Triméthylsilane
| Triméthylsilane | |
  Structure du triméthylsilane |
|
| Identification | |
|---|---|
| Nom UICPA | triméthylsilane |
| No CAS | |
| No ECHA | 100.012.366 |
| No CE | 213-603-0 |
| PubChem | 70435 |
| SMILES | |
| InChI | |
| Apparence | gaz incolore à l'odeur douceâtre et nauséeuse |
| Propriétés chimiques | |
| Formule | C3H10Si [Isomères] |
| Masse molaire[1] | 74,197 ± 0,003 4 g/mol C 48,56 %, H 13,58 %, Si 37,85 %, |
| Propriétés physiques | |
| T° fusion | −135,89 °C[2] |
| T° ébullition | 6,7 °C[2] |
| Masse volumique | 0,635 g·cm-3[2] (liquide à l'ébullition) |
| T° d'auto-inflammation | 235 °C[2] |
| Pression de vapeur saturante | 156,9 kPa[2] à 20 °C |
| Précautions | |
| SGH[2] | |
  Danger |
|
| Transport[2] | |
| Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire. | |
modifier  |
|
Le triméthylsilane est un composé chimique de formule SiH(CH3)3. Il s'agit d'un gaz incolore à l'odeur douceâtre et nauséeuse, très inflammable, susceptible de s'enflammer spontanément en présence d'impuretés et formant des mélanges explosifs avec l'air. Il peut être produit en réduisant le chlorure de triméthylsilyle SiCl(CH3) avec un réducteur approprié, comme l'aluminohydrure de lithium LiAlH4 :
Il peut être utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le dépôt de diélectriques ou de barrières de diffusion (en) par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)[3].
Notes et références
[modifier | modifier le code]- Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
- Entrée « Trimethylsilane » dans la base de données de produits chimiques GESTIS de la IFA (organisme allemand responsable de la sécurité et de la santé au travail) (allemand, anglais), accès le 16 décembre 2012 (JavaScript nécessaire)
- (en) Sheng-Wen Chen, Yu-Sheng Wang, Shao-Yu Hu, Wen-Hsi Lee, Chieh-Cheng Chi et Ying-Lang Wang, « A Study of Trimethylsilane (3MS) and Tetramethylsilane (4MS) Based α-SiCN:H/α-SiCO:H Diffusion Barrier Films », Materials, vol. 5, no 3, , p. 377-384 (PMID 28817052, PMCID 5448926, DOI 10.3390/ma5030377, Bibcode 2012Mate....5..377C, lire en ligne)
