BR112019017433A2

BR112019017433A2 - método para produzir chapa de impressão litográfica

Info

Publication number: BR112019017433A2
Application number: BR112019017433A
Authority: BR
Inventors: Aizu Kohei; Wariishi Koji
Original assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2017-02-28
Filing date: 2017-12-26
Publication date: 2020-04-07
Also published as: EP3564755A4; US20190344556A1; JP6621961B2; EP3564755A1; CN110268333A; JPWO2018159087A1; EP3879346A1; WO2018159087A1; EP3564755B1

Abstract

a presente invenção refere-se a um método para produzir uma chapa de impressão litográfica que inclui, nesta ordem, uma etapa de preparar um precursor de chapa de impressão litográfica tendo uma camada de gravação de imagem em um suporte hidrofílico, uma etapa de expor o precursor de chapa de impressão litográfica em uma forma de imagem, e uma etapa de remover uma parte não exposta da camada de gravação de imagem exposta no precursor de chapa de impressão litográfica utilizando um revelador, o revelador inclui um composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato, e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi, um ph do revelador de 5 a 10 e, após a etapa de remoção, uma etapa de lavar uma superfície de uma chapa de impressão litográfica obtida com água e uma etapa de dessensibilizar a superfície da chapa de impressão litográfica obtida não são fornecidas.

Description

“MÉTODO PARA PRODUZIR CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA” CAMPO DA TÉCNICA [001 ]A presente descrição refere-se a um método para produzir uma chapa de impressão litográfica e particularmente a um método para produzir uma chapa de impressão litográfica que pode ser processada em uma faixa ácida fraca a alcalina fraca e é favorável em termos da estabilidade de dispersão de escuma de revelação resistência a manchas e riscos.

FUNDAMENTOS DA INVENÇÃO [002]Geralmente, uma chapa de impressão litográfica inclui uma área de imagem lipofílica que recebe tinta em um processo de impressão e uma área sem imagem hidrofílica que recebe água de molhagem. A impressão litográfica é um método no qual as propriedades da água e da tinta de impressão que se repelem são usadas, a área de imagem lipofílica da chapa de impressão litográfica é usada como uma parte de recebimento de tinta, a área sem imagem hidrofílica é usada como uma parte de recebimento de água de molhagem (parte que não recebe tinta), uma diferença na propriedade adesiva da tinta é causada na superfície da chapa de impressão litográfica, a tinta é absorvida apenas na área de imagem e, em seguida, a tinta é transferida para um corpo a ser impresso, tal como papel, realizando assim a impressão.

[003]De modo a produzir esta chapa de impressão litográfica, na técnica relacionada, os precursores de chapa de impressão litográfica (chapas PS) formados pelo fornecimento de camadas de resina fotossensíveis lipofílicas (uma camada fotossensível e uma camada de gravação de imagem) em um suporte hidrofílico são amplamente utilizados. Geralmente, uma chapa é feita usando um método no qual um precursor de chapa de impressão litográfica é exposto através de uma imagem original tal como um filme litográfico, então, uma parte que serve como uma área de imagem da camada de gravação de imagem é deixada, a outra parte desnecessária da

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2/79 camada de gravação de imagem é dissolvida e removida utilizando um revelador alcalino ou um solvente orgânico, e a superfície do suporte hidrofílico é exposta, formando assim uma área sem imagem, e uma chapa de impressão litográfica é obtida.

[004]Como descrito acima, na etapa de fabricação de chapa de um precursor de chapa de impressão litográfica da técnica relacionada, é necessária uma etapa de dissolver e remover a parte desnecessária da camada de gravação de imagem utilizando um revelador ou similar após exposição; no entanto, a partir do ponto de vista do ambiente e da segurança, há uma exigência de um processo usando um revelador que seja mais neutro ou uma pequena quantidade de líquido residual. Particularmente, nos últimos anos, o descarte de líquidos residuais que são descarregados devido a um processo a úmido tornou-se uma questão significativa de todo o campo industrial considerando o ambiente global, e um pedido para alcançar a exigência descrita acima tem se intensificado ainda mais.

[005]Entretanto, nos últimos anos, técnicas de digitalização que processam, armazenam e emitem eletronicamente informação de imagem utilizando um computador foram amplamente distribuídas, e uma variedade de novos métodos de emissão de imagem que se adaptam às técnicas de digitalização descritas acima foram colocadas em prática. Consequentemente, uma técnica de computador para chapa (CTP) na qual a informação de imagem digitalizada é transportada por radiação altamente convergente, tal como luz laser, e um precursor de chapa de impressão litográfica é digitalizado e exposto à luz, produzindo assim diretamente uma chapa de impressão litográfica sem usar um filme litográfico tem atraído a atenção. Portanto, tornou-se um dos importantes objetivos técnicos obter precursores de chapa de impressão litográfica aos quais a técnica descrita acima é aplicada.

[006]Por exemplo, o documento JP2012-238023A propõe um método de revelação com um líquido de processo incluindo um tensoativo específico contendo

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3/79 um átomo de nitrogênio em uma molécula tendo um pH de 2 a 10.

SUMÁRIO DA INVENÇÃO [007]Como descrito acima, uma diminuição na alcalinidade dos reveladores e a simplificação das etapas do processo têm sido fortemente exigidas cada vez mais mesmo na técnica relacionada considerando o ambiente global. Contudo, uma etapa do processo de revelação é geralmente constituída por três etapas sequenciais de revelação utilizando uma solução aquosa alcalina tendo um pH de 12 ou superior, o fluxo de um agente alcalino em um banho de lavagem com água, e um processo utilizando uma goma líquida contendo principalmente uma resina hidrofílica, que obriga uma máquina de revelação automática a ocupar um espaço grande e, além disso, cria problemas em termos do ambiente e custos de funcionamento tal como um problema de processamento de líquido residual, líquido residual de lavagem com água, e goma residual líquida.

[008]C documento JP2012-238023A propõe um método de revelação com um líquido de processo incluindo um tensoativo específico contendo um átomo de nitrogênio em uma molécula tendo um pH de 2 a 10, que exige que uma composição fotossensível contenha um polímero ligante tendo um baixo valor ácido, e, no caso de revelação usando o líquido de processo incluindo um tensoativo específico, há um problema em que a estabilidade da dispersão de escuma de uma camada fotossensível é pobre. Além disso, um processo de um lote usando um líquido de processo é descrito nos exemplos de JP2012-238023A; no entanto, em chapas produzidas utilizando um processo no qual um processo de revelação e um processo de extração de goma são realizados ao mesmo tempo que utilizando um único líquido e não é fornecida uma etapa de lavagem com água, existe um problema em que a resistência a manchas e riscos é insuficiente.

[009]Como descrito acima, os sistemas em que um agente alcalino é usado para a revelação têm um problema com o ambiente, um objeto da concessão de um

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4/79 líquido suplementar e um dispositivo para suplementar uma diminuição no pH causada pela absorção de dióxido de carbono e acompanhando aumento na quantidade de líquido residual, e um problema com os custos de corrida dos reveladores.

[010]Além disso, em geral, em revelação em uma faixa ácida à alcalina fraca, é difícil assegurar a capacidade de revelação e, adicionalmente, um componente de uma camada fotossensível em uma região de área sem imagem que tenha sido removida não é facilmente disperso de forma estável em reveladores. Portanto, o componente da camada fotossensível é precipitado em um tanque de revelação e, em um caso em que um processo de corrida é realizado, a substância precipitada é anexada a uma chapa de impressão sob o processo como escuma de revelação, e há um problema em que o componente é susceptível de se tornar um defeito na imagem. Além disso, em um método para produzir uma chapa de impressão litográfica na qual um processo de revelação e um processo de extração de goma são efetuados ao mesmo tempo utilizando um único líquido, não há etapa de lavagem com água, e assim um componente de uma camada fotossensível removido usando um revelador permanece em uma chapa de impressão litográfica. Portanto, há um problema com a supressão de manchas durante a impressão, particularmente, a resistência a manchas e riscos.

[011]Um objetivo que uma modalidade da presente invenção tenta alcançar é fornecer um método para produzir uma chapa de impressão litográfica, através do qual chapas de impressão litográfica excelentes em termos de resistência a manchas e riscos podem ser obtidas.

[012]Os meios para alcançar os objetivos descritos acima incluem os seguintes aspectos.

<1> Um método para produzir uma chapa de impressão litográfica compreendendo em ordem: uma etapa de preparar um precursor de chapa de impressão litográfica tendo uma camada de gravação de imagem em um suporte

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5/79 hidrofílico; uma etapa de expor o precursor de chapa de impressão litográfica em uma forma de imagem; e uma etapa de remover uma parte não exposta da camada de gravação de imagem exposta no precursor de chapa de impressão litográfica utilizando um revelador, em que o revelador inclui um composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato, e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi, um pH do revelador de 5 a 10, e após a etapa de remoção, uma etapa de lavar uma superfície de uma chapa de impressão litográfica obtida com água e uma etapa de dessensibilizar a superfície da chapa de impressão litográfica obtida não são fornecidas.

<2> O método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com <1>, em que o revelador inclui ainda um tensoativo aniônico e um tensoativo não iônico.

<3> O método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com <2>, em que uma relação em massa (o tensoativo não iônico para o tensoativo aniônico) entre um teor do tensoativo não iônico e um teor do tensoativo aniônico no revelador é 1,2:1,0 a 5,0:1,0.

<4> O método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com <2> ou <3>, em que um teor total do tensoativo não iônico e do tensoativo aniônico no revelador é de 2% em massa a 20% em massa de uma massa total do revelador.

<5> O método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer um de <1> a <4>, em que a camada de gravação de imagem contém um corante de absorção de infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto polimerizável, e um polímero ligante.

<6> O método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer de <1> a <4>, em que a camada de gravação de imagem contém um corante de absorção de infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto

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6/79 polimerizável, e um composto polimérico particulado.

<7> O método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com qualquer um de <1> a <4>, em que a camada de gravação de imagem contém um corante de absorção de infravermelho e uma partícula de resina termoplástica.

<8> O método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer um de <1> a <7>, em que o número de grupos carbóxi no composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato, e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi é 2 ou mais e 10 ou menos.

<9> O método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer um de <1> a <8>, em que um teor do composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato, e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi é de 0,1% em massa a 10% em massa da massa total do revelador.

<10> O método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer de <1> a <9>, em que o revelador não inclui um composto polimérico solúvel em água ou um teor do composto polimérico solúvel em água é mais do que 0% em massa e 0,05% em massa ou menos da massa total do revelador.

[013]De acordo com uma modalidade da presente invenção, é possível fornecer um método para produzir uma chapa de impressão litográfica pelo qual as chapas de impressão litográfica que são excelentes em termos de resistência a manchas e riscos podem ser obtidas.

BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS [014]A Figura 1 é uma vista transversal esquemática que ilustra um exemplo de uma máquina de revelação que é preferencialmente utilizada em um método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com uma modalidade da presente descrição.

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7/79 [015]A Figura 2 é uma vista transversal esquemática que ilustram outro exemplo da máquina de revelação que é preferencialmente utilizada no método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com a modalidade da presente descrição.

[016]A Figura 3 é um gráfico que ilustra um exemplo de um gráfico de forma de onda de corrente de forma de onda alternada que é utilizado em um processo de enrugamento eletroquímico utilizado para a produção de um suporte.

[017]A Figura 4 é uma vista lateral que ilustra um exemplo de uma célula radial no processo de enrugamento eletroquímico em que é utilizada uma corrente alternada utilizada para a produção do suporte.

[018]A Figura 5 é uma vista esquemática de um dispositivo de processo de anodização que é utilizado em um processo de anodização utilizado para a produção do suporte.

DESCRIÇÃO DETALHADA [019]Daqui em diante, o conteúdo da presente descrição será descrito em detalhes. Uma exigência constituinte descrita abaixo será descrita com base em uma modalidade típica da presente descrição em alguns casos, mas a presente descrição não está limitada a essa modalidade.

[020]Entretanto, na especificação do presente pedido, uma faixa numérica expressa usando “a” inclui valores descritos antes e depois de “a” como um valor limite inferior e um valor limite superior.

[021]Além disso, em relação à expressão de um grupo (grupo atômico) na especificação do presente pedido, em um caso em que não há descrição sobre se o grupo é substituído ou não substituído, o grupo não se refere apenas a um grupo não tendo substituintes, mas também a um grupo tendo um substituinte. Por exemplo, “grupo alquila” refere-se não apenas a um grupo alquila que não tendo substituinte (grupo alquila não substituído), mas também a um grupo alquila tendo um substituinte

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8/79 (grupo alquila substituído).

[022]Além disso, na presente descrição, “% em massa” e “% em peso” têm o mesmo significado, e “partes em massa” e “partes em peso” têm o mesmo significado.

[023]Ademais, na presente descrição, uma combinação de dois ou mais aspectos preferenciais é um aspecto mais preferencial.

[024]Na presente descrição, o termo “cadeia principal” refere-se a uma cadeia de ligação relativamente mais longa em uma molécula de um composto polimérico que constitui uma resina, e o termo “cadeia lateral” refere-se a uma cadeia molecular que é ramificada a partir da cadeia principal.

[025]Na presente descrição, o termo “insolúvel em água” indica que uma substância não se dissolve em água a 25° C ou se dissolve em uma quantidade inferior a 0,1% em massa, mesmo no caso de dissolução, e o termo “solúvel em uma solução aquosa alcalina” indica que um composto dissolve-se em uma solução aquosa alcalina (pH: 10) a 25° C em uma quantidade de 0,1% em massa ou mais.

[026]Em adição, a menos que particularmente descrito de outro modo, o peso molecular médio ponderai (Mw) e o peso molecular médio numérico (Mn) na presente descrição refere-se a um peso molecular que é detectado utilizando um analisador de cromatografia de permeação em gel (GPC) em que colunas de TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL e TSKgel G2000HxL (todos os nomes comerciais fabricados por Tosoh Corporation) são usadas, solvente tetrahidrofurano (THF) e um refratrômetro diferencial e é convertido utilizando poliestireno como substância padrão.

[027] A seguir, a presente descrição será descrita em detalhes.

( Método para Produzir Chapas de Impressão Litográfica ) [028]Um método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com uma modalidade da presente descrição inclui uma etapa de preparar um precursor de chapa de impressão litográfica tendo uma camada de gravação de imagem em um suporte hidrofílico, uma etapa de expor o precursor de chapa de

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9/79 impressão litográfica em uma forma de imagem, e uma etapa de remover uma parte não exposta da camada de gravação de imagem exposta no precursor de chapa de impressão litográfica utilizando um revelador nesta ordem, em que o revelador inclui um composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi (em seguida também chamado de “composto específico”), um pH do revelador é de 5 a 10 e, após a etapa de remoção, uma etapa de lavar uma superfície de uma chapa de impressão litográfica obtida com água e uma etapa de dessensibilizar a superfície da chapa de impressão litográfica obtida não são fornecidas.

[029]Como descrito no documento JP2012-238023A, os presentes inventores descobriram que, na produção de chapas de impressão litográfica da técnica relacionada, no caso de produzir chapas de impressão litográfica usando um método que não inclui uma etapa de lavagem com água na qual um processo de revelação e um processo de extração de goma são realizados ao mesmo tempo usando um único líquido, as chapas de impressão litográfica obtidas têm um problema em que as manchas são provavelmente anexadas a riscos na superfície das chapas e a resistência a manchas e riscos é insuficiente.

[030]Além disso, os presentes inventores descobriram que, na revelação em uma faixa ácida a alcalina fraca (particularmente, uma faixa de pH de 5 a 10), como descrito acima, um componente de uma camada fotossensível em uma região de área sem imagem que foi removido não é facilmente disperso de forma estável em reveladores, o componente da camada fotossensível é precipitado em um tanque de revelação, a substância precipitada é anexada a uma chapa sob o processo, particularmente, uma parte de riscos na superfície da chapa como escuma de revelação, e há um problema com a resistência a manchas e riscos.

[031]Como um resultado de estudos intensivos, os presentes inventores

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10/79 descobriram que é possível fornecer um método para produzir uma chapa de impressão litográfica pela qual as chapas de impressão litográfica que são excelentes em termos de resistência a manchas e riscos podem ser obtidas fornecendo a constituição descrita acima.

[032]Um mecanismo de ação de um excelente efeito da constituição descrita acima não está claro, mas é assumido como descrito abaixo.

[033]Assume-se que, no caso de adicionar um composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi para um revelador tendo um pH de 5 a 10, os dois tipos de grupos ácidos no composto atuam de uma maneira associada, a dispersibilidade da escuma de revelação no revelador é melhorada, o composto específico é adsorvido na superfície da chapa de impressão litográfica, particularmente, uma parte riscada, e a superfície é hidrofilizada, o que suprime a fixação da tinta, pelo que podem ser obtidas chapas de impressão litográfica excelentes em termos de resistência a manchas e riscos.

< Etapa de Preparação >

[034]O método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com a modalidade da presente descrição inclui uma etapa de preparar um precursor de chapa de impressão litográfica tendo uma camada de gravação de imagem em um suporte hidrofílico.

[035]O precursor de chapa de impressão litográfica que é utilizado na presente descrição tem essencialmente um suporte hidrofílico e uma camada de gravação de imagem fornecida no suporte hidrofílico e pode ter uma camada intermediária entre o suporte hidrofílico e a camada de gravação de imagem e pode ainda ter uma camada de proteção na camada de gravação de imagem. Além disso, uma camada de revestimento de proteção pode ser fornecida em uma superfície do suporte hidrofílico em um lado oposto ao lado fornecido com a camada de gravação

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11/79 de imagem.

[036]Daqui em diante, a constituição do precursor de chapa de impressão litográfica que é usado no método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com a modalidade da presente descrição será descrita.

- Suporte Hidrofílico [037]O suporte hidrofílico que é usado na presente descrição é um suporte tendo ao menos uma superfície hidrofílica. Um material deste suporte não é particularmente limitado, mas precisa ser um suporte tendo uma superfície hidrofílica e é, de preferência, um material similar a uma chapa dimensionalmente estável. Por exemplo, papel, papel laminado com plástico (por exemplo, polietileno, polipropileno, poliestireno ou similares), chapas de metal (por exemplo, alumínio, zinco, cobre e similares), filmes plásticos (por exemplo, diacetato de celulose, triacetato de celulose, propionato de celulose, butirato de celulose, acetato butirato celulose, nitrato de celulose, polietileno tereftalato, polietileno, poliestireno, polipropileno, policarbonato, polivinil acetal e similares), papel ou filmes plásticos laminados ou depositados com o metal acima descrito, e os similares são exemplificados. Como o suporte, é preferencial um filme de poliéster ou uma chapa de alumínio. Em um caso em que esses suportes não são suficientemente hidrofílicos, os suportes são usados após um processo de hidrofilização ser realizado na superfície. Como o processo de hidrofilização, o revestimento da superfície com uma camada hidrofílica e um processo de hidrofilização da superfície do suporte são exemplificados.

[038]Exemplos da chapa de alumínio incluem uma chapa de alumínio puro, uma chapa de liga incluindo alumínio como um componente principal e uma pequena quantidade de um elemento diferente, e um filme fino de alumínio ou liga de alumínio laminado com plástico. Como o elemento diferente que está incluído na liga de alumínio, silício, ferro, manganês, cobre, magnésio, cromo, zinco, bismuto, níquel, titânio e similares são exemplificados. O teor do elemento diferente na liga é

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12/79 preferencialmente de 10% em massa ou menos. A espessura da chapa de alumio de preferencialmente de 0,1 mm a 0,6 mm, mais preferencialmente de 0,15 mm a 0,4 mm e, ainda mais preferencialmente de 0,2 mm a 0,3 mm.

[039]O suporte hidrofílico que é usado na presente descrição é de preferência um suporte de alumínio tendo uma superfície hidrofílica. Particularmente, é preferencial uma chapa de alumínio em que um tratamento de superfície, tal como um processo de enrugamento, um processo de anodização, um processo de hidrofilização ou similares, foi executado usando um método bem conhecido.

[040]O material que pode ser usado como o suporte e o processo de enrugamento, o processo de anodização e o processo de hidrofilização são bem conhecidos, e é possível selecionar e executar apropriadamente, por exemplo, um processo de ampliação ou processo de vedação de microporos um filme anodizado descrito em JP2001-253181A ou JP2001-322365A, um processo de hidrofilização de superfície utilizando um silicato de metal alcalino como descrito em cada uma das especificações de US 2.714.066A, US 3.181.461 A, US 3.280.734A e US 3.902.344A ou polivinil fosfato descrito em cada uma das especificações de US 3.276.868A e US 4.689.272A, ou um método descrito nos documentos JP2002-096573A, JP2003211859A, JP2006-309160A e JP2006-047742A.

[041 ]Ao suporte hidrofílico que é usado na presente descrição, é possível fornecer uma camada de revestimento de proteção incluindo um composto polimérico orgânico descrito em JP1993-045885A (JP-H05-045885A) ou um composto alcóxi de silício descrito em JP1994- 035174A (JP-H06-035174A) em uma superfície traseira (uma superfície oposta à superfície fornecida com a camada de gravação de imagem) conforme necessário.

[042]A partir do ponto de vista de aderência favorável da camada de gravação de imagem ou da camada intermediária, resistência favorável à impressão, resistência favorável a manchas e similares, a rugosidade média da linha central do suporte

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13/79 hidrofílico está preferencialmente na faixa de 0,10 a 1,2 μιτι. Além disso, no que diz respeito à densidade de cor do suporte, a partir do ponto de vista de uma propriedade favorável de gravação de imagem por anti-halação durante exposição de imagem, uma propriedade favorável de inspeção de chapa após revelação e similares, o valor de densidade refletida é de preferência 0,15 a 0,65.

- Camada de Gravação de Imagem, Camada Intermediária e Camada de Proteção [043]O precursor de chapa de impressão litográfica que é utilizado na presente descrição tem a camada de gravação de imagem como uma camada essencial no suporte hidrofílico e, por exemplo, componentes individuais e aspectos individuais de camadas de gravação de imagem, camadas intermediárias e camadas de proteção descritas em JP2009-229944A e WO2015/129504A são preferencialmente exemplificados.

[044]A camada de gravação de imagem é preferencialmente uma camada de gravação de imagem de tipo negativo e, de um modo mais preferencial, uma camada de gravação de imagem contendo um absorvedor de infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto etilenicamente insaturado, e um polímero ligante.

[045]Além disso, a camada de gravação de imagem é mais preferencialmente uma camada de gravação de imagem contendo um absorvedor de infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto etilenicamente insaturado, e um composto polimérico particulado.

[046]Além disso, a camada de gravação de imagem é também mais preferencialmente uma camada de gravação de imagem contendo um absorvedor de infravermelhos e uma partícula de resina termoplástica.

[047]No que diz respeito ao absorvedor de infravermelho, o iniciador de polimerização, o composto etilenicamente insaturado, o polímero ligante, o composto polimérico particulado, a partícula de resina termoplástica, e outros componentes, é

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14/79 possível se referir aos parágrafos 0039 a 0132 do documento JP2009-229944A e aos parágrafos 0062 a 0225 do documento WO2015/129504A.

« Absorvedor de infravermelhos » [048]O absorvedor de infravermelhos tem a função de converter os raios infravermelhos absorvidos em calor e uma função de executar um ou ambos de migração de elétrons ou migração de energia para o iniciador de polimerização ou a partícula de resina termoplástica descrita abaixo sendo excitada por raios infravermelhos. O absorvedor de infravermelhos que é utilizado na presente descrição é preferencialmente um corante ou pigmento tendo a absorção máxima em uma faixa de comprimentos de onda de 760 nm a 1.200 nm e mais preferencialmente um corante.

[049]Como o corante, é possível usar um corante comercialmente disponível e um corante bem conhecido descrito em publicações, por exemplo, “Dye Handbooks” (editado por Society of Synthetic Organic Chemistry, Japão e publicado em 1970). Exemplos específicos destes incluem corantes tais como um corante azo, um corante de complexo azo - metal, um corante azo pirazolona, um corante naftoquinona, um corante antraquinona, um corante ftalocianina, um corante carbônio, um corante quinoneimina, um corante metino, um corante cianina, um corante de esquarílio, um sal de pirílio, e um complexo de metal - tiolato.

[050]Dentre estes corantes, como corantes preferenciais, um corante de cianina, um corante de esquarílio, um sal de pirílio, um complexo de níquel - tiolato ou um corante de indolenina cianina é exemplificado. Além disso, um corante de cianina ou um corante de indolenina cianina é mais preferencial, e um corante de cianina é particularmente preferencial.

[051]Exemplos específicos do corante de cianina que podem ser preferencialmente utilizados incluem um composto descrito nos parágrafos 0017 a 0019 do documento JP2001-133969A, um composto descrito nos parágrafos 0016 a

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0021 do documento JP 2002-023360A e nos parágrafos 0012 a 0037 do documento JP2002-040638A, preferencialmente, um composto descrito nos Parágrafos 0034 a 0041 do documento JP2002-278057A e parágrafos 0080 a 0086 do documento JP2008-195018A e, mais preferencialmente, um composto descrito nos parágrafos 0035 a 0043 do documento JP2007-090850A.

[052]Em adição, também é possível usar preferencialmente um composto descrito nos parágrafos 0008 e 0009 do documento JP1993-005005A (JP-H05005005A) e parágrafos 0022 a 0025 do documento JP2001-222101 A.

[053]Como o pigmento, é possível usar pigmentos comercialmente disponíveis e pigmentos descritos em Color Index International (C. I.) handbook, “Advanced Pigment Handbook” (editado por Japan Association of Pigment Technology, publicado em 1977), “Advanced Pigment Application Techniques” (CMC Publishing Co., Ltd., publicado em 1986) e “Printing Ink Technique” (CMC Publishing Co., Ltd., publicado em 1984).

[054]O diâmetro de partícula do pigmento é de preferência de 0,01 pm a 1 pm e mais preferencialmente de 0,01 pm a 0,5 pm. De modo a dispersar o pigmento, é possível utilizar uma técnica de dispersão bem conhecida que é utilizada para a fabricação de tinta, a fabricação de toner, e similares. O detalhe é descrito em “Advanced Pigment Application Techniques” (CMC Publishing Co., Ltd., publicado em 1986) e similares.

[055]Apenas um absorvedor de infravermelhos pode ser usado ou dois ou mais absorvedores de infravermelhos podem ser utilizados em conjunto.

[056]O teor do absorvedor de infravermelhos é preferencialmente de 0,05% em massa a 30% em massa, mais preferencialmente de 0,1% em massa a 20% em massa, e ainda mais preferencialmente de 0,2% em massa a 10% em massa da massa total da camada de gravação de imagem.

« Iniciador de Polimerização »

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16/79 [057]O iniciador de polimerização é um composto que inicia e acelera a polimerização de compostos polimerizáveis. Como o iniciador de polimerização, é possível usar um iniciador de polimerização térmica, um composto tendo uma ligação com uma pequena energia de dissociação de ligação, um iniciador de fotopolimerização ou similar que é bem conhecido.

[058]Especificamente, como o iniciador de polimerização, por exemplo, (a) um haleto orgânico, (b) um composto carbonila, (c) um composto azo, (d) um peróxido orgânico, (e) um composto de metaloceno, (f) uma composto azida, (g) um composto hexa-arilbenzimidazol, (h) um composto borato orgânico, (i) um composto dissulfona, (j) um composto óxima éster, e (k) um composto sal de ônio são exemplificados.

[059]Como o halogeto orgânico (a), um composto descrito nos parágrafos 0022 e 0023 do documento JP2008-195018A é preferencial.

[060]Como o composto carbonila (b), um composto descrito no parágrafo 0024 do documento JP2008-195018A é preferencial.

[061]Como o composto azo (c), por exemplo, um composto azo descrito em JP1996-108621A (JP-H08-108621 A) pode ser usado.

[062]Como o peróxido orgânico (d), por exemplo, um composto descrito no parágrafo 0025 do documento JP2008-195018A é preferencial.

[063]Como o composto metaloceno (e), por exemplo, é preferencial um composto descrito no parágrafo 0026 do documento JP2008-195018A.

[064]Como o composto azida (f), um composto tal como 2,6-bis(4azidobenzilideno) -4-metilciclohexanona pode ser exemplificado.

[065]Como o composto hexa-arilbimidazol (g), por exemplo, um composto descrito no parágrafo 0027 do documento JP2008-195018A é preferencial.

[066]Como o composto borato orgânico (h), por exemplo, um composto descrito no parágrafo 0028 do documento JP2008-195018A é preferencial.

[067]Como o composto dissulfona (i), um composto descrito em cada um dos

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17/79 documentos JP1986-166544A (JP-S61-166544A) é exemplificado.

[068]Como o composto óxima éster (j), por exemplo, um composto descrito nos parágrafos 0028 a 0030 do documento JP2008-195018A é preferencial.

[069]Como o composto sal de ônio (k), por exemplo, sais de ônio tais como sais de diazônio descritos em S. I. Schlesinger, Photogr. Sei. Eng., 18, 387 (1974), T. S. Bal e outros, Polymer, 21,423 (1980), e JP1993-158230A (JP-H05-158230A), sais de amônio descritos na especificação de US 4.069.055A, JP1992-365049A (JP-H04365019A) e similares, sais de fosfônio descritos nas respectivas especificações de US 4.069.055A e US 4.069,056A, sais de iodônio descritos nas respectivas especificações de EP104.143A e US2008/0311520A, JP1990-150848A (JP-H02150848A), JP2008-195018A, ou J. V. Crivello e outros, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), sais de sulfônio descritos nas respectivas especificações de EP 370.693A, EP 233.567A, EP 297.443A, EP 297442A, US 4.933.377A, US 4.760.013A, US 4.734.444A, US 2.833.827A, DE 2.904.626A, DE 3.604.580A e DE 3.604.581 A, um sal de selônio descrito por J. V. Crivello e outros, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed. 17, 1047 (1979), um sal de arsônio descrito por C. S. Wen e outros, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tóqui, Outubro (1988), e um sal de azínio descrito em JP2008-195018A são exemplificados.

[070]Dentre estes, o composto sal de ônio é preferencial, e o composto sal de iodônio ou sal de sulfônio é mais preferencial.

[071 ]Um exemplo do sal de iodônio é preferencialmente um sal de difenil iodônio, particularmente, preferencialmente um sal de difenil iodônio substituído com um grupo doador de elétrons, por exemplo, um grupo alquila ou um grupo alcóxila, e mais preferencialmente um sal de difenil iodônio assimétrico. Exemplos específicos destes incluem difenil iodônio = hexafluorofosfato, 4-metóxifenil-4-(2-metilpropil) feniliodônio = hexafluorofosfato, 4-(2-metilpropil)fenil-p-toliliodônio hexafluorofosfato, 4-hexilóxifenil-2,4,6-trimetóxifenil iodônio = hexafluorofosfato, 4

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18/79 hexilóxifenil-2,4-dietóxifenil-iodônio = tetrafluoroborato, 4-octilóxifenil-2,4,6trimetóxifenil-iodônio = 1-perfluorobutano sulfonato, 4-octilóxifenil-2,4,6trimetóxifeniliodônio = hexafluorofosfato, bis (4-t-butilfenil) iodônio = tetrafenil borato e similares.

[072]Como exemplos do sal de sulfônio, trifenilsulfônio = hexafluorofosfato, trifenilsulfônio = benzoil formato, bis(4-clorofenil) fenilsulfônio = benzoíl formato, bis (4-clorofenil) -4-metilfenilsulfônio = tetrafluoroborato, tris (4-clorofenil) sulfônio = 3,5bis (metóxicarbonil) benzenossulfonato, tris (4-clorofenil) sulfônio = hexafluorofosfato, e similares são exemplificados.

[073]Além disso, o composto borato orgânico é também preferencialmente usado. Exemplos específicos do composto borato orgânico incluem sal de tetrafenil borato, sal tetratolil borato, sal tetraquis (4-metóxifenil) borato, sal tetraquis (pentafluorofenil) borato, sal tetraquis (3,5- bis (trifluorometil) fenil) borato, sal tetraquis (4-clorofenil) borato, sal tetraquis (4-fluorofenil) borato, sal tetraquis (2-tienil) borato, sal tetrA¹uis (4-fenilfenil) borato, sal tetraquis (4-t-butilfenil) borato, sal etil trifenil borato, sal butil trifenil borato, e similares. A partir do ponto de vista de satisfazer toda a resistência à impressão, reprodutibilidade do tom, e estabilidade temporal, o sal de tetrafenil borato é preferencial. Como um contra-cátion do composto borato, cátions bem conhecidos tal como um cátion de metal alcalino, um cátion de metal alcalinoterroso, um cátion de amônio, um cátion de fosfônio, um cátion de sulfônio, um cátion de iodônio, um cátion de diazônio, e um cátion de azônio são exemplificados.

[074]Apenas um iniciador de polimerização pode ser usado ou dois ou mais iniciadores de polimerização podem ser usados em conjunto.

[075]O teor do iniciador de polimerização é preferencialmente de 0,1% em massa a 50% em massa, mais preferencialmente de 0,5% em massa a 30% em massa, e particularmente preferencialmente de 0,8% em massa a 20% em massa da massa total da camada de gravação de imagem. Dentro dessa faixa, a sensibilidade

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19/79 favorável e resistência mais favorável à contaminação da área sem imagem durante a impressão podem ser obtidas.

« Composto Polimerizável » [076]Um composto polimerizável é um composto polimerizável de adição tendo ao menos uma ligação etilenicamente insaturada e é selecionado a partir de compostos preferencialmente tendo ao menos uma ligação etilenicamente insaturada terminal e mais preferencialmente tendo duas ou mais ligações etilenicamente insaturadas. Estes compostos têm uma forma química, por exemplo, de um monômero, um pré-polímero, isto é, um dímero, um trímero, ou um oligômero, uma mistura dos mesmos, ou similares.

[077]Como exemplos do monômero, ácidos carboxílicos insaturados (por exemplo, ácido acrílico, ácido metacrílico, ácido itacônico, ácido crotônico, ácido isocrotônico, ácido maleico e similares), ésteres dos mesmos e amidas dos mesmos são exemplificados, e um éster de um ácido carboxílico insaturado e um composto de álcool polivalente e amidas de um ácido carboxílico insaturado e um composto de amina polivalente são preferencialmente utilizados. Em adição, ésteres de ácido carboxílico insaturado tendo um substituinte nucleofílico tal como um grupo hidróxi, um grupo amino, ou um grupo mercapto, o produto de reação de adição entre uma amida e um isocianato monofuncional ou polifuncional ou epóxi, e produto de reação de condensação de desidratação de um produto de ácido carboxílico monofuncional ou polifuncional e similares são também preferencialmente utilizados. Além disso, o produto da reação de adição entre um éster ou amida de ácido carboxílico insaturado tendo um substituinte eletrofílico tal como um grupo isocianato ou um grupo epóxi e um álcool monofuncional ou polifuncional, amina ou tiol e, além disso, o produto de reação de substituição entre um éster ou amida de ácido carboxílico insaturado tendo um substituinte de dessorção tal como um grupo halogênio ou um grupo tosilóxi e um álcool monofuncional ou polifuncional, amina ou tiol são também preferenciais.

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20/79 [078]Em adição, como exemplos diferentes, um grupo de compostos substituídos por um ácido fosfórico insaturado, estireno, um vinil éter ou similares em vez do ácido carboxílico insaturado pode também ser utilizado. Estes compostos são descritos em referências incluindo JP2006-508380A, JP2002-287344A, JP2008256850A, JP2001-342222A, JP1997-179296A (JP-H09-179296A), JP1997-179297A (JP-H09-179297A), JP1997-179298A (JP-H09-179298A), JP2004-294935A, JP2006243493A, JP2002-275129A, JP2003-064130A, JP2003-280187A e JP1998-333321A (JP-H10-333321 A).

[079]Como exemplos específicos do éster de um composto de álcool polivalente e um ácido carboxílico insaturado como o monômero, exemplos de ésteres de ácido acrílico incluem etileno glicol diacrilato, 1,3-butanodiol diacrilato, tetrametileno glicol diacrilato, propileno glicol diacrilato, trimetilolpropano triacrilato, hexanodiol diacrilato, tetraetileno glicol diacrilato, pentaeritritol tetracrilato, sorbitol triacrilato, triacrilato óxido de etileno (EO)-modificado com ácido isocianúrico, oligômeros de poliéster acrilato e similares. Exemplos de ésteres de ácido metacrílico incluem tetrametileno glicol dimetacrilato, neopentil glicol dimetacrilato, trimetilolpropano trimetacrilato, etileno glicol dimetacrilato, pentaeritritol trimetacrilato, bis[p-(3-metacrilóxi-2-hidróxipropóxi) fenil] dimetil metano, bis-[p(metacrilóxietóxi)]fenil] dimetil metano, e similares. Além disso, exemplos específicos de monômeros de amidas de compostos de amina polivalente e ácidos carboxílicos insaturados incluem metileno bisacrilamida, metileno bismetacrilamida, 1,6hexametileno bisacrilamida, 1,6-hexametileno bismetacrilamida, dietilenotriamina trisacrilamida, xilileno bisacrilamida, xilileno bismetacrilamida, e similares.

[080]Além disso, os compostos polimerizáveis de adição à base de uretano produzidos usando uma reação de adição entre um isocianato e um grupo hidróxi são também preferenciais, e exemplos específicos incluem compostos de vinil uretano tendo dois ou mais grupos vinil polimerizáveis em uma molécula obtida através da

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21/79 adição de um monômero de vinil tendo um grupo hidróxi representado pela Fórmula (b) a um composto poliisocianato tendo dois ou mais grupos isocianato em uma molécula que é descrita, por exemplo, em JP1973-041708B (JP-S48-041708B).

CH2=C(R^b4)COOCH₂CH(R^b5)OH (b) [081]Aqui, R^b4 e R^b5 representam um átomo de hidrogênio ou um grupo metila. [082]Além disso, acrilatos de uretano descritos em JP1976-037193A (JP-S51 037193A), JP1990-032293B (JP-H02-032293B), JP1990-016765B (JP-H02016765B), JP2003-344997A, e JP2006- 065210A, compostos de uretano tendo um esqueleto baseado em óxido de etileno descritos em JP1983-049860B (JP-S58049860B), JP1981-017654B (JP-S56-017654B), JP1987-039417B (JP-S62039417B), JP1987-039418B (JP-S62-039418B), JP2000-250211A e JP2007094138A, e compostos de uretano tendo um grupo hidrofílico descritos em US7153632B, JP1996-505958A (JP-H08-505958A), JP2007-293221A e JP2007293223A são também preferenciais.

[083]Dentre estes, a partir do ponto de vista de um excelente equilíbrio entre uma hidrofilicidade que afeta a capacidade de revelação e uma capacidade de polimerização que afeta a resistência à impressão, os acrilatos modificados com óxido de etileno de ácido isocianúrico tais como tris(acriloilóxietil)isocianurato e bis(acriloilóxietil) hidróxietil isocianurato são particularmente preferenciais.

[084]Apenas um composto polimerizável pode ser usado ou dois ou mais compostos polimerizáveis podem ser usados em conjunto.

[085]Os detalhes da estrutura do composto polimerizável e métodos para usar o composto polimerizável, tal como se usar o composto polimerizável isoladamente ou em conjunto e a quantidade do composto polimerizável adicionado podem ser configurados aleatoriamente de acordo com o projeto de desempenho final do precursor de chapa de impressão litográfica.

[086]O teor do composto polimerizável é de preferência de 5% em massa a

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75% em massa, mais preferencialmente de 10% em massa a 70% em massa, e particularmente preferencialmente de 15% em massa a 60% em massa da massa total da camada de gravação de imagem.

« Polímero Ligante » [087]O polímero ligante é usado principalmente com o propósito de melhorar a dureza do filme da camada de gravação de imagem. Como o polímero ligante, podem ser utilizados polímeros ligantes bem conhecidos da técnica relacionada, e são preferenciais polímeros com uma propriedade de filme. Dentre estes, é preferencial uma resina acrílica, uma resina de polivinil acetal ou uma resina de poliuretano.

[088]Como um polímero ligante preferencial, um polímero ligante que tem um grupo funcional de reticulação para melhorar a dureza do filme de uma área de imagem na cadeia principal ou em uma cadeia lateral, de um modo preferencial, em uma cadeia lateral como descrito em JP2008-195018A é exemplificado. O grupo de reticulação forma uma reticulação entre moléculas de polímero, e a cura é acelerada.

[089]Como o grupo funcional de reticulação, são preferenciais os grupos etilenicamente insaturados tais como um grupo (met)acrílico, um grupo vinila, um grupo alila ou um grupo estirila, um grupo epóxi e similares, e o grupo funcional de reticulação pode ser introduzido no polímero por uma reação polimérica ou copolimerização. Por exemplo, pode ser utilizada uma reação entre um polímero acrílico ou poliuretano com um grupo carbóxi em uma cadeia lateral e glicidil metacrilato ou uma reação entre um polímero tendo um grupo epóxi e um ácido carboxílico contendo um grupo etilenicamente insaturado tal como um ácido metacrílico.

[090]O teor do grupo de reticulação no polímero ligante é preferencialmente de 0,1 mmol a 10,0 mmol, mais preferencialmente de 0,25 mmol a 7,0 mmol e, particularmente preferencialmente de 0,5 mmol a 5,5 mmol por grama do polímero ligante.

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23/79 [091]Além disso, o polímero ligante preferencialmente tem um grupo hidrofílico. O grupo hidrofílico contribui para a concessão da capacidade de revelação em máquina para a camada de gravação de imagem. Particularmente, em um caso em que o grupo de reticulação e o grupo hidrofílico coexistem, a resistência de impressão é excelente.

[092]Exemplos do grupo hidrofílico incluem um grupo hidróxi, um grupo carbóxi, uma estrutura de alquileno óxido, um grupo amino, um grupo amônio, um grupo amida, um grupo sulfo, um grupo fosfato e similares, e, dentre estes, uma estrutura de óxido de alquileno tendo uma a nove unidades de óxido de alquileno tendo 2 ou 3 átomos de carbono é preferencial. O grupo hidrofílico pode ser conferido ao polímero ligante, por exemplo, por monômeros copolimerizantes tendo um grupo hidrofílico.

[093]De modo a controlar uma propriedade de absorção de tinta, também é possível introduzir um grupo lipofílico, tal como um grupo alquila, um grupo arila, um grupo aralquila, ou um grupo alquenila para o polímero ligante. Um grupo lipofílico pode ser introduzido no polímero ligante, por exemplo, por monômeros contendo o grupo lipofílico copolimerizante, tal como um alquil éster de ácido metacrílico.

[094]O peso molecular médio ponderai (Mw) do polímero ligante é de preferência 2.000 ou mais, mais preferencialmente 5.000 ou mais, e ainda mais preferencialmente 10.000 a 300.000.

[095]Apenas um polímero ligante pode ser usado ou dois ou mais polímeros ligantes podem ser utilizados em conjunto.

[096]O teor do polímero ligante é preferencialmente de 3% em massa a 90% em massa, mais preferencialmente de 5% em massa a 80% em massa e ainda mais preferencialmente de 10% em massa a 70% em massa da massa total da camada de gravação de imagem.

« Composto Polimérico Particulado »

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24/79 [097]O composto polimérico particulado é preferencialmente selecionado a partir do grupo que consiste de uma partícula de resina termoplástica hidrofóbica, uma partícula de resina termicamente reativa, uma partícula de resina tendo um grupo polimerizável, uma microcápsula incluindo um composto hidrofílico, e um microgel (partícula de resina reticulada). Dentre estes, é preferencial uma partícula de resina com um grupo polimerizável ou um microgel. Em uma modalidade particularmente preferencial, o composto polimérico particulado tem ao menos um grupo etilenicamente insaturado. A partir da presença do composto polimérico particulado descrito acima, um efeito para aumentar a resistência à impressão de uma parte exposta é obtido.

[098]A partícula de resina termoplástica hidrofóbica é preferencialmente uma partícula de resina termoplástica hidrofóbica descrita em Research Disclosure No. 33303 de janeiro de 1992 e as especificações de JP1997-123387A (JP-H09123387A), JP1997-131850A (JP-H09-131850A), JP1997-171249A (JP-H09171249A), JP1997-171250A (JP-H09-171250A) e EP 931647B.

[099]Como exemplos específicos de um polímero que constitui a partícula de resina termoplástica hidrofóbica, homopolímeros ou copolímeros de monômeros de etileno, estireno, vinil cloreto, metil acrilato, etil acrilato, metil metacrilato, etil metacrilato, cloreto de vinilideno, acrilonitrilo, vinilcarbazol, acrilatos ou metacrilatos tendo estruturas de polialquileno e similares e misturas dos mesmos podem ser exemplificadas. Preferencialmente, copolímeros tendo poliestireno, estireno e acrilonitrilo e polimetil metacrilato podem ser exemplificados. O diâmetro médio de partícula das partículas de resina termoplástica hidrofóbica está, de preferência, na faixa de 0,01 μιτι a 3,0 μιτι.

[0100]Como a partícula de resina termicamente reativa, uma partícula de resina com um grupo termicamente reativo é exemplificado. A partícula de resina termicamente reativa forma uma região hidrofobilizada através da reticulação por uma

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25/79 reação térmica e uma mudança em um grupo funcional neste momento.

[0101]O grupo termicamente reativo na partícula de resina tendo um grupo termicamente reativo pode ser um grupo funcional que provoca qualquer reação desde que seja formada uma ligação química, mas é preferencialmente um grupo polimerizável, e exemplos preferenciais incluem grupos etilenicamente insaturados que causam reações de polimerização de radical (por exemplo, grupos acriloíla, grupos metacriloíla, grupos vinila, grupos alila e similares), grupos polimerizáveis catiônicos (por exemplo, grupos vinila, grupos vinilóxi, grupos epóxi, grupos oxetanila e similares), grupos isocianato que causam reações de adição ou corpos bloqueados dos mesmos, grupos epóxi, grupos vinilóxi, grupos funcionais tendo átomos de hidrogênio ativos que são os seus parceiros de reação (por exemplo, grupos amino, grupos hidróxi, grupos carbóxi e similares), grupos carbóxi que causam reações de condensação, grupos hidróxi ou grupos amino que são parceiros de reação, anidridos ácidos que causam reações de adição de abertura de anel, grupos amino ou grupos hidróxi que são parceiros de reação, e similares.

[0102]Exemplos das microcápsulas incluem microcápsulas incluindo ao menos alguns dos componentes constituintes da camada de gravação de imagem como descrito em JP2001-277740A e JP2001-277742A. Os componentes constituintes da camada de gravação de imagem podem também ser adicionados fora das microcápsulas. Um aspecto preferencial da camada de gravação de imagem incluindo as microcápsulas é uma camada de gravação de imagem incluindo componentes constituintes hidrofóbicos nas microcápsulas e incluindo componentes constituintes hidrofílicos fora das microcápsulas.

[0103]Os microgéis (partículas de resina de reticulação) são capazes de conter alguns dos componentes constituintes da camada de gravação de imagem em ao menos um da superfície ou dentro da mesma. Particularmente, microgéis reativos tendo grupos de radicais polimerizáveis na superfície são preferenciais a partir do

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26/79 ponto de vista da sensibilidade de gravação de imagem ou resistência à impressão.

[0104]A fim de colocar os componentes constituintes da camada de gravação de imagem em microcápsulas ou microgéis, métodos bem conhecidos podem ser aplicados.

[0105]O diâmetro médio de partícula do composto polimérico particulado está preferencialmente em uma faixa de 0,01 pm a 3,0 pm, mais preferencialmente em uma faixa de 0,03 pm a 2,0 pm, e ainda mais preferencialmente em uma faixa de 0,10 pm a 1,0 pm. Dentro desta faixa, resolução favorável e estabilidade temporal podem ser obtidas.

[0106]Apenas um composto polimérico particulado pode ser usado ou dois ou mais compostos poliméricos particulados podem ser usados em conjunto.

[0107]O teor do composto polimérico particulado é de preferência de 5% em massa a 90% em massa da massa total da camada de gravação de imagem.

< Partícula de Resina Termoplástica >

[0108]A temperatura de transição vítrea (Tg) da partícula de resina termoplástica é de preferência de 60^Q C a 250^Q C. A Tg da partícula de resina termoplástica é mais preferencialmente de 70° C a 140° C e ainda mais preferencialmente de 80° C a 120° C.

[0109]A partícula de resina termoplástica com Tg de 60^Q C ou superior não é particularmente limitada; no entanto, dentre as partículas de resina termoplástica hidrofóbica descritas acima, as partículas de resina termoplástica hidrofóbica em que a Tg da resina é de 60° C ou superior podem ser preferencialmente exemplificadas.

[0110]O diâmetro médio de partícula da partícula de resina termoplástica é de preferência de 0,005 pm a 2,0 pm, mais preferencialmente de 0,01 pm a 1,5 pm, e particularmente preferencialmente de 0,05 pm a 1,0 pm.

[0111]Em um caso em que dois ou mais tipos de partículas de resina termoplástica são misturados em conjunto, a polidispersidade é de preferência 0,2 ou

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27/79 mais.

[0112]Entretanto, o diâmetro médio de partícula e a polidispersividade da partícula de resina termoplástica e similares na presente descrição são calculados por dispersão de luz laser.

[0113]Dois ou mais tipos de partículas de resina termoplástica podem ser usados em uma forma de mistura. Especificamente, é exemplificado o uso de ao menos dois tipos de partículas de resina termoplástica com diferentes tamanhos de partícula ou o uso de ao menos dois tipos de partículas de resina termoplástica tendo diferentes Tgs. O uso de dois ou mais tipos de partículas de resina termoplástica em uma forma de mistura melhora ainda mais a propriedade de cura do filme da área de imagem e melhora ainda mais a resistência à impressão em um caso em que as chapas de impressão litográfica são produzidas.

[0114]Em um caso em que dois ou mais tipos de partículas de resina termoplástica com diferentes Tgs são usados em uma forma de mistura, Tg de ao menos um tipo de partícula de resina termoplástica é de preferência 60^Q C ou superior. Neste momento, a diferença em Tg é de preferência 10° C ou superior e mais preferencialmente 20° C ou superior. Além disso, o teor da partícula de resina termoplástica com Tg de 60° C ou superior é de preferência de 70% em massa ou mais de todas as partículas de resina termoplástica.

[0115]A partícula de resina termoplástica pode ter um grupo de reticulação. No caso de usar um polímero de partículas finas termoplásticas tendo um grupo de reticulação, o grupo de reticulação reage termicamente devido ao calor que é gerado em uma parte exposta da imagem e forma uma reticulação entre os polímeros, a dureza do filme da área da imagem melhora, e a resistência à impressão torna-se superior. O grupo de reticulação pode ser um grupo funcional que realiza qualquer reação desde que seja formada uma ligação química e, por exemplo, grupos etilenicamente insaturados realizando uma reação de polimerização (por exemplo, um

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28/79 grupo acriloíla, um grupo metacriloíla, um grupo vinila, um grupo alila e similares), grupos isocianato realizando uma reação de adição, seus corpos bloqueados, grupos tendo um átomo de hidrogênio ativo que é seu parceiro de reação (por exemplo, um grupo amino, um grupo hidróxi, um grupo carbóxi, e os similares), grupos epóxi, de forma similar, realizando uma reação de adição, grupos amino, grupos carbóxi ou grupos hidróxi que são seu parceiro de reação, grupos carbóxi realizando uma reação de condensação e grupos hidróxi ou grupos amino, anidridos de ácido realizando uma reação de adição de abertura de anel e grupos amino ou grupos hidróxi e similares podem ser exemplificados.

[0116]Como a partícula de resina termoplástica tendo um grupo de reticulação, especificamente, grupos tendo um grupo de reticulação tal como um grupo acriloíla, um grupo metacriloíla, um grupo vinila, um grupo alila, um grupo epóxi, um grupo amino, um grupo hidróxi, um grupo carbóxi, um grupo isocianato, um anidrido de ácido e grupos que protegem os grupos descritos acima podem ser exemplificados. Estes grupos de reticulação podem ser introduzidos no polímero durante a polimerização da resina ou utilizando uma reação polimérica após a polimerização da resina.

[0117]No caso da introdução do grupo de reticulação durante a polimerização da resina, um monômero tendo o grupo de reticulação é preferencialmente polimerizado por emulsificação ou polimerizado por suspensão. Como exemplos específicos do monômero tendo o grupo de reticulação, alil metacrilato, alil acrilato, vinil metacrilato, vinil acrilato, glicidil metacrilato, glicidil acrilato, isocianatos bloqueados por 2-isocianato etil metacrilato ou um álcool do mesmo, isocianatos bloqueados por 2-isocianato etil acrilato ou um álcool do mesmo, 2-aminoetil metacrilato, 2-aminoetil acrilato, 2-hidróxietil metacrilato, 2-hidróxietil acrilato, ácido acrílico, ácido metacrílico, anidrido maleico, acrilato bifuncional, metacrilato bifuncional e similares podem ser exemplificados.

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29/79 [0118]Como a reação polimérica que utilizada no caso da introdução do grupo de reticulação após a polimerização da resina, por exemplo, uma reação polimérica descrita no documento WO96/034316A pode ser exemplificada.

[0119]As partículas de resina termoplástica podem reagir uma com a outra através do grupo de reticulação e podem reagir com um composto polimérico ou um composto de baixo peso molecular adicionado à camada de gravação de imagem.

[0120]O teor da partícula de resina termoplástica é preferencialmente de 50% em massa a 95% em massa, mais preferencialmente de 60% em massa a 90% em massa, e particularmente preferencialmente de 70% em massa a 85% em massa da massa total da camada de gravação de imagem.

« Outros Componentes » [0121]A camada de gravação de imagem pode ainda conter, como outros componentes, um composto hidrofílico de baixo peso molecular, um agente de sensibilização, um tensoativo, um agente de coloração, um agente de impressão, um inibidor de polimerização, um derivado de ácido graxo superior, um plastificante, partículas inorgânicas, um composto lamelar inorgânico, um co-sensibilizador, um agente de transferência de cadeia ou similar. Especificamente, é possível utilizar preferencialmente compostos e quantidades adicionadas descritas nos parágrafos 0171 a 0177 do documento JP2015-108141 A, parágrafos 0114 a 0159 do documento JP2008-284817A, parágrafos 0023 a 0027 do documento JP2006-091479A, parágrafo 0060 do documento US2008/0311520A e os parágrafos 0152 a 0168 e 0202 a 0222 do documento WO2015/054145A.

< Etapa de Exposição >

[0122]O método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com a modalidade da presente descrição inclui uma etapa de expor o precursor de chapa de impressão litográfica em uma forma de imagem.

[0123]Na etapa de exposição, o precursor de chapa de impressão litográfica

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30/79 exposto através de uma imagem original transparente tendo uma imagem linear, uma imagem de meio-tom e similares ou exposto por varredura a laser utilizando dados digitais, sendo deste modo exposto em uma forma de imagem. Como fontes de luz de exposição, por exemplo, um arco de carbono, uma lâmpada de mercúrio de alta pressão, uma lâmpada de xenônio, uma lâmpada de haleto de metal, uma lâmpada fluorescente, uma lâmpada de tungstênio, uma lâmpada de halogênio, um laser ultravioleta, um laser de luz visível, e um laser infravermelho são exemplificados. Em particular, um laser é preferencial, e um laser semicondutor que irradia luz com um comprimento de onda de 250 nm a 420 nm, um laser de estado sólido e uma camada semicondutora que irradia raios infravermelhos tendo um comprimento de onda na faixa de 760 nm a 1.200 nm e similares são exemplificados. No caso de usar um laser, o precursor de chapa de impressão litográfica é de preferência exposto por varredura a laser em uma forma de imagem de acordo com dados digitais. Além disso, de modo a reduzir o tempo de exposição, é preferencial utilizar um dispositivo laser de feixes múltiplos.

[0124]Esses laseres são usados sendo montados em um aparelho chamado “platesetter”, no qual a exposição é realizada em forma de imagem pelo controle de computador.

[0125]Na presente descrição, um processo de revelação pode ser realizado imediatamente após a etapa de exposição, mas também é possível fornecer uma etapa de processo de aquecimento (pré-aquecimento) entre a etapa de exposição e a etapa de revelação. Este processo de aquecimento tem um efeito de melhorar a resistência de impressão e, além disso, aumentar a uniformidade do grau de cura da imagem na superfície da chapa, e sua condição pode ser adequadamente definida desde que o efeito possa ser exibido. Como meios de aquecimento, podem ser exemplificados um forno de convecção, um radiador de infravermelhos (IR), um laser IR, um dispositivo de micro-ondas, um forno de Wisconsin, e similares, que são todos

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31/79 meios convencionais. Especificamente, o precursor de chapa de impressão litográfica pode ser aquecido mantendo o precursor de chapa de impressão litográfica a uma temperatura de pico da superfície da chapa na faixa de 70^Q C a 150^Q C por um segundo a cinco minutos, preferencialmente 80^Q C a 140^Q C para cinco segundos a um minuto e, mais preferencialmente, entre 90^Q C e 130^Q C durante 10 a 30 segundos. Dentro desta faixa, o efeito descrito acima pode ser eficientemente obtido, e não há influência adversa, tal como a deformação de uma chapa de impressão por calor, o que é preferencial.

[0126]Neste momento, é preferencial que o processo de aquecimento que é utilizado na etapa de processo de aquecimento e uma máquina de revelação, que é usada na etapa de processo de revelação, estejam conectados, e o precursor de chapa de impressão litográfica seja processado automática e continuamente. Um exemplo específico do mesmo é uma linha de fabricação de chapa na qual um platesetter e uma máquina de revelação estão conectados entre si utilizando meios de transporte tal como um transportador. Os meios de processo de aquecimento podem ser fornecidos entre o platesetter e a máquina de revelação, e os meios de aquecimento e a máquina de revelação podem ser integrados em conjunto para serem um único dispositivo.

[0127]Em um caso em que uma chapa de impressão a ser utilizada é susceptível de ser afetada pela luz ambiente em um ambiente de operação, a linha de fabricação de chapa descrita acima é de preferência protegida da luz usando um filtro, uma cobertura, ou similar. Além disso, em um caso em que o processo de aquecimento não é realizado, é preferencial que o meio de exposição esteja diretamente conectado ao processo de revelação, meio que é constituído para executar o processo de revelação e os processos são realizados automática e continuamente.

[0128]Além disso, na presente descrição, o processo de revelação pode ser

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32/79 realizado imediatamente após a etapa de exposição, mas pode ser fornecida uma etapa de lavagem com água (pré-lavagem com água) entre a etapa de exposição e a etapa de remoção com a finalidade de remover a camada de proteção ou similar.

[0129]Qualquer uma ou ambas as etapas descritas acima podem ser fornecidas.

[0130]Além disso, após o final do processo de revelação descrito abaixo e a formação de uma imagem, toda a superfície pode ser exposta a raios de luz ativos, tal como os raios ultravioletas, e a cura da área da imagem pode ser acelerada. Como uma fonte de luz para a exposição da superfície inteira, por exemplo, uma lâmpada de arco de carbono, uma lâmpada de mercúrio, uma lâmpada de gálio, uma lâmpada de haleto de metal, uma lâmpada de xenônio, uma lâmpada de tungstênio, uma variedade de laseres e similares são exemplificados. Além disso, a fim de obter resistência à impressão suficiente, a quantidade total de exposição à superfície é de preferência ao menos 10 mJ / cm² ou mais e mais preferencialmente 100 mJ / cm² ou mais.

[0131]Além disso, o precursor de chapa de impressão litográfica pode ser aquecido ao mesmo tempo que a exposição da superfície inteira, e o aquecimento permite que a resistência à impressão melhore ainda mais. Como um dispositivo de aquecimento, pode ser exemplificado um forno de convecção, um radiador IR, um laser IR, um dispositivo de micro-ondas, um forno Wisconsin e similares, que são todos meios convencionais. A temperatura da superfície da chapa neste momento é preferencialmente de 30° C a 150° C, mais preferencialmente de 35° C a 130° C, e ainda mais preferencialmente de 40° C a 120° C.

[0132]Na presente descrição, a fim de facilitar a próxima manipulação, o precursor de chapa de impressão litográfica na qual o processo de revelação e, adicionalmente, os processos por etapa de pré-aquecimento e pré-lavagem com água foram realizados e nos quais uma imagem foi formada é de preferência seco. Como

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33/79 um método de secagem, métodos tais como a secagem natural na qual o precursor de chapa de impressão litográfica é deixado em repouso, secagem por ar quente, o uso de um secador acoplado a um revestidor de goma ou uma máquina de revelação automática são exemplificados.

< Etapa de Remoção >

[0133]O método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com a modalidade da presente descrição inclui uma etapa de remover uma parte não exposta da camada de gravação de imagem exposta no precursor de chapa de impressão litográfica utilizando um revelador (em seguida também chamada de “etapa de processo de revelação”), o revelador inclui um composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato, e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi, e o pH do revelador é 5 a 10.

- Revelador [0134]No método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com a modalidade da presente descrição, um revelador tendo um pH de 5 a 10 e incluindo um composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi, será usado.

[0135]A seguir, os detalhes dos respectivos componentes do revelador serão descritos.

« Composto Específico » [0136]O revelador que é utilizado na presente descrição inclui um composto (composto específico) tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi.

[0137]Considera-se que o composto específico tem ao menos um grupo ácido

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34/79 selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato e um grupo fosfinato que são adsorventes ao suporte hidrofílico e, além disso, um grupo carbóxi hidrofílico, em que a superfície da chapa de impressão litográfica é hidrofilizada e uma propriedade de mancha, em particular, melhora a resistência a manchas e riscos.

[0138]O composto específico tem preferencialmente um grupo fosfato ou um grupo fosfonato.

[0139]O grupo fosfato, o grupo fosfonato, o grupo fosfinato e o grupo carbóxi no composto específico podem formar um sal, não apenas com um íon de metal monovalente, tal como um íon de potássio ou um íon de sódio, mas também com um íon de metal divalente, tal como um íon de cálcio ou um íon de magnésio, um íon de amônio ou similares.

[0140]O número total de grupos fosfato, grupos fosfonato e grupos fosfinato no composto específico é preferencialmente de 1 ou mais e 4 ou menos, mais preferencialmente de 1 ou mais e 3 ou menos, ainda mais preferencialmente de 1 ou 2, e particularmente de preferência 1, a partir do ponto de vista da resistência a manchas e riscos.

[0141]O número total dos grupos carbóxi no composto específico é preferencialmente de 1 ou mais e 10 ou menos, mais preferencialmente de 2 ou mais e 10 ou menos, ainda mais preferencialmente de 3 ou mais e 6 ou menos, e particularmente preferencialmente de 3 ou 4, a partir do ponto de vista da resistência a manchas e riscos.

[0142]O número total de átomos de carbono no composto específico é preferencialmente de 3 ou mais e 50 ou menos, mais preferencialmente de 3 ou mais e 20 ou menos, ainda mais preferencialmente de 4 ou mais e 12 ou menos, e particularmente preferencialmente de 5 ou mais e 10 ou menos, a partir do ponto de vista da resistência a manchas e riscos.

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35/79 [0143]Além disso, no composto específico, uma parte, que não o grupo fosfato, o grupo fosfonato, o grupo fosfinato e o grupo carbóxi, inclui preferencialmente um átomo de carbono, um átomo de hidrogênio e, quando necessário, um átomo de oxigênio.

[0144]O composto específico pode ser utilizado isoladamente ou dois ou mais compostos específicos podem ser utilizados em conjunto.

[0145]O teor do composto específico é preferencialmente de 0,1% em massa a 10% em massa, mais preferencialmente de 0,3% em massa a 8% em massa e particularmente preferencialmente de 0,5% em massa a 6% em massa da massa total do revelador. Dentro da faixa descrita acima, a resistência a manchas e riscos é superior, e a propriedade de absorção de tinta das chapas de impressão litográfica a serem obtidas é excelente.

[0146]O peso molecular do composto específico é, de um modo preferencial, de 1.000 ou menos, de um modo mais preferencial, de 600 ou menos e, de um modo particularmente preferencial, de 150 ou mais e 500 ou menos. Dentro da faixa descrita acima, a viscosidade do revelador é apropriada, e, no caso de usar uma máquina de revelação automática, é possível suprimir a deposição de um componente do revelador em um rolo da máquina de revelação automática e suprimir manchas do rolo.

[0147]Como exemplos específicos preferenciais do composto específico, por exemplo, os compostos ilustrados abaixo são exemplificados.

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H₂O₃P

X^^COOH

HjOsP^^^COOH i -2

CQOH

H₃C'^^X-'^x^^xCOOH

PO₃K₂

COOH , „ PO,H₂

I _ /

[0148]O revelador que é utilizado na presente descrição pode conter um tensoativo, tal como um tensoativo aniônico, um tensoativo não iônico, um tensoativo catiônico, ou um tensoativo de betaína.

[0149]Dentre estes, a partir do ponto de vista da resistência a manchas e riscos e a propriedade de absorção de tinta, o revelador inclui preferencialmente ao menos um selecionado a partir do grupo que consiste de um tensoativo aniônico e em um tensoativo não iônico e mais preferencialmente inclui um tensoativo aniônico e um tensoativo não iônico.

[0150]Como o tensoativo aniônico, um composto representado pela Fórmula (I) é preferencialmente exemplificado.

R¹-Y¹-X¹ (I)

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37/79 [0151]Na Fórmula (I), R¹ representa um grupo alquila, um grupo cicloalquila, um grupo alquenila, um grupo aralquila, ou um grupo arila que pode ter um substituinte.

[0152]Como o grupo alquila, por exemplo, é preferencial um grupo alquila com 1 a 20 átomos de carbono e, especificamente, um grupo metila, um grupo etila, um grupo propila, um grupo n-butila, um grupo sec-butila, um grupo hexila, um grupo 2etilhexila, um grupo octila, um grupo decila, um grupo dodecila, um grupo hexadecila, um grupo estearila e similares podem ser preferencialmente exemplificados.

[0153]O grupo cicloalquila pode ser um grupo cicloalquila monocíclico ou um grupo cicloalquila policíclico. Como o grupo cicloalquila monocíclico, é preferencial um grupo cicloalquila monocíclico com 3 a 8 átomos de carbono, e um grupo ciclopropila, um grupo ciclopentila, um grupo ciclohexila ou um grupo ciclo-octila é mais preferencial. Como o grupo de cicloalquila policíclico, por exemplo, um grupo adamantila, um grupo norbornila, um grupo de isobornila, um grupo canfanila, um grupo diciclopentila, um grupo cc-pinel, um grupo triciclodecanila, e similares podem ser preferencialmente exemplificados.

[0154]Como o grupo alquenila, por exemplo, um grupo alquenila tendo 2 a 20 átomos de carbono é preferencial, e, especificamente, um grupo vinila, um grupo alila, um grupo butenila, um grupo ciclohexenila e similares podem ser preferencialmente exemplificados.

[0155]Como o grupo aralquila, por exemplo, um grupo aralquila tendo 7 a 12 átomos de carbono é preferencial, e, especificamente, um grupo benzila, um grupo fenetila, um grupo naftilmetila e similares podem ser preferencialmente exemplificados.

[0156]Como o grupo arila, por exemplo, é preferencial um grupo arila com 6 a 15 átomos de carbono e, especificamente, um grupo fenila, um grupo tolila, um grupo dimetilfenila, um grupo 2,4,6-trimetilfeniIa, um grupo naftila, um grupo antrila, um grupo

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9,1O-dimetóxiantrila e similares podem ser preferencialmente exemplificados.

[0157]Além disso, como o substituinte, grupos atômicos não metálicos monovalentes, excluindo um átomo de hidrogênio, são usados, e exemplos preferenciais dos mesmos incluem um átomo de halogênio (F, Cl, Br ou I), um grupo hidróxi, um grupo alcóxi, um grupo arilóxi, um grupo acila, um grupo amida, um grupo éster, um grupo acilóxi, um grupo carbóxi, um grupo ânion de ácido carboxílico, um grupo ânion de ácido sulfônico, e similares.

[0158]Como exemplos específicos do grupo alcóxi neste substituinte, grupos alcóxi preferencialmente com 1 a 40 átomos de carbono e mais preferencialmente com 1 a 20 átomos de carbono, tal como um grupo metóxi, um grupo etóxi, um grupo propilóxi, um grupo isopropilóxi, um grupo butilóxi, um grupo pentilóxi, um grupo hexilóxi, um grupo dodecilóxi, um grupo estearilóxi, um grupo metóxietóxi, um grupo poli (etilenóxi) e um grupo poli (propilenóxi) são exemplificados. Como o grupo arilóxi, grupos arilóxi tendo entre 6 e 18 átomos de carbono, tal como um grupo fenóxi, um grupo tolilóxi, um grupo xililóxi, um grupo mesitilóxi, um grupo cumenilóxi, um grupo metóxifenilóxi, um grupo etóxifenilóxi, um grupo clorofenilóxi, um bromofenilóxi grupo e um grupo naftilóxi são exemplificados. Como o grupo acila, são exemplificados grupos acila com 2 a 24 átomos de carbono, tal como um grupo acetila, um grupo propanoíla, um grupo butanoíla, um grupo benzoíla e um grupo naftoíla. Como o grupo amida, grupos amida com 2 a 24 átomos de carbono, como um grupo acetamida, um grupo amida de ácido propiônico, um grupo amida de ácido dodecanoico, um grupo amida de ácido palmítico, um grupo amida de ácido esteárico, um grupo amida de ácido benzoico, e um grupo amida de ácido naftoico são exemplificados. Como o grupo acilóxi, são exemplificados grupos acilóxi tendo 2 a 20 átomos de carbono, tal como um grupo acetóxi, um grupo propanoilóxi, um grupo benzoilóxi e um grupo naftoilóxi. Como o grupo éster, os grupos éster têm 1 a 24 átomos de carbono, tal como um grupo metil éster, um grupo etil éster, um grupo propil éster, um grupo hexil

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39/79 éster, um grupo octil éster, um grupo dodecil éster e um grupo estearil éster são exemplificados. O substituinte pode ser um substituinte formado por uma combinação de dois ou mais substituintes descritos acima.

X¹ representa um grupo sulfonato, um grupo sal monoéster de ácido sulfúrico, um grupo carbóxilato, ou um grupo fosfato.

Y¹ representa uma ligação simples, -C_nH2n-, -Cn-mH2(nm)OCmH2m-, -O(CH2CH2O)_n-, -O-(CH2CH2CH₂O)n-, -CO-NH-, ou um grupo de ligação divalente formado de uma combinação de dois ou mais dos mesmos e que satisfaz n > 1 e n > m > 0.

[0159]Dentre estes, dentre os compostos representados pela Fórmula (I), um composto representado pela Fórmula (l-A) ou (l-B) é preferencial a partir do ponto de vista da resistência a manchas e riscos.

R^A1 L/Ã R^a?

JL ,χχΑ R< Js.

jf jT γΑ1__χΑ4 jf ζΓ (l-A) (I - B j [0160]Na Fórmula (IA) e Fórmula (IB), RA¹ a RA¹⁰ representam, cada um, independentemente, um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila, nA representa um número inteiro de 1 a 3, XA¹ e XA² representam, cada um, independentemente, um grupo sulfonato, grupo sal monoéster de ácido sulfúrico, um grupo carbóxilato, ou um grupo fosfato, e YA¹ e YA² representam, cada um, independentemente, uma ligação SimpleS, -CnH2n-, -Cn-mH2(nm)OCmH2m-, -O-(CH2CH2O)rr, -O-(CH2CH2CH2O)rr, -CONH-, ou um grupo de ligação divalente formado por uma combinação de dois ou mais dos mesmos e que satisfaz n > 1 e n > m >0, eo total dos números dos átomos de carbono em RA¹ a R^A5 ou R^A6 a RA¹⁰ e YA¹ ou YA² é três ou mais.

[0161 ]No composto representado pela Fórmula (IA) ou Fórmula (IB), o número total de átomos de carbono em RA¹ a R^A5 e Y^1A ou R^A6 a RA¹⁰ e YA² é de preferência

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40/79 ou menos e mais preferencialmente 4 a 20. A estrutura do grupo alquila descrito acima pode ser linear ou ramificada.

XA¹ e XA² no composto representado pela Fórmula (l-A) ou Fórmula (l-B) são de preferência um grupo sulfonato ou um grupo carbóxilato. Em adição, a estrutura de sal em XA¹ e XA² é de preferência um sal de metal alcalino, uma vez que o sal de metal alcalino tem uma solubilidade favorável, particularmente em solventes à base de água. Dentre eles, um sal de sódio ou um sal de potássio é particularmente preferencial.

[0162]Além disso, em relação ao composto representado pela Fórmula (l-A) ou Fórmula (l-B), é possível fazer referência à descrição dos parágrafos 0019 a 0037 do documento JP2007-206348A.

[0163]Além disso, como o tensoativo aniônico, é possível utilizar preferencialmente compostos descritos nos parágrafos 0023 a 0028 do documento JP2006-065321 A.

[0164]Além disso, como o tensoativo não iônico, polioxietileno alquil éteres, polioxietileno alquil fenil éteres, polioxietileno polistiril fenil éter, ésteres parciais de glicerina e ácidos alifáticos, ésteres parciais de sorbitano e ácidos alifáticos, ésteres parciais de pentaeritritol e ácido alifático, propileno glicol éster de ácido mono alifático, éster parcial de sacarose e ácido alifático, polioxietileno ésteres parciais de sorbitano e ácido alifático, polioxietileno ésteres parciais de sorbitol e ácidos alifáticos, polietileno glicol ésteres de ácido alifático, ésteres parciais de poliglicerina e ácido alifático, polioxietileno ésteres parciais de glicerina e ácidos alifáticos, polioxietileno diglicerinas, dietanolamidas de ácidos alifáticos, Ν,Ν-bis -2-hidróxialquilaminas, polioxietileno alquilamina, éster de trietanolamina de ácido alifático, óxido de trialquilamina, polioxietileno fenil alquil éteres, copolímeros em bloco de polioxietileno - polióxipropileno e similares são exemplificados.

[0165]Em adição, os aductos de oxietileno à base de acetileno glicol e à base

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41/79 de acetileno álcool, e os tensoativos à base de flúor e outros também podem ser utilizados da mesma maneira. Dois ou mais tensoativos descritos acima podem ser utilizados em conjunto.

[0166]Como o tensoativo não iônico, um tensoativo à base de éter aromático não iônico representado pela Fórmula (N1) é particularmente preferencialmente exemplificado.

X^N-Y^N-O-(A¹)nB-(A²)mB-H (N1) [0167]Na fórmula, X^N representa um grupo aromático que pode ter um substituinte, Y^N representa uma ligação simples ou um grupo alquileno tendo 1 a 10 átomos de carbono, A¹ e A² são grupos mutuamente diferentes e são representados por qualquer um de -CH2CH2O- ou -CH2CH(CH3)O-, nB e mB representam, cada um independentemente, um número inteiro de 0 a 100; aqui, nB e mB não são zero ao mesmo tempo e, em um caso em que qualquer de nB ou mB é zero, nB e mB não são um.

[0168]Na fórmula, como 0 grupo aromático como X^N, um grupo fenila, um grupo naftila, um grupo antranila e similares são exemplificados. Estes grupos aromáticos podem ter um substituinte. Como 0 substituinte, os grupos orgânicos tendo 1 a 100 átomos de carbono são exemplificados. Entretanto, na fórmula, em um caso em que tanto A quanto B estão presentes, 0 tensoativo pode ser um copolímero aleatório ou em bloco.

[0169]Como exemplos específicos do grupo orgânico tendo 1 a 100 átomos de carbono, grupos hidrocarbonetos alifáticos e grupos hidrocarbonetos aromáticos que podem ser saturados ou insaturados e podem ser lineares ou ramificados, por exemplo, um grupo alquila, um grupo alquenila, um grupo alquinila, grupo arila, um grupo aralquila e similares, adicionalmente, um grupo alcóxi, um grupo arilóxi, um grupo N-alquilamino, um grupo N,N- dialquilamino, um grupo N-arilamino, um grupo Ν,Ν-diarilamino, um grupo N-alquil-N-arilamino, um grupo acilóxi, um grupo

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42/79 carbamoilóxi, um grupo N-alquilcarbamoilóxi, um grupo N-arilcarbamoilóxi, um grupo Ν,Ν-dialquilcarbamoilóxi, um grupo N, N-diarilcarbamoilóxi, um grupo N-alquil-Narilcarbamoilóxi, um grupo acilamino, um grupo N-alquilacilamino, um grupo Narilacilamino, um grupo acila, um grupo alcóxicarbonilamino, um grupo alcóxicarbonila, um grupo arilóxicarbonila, um grupo carbamoíla, um grupo Nalquilcarbamoíla, um grupo Ν,Ν-dialquilcarbamoíla, um grupo N-arilcarbamoíla, um grupo Ν,Ν-diarilcarbamoíla, um grupo N-alquil-N-arilcarbamoíla, uma cadeia de polióxialquileno, os grupos orgânicos descritos acima aos quais uma cadeia de polióxialquileno se liga, e similares. O grupo alquila pode ser linear ou ramificado.

[0170]Além disso, como o tensoativo não iônico, é possível utilizar preferencialmente compostos descritos nos parágrafos 0030 a 0040 do documento JP2006-065321 A.

[0171 ]O tensoativo pode ser usado isoladamente ou dois ou mais agentes tensoativos podem ser utilizados em conjunto.

[0172]O teor do tensoativo é preferencialmente de 1% em massa a 25% em massa, mais preferencialmente de 2% em massa a 20% em massa, ainda mais preferencialmente de 3% em massa a 15% em massa, e particularmente preferencialmente de 5% em massa a 10% em massa da massa total do revelador. Em um caso em que o teor do tensoativo está na faixa descrita acima, a resistência a manchas e riscos é superior, a dispersibilidade da escuma de revelação é excelente, e a propriedade de absorção de tinta das chapas de impressão litográfica a serem obtidas é excelente.

[0173]Além disso, no caso da utilização conjunta do tensoativo não iônico e do tensoativo aniônico, o teor do tensoativo não iônico é de preferência superior ao teor do tensoativo aniônico. No aspecto descrito acima, a capacidade de revelação é excelente, e a resistência a manchas e riscos é superior.

[0174]Além disso, no caso da utilização conjunta do tensoativo não iônico e

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43/79 do tensoativo aniônico, a partir do ponto de vista da capacidade de revelação e resistência a manchas e riscos, a relação em massa (o tensoativo não iônico I o tensoativo aniônico) do teor do tensoativo não iônico para o teor do tensoativo aniônico no revelador é de preferência 1,2:1,0 a 5,0:1,0, mais preferencialmente 1,5:1,0 a 4,0:1,0, e particularmente preferencialmente 2,0:1,0 a 3,0:1,0.

« Composto Polimérico Solúvel em Água » [0175]A partir do ponto de vista de ajustar a viscosidade do revelador e proteger a superfície da chapa de uma chapa de impressão litográfica a ser obtida, o revelador que é utilizado na presente descrição pode incluir um polímero solúvel em água.

[0176]Como um polímero solúvel em água, o revelador pode conter um composto polimérico solúvel em água, tal como um polissacarídeo de soja, amido modificado, goma arábica, dextrina, um derivado de fibrina (por exemplo, carbóximetil celulose, carbóxietil celulose, metil celulose ou similares) e um produto modificado dos mesmos, pululano, polivinil álcool e um derivado do mesmo, polivinil pirrolidona, um copolímero poliacrilamida e acrilamida, um copolímero de vinil metil éter / anidrido maleico, um copolímero de vinil acetato / anidrido maleico, ou um copolímero de estireno / anidrido maleico.

[0177]Como o polissacarídeo de soja, os polissacarídeos de soja conhecidos na técnica relacionada podem ser usados, e, por exemplo, como produtos comercialmente disponíveis, existe o SOYAFIBE (nome comercial, fabricado por Fuji Oil Co., Ltd.), e é possível usar uma variedade de graus de polissacarídeos de soja. Os polissacarídeos de soja que podem ser preferencialmente utilizados têm uma viscosidade de 10% em massa de solução aquosa em uma faixa de 10 mPa / s a 100 mPa / s.

[0178]Como o amido modificado, o amido representado pela Fórmula (III) é preferencial. Como o amido representado pela Fórmula (III), qualquer amido tal como

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44/79 amido de milho, de batata, de tapioca, de arroz ou de trigo pode ser usado. O amido pode ser modificado utilizando um método no qual o amido é decomposto utilizando um ácido, uma enzima ou similar para o número de resíduos de glicose por molécula em uma faixa de 5 a 30 e, além disso, é adicionado oxipropileno em um álcali.

[0179]Na fórmula, o grau de eterificação (grau de substituição) está na faixa de 0,05 a 1,2 por unidade de glicose, n representa um número inteiro de 3 a 30, e m representa um número inteiro de 1 a 3.

[0180]Dentre os compostos poliméricos solúveis em água, os polissacarídeos de soja, o amido modificado, a goma arábica, a dextrina, a carbóximetil celulose, o polivinil álcool e similares são particularmente preferenciais.

[0181]Dois ou mais compostos poliméricos solúveis em água podem ser utilizados em conjunto.

[0182]O revelador não contém preferencialmente composto polimérico solúvel em água ou contém um composto polimérico solúvel em água em um teor superior a 0% em massa e 1% em massa ou menos da massa total do revelador, mais preferencialmente não contém composto polimérico solúvel em água ou contém um composto polimérico solúvel em água em um teor superior a 0% em massa e 0,1% em massa ou menos da massa total do revelador, ainda mais preferencialmente não contém nenhum composto polimérico solúvel em água ou contém um composto polimérico solúvel com um teor superior a 0% em massa e 0,05% em massa ou menos da massa total do revelador e, de um modo particularmente preferencial, não contém nenhum composto polimérico solúvel em água. No aspecto descrito acima, a viscosidade do revelador é apropriada, e é possível suprimir a deposição de escuma

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45/79 de revelação ou similar em um elemento de rolo tal como uma máquina de revelação automática.

« Outros Aditivos » [0183]O revelador que é utilizado na presente descrição pode conter, além dos componentes descritos acima, um agente molhante, um conservante, um composto quelato, um antiformador de espuma, um ácido orgânico, um solvente orgânico, um ácido inorgânico, um sal inorgânico, ou similares.

[0184]Como o agente molhante, etileno glicol, propileno glicol, trietileno glicol, butileno glicol, hexileno glicol, dietileno glicol, dipropileno glicol, glicerina, trimetilolpropano, diglicerina, e similares são preferencialmente utilizados. Estes agentes molhantes podem ser usados isoladamente ou dois ou mais agentes molhantes podem ser utilizados em conjunto. O teor do agente molhante é, de um modo preferencial, 0,1% em massa a 5% em massa da massa total do revelador.

[0185]Como o conservante, fenol ou um derivado do mesmo, formalina, um derivado de imidazol, desidroacetato de sódio, um derivado de 4-isotiazolin-3-ona, benzisotiazolin-3-ona, 2-metil-4-isotiazolin-3-ona, um derivado de benzotriazol, um derivado de amidina guanidina, um sal de amônio quaternário, um derivado de piridina, quinolina, guanidina ou similares, diazina, um derivado de triazol, oxazol, um derivado de oxazina, 2-bromo-2-nitropropano-1,3-diol à base de nitrobromo álcool, 1,1 -dibromo-1 -nitro-2- etanol, 1,1 -dibromo-1 -nitro-2-propanol, ou similares, podem ser preferencialmente utilizados.

[0186]A quantidade de conservante adicionado precisa ser uma quantidade em que o conservante exiba de forma estável um efeito em relação a bactérias, fungos, leveduras e similares, e que varia dependendo do tipo de bactérias, fungos e leveduras e está, de preferência, em uma faixa de 0,01% em massa a 4% em massa da massa total do revelador. Além disso, dois ou mais conservantes são preferencialmente utilizados em conjunto de modo a serem eficazes para uma

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46/79 variedade de fungos e bactérias.

[0187]Como o composto quelato, por exemplo, ácido etilenodiamino tetracético, sais de potássio do mesmo, e sais de sódio do mesmo; ácido dietilenotriamino penta-acético, seus sais de potássio e seus sais de sódio; ácido trietilenotetramino-hexa-acético, seus sais de potássio e seus sais de sódio; ácido hidróxietiletilenodiamino triacético, seus sais de potássio e seus sais de sódio; ácido nitrilotriacético e seus sais de sódio; ácido 1 -hidróxietano-1,1 -difosfórico, seus sais de potássio e seus sais de sódio; e ácidos fosfônicos orgânicos tais como aminotri(metileno fosfonato), seus sais de potássio e seus sais de sódio, podem ser exemplificados. Em vez de sais de sódio e sais de potássio dos agentes quelantes, os sais de aminas orgânicas também são eficazes.

[0188]O agente quelante é preferencialmente um agente quelante que está presente de forma estável em uma composição líquida de processo e não prejudica uma propriedade de impressão. O teor do agente quelante é de preferência de 0,001 % em massa a 1,0% em massa da massa total do revelador.

[0189]Como o antiformador de espuma, é possível usar um composto de autoemulsificação comum tipo silicone, tipo emulsificação, ou composto não iônico tendo um equilíbrio hidrofílico-lipofílico (HLB) de 5 ou menos. Um antiformador de espuma de silicone é preferencial.

[0190]Entretanto, na presente descrição, um tensoativo à base de silicone é considerado como o antiformador de espuma.

[0191 ]O teor do antiformador de espuma está preferencialmente em uma faixa de 0,001% em massa a 1,0% em massa da massa total do revelador.

[0192]Como o ácido orgânico, ácido cítrico, ácido acético, ácido oxálico, ácido malônico, ácido salicílico, ácido caprílico, ácido tartárico, ácido málico, ácido lático, ácido levulínico, ácido p-toluenossulfônico, ácido xilenossulfônico, ácido fítico, ácido fosfônico orgânico, e similares são exemplificados. O ácido orgânico também pode

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47/79 ser utilizado na forma de um sal de metal alcalino ou sal de amônio do mesmo. O teor do ácido orgânico é de preferência de 0,01% em massa a 0,5% em massa da massa total do revelador.

[0193]Como o solvente orgânico que pode estar contido, por exemplo, hidrocarbonetos alifáticos (hexano, heptano, “ISOPAR E, H, G” (fabricado por Esso Chemical Co., Ltd.), gasolina, querosene e similares), hidrocarbonetos aromáticos (tolueno, xileno e similares), hidrocarbonetos halogenados (metileno dicloreto, etileno dicloreto, tricloroetileno, monoclorobenzeno e similares), solventes polares e similares são exemplificados.

[0194]Como os solventes polares, álcoois (metanol, etanol, propanol, isopropanol, benzil álcool, etileno glicol monometil éter, 2-etóxietanol, dietileno glicol momoetil éter, dietileno glicol monohexil éter, trietileno glicol monometil éter, propilenoglicol monoetil éter, propileno glicol monometil éter, polietileno glicol monometil éter, polipropileno glicol, tetraetileno glicol, etileno glicol monobutil éter, etileno glicol monobenzil éter, etileno glicol monofenil éter, metil fenil carbinol, n-amil álcool, metil amil álcool e similares), cetonas (acetona, metil etil cetona, etil butil cetona, metil isobutil cetona, ciclohexanona e similares), ésteres (etil acetato, propil acetato, butil acetato, amil acetato, benzil acetato, metil lactato, butil lactato, etileno glicol monobutil acetato, propileno glicol monometil éter acetato, dietileno glicol acetato, dietil ftalato, butil levulinato, e similares), outros solventes polares (trietil fosfato, tricresil fosfato, N-feniletanolamina, N-fenildietanolamina e similares), e similares, são exemplificados.

[0195]Além disso, em um caso em que o solvente orgânico não é solúvel em água, também é possível tornar o solvente orgânico solúvel em água usando um tensoativo ou similar e, em seguida, usar o solvente orgânico, e, em um caso em que o revelador contém o solvente orgânico, a partir do ponto de vista de segurança e inflamabilidade, a concentração do solvente no revelador é preferencialmente menor

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48/79 do que 40% em massa.

[0196]Como o ácido inorgânico e o sal inorgânico, ácido fosfórico, ácido metafosfórico, fosfato de amônio primário, fosfato de amônio secundário, fosfato de sódio primário, fosfato de sódio secundário, fosfato de potássio primário, fosfato de potássio secundário, tripolifosfato de sódio, pirofosfato de potássio, hexametafosfato de sódio, nitrato de magnésio, nitrato de sódio, nitrato de potássio, nitrato de amônio, sulfato de sódio, sulfato de potássio, sulfato de amônio, sulfito de sódio, sulfito de amônio, hidrogênio sulfato de sódio, sulfato de níquel e similares. O teor do sal inorgânico é de preferência de 0,01% em massa a 0,5% em massa da massa total do revelador.

[0197]O revelador que é utilizado na presente descrição é obtido por dissolução ou dispersão dos respectivos componentes descritos acima em água, conforme necessário. A concentração do teor de sólidos do revelador é de preferência de 2% em massa a 25% em massa. Além disso, como o revelador, também é possível produzir um líquido concentrado e, no momento da utilização, diluir o líquido concentrado com água.

[0198]Além disso, o revelador que é utilizado na presente descrição é de preferência um revelador aquoso.

[0199]O pH do revelador que é utilizado na presente descrição é de 5 a 10, preferencialmente de 6 a 9, e mais preferencialmente de 7 a 9. A partir do ponto de vista da capacidade de revelação e da dispersão da camada de gravação de imagem, é vantajoso definir a valor do pH como sendo alto; no entanto, em relação a uma propriedade de impressão, particularmente mancha, é vantajoso definir o valor do pH como baixo.

[0200]Além disso, a partir do ponto de vista da dispersibilidade da escuma de revelação, o revelador que é utilizado na presente descrição contém preferencialmente um composto de álcool.

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49/79 [0201]Como o composto de álcool, metanol, etanol, propanol, isopropanol, benzil álcool e similares são exemplificados. Entre estes, o benzil álcool é preferencial.

[0202]0 teor do composto de álcool é de preferência de 0,01% em massa a 5% em massa, mais preferencialmente 0,1% em massa a 2% em massa, e particularmente preferencialmente 0,2% em massa a 1 % em massa da massa total do revelador a partir do ponto de vista da dispersibilidade da escuma de revelação.

- Método do Processo de Revelação [0203]Na etapa de remoção (etapa do processo de revelação), no caso de um processo manual, como um método de revelação, por exemplo, é preferencialmente exemplificado um método em que uma solução aquosa é suficientemente embebida em uma esponja ou algodão absorvente, o precursor de chapa de impressão litográfica é processado enquanto se esfrega toda a superfície da chapa e, após o final do processo, o precursor de chapa de impressão litográfica é suficientemente seco. No caso de um processo de imersão, por exemplo, é preferencialmente exemplificado um método no qual o precursor de chapa de impressão litográfica é imerso em uma almofada ou tanque profundo preenchido com uma solução aquosa e agitado por cerca de 60 segundos e então suficientemente seco enquanto é esfregado com um algodão absorvente, uma esponja ou similar.

[0204]No processo de revelação, um dispositivo tendo uma estrutura simplificada e uma etapa simplificada é preferencialmente usado.

[0205]Em um processo de revelação da técnica relacionada, uma camada de proteção é removida por uma etapa anterior de lavagem com água, em seguida, a revelação é realizada usando um revelador alcalino, depois disso, um álcali é removido em uma etapa pós-lavagem com água, um processo de goma é realizado em uma etapa de extração de goma, e o precursor de chapa de impressão litográfica é seco na etapa de secagem.

[0206]Na presente descrição, é possível realizar a revelação e a extração de

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50/79 goma ao mesmo tempo usando um único líquido. Por isso, a etapa pós-lavagem com água e a etapa de extração de goma não são particularmente necessárias, e é preferencial realizar a revelação e a extração de goma utilizando um único líquido e depois realizar a etapa de secagem conforme necessário. Como a goma, polímeros, mais preferencialmente, um composto polimérico solúvel em água e um tensoativo são exemplificados.

[0207]Além disso, é preferencial efetuar a remoção da camada de proteção, revelação e extração de goma ao mesmo tempo utilizando um único líquido sem executar a etapa de pré-lavagem com água. Além disso, é preferencial, após a revelação e a remoção de goma, remover o excesso de revelador usando um rolo de pressão e depois secar o precursor de chapa de impressão litográfica.

[0208]Na etapa de remoção (etapa do processo de revelação) na presente descrição, um método no qual o precursor de chapa de impressão litográfica é imerso no revelador uma vez ou um método no qual o precursor de chapa de impressão litográfica é imerso no revelador duas vezes ou mais pode ser usado. Dentre estes, é preferencial um método no qual o precursor de chapa de impressão litográfica é imerso no revelador uma ou duas vezes.

[0209]Para a imersão, o precursor de chapa de impressão litográfica exposto pode ser imerso em um tanque de revelador preenchido com o revelador ou o revelador pode ser soprado sobre a superfície da chapa do precursor de chapa de impressão litográfica exposto por meio de pulverização ou similar.

[0210]Entretanto, na presente descrição, mesmo no caso de imergir o precursor de chapa de impressão litográfica no revelador duas vezes ou mais, um caso em que o precursor de chapa de impressão litográfica é imerso duas vezes ou mais no mesmo revelador ou um revelador e outro revelador (líquido cansado) no qual os componentes da camada de gravação de imagem são dissolvidos ou dispersos devido ao processo de revelação é considerado como o processo de revelação

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51/79 usando um único líquido (processo de único líquido).

[0211]Além disso, no processo de revelação, um elemento de esfregação é preferencialmente usado, e, em um banho de revelação para remover a área sem imagem da camada de gravação de imagem, o elemento de esfregação, tal como uma escova, é preferencialmente instalado.

[0212]O processo de revelação na presente descrição pode ser realizado de acordo com um método comum a uma temperatura de preferencialmente de 0^o C a 60^Q C e mais preferencialmente de 15^Q C a 40^Q C, por exemplo, imergindo o precursor de chapa de impressão litográfica exposto no revelador e esfregando o precursor de chapa de impressão litográfica com uma escova ou direcionando um líquido de processo preparado em um tanque externo usando uma bomba, soprando o líquido de processo para o precursor de chapa de impressão litográfica a partir de um bico de pulverização, e esfregando o precursor de chapa de impressão litográfica com uma escova. Este processo de revelação pode ser realizado continuamente várias vezes. Por exemplo, depois que um revelador preparado em um tanque externo é direcionado usando uma bomba e soprado para o precursor de chapa de impressão litográfica a partir de um bico de pulverização, e o precursor de chapa de impressão litográfica é esfregado com uma escova, novamente, é possível soprar o revelador a partir do bico de pulverização e esfregar o precursor de chapa de impressão litográfica com a escova. No caso de realizar o processo de revelação usando uma máquina de revelação automática, o revelador fica mais cansado devido a um aumento na quantidade de processo e, portanto, é preferencial restaurar a capacidade de processo usando um líquido suplementar ou um revelador novo.

[0213]No processo de revelação na presente descrição, também é possível usar uma máquina de revestimento de goma ou uma máquina de revelação automática que é conhecida na técnica relacionada para chapas pré-sensibilizadas (chapas PS) e computador para chapas (CTP). No caso de usar uma máquina de

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52/79 revelação automática, por exemplo, é possível aplicar qualquer método de um método no qual um revelador preparado em um tanque de revelação ou um revelador preparado em um tanque externo é direcionado usando uma bomba e soprado para um precursor de chapa de impressão litográfica a partir de um bico de pulverização, um método no qual uma chapa de impressão é imersa e transportada em um líquido em um tanque preenchido com um revelador usando um rolo guia ou similar, ou um método no qual apenas uma quantidade necessária de um revelador substancialmente não utilizado é fornecido para cada chapa. Em qualquer um dos métodos, um mecanismo de esfregação, tal como uma escova ou um rolo moulton, é mais preferencialmente fornecido. Por exemplo, é possível usar máquinas de revelação automática disponíveis comercialmente (Clean Out Unit C85 / C125, Clean Out Unit+ C851120, FCF 85V, FCF 125V, FCF News (fabricada por Glunz & Jensen), Azura CX85, Azura CX125, Azura CX150 (AGFA GRAPHICS)). Além disso, também é possível usar um dispositivo no qual uma parte de exposição a laser e uma parte de máquina de revelação automática são integradamente combinadas.

[0214]O método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com a modalidade da presente descrição não inclui, após a etapa de remoção, uma etapa de lavar uma superfície de uma chapa de impressão litográfica obtida com água e uma etapa de dessensibilizar a superfície da chapa de impressão litográfica obtida. No método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com a modalidade da presente descrição, é possível utilizar um processo de líquido único utilizando o revelador, e a etapa de lavagem com água e a etapa de dessensibilização não são necessárias.

[0215]Além disso, o método para produzir uma chapa de impressão litográfica de acordo com a modalidade da presente descrição inclui, de preferência, após a etapa de remoção, uma etapa de secagem da chapa de impressão litográfica obtida.

[0216]A etapa de secagem pode também ser executada usando um forno ou

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53/79 executada soprando ar seco. Além disso, ambos os métodos podem ser combinados. A temperatura de secagem é preferencialmente de 30° C a 250° C e mais preferencialmente de 35° C a 160° C. O tempo de secagem é de preferência de 3 segundos a 180 segundos e mais preferencialmente de 5 segundos a 90 segundos. A etapa de secagem é realizada combinando apropriadamente uma temperatura de secagem e um tempo de secagem desde que o desempenho do precursor de chapa de impressão litográfica não seja adversamente afetado.

Exemplos [0217]Em seguida, a presente descrição será descrita em detalhes usando exemplos, mas a presente descrição não é limitada aos mesmos. No entanto, nos presentes exemplos, “partes” indica “partes por massa”, a menos que seja descrito de outra forma.

[Exemplos] (Exemplos 1 a 32 e Exemplos Comparativos 1 a 6) < Produção de Suporte 1 >

[0218]A fim de remover o óleo de rolamento na superfície de uma chapa de alumínio 1 de 0,3 mm de espessura (material JIS-A-1050), foi executado um processo de desengorduramento utilizando uma solução aquosa a 10% em massa de aluminato de sódio a 50° C por 30 segundos, e depois, a superfície da chapa de alumínio foi granulada utilizando três escovas de náilon implantadas tendo diâmetros de 0,3 mm e uma suspensão de pedra-pomes tendo um diâmetro médio de 25 pm e água (gravidade específica: 1,1 g / cm³) e bem lavada com água. Esta chapa foi gravada por imersão em solução aquosa a 25% em massa de hidróxido de sódio a 45° C por nove segundos, lavada com água e posteriormente imersa em 20% em massa de ácido nítrico a 60° C por 20 segundos, e foi lavada com água. A quantidade gravada da superfície granulada nesse momento era de cerca de 3 g / m².

[0219]Em seguida, um processo de rugosidade eletroquímica foi

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54/79 continuamente realizado usando uma tensão de corrente alternada de 60 Hz. Uma solução eletrolítica nesse momento era uma solução aquosa a 1 % em massa de ácido nítrico (incluindo 0,5% em massa de íons de alumínio), e a temperatura do líquido era de 50° C. O processo de rugosidade eletroquímica foi realizado utilizando uma forma de onda de alimentação de corrente alternada na qual o tempo TP obtido para o valor de corrente atingir o pico a partir de zero foi de 0,8 ms e a relação de trabalho foi 1:1, e o processo de rugosidade eletroquímica foi realizado usando uma corrente alternada de onda retangular trapezoidal e um eletrodo de carbono como um contraeletrodo. Como ânodo auxiliar, a ferrita foi usada. A densidade de corrente foi de 30 A / dm² em termos do valor de pico da corrente, e 5% da corrente proveniente da fonte de alimentação foi dividida no anodo auxiliar. Em relação à quantidade de eletricidade durante a eletrólise de ácido nítrico, a quantidade de eletricidade foi de 175 C / dm²em um caso em que a chapa de alumínio serviu como o eletrodo positivo. Depois disso, a chapa foi lavada com água por meio de pulverização.

[0220]Em seguida, um processo de rugosidade eletroquímica foi executado utilizando o mesmo método da eletrólise de ácido nítrico em solução aquosa a 0,5% em massa de ácido clorídrico (incluindo 0,5% em massa de íons de alumínio) e uma solução eletrolítica tendo temperatura de líquido de 50^Q C abaixo de uma condição da quantidade de eletricidade de 50 C / dm² em um caso no qual a chapa de alumínio serviu como o eletrodo positivo, e então, a chapa foi lavada com a água por meio de pulverização.

[0221 ]Em seguida, 2,5 g / m² de filme anodizado de corrente contínua foram fornecidos nesta chapa a uma densidade de corrente de 15 A / dm² usando uma solução aquosa a 15% em massa de ácido sulfúrico (incluindo 0,5% em massa de íons de alumínio) como uma solução eletrolítica, em seguida, lavada com água e seca. A rugosidade em relação à linha média (Ra) deste substrato foi medida usando uma agulha com um diâmetro de 2 μιτι e revelou-se ser de 0,51 μιτι.

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55/79 [0222]Em seguida, o seguinte líquido de camada de subcapa (1) foi aplicado de modo que a quantidade de revestimento seco atingisse 15 mg / m², produzindo assim um suporte 1 que foi utilizado no experimento a seguir.

< Líquido da Camada de Subcapa (1) >

• Composto para a camada de subcapa (1) com a seguinte estrutura: 0,18 partes • Ácido hidróxietil iminodiacético: 0,10 partes • Metanol: 55,24 partes • Água: 6,15 partes ch₃

J ] ch₃

O O-|cH₂-CH2~O-^~PO₃H₂ —ÇH₂-SO₃H ch₃ ch₃

Composto para camada de subcapa (1) Mw: 100.000 [0223]Entretanto, os valores numéricos no lado inferior direito dos parênteses de unidades constitucionais individuais no composto para uma camada de subcapa (1) representam relações em massa, e um valor numérico no lado inferior direito da unidade etilenóxi representa o número de vezes de repetição.

< Produção de Suporte 2 >

- Chapa de Alumínio [0224]Um metal fundido foi preparado usando uma liga de alumínio contendo

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Si: 0,06% em massa, Fe: 0,30% em massa, Cu: 0,005% em massa, Mn: 0,001% em massa, Mg: 0,001% em massa, Zn: 0,001% em massa, e Ti: 0,03% em massa com um restante sendo alumínio e uma impureza inevitável, um processo de metal fundido e filtração foram realizados, e então um lingote tendo uma espessura de 500 mm e uma largura de 1.200 mm foi produzido usando um método de fundição DC. A irregularidade na superfície foi raspada usando um dispositivo de revestimento para obter uma espessura média de 10 mm, e então o lingote foi mantido isotermicamente a 550° C por cerca de cinco horas e laminado usando um rolo quente quando a temperatura abaixou para 400^Q C, produzindo assim uma chapa laminada de 2,7 mm de espessura. Além disso, um processo térmico foi realizado a 500^Q C usando uma máquina de recozimento contínuo, e então a chapa laminada foi acabada a uma espessura de 0,24 mm por laminação a frio, obtendo-se assim uma chapa de alumínio de um material JIS 1050. A largura desta chapa de alumínio foi ajustada para 1.030 mm e, em seguida, um tratamento de superfície descrito abaixo foi realizado na chapa de alumínio.

< Tratamento de Superfície >

[0225]O tratamento de superfície foi realizado executando continuamente uma variedade de processos (b) a (j) abaixo.

[0226]Entretanto, após cada processo e lavagem com água, o líquido foi drenado usando um rolo de calandra.

[B] Processo de Ataque Alcalino [0227]Na chapa de alumínio obtida acima, um processo de ataque foi realizado por meio de pulverização usando uma solução aquosa com uma concentração de hidróxido de sódio de 2,6% em massa, uma concentração de íons de alumínio de 6,5% em massa e uma temperatura de 70^Q C dissolvendo assim 6 g / m² da chapa de alumínio. Depois disso, a chapa foi lavada com água por meio de pulverização.

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57/79 (c) Processo de Decapagem [0228]Um processo de decapagem foi realizado por meio de pulverização utilizando uma solução aquosa com uma temperatura de 30° C e uma concentração de ácido nítrico de 1% em massa (incluindo 0,5% em massa de íons de alumínio) e depois a chapa foi lavada com água por meio de pulverização. Como a solução aquosa de ácido nítrico utilizada no processo de decapagem, foi utilizado um líquido residual de uma etapa de realizar um processo de rugosidade eletroquímica em uma solução aquosa de ácido nítrico usando uma corrente alternada.

(d) Processo de Rugosidade Eletroquímica [0229]Um processo de rugosidade eletroquímica foi realizado continuamente usando uma tensão de corrente alternada de 60 Hz. Uma solução eletrolítica nesse momento era uma solução aquosa de ácido nítrico a 10,5 g / L (incluindo 5 g / L de íons de alumínio e 0,007% em massa de íons de amônio), e a temperatura do líquido era de 50^Q C. A forma de onda da fonte de alimentação de corrente alternada era uma forma de onda ilustrada na Figura 3, e o processo de rugosidade eletroquímica foi realizado usando uma corrente alternada trapezoidal de onda retangular na qual o tempo TP obtido para o valor de corrente atingir o pico de zero foi de 0,8 ms, uma razão de trabalho de 1:1, e um eletrodo de carbono como um contraeletrodo. Como um anodo auxiliar, a ferrita foi usada. Um tanque de eletrólise usado era um tanque ilustrado na Figura 4. A densidade de corrente era de 30 A / dm² em termos do valor de pico da corrente, e a quantidade de eletricidade era de 220 C / dm² em termos da soma das quantidades de eletricidade em um caso em que a chapa de alumínio era o eletrodo positivo. Cinco por cento da corrente proveniente da fonte de alimentação foi dividida no anodo auxiliar. Depois disso, a chapa foi lavada com água por meio de pulverização.

[E) Processo de Ataque Alcalino [0230]Na chapa de alumínio, um processo de ataque foi realizado a 32^Q C

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58/79 pulverizando uma solução aquosa tendo uma concentração de hidróxido de sódio de 26% em massa, uma concentração de íons de alumínio de 6,5% em massa, 0,25 g / m² da chapa de alumínio foram dissolvidos, um componente de poeira incluindo, como um corpo principal, hidróxido de alumínio gerado no momento do processo de rugosidade eletroquímica usando a corrente alternada no nível superior foi removido, e, adicionalmente, a parte de borda da ponta gerada foi dissolvida para suavizar a parte de borda. Depois disso, a chapa foi lavada com água por meio de pulverização.

(f) Processo de Decapagem [0231 ]Um processo de decapagem foi realizado pulverizando uma solução aquosa com uma concentração de ácido sulfúrico de 15% em massa de uma temperatura de 30^Q C (incluindo 4,5% em massa de íons de alumínio) e em seguida a chapa foi lavada com água por meio de pulverização. Como a solução aquosa de ácido nítrico utilizada no processo de decapagem, foi utilizado o líquido residual da etapa de realizar o processo de rugosidade eletroquímica na solução aquosa de ácido nítrico usando uma corrente alternada.

(g) Processo de Rugosidade Eletroquímica [0232]Um processo de rugosidade eletroquímica foi realizado continuamente usando uma tensão de corrente alternada de 60 Hz. Uma solução eletrolítica nesse momento era uma solução aquosa de 2,5 g / L de ácido clorídrico (incluindo 5 g / L de íons de alumínio) e a temperatura era de 35^Q C. A forma de onda da fonte de alimentação de corrente alternada era uma forma de onda ilustrada na Figura 3, e o processo de rugosidade eletroquímica foi realizado usando uma corrente alternada de onda retangular trapezoidal na qual o tempo TP obtido para o valor de corrente atingir o pico de zero foi de 0,8 ms, uma relação de trabalho de 1:1, e um eletrodo de carbono como um contraeletrodo. Como um anodo auxiliar, a ferrita foi usada. Um tanque de eletrólise usado foi um tanque ilustrado na Figura 4. A densidade de corrente foi de 25 A / dm² em termos do valor de pico da corrente, e a quantidade de eletricidade foi

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59/79 de 50 C / dm² em termos da soma das quantidades de eletricidade em um caso em que a chapa de alumínio era o eletrodo positivo. Depois disso, a chapa foi lavada com água por meio de pulverização.

(h) Processo de Ataque Alcalino [0233]Na chapa de alumínio, um processo de ataque foi realizado a 32^Q C pulverizando uma solução aquosa com uma concentração de hidróxido de sódio de 26% em massa, uma concentração de íons de alumínio de 6,5% em massa, 0,1 g / m² da chapa de alumínio foi dissolvido, um componente de poeira incluindo, como um corpo principal, hidróxido de alumínio gerado no momento do processo de rugosidade eletroquímica usando a corrente alternada no nível superior foi removido, e, adicionalmente, a parte de borda do pico gerado foi dissolvida para suavizar a parte de borda. Depois disso, a chapa foi lavada com água por meio de pulverização.

(i) Processo de Decapagem [0234]Um processo de decapagem foi realizado por meio de pulverização utilizando uma solução aquosa com uma temperatura de 60° C e uma concentração de ácido sulfúrico de 25% em massa (incluindo 0,5% em massa de íons de alumínio) e então a chapa foi lavada com água por meio de pulverização.

(j) Processo de Anodização [0235]Um processo de anodização foi realizado usando um dispositivo de anodização tendo uma estrutura ilustrada na Figura 5, obtendo assim um suporte 2. Como soluções eletrolíticas fornecidas para a primeira e a segunda parte de eletrólise, foi utilizado ácido sulfúrico. Todas as soluções eletrolíticas tinham uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g / L (incluindo 0,5% em massa de íons de alumínio) e uma temperatura de 38° C. Depois disso, o suporte foi lavado com água por meio de pulverização. A quantidade final de filme de óxido foi de 2,7 g / m².

< Fluido de Revestimento para a Camada de Subcapa (1)>

• Composto para camada de subcapa (2) com a seguinte estrutura: 0,18

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60/79 partes • Etil Etilenodiaminotetracetato de tetrassódio: 0,10 partes • Polioxietileno lauril éter: 0,03 partes • Água: 61,39 partes

[0236]Entretanto, valores numéricos no lado inferior direito dos parênteses de unidades constitucionais individuais no composto para uma camada de subcapa (2) representam relações em massa, e valores numéricos no lado inferior direito das unidades de etilenóxi representam o número de vezes de repetição.

[0237][ Produção de Precursor de Chapa de Impressão Litográfica A ] (3) Formação de Camada de Gravação de Imagem [0238]Um fluido de revestimento para uma camada de gravação de imagem (1) tendo a seguinte composição foi aplicado sobre a camada de subcapa no suporte 1 formado como descrito acima por meio de revestimento em barra e depois seco em um forno a 100° C durante 60 segundos, formando uma camada de gravação de imagem com uma quantidade de revestimento seco de 1,0 g / m².

[0239]O fluido de revestimento para a camada de gravação de imagem (1) foi

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61/79 obtido misturando e agitando o líquido fotossensível seguinte (1) e um líquido de microgel (1) imediatamente antes do revestimento.

[< Líquido Fotossensível (1) >

• Polímero ligante (1) [a seguinte estrutura, Mw: 50.000, η: o número de unidades de óxido de etileno (EO) = 4]: 0,480 partes • Absorvedor de infravermelhos (1) [a estrutura seguinte]: 0,030 partes • Composto de borato [tetrafenil borato de sódio]: 0,014 partes • Iniciador de polimerização de radical (1) [a estrutura seguinte]: 0,234 partes • Composto de radical polimerizável [tris(acriloilóxietil)isocianurato, éster NK

A-9300, fabricado por Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.]: 0,192 partes • Composto hidrofílico de baixo peso molecular (1) [tris(2hidróxietil)isocianurato]: 0,052 partes • Tensoativo aniônico 1 [a estrutura seguinte]: 0,099 partes • Agente de sensibilização, composto de fosfônio (1) [a estrutura seguinte]: 0.12 partes • Agente de sensibilização, polímero contendo grupo amônio (1) [a estrutura seguinte, reduzindo a viscosidade específica de 44 ml / g]: 0,035 partes • Agente de sensibilização, sal de benzildimetiloctilamônio-PFe: 0,032 partes • Agente corante, ETIL VIOLETA [a estrutura seguinte]: 0,030 partes • Tensoativo à base de flúor (1) [a estrutura seguinte]: 0,02 partes • 2-Butanona: 1,091 partes • 1-Metóxi-2-propanol: 8,609 partes < Líquido de Microgel (1) >

• Microgel (1): 1,580 partes • Água destilada: 1,455 partes

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S-polímero

Polímero-S

S-polímero

Parte de polímero descrita acima

ÇHg CH₃CH

4-cH₂-ó-j- 4~ch₂c4 4^cH2i4 í '50 ' | '40 ’[

COOMe COOCOO (CH₂CHCH₂ -O-CO ~OCH₂'n )I

OHCH

Polímero ligante (1)

Polímero contendo grupo amônio [0240]Entretanto, Me representa um grupo metila, e números no lado inferior direito de parênteses de unidades constitucionais individuais no polímero ligante (1) e do polímero contendo grupo amônio representam relações molares.

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CH₃ ch₃

ETIL VIOLETA

Absorvedor de infravermelhos (1)

HgCO

H₃C<3

PF_&

Iniciador de polimerização de radical (1)

T^ch₂ch~^

COOCsHsCçF^ ⁰ (jfein.ooo)

Tensoativo à base de flúor (1)

Composto de fosfônio (1) [0241]Enquanto isso, números no lado inferior direito de parênteses de unidades constitucionais individuais no tensoativo à base de flúor (1) representam

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64/79 relações molares, e valores numéricos no lado inferior direito das unidades de etilenóxi ou as unidades de propilenóxi representam o número de vezes de repetição.

Tensoativo aniônico 1 ‘SO₃Na [0242]Um método para sintetizar o microgel (1) foi como descrito abaixo.

- Síntese de Microgel (1) [0243]Como componentes da fase oleosa, um aducto de trimetilolpropano e diisocianato de xileno (fabricado por Mitsui Chemicals Inc., TAKENATE D-110N) (10 partes), dipentaeritritol penta-acrilato (fabricado por Sartomer Japan Inc., SR399) (5,54 partes) e BIONINA A-41C (fabricado por Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) (0,1 partes) foram dissolvidos em etil acetato (17 partes). Como um componente de fase aquosa, foi preparada uma solução aquosa a 4% em massa de PVA-205 (40 partes). Os componentes da fase oleosa e o componente da fase aquosa foram misturados e emulsionados utilizando um homogeneizador a 12.000 rpm durante 10 minutos. A substância emulsionada obtida foi adicionada à água destilada (25 partes), agitada em temperatura ambiente (25° C, que será verdadeira abaixo) durante 30 minutos, e agitada a 50° C durante três horas. Um líquido de microgel obtido como descrito acima foi diluído com água destilada de modo que a concentração do teor de sólidos atingiu 15% em massa, e esse foi considerado como o microgel (1). O diâmetro médio das partículas do microgel foi medido usando um método de dispersão de luz e descobriuse que era 0,2 μιτι.

(4) Formação de Camada de Proteção [0244]O fluido de revestimento para uma camada de proteção (1) tendo a seguinte composição foi aplicado na camada de gravação de imagem por meio de revestimento em barra e seco em um forno a 120° C por 60 segundos, e uma camada de proteção tendo uma quantidade de revestimento seco de 0,15 g / m² foi formada,

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65/79 obtendo-se assim cada um dos precursores da chapa de impressão litográfica (1) a (14).

< Fluido de Revestimento para a Camada de Proteção (1) >

• Líquido de dispersão de composto lamelar inorgânico (1) (líquido obtido abaixo): 1,5 partes • Polímero hidrofílico (1) (teor de sólidos) [a estrutura seguinte, Mw: 30.000]: 0,55 partes • Solução aquosa de polivinil álcool a seis por cento em massa (CKS50 fabricado por The Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., grau de saponificação modificado com ácido sulfônico: 99% em mole ou superior, grau de polimerização: 300): 0,10 partes • Solução aquosa de polivinil álcool a seis por cento (PVA-405 fabricado por Kuraray Co., Ltd., grau de saponificação: 81,5 mol%, grau de polimerização: 500): 0,03 partes • Solução aquosa de um tensoativo a oitenta por cento (RAPISOL A-80, nome comercial, fabricado por NOF Corporation): 0,011 partes • Água de troca iônica: 6,0 partes

Polímero hidrofílico (1)

[0245]Entretanto, números no lado inferior direito de parênteses de unidades

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66/79 constitucionais individuais no polímero hidrofílico (1) representam relações molares.

< Preparação do Líquido de Dispersão de Composto Lamelar Inorgânico (1) [0246]Mica sintética SOMASIF ME-100 (fabricada por Co-op Chemical Co., Ltd.) (6,4 partes) foi adicionada à água de troca iônica (193,6 partes) e dispersa utilizando um homogeneizador até que o diâmetro médio de partículas (método de dispersão a laser) atingisse 3 μιτι. A relação de aspecto da partícula dispersa obtida foi de 100 ou superior.

[ Produção do Precursor de Chapa de Impressão Litográfica A’ ] [0247]Um precursor de chapa de impressão litográfica A’ foi produzido da mesma maneira que no método para produzir o precursor de chapa de impressão litográfica A, exceto pelo fato de que, na produção do precursor de chapa de impressão litográfica A, o suporte 2 foi usado em vez do suporte 1.

[ Produção de Precursor de Chapa de Impressão Litográfica B ] (1) Formação de Camada de Gravação de Imagem [0248]Um fluido de revestimento para uma camada de gravação de imagem (2) descrita abaixo foi aplicado sobre o suporte tendo uma camada de subcapa por meio de revestimento em barra e então seco em um forno a 70° C por 60 segundos, formando uma camada de gravação de imagem tendo uma quantidade de revestimento seco de 0,6 g / m².

< Fluido de Revestimento de Camada de Gravação de Imagem (2) >

• Líquido de dispersão em água de partículas de composto polimérico específico (particulado) [consultar o seguinte método de produção]: Quantidade de 40% em massa do teor total de sólidos da camada de gravação de imagem • Corante absorvedor de infravermelhos (2) [a estrutura seguinte]: 0,2 partes • Iniciador de polimerização de radical Irgacure 250 (fabricado por BASF): 0,5 partes

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67/79 • Composto de radical polimerizável SR-399 (fabricado por Sartomer Japan Inc.): 1,50 partes • Mercapt-3-triazol: 0,2 partes • Byk 336 (fabricado por BYK Additives & Instruments): 0,4 partes • Klucel M (fabricado por Hercules Incorporated): 4,8 partes • ELVACITE 4026 (fabricado por Ineos Acrylics): 2,5 partes • Tensoativo aniônico / não iônico mostrado nas Tabelas 1 a 3 abaixo [a estrutura acima]: 0,15 partes • n-propanol: 55,0 partes • 2-Butanona: 17,0 partes

Entretanto, os compostos expressos usando nomes comerciais na composição são como descrito abaixo.

• IRGACURE 250: (4-Metóxifenil) [4-(2-metilpropil) fenil] iodônio = hexafluorofosfato (75% em massa de solução de carbonato de propileno) • SR-399: Dipentaeritritol penta-acrilato • Byk 336: copolímero de dimetilpolissiloxano modificado (uma solução de 25% em massa de xileno e metóxipropil acetato) • Klucel M: Hidróxipropil celulose (solução aquosa a 2% em massa) • ELVACITE 4026: Polimetil metacrilato altamente ramificado (uma solução de 10% em massa de 2-butanona)

Corante absorvedor de infravermelhos (2) < Produção de Líquido de Dispersão em Água de Partículas de Composto

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Polimérico (1) >

[0249]Um agitador, um termômetro, um funil de gotejamento, um tubo de introdução de nitrogênio e um refrigerador de refluxo foram fornecidos a um frasco de quatro gargalos, gás nitrogênio foi introduzido no mesmo, polietileno glicol metil éter metacrilato (PEGMA, o número médio de unidades de repetição de etileno glicol foi 20) (10 partes), água destilada (200 partes) e n-propanol (200 partes) foram adicionados a este enquanto executando a desoxidação através da introdução de gás nitrogênio, e os componentes foram aquecidos até a temperatura interna atingir os 70° C. Em seguida, uma mistura obtida misturando-se de estireno (St) (10 partes), acrilonitrilo (AN) (80 partes) e 2,2’-azobisisobutironitrilo (0,8 partes) foi adicionada por gotejamento durante uma hora. Uma reação continuou durante cinco horas após o final da adição por gotejamento, então 2,2’-azobisisobutironitrilo (0,4 partes) foi adicionado, e a temperatura interna foi aumentada até 80° C. Subsequentemente, 2,2’-azobisisobutironitrilo (0,5 partes) foi adicionado durante seis horas. Em um estágio de continuação da reação durante um total de 20 horas, a produção de um composto polimérico a 98% ou mais, e de um líquido de dispersão em água de partículas de composto polimérico (1) incluindo PEGMA / St / AN em uma relação em massa de 10 /10 / 80 foi obtida. A distribuição de tamanho de partícula das partículas de composto polimérico tinha o valor máximo em um diâmetro de partícula de 150 nm.

[0250]Aqui, a distribuição de tamanho de partícula foi obtida capturando uma micrografia eletrônica das partículas de composto polimérico, medindo os diâmetros de partícula de um total de 5.000 partículas na fotografia, dividindo a faixa dos valores de medição de diâmetro de partícula obtidos de zero ao valor máximo em 50 seções usando uma escala logarítmica, e representando graficamente a frequência de aparecimento dos respectivos diâmetros de partícula. Entretanto, para uma partícula não esférica, o valor do diâmetro de partícula de uma partícula esférica tendo a mesma área de partícula que a área de partícula na fotografia foi considerado como o diâmetro

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69/79 de partícula.

[ Produção do Precursor de Chapa de Impressão Litográfica C ] < Produção do Suporte 3 >

[0251 ]Uma chapa de alumínio de 0,19 mm de espessura foi desengordurada sendo imersa em uma solução aquosa de hidróxido de sódio a 40 g / L a 60° C por oito segundos e lavada com água dessalinizada por dois segundos. Em seguida, na chapa de alumínio, um processo de rugosidade eletroquímica foi realizado por 15 segundos, utilizando uma corrente alternada em solução aquosa contendo 12 g / L de ácido clorídrico e 38 g / L de sulfato de alumínio (18-hidrato) a uma temperatura de 33° C e uma densidade de corrente de 130 A / dm². Depois de lavada com água dessalinizada por dois segundos, a chapa de alumínio foi decapada, sendo atacada com uma solução aquosa de 155 g / L de ácido sulfúrico a 70° C por quatro segundos e lavada com água dessalinizada a 25° C por dois segundos. A chapa de alumínio foi anodizada em uma solução aquosa de 155 g / L de ácido sulfúrico por 13 segundos a uma temperatura de 45° C e uma densidade de corrente de 22 A / dm² e lavada com água dessalinizada por dois segundos. Além disso, a chapa de alumínio foi pósprocessada a 40° C por 10 segundos usando uma solução aquosa de 4 g / L de polivinil fosfonato, lavada com água dessalinizada a 20° C por dois segundos e seca. Um suporte 3 obtido como descrito acima tinha uma rugosidade de superfície Ra de 0,21 pm e uma quantidade de filme anodizado de 4 g / m².

( Produção de Precursor de Chapa de Impressão Litográfica ) [0252]Um fluido de revestimento à base de água para uma camada de gravação de imagem contendo componentes tais como uma partícula de resina termoplástica, um absorvedor de infravermelhos, um composto de poliglicerol e similares descritos abaixo foi preparado, o pH foi ajustado para 3,6, depois o fluido de revestimento foi aplicado sobre o suporte 3 e seco a 50° C durante um minuto para formar uma camada de gravação de imagem, produzindo assim um precursor de

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70/79 chapa de impressão litográfica C.

[0253]Um polímero de partículas termoplásticas SAN, um absorvedor de infravermelhos IR-01, um composto de poliglicerol PG-1, e outro componente PAA que foram utilizados no fluido de revestimento para uma camada de gravação de imagem foram como descrito abaixo.

[0254]Partícula de resina termoplástica SAN: copolímero de estireno / acrilonitrilo (relação molar: 50 / 50), Tg: 99° C, diâmetro médio de partícula: 60 nm, quantidade aplicada: 0,7 (g / m²) [0255]Composto de poliglicerol PG-1: Poliglicerina PGL 10 (o número de unidades de repetição: 10) (fabricado por Daicel Corporation), quantidade aplicada: 0,05 (g / m²) [0256]Outro componente PAA: ácido poliacrílico, peso molecular médio ponderai: 250.000, quantidade aplicada: 0,09 (g / m²) [0257]Absorvedor de infravermelhos IR-01: Absorvedor de infravermelhos tendo a seguinte estrutura, quantidade aplicada: 1,20 x 10’⁴ (g / m²)

O₃S [Exposição de Imagem] [0258]Os precursores da chapa de impressão litográfica foram expostos usando um LUXEL PLATESETTER T-6000III fabricado por Fujifilm Corporation que foi equipado com um laser semicondutor infravermelho sob condições de uma velocidade de rotação do tambor de superfície externa de 1.000 rpm (rotações por

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71/79 minuto), uma saída de laser de 70%, e uma resolução de 2.400 dpi (pontos por polegada). As imagens expostas foram fornecidas com imagens sólidas e 50% de gráficos de pontos de meio-tom.

[ Processo de Revelação ] [0259]No precursor de chapa de impressão litográfica, foi realizado um processo de revelação utilizando um dispositivo de processo de revelação A exemplificado na Figura 1 ou um dispositivo de processo de revelação B exemplificado na Figura 2 que são mostrados na Tabela 4.

[0260]Aqui, “procedimento de revelação” refere-se a um processo complexo incluindo não apenas a revelação da camada de gravação de imagem, mas também um ou mais processos selecionados a partir do grupo que consiste da remoção, extração de goma, e secagem da camada de proteção.

[0261]Reveladores utilizados são exemplificados na Tabela 4.

[0262]O dispositivo de processo de revelação A exemplificado na Figura 1 é um dispositivo de processo automático tendo dois rolos de escova rotativa 11. Como o rolo de escova rotativa 11, foi utilizado um rolo de escova tendo um diâmetro externo de 55 mm no qual fibras de tereftalato de polibutileno (diâmetro das fibras: 200 pm, comprimento das fibras: 7 mm) foram implantadas, e os rolos da escova rotativa foram rotacionados na mesma direção que uma direção de transporte 120 vezes por minuto (a velocidade circunferencial da extremidade frontal da escova: 0,94 m / s).

[0263]Um precursor de chapa de impressão litográfica exposto 30 foi transportado através de dois pares de rolos de transporte 13 em uma direção de transporte ilustrada no desenho a partir de uma mesa de alimentação de chapa 18 para uma mesa de liberação de chapa 19 a uma velocidade de transporte de 60 cm / min nas chapas guia de transporte 14 de modo que o precursor de chapa de impressão litográfica 30 passou entre os rolos de escova rotativa 11 e as chapas guia de transporte 14 que estavam voltadas para aos rolos de escova rotativa.

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72/79 [0264]Um revelador armazenado em um tanque de revelação 20 foi fornecido a três tubos de pulverização 15 utilizando uma bomba de circulação 21 através de uma linha de tubulação 16 e um filtro 17 e fornecidos à superfície da chapa a partir dos respectivos tubos de pulverização 15 por meio de chuveiro. Enquanto isso, a capacidade do tanque de revelação 20 era de 20 litros, e o revelador foi usado de maneira circular. Uma chapa de impressão litográfica liberada a partir desse dispositivo de processo de revelação foi seca utilizando um secador 22 sem ser lavada.

[0265]O dispositivo de processo de revelação B exemplificado na Figura 2 é um dispositivo de processo automático tendo três rolos de escova rotativa 102. Como o rolo de escova rotativa 102, foi utilizado um rolo de escova tendo um diâmetro externo de 55 mm no qual fibras de tereftalato de polibutileno (diâmetro das fibras: 200 pm, comprimento das fibras: 7 mm) foram implantadas, e os rolos da escova rotativa foram rotacionados na mesma direção que uma direção de transporte 200 vezes por minuto (a velocidade circunferencial da extremidade frontal da escova: 0,94 m / s).

[0266]Um precursor de chapa de impressão litográfica exposto 101 foi transportado através de quatro pares de rolos de transporte 103 em uma direção de transporte ilustrada no desenho a partir de uma mesa de alimentação de chapa 105 para uma mesa de liberação de chapa 107 a uma velocidade de transporte de 160 cm / min nas chapas guia de transporte 106 de modo que o precursor de chapa de impressão litográfica 101 passou entre os rolos de escova rotativa 102 e as chapas guia de transporte 106 que estão voltadas para os rolos de escova rotativa.

[0267]Um revelador armazenado em um primeiro tanque de revelador 113 foi fornecido a dois tubos de pulverização 104 utilizando uma bomba de circulação 109 através de uma linha de tubulação 115 e um filtro 112 e fornecidos à superfície da chapa a partir dos respectivos tubos de pulverização 104 por meio de chuveiro.

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73/79 [0268]Um revelador armazenado em um segundo tanque de revelador 114 foi fornecido a dois tubos de pulverização 118 utilizando uma bomba de circulação 120 através da linha de tubulação 119 e fornecido à superfície da chapa a partir dos respectivos tubos de pulverização 118 por meio de chuveiro.

[0269]Enquanto isso, a capacidade de um tanque de revelador 111 era de 20 litros, e o revelador foi usado de maneira circular. Uma chapa de impressão litográfica liberada a partir deste dispositivo de processo de revelação foi seca utilizando um secador 108 sem ser lavada.

[ Preparação de Revelador ] [0270]0s reveladores 1 a 24 e reveladores comparativos 1 a 6 tendo composições mostradas na Tabela 1 à Tabela 3 foram produzidos respectivamente. A unidade dos valores numéricos dos componentes individuais na Tabela 1 à Tabela 3 é “% em massa”. Aqui, os pHs dos reveladores foram ajustados usando ácido acético e hidróxido de sódio.

[ Tabela 1 ]

	Revelador (unidade de teor de cada componente: % em massa)
1	2	3	4	5	6	7	8	9	10
Tensoativo aniônico	PELEX NBL	1	1	1	2	5	4	5	2	2	2
Tensoativo não iônico	NEWCOL B13	2	2	2	5	2	8	10	-	5	5
NEWCOL B24	-	-	-	-	-	-	-	5	-	-
Composto específico	I-4	0,1	2	9	2	2	2	2	2	-	2
I-7	-	-	-	-	-	-	-	-	2	-
Benzil álcool	0.5	0,5	0,5	0,6	0,6	0,6	0,95	0,6	0,6	0,8
Amido hidroxialquilado (PENON JE-66)	-	-	-	-	-	-	-	-	-	0,05

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Antiformador de espuma (SILCOLAPSE432)	0.01	0,01	0,01	0,02	0,02	0,04	0,04	0,02	0,02	0,02
pH	8.5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5

[ Tabela 2 ]

	Revelador (unidade de teor de cada componente: % em massa)
11	12	13	14	15	16	17	18	Comparativo 1	Comparativo 2	Comparativo 3
Tensoativo aniônico	PELEX NBL	2	2	2	7	-	-	-	2	2	2	2
ELEMINOL MON2	-	-	-	-	-	2	-	-	-	-	-
NEWCOL B4SN	-	-	-	-	-	-	2	-	-	-	-
Tensoativo não iônico	NEWCOL B13	5	5	5	-	7	5	5	-	5	5	5
NEWCOL B24	-	-	-	-	-	-	-	5	-	-	-
Composto específico	I-4	2	2	2	2	2	2	2	2	-	-	-
Ácido 1-Hidroxietano1,1-difosfônico	-	-	-	-	-	-	-	-	-	-	2
Fosfato monoamônio	-	-	-	-	-	-	-	-	-	2	-
Benzil álcool	0,8	0,8	0,6	0,6	0,6	0,6	0,6	0,6	0,6	0,6	0,6
Antiformador de espuma (SILCOLAPSE432)	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02
pH	6,0	9,0	9,8	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5

[ Tabela 3 ]

	Revelador (unidade de teor de cada componente: % em massa)
19	20	21	22	23	24	Comparativo 4	Comparativo 5	Comparativo 6
Tensoativo aniônico	PELEX NBL	2	2	2	2	2	2	2	2	2
Tensoativo não iônico	NEWCOL B13	5	5	5	5	5	5	5	5	5
Composto específico	1-1	2	-	-	-	-	-	-	-	-

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	1-4	-	-	-	-	-	2	-	-	-
1-8	-	2	-	-	-	-	-	-	-
1-9	-	-	2	-	-	-	-	-	-
1-12	-	-	-	2	-	-	-	-	-
1-13	-	-	-	-	2	-	-	-	-
Ácido sucínico	-	-	-	-	-	-	2	-	-
Ácido málico	-	-	-	-	-	-	-	2	-
Ácido propanotricarboxílico	-	-	-	-	-	-	-	-	2
Benzil álcool	0,6	0,6	0,6	0,6	0,6	-	0,6	0,6	0,6
Antiformador de espuma (SILCOLAPSE432)	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02	0,02
pH	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5	8,5

[0271 ]0s detalhes dos respectivos compostos mostrados na Tabela 1 à

Tabela 3 serão descritos abaixo.

[0272]Compostos específicos 1-1, I-4, I-7 a I-9, 1-12 e 1-13: 1-1, I-4, I-7 a I-9, I12 e I-13 descritos acima • PELEX NBL (alquil naftaleno sulfonato de sódio, tensoativo aniônico fabricado por Kao Corporation) • ELEMINOL MON2 (alquil difenil éter dissulfonato dissódico, tensoativo aniônico fabricado por Sanyo Chemical Industries, Ltd.) • NEWCOL B4SN (sal éster de ácido polioxietileno aril éter sulfúrico, tensoativo aniônico fabricado por Nippon Nyukazai Co., Ltd.) • NEWCOL B13 (polioxietileno aril éter, tensoativo não iônico fabricado por Nippon Nyukazai Co., Ltd.)

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76/79 • NEWCOL B24 (polioxietileno aril éter, tensoativo não iônico fabricado por Nippon Nyukazai Co., Ltd.) • Ácido 1 -hidróxietano-1,1 -difosfônico (fabricado por Lion Specialty Chemicals Co., Ltd.) • Fosfato monoamônio (fabricado por Wako Pure Chemical Corporation) • Ácido sucínico (fabricado por Wako Pure Chemical Corporation) • Ácido málico (fabricado por Wako Pure Chemical Corporation) • Ácido propanotricarboxílico (fabricado por Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) • Benzil álcool (fabricado por Wako Pure Chemical Corporation) • Amido hidróxialquilado (composto polimérico solúvel em água, PENON JE66 fabricado por Nippon Starch Chemical Co., Ltd.) • Antiformador de espuma (polidimetilsiloxano, SILCOLAPSE 432, fabricado por Bluester Silicones) [ Avaliação de Desempenho] < Avaliação de Impressão >

[0273]A chapa de impressão litográfica exposta e revelada foi fixada em um cilindro de uma impressora SOR-M fabricada por Heidelberger Druckmaschinen AG. Água de molhagem e tinta foram fornecidas a ela usando água de molhagem (EU-3 (etchant fabricado por Fujifilm Corporation) / água / isopropil álcool = 1 /89/10 (relação de capacidade)) e tinta preta TRANS-G (N) (fabricada por DIC Corporation), e 500 pedaços de papel foram impressos a uma taxa de impressão de 6.000 pedaços por hora.

< Resistência a Manchas e Riscos >

[0274]Cada um dos precursores de chapa de impressão litográfica foi exposto e revelado, e riscos foram fornecidos à chapa de impressão litográfica obtida usando um verificador de riscos em um ambiente com temperatura de 25^Q C e umidade de

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70%. Como o verificador de riscos, HEIDON scratching intensity TESTER HEIDEN18 foi usado, uma agulha de safira de 0,1 mmk foi usada, e uma carga de riscos foi ajustada para 50 (g). A impressão foi realizada na chapa riscada, e se uma parte riscada se transformou em uma mancha de impressão ou não foi avaliado.

A: Não se transforma em manchas de impressão.

B: São encontradas manchas de impressão que são muito pequenas para serem reconhecidas visualmente.

C: Pequenas manchas de impressão são reconhecidas visualmente em uma faixa permitida.

D: A parte riscada se transforma em uma mancha de impressão.

< Estabilidade da Dispersão de Escuma de Revelação >

[0275]Cada um dos precursores de chapa de impressão litográfica foi revelado em 1.000 m² usando um dispositivo de processo de revelação automático e, em seguida, o estado da escuma (escuma na forma de óleo ou na forma sólida fixada em um elemento tal como uma parede de tanque ou um rolo) gerada em um tanque do dispositivo de processo de revelação automática foi observado. O estado foi avaliado de acordo com os seguintes padrões.

A: Um caso em que nenhuma escuma é gerada

B: Um caso em que uma pequena quantidade de escuma é reconhecida, mas nenhuma escuma está fixada à superfície da chapa de impressão litográfica revelada.

C: Um caso em que a geração de escuma é reconhecida, mas a escuma raramente está fixada à superfície da chapa de impressão litográfica revelada.

D: Um caso em que a escuma é significativamente gerada, e a escuma está fixada à superfície da chapa de impressão litográfica revelada.

[0276]Os resultados da avaliação estão resumidos na Tabela 4.

_______[ Tabela 4 ]_______________________________________________________________

Precursor de chapa de

Revelador

Dispositivo de processo de revelação

Resistência a manchas e riscos

Estabilidade de dispersão da

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	impressão litográfica				escuma de revelação
Exemplo	1	A’	1	A	C	C
2	A’	2	A	A	C
3	A’	2	B	A	C
4	A’	3	A	A	C
5	A’	4	A	A	A
6	A’	4	B	A	A
7	A’	5	A	A	A
8	A’	6	A	A	A
9	A’	7	A	A	A
10	A’	8	A	A	A
11	A’	9	A	A	A
12	A’	10	A	A	A
13	A’	11	A	A	A
14	A’	12	A	A	A
15	A’	13	A	A	A
16	A	4	A	A	A
17	A	4	B	A	A
18	C	4	A	A	A
19	C	4	B	A	A
20	B	4	A	A	A
21	B	4	B	A	A
22	A’	14	A	A	C
23	A’	15	A	C	C
24	A’	16	A	A	A
25	A’	17	A	A	A
26	A’	18	A	A	A
27	A’	19	A	B	A
28	A’	20	A	B	A
29	A’	21	A	B	A
30	A’	22	A	B	A
31	A’	23	A	C	B
32	A’	24	A	B	C
Exemplo Comparativo	1	A’	Comparativo 1	A	D	A
2	A’	Comparativo 2	A	D	A
3	A’	Comparativo 3	A	D	A
4	A’	Comparativo 4	A	D	D
5	A’	Comparativo 5	A	D	C
6	A’	Comparativo 6	A	D	C

[0277]As descrições do documento JP2017-037217 depositado em 28 de

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79/79 fevereiro de 2017 estão incorporadas na presente especificação por referência em sua totalidade.

[0278]Todos os documentos, pedidos de patente e padrões técnicos descritos na presente especificação são incorporados na presente especificação por referência, como se os respectivos documentos, pedidos de patente e padrões técnicos fossem especificamente e respectivamente descritos como incorporados por referência.

Explicação das Referências

11: rolo de escova rotativa, 12: rolo de recebimento, 13: rolo de transporte, 14: chapa guia de transporte, 15: tubo de pulverização, 16: linha de tubulação, 17: filtro, 18: mesa de alimentação de chapa, 19: mesa de liberação de chapa, 20: tanque de revelador, 21: bomba de circulação, 22: secador, 30: precursor de chapa de impressão litográfica, 101: precursor de chapa de impressão litográfica, 102: rolo de escova rotativa, 103: rolo de transporte, 104: tubo de pulverização, 105: mesa de alimentação de chapa, 106: chapa guia de transporte, 107: mesa de liberação de chapa, 108: secador, 109: bomba de circulação, 110: bomba, 111, 116: tanque de revelador, 112: filtro, 113: primeiro tanque de revelador, 114: segundo tanque de revelador, 115: linha de tubulação, 117: tanque de líquido residual, 118: tubo de pulverização, 119: linha de tubulação, 120: bomba de circulação, 211: chapa de alumínio, 212: rolo de tambor radial, 213a, 213b: polo principal, 214: líquido de processo de eletrólise, 215: abertura de fornecimento de solução eletrolítica, 216: fenda, 217: caminho de solução eletrolítica, 218: anodo auxiliar, 219a, 219b: tiristor, 220: fonte de alimentação de corrente alternada, 240: tanque de eletrólise principal, 250: tanque de anodo auxiliar, 410: dispositivo de processo de anodização, 412: tanque de alimentação, 414: tanque de processo eletrolítico, 416: chapa de alumínio, 418, 426: solução eletrolítica, 420: eletrodo de alimentação, 422, 428: rolo, 424: rolo de calandra, 430: eletrodo de eletrólise, 432: parede de tanque, 434: fonte de alimentação de corrente contínua.

Claims

REIVINDICAÇÕES

1. Método para produzir uma chapa de impressão litográfica, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende em ordem:

uma etapa de preparar um precursor de chapa de impressão litográfica tendo uma camada de gravação de imagem em um suporte hidrofílico;

uma etapa de expor o precursor de chapa de impressão litográfica em uma forma de imagem; e uma etapa de remover uma parte não exposta da camada de gravação de imagem exposta no precursor de chapa de impressão litográfica usando um revelador, onde o revelador inclui um composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi, o pH do revelador é de 5 a 10 e após a etapa de remoção, uma etapa de lavar uma superfície de uma chapa de impressão litográfica obtida com água e uma etapa de dessensibilizar a superfície da chapa de impressão litográfica obtida não são fornecidas.
2. Método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o revelador inclui adicionalmente um tensoativo aniônico e um tensoativo não iônico.
3. Método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 2, CARACTERIZADO pelo fato de que uma relação em massa (o tensoativo não iônico para o tensoativo aniônico) entre o teor de tensoativo não iônico e o teor do tensoativo aniônico no revelador é 1,2:1,0 a 5,0:1,0.
4. Método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 2 ou 3, CARACTERIZADO pelo fato de que o teor total do tensoativo não iônico e do tensoativo aniônico no revelador é de 2% em massa a 20% em massa da massa total do revelador.

Petição 870190081537, de 21/08/2019, pág. 94/100

2/3
5. Método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, CARACTERIZADO pelo fato de que a camada de gravação de imagem contém um corante de absorção de infravermelhos, um iniciador de polimerização, um composto polimerizável, e um polímero ligante.
6. Método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, CARACTERIZADO pelo fato de que a camada de gravação de imagem contém um corante de absorção de infravermelhos, um iniciador de polimerização, um composto polimerizável, e um composto polimérico particulado.
7. Método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, CARACTERIZADO pelo fato de que a camada de gravação de imagem contém um corante de absorção de infravermelhos e uma partícula de resina termoplástica.
8. Método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, CARACTERIZADO pelo fato de que o número de grupos carbóxi no composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi é 2 ou mais e 10 ou menos.
9. Método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, CARACTERIZADO pelo fato de que o teor do composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi é de 0,1% em massa a 10% em massa da massa total do revelador.
10. Método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 9, CARACTERIZADO pelo fato de que o revelador não inclui um composto polimérico solúvel em água ou um teor do composto polimérico solúvel em água é superior a 0% em massa e 0,05% em massa ou menos

Petição 870190081537, de 21/08/2019, pág. 95/100

3/3 da massa total do revelador.
11. Método para produzir uma chapa de impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, CARACTERIZADO pelo fato de que o composto tendo ao menos um grupo ácido selecionado a partir do grupo que consiste de um grupo fosfato, um grupo fosfonato, e um grupo fosfinato e um ou mais grupos carbóxi inclui ao menos um composto selecionado a partir do grupo que consiste de

1-1 a 1-14 abaixo.