反射的光与透过间隙46在光学层43的表面(凹凸形状44)发生反射的光产生干涉，根据触控面板45与光学层43的表面(凹凸形状44)之间的间隙46的各位置的厚度，各位置的干涉色发生变化。

需要说明的是，图4中，示出了在可见光波长全范围内产生干涉的情况，间隙46最厚的部分的光(A)的干涉色为红色系，间隙46最薄的部分的光(C)的干涉色为蓝色系，光(B)的干涉色为光(A)与光(B)之间的黄绿色系。

并且，若这样的干涉色的变化产生在人无法识别的微小区域内，则各干涉色发生混色，不会被人眼识别为干涉条纹(水印)。

即，间隙46的厚度变化与凹凸形状44的高度分布相对应，因此，只要使上述高度分布形成在人眼所无法识别的区域内且形成在可见光波长全范围内充分产生干涉色的分布即可。

在此，可见光波长的下限波长的干涉色所产生的光程与可见光波长的上限波长的干涉色所产生的光程之差在光程相当于1个波长时最大，由于可见光波长在380nm～780nm的范围，因此此时的光程差为400nm(780nm-380nm)。

因此，若存在400nm以上的光程差且其间的凹凸形状44的高度分布尽可能均等，则能够在可见光波长全范围内充分产生干涉色。

并且，上述光程为间隙46的厚度的2倍，因此，作为间隙46的厚度变化，只要为200nm以上即可。

换言之，只要在表面具有凹凸形状44的光学层43的表面高度为200nm以上的范围内存在尽可能均等的分布即可。

因此可以说，只要光学膜11的表面的表面高度分布的半峰宽为200nm以上，则凹凸形状44在上述的表面高度为200nm以上的范围内存在尽可能均等的分布，存在在可见光波长全范围内充分产生干涉色的高度分布，从而能够使水印不可见。

另外，此时，为了确保间隙46的厚度的变化、即光学层43的表面的表面高度分布在微小的区域内，根据预先除去了间隔大的凹凸的表面分布曲线计算出表面高度分布即可。

即，使用应用了长波长截止滤光片的表面分布曲线即可。

从使人眼无法识别的方面出发，作为长波长截止滤光片的波长，优选为800μm。

在此，表面高度分布的半峰宽表示：根据利用接触式表面粗糙度计或非接触式表面粗糙度计(例如，干涉显微镜、共聚焦显微镜、原子显微镜等)得到的表面分布曲线，使用直方图以凹凸高度(单位：nm)为横轴、以频率(单位：计数)为纵轴作图而得到的凹凸分布中的半峰宽(峰位置处的分布的高度的、一半高度的位置处的分布的宽度)(单位：nm)。

上述表面高度分布的半峰宽优选为220nm以上，更优选为250nm以上。

另外，上述表面高度分布的半峰宽优选为500nm以下。

表面高度分布的半峰宽超过500nm时，表面凹凸的高度过大，眩光有可能加剧。

表面高度分布的半峰宽更优选为400nm以下，进一步优选为300nm以下。

从简便性出发，上述表面分布曲线优选使用干涉显微镜进行测定。

作为这样的干涉显微镜，例如可以举出Zygo公司制造的“New View”系列等。

上述另一方式的本发明的光学膜11的表面的表面凹凸的平均曲率为0.30mm^-1以下。

出于防止水印等目的，在光学层的表面形成凹凸形状，但该凹凸形状的凹凸有时起到透镜那样的作用(透镜效应)。

并且认为，产生这样的透镜效应时，将液晶显示器等的像素分隔的黑色矩阵和来自像素的透射光被随机地增强，由此产生了眩光。

本发明人进行研究的结果发现，凹凸形状的曲率越大，透镜效应越强，越容易产生眩光。

因此，通过使光学膜表面的表面凹凸的平均曲率为0.30mm^-1以下，即使形成凹凸形状，也能够极为有效地防止眩光。

表面凹凸的平均曲率优选设定为为0.25mm^-1以下，更优选设定为0.20mm^-1以下。

另外，表面凹凸的平均曲率优选为0.05mm^-1以上。

平均曲率小于0.05mm^-1时，防水印性有可能变差。

在此，表面凹凸的平均曲率如下求出。

图5为上述光学膜的表面分布曲线，如图5所示，在光学膜表面分布曲线上给出A(x1、y1)、B(x2、y2)和C(x3、y3)的情况下，B点的曲率可以作为穿过A点、B点、C点这3点的圆的半径的倒数来求出，由下式表示。

[数1]

在与计算上述的表面高度分布时同样地得到的表面分布曲线上，将横向设为x方向、将高度方向设为y方向、将横向的测定间隔设为d时，x2-x1＝x3-x2＝d，将y1、y2、y3看作各点的高度，上式可进行如下改写。

[数2]

由表面分布曲线分别对各点进行上述的计算，由此计算出各点的曲率，对这些值进行平均，由此能够计算出表面凹凸的平均曲率。

此时，极微小的凹凸对透镜效应没有贡献，优选不包含在曲率的计算中，因此，在求表面分布曲线时，优选应用短波长截止滤光片将极微小的凹凸成分除去。

从该方面出发，作为短波长截止滤光片的波长，优选为25μm。

需要说明的是，通常，本领域技术人员可以预测，从抑制眩光的观点出发，表面凹凸的平均间隔(Sm)的值越小越好，该值大时，眩光加剧(例如，参见日本特开2010-191412号公报等)。

但是，表面凹凸的平均间隔减小意味着平均曲率增大。

因此可以说，上述表面高度分布的半峰宽的值和表面凹凸的平均曲率满足上述中特定的数值范围的光学膜是超出了基于现有公知的光学膜的技术水准可预测到的范围的光学膜。

另外，在使用了另一方式的本发明的光学膜的带触控面板的显示装置(以下，也称为另一方式的本发明的带触控面板的显示装置)中，图3所示的另一方式的本发明的光学膜31的表面的表面高度分布的半峰宽为200nm以上。

在此，表面高度分布的半峰宽表示：根据利用接触式表面粗糙度计或非接触式表面粗糙度计(例如，干涉显微镜、共聚焦显微镜、原子显微镜等)得到的表面分布曲线，使用直方图以凹凸高度(单位：nm)为横轴、以频率(单位：计数)为纵轴作图而得到的凹凸分布中的半峰宽(峰位置处的分布的高度的、一半高度的位置处的分布的宽度)(单位：nm)。

另一方式的本发明的带触控面板的显示装置中，上述表面高度分布的半峰宽优选为220nm以上，更优选为250nm以上。

另外，上述表面高度分布的半峰宽优选为500nm以下。

表面高度分布的半峰宽超过500nm时，表面凹凸的高度过大，眩光有可能加剧。

表面高度分布的半峰宽更优选为400nm以下，进一步优选为300nm以下。

从简便性出发，上述表面分布曲线优选使用干涉显微镜来测定。

作为这样的干涉显微镜，例如可以举出Zygo公司制造的“New View”系列等。

另一方式的本发明的带触控面板的显示装置中，上述光学膜的表面的表面凹凸的平均曲率为0.30mm^-1以下。

上述表面凹凸的平均曲率优选为0.25mm^-1以下，更优选为0.20mm^-1以下。

另外，表面凹凸的平均曲率优选为0.05mm^-1以上。

平均曲率小于0.05mm^-1时，防水印性有可能变差。

需要说明的是，通常，本领域技术人员可以预测，从抑制眩光的观点出发，表面凹凸的平均间隔(Sm)的值越小越好，该值大时，预测眩光加剧(例如，参见日本特开2010-191412号公报等)。

但是，表面凹凸的平均间隔减小意味着平均曲率增大。

因此可以说，上述表面高度分布的半峰宽的值和表面凹凸的平均曲率满足上述中特定的数值范围的光学膜是超出了基于现有公知的光学膜的技术水准可预测到的范围的光学膜。

本发明的光学膜在透光性基材上层叠有表面具有凹凸形状的光学层。

作为上述透光性基材，只要具有透光性则没有特别限定，例如可以举出纤维素酰化物基材、环烯烃聚合物基材、聚碳酸酯基材、丙烯酸酯系聚合物基材、聚酯基材或玻璃基材等。

作为上述纤维素酰化物基材，例如可以举出三乙酸纤维素基材、二乙酸纤维素基材等。

另外，作为上述环烯烃聚合物基材，例如可以举出由降冰片烯系单体和单环环烯烃单体等的聚合物构成的基材等。

另外，作为上述聚碳酸酯基材，例如可以举出以双酚类(双酚A等)为基体的芳香族聚碳酸酯基材、二乙二醇双烯丙基碳酸酯等脂肪族聚碳酸酯基材等。

另外，作为上述丙烯酸酯系聚合物基材，例如可以举出聚(甲基)丙烯酸甲酯基材、聚(甲基)丙烯酸乙酯基材、(甲基)丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸丁酯共聚物基材等。需要说明的是，本说明书中，(甲基)丙烯酸表示丙烯酸或甲基丙烯酸。

作为上述聚酯基材，例如可以举出以聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一种作为构成成分的基材等。

作为上述玻璃基材，例如可以举出钠钙硅玻璃、硼硅酸盐玻璃、无碱玻璃等玻璃基材。

其中，从延迟性优异且容易与偏振元件粘接的观点出发，优选纤维素酰化物基材，在纤维素酰化物基材中更优选三乙酰纤维素基材(TAC基材)。三乙酰纤维素基材是在可见光区域的380～780nm内能够使平均透光率为50％以上的透光性基材。上述三乙酰纤维素基材的平均透光率为70％以上，更优选为85％以上。

需要说明的是，作为上述三乙酰纤维素基材，除了纯粹的三乙酰纤维素以外，也可以为乙酸-丙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素这样的还合用了乙酸以外的成分作为与纤维素形成酯的脂肪酸而得到的纤维素酯。另外，这些三乙酰纤维素中可以根据需要添加有二乙酰纤维素等其他纤维素低级脂肪酸酯或者增塑剂、紫外线吸收剂、润滑剂等各种添加剂。

从延迟性和耐热性优异的方面出发，优选环烯烃聚合物基材，另外，从机械特性和耐热性的方面出发，优选聚酯基材。

作为上述透光性基材的厚度，没有特别限定，可以为5μm以上且1000μm以下，上述透光性基材的厚度的下限从处理性等方面出发优选为15μm以上，更优选为25μm以上。上述透光性基材的厚度的上限从薄膜化的方面出发优选为80μm以下。

本发明的光学膜中，优选在上述透光性基材的与光学层的界面部分具有混合存在有上述透光性基材和含有重均分子量为1000以下的光聚合性单体作为单体单元的树脂的混在区域。通过具有上述混在区域，能够实现由上述透光性基材与光学层的界面反射引起的干涉条纹的抑制。

上述光聚合性单体与在光学层的后述的粘结剂树脂中作为单体单元而含有的重均分子量为1000以下的光聚合性单体为相同的单体。

作为上述混在区域的厚度，优选为0.01μm以上且1μm以下。本发明的光学膜和带触控面板的显示装置能够利用光学层的后述的凹凸面充分地抑制干涉条纹的产生，因此，即使在上述混在区域的厚度如此薄的情况下，也能够抑制干涉条纹的产生。需要说明的是，现有公知的防反射膜也通过形成与上述混在区域同样的混在区域来抑制干涉条纹，但现有公知的防反射膜中形成的混在区域的厚度厚达3μm以上，本发明中形成的混在区域的厚度与现有的防反射膜中形成的混在区域相比可以说是足够薄的。

另外，通过形成上述混在区域，能够进一步提高透光性基材与光学层的密合性。

需要说明的是，如上所述，通过光学层的凹凸面能够充分抑制干涉条纹的产生，因此，光学膜中也可以不形成这样的混在区域。即使在这种未形成混在区域的情况下，也能够抑制干涉条纹的产生，因此，即使是例如丙烯酸类基材、环烯烃聚合物基材、聚酯基材等难以形成混在区域的基材，也可以作为透光性基材来使用。

作为上述光学层，例如可以举出发挥防反射性、硬涂性、防眩性、抗静电性或防污性等功能的层等。

在上述光学层为除了防反射性以外还发挥硬涂性的层的情况下，光学层优选具有在JIS K5600-5-4(1999)所规定的铅笔硬度试验(4.9N负荷)中具有“H”以上的硬度。

上述光学层的表面为如上所述形成有凹凸形状的凹凸面。需要说明的是，上述“光学层的表面”是指光学层中的与透光性基材侧的面(光学层的背面)相反侧的面。

另外，若内部雾度值在0％以上且5％以下的范围内，则内部雾度值对透射图像清晰度没有影响，因此，透射图像清晰度受到光学膜的表面的凹凸形状的影响。另一方面，本发明中，光学膜的表面成为光学层的凹凸面。因此，本发明中，光学膜的透射图像清晰度是否满足上述式(1)和式(2)由光学层的凹凸面的凹凸形状决定。需要说明的是，以下，将光学膜满足上述式(1)和式(2)的光学层的凹凸面称为“特异的凹凸面”。

另外，与上述的理由同样，若内部雾度值在0％以上且5％以下的范围内，则光学膜的内部雾度对眩光的产生没有影响，因此，在上述范围内的内部雾度的情况下，光学膜的表面的凹凸形状影响眩光的产生。以下，对于本发明中的满足上述条件的光学膜的凹凸面也称为“特异的凹凸面”。

上述特异的凹凸面可以通过适当调节凹凸的数量、凹凸的尺寸或凹凸的倾斜角等来形成，作为对这些进行调节的方法，例如可以举出使用含有固化后形成粘结剂树脂的光聚合性化合物和微粒的光学层用组合物来形成凹凸面的方法等。

上述形成凹凸面的方法中，光聚合性化合物聚合(交联)而形成粘结剂树脂时，在不存在微粒的部分，光聚合性化合物发生固化收缩，因此整体上产生收缩。与此相对，在存在微粒的部分，微粒不发生固化收缩，因此仅有存在于微粒上下的光聚合性化合物发生固化收缩。由此，存在微粒的部分与不存在微粒的部分相比，光学层的膜厚变厚，因而光学层的表面成为凹凸面。因此，通过适当选择微粒的种类、粒径以及光聚合性化合物的种类并调节涂膜形成条件，能够形成具有特异的凹凸面的光学层。

上述光学层优选含有粘结剂树脂和微粒且通过上述的方法来形成。

上述粘结剂树脂含有光聚合性化合物的聚合物(交联物)。

上述粘结剂树脂除了含有光聚合性化合物的聚合物(交联物)以外，还可以含有溶剂干燥型树脂、热固性树脂。

上述光聚合性化合物至少含有1个光聚合性官能团。需要说明的是，本说明书中的“光聚合性官能团”是指能够通过光照射进行聚合反应的官能团。

作为这样的光聚合性官能团，例如可以举出(甲基)丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等烯键式双键。需要说明的是，“(甲基)丙烯酰基”的含义包括“丙烯酰基”和“甲基丙烯酰基”这两者。

另外，作为使上述光聚合性化合物聚合时照射的光，可以举出可见光线以及紫外线、X射线、电子射线、α射线、β射线和γ射线等电离射线。

作为上述光聚合性化合物，例如可以举出光聚合性单体、光聚合性低聚物或光聚合性聚合物，可以对它们进行适当调节来使用。

作为上述光聚合性化合物，优选光聚合性单体与光聚合性低聚物或光聚合性聚合物的组合。需要说明的是，在形成上述混在区域的情况下，作为光聚合性化合物，至少含有光聚合性单体。

上述光聚合性单体优选为重均分子量为1000以下的光聚合性单体。通过使上述光聚合性单体的重均分子量为1000以下，能够使光聚合性单体与渗透到透光性基材中的溶剂一起渗透到透光性基材中。由此，能够在上述透光性基材中的光学层的界面附近形成用于缓和该透光性基材与光学层的折射率的、混合存在有透光性基材和含有该光聚合性单体作为单体单元的树脂的混在区域。需要说明的是，这样的光聚合性单体可以仅使用一种，也可以使用两种以上。

作为上述光聚合性单体，优选含有2个(即二官能)以上的光聚合性官能团的多官能单体。

作为上述二官能以上的单体，例如可以举出：三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四季戊四醇十(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸二(甲基)丙烯酸酯、聚酯三(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、双酚二(甲基)丙烯酸酯、双甘油四(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸金刚烷酯、二(甲基)丙烯酸异冰片酯、二环戊烷二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯或将它们用PO、EO等改性而得到的单体。

其中，从得到硬度高的光学层的观点出发，优选季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)等。

上述光聚合性低聚物的重均分子量超过1000且为10000以下。

作为上述光聚合性低聚物，优选二官能以上的多官能低聚物，优选光聚合性官能团为3个(三官能)以上的多官能低聚物。

作为上述多官能低聚物，例如可以举出：聚酯(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯等。

上述光聚合性聚合物的重均分子量超过1万，作为重均分子量，优选超过1万且为8万以下，更优选超过1万且为4万以下。在重均分子量超过8万的情况下，粘度高，因此涂布适合性降低，所得到的光学膜的外观有可能劣化。

作为上述多官能聚合物，可以举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯等。

上述溶剂干燥型树脂为仅通过使热塑性树脂等在涂布时为了调节固体成分而添加的溶剂干燥而形成覆膜的树脂。在添加有溶剂干燥型树脂的情况下，在形成光学层时，能够有效地防止涂液的涂布面的覆膜缺陷。作为溶剂干燥型树脂，没有特别限定，通常可以使用热塑性树脂。

作为上述热塑性树脂，例如可以举出：苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、乙酸乙烯酯系树脂、乙烯基醚系树脂、含卤素的树脂、脂环式烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酯系树脂、聚酰胺系树脂、纤维素衍生物、有机硅系树脂以及橡胶或弹性体等。

上述热塑性树脂优选为非晶性且可溶于有机溶剂(特别是能够溶解2种以上的聚合物、固化性化合物的共用溶剂)。特别是从透明性、耐候性的观点出发，优选苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、脂环式烯烃系树脂、聚酯系树脂、纤维素衍生物(纤维素酯类等)等。

作为上述热固化性树脂，没有特别限定，例如可以举出酚醛树脂、脲树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、三聚氰胺树脂、胍胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、氨基醇酸树脂、三聚氰胺-脲醛共缩合树脂、硅树脂、聚硅氧烷树脂等。

上述微粒可以为无机微粒或有机微粒中的任意一种，其中，优选例如二氧化硅(SiO₂)微粒、氧化铝微粒、二氧化钛微粒、氧化锡微粒、掺杂锑的氧化锡(简称ATO)微粒、氧化锌微粒等无机氧化物微粒。上述无机氧化物微粒能够在光学层中形成凝聚体，根据该凝聚体的凝聚程度，能够形成特异的凹凸面。

作为上述有机微粒，例如可以举出塑料珠。作为塑料珠的具体例，可以举出聚苯乙烯珠、三聚氰胺树脂珠、丙烯酸类树脂珠、丙烯酸类树脂-苯乙烯珠、有机硅珠、苯并胍胺珠、苯并胍胺-甲醛缩合珠、聚碳酸酯珠、聚乙烯珠等。

上述有机微粒优选对在上述的固化收缩中微粒所具有的对抗固化收缩的阻力进行了适度调节。为了调节该对抗收缩的阻力，优选预先制作含有通过改变三维交联的程度而制成的硬度不同的有机微粒的多种光学膜，对光学膜的透射图像清晰度进行评价，由此选择出适合形成特异的凹凸面的交联程度。

在使用无机氧化物颗粒作为上述微粒的情况下，优选无机氧化物颗粒实施了表面处理。通过对上述无机氧化物微粒实施表面处理，能够适当地控制微粒在光学层中的分布，并且，还能够提高微粒本身的耐化学药品性和耐皂化性。

作为上述表面处理，优选使微粒的表面为疏水性的疏水化处理。这样的疏水化处理可以通过使硅烷类、硅氮烷类等的表面处理剂与微粒的表面进行化学反应来实现。作为具体的表面处理剂，例如可以举出二甲基二氯硅烷、硅油、六甲基二硅氮烷、辛基硅烷、十六烷基硅烷、氨基硅烷、甲基丙烯酸硅烷、八甲基环四硅氧烷、聚二甲基硅氧烷等。在微粒为无机氧化物微粒的情况下，在无机氧化物微粒的表面存在羟基，但通过实施如上所述的疏水化处理，存在于无机氧化物微粒的表面的羟基减少，无机氧化物微粒的通过BET法测定的比表面积减小，同时能够抑制无机氧化物微粒过度凝聚，能够形成具有特异的凹凸面的功能层。

在使用无机氧化物颗粒作为上述微粒的情况下，优选无机氧化物微粒为非晶态。这是因为，在无机氧化物颗粒为结晶性的情况下，由于其晶体结构中包含的晶格缺陷，无机氧化物微粒的路易斯酸盐增强，有可能无法控制无机氧化物微粒的过度凝聚。

微粒相对于上述光学层的含量没有特别限定，优选为0.1质量％以上且5.0质量％以下。由于微粒的含量为0.1质量％以上，因此能够更可靠地形成特异的凹凸面，另外，由于微粒的含量为5.0质量％以下，因此不会过度产生凝聚体，能够抑制内部漫射和/或在功能层的表面产生大的凹凸，由此能够抑制白浊感。微粒含量的下限更优选为0.2质量％以上，微粒含量的上限更优选为3.0质量％以下。

上述微粒优选在单颗粒状态下的形状为球状。通过使微粒的单颗粒为这样的球状，在将光学膜配置于图像显示装置的图像显示面时，能够得到对比度优异的图像。在此，“球状”的含义包括例如正球状、椭圆球状等，但不包括所谓的无定形的微粒。

在使用有机微粒作为上述微粒的情况下，从抑制由微粒引起的光的漫射的观点出发，优选通过改变折射率不同的树脂的共聚比例来减小上述微粒与粘结剂树脂的折射率差，例如使折射率差小于0.01。有机微粒的平均一次粒径优选小于8.0μm，更优选为5.0μm以下。

上述光学层优选为上述方法中的使用形成疏松的凝聚体的微粒而形成的光学层。“疏松的凝聚体”是指如下的凝聚体：微粒的凝聚体并非块状，其具有包含通过一次颗粒相连而形成的屈曲部和由屈曲部夹持的内侧区域的结构。在此，本说明书中，“屈曲部”为也包括弯曲部在内的概念。作为具有屈曲部的形状，例如可以举出V字状、U字状、圆弧状、C字状、线团状、笼状等。上述屈曲部的两端可以闭合，例如，可以为具有屈曲部的环状结构。

上述屈曲部可以由通过一次颗粒相连而形成且屈曲的1条微粒凝聚体构成，也可以由通过一次颗粒相连而形成的主干部和从主干部分支出来且通过一次颗粒相连而形成的分支部构成，另外，还可以由从主干部分支出来且在主干部连接的2条分支部构成。上述“主干部”是指微粒的凝聚体中最长的部分。

上述内侧区域被粘结剂树脂填埋。上述屈曲部优选以从光学层的厚度方向夹持内侧区域的方式存在。

凝聚为块状的凝聚体在固化后形成粘结剂树脂的光聚合性化合物的固化收缩(聚合收缩)时作为单一的固体起作用，因此，光学层的凹凸面与凝聚体的形状对应。与此相对，微粒疏松地凝聚的凝聚体具有屈曲部和由屈曲部夹持的内侧区域，因此，在固化收缩时作为具有缓冲作用的固体起作用。因此，微粒疏松地凝聚的凝聚体在固化收缩时可容易地且具有均匀性地垮塌。由此，凹凸面的形状与微粒凝聚为块状时相比较为平缓，另外，不容易在局部产生大的凹凸形状。

在上述光学层由疏松地凝聚的凝聚体形成的情况下，还可以通过调节膜厚来调节疏松地凝聚的凝聚体的尺寸。即，膜厚大时，疏松地凝聚的凝聚体的尺寸容易变得更大。由此，能够使凹凸的尺寸更大，使凹凸的间隔更宽。

另外，作为形成疏松的凝聚体的微粒，例如优选平均一次粒径为1nm以上且100nm以下的无机氧化物微粒。由于微粒的平均一次粒径为1nm以上，因此能够更容易地形成具有特异的凹凸面的光学层，另外，由于平均一次粒径为100nm以下，因此能够抑制由微粒引起的光的漫射，能够得到优异的暗对比度。微粒的平均一次粒径的下限更优选为5nm以上，微粒的平均一次粒径的上限更优选为50nm以下。需要说明的是，微粒的平均一次粒径为使用图像处理软件从截面电子显微镜(优选TEM、STEM等透射型且倍率为5万倍以上的截面电子显微镜)的图像中测定的值。

在使用无机氧化物微粒作为形成上述疏松的凝聚体的微粒的情况下，优选光学层的凹凸面的凹凸仅由无机氧化物微粒引起、形成。“光学层的凹凸面的凹凸仅由无机氧化物微粒引起、形成”表示如下含义：实质上不包括光学层的凹凸面的凹凸除了由无机氧化物微粒引起以外、还由无机氧化物微粒以外的微粒引起、形成的情况。在此所述的“实质上不包括”表示如下含义：其他微粒为不形成光学层的凹凸面的凹凸的微粒，或者，若为即使形成凹凸也不影响防反射性的极少的量，则光学层也可以含有无机氧化物微粒以外的其他微粒。

上述无机氧化物微粒中，从能够形成疏松的凝聚体、能够容易地形成特异的凹凸面的观点出发，特别优选气相法二氧化硅。

上述气相法二氧化硅为通过干式法制作的具有200nm以下的粒径的非晶态二氧化硅，可以通过使含有硅的挥发性化合物在气相中进行反应而得到。具体而言，例如可以举出使四氯化硅(SiCl₄)等硅化合物在氧气和氢气的火焰中进行水解而生成的气相法二氧化硅等。作为上述气相法二氧化硅的市售品，例如可以举出NIPPON AEROSIL公司制造的AEROSILR805等。

上述气相法二氧化硅有表现出亲水性的气相法二氧化硅和表现出疏水性的气相法二氧化硅，其中，从水分吸收产生率减小、在功能层用组合物中容易分散的观点出发，优选表现出疏水性的气相法二氧化硅。

疏水性的气相法二氧化硅可以通过使如上所述的表面处理剂与气相法二氧化硅的表面上存在的硅烷醇基进行化学反应来得到。从容易得到上述的凝聚体的观点出发，最优选气相法二氧化硅被进行了辛基硅烷处理。

上述气相法二氧化硅的BET比表面积优选为100m²/g以上且200m²/g以下。通过使气相法二氧化硅的BET比表面积为100m²/g以上，气相法二氧化硅不会过度分散，容易形成适度的凝聚体，另外，通过使气相法二氧化硅的BET比表面积为200m²/g以下，气相法二氧化硅不易形成过大的凝聚体。气相法二氧化硅的BET比表面积的下限更优选为120m²/g，进一步优选为140m²/g。气相法二氧化硅的BET比表面积的上限更优选为180m²/g，进一步优选为165m²/g。

这样的光学层例如可以通过以下的方法来形成。

首先，在上述透光性基材的表面涂布如下的光学层用组合物。

作为涂布上述光学层用组合物的方法，例如可以举出旋涂、浸渍法、喷涂法、坡流涂布法、棒涂法、辊涂法、凹版印刷法、模涂法等公知的涂布方法。

上述光学层用组合物至少含有上述光聚合性化合物和上述微粒。此外，可以根据需要在光学层用组合物中添加上述热塑性树脂、上述热固化性树脂、溶剂、聚合引发剂。进而，可以根据提高光学层的硬度、抑制固化收缩、控制折射率等目的，在光学层用组合物中添加现有公知的分散剂、表面活性剂、抗静电剂、硅烷偶联剂、增稠剂、防着色剂、着色剂(颜料、染料)、消泡剂、流平剂、阻燃剂、紫外线吸收剂、赋粘剂、阻聚剂、抗氧化剂、表面改性剂、润滑剂等。

上述溶剂可以用于如下目的：为了使上述光学层用组合物易于涂布而对粘度进行调节；调节蒸发速度、对微粒的分散性，调节光学层形成时微粒的凝聚程度，从而易于形成特异的凹凸面。

作为这样的溶剂，例如可以例示：醇(例如甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇、苯甲醇、PGME、乙二醇)、酮类(丙酮、甲基乙基酮(MEK)、环己酮、甲基异丁基酮、二丙酮醇、环庚酮、二乙基酮等)、醚类(1,4-二噁烷、二氧戊环、四氢呋喃等)、脂肪族烃类(己烷等)、脂环式烃类(环己烷等)、芳香族烃类(甲苯、二甲苯等)、卤代烃类(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯类(甲酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯等)、溶纤剂类(甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂等)、溶纤剂乙酸酯类、亚砜类(二甲基亚砜等)、酰胺类(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)等，也可以为它们的混合物。

另外，在如上所述在透光性基材的与光学层的界面附近形成混在区域的情况下，作为上述溶剂，使用含有对透光性基材的渗透性高、使透光性基材溶解或溶胀的渗透性溶剂的溶剂，同时，作为光聚合性化合物，使用至少含有重均分子量为1000以下的光聚合性单体的光聚合性化合物。

通过使用上述渗透性溶剂和光聚合性单体，不仅渗透性溶剂渗透到透光性基材中，光聚合性单体也渗透到透光性基材中，因此，能够在透光性基材与光学层的界面附近形成混合存在有透光性基材和含有光聚合性单体作为单体单元的树脂的混在区域。

作为上述渗透性溶剂，例如可以举出：酮类(丙酮、甲基乙基酮(MEK)、环己酮、甲基异丁基酮、二丙酮醇、环庚酮、二乙基酮)、酯类(甲酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯等)、醚类(1,4-二噁烷、二氧戊环、四氢呋喃等)、溶纤剂类(甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂等)、溶纤剂乙酸酯类、亚砜类(二甲基亚砜等)、酚类(苯酚、邻氯苯酚)等。另外，也可以为它们的混合物。在使用三乙酰纤维素基材作为透光性基材的情况下，其中，作为渗透性溶剂，例如，优选选自由甲基异丁基酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯组成的组中的至少一种溶剂，另外，在使用聚酯基材作为透光性基材的情况下，优选邻氯苯酚。

上述聚合引发剂为通过光照射发生分解、产生自由基而引发或进行光聚合性化合物的聚合(交联)的成分。

这样的聚合引发剂只要能够释放通过光照射引发自由基聚合的物质，则没有特别限定，可以使用现有公知的聚合引发剂，作为具体例，例如可以举出苯乙酮类、二苯甲酮类、米氏苯甲酰苯甲酸酯、α-戊基肟酯、噻吨酮类、苯丙酮类、苯偶酰类、苯偶姻类、酰基氧化膦类。另外，优选混合光敏剂来使用，作为其具体例，例如可以举出正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。

作为上述聚合引发剂，在上述粘结剂树脂为具有自由基聚合性不饱和基团的树脂系的情况下，优选单独或混合使用苯乙酮类、二苯甲酮类、噻吨酮类、苯偶姻、苯偶姻甲醚等。

光学层用组合物中的聚合引发剂的含量相对于光聚合性化合物100质量份优选为0.5质量份以上且10.0质量份以下。通过使聚合引发剂的含量在该范围内，能够充分确保硬涂性能，且能够抑制固化阻碍。

作为光学层用组合物中的原料的含有比例(固体成分)，没有特别限定，通常优选为5质量％以上且70质量％以下，更优选为25质量％以上且60质量％以下。

作为上述流平剂，例如，硅油、氟类表面活性剂等可避免光学层形成贝纳德漩涡结构，因此优选。在涂布含有溶剂的树脂组合物并干燥的情况下，在涂膜内在涂膜表面与内面产生表面张力差等，由此在涂膜内引起多数的对流。由该对流产生的结构被称为贝纳德漩涡结构，成为在所形成的光学层中出现橙皮、涂布缺陷等问题的原因。

上述贝纳德漩涡结构有可能使光学层的表面的凹凸变得过大。使用上述的流平剂时，能够防止该对流，因此，不仅能够得到没有缺陷、不均的光学层，而且也容易对光学层的表面的凹凸形状进行调节。

作为上述光学层用组合物的制备方法，只要能够将各成分均匀地混合则没有特别限定，例如可以使用涂料振荡器、珠磨机、捏合机、混合器等公知的装置来进行。

在上述透光性基材的表面涂布光学层用组合物后，输送到为了使涂膜状的光学层用组合物干燥而加热的区段中，通过各种公知的方法使光学层用组合物干燥，使溶剂蒸发。在此，通过选择溶剂相对蒸发速度、固体成分浓度、涂布液温度、干燥温度、干燥风的风速、干燥时间、干燥区域的溶剂气氛浓度等，可以调节微粒的凝聚状态、分布状态。

特别是通过选择干燥条件来调节微粒的分布状态的方法简便因而优选。

例如，通过降低干燥温度和/或减小干燥风速来减慢干燥速度，由此，微粒变得更容易凝聚，因此，能够容易形成凹凸大且凹凸的间隔宽的形状。

作为具体的干燥温度，优选为30～120℃，干燥风速优选为0.2～50m/s，通过进行1次或多次在该范围内进行了适当调节的干燥处理，能够将微粒的分布状态调节至所期望的状态。

另外，使光学层用组合物干燥时，渗透到透光性基材中的渗透性溶剂蒸发，但光聚合性化合物残留在透光性基材中。

然后，对涂膜状的光学层用组合物照射紫外线等光，使光聚合性化合物聚合(交联)，由此使光学层用组合物固化，形成光学层，同时形成混在区域。

在使用紫外线作为使上述光学层用组合物固化时的光的情况下，可以利用由超高压汞灯、高压汞灯、低压汞灯、碳弧灯、氙弧灯、金属卤化物灯等发出的紫外线等。另外，作为紫外线的波长，可以使用190～380nm的波段。作为电子射线源的具体例，可以举出考克罗夫特-瓦尔顿(Cockcroft-Walton)型、范德格拉夫型、共振变压器型、绝缘芯变压器型、或者直线型、地那米(Dynamitron)型、高频型等的各种电子射线加速器。

需要说明的是，也可以通过使用光聚合性化合物和溶剂干燥型树脂作为形成粘结剂树脂的材料来形成具有特异的凹凸面的光学层。

具体而言，例如，使用含有光聚合性化合物、溶剂干燥型树脂和微粒的光学层用组合物，通过与上述相同的方法在透光性基材上形成光学层用组合物的涂膜，与上述同样地使光学层用组合物固化。

在合用光聚合性化合物和溶剂干燥型树脂作为形成上述粘结剂树脂的材料的情况下，与仅使用光聚合性化合物的情况相比，能够提高粘度，另外，能够减小固化收缩(聚合收缩)，因此，在干燥时和固化时，光学层的凹凸面不会追随微粒的形状而形成，能够形成特异的凹凸面。其中，光学层的凹凸面的凹凸形状受到光学层的膜厚等的影响，因此，即使在利用这样的方法形成光学层的情况下，当然也需要对光学层的膜厚等进行适当调节。

另外，本发明中，上述光学层只要满足上述式(1)和式(2)，则既可以为1层结构，也可以为2层以上的多层结构，另外，本发明中，上述光学层只要满足上述的表面高度分布的半峰宽、表面凹凸的平均曲率，则既可以为1层结构，也可以为2层以上的多层结构。

具体而言，光学层可以为由表面为凹凸面的基底凹凸层和形成在基底凹凸层上的表面调节层构成的2层结构。

上述基底凹凸层可以为光学层。

上述表面调节层为用于填埋在上述基底凹凸层的表面存在的微细的凹凸而得到平滑的凹凸面、和/或、用于对在凹凸层的表面存在的凹凸的间隔、尺寸等进行调节的层。上述表面调节层的表面形成为凹凸面，该表面调节层的凹凸面形成特异的凹凸面。其中，在光学层为多层结构的情况下，制造工序变得复杂，另外，制造工序的管理与1层结构时相比可能更为困难，因此优选光学层为1层结构。

从调节凹凸的观点出发，上述表面调节层的膜厚优选为0.5μm以上且20μm以下。表面调节层的膜厚的上限更优选为12μm以下，进一步优选为8μm以下。表面调节层的膜厚的下限优选为3μm以上。

上述由基底凹凸层和表面调节层构成的光学层可以使用基底凹凸层用组合物和表面调节层用组合物作为光学层用组合物，通过以下的方法来形成。

作为上述基底凹凸层用组合物，可以使用与在上述光学层用组合物的部分中说明过的光学层用组合物同样的组合物。另外，作为表面调节层用组合物，可以使用至少含有与在上述粘结剂树脂的部分中说明过的光聚合性化合物同样的光聚合性化合物的组合物。表面调节层用组合物除了含有光聚合性化合物以外，可以含有与在上述光学层用组合物的部分中说明过的流平剂、溶剂同样的流平剂、溶剂等。

在形成上述包括基底凹凸层和表面调节层的光学层时，首先，在透光性基材上涂布基底凹凸层用组合物，在透光性基材上形成基底凹凸层用组合物的涂膜。

然后，将该涂膜干燥后，对涂膜照射紫外线等光，使光聚合性化合物聚合(交联)，由此使基底凹凸层用组合物固化，形成基底凹凸层。

然后，在基底凹凸层上涂布表面调节层用组合物，形成表面调节层用组合物的涂膜。然后，将该涂膜干燥后，对涂膜照射紫外线等光，使光聚合性化合物聚合(交联)，由此使表面调节层用组合物固化，形成表面调节层。由此，即使不使用形成疏松的凝聚体的微粒，也能够形成具有特异的凹凸面的光学层。其中，光学层的凹凸面的凹凸形状还受到涂膜的干燥条件以及基底凹凸层和表面调节层的膜厚等的影响，因此，即使在通过这样的方法形成光学层的情况下，当然也需要对涂膜的干燥条件以及基底凹凸层和表面调节层的膜厚等进行适当调节。

上述光学膜的全光线透射率优选为85％以上。全光线透射率为85％以上时，在将光学膜装配到图像显示装置的表面上的情况下，能够进一步提高色彩再现性和可视性。上述全光线透射率更优选为90％以上。全光线透射率可以使用雾度计(村上色彩技术研究所制造，产品编号：HM-150)通过基于JIS K7361的方法来测定。

上述光学膜的表面中，构成该表面的凹凸的三维平均倾斜角θa_3D优选为0.12°以上且0.5°以下，更优选为0.15°以上且0.4°以下。

上述光学膜的表面中，构成该表面的凹凸的平均峰间隔Smp优选为0.05mm以上且0.3mm以下，更优选为0.10mm以上且0.25mm以下。

上述光学膜的表面中，构成该表面的凹凸的算术平均粗糙度Ra优选为0.01μm以上且0.11μm以下，更优选为0.035μm以上且0.08μm以下。

上述光学膜的表面中，构成该表面的凹凸的10点平均粗糙度Rz优选为0.10μm以上且0.30μm以下，更优选为0.12μm以上且0.28μm以下。

上述“θa_3D”、“Smp”、“Ra”和“Rz”可以由通过接触式表面粗糙度计或非接触式表面粗糙度计(例如，干涉显微镜、共聚焦显微镜、原子显微镜等)的测定得到的三维粗糙度曲面进行计算。上述三维粗糙度曲面的数据通过基准面(使横向为x轴、纵向为y轴)中以间隔d配置为格子状的点和该点的位置的高度来表示。

即，将x轴方向上第i个、y轴方向上第j个点的位置(以下表示为(i,j))的高度设为Z_i,j时，在任意的位置(i,j)，x轴方向相对于x轴的斜率Sx、y轴方向相对于y轴的斜率Sy如下算出。

Sx＝(Z_i+1,j-Z_i-1,j)/2d

Sy＝(Z_i,j+1-Z_i,j-1)/2d

此外，(i,j)相对于基准面的斜率St通过下式算出。

[数3]

并且，(i,j)的倾斜角度通过tan^-1(St)算出。

从简便性出发，上述三维粗糙度曲面优选使用干涉显微镜来测定。作为这样的干涉显微镜，例如可以举出Zygo公司制造的“New View”系列等。

并且，上述三维平均倾斜角θa_3D通过各点的倾斜角度的平均值来算出。

另外，本发明中的上述凹凸的平均峰间隔Smp如下求出。

将以上述三维粗糙度曲面的高于基准面的部分中由一个区域包围的部分作为一个峰时的峰的个数设为Ps、将测定区域整体(基准面)的面积设为A时，Smp通过下式算出。

[数4]

另外，本发明中的上述凹凸的算术平均粗糙度Ra是将JIS B0601：1994中记载的作为二维粗糙度参数的Ra进行三维扩张而得到的，在基准面中设置正交坐标轴X、Y轴，将粗糙度曲面设为Z(x,y)、将基准面的尺寸设为Lx、Ly时，通过下式算出算术平均粗糙度Ra。

[数5]

A＝Lx×Ly

另外，使用上述的Z_i,j时，上述凹凸的算术平均粗糙度Ra通过下式算出。

[数6]

N：总点数

本发明中的上述10点平均粗糙度Rz是将JIS B0601：1994中记载的作为二维粗糙度参数的Rz进行三维扩张而得到的。

即，在基准面上以网罗全范围的方式呈360度放射状设置多条从该基准面的中心通过的直线，由三维粗糙度曲面得到基于各直线切割而成的截面曲线，求出该截面曲线上的10点平均粗糙度(从最高的峰顶起按照由高到低的顺序至第5位为止的峰高度的平均值与从最深的谷底起按照由深到浅的顺序至第5位为止的谷深度的平均值之和)。对如此得到的多个十点平均粗糙度中的上数50％进行平均，由此算出10点平均粗糙度Rz。

另外，从本发明的光学膜能够更适当地防止映照以及牛顿环的产生、水印的产生的观点出发，上述光学层优选为在表面具有凹凸形状的凹凸层上层叠有低折射率层的构成。

作为上述凹凸层，可以举出通过与含有上述的粘结剂树脂和微粒的光学层同样的组成和方法形成的凹凸层。

上述低折射率层为发挥如下作用的层：在来自外部的光(例如荧光灯、自然光等)在光学膜的表面发生反射时，降低该反射率。作为低折射率层，优选由1)含有二氧化硅、氟化镁等低折射率颗粒的树脂、2)作为低折射率树脂的氟类树脂、3)含有二氧化硅或氟化镁的氟类树脂、4)二氧化硅、氟化镁等低折射率物质的薄膜等中的任意一种构成。关于氟类树脂以外的树脂，可以使用与构成上述的光学层的粘结剂树脂同样的树脂。

另外，上述的二氧化硅优选为中空二氧化硅微粒，这样的中空二氧化硅微粒例如可以通过日本特开2005-099778号公报的实施例记载的制造方法来制作。

这些低折射率层的折射率优选为1.45以下，特别优选为1.42以下。

另外，低折射率层的厚度没有限定，通常从30nm～1μm左右的范围内适当设定即可。

另外，上述低折射率层为单层即可得到效果，但出于对更低的最低反射率或更高的最低反射率进行调节的目的，也可以设置2层以上的低折射率层。在上述设置2层以上的低折射率层的情况下，优选使各低折射率层的折射率和厚度具有差异。

作为上述氟类树脂，可以使用至少在分子中含有氟原子的聚合性化合物或其聚合物。作为聚合性化合物，没有特别限定，例如，优选具有利用电离射线进行固化的官能团、进行热固化的极性基团等固化反应性基团的化合物。另外，也可以为同时兼具这些反应性基团的化合物。相对于该聚合性化合物，聚合物为完全不具有上述反应性基团等的化合物。

作为上述具有利用电离射线进行固化的官能团的聚合性化合物，可以广泛使用具有烯键式不饱和键的含氟单体。更具体而言，可以例示氟代烯烃类(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-间二氧杂环戊烯等)。作为具有(甲基)丙烯酰氧基的含氟单体，还有(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟癸基)乙酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯等在分子中具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物；在分子中含有具有至少3个氟原子的碳原子数为1～14的氟代烷基、氟代环烷基或氟代亚烷基和至少2个(甲基)丙烯酰氧基的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。

作为上述进行热固化的极性基团，例如，优选为羟基、羧基、氨基、环氧基等氢键形成基团。这些基团不仅与涂膜的密合性优异，而且与二氧化硅等无机超微粒的亲和性也优异。作为具有热固化性极性基团的聚合性化合物，例如可以举出4-氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物；氟乙烯-烃类乙烯基醚共聚物；环氧、聚氨酯、纤维素、酚、聚酰亚胺等各树脂的氟改性物等。

作为上述兼具利用电离射线进行固化的官能团和进行热固化的极性基团的聚合性化合物，可以例示：丙烯酸或甲基丙烯酸的部分和完全氟代烷基酯、链烯基酯、芳基酯类、完全或部分氟化乙烯基醚类、完全或部分氟化乙烯基酯类、完全或部分氟化乙烯基酮类等。

另外，作为氟类树脂，例如可以举出如下树脂。

含有至少一种上述具有电离射线固化性基团的聚合性化合物的含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的单体或单体混合物的聚合物；上述含氟(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少一种与(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基已酯等分子中不含氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的共聚物；氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯等含氟单体的均聚物或共聚物等。也可以使用在这些共聚物中含有有机硅成分的含有机硅偏二氟乙烯共聚物。作为这种情况下的有机硅成分，可以例示：(聚)二甲基硅氧烷、(聚)二乙基硅氧烷、(聚)二苯基硅氧烷、(聚)甲基苯基硅氧烷、烷基改性(聚)二甲基硅氧烷、含偶氮基(聚)二甲基硅氧烷、二甲基有机硅、苯基甲基有机硅、烷基-芳烷基改性有机硅、氟有机硅、聚醚改性有机硅、脂肪酸酯改性有机硅、含氢聚甲基有机硅、含硅烷醇基有机硅、含烷氧基有机硅、含苯酚基有机硅、甲基丙烯酸改性有机硅、丙烯酸改性有机硅、氨基改性有机硅、羧酸改性有机硅、甲醇改性有机硅、环氧改性有机硅、巯基改性有机硅、氟改性有机硅、聚醚改性有机硅等。其中，优选具有二甲基硅氧烷结构的有机硅成分。

此外，也可以使用由下述化合物构成的非聚合物或聚合物作为氟类树脂。即，可以使用：使分子中具有至少1个异氰酸酯基的含氟化合物与分子中具有至少1个氨基、羟基、羧基等与异氰酸酯基反应的官能团的化合物反应而得到的化合物；使含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟ε-己内酯改性多元醇等含氟多元醇与具有异氰酸酯基的化合物反应而得到的化合物等。

另外，也可以将上述光学层中记载的各粘结剂树脂与上述的具有氟原子的聚合性化合物、聚合物一同混合使用。此外，可以适当使用用于使反应性基团等固化的固化剂、用于提高涂布性或者赋予防污性的各种添加剂、溶剂。

上述低折射率层的形成中，优选使添加低折射率剂和树脂等而形成的低折射率层用组合物的粘度在可得到优选涂布性的0.5～5mPa·s(25℃)、优选0.7～3mPa·s(25℃)的范围内。能够实现可见光线优异的光学层，并且，能够形成均匀且无涂布不均的薄膜，并且，能够形成密合性特别优异的低折射率层。

树脂的固化手段可以与在上述的光学层中说明过的固化手段相同。在为了进行固化处理而利用加热手段的情况下，优选在氟类树脂组合物中添加通过加热产生例如自由基从而引起聚合性化合物的聚合的热聚合引发剂。

低折射率层的层厚(nm)d_A优选满足下式(A)：

d_A＝mλ/(4n_A) (A)

(上述式中，

n_A表示低折射率层的折射率，

m表示正的奇数，优选表示1，

λ为波长，优选为480～580nm范围内的值)。

另外，本发明中，从低反射率化的观点出发，优选低折射率层满足下式(B)：

120<n_Ad_A<145 (B)。

根据本发明，在将使用0.125mm宽的光梳测定的光学膜的透射图像清晰度设为C(0.125)、将使用0.25mm宽的光梳测定的光学膜的透射图像清晰度设为C(0.25)时，光学膜满足上述式(1)和式(2)，因此，即使光学膜具有0％以上且5％以下的低总雾度、并且具有0％以上且5％以下的低内部雾度，基于上述的理由，也能够抑制眩光且抑制映照和水印。

另外，根据本发明，在光学膜的表面的表面高度分布的半峰宽的值、上述表面凹凸的平均曲率满足上述特定的数值范围时，光学膜的表面的凹凸形状成为特定的凹凸形状，因此，即使光学膜具有0％以上且5％以下的低总雾度、并且具有0％以上且5％以下的低内部雾度，基于上述的理由，也能够抑制眩光且控制水印。

在此，总雾度值和内部雾度值为作为光学膜整体进行测定时的值。

需要说明的是，上述总雾度值和内部雾度值可以使用雾度计(HM-150，村上色彩技术研究所制造)通过基于JIS K7136的方法来测定。

具体而言，使用雾度计依照JIS K7136测定光学膜的总雾度值。

然后，在光学膜的表面，借助透明光学粘合层粘贴三乙酰纤维素基材(富士胶片公司制造，TD60UL)。

由此，光学膜的表面的凹凸形状垮塌，光学膜的表面变得平坦。

然后，在该状态下，使用雾度计(HM-150，村上色彩技术研究所制造)依照JISK7136测定雾度值，由此求出内部雾度值。

该内部雾度为未附加光学膜的表面的凹凸形状时的内部雾度。

本发明的带触控面板的显示装置中，光学膜的总雾度值优选为1％以下，更优选为0.3％以上且0.5％以下。

内部雾度值优选实质上为0％。

在此，“内部雾度值实质上为0％”不限于内部雾度值完全为0％的情况，其含义包含即使内部雾度值大于0％但仍在测定误差的范围内、内部雾度值可以基本视为0％的范围(例如，0.3％以下的内部雾度值)。

在上述光学膜的总雾度值为0％以上且5％以下、内部雾度值为0％以上且5％以下的情况下，光学膜的表面雾度值为0％以上且5％以下。

光学膜的表面雾度值优选为0％以上且1％以下，更优选为0％以上且0.3％以下。

表面雾度值仅由光学膜的表面的凹凸形状引起，通过从总雾度值中减去内部雾度值，可求出仅由光学膜的表面的凹凸形状引起的表面雾度值。

在使用平均一次粒径为1nm以上且100nm以下的无机氧化物微粒(例如，气相法二氧化硅)作为上述微粒来形成光学层的情况下，能够得到具有更低的总雾度值(例如，1％以下的总雾度值)和更低的内部雾度值(例如，实质上为0％的内部雾度值)的光学膜。即，光学层叠膜的总雾度和内部雾度为透射过光学膜的透射光之中由于前方散射而自入射光偏离2.5°以上的透射光的比例，因此，若能够降低自入射光偏离2.5°以上的透射光的比例，则总雾度值和内部雾度降低。另一方面，平均一次粒径为100nm以下的无机氧化物微粒在光学层中不凝聚为块状而形成疏松的凝聚体，因此，透过光学层的光在光学层中不易漫射。因此，在使用平均一次粒径为1nm以上且100nm以下的无机氧化物微粒形成光学层的情况下，能够抑制自入射光偏离2.5°以上的透射光的产生，由此，能够得到总雾度值和内部雾度值更低的光学膜。

在上述光学层的凹凸面的凹凸仅由无机氧化物微粒引起、形成的情况下，容易形成能够得到防反射性和防水印性的具有平缓且均匀的凹凸的凹凸面、即具有曲率小的凹凸的凹凸面。因此，能够得到总雾度值和内部雾度值低、且能够进一步抑制眩光的光学膜。

根据本发明，光学膜的总雾度值为0％以上且5％以下，并且，内部雾度值为0％以上且5％以下，因此，能够抑制亮度或透光性的降低。另外，能够抑制光学膜的内部的影像光的漫射，因此，不会发生一部分影像光成为杂散光的情况，结果，不存在暗对比度降低的可能，另外，也不存在图像模糊的可能。由此，能够将上述光学膜组装到超高精细化的小型移动设备、4K2K(水平像素数3840×垂直像素数2160)等水平像素数为3000以上的超高精细的图像显示装置中来使用。

根据本发明，光学膜具备具有凹凸面的光学层，因此，能够抑制在透光性基材与光学层的界面发生反射的光与在光学层的凹凸面发生反射的光的干涉。由此，能够抑制干涉条纹的产生。另外，在形成了混在区域的情况下，能够抑制在透光性基材与光学层的界面的反射，因此能够进一步抑制干涉条纹的产生。

在上述光学层的凹凸面的凹凸仅由无机氧化物微粒引起、形成的情况下，也容易使构成凹凸面的凹凸的倾斜角度不会变大。由此，也不会发生外部光线的过度漫射，因此，能够抑制亮对比度的降低。另外，还能够防止影像光成为杂散光，因此，还能够得到良好的暗对比度。此外，由于具有适度的正反射成分，因此，在显示动图像时，图像的映照、亮度增强，能够得到跃动感。由此，能够得到兼具优异的对比度和跃动感的黑彩感。

需要说明的是，通过满足上述式(1)和(2)的光学膜，还能够提供改善眩光和水印的方法。

另外，通过满足上述光学膜的表面的表面高度分布的半峰宽为200nm以上且表面凹凸的平均曲率为0.30mm^-1以下的光学膜，还能够提供改善眩光和水印的方法。

上述光学膜例如可以组装到4K2K(水平像素数3840×垂直像素数2160)等水平像素数为3000以上的超高精细的图像显示装置中来使用。作为图像显示装置，例如可以举出液晶显示器(LCD)、阴极射线管显示装置(CRT)、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)、场发射显示器(FED)、触控面板、平板电脑、电子纸等。

上述图像显示装置优选为水平像素数为3000以上的液晶显示器。图像显示装置由背光单元和配置在比背光单元更靠近观察者侧的具备光学膜的液晶面板构成。作为背光单元，可以使用公知的背光单元。作为上述背光源，也可以使用量子点LED。

发明的效果

本发明的光学膜形成有特定的凹凸形状，因此，能够充分抑制眩光的产生，能够得到高品质的显示图像。

另外，本发明的带触控面板的显示装置在光学膜的与触控面板对向的表面上形成有特定的凹凸形状，因此，能够充分抑制水印和眩光的产生，能够得到高品质的显示图像。

因此，本发明的光学膜可以适合应用于阴极射线管显示装置(CRT)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)、场发射显示器(FED)、电子纸、平板电脑等。

附图说明

图1为示意性地示出本发明的光学膜的截面图。

图2为表示使用透射图像清晰度测定装置对光学膜的透射图像清晰度进行测定的状况的示意图。

图3为示意性地示出本发明的带触控面板的显示装置的截面图。

图4为表示入射到本发明的带触控面板的显示装置的第二方式中的光发生反射的状况的示意图。

图5为本发明的光学膜的表面分布曲线。

具体实施方式

本发明的内容通过下述实施例来说明，但本发明的内容不由这些实施方式进行限定性解释。只要没有特別声明，则“份”和“％”为质量基准。

(实施例1)

(光学膜的制作)

准备透光性基材(三乙酸纤维素膜，厚度40μm、柯尼卡美能达公司制造，KC4UAW)，在该透光性基材的单面涂布如下所示组成的光学层用组合物，形成涂膜。

接着，对于所形成的涂膜，以0.2m/s的流速使50℃的干燥空气流通30秒，然后，进一步以10m/s的流速使70℃的干燥空气流通流通30秒来使其干燥，由此使涂膜中的溶剂蒸发。

然后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems日本公司制造，光源H灯泡)，在氮气气氛(氧浓度200ppm以下)下以累积光量为100mJ/cm²的方式照射紫外线，使涂膜固化，由此形成厚度5.0μm(固化时)的光学层，制作成光学膜。

(光学层用组合物)

(实施例2)

除了使涂膜的固化条件为以使紫外线的累积光量为50mJ/cm²的方式进行照射来使涂膜固化以外，与实施例1的光学层同样地形成凹凸层。

在所形成的凹凸层的表面涂布如下所示的低折射率层用组合物，形成涂膜。

接着，对于所形成的涂膜，以0.2m/s的流速使40℃的干燥空气流通15秒，然后，进一步以10m/s的流速使40℃的干燥空气流通30秒来使其干燥，由此使涂膜中的溶剂蒸发。

然后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems日本公司制造，光源H灯泡)，在氮气气氛(氧浓度200ppm以下)下以累积光量为100mJ/cm²的方式照射紫外线，使涂膜固化，由此形成0.1μm厚度(固化时)的低折射率层，形成具有凹凸层和层叠在该凹凸层上的低折射率层的构成的光学层。由此，制作成实施例2的光学膜。

(低折射率层用组合物)

(实施例3)

除了使光学层用组合物中的二氧化硅微粒的混合量为0.8质量份、使涂膜的干燥条件为以1.0m/s的流速使70℃的干燥空气流通15秒后、进一步以10m/s的流速使70℃的干燥空气流通30秒以外，与实施例1同样地制作光学膜。

(实施例4)

除了使光学层的固化时的厚度为4.5μm以外，与实施例1同样地制作光学膜。

(实施例5)

除了使涂膜的干燥条件为以1.0m/s的流速使70℃的干燥空气流通15秒后、进一步以10m/s的流速使70℃的干燥空气流通30秒，并且使光学层的固化时的厚度为4.5μm以外，与实施例3同样地制作光学膜。

(实施例6)

除了在光学层用组合物中含有1.0质量份的有机颗粒(丙烯酸-苯乙烯共聚物颗粒，平均粒径：2.0μm，折射率：1.55，积水化成品工业公司制造)，并且使涂膜的干燥条件为以1.0m/s的流速使70℃的干燥空气流通15秒后、进一步以10m/s的流速使70℃的干燥空气流通30秒以外，与实施例1同样地制作光学膜。

(比较例1)

使光学层用组合物中的二氧化硅微粒的混合量为1.0质量份，同时使光学层用组合物中含有3.0质量份的有机颗粒(丙烯酸-苯乙烯共聚物颗粒，平均粒径：2.0μm，折射率：1.55，积水化成品工业公司制造)，使涂膜的干燥条件为以0.2m/s的流速使70℃的干燥空气流通15秒后、进一步以10m/s的流速使70℃的干燥空气流通30秒，使光学层的固化时的厚度为4.0μm，除此以外，与实施例1同样地制作光学膜。

(比较例2)

除了未在光学层用组合物中配合二氧化硅微粒以外，与实施例1同样地制作光学膜。

<防映照性的评价>

将各实施例和比较例中制作的光学膜借助透明粘合剂以使凹凸面为表面的方式粘贴到黑色丙烯酸树脂板上。在明亮环境下从距离约2m处通过目视观察该样品，按照下述的基准评价是否得到了观测者和观测者的背景的映照不引人注意的程度的防映照性。

○：映照不引人注意

×：清楚地观察到映照

<水印的有无>

将各实施例和比较例中制作的光学膜借助透明粘合剂以使凹凸面为表面的方式粘贴到黑色丙烯酸树脂板上。

另外，在厚度为0.7mm且尺寸为10cm×10cm的玻璃板的两端粘贴胶带。然后，以使光学膜与玻璃板分隔的方式，将玻璃板的粘贴有胶带的面与光学膜以彼此面对的方式配置。光学膜的表面与玻璃板之间的空隙的间隔为0.1mm。然后，在用手指按压玻璃板的状态下，从配置在玻璃上的钠灯照射光，考察是否确认到水印。评价基准如下。将结果示于表1中。

◎：未确认到水印。

○：稍稍观察到水印，但处于不成为问题的水平。

×：明确地确认到水印。

<透射图像清晰度的测定>

对于实施例和比较例中得到的各光学膜，如下测定透射图像清晰度。将结果示于表1中。

首先，准备图像清晰度测定器(型号：ICM-1T，SUGA TEST INSTRUMENTS公司制造)。

然后，将实施例和比较例的各光学膜以使三乙酰纤维素树脂膜侧位于图像清晰度测定器的光源侧的方式设置，依照基于JIS K7374的透射法的图像清晰度的测定法来测定透射图像清晰度。作为光梳，使用0.125mm宽、0.25mm宽的光梳。然后，求出使用0.25mm宽的光梳测定的透射图像清晰度(C(0.25))与使用0.125mm宽的光梳测定的透射图像清晰度(C(0.125))之差(C(0.25)-C(0.125))。另外，为供于参考，使用0.5mm宽、1.0mm宽、2.0mm宽的光梳与上述同样地测定了实施例和比较例的各光学膜的透射图像清晰度。

<眩光评价(1)>

对于实施例和比较例中得到的各光学膜，将光学膜的未形成有光学层的面与350ppi的黑色矩阵(玻璃厚度0.7mm)的未形成有矩阵的玻璃面用粘合剂贴合。对于这样得到的试样，在黑色矩阵侧设置白色面光源(HAKUBA制造的LIGHTBOX，平均亮度1000cd/m²)，由此使其模拟地产生眩光。使用CCD照相机(KP-M1，C接头，近摄接圈：PK-11A尼康，照相机镜头：50mm，F1.4s NIKKOR)从光学膜侧对其进行拍摄。CCD照相机与光学膜的距离设定为250mm，调节CCD照相机的对焦使其聚焦到光学膜上。将使用CCD照相机拍摄的图像导入个人计算机中，使用图像处理软件(ImagePro Plusver.6.2；Media Cybernetics公司制造)如下进行分析。首先，从导入的图像中选择200×160像素的评价位置，在该评价位置转换为16字节的灰阶。

接着，从滤光片命令的增强选项中选择低通滤光片，在3×3、次数3、强度10的条件下使用滤光片。由此，将来自于黑色矩阵图案的成分除去。

接着，选择平坦化，在背景：暗、对象宽度10的条件下进行阴影校正。

接着，使用对比度增强命令以对比度：96、亮度：48进行对比度增强。将所得到的图像转换为8字节灰阶，对其中的150×110像素，以标准偏差值计算出各像素的值的偏差，由此将眩光数值化。该数值化的眩光值越小，可以说眩光越少。将结果示于表1中。

<眩光评价(2)>

对于实施例和比较例中得到的各光学膜，如下评价眩光。在将亮度1500cd/m²的灯箱(白色面光源)、350ppi的黑色矩阵玻璃、光学膜按照该顺序自下方起依次重叠的状态，15位受试者在距离约30cm处从上下、左右各种角度进行目视评价。判断眩光是否引人注意，按照下述基准进行评价。将结果示于表1中。

◎：回答为良好的人为13人以上

○：回答为良好的人为10～12人

△：回答为良好的人为7～9人

×：回答为良好的人为6人以下

<总雾度、内部雾度、表面雾度测定>

对于上述实施例和比较例中得到的各光学膜，如下测定总雾度、内部雾度、表面雾度。将结果示于表2中。

首先，使用雾度计(HM-150，村上色彩技术研究所制造)依照JIS K7136测定光学膜的总雾度值。

然后，在光学层的表面借助透明光学粘合层粘贴三乙酰纤维素基材(柯尼卡美能达公司制造，KC4UAW)。由此，使光学层的凹凸面的凹凸形状垮塌，光学膜的表面变得平坦。在该状态下，使用雾度计(HM-150，村上色彩技术研究所制造)依照JIS K7136测定雾度值，求出内部雾度值。然后，从总雾度值中减去内部雾度值，由此求出表面雾度值。

<三维平均倾斜角θa_3D的测定>

在实施例和比较例中得到的各光学膜的表面，如下测定三维平均倾斜角θa_3D。将结果示于表2中。

将各光学膜的与形成有凹凸的表面相反的一侧的表面借助透明粘合剂粘贴到玻璃板上制成样品，使用白色干涉显微镜(New View7300，Zygo公司制造)在如下条件下进行光学膜的表面形状的测定、分析。需要说明的是，测定、分析软件使用MetroPro ver8.3.2的Microscope Application。

(测定条件)

物镜：50倍

放大：1倍

测定区域：545μm×545μm

分辨率(每1点的间隔)：0.44μm

(分析条件)

已去除：平坦

滤光片：高通

滤光片类型：高斯样条

低波长：250μm

高波长：3μm

去除尖峰：开启

尖峰高度(xRMS)：2.5

需要说明的是，低波长相当于粗糙度参数中的截止值λc。

接着，使用上述分析软件(MetroPro ver8.3.2-Microscope Application)在Slope Mag Map画面上显示出“Ra”，将其数值作为光学膜的θa_3D。

<Smp、Ra、Rz的测定>

利用算出上述三维平均倾斜角θa_3D时得到的表面形状数据和相同的分析条件在Surface Map画面上显示出“Ra”、“SRz”，将各自的数值作为光学膜的Ra、Rz。

接着，在上述Surface Map画面中显示出“Save Data”按钮，保存分析后的三维曲面粗糙度数据。然后，利用Advanced Texture Application读取上述保存数据并应用以下的分析条件。

(分析条件)

高FFT滤光片：关闭

低FFT滤光片：关闭

去除：平坦

接着，显示出Peak/Valleys画面，由“Peaks Stats”计数峰的个数。其中，为了除去不显著的峰，将面积为以低波长作为直径的圆的面积(125μm×125μm×π)的1/10000以上且高度为Rtm的1/10以上的峰作为计数对象。需要说明的是，Rtm可以从“Roughness/WavinessMap“画面中读取，表示将全部测定区域分割为3×3时的各区域的最大高度的平均值。然后，利用上述的方法，即基于下式计算出Smp。将结果示于表2中。

[数7]

[表1]

[表2]

	总雾度	内部雾度	表面雾度	θa3D[°]	Smp[mm]	Ra[μm]	Rz[μm]
								实施例1	0.3	0.2	0.1	0.26	0.182	0.059	0.19
实施例2	0.3	0.2	0.1	0.28	0.122	0.046	0.16
								实施例3	0.3	0.2	0.1	0.30	0.150	0.057	0.19
实施例4	0.3	0.2	0.1	0.18	0.122	0.039	0.12
								实施例5	0.3	0.2	0.1	0.28	0.128	0.052	0.18
实施例6	1.5	1.3	0.2	0.30	0.111	0.049	0.19
								比较例1	3.2	2.5	0.7	0.52	0.098	0.064	0.27
比较例2	0.2	0.2	0.0	0.10	0.032	0.001	0.02

如表1和表2所示，实施例的光学膜的防映照性、水印、眩光(1)、(2)的各评价优异，另外，总雾度、内部雾度、表面雾度的各值也足够低。

另一方面，比较例1的光学膜的C(0.25)的值与C(0.125)的值之差小，光学层表面的凹凸形状平缓，眩光的评价差。另外，比较例2的光学膜的C(0.125)的值大，并且，C(0.25)的值与C(0.125)的值之差小，防映照性和水印的评价差。

<表面高度分布的半峰宽>

将实施例和比较例中得到的各光学膜的与形成有光学层的表面相反的一侧的表面借助透明粘合剂粘贴到玻璃板上制成样品，使用白色干涉显微镜(New View7300，Zygo公司制造)在以下的条件下得到光学膜的表面分布曲线。

需要说明的是，测定、分析软件使用MetroPro ver8.3.2的MicroscopeApplication。

(测定条件)

物镜：10倍

放大：1倍

测定区域：2.71mm×2.71mm

分辨率(每1点的间隔)：2.18μm

(分析条件)

已去除：无

滤光片：带通

滤光片类型：高斯样条

低波长：800μm

高波长：25μm

去除尖峰：开启

尖峰高度(xRMS)：2.5

需要说明的是，低波长为长波长截止滤光片的波长，高波长相当于短波长截止滤光片的波长。

接着，使用上述分析软件(MetroPro ver8.3.2-Microscope Application)显示出Surface Map画面，在上述画面中以使区间宽度为约20nm的方式显示直方图，得到表面高度分布的直方图数据。

由所得到的直方图数据读取其峰位置的分布的高度的、一半高度的位置的分布的宽度，作为表面高度分布的半峰宽。

需要说明的是，在半峰宽的计算中，通过所得到的直方图数据的各组的值的直线内插制作近似曲线，由该曲线算出半峰宽。

<表面凹凸的平均曲率>

从与上述同样得到的表面分布曲线上，沿x方向对于各点和其前后的点这3个点，按照上式计算出曲率，并计算出所有点的曲率的平均值，由此计算出表面凹凸的平均曲率。

关于各实施例和比较例中制成的光学膜，将表面高度分布的半峰宽、表面凹凸的平均曲率、水印的有无、眩光评价(1)、(2)、总雾度、内部雾度、表面雾度、三维平均倾斜角θa3D、“Smp”、“Ra”和“Rz”的结果示于表3中。

[表3]

如表3所示，实施例1～6的光学膜的水印、眩光(1)、(2)的各评价优异，另外，总雾度、内部雾度、表面雾度的各值也足够低。

另一方面，比较例1的光学膜的表面凹凸形状的平均曲率大，由表面凹凸形状引起的透镜效应增大，眩光的评价差。

另外，比较例2的光学膜的表面高度分布的半峰宽小，水印的评价差。

[工业实用性]

由于本发明的光学膜具有上述构成，因此能够在抑制映照、牛顿环的同时充分抑制眩光的产生，能够得到高品质的显示图像。另外，由于本发明的带触控面板的显示装置具有上述构成，因此能够充分抑制水印和眩光的产生，能够得到高品质的显示图像。

因此，本发明的带触控面板的显示装置可以适合应用于阴极射线管显示装置(CRT)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)、场发射显示器(FED)、电子纸、平板电脑等。

[符号的说明]

11 光学膜

12 透光性基材

13 光学层

14 凹凸形状

100 透射图像清晰度测定装置

101 光源

102 狭缝

103、104 透镜

105 光梳

106 光接收器

30 带触控面板的显示装置

31 光学膜

32 透光性基材

33 光学层

34 凹凸形状

35 触控面板

43 光学层

44 凹凸形状

45 触控面板

46 间隙

Claims (7)

1.一种光学膜，其具有在透光性基材上层叠有表面具有凹凸形状的光学层的构成，其特征在于，

所述光学膜的表面的表面高度分布的半峰宽为200nm以上，

表面凹凸的平均曲率为0.30mm^-1以下。

2.如权利要求1所述的光学膜，其中，光学膜的总雾度值为0％以上且5％以下，所述光学膜的内部雾度值为0％以上且5％以下。

3.如权利要求1或2所述的光学膜，其中，光学层含有粘结剂树脂和微粒。

4.如权利要求3所述的光学膜，其中，微粒为无机氧化物微粒。

5.如权利要求4所述的光学膜，其中，无机氧化物微粒的平均一次粒径为1nm以上且100nm以下。

6.如权利要求4或5所述的光学膜，其中，无机氧化物微粒为表面被进行了疏水化处理的无机氧化物微粒。

7.一种带触控面板的显示装置，其具有将权利要求1、2、3、4、5或6所述的光学膜与触控面板对向配置的构成，其特征在于，

所述光学膜与所述触控面板在相互之间具有间隙的状态下以所述光学膜中的光学层与所述触控面板彼此面对的方式对向配置。