350 nanòmetres

Fig.1 Exemple de tecnologia de 350 nm : dau d'AMD K5

Tecnologia Any

10 um 1971

6 um 1974

3 um 1977

1,5 um 1982

1 um 1985

800 nm 1898

600 nm 1994

**350 nm** 1995

250 nm 1997

180 nm 1999

130 nm 2001

90 nm 2004

65 nm 2006

45 nm 2008

32 nm 2010

22 nm 2012

14 nm 2014

10 nm 2017

7 nm 2018

5 nm 2020

350 nanòmetres (350 nm) és una tecnologia de fabricació de semiconductors en què els components tenen una dimensió de 350 nm. És una millora de la tecnologia de 600 nm. La llei de Moore diu que la superfície és redueix a la meitat cada 2 anys, per tant el costat del quadrat de la nova tecnologia serà de $350\simeq {\frac {600}{\sqrt {2}}}$ . Sabent que els àtoms de silici tenen una distància entre ells de 0,543 nm, llavors el transistor té de l'ordre de 644 àtoms de llargada.^[1]

Tecnologia emprada

Tecnologia de litografia millorada.

Processadors

Fabricant	Data	CPU	Notes
Intel	1995	Pentium Pro, II
AMD	1996	K5
NEC	2004	VR4300	Nintendo 64

^[2]

Fabricant	Intel		IBM		AMD		AMD		DEC		Fujitsu		IDT		NEC		TI		Motorola		Hitachi
Nom del procés	P854				CS-34		CS-34EX		CMOS-6		CS-60								HiPerMOS 2
Primera producció	1994		1994		1995				1995		1996		1996		1995		1997		1996
Capes de Metal	4		5		5		5		6		5		3		4		5
	Valor	500 nm Δ	Valor	500 nm Δ	Valor	500 nm Δ	Valor	500 nm Δ	Valor	500 nm Δ	Valor	500 nm Δ	Valor	500 nm Δ	Valor	500 nm Δ	Valor	500 nm Δ	Valor	500 nm Δ	Valor	500 nm Δ
Pas de contacte de porta	550 nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x
Pas de connexió	880 nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x	? nm	?x
Cel·lula 1 bit de RAM	18.1 µm²	0.41x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	21.67 µm²	?x	? µm²	?x

Vegeu també

Circuit integrat
Tecnologia litogràfica

Referències

↑ Nishi, Yoshio; Doering, Robert. Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology, Second Edition (en anglès). CRC Press, 2007-07-09. ISBN 9781420017663.
↑ «250 nm lithography process - WikiChip» (en anglès). en.wikichip.org. [Consulta: 19 març 2017].

[1] Nishi, Yoshio; Doering, Robert. Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology, Second Edition (en anglès). CRC Press, 2007-07-09. ISBN 9781420017663.

[2] «250 nm lithography process - WikiChip» (en anglès). en.wikichip.org. [Consulta: 19 març 2017].

[1]

[2]

Tecnologia	Any
10 um	1971
6 um	1974
3 um	1977
1,5 um	1982
1 um	1985
800 nm	1898
600 nm	1994
350 nm	1995
250 nm	1997
180 nm	1999
130 nm	2001
90 nm	2004
65 nm	2006
45 nm	2008
32 nm	2010
22 nm	2012
14 nm	2014
10 nm	2017
7 nm	2018
5 nm	2020