Triclorosilano

Triclorosilano
General
Fórmula estructural
Fórmula molecular	?
Identificadores
Número CAS	10025-78-2[1]​
Número RTECS	VV5950000
ChemSpider	23196
PubChem	24811
UNII	QZY2645L6V
InChI InChI=InChI=1S/Cl3HSi/c1-4(2)3/h4H Key: ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N
Propiedades físicas
Masa molar	133,891 g/mol
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El triclorosilano es un compuesto inorgánico con fórmula HSiCl₃. Es un líquido incoloro y volátil. El triclorosilano purificado es el precursor principal del silicio ultrapuro en la industria de semiconductores. En agua, se descompone rápidamente para producir un polímero de silicona mientras libera ácido clorhídrico. Debido a su reactividad y amplia disponibilidad, es frecuentemente utilizado en la síntesis de compuestos orgánicos que contienen silicio.^[2]​

El triclorosilano se produce tratando silicio de grado metalúrgico pulverizado con una corriente de cloruro de hidrógeno a 300 °C. También se produce hidrógeno, como se describe en la ecuación química:

Si + 3 HCl → HSiCl₃ + H₂

Se pueden conseguir rendimientos del 80-90%. Los subproductos más importantes son tetracloruro de silicio (fórmula química SiCl₄), hexaclorodisilano (Si₂Cl₆), y diclorosilano (H₂SiCl₂), de los que el triclorosilano puede ser separado por destilación.

También es producido a partir de tetracloruro de silicio:^[3]​

Si + 3 SiCl₄ + 2 H₂ → 4 HSiCl₃

El triclorosilano es el ingrediente básico utilizado en la producción de polisilicio purificado.

HSiCl₃ → Si + HCl + Cl₂

A través de la hidrosililación, el triclorosilano es un precursor de otros compuestos de organosilicio útiles:

RCH=CH₂ + HSiCl₃ → RCH₂CH₂SiCl₃

Algunos productos útiles de esta reacción u otras similares incluyen octadeciltriclorosilano (OTS), perfluorooctiltriclorosilano (PFOTCS), y perfluorodeciltriclorosilano (FDTS). Estos reactivos se utilizan en ciencia de superficies y nanotecnología para formar monocapas autoensambladas. Esas capas que contienen flúor disminuyen la energía superficial y reducen la adhesión. Este efecto es normalmente aprovechado en los recubrimientos de sistemas microelectromecánicos (MEMS) y sellos microfabricados para litografía de nanoimpresión (NIL) y una herramienta de moldeo por inyección.^[4]​

El triclorosilano es un reactivo usado en la conversión de ácidos benzoicos a derivados de tolueno. En el primer paso de una reacción de dos reactores, el ácido carboxílico es primero convertido al compuesto de triclorosililbencilo. En el segundo paso, el derivado silil bencílico es convertido con base al derivado de tolueno con base.^[5]​

• Semiconductores: Silicio: Fabricación de Substrato: Producción de silicio Policristalino