CN104576656A - 一种显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够简化栅极驱动电路的制作工艺，降低栅极驱动电路的制作成本。该显示基板包括显示区域和周边区域，包括该显示基板的显示装置还包括栅极驱动电路，栅极驱动电路为显示区域的栅驱动线提供驱动信号，栅极驱动电路包括电容，电容包括第一电极和第二电极，第一电极和第二电极之间设置有电绝缘层，第一电极和第二电极为制作导电层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分，电绝缘层为制作绝缘层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分。

Description

一种显示基板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

显示装置包括阵列基板和彩膜基板，阵列基板上设置有纵横交错的栅线和数据线，栅线和数据线围成像素单元，像素单元内设置有薄膜晶体管和像素电极，其中，薄膜晶体管的栅极电连接栅线，源极电连接数据线，漏极电连接像素电极。

进一步地，为了实现显示装置的正常显示，显示装置需要包括栅极驱动电路和源极驱动电路，其中，栅极驱动电路的输出端子电连接栅线，用于向栅线输出栅极驱动信号，从而使得栅线控制的薄膜晶体管开启，以将源极驱动电路输出的数据信号传输至像素电极。

发明人发现，现有技术中，栅极驱动电路包括的电学元件(例如电容)位于一个电路板上，通过绑定线实现输出端子与栅线的电连接，从而导致栅极驱动电路的制作工艺复杂，制作成本较高，导致显示装置的成本较高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够简化栅极驱动电路的制作工艺，降低栅极驱动电路的制作成本。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示基板，采用如下技术方案：

一种显示基板，所述显示基板包括显示区域和周边区域，包括所述显示基板的显示装置还包括栅极驱动电路，所述栅极驱动电路为所述显示区域内的栅驱动线提供驱动信号，所述栅极驱动电路包括电容，所述电容包括第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极之间设置有电绝缘层，所述第一电极和所述第二电极为制作所述导电层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分，所述电绝缘层为制作所述绝缘层保留部分时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分。

所述显示基板为阵列基板。

所述显示区域内依次设置有栅极金属层、栅极绝缘层、源漏极金属层、缓冲层、树脂层、公共电极层、钝化层和像素电极层；

制作所述栅极金属层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为栅极金属层保留部分；

制作所述栅极绝缘层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为栅极绝缘层保留部分；

制作所述源漏极金属层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为源漏极金属层保留部分；

制作所述缓冲层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为缓冲层保留部分；

制作所述树脂层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为树脂层保留部分；

制作所述公共电极层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为公共电极层保留部分；

制作所述钝化层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为钝化层保留部分；

制作所述像素电极层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为像素电极层保留部分。

所述第一电极和/或所述第二电极包括透明导电层和遮光导电层；

所述透明导电层为所述公共电极层保留部分或者所述像素电极层保留部分；

所述遮光导电层为所述栅极金属层保留部分或者所述源漏极金属层保留部分。

所述透明导电层和所述遮光导电层通过过孔电连接。

所述第一电极或者所述第二电极包括所述透明导电层和所述遮光导电层。

所述电容所在区域包括依次设置的所述栅极金属层保留部分、所述栅极绝缘层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述缓冲层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述电容所在区域还包括贯穿所述缓冲层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第一过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第一过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

所述源漏极金属层保留部分与所述栅极金属层保留部分存在重叠区域，所述源漏极金属层保留部分与所述公共电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极为所述源漏极金属层保留部分。

所述电容所在区域包括依次设置的所述栅极金属层保留部分、所述栅极绝缘层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述钝化层保留部分和所述像素电极层保留部分，所述电容所在区域还包括贯穿所述钝化层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第二过孔，所述像素电极层保留部分通过所述第二过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

所述源漏极金属层保留部分与所述栅极金属层保留部分存在重叠区域，所述源漏极金属层保留部分与所述像素电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极为所述源漏极金属层保留部分，所述第二电极包括所述栅极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。

所述第一电极和所述第二电极均包括所述透明导电层和所述遮光导电层。

所述电容所在区域包括依次设置的所述栅极金属层保留部分、所述栅极绝缘层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述树脂层保留部分、所述公共电极层保留部分、所述钝化层保留部分和所述像素电极层保留部分，所述电容所在区域还包括贯穿所述树脂层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第三过孔以及贯穿所述钝化层保留部分和所述树脂层保留部分的第四过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第三过孔与所述栅极金属层保留部分电连接，所述像素电极层保留部分通过所述第四过孔与所述源漏极金属层保留部分电连接；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极包括所述源漏极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。

所述栅极金属层保留部分和所述源漏极金属层保留部分之间无重叠区域。

所述钝化层保留部分的厚度为

所述钝化层保留部分的厚度为

所述栅极金属层保留部分和所述源漏极金属层保留部分之间存在重叠区域。

所述源漏极金属层保留部分和所述树脂层保留部分之间设置有缓冲层保留部分。

所述电容所在区域包括依次设置的所述栅极金属层保留部分、所述栅极绝缘层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述缓冲层保留部分、所述公共电极层保留部分、所述钝化层保留部分和所述像素电极层保留部分，所述电容所在区域还包括贯穿所述缓冲层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第五过孔以及贯穿所述钝化层保留部分和所述缓冲层保留部分的第六过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第五过孔与所述栅极金属层保留部分电连接，所述像素电极层保留部分通过所述第六过孔与所述源漏极金属层保留部分电连接；

所述栅极金属层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述公共电极层保留部分和所述像素电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极包括所述源漏极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。

所述栅极金属层保留部分的厚度为所述栅极绝缘层保留部分的厚度为所述源漏极金属层保留部分的厚度为所述缓冲层保留部分的厚度为所述树脂层保留部分的厚度为所述公共电极层保留部分的厚度为所述钝化层保留部分的厚度为所述像素电极层保留部分的厚度为

本发明实施例提供了一种显示基板，该显示基板包括显示区域和周边区域，包括显示基板的显示装置还包括栅极驱动电路，栅极驱动电路为显示区域的栅驱动线提供驱动信号，栅极驱动电路包括电容，电容包括第一电极和第二电极，第一电极和第二电极之间设置有电绝缘层，第一电极和第二电极为制作导电层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分，电绝缘层为制作绝缘层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分，从而能够简化栅极驱动电路的制作工艺，降低栅极驱动电路的制作成本，从而简化显示装置的制作工艺，并降低显示装置的制作成本。

此外，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括以上任一项所述的显示基板。

为了进一步解决上述技术问题，本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，采用如下技术方案：

一种显示基板的制作方法包括：

在衬底基板上同时形成栅极金属层和栅极金属层保留部分；

在形成了所述栅极金属层和所述栅极金属层保留部分的所述衬底基板上，同时形成栅极绝缘层和栅极绝缘层保留部分；

在形成了所述栅极绝缘层和所述栅极绝缘层保留部分的所述衬底基板上，同时形成源漏极金属层和源漏极金属层保留部分；

在形成了所述源漏极金属层和所述源漏极金属层保留部分的所述衬底基板上，同时形成缓冲层和缓冲层保留部分；

在形成了所述缓冲层和所述缓冲层保留部分的所述衬底基板上，同时形成树脂层和树脂层保留部分；

在形成了所述树脂层和所述树脂层保留部分的所述衬底基板上，同时形成公共电极层和公共电极层保留部分；

在形成了所述公共电极层和所述公共电极层保留部分的所述衬底基板上，同时形成钝化层和钝化层保留部分；

在形成了所述钝化层和所述钝化层保留部分的所述衬底基板上，同时形成像素电极层和像素电极层保留部分；

其中，所述栅极金属层、所述栅极绝缘层、所述源漏极金属层、所述缓冲层、所述树脂层、所述公共电极层、所述钝化层和所述像素电极层位于所述显示基板的显示区域内；所述栅极金属层保留部分、所述栅极绝缘层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述缓冲层保留部分、所述树脂层保留部分、所述公共电极层保留部分、所述钝化层保留部分和所述像素电极层保留部分位于所述显示基板的周边区域内；

包括所述显示基板的显示装置还包括栅极驱动电路，所述栅极驱动电路中的电容的第一电极和第二电极分别包括所述栅极金属层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述公共电极层保留部分和所述像素电极层保留部分中的至少一种；位于所述第一电极和所述第二电极之间的电绝缘层包括所述栅极绝缘层保留部分、所述缓冲层保留部分、所述树脂层保留部分和所述钝化层保留部分中的至少一种。

所述形成树脂层保留部分包括：在形成了所述缓冲层和所述缓冲层保留部分的所述衬底基板上，涂布一层树脂材料，经过构图工艺，在除所述电容所在区域之外的周边区域形成所述树脂层保留部分；

所述显示基板的制作方法还包括：

形成贯穿所述缓冲层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第一过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第一过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

所述源漏极金属层保留部分与所述栅极金属层保留部分存在重叠区域，所述源漏极金属层保留部分与所述公共电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极为所述源漏极金属层保留部分。

在形成所述钝化层保留部分之前，去除所述电容所在区域的所述公共电极层保留部分、所述树脂层保留部分和所述缓冲层保留部分；

所述显示基板的制作方法还包括：

形成贯穿所述钝化层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第二过孔，所述像素电极层保留部分通过所述第二过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

所述源漏极金属层保留部分与所述栅极金属层保留部分存在重叠区域，所述源漏极金属层保留部分与所述像素电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极为所述源漏极金属层保留部分，所述第二电极包括所述栅极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。

形成贯穿所述树脂层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第三过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第三过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

形成贯穿所述钝化层保留部分和所述树脂层保留部分的第四过孔，所述像素电极层保留部分通过所述第四过孔与所述源漏极金属层保留部分电连接；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极包括所述源漏极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。

所述形成树脂层保留部分包括：在形成了所述缓冲层和所述缓冲层保留部分的所述衬底基板上，涂布一层树脂材料，经过构图工艺，在除所述电容所在区域之外的周边区域形成所述树脂层保留部分；

所述显示基板的制作方法还包括：

形成贯穿所述缓冲层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第五过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第五过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

形成贯穿所述钝化层保留部分和所述缓冲层保留部分的第六过孔，所述像素电极层保留部分通过所述第六过孔与所述源漏极金属层保留部分电连接；

所述栅极金属层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述公共电极层保留部分和所述像素电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极包括所述源漏极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。

本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，该显示基板的制作方法如上所述，从而使得无需单独制作栅极驱动电路中的电容，从而能够简化栅极驱动电路的制作工艺，降低栅极驱动电路的制作成本，从而简化显示装置的制作工艺，并降低显示装置的制作成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中电容所在区域的截面示意图一；

图2为本发明实施例中电容所在区域的截面示意图二；

图3为本发明实施例中电容所在区域的截面示意图三；

图4为本发明实施例中电容所在区域的截面示意图四；

图5为本发明实施例中电容所在区域的截面示意图五；

图6为本发明实施例中显示基板的制作流程图。

附图标记说明：

1—栅极金属层保留部  2—栅极绝缘层保留部  3—源漏极金属层保留部分；                 分；                 分；

4—缓冲层保留部分；  5—树脂层保留部分；     6—公共电极层保留部

                                             分；

7—钝化层保留部分；    8—像素电极层保留部  9—第一过孔；

                       分；

10—第二过孔；          11—第三过孔；          12—第四过孔；

13—第五过孔；          14—第六过孔。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一

本发明实施例提供了一种显示基板，能够简化栅极驱动电路的制作工艺，降低栅极驱动电路的制作成本。

具体地，显示基板包括显示区域和周边区域，包括该显示基板的显示装置还包括栅极驱动电路，该栅极驱动电路为显示区域的栅驱动线提供驱动信号，栅极驱动电路包括电容C，电容C包括第一电极和第二电极，第一电极和第二电极之间设置有电绝缘层，第一电极和第二电极为制作导电层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分，电绝缘层为制作绝缘层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分，从而能够简化栅极驱动电路的制作工艺，降低栅极驱动电路的制作成本，从而简化显示装置的制作工艺，并降低显示装置的制作成本。

以上所述的显示基板可以为阵列基板或者彩膜基板，当在该彩膜基板上形成电容C时，该电容C可以通过导电隔垫物或者导电线与设置在阵列基板上的栅极驱动电路电连通；由于阵列基板上的导电层和绝缘层较多，有利于形成电容C，因此，本发明实施例中优选显示基板为阵列基板。

当显示基板为阵列基板时，显示区域内依次设置有栅极金属层、栅极绝缘层、源漏极金属层、缓冲层、树脂层、公共电极层、钝化层和像素电极层。此时，制作栅极金属层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分为栅极金属层保留部分；制作栅极绝缘层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分为栅极绝缘层保留部分；制作源漏极金属层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分为源漏极金属层保留部分；制作缓冲层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分为缓冲层保留部分；制作树脂层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分为树脂层保留部分；制作公共电极层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分为公共电极层保留部分；制作钝化层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分为钝化层保留部分；制作像素电极层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分为像素电极层保留部分。

进一步地，栅极金属层保留部分和源漏极金属层保留部分为遮光导电层，公共电极层保留部分和像素电极层保留部分为透明导电层，因此，本发明实施例中的第一电极和/或第二电极可以包括透明导电层和遮光导电层，也可以仅包括遮光导电层。

当第一电极和/或第二电极仅包括遮光导电层时，例如，电容C1的两个电极分别为栅极金属层保留部分和源漏极金属层保留部分，容易导致覆盖在栅极驱动电路所在区域上的紫外光固化胶固化不完全，导致出现液晶污染等不良。因此，为了保证栅极驱动电路所在区域具有一定的紫外光透过率，需要对栅极金属层保留部分和源漏极金属层保留部分进行打孔处理，导致电容C所占面积较大，栅极驱动电路所在区域的面积较大，不利于减小周边区域的面积，实现窄边框。

因此，本发明实施例中优选，第一电极和/或第二电极包括透明导电层和遮光导电层，且透明导电层和遮光导电层通过过孔电连接，从而能够减小电容中电极中遮光导电层的面积，从而无需对电极进行打孔处理，和现有技术相比，减小了电容所占面积，减小了栅极驱动电路所在区域的面积，有利于减小周边区域的面积和窄边框设计，进而有利于实现高分辨率。

需要说明的是，上述“第一电极和/或第二电极包括透明导电层和遮光导电层”包括两种情形：第一种情形，第一电极包括透明导电层和遮光导电层，或者，第二电极包括透明导电层和遮光导电层；第二种情形，第一电极和第二电极均包括透明导电层和遮光导电层。

示例性地，当第一电极包括透明导电层和遮光导电层时，如图1所示，电容所在区域包括依次设置的栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2、源漏极金属层保留部分3、缓冲层保留部分4和公共电极层保留部分6，电容所在区域还包括贯穿缓冲层保留部分4和栅极绝缘层保留部分2的第一过孔9，公共电极层保留部分6通过第一过孔9与栅极金属层保留部分3电连接。其中，源漏极金属层保留部分3与栅极金属层保留部分1存在重叠区域，源漏极金属层保留部分3与公共电极层保留部分6存在重叠区域。第一电极包括栅极金属层保留部分1和公共电极层保留部分6，第二电极为源漏极金属层保留部分3。此时，电容C等同于栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2和源漏极金属层保留部分3形成的电容C1与源漏极金属层保留部分3、缓冲层保留部分4和公共电极层保留部分6形成的电容C2组成的并联电容，则根据并联电容的计算公式可知，C＝C1+C2，从而在减小了电容C所占面积的同时，保证了电容C的大小，不会影响栅极驱动电路的驱动能力。

示例性地，当第二电极包括透明导电层和遮光导电层时，如图2所示，电容C所在区域包括依次设置的栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2、源漏极金属层保留部分3、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8，电容C所在区域还包括贯穿钝化层保留部分7和栅极绝缘层保留部分2的第二过孔10，像素电极层保留部分8通过第二过孔10与栅极金属层保留部分1电连接。其中，源漏极金属层保留部分3与栅极金属层保留部分1存在重叠区域，源漏极金属层保留部分3与像素电极层保留部分8存在重叠区域。第一电极为源漏极金属层保留部分3，第二电极包括栅极金属层保留部分1和像素电极层保留部分8。此时，电容C等同于栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2和源漏极金属层保留部分3形成的电容C3与源漏极金属层保留部分3、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8形成的电容C4组成的并联电容，则根据并联电容的计算公式可知，C＝C3+C4，从而在减小了电容C所占面积的同时，保证了电容C的大小，不会影响栅极驱动电路的驱动能力。

当第一电极和第二电极均包括透明导电层和遮光导电层时，本发明实施例提供了以下两种显示基板的具体结构。

第一种结构，如图3和图4所示，电容C所在区域包括依次设置的栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2、源漏极金属层保留部分3、树脂层保留部分5、公共电极层保留部分6、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8，电容C所在区域还包括贯穿树脂层保留部分5和栅极绝缘层保留部分2的第三过孔11以及贯穿钝化层保留部分7和树脂层保留部分5的第四过孔12，公共电极层保留部分6通过第三过孔11与栅极金属层保留部分1电连接，像素电极层保留部分8通过第四过孔12与源漏极金属层保留部分3电连接。第一电极包括栅极金属层保留部分1和公共电极层保留部分6，第二电极包括源漏极金属层保留部分3和像素电极层保留部分8。栅极金属层保留部分1和源漏极金属层保留部分3之间无重叠区域或者存在重叠区域。

进一步地，如图3所示，当栅极金属层保留部分1和源漏极金属层保留部分3之间无重叠区域时，电容C为公共电极层保留部分6、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8形成的电容。

本发明实施例中，钝化层保留部分5的厚度为而现有技术中，GOA电路中的电容C1的电介质为栅极绝缘层保留部分，栅极绝缘层保留部分的厚度通常为由电容计算公式C＝ε*S/d(其中，ε为电介质的介电常数；S为两个电极的正对面积；d为两个电极之间的垂直距离)可知，d减小时，S也可以减小，而仍能维持电容C大小不变，因此，可以进一步减小公共电极层保留部分6和像素电极层保留部分8的面积，从而可以进一步减小电容C所占面积，减小栅极驱动电路所在区域的面积，减小显示基板的周边区域的面积，有利于显示装置的窄边框设计，因此，本发明实施例中优选如图3所示的显示基板。示例性地，钝化层保留部分7的厚度为

如图4所示，当栅极金属层保留部分1和源漏极金属层保留部分3之间存在重叠区域时，电容C等同于栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2和源漏极金属层保留部分3形成的电容C5与公共电极层保留部分6、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8形成的电容C6组成的并联电容，则根据并联电容的计算公式可知，C＝C5+C6，从而在减小了电容C所占面积的同时，保证了电容C的大小，不会影响栅极驱动电路的驱动能力。

需要说明的是，图3和图4所示的显示基板还可以包括位于源漏极金属层保留部分3和树脂层保留部分5之间的缓冲层保留部分4，以提高树脂层保留部分5在显示基板上的附着力。

第二种结构，如图5所示，电容C所在区域包括依次设置的栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2、源漏极金属层保留部分3、缓冲层保留部分4、公共电极层保留部分6、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8，电容C所在区域还包括贯穿缓冲层保留部分4和栅极绝缘层保留部分2的第五过孔13以及贯穿钝化层保留部分7和缓冲层保留部分4的第六过孔14，公共电极层保留部分6通过第五过孔13与栅极金属层保留部分1电连接，像素电极层保留部分8通过第六过孔14与源漏极金属层保留部分3电连接。其中，栅极金属层保留部分、源漏极金属层保留部分、公共电极层保留部分和像素电极层保留部分存在重叠区域。第一电极包括栅极金属层保留部分1和公共电极层保留部分6，第二电极包括源漏极金属层保留部分3和像素电极层保留部分8。此时，电容C等同于栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2和源漏极金属层保留部分3形成的电容C7、源漏极金属层保留部分3、缓冲层保留部分4和公共电极层保留部分6形成的电容C8以及公共电极层保留部分6、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8形成的电容C9组成的并联电容，则根据并联电容的计算公式可知，C＝C7+C8+C9，从而在减小了电容C所占面积的同时，保证了电容C的大小，不会影响栅极驱动电路的驱动能力。

需要说明的是，上述公共电极层保留部分6和像素电极层保留部分8的材质优选为氧化铟锡。

该栅极驱动电路的电容C，在其上方设置有封框胶，且该封框胶需要经过紫外或者红外光照射方式凝固封框时，构成该电容C的各层采用透明材质可以利于光线透过，实现很好的封框固化。

以上电容C所在区域的各种具体结构包括的栅极金属层保留部分1的厚度可以为栅极绝缘层保留部分2的厚度可以为源漏极金属层保留部分3的厚度可以为缓冲层保留部分4的厚度可以为树脂层保留部分5的厚度可以为公共电极层保留部分6的厚度可以为 钝化层保留部分7的厚度可以为像素电极层保留部分8的厚度可以为需要说明的是，本领域技术人员可以根据实际情况对以上各层保留部分的厚度进行设定。

需要说明的是，显示基板上的栅极驱动电路包括多个电容时，所有电容均可以具有以上所述的结构，也可以仅一部分电容具有以上所述的结构，例如仅所占面积最大的电容具有以上所述的结构，本领域技术人员可以根据实际需要进行选择，本发明实施例对此不进行限定。

另外，还需要补充的是，本发明实施例中的电容的结构并不局限于以上几种，凡是第一电极和第二电极为制作导电层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分，电绝缘层为制作绝缘层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分的结构均可，本发明实施例不再一一赘述。

此外，显示基板还可以包括有源层等结构，本发明实施例不再一一赘述。

本发明实施例提供了一种显示基板，该显示基板包括显示区域和周边区域，包括该显示基板的显示装置还包括栅极驱动电路，栅极驱动电路为显示区域的栅极驱动线提供驱动信号，栅极驱动电路包括电容，电容包括第一电极和第二电极，第一电极和第二电极之间设置有电绝缘层，第一电极和第二电极为制作导电层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分，电绝缘层为制作绝缘层时形成的薄膜在周边区域内的保留部分，从而能够简化栅极驱动电路的制作工艺，降低栅极驱动电路的制作成本，从而简化显示装置的制作工艺，并降低显示装置的制作成本。

此外，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括以上任一项所述的显示基板。该显示装置可以为：液晶面板、电子纸、有机发光显示面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

实施例二

本发明实施例提供了一种实施例一中所述的显示基板的制作方法，如图6所示，该显示基板的制作方法包括：

步骤S601、在衬底基板上同时形成栅极金属层和栅极金属层保留部分。

步骤S602、在形成了栅极金属层和栅极金属层保留部分的衬底基板上，形成栅极绝缘层和栅极绝缘层保留部分。

步骤S603、在形成了栅极绝缘层和栅极绝缘层保留部分的衬底基板上，形成源漏极金属层和源漏极金属层保留部分。

步骤S604、在形成了源漏极金属层和源漏极金属层保留部分的衬底基板上，形成缓冲层和缓冲层保留部分。

步骤S605、在形成了缓冲层和缓冲层保留部分的衬底基板上，形成树脂层和树脂层保留部分。

步骤S606、在形成了树脂层和树脂层保留部分的衬底基板上，形成公共电极层和公共电极层保留部分。

步骤S607、在形成了公共电极层和公共电极层保留部分的衬底基板上，形成钝化层和钝化层保留部分。

步骤S608、在形成了钝化层和钝化层保留部分的衬底基板上，形成像素电极层和像素电极层保留部分。

其中，栅极金属层、栅极绝缘层、源漏极金属层、缓冲层、树脂层、公共电极层、钝化层和像素电极层位于显示基板的显示区域内；栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2、源漏极金属层保留部分3、缓冲层保留部分4、树脂层保留部分5、公共电极层保留部分6、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8位于显示基板的周边区域内。

此时，包括该显示基板的显示装置还包括栅极驱动电路，栅极驱动电路中的电容C的第一电极和第二电极分别包括栅极金属层保留部分1、所述源漏极金属层保留部分3、公共电极层保留部分6和像素电极层保留部分8中的至少一种；位于第一电极和第二电极之间的电绝缘层包括栅极绝缘层保留部分2、缓冲层保留部分4、树脂层保留部分5和钝化层保留部分7中的至少一种。

本领域技术人员基于本发明实施例的基础上，在不付出创造性劳动下即可获得以上各个步骤的具体实现方式，此外，显示基板的制作方法还可以包括形成有源层等结构的步骤，本发明实施例在此不再一一赘述。

具体地，制作如图1所示的显示基板时，步骤S605中形成树脂层保留部分5具体包括：在形成了缓冲层和缓冲层保留部分4的衬底基板上涂布一层树脂材料，经过构图工艺，在除电容C所在区域之外的周边区域形成树脂层保留部分5。显示基板的制作方法还包括：形成贯穿缓冲层保留部分4和栅极绝缘层保留部分2的第一过孔9，公共电极层保留部分6通过第一过孔9与栅极金属层保留部分1电连接。其中，形成的源漏极金属层保留部分3与栅极金属层保留部分1存在重叠区域，源漏极金属层保留部分3与公共电极层保留部分6存在重叠区域。第一电极包括栅极金属层保留部分和公共电极层保留部分，第二电极为源漏极金属层保留部分。此时，电容C等同于栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2和源漏极金属层保留部分3形成的电容C1与源漏极金属层保留部分3、缓冲层保留部分4和公共电极层保留部分6形成的电容C2组成的并联电容。

制作如图2所示的显示基板时，在形成钝化层保留部分7之前，需要去除电容C所在区域的公共电极层保留部分6、树脂层保留部分5和缓冲层保留部分4。示例性地，可以在形成公共电极层保留部分6之后，在公共电极层保留部分6上涂布一层保留部分光刻胶，然后使用具有图案的掩膜板遮盖，经过曝光、显影、刻蚀和剥离光刻胶等工艺后，将电容C所在区域的公共电极层保留部分6、树脂层保留部分5和缓冲层保留部分4去除。显示基板的制作方法还包括：形成贯穿钝化层保留部分7和栅极绝缘层保留部分2的第二过孔10，像素电极层保留部分8通过第二过孔10与栅极金属层保留部分1电连接。其中，形成的源漏极金属层保留部分3与栅极金属层保留部分1存在重叠区域，源漏极金属层保留部分3与像素电极层保留部分8存在重叠区域。第一电极为源漏极金属层保留部分3，第二电极包括栅极金属层保留部分1和像素电极层保留部分8。此时，电容C等同于栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2和源漏极金属层保留部分3形成的电容C3与源漏极金属层保留部分3、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8形成的电容C4组成的并联电容。

制作如图3和图4所示的显示基板时，显示基板的制作方法还包括：形成贯穿树脂层保留部分5和栅极绝缘层保留部分2的第三过孔11，公共电极层保留部分6通过第三过孔11与栅极金属层保留部分1电连接；形成贯穿钝化层保留部分7和树脂层保留部分5的第四过孔12，像素电极层保留部分8通过第四过孔12与源漏极金属层保留部分3电连接。第一电极包括栅极金属层保留部分和公共电极层保留部分，第二电极包括源漏极金属层保留部分和像素电极层保留部分。当形成的栅极金属层保留部分1和源漏极金属层保留部分3之间无重叠区域时，制作的显示基板如图3所示，电容C为公共电极层保留部分6、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8形成的电容。当形成的栅极金属层保留部分1和源漏极金属层保留部分3之间有重叠区域时，制作的显示基板如图4所示，电容C等同于栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2和源漏极金属层保留部分3形成的电容C5与公共电极层保留部分6、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8形成的电容C6组成的并联电容。

制作如图5所示的显示基板时，步骤S605中形成树脂层保留部分5具体包括：在形成了缓冲层和缓冲层保留部分4的衬底基板上涂布一层树脂材料，经过构图工艺，在除电容C所在区域之外的周边区域形成树脂层保留部分5。显示基板的制作方法还包括：形成贯穿缓冲层保留部分4和栅极绝缘层保留部分2的第五过孔13，公共电极层保留部分6通过第五过孔13与栅极金属层保留部分1电连接；形成贯穿钝化层保留部分7和缓冲层保留部分4的第六过孔14，像素电极层保留部分8通过第六过孔14与源漏极金属层保留部分3电连接。其中，形成的栅极金属层保留部分、源漏极金属层保留部分、公共电极层保留部分和像素电极层保留部分存在重叠区域。第一电极包括栅极金属层保留部分1和公共电极层保留部分6，第二电极包括源漏极金属层保留部分3和像素电极层保留部分8。此时，电容C等同于栅极金属层保留部分1、栅极绝缘层保留部分2和源漏极金属层保留部分3形成的电容C7、源漏极金属层保留部分3、缓冲层保留部分4和公共电极层保留部分6形成的电容C8以及公共电极层保留部分6、钝化层保留部分7和像素电极层保留部分8形成的电容C9组成的并联电容。

需要说明的是，以上第一过孔9、第二过孔10、第三过孔11、第四过孔12、第五过孔13和第六过孔14均贯穿至少两层薄膜，在形成各个过孔的过程中，可以在一次构图工艺中形成上述各个过孔，也可以分多次构图工艺形成，每次构图工艺中形成贯穿一个薄膜的子过孔，多个子过孔相互导通构成上述各个过孔，本发明实施例对此不进行限定。

本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，该显示基板的制作方法如上所述，从而使得无需单独显示装置包括的栅极驱动电路中的电容，从而能够简化栅极驱动电路的制作工艺，降低栅极驱动电路的制作成本，从而简化显示装置的制作工艺，并降低显示装置的制作成本。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (23)

1.一种显示基板，所述显示基板包括显示区域和周边区域，包括所述显示基板还包括栅极驱动电路，所述栅极驱动电路为所述显示区域的栅驱动线提供驱动信号，所述栅极驱动电路包括电容，所述电容包括第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极之间设置有电绝缘层，其特征在于，所述第一电极和所述第二电极为制作所述导电层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分，所述电绝缘层为制作所述绝缘层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为阵列基板。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示区域内依次设置有栅极金属层、栅极绝缘层、源漏极金属层、缓冲层、树脂层、公共电极层、钝化层和像素电极层；

制作所述栅极金属层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为栅极金属层保留部分；

制作所述栅极绝缘层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为栅极绝缘层保留部分；

制作所述源漏极金属层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为源漏极金属层保留部分；

制作所述缓冲层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为缓冲层保留部分；

制作所述树脂层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为树脂层保留部分；

制作所述公共电极层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为公共电极层保留部分；

制作所述钝化层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为钝化层保留部分；

制作所述像素电极层时形成的薄膜在所述周边区域内的保留部分为像素电极层保留部分。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，

所述第一电极和/或所述第二电极包括透明导电层和遮光导电层；

所述透明导电层为所述公共电极层保留部分或者所述像素电极层保留部分；

所述遮光导电层为所述栅极金属层保留部分或者所述源漏极金属层保留部分。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，

所述透明导电层和所述遮光导电层通过过孔电连接。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极或者所述第二电极包括所述透明导电层和所述遮光导电层。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述电容所在区域包括依次设置的所述栅极金属层保留部分、所述栅极绝缘层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述缓冲层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述电容所在区域还包括贯穿所述缓冲层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第一过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第一过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

所述源漏极金属层保留部分与所述栅极金属层保留部分存在重叠区域，所述源漏极金属层保留部分与所述公共电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极为所述源漏极金属层保留部分。

8.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述电容所在区域包括依次设置的所述栅极金属层保留部分、所述栅极绝缘层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述钝化层保留部分和所述像素电极层保留部分，所述电容所在区域还包括贯穿所述钝化层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第二过孔，所述像素电极层保留部分通过所述第二过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

所述源漏极金属层保留部分与所述栅极金属层保留部分存在重叠区域，所述源漏极金属层保留部分与所述像素电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极为所述源漏极金属层保留部分，所述第二电极包括所述栅极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。

9.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极和所述第二电极均包括所述透明导电层和所述遮光导电层。

10.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述电容所在区域包括依次设置的所述栅极金属层保留部分、所述栅极绝缘层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述树脂层保留部分、所述公共电极层保留部分、所述钝化层保留部分和所述像素电极层保留部分，所述电容所在区域还包括贯穿所述树脂层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第三过孔以及贯穿所述钝化层保留部分和所述树脂层保留部分的第四过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第三过孔与所述栅极金属层保留部分电连接，所述像素电极层保留部分通过所述第四过孔与所述源漏极金属层保留部分电连接；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极包括所述源漏极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。

11.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述栅极金属层保留部分和所述源漏极金属层保留部分之间无重叠区域。

12.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，

所述钝化层保留部分的厚度为

13.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，

所述钝化层保留部分的厚度为

14.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述栅极金属层保留部分和所述源漏极金属层保留部分之间存在重叠区域。

15.根据权利要求10-14任一项所述的显示基板，其特征在于，所述源漏极金属层保留部分和所述树脂层保留部分之间设置有缓冲层保留部分。

16.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述电容所在区域包括依次设置的所述栅极金属层保留部分、所述栅极绝缘层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述缓冲层保留部分、所述公共电极层保留部分、所述钝化层保留部分和所述像素电极层保留部分，所述电容所在区域还包括贯穿所述缓冲层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第五过孔以及贯穿所述钝化层保留部分和所述缓冲层保留部分的第六过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第五过孔与所述栅极金属层保留部分电连接，所述像素电极层保留部分通过所述第六过孔与所述源漏极金属层保留部分电连接；

所述栅极金属层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述公共电极层保留部分和所述像素电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极包括所述源漏极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。

17.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，

所述栅极金属层保留部分的厚度为所述栅极绝缘层保留部分的厚度为所述源漏极金属层保留部分的厚度为所述缓冲层保留部分的厚度为所述树脂层保留部分的厚度为所述公共电极层保留部分的厚度为所述钝化层保留部分的厚度为所述像素电极层保留部分的厚度为

18.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-17任一项所述的显示基板。

19.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上同时形成栅极金属层和栅极金属层保留部分；

在形成了所述栅极金属层和所述栅极金属层保留部分的所述衬底基板上，同时形成栅极绝缘层和栅极绝缘层保留部分；

在形成了所述栅极绝缘层和所述栅极绝缘层保留部分的所述衬底基板上，同时形成源漏极金属层和源漏极金属层保留部分；

在形成了所述源漏极金属层和所述源漏极金属层保留部分的所述衬底基板上，同时形成缓冲层和缓冲层保留部分；

在形成了所述缓冲层和所述缓冲层保留部分的所述衬底基板上，同时形成树脂层和树脂层保留部分；

在形成了所述树脂层和所述树脂层保留部分的所述衬底基板上，同时形成公共电极层和公共电极层保留部分；

在形成了所述公共电极层和所述公共电极层保留部分的所述衬底基板上，同时形成钝化层和钝化层保留部分；

在形成了所述钝化层和所述钝化层保留部分的所述衬底基板上，同时形成像素电极层和像素电极层保留部分；

其中，所述栅极金属层、所述栅极绝缘层、所述源漏极金属层、所述缓冲层、所述树脂层、所述公共电极层、所述钝化层和所述像素电极层位于所述显示基板的显示区域内；所述栅极金属层保留部分、所述栅极绝缘层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述缓冲层保留部分、所述树脂层保留部分、所述公共电极层保留部分、所述钝化层保留部分和所述像素电极层保留部分位于所述显示基板的周边区域内；

包括所述显示基板的显示装置还包括栅极驱动电路，所述栅极驱动电路中的电容的第一电极和第二电极分别包括所述栅极金属层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述公共电极层保留部分和所述像素电极层保留部分中的至少一种；位于所述第一电极和所述第二电极之间的电绝缘层包括所述栅极绝缘层保留部分、所述缓冲层保留部分、所述树脂层保留部分和所述钝化层保留部分中的至少一种。

20.根据权利要求19所述的显示基板的制作方法，其特征在于，

所述形成树脂层保留部分包括：在形成了所述缓冲层和所述缓冲层保留部分的所述衬底基板上，涂布一层树脂材料，经过构图工艺，在除所述电容所在区域之外的周边区域形成所述树脂层保留部分；

所述显示基板的制作方法还包括：

形成贯穿所述缓冲层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第一过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第一过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

所述源漏极金属层保留部分与所述栅极金属层保留部分存在重叠区域，所述源漏极金属层保留部分与所述公共电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极为所述源漏极金属层保留部分。

21.根据权利要求19所述的显示基板的制作方法，其特征在于，

在形成所述钝化层保留部分之前，去除所述电容所在区域的所述公共电极层保留部分、所述树脂层保留部分和所述缓冲层保留部分；

所述显示基板的制作方法还包括：

形成贯穿所述钝化层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第二过孔，所述像素电极层保留部分通过所述第二过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

所述源漏极金属层保留部分与所述栅极金属层保留部分存在重叠区域，所述源漏极金属层保留部分与所述像素电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极为所述源漏极金属层保留部分，所述第二电极包括所述栅极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。

22.根据权利要求19所述的显示基板的制作方法，其特征在于，

形成贯穿所述树脂层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第三过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第三过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

形成贯穿所述钝化层保留部分和所述树脂层保留部分的第四过孔，所述像素电极层保留部分通过所述第四过孔与所述源漏极金属层保留部分电连接；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极包括所述源漏极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。

23.根据权利要求19所述的显示基板的制作方法，其特征在于，

所述形成树脂层保留部分包括：在形成了所述缓冲层和所述缓冲层保留部分的所述衬底基板上，涂布一层树脂材料，经过构图工艺，在除所述电容所在区域之外的周边区域形成所述树脂层保留部分；

所述显示基板的制作方法还包括：

形成贯穿所述缓冲层保留部分和所述栅极绝缘层保留部分的第五过孔，所述公共电极层保留部分通过所述第五过孔与所述栅极金属层保留部分电连接；

形成贯穿所述钝化层保留部分和所述缓冲层保留部分的第六过孔，所述像素电极层保留部分通过所述第六过孔与所述源漏极金属层保留部分电连接；

所述栅极金属层保留部分、所述源漏极金属层保留部分、所述公共电极层保留部分和所述像素电极层保留部分存在重叠区域；

所述第一电极包括所述栅极金属层保留部分和所述公共电极层保留部分，所述第二电极包括所述源漏极金属层保留部分和所述像素电极层保留部分。