Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

WO2023026899A1 - ガスセンサ - Google Patents

ガスセンサ Download PDF

Info

Publication number
WO2023026899A1
WO2023026899A1 PCT/JP2022/030972 JP2022030972W WO2023026899A1 WO 2023026899 A1 WO2023026899 A1 WO 2023026899A1 JP 2022030972 W JP2022030972 W JP 2022030972W WO 2023026899 A1 WO2023026899 A1 WO 2023026899A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
pump
refresh
gas
measurement
control process
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/030972
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
大智 市川
拓 岡本
Original Assignee
日本碍子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本碍子株式会社 filed Critical 日本碍子株式会社
Priority to DE112022002209.4T priority Critical patent/DE112022002209T5/de
Priority to CN202280051127.9A priority patent/CN117751287A/zh
Priority to JP2023543827A priority patent/JPWO2023026899A1/ja
Publication of WO2023026899A1 publication Critical patent/WO2023026899A1/ja
Priority to US18/414,696 priority patent/US20240192160A1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/416Systems
    • G01N27/417Systems using cells, i.e. more than one cell and probes with solid electrolytes
    • G01N27/4175Calibrating or checking the analyser
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/403Cells and electrode assemblies
    • G01N27/406Cells and probes with solid electrolytes
    • G01N27/407Cells and probes with solid electrolytes for investigating or analysing gases
    • G01N27/409Oxygen concentration cells
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/403Cells and electrode assemblies
    • G01N27/406Cells and probes with solid electrolytes
    • G01N27/407Cells and probes with solid electrolytes for investigating or analysing gases
    • G01N27/41Oxygen pumping cells
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/416Systems
    • G01N27/417Systems using cells, i.e. more than one cell and probes with solid electrolytes
    • G01N27/419Measuring voltages or currents with a combination of oxygen pumping cells and oxygen concentration cells

Definitions

  • the present invention relates to gas sensors.
  • a gas sensor that detects the concentration of a specific gas such as NOx in a gas to be measured such as automobile exhaust gas.
  • the NOx sensor described in Patent Document 1 includes an electrochemical pump cell that includes an oxygen ion-conducting solid electrolyte and a measuring electrode capable of reducing NOx. This NOx sensor converts the NOx gas in the gas to be measured into O 2 gas at the measuring electrode, and the pump current flowing through the electrochemical pump cell, which changes according to the concentration of the converted O 2 gas, is measured. Outputs the NOx concentration in the gas.
  • Patent Document 1 in such a NOx sensor, when the NOx concentration changes to zero, for example, when the fuel supply to the engine is stopped, the output signal of the NOx concentration is an ideal signal. It is described that an undershoot that temporarily drops excessively occurs compared to . Such an undershoot is not preferable because it tends to deteriorate the measurement accuracy of the NOx concentration. Patent Document 2 describes that such a phenomenon is caused by a change in water content in the gas to be measured. Further, Patent Document 1 describes that undershoot can be suppressed by subjecting a sensor element of a NOx sensor to rich treatment in a rich atmosphere at a temperature of 500° C. or higher for 15 minutes or longer. The rich atmosphere at this time is a gas atmosphere containing hydrocarbons, having a NO concentration of 0.05% or more and 1.0% or less by volume, and an excess air ratio ( ⁇ ) of 0.80 to 0.9999.
  • a sensor element of a NOx sensor to rich treatment in a rich atmosphere at a temperature of 500° C. or
  • the present invention has been made to solve such problems, and its main purpose is to suppress an increase in the undershoot and overshoot of the measurement pump current that accompanies the use of the gas sensor.
  • the present invention employs the following means to achieve the above-mentioned main purpose.
  • the gas sensor of the present invention is an element body including a solid electrolyte layer with oxygen ion conductivity and having therein a measured gas flow section for introducing and circulating a measured gas; an outer measuring electrode provided outside the element main body so as to be in contact with the gas to be measured; a measuring pump cell for pumping oxygen from around the measuring electrode to around the outer measuring electrode; an adjustment pump cell for adjusting the oxygen concentration in an oxygen concentration adjustment chamber provided upstream of the measurement chamber in the measurement gas circulation portion; a reference electrode disposed inside the element body so as to be in contact with a reference gas serving as a reference for detecting the specific gas concentration in the gas to be measured; a measuring voltage detection sensor cell that detects a measuring voltage between the reference electrode and the inner measuring electrode; a sensor element having normal time adjustment pump control processing for operating the adjustment pump cell; and normal time measurement for pumping oxygen in the measurement chamber by controlling the measurement pump cell so that the measurement voltage of the sensor element reaches a target value.
  • a specific gas concentration detection unit for detecting the concentration of the specific gas in the gas to be measured based on the measurement pump current flowing through the measurement pump cell by the normal measurement pump control processing;
  • a necessity determination unit that performs a necessity determination process for determining necessity of refresh of the sensor element based on at least one of undershoot and overshoot when the measurement pump current changes suddenly; Refreshing for controlling the adjustment pump cell so as to pump out more oxygen from the oxygen concentration adjustment chamber than in the normal adjustment pump control process when the refresh necessity determination process determines that the refresh is required.
  • a refresh control unit that performs refresh processing including is provided.
  • this gas sensor there is a normal adjustment pump control process for operating the adjustment pump cell, and a normal measurement pump control process for pumping out oxygen in the measurement chamber by controlling the measurement pump cell so that the measurement voltage of the sensor element reaches the target value.
  • a pump control process is performed.
  • the specific gas concentration in the gas to be measured is detected based on the measurement pump current flowing through the measurement pump cell by the normal measurement pump control process.
  • a refresh necessity determination process is performed to determine whether the sensor element needs to be refreshed based on at least one of undershoot and overshoot when the measurement pump current changes suddenly, and it is determined that the refresh is necessary.
  • refresh processing is performed.
  • the refresh process includes a refresh time adjustment pump control process for controlling the adjustment pump cell so as to pump out more oxygen from the oxygen concentration adjustment chamber than the normal time adjustment pump control process, and a normal time measurement pump control process. and/or a refresh measurement pump control process for controlling the measurement pump cell to pump out more oxygen in the measurement chamber than before.
  • the inventors of the present invention have found that performing such a refresh process can reduce undershoot and overshoot that increase with use of the gas sensor. In this gas sensor, it is possible to suppress an increase in the undershoot and overshoot of the measurement pump current due to the use of the gas sensor by determining whether or not the refresh is necessary and performing the refresh processing when it is determined that the refresh is necessary.
  • the refresh necessity judgment process is not limited to the process of making a judgment based on the measurement pump current itself, but the judgment is made based on a value that can be converted to the measurement pump current or a value that can be equated with the measurement pump current. Also includes processing. For example, the refresh necessity determination process may be performed based on at least one of undershoot and overshoot when the value of the specific gas concentration detected based on the measurement pump current changes suddenly. Further, it is preferable that the specific gas concentration detection unit does not perform the normal measurement pump control process during the refresh process, and more preferably does not perform the normal adjustment pump control process. During the refresh process, it is preferable that the measurement pump cell is not controlled to pump oxygen into the measurement chamber, and furthermore, the adjustment pump cell is controlled to pump oxygen into the oxygen concentration adjustment chamber. It is more preferable that no
  • the refresh processing may include the adjustment pump control processing during refresh.
  • the refresh adjustment pump control process is more effective in refreshing the sensor element than the refresh measurement pump control process. Therefore, by performing at least the adjustment pump control process during refresh in the refresh process, the effect of suppressing the undershoot and overshoot of the measurement pump current can be enhanced and the refresh process can be performed in a shorter time.
  • the refresh process may not include the pump control process for measurement during refresh.
  • the oxygen concentration adjustment chamber includes a first internal space and a downstream side of the first internal space and an upstream side of the measurement chamber. a second internal cavity provided in the regulating pump cell, wherein the regulating pump cell comprises a main pump cell for regulating the oxygen concentration in the first internal cavity and an auxiliary pump cell for regulating the oxygen concentration in the second internal cavity. and a pump cell, wherein the adjustment pump control process for refreshing controls the main pump cell so as to pump out more oxygen from the first internal space than the pump control process for normal adjustment. and controlling the auxiliary pump cell to pump out more oxygen in the second internal space than in the normal adjustment pump control process.
  • the gas to be measured is exhaust gas from an internal combustion engine
  • the necessity determination unit is configured to measure fuel from the internal combustion engine.
  • the refresh necessity determination process may be performed based on the behavior when the measurement pump current suddenly changes due to cutting. Undershoot and overshoot of the measuring pump current are likely to occur when the H 2 O concentration (moisture content) in the gas to be measured changes suddenly. Then, there is a high possibility that the H 2 O concentration changes suddenly when the fuel of the internal combustion engine is cut. Therefore, by determining the necessity of refreshing based on the behavior (at least one of undershoot and overshoot) when the measurement pump current suddenly changes due to fuel cut of the internal combustion engine, it is possible to more appropriately determine the necessity of refreshing.
  • the necessity determination unit determines the difference between the amount of undershoot and the amount of overshoot when the pump current for measurement changes suddenly. It may be determined that the refresh is necessary when at least one of them is out of the allowable range. In this way, it is possible to appropriately determine whether or not refresh is necessary based on at least one of the amount of undershoot and the amount of overshoot.
  • the refresh control section controls the refresh control section when the gas under measurement in the gas flow section under measurement can be regarded as containing carbon.
  • the refresh processing may be performed.
  • the refresh process must be performed in a state where the gas to be measured contains carbon. Therefore, by performing the refresh process when the gas to be measured in the gas flow portion to be measured can be considered to contain carbon, the refresh can be effectively performed. As a result, even if the refresh process is performed, for example, the undershoot and overshoot are not reduced, and the situation in which the refresh process is required again is unlikely to occur.
  • “the gas under measurement contains carbon” includes the case where the gas under measurement contains molecules having carbon. For example, if the gas to be measured is carbon (C), carbon monoxide (CO), carbon dioxide (CO 2 ), . A gas under test is said to contain carbon if it contains one or more hydrocarbons (HC).
  • the processing time of the refresh processing may be 1 second or more and 10 seconds or less. By setting the processing time to 1 second or longer, the sensor element can be refreshed more reliably. In addition, even if the refresh process is executed for a long period of time, the effect of refreshing is not so high, and the effect of refreshing is relatively high in the first 10 seconds after the start. Also, since the specific gas concentration cannot be detected correctly during the refresh process, it is preferable that the refresh process takes a short time. By setting the processing time to 10 seconds or less, it is possible to efficiently refresh the sensor element while shortening the time during which the concentration of the specific gas cannot be detected correctly.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the gas sensor 100;
  • FIG. 2 is a block diagram showing the electrical connection relationship between a control device 90 and each cell and heater 72;
  • 5 is a graph showing how the pump current Ip2 undershoots and overshoots;
  • 5 is a graph showing how the undershoot and overshoot of the pump current Ip2 in the sensor element 101 increase.
  • 7A and 7B are graphs showing the state of undershoot and overshoot before and after refresh processing;
  • 7 is a graph showing the relationship between the processing time of refresh processing and the effect of reducing the amount of undershoot;
  • 4 is a flow chart showing an example of a control routine;
  • 7 is a graph showing the relationship between the processing time of refresh processing and the effect of reducing the amount of undershoot;
  • FIG. 1 is a cross-sectional schematic diagram schematically showing an example of the configuration of a gas sensor 100 that is an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a block diagram showing electrical connections between the control device 90 and each cell and heater 72.
  • This gas sensor 100 is attached to a pipe such as an exhaust gas pipe of an internal combustion engine such as a gasoline engine or a diesel engine.
  • the gas sensor 100 detects the concentration of a specific gas such as NOx in the gas to be measured, which is exhaust gas from an internal combustion engine.
  • the gas sensor 100 includes a sensor element 101 having an elongated cuboid shape, cells 15, 21, 41, 50, 80 to 83 each configured to include a part of the sensor element 101, and provided inside the sensor element 101. and a control device 90 that controls the entire gas sensor 100 .
  • the sensor element 101 includes a first substrate layer 1, a second substrate layer 2, a third substrate layer 3, and a first solid electrolyte layer 4 each made of an oxygen ion conductive solid electrolyte layer such as zirconia (ZrO 2 ). , a spacer layer 5, and a second solid electrolyte layer 6 are laminated in this order from the lower side as seen in the drawing. Also, the solid electrolyte forming these six layers is dense and airtight.
  • the sensor element 101 is manufactured by, for example, performing predetermined processing and circuit pattern printing on ceramic green sheets corresponding to each layer, laminating them, and firing them to integrate them.
  • a gas introduction port 10 and a first Diffusion rate-limiting portion 11 , buffer space 12 , second diffusion rate-limiting portion 13 , first internal space 20 , third diffusion rate-limiting portion 30 , second internal space 40 , and fourth diffusion rate-limiting portion 60 , and the third internal space 61 are formed adjacently in a manner communicating with each other in this order.
  • the gas inlet 10, the buffer space 12, the first internal cavity 20, the second internal cavity 40, and the third internal cavity 61 are provided in the upper part provided by hollowing out the spacer layer 5.
  • the space inside the sensor element 101 is defined by the lower surface of the second solid electrolyte layer 6 , the upper surface of the first solid electrolyte layer 4 in the lower portion, and the side surface of the spacer layer 5 in the lateral portion.
  • Each of the first diffusion rate-controlling part 11, the second diffusion rate-controlling part 13, and the third diffusion rate-controlling part 30 is provided as two horizontally long slits (the openings of which have the longitudinal direction in the direction perpendicular to the drawing).
  • the fourth diffusion rate-controlling part 60 is provided as one horizontally long slit (the opening has its longitudinal direction in the direction perpendicular to the drawing) formed as a gap with the lower surface of the second solid electrolyte layer 6 .
  • a portion from the gas introduction port 10 to the third internal space 61 is also referred to as a measured gas flow portion.
  • a reference gas introduction space 43 is provided at a partitioned position. For example, atmospheric air is introduced into the reference gas introduction space 43 as a reference gas when measuring the NOx concentration.
  • the atmosphere introduction layer 48 is a layer made of porous ceramics, and the reference gas is introduced into the atmosphere introduction layer 48 through the reference gas introduction space 43 . Also, the atmosphere introduction layer 48 is formed so as to cover the reference electrode 42 .
  • the reference electrode 42 is an electrode formed in a manner sandwiched between the upper surface of the third substrate layer 3 and the first solid electrolyte layer 4, and as described above, is connected to the reference gas introduction space 43 around it.
  • An atmosphere introduction layer 48 is provided.
  • the reference electrode 42 can be used to measure the oxygen concentration (oxygen partial pressure) in the first internal space 20, the second internal space 40, and the third internal space 61. It is possible.
  • the reference electrode 42 is formed as a porous cermet electrode (eg, a Pt and ZrO 2 cermet electrode).
  • the gas inlet port 10 is a portion that is open to the external space, and the gas to be measured is taken into the sensor element 101 from the outer space through the gas inlet port 10 .
  • the first diffusion control portion 11 is a portion that imparts a predetermined diffusion resistance to the gas to be measured introduced from the gas inlet 10 .
  • the buffer space 12 is a space provided for guiding the gas to be measured introduced from the first diffusion rate controlling section 11 to the second diffusion rate controlling section 13 .
  • the second diffusion control portion 13 is a portion that imparts a predetermined diffusion resistance to the gas to be measured introduced from the buffer space 12 into the first internal space 20 .
  • the pressure fluctuation of the gas to be measured in the external space (the pulsation of the exhaust pressure if the gas to be measured is the exhaust gas of an automobile) ) is not introduced directly into the first internal space 20, but rather into the first diffusion rate-determining portion 11, the buffer space 12, the second After pressure fluctuations of the gas to be measured are canceled out through the diffusion control section 13 , the gas is introduced into the first internal cavity 20 .
  • the first internal space 20 is provided as a space for adjusting the oxygen partial pressure in the gas to be measured introduced through the second diffusion control section 13 .
  • the oxygen partial pressure is adjusted by operating the main pump cell 21 .
  • the main pump cell 21 includes an inner pump electrode 22 having a ceiling electrode portion 22a provided on substantially the entire lower surface of the second solid electrolyte layer 6 facing the first internal cavity 20, and an upper surface of the second solid electrolyte layer 6.
  • An electrochemical pump cell comprising an outer pump electrode 23 provided in a region corresponding to the ceiling electrode portion 22a in a manner exposed to the external space, and a second solid electrolyte layer 6 sandwiched between these electrodes.
  • the inner pump electrode 22 is formed across the upper and lower solid electrolyte layers (the second solid electrolyte layer 6 and the first solid electrolyte layer 4) that define the first internal cavity 20 and the spacer layer 5 that provides side walls.
  • a ceiling electrode portion 22a is formed on the lower surface of the second solid electrolyte layer 6 that provides the ceiling surface of the first internal cavity 20
  • a bottom electrode portion 22a is formed on the upper surface of the first solid electrolyte layer 4 that provides the bottom surface.
  • a spacer layer in which electrode portions 22b are formed, and side electrode portions (not shown) constitute both side wall portions of the first internal cavity 20 so as to connect the ceiling electrode portion 22a and the bottom electrode portion 22b. 5, and arranged in a tunnel-shaped structure at the arrangement portion of the side electrode portion.
  • the inner pump electrode 22 and the outer pump electrode 23 are formed as porous cermet electrodes (for example, cermet electrodes of Pt and ZrO 2 containing 1% Au).
  • the inner pump electrode 22 that comes into contact with the gas to be measured is made of a material that has a weakened ability to reduce NOx components in the gas to be measured.
  • a desired pump voltage Vp0 is applied between the inner pump electrode 22 and the outer pump electrode 23 to generate a positive or negative pump current between the inner pump electrode 22 and the outer pump electrode 23.
  • Ip0 By flowing Ip0, it is possible to pump oxygen in the first internal space 20 to the external space, or to pump oxygen in the external space into the first internal space 20 .
  • the third substrate layer 3 and the reference electrode 42 constitute an electrochemical sensor cell, that is, an oxygen partial pressure detection sensor cell 80 for main pump control.
  • the oxygen concentration (oxygen partial pressure) in the first internal space 20 can be known. Furthermore, the pump current Ip0 is controlled by feedback-controlling the pump voltage Vp0 of the variable power supply 24 so that the voltage V0 becomes the target value. Thereby, the oxygen concentration in the first internal space 20 can be kept at a predetermined constant value.
  • the third diffusion rate controlling section 30 applies a predetermined diffusion resistance to the gas under measurement whose oxygen concentration (oxygen partial pressure) is controlled by the operation of the main pump cell 21 in the first internal cavity 20, thereby reducing the gas under measurement. It is a portion that leads to the second internal space 40 .
  • the second internal space 40 is provided with the auxiliary pump cell 50 for the measurement gas introduced through the third diffusion control section 30 . It is provided as a space for adjusting the oxygen partial pressure by As a result, the oxygen concentration in the second internal space 40 can be kept constant with high accuracy, so that the gas sensor 100 can measure the NOx concentration with high accuracy.
  • the auxiliary pump cell 50 includes an auxiliary pump electrode 51 having a ceiling electrode portion 51a provided on substantially the entire lower surface of the second solid electrolyte layer 6 facing the second internal cavity 40, and an outer pump electrode 23 (outer pump electrode 23 any suitable electrode outside the sensor element 101 ) and the second solid electrolyte layer 6 .
  • the auxiliary pump electrode 51 is arranged in the second internal space 40 in the same tunnel-like structure as the inner pump electrode 22 provided in the first internal space 20 . That is, the ceiling electrode portion 51a is formed on the second solid electrolyte layer 6 that provides the ceiling surface of the second internal space 40, and the first solid electrolyte layer 4 that provides the bottom surface of the second internal space 40 has , bottom electrode portions 51b are formed, and side electrode portions (not shown) connecting the ceiling electrode portions 51a and the bottom electrode portions 51b are formed on the spacer layer 5 that provides the sidewalls of the second internal cavity 40. It has a tunnel-like structure formed on both walls. As with the inner pump electrode 22, the auxiliary pump electrode 51 is also made of a material having a weakened ability to reduce NOx components in the gas to be measured.
  • auxiliary pump cell 50 by applying a desired voltage Vp1 between the auxiliary pump electrode 51 and the outer pump electrode 23, oxygen in the atmosphere inside the second internal cavity 40 is pumped out to the external space, or It is possible to pump from the space into the second internal cavity 40 .
  • the auxiliary pump electrode 51, the reference electrode 42, the second solid electrolyte layer 6, the spacer layer 5, and the first solid electrolyte constitute an electrochemical sensor cell, that is, an oxygen partial pressure detection sensor cell 81 for controlling the auxiliary pump.
  • the auxiliary pump cell 50 performs pumping with the variable power supply 52 whose voltage is controlled based on the electromotive force (voltage V1) detected by the oxygen partial pressure detection sensor cell 81 for controlling the auxiliary pump. Thereby, the oxygen partial pressure in the atmosphere inside the second internal cavity 40 is controlled to a low partial pressure that does not substantially affect the measurement of NOx.
  • the pump current Ip1 is used to control the electromotive force of the oxygen partial pressure detection sensor cell 80 for main pump control. Specifically, the pump current Ip1 is input as a control signal to the oxygen partial pressure detection sensor cell 80 for controlling the main pump, and the above-described target value of the voltage V0 is controlled, whereby the third diffusion rate-determining section 30 2
  • the gradient of the oxygen partial pressure in the gas to be measured introduced into the internal space 40 is controlled to be constant.
  • the main pump cell 21 and the auxiliary pump cell 50 work to keep the oxygen concentration in the second internal cavity 40 at a constant value of approximately 0.001 ppm.
  • the fourth diffusion rate control section 60 applies a predetermined diffusion resistance to the gas under measurement whose oxygen concentration (oxygen partial pressure) is controlled by the operation of the auxiliary pump cell 50 in the second internal space 40, thereby reducing the gas under measurement. It is a portion that leads to the third internal space 61 .
  • the fourth diffusion control section 60 serves to limit the amount of NOx flowing into the third internal space 61 .
  • the third internal space 61 allows the measurement gas introduced through the fourth diffusion control section 60 to It is provided as a space for performing processing related to measurement of nitrogen oxide (NOx) concentration.
  • NOx concentration is measured mainly in the third internal space 61 by operating the measuring pump cell 41 .
  • the measuring pump cell 41 measures the NOx concentration in the gas to be measured within the third internal space 61 .
  • the measurement pump cell 41 includes a measurement electrode 44 provided on the upper surface of the first solid electrolyte layer 4 facing the third internal cavity 61 , an outer pump electrode 23 , a second solid electrolyte layer 6 and a spacer layer 5 . , and the first solid electrolyte layer 4 .
  • the measurement electrode 44 is a porous cermet electrode made of a material having a higher ability to reduce NOx components in the gas to be measured than the inner pump electrode 22 .
  • the measurement electrode 44 also functions as a NOx reduction catalyst that reduces NOx present in the atmosphere inside the third internal cavity 61 .
  • the measurement electrode 44 is an electrode containing at least one of Pt and Rh, which are noble metals having catalytic activity.
  • the measurement electrode 44 is preferably made of a cermet containing at least one of Pt and Rh and an oxide having oxygen ion conductivity (ZrO 2 in this case).
  • the measurement electrode 44 is a porous body.
  • the measuring electrode 44 is a porous cermet electrode of Pt, Rh and ZrO 2 .
  • oxygen generated by the decomposition of nitrogen oxides in the atmosphere around the measurement electrode 44 can be pumped out, and the amount of oxygen generated can be detected as the pump current Ip2.
  • the first solid electrolyte layer 4, the third substrate layer 3, the measuring electrode 44 and the reference electrode 42 form an electrochemical sensor cell, i.e.
  • An oxygen partial pressure detection sensor cell 82 for controlling the measuring pump is configured.
  • the variable power supply 46 is controlled based on the electromotive force (voltage V2) detected by the measuring pump controlling oxygen partial pressure detecting sensor cell 82 .
  • the measured gas guided into the second internal space 40 reaches the measurement electrode 44 in the third internal space 61 through the fourth diffusion control section 60 under the condition that the oxygen partial pressure is controlled. .
  • Nitrogen oxides in the gas to be measured around the measuring electrode 44 are reduced (2NO ⁇ N 2 +O 2 ) to generate oxygen.
  • the generated oxygen is pumped by the measurement pump cell 41.
  • the voltage V2 detected by the measurement pump control oxygen partial pressure detection sensor cell 82 is kept constant (target value).
  • the voltage Vp2 of the variable power supply 46 is controlled. Since the amount of oxygen generated around the measuring electrode 44 is proportional to the concentration of nitrogen oxides in the gas to be measured, the pump current Ip2 in the pump cell 41 for measurement is used to measure the nitrogen oxides in the gas to be measured. The concentration will be calculated.
  • An electrochemical sensor cell 83 is composed of the second solid electrolyte layer 6, the spacer layer 5, the first solid electrolyte layer 4, the third substrate layer 3, the outer pump electrode 23, and the reference electrode 42.
  • the electromotive force (voltage Vref) obtained by the sensor cell 83 can be used to detect the partial pressure of oxygen in the gas to be measured outside the sensor.
  • the oxygen partial pressure is always kept at a constant low value (a value that does not substantially affect NOx measurement).
  • a gas to be measured is supplied to the measuring pump cell 41 . Therefore, the NOx concentration in the gas to be measured is determined based on the pump current Ip2 that flows when the oxygen generated by the reduction of NOx is pumped out of the measuring pump cell 41 in substantially proportion to the concentration of NOx in the gas to be measured. It is possible to know.
  • the sensor element 101 is provided with a heater section 70 that plays a role of temperature adjustment for heating and keeping the sensor element 101 warm in order to increase the oxygen ion conductivity of the solid electrolyte.
  • the heater section 70 includes heater connector electrodes 71 , heaters 72 , through holes 73 , heater insulating layers 74 , and pressure dissipation holes 75 .
  • the heater connector electrode 71 is an electrode formed so as to be in contact with the lower surface of the first substrate layer 1 . By connecting the heater connector electrode 71 to an external power source, power can be supplied to the heater section 70 from the outside.
  • the heater 72 is an electric resistor that is sandwiched between the second substrate layer 2 and the third substrate layer 3 from above and below.
  • the heater 72 is connected to a heater connector electrode 71 through a through hole 73 , and is supplied with power from a heater power supply 76 (see FIG. 2) through the heater connector electrode 71 to generate heat and form a solid state sensor element 101 . Heats and keeps the electrolyte warm.
  • the heater 72 is embedded over the entire area from the first internal space 20 to the third internal space 61, and it is possible to adjust the entire sensor element 101 to a temperature at which the solid electrolyte is activated. ing.
  • the heater insulating layer 74 is an insulating layer formed on the upper and lower surfaces of the heater 72 with an insulator such as alumina.
  • the heater insulating layer 74 is formed for the purpose of providing electrical insulation between the second substrate layer 2 and the heater 72 and electrical insulation between the third substrate layer 3 and the heater 72 .
  • the pressure dissipation hole 75 is a portion that is provided so as to penetrate the third substrate layer 3 and the atmosphere introduction layer 48 and communicate with the reference gas introduction space 43 . It is formed for the purpose of alleviating
  • the control device 90 includes the above-described variable power sources 24, 46, 52, the heater power source 76, and a control section 91, as shown in FIG.
  • the control unit 91 is a microprocessor including a CPU 92, a storage unit 94, and the like.
  • the storage unit 94 is a device that stores various programs and various data, for example.
  • the control unit 91 controls the voltage V0 detected by the main pump control oxygen partial pressure detection sensor cell 80, the voltage V1 detected by the auxiliary pump control oxygen partial pressure detection sensor cell 81, and the measurement pump control oxygen partial pressure detection.
  • the voltage V2 detected by the sensor cell 82, the voltage Vref detected by the sensor cell 83, the pump current Ip0 detected by the main pump cell 21, the pump current Ip1 detected by the auxiliary pump cell 50, and the measurement pump cell 41 Input the detected pump current Ip2. Further, the control unit 91 outputs control signals to the variable power sources 24, 46 and 52 to control the pump voltages Vp0, Vp1 and Vp2 output by the variable power sources 24, 46 and 52, thereby controlling the main pump cell 21, measurement The primary pump cell 41 and the auxiliary pump cell 50 are controlled. The control unit 91 controls power supplied to the heater 72 by the heater power supply 76 by outputting a control signal to the heater power supply 76 .
  • the storage unit 94 also stores target values V0*, V0r*, V1*, V1r*, V2*, V2r*, etc., which will be described later.
  • the CPU 92 of the control unit 91 refers to these target values V0*, V0r*, V1*, V1r*, V2*, V2r* and controls each cell 21, 41, 50.
  • FIG. 1
  • the control unit 91 performs normal auxiliary pump control processing for controlling the auxiliary pump cell 50 so that the oxygen concentration in the second internal space 40 reaches the target concentration. Specifically, the control unit 91 controls the auxiliary pump cell 50 by feedback-controlling the voltage Vp1 of the variable power supply 52 so that the voltage V1 becomes a constant value (referred to as a target value V1*).
  • the target value V1* is determined as a value such that the oxygen concentration in the second internal space 40 becomes a predetermined low concentration that does not substantially affect the measurement of NOx.
  • the control unit 91 controls the pump current Ip1 that flows when the auxiliary pump cell 50 adjusts the oxygen concentration in the second internal space 40 by the normal-time auxiliary pump control process to become a target current (referred to as a target current Ip1*).
  • a normal main pump control process for controlling the pump cell 21 is performed.
  • the control unit 91 sets the target value of the voltage V0 (referred to as the target value V0*) based on the pump current Ip1 so that the pump current Ip1 flowing by the voltage Vp1 becomes a constant target current Ip1*. (feedback control).
  • the control unit 91 feedback-controls the pump voltage Vp0 of the variable power supply 24 so that the voltage V0 becomes the target value V0* (that is, so that the oxygen concentration in the first internal space 20 becomes the target concentration). Due to this normal main pump control process, the gradient of the partial pressure of oxygen in the gas to be measured introduced from the third diffusion control section 30 into the second internal space 40 is always kept constant.
  • the target value V0* is set to a value such that the oxygen concentration in the first internal space 20 is higher than 0% and is low.
  • the pump current Ip0 flowing during the normal main pump control process depends on the oxygen concentration of the measured gas flowing into the measured gas flow section from the gas inlet 10 (that is, the measured gas surrounding the sensor element 101). change by Therefore, the control section 91 can also detect the oxygen concentration in the gas under measurement based on the pump current Ip0.
  • the normal main pump control process and the normal auxiliary pump control process described above are collectively referred to as the normal adjustment pump control process.
  • the first internal space 20 and the second internal space 40 are collectively referred to as an oxygen concentration adjustment chamber.
  • the main pump cell 21 and the auxiliary pump cell 50 are also collectively referred to as adjustment pump cells.
  • the adjustment pump cell adjusts the oxygen concentration in the oxygen concentration adjustment chamber by the control unit 91 performing normal adjustment pump control processing.
  • control unit 91 controls the measuring pump cell 41 so that the voltage V2 becomes a constant value (referred to as a target value V2*) (that is, so that the oxygen concentration in the third internal space 61 becomes a predetermined low concentration).
  • the normal measurement pump control process for controlling is performed. Specifically, the control unit 91 controls the measurement pump cell 41 by feedback-controlling the voltage Vp2 of the variable power supply 46 so that the voltage V2 becomes the target value V2*. Oxygen is pumped out of the third internal space 61 by this normal measurement pump control process.
  • the control unit 91 acquires the pump current Ip2 as a detected value corresponding to the oxygen generated in the third internal cavity 61 due to the specific gas (here, NOx), and based on this pump current Ip2, the measured value is measured. Calculate the NOx concentration in the gas.
  • the storage unit 94 stores a relational expression (for example, a linear function expression), a map, etc. as the correspondence relationship between the pump current Ip2 and the NOx concentration.
  • a relational expression or map can be obtained in advance by experiments.
  • FIG. 3 is a graph showing how the pump current Ip2 undershoots and overshoots.
  • FIG. 3 shows, with a solid line, an example of the behavior of the pump current Ip2 when the fuel of the internal combustion engine is cut while the gas sensor 100 is measuring the NOx concentration in the gas to be measured. Also, the behavior of the ideal pump current Ip2 is indicated by a dashed line.
  • the pump current Ip2 which is a value corresponding to the NOx concentration, quickly follows the start of fuel cut and changes to a corresponding value (see FIG. 3). 3 changes from I1 to I0). Also, when the fuel cut is completed, the value should change to a corresponding value immediately following this (change from I0 to I1 in FIG. 3). However, in reality, as indicated by the solid line in FIG. 3, the pump current Ip2 undergoes excessive output fluctuations that are different from changes in the actual NOx concentration.
  • an undershoot occurs in the pump current Ip2 in which the value once excessively drops and then rises to a value corresponding to the actual NOx concentration.
  • the pump current Ip2 once excessively increases and then overshoots to a value corresponding to the actual NOx concentration.
  • the overshoot and undershoot of the pump current Ip2 may not occur, but the overshoot and undershoot tend to increase as the gas sensor 100 is used.
  • the amount of undershoot and the amount of overshoot shown in FIG. 3 tend to increase as the gas sensor 100 is used.
  • the amount of undershoot can be calculated, for example, as the difference between the lowest value when the pump current Ip2 drops excessively and the value when the pump current Ip2 stabilizes thereafter.
  • the overshoot amount can be calculated, for example, as a difference value between the maximum value when the pump current Ip2 rises excessively and the value when the pump current Ip2 stabilizes thereafter.
  • the amount of undershoot and the amount of overshoot can be calculated as the maximum value of the difference between the value when excessive output fluctuation occurs in the pump current Ip2 and the value of the ideal pump current Ip2.
  • the gas sensor 100 can be used by performing a process of controlling the sensor element 101 so as to pump out more oxygen from the gas flow part to be measured than when measuring the specific gas concentration (normal time). It has been found that the accompanying increased undershoot and overshoot can be reduced.
  • This processing is called refresh processing.
  • the refresh process includes a refresh adjustment pump control process for controlling the adjustment pump cell so as to pump out more oxygen from the oxygen concentration adjustment chamber than the normal adjustment pump control process, and a normal adjustment pump control process. and/or a refresh measurement pump control process for controlling the measurement pump cell 41 to pump out more oxygen in the third internal cavity 61 than the refresh pump control process.
  • the refresh measurement pump control process performs feedback control of the voltage Vp2 of the variable power supply 46 so that the voltage V2 becomes a target value V2r* higher than the above-described target value V2*.
  • the voltage V2 is a value related to the oxygen concentration difference between the surroundings of the reference electrode 42 and the third internal space 61.
  • the lower the oxygen concentration in the third internal space 61 the greater the oxygen concentration difference and the higher the voltage V2. become. Therefore, the fact that the target value V2r* is higher than the target value V2* means that when the refresh-time measurement pump control process is executed, the third internal empty space is higher than when the normal-time measurement pump control process is executed. It means setting the target value of the oxygen concentration at the place 61 to a lower value. Therefore, in this refreshing measurement pump control process, the measurement pump cell 41 is controlled so as to pump out more oxygen from the third internal space 61 than in the normal measurement pump control process.
  • the refresh adjustment pump control process includes a refresh main pump control process for controlling the main pump cell 21 so as to pump out more oxygen from the first internal space 20 than the normal main pump control process, and a normal auxiliary pump control process. and/or a refresh-time auxiliary pump control process that controls the auxiliary pump cell 50 to pump more oxygen out of the second internal cavity 40 than the pump control process.
  • the main pump control process during refresh and the auxiliary pump control process during refresh are processes in which the target value of feedback control is set to a higher value than in normal times, as in the measurement pump control process during refresh.
  • the main pump control process during refresh is a process of feedback-controlling the pump voltage Vp0 of the variable power supply 24 so that the voltage V0 becomes a predetermined target value V0r* higher than the above-described target value V0*.
  • the target value V0* is set (changed) based on the pump current Ip1, but in the refresh main pump control process, the target value V0r* is not changed based on the pump current Ip1.
  • a predetermined value is used.
  • the refresh time auxiliary pump control process is the same as the normal time auxiliary pump control process except that the voltage Vp1 of the variable power supply 52 is feedback-controlled so that the voltage V1 becomes a predetermined target value V1r* higher than the target value V1*.
  • the refresh process it is preferable not to perform the normal measurement pump control process, and more preferably not to perform the normal adjustment pump control process. It is preferable that the measurement pump cell 41 is not controlled to pump oxygen into the third internal cavity 61 during the refresh process, and furthermore, the main pump cell 21 is controlled to pump oxygen into the first internal cavity 20 . It is more preferable that no such control and auxiliary pump cell 50 pumping oxygen into the second internal cavity 40 is performed. For example, when the refresh measurement pump control process is performed, the normal measurement pump control process cannot be performed, but it is preferable not to perform the normal adjustment pump control process.
  • variable power supply 24 and the variable power supply 52 do not apply a voltage, and the main pump cell 21 and the auxiliary pump cell 50 are in a non-operating state.
  • variable power supply 52 and the variable power supply 46 do not apply voltage, and the auxiliary pump cell 50 and the measurement pump cell 41 are in a non-operating state.
  • variable power supply 24 and the variable power supply 46 do not apply voltage, and the main pump cell 21 and the measurement pump cell 41 are in a non-operating state.
  • the pump cells not used for the refresh process are not subjected to the normal pump control process and the control for pumping oxygen. , preferably the pump cell is not operated.
  • FIG. 4 is a graph showing how the undershoot and overshoot of the pump current Ip2 in the actual sensor element 101 increase. This graph was obtained as follows. A state in which the controller 90 controls the sensor element 101 to measure the NOx concentration in a state in which the sensor element 101 is attached to the pipe and a model gas as the gas to be measured is flowed through the pipe using the model gas apparatus. bottom. As a model gas, the first model gas (NO concentration 500 ppm, H 2 O concentration 12%, oxygen concentration 0%, base gas is nitrogen) was flowed first, and then the second model gas (NO concentration 0 ppm, H 2 O concentration 0) was flowed.
  • the first model gas NO concentration 500 ppm, H 2 O concentration 12%, oxygen concentration 0%, base gas is nitrogen
  • the first model gas is flowed again to rapidly change the NO concentration, H 2 O concentration, and oxygen concentration of the gas to be measured, and the fuel is cut.
  • the flow rate of the model gas was 100 L/min, and the temperature was 120°C.
  • Then, the time change of the pump current Ip2 at this time was measured.
  • the dashed line in FIG. 4 represents the change over time of the pump current Ip2 in the sensor element 101 in the initial state (immediately after manufacture).
  • the solid line in FIG. 4 represents the change over time of the pump current Ip2 in the sensor element 101 simulating the state after being used from the initial state.
  • the sensor element 101 in the initial state was left in the atmosphere for 5 minutes while the heater 72 was energized and the temperature was maintained at about 700° C. to 800° C. to prepare the sensor element 101 simulating the state after use. As shown in FIG. 4, the sensor element 101 in the initial state had almost no overshoot and undershoot, whereas the sensor element 101 simulating the state after use had increased overshoot and undershoot. .
  • the sensor element 101 simulating the state after use was refreshed as follows.
  • a model gas having a CO 2 concentration of 15%, an H 2 O concentration of 15%, and nitrogen as the base gas was flowed through the piping to which the sensor element 101 was attached as the gas to be measured.
  • the target value V0r* of the main pump control process during refresh was set to 1000 mV, and the processing time was set to 300 seconds.
  • no voltage was applied to the variable power supply 46 and the variable power supply 52, and the measurement pump cell 41 and the auxiliary pump cell 50 were in a non-operating state.
  • the solid line in FIG. 5 represents the change over time of the pump current Ip2 in the sensor element 101 before refresh processing.
  • the dashed line in FIG. 5 represents the change over time of the pump current Ip2 in the sensor element 101 after the refresh process.
  • undershoot and overshoot were reduced by performing the refresh process, and the sensor element 101 recovered to almost the same state as the sensor element 101 in the initial state shown in FIG. Since the waveform of the pump current Ip2 causes the undershoot and overshoot, it is considered that the measurement electrode 44 among the sensor elements 101 in particular is refreshed by the refresh process.
  • the target value V2r* was set to 1000 mV when performing the pump control process for measurement during refresh, and the main pump cell 21 and the auxiliary pump cell 50 were in a non-operating state during this process.
  • the vertical axis of FIG. 6 is based on the initial value of the undershoot amount (a small value close to zero) of the sensor element 101 in the initial state, and the difference ⁇ US between the initial value and the undershoot amount after the refresh processing. Expressed as a percentage. It means that the closer the difference ⁇ US is to 0%, the more the undershoot amount is reduced and the sensor element 101 is recovered (refreshed) to the same state as the initial state.
  • the difference ⁇ US is to 0%
  • the difference ⁇ US is about ⁇ 450% (the amount of undershoot is the initial value 5.5 times), it was confirmed that the longer the treatment time, the closer the difference ⁇ US to 0%.
  • the results of the main pump control process during refresh and the auxiliary pump control process during refresh are significantly higher.
  • the adjustment pump control process during refresh (here, the main pump control process during refresh and the auxiliary pump control process during refresh) is more effective in refreshing the sensor element 101 than the measurement pump control process during refresh. confirmed. Therefore, the refresh process preferably includes a pump control process for adjustment during refresh. Further, as can be seen from FIG. 6 and Table 1, it was confirmed that the difference ⁇ US rapidly approached 0% when the processing time was 10 seconds or less, and thereafter tended to approach 0% relatively gently.
  • the processing time of the refresh processing is preferably 1 second or longer.
  • the refresh process must be performed in a state in which the gas to be measured in the gas circulation portion to be measured contains carbon.
  • the gas under measurement contains carbon includes the case where the gas under measurement contains molecules having carbon.
  • the gas to be measured is carbon (C), carbon monoxide (CO), carbon dioxide (CO 2 ), .
  • a gas under test is said to contain carbon if it contains one or more hydrocarbons (HC).
  • the refresh process in the above example was performed using a model gas with a CO 2 concentration of 15%, an H 2 O concentration of 15%, and nitrogen as the base gas . However, no effect of reducing undershoot and overshoot was observed. Also, when the refresh process was performed using a model gas containing ethylene (C 2 H 4 ) instead of containing no CO 2 , an effect of reducing undershoot and overshoot was confirmed.
  • the reason why the effect of the refresh process can be obtained when the gas to be measured contains carbon is considered as follows. First, at least one of carbon (C), carbon monoxide (CO) and hydrocarbon (HC) adheres to the measurement electrode 44 in the sensor element 101 in the initial state (immediately after manufacture). It is considered that shoots do not occur or become smaller. It is considered that undershoot and overshoot increase as the above-mentioned substance adhering to the measurement electrode 44 decreases as the sensor element 101 is used.
  • oxygen in the gas to be measured in the gas circulation portion to be measured is pumped out more than usual, and the atmosphere becomes a more reducing atmosphere than usual.
  • hydrocarbons (HC) tend to adhere to the measurement electrode 44 by performing the refresh process. Therefore, in this case as well, the measurement electrode 44 can be restored (refreshed) to the same state as the initial state, and undershoot and overshoot can be reduced.
  • FIG. 7 is a flowchart showing an example of a control routine executed by the control section 91.
  • the control unit 91 stores this routine in the storage unit 94, for example.
  • the control unit 91 controls, for example, power supplied to the heater 72 by the heater power supply 76, and starts this control routine when the temperature of the heater 72 reaches a target temperature (eg, 800° C.).
  • a target temperature eg, 800° C.
  • the CPU 92 of the control unit 91 first starts normal control processing for measuring the NOx concentration (step S100).
  • the CPU 92 performs the above-described normal time adjustment pump control process (normal time main pump control process and normal time auxiliary pump control process) and the above-described normal time measurement pump control process.
  • the CPU 92 calculates the NOx concentration in the gas under measurement based on the pump current Ip2 that flows by the normal measurement pump control process.
  • the necessity determination timing is timing at which an undershoot or an overshoot may occur in the pump current Ip2. As described in Patent Document 2, undershoot and overshoot are likely to occur when the H 2 O concentration in the gas to be measured changes. Therefore, it is preferable to set the timing at which it can be considered that the H 2 O concentration in the gas to be measured in the gas circulation portion to be measured has suddenly changed, as the necessity determination timing. In the present embodiment, the necessity determination timing is set to the start of fuel cut of the internal combustion engine.
  • the control unit 91 detects the start of fuel cut based on fuel cut execution information obtained from an engine ECU (not shown) of the internal combustion engine.
  • the CPU 92 determines at predetermined time intervals whether or not it has acquired fuel cut execution information indicating that the fuel has been cut from the engine ECU. It is determined that it is the necessity determination timing.
  • step S110 If it is determined in step S110 that it is time to determine the necessity of refreshing, the CPU 92 calculates the amount of undershoot of the pump current Ip2 and determines whether the calculated value is within the allowable range. Processing is performed (step S120). In the present embodiment, it is determined that it is time to determine the necessity of fuel cut when fuel cut is started, so immediately after that, the pump current Ip2 abruptly decreases as shown in FIGS. The CPU 92 calculates the amount of undershoot from the behavior (waveform) of the pump current Ip2 at this time.
  • the determination in step S120 may be performed by comparing the undershoot amount itself calculated this time with the allowable range, or the undershoot amount (initial value) in the initial state of the sensor element 101 and the undershoot calculated this time. It may be performed by comparing the difference with the amount and the allowable range.
  • the upper limit of the allowable range is set as the value of the pump current Ip2 corresponding to the NOx concentration of 5 ppm, and if the undershoot amount itself exceeds this upper limit, even if it is determined that it is out of the allowable range. good.
  • the difference between the initial value and the current undershoot amount exceeds this upper limit value, it may be determined that the difference is out of the allowable range.
  • Information on the allowable range and initial values may be stored in the storage unit 94 in advance.
  • the CPU 92 determines that refresh processing is necessary, and sets flag F to value 1 (step S130).
  • Flag F is set to a value of 1 when refresh processing is required, and set to a value of 0 when refresh processing is not required and at the start of the control routine.
  • step S140 determines whether or not it is time to execute the refresh process.
  • the execution timing of the refresh process is the timing at which the measured gas in the measured gas circulation section can be considered to contain carbon. In this embodiment, the execution timing is during operation of the internal combustion engine (other than during fuel cut). Except when the fuel is cut, the gas to be measured basically contains carbon (especially CO 2 ), so it is suitable for refresh processing.
  • the CPU 92 determines whether or not it is time to execute the refresh process based on fuel cut execution information acquired from an engine ECU (not shown) of the internal combustion engine. For example, the CPU 92 determines at predetermined time intervals whether or not fuel cut execution information indicating that the fuel has been cut has been acquired from the engine ECU. It is determined that it is in operation other than the above and that it is time to execute the refresh process.
  • step S140 determines whether the flag F has a value of 1 (step S150). Stop (step S160) and execute refresh processing (step S170). That is, when it is time to execute the refresh process and it is determined that the refresh is necessary (flag F has a value of 1), the CPU 92 performs the refresh process.
  • the CPU 92 executes the main pump control process during refresh for 10 seconds as the refresh process, for example. In this case, since the normal time control process is stopped in step S160, the normal time auxiliary pump control process and the normal time measurement pump control process are not performed during the refresh process.
  • the CPU 92 sets the flag F to a value of 0 (step S180), starts the normal control process again (step S190), and starts detecting the NOx concentration.
  • step S190 After starting the normal time control process in step S190, when it is determined that it is not time to execute the refresh process in step S140, or when the flag F is not the value 1 in step S150, the CPU 92 executes the process after step S110. do.
  • the control routine of FIG. 7 By executing the control routine of FIG. 7 by the CPU 92 as described above, it is possible to perform the refresh process as necessary while measuring the NOx concentration.
  • the refresh process of the present invention can be performed not only during manufacturing or maintenance of the gas sensor 100 but also during use of the gas sensor 100 (for example, during operation of the internal combustion engine).
  • the correspondence between the components of this embodiment and the components of the present invention will be clarified.
  • Six layers of the first substrate layer 1, the second substrate layer 2, the third substrate layer 3, the first solid electrolyte layer 4, the spacer layer 5, and the second solid electrolyte layer 6 of the present embodiment are laminated in this order.
  • the laminate corresponds to the element main body of the present invention
  • the outer pump electrode 23 corresponds to the outer measuring electrode
  • the third internal cavity 61 corresponds to the measuring chamber
  • the measuring electrode 44 corresponds to the inner measuring electrode
  • the measuring electrode 44 corresponds to the inner measuring electrode.
  • the pump cell 41 corresponds to the measuring pump cell
  • the first internal cavity 20 and the second internal cavity 40 correspond to the oxygen concentration adjusting chamber
  • the main pump cell 21 and the auxiliary pump cell 50 correspond to the adjusting pump cell
  • the reference electrode 42 . corresponds to the reference electrode
  • the measuring pump control oxygen partial pressure detecting sensor cell 82 corresponds to the measuring voltage detecting sensor cell
  • the sensor element 101 corresponds to the sensor element
  • the pump current Ip2 corresponds to the measuring pump current
  • the control device 90 corresponds to the specific gas concentration detection section, the necessity determination section, and the refresh control section.
  • the control device 90 performs the refresh necessity determination process for determining whether the sensor element 101 needs to be refreshed based on the undershoot when the pump current Ip2 changes suddenly.
  • refresh processing is performed.
  • the adjustment pump cells here, The measurement pump cell 41 is operated so as to pump out more oxygen from the third internal cavity 61 than the refresh adjustment pump control process for controlling the main pump cell 21 and the auxiliary pump cell 50
  • the normal measurement pump control process for controlling the main pump cell 21 and the auxiliary pump cell 50
  • at least one of control processing for the measurement pump during refreshment By performing such refresh processing, an increase in undershoot and overshoot of the pump current Ip2 due to use of the gas sensor 100 can be suppressed.
  • the refresh process includes a pump control process for adjustment during refresh.
  • the refresh adjustment pump control process is more effective in refreshing the sensor element 101 than the refresh measurement pump control process. Therefore, by performing at least the pump control process for adjustment during refresh in the refresh process, the effect of suppressing the undershoot and overshoot of the pump current Ip2 can be enhanced and the refresh process can be performed in a shorter time.
  • the oxygen concentration adjustment chamber comprises a first internal space 20 and a second internal space 40 provided downstream of the first internal space 20 and upstream of the third internal space 61.
  • the adjustment pump cell has a main pump cell 21 for adjusting the oxygen concentration in the first internal space 20 and an auxiliary pump cell 50 for adjusting the oxygen concentration in the second internal space 40 .
  • the refresh adjustment pump control process includes a process of controlling the main pump cell 21 so as to pump out more oxygen from the first internal cavity 20 than the normal adjustment pump control process, and a normal adjustment pump control process. and/or controlling the auxiliary pump cell 50 to pump more oxygen out of the second internal cavity 40 than the control process.
  • the gas to be measured is the exhaust gas of the internal combustion engine, and the control unit 91 performs the refresh necessity determination process based on the behavior when the pump current Ip2 suddenly changes due to the fuel cut of the internal combustion engine.
  • the undershoot of the pump current Ip2 tends to occur when the H 2 O concentration in the gas to be measured changes suddenly, not when the NOx concentration changes suddenly.
  • the gas to be measured is temporarily in the same state as the atmosphere, so there is a high possibility that the H 2 O concentration will suddenly change. Therefore, it is possible to more appropriately determine the necessity of refreshing by determining the necessity of refreshing based on the behavior of the pump current Ip2 when the pump current Ip2 suddenly changes due to the fuel cut of the internal combustion engine.
  • the refresh necessity determination process is performed in this case, it may be determined that the refresh process is unnecessary, and the necessity determination may not be properly performed.
  • the refresh necessity determination process by performing the refresh necessity determination process at the time of fuel cut when there is a high possibility that the H 2 O concentration suddenly changes, it is possible to more appropriately determine the necessity of refresh.
  • control device 90 determines that the sensor element 101 needs to be refreshed when the amount of undershoot at the time of sudden change in the pump current Ip2 is out of the allowable range. This makes it possible to appropriately determine whether or not refresh is necessary based on the amount of undershoot.
  • the control device 90 performs refresh processing when it can be assumed that the gas to be measured in the gas circulation part to be measured contains carbon. Since the refresh process must be performed in a state in which the gas to be measured contains carbon, the refresh process can be performed when the gas to be measured in the gas flow part to be measured can be considered to contain carbon, thereby performing the refresh effectively. can be done. As a result, even if the refresh process is performed, for example, the undershoot and overshoot are not reduced, and the situation in which the refresh process is required again is unlikely to occur.
  • the processing time of the refresh process is 1 second or more and 10 seconds or less. By setting the processing time to 1 second or longer, the sensor element 101 can be refreshed more reliably. In addition, even if the refresh process is executed for a long period of time, the effect of refreshing is not so high, and the effect of refreshing is relatively high in the first 10 seconds after the start. Also, since the NOx concentration cannot be detected correctly during the refresh process, it is preferable that the refresh process takes a short time. By setting the processing time to 10 seconds or less, it is possible to efficiently refresh the sensor element 101 while shortening the time during which the NOx concentration cannot be detected correctly.
  • the undershoot and overshoot of the pump current Ip2 may not be sufficiently reduced in one refresh process.
  • it is determined that the refresh process is necessary in the next refresh necessity determination process for example, step S120 after performing step S170 in FIG. 7
  • the refresh process is executed again. Therefore, the refresh process is repeatedly executed until the refresh necessity determination process determines that the refresh process is unnecessary, and the undershoot and overshoot are reduced to such an extent that the refresh process is finally determined to be unnecessary.
  • the light-off time of the sensor element 101 can be shortened. For example, it may take some time from when the normal control process is started in step S190 of FIG. 7 until the pump current Ip2 reaches a value corresponding to the NOx concentration. This time is called a light-off time, and the NOx concentration cannot be measured correctly until the light-off time has passed. The longer the refresh processing time, the longer the light-off time tends to be.
  • the processing time of the refresh process to 10 seconds or less, the light-off time of the sensor element 101 can be shortened, and measurement of the NOx concentration can be started immediately after the refresh process.
  • the CPU 92 determines the necessity of refresh processing based on the amount of undershoot of the pump current Ip2. It suffices to determine whether or not it is necessary. For example, the necessity of refresh processing may be determined based on the minimum undershoot value of the pump current Ip2. Alternatively, the necessity of refresh processing may be determined based on the undershoot time, which is the time from when the pump current Ip2 reaches the minimum undershoot value to when the pump current Ip2 stabilizes thereafter. Further, the CPU 92 may determine the necessity of the refresh process based on the overshoot of the pump current Ip2.
  • the necessity of the refresh process may be determined based on the amount of overshoot of the pump current Ip2.
  • the necessity of the refresh process may be determined based on the maximum overshoot value of the pump current Ip2.
  • the necessity of refresh processing may be determined based on the overshoot time, which is the time from when the pump current Ip2 reaches the maximum overshoot value until the pump current Ip2 stabilizes thereafter.
  • the CPU 92 may determine the necessity of refresh processing based on both the undershoot and overshoot of the pump current Ip2.
  • the necessity determination timing of the determination in step S110 may be the timing at which overshoot may occur, for example, the end of the fuel cut. good.
  • the end of the fuel cut can be detected based on the above-described fuel cut execution information in the same manner as the start of the fuel cut.
  • the CPU 92 determines at predetermined time intervals whether or not fuel cut execution information indicating that the fuel has been cut has been acquired from the engine ECU. When it is no longer acquired, it may be determined that it is time to determine the necessity because the fuel cut has ended.
  • the necessity of refreshing is determined based on the undershoot of the pump current Ip2.
  • the determination may be made based on a value that can be equated with the current Ip2.
  • the necessity of refreshing may be determined based on the behavior (at least one of undershoot and overshoot) of the NOx concentration [ppm] based on the pump current Ip2.
  • the refresh processing in step S170 is the main pump control processing during refresh.
  • the main pump control process during refresh should be included. Therefore, in step S170, one or more of the main pump control process during refresh, the auxiliary pump control process during refresh, and the measurement pump control process during refresh may be executed.
  • the refresh process is not the main pump control process during refresh. and at least one of auxiliary pump control processing during refresh.
  • the main pump control process during refresh, the auxiliary pump control process during refresh, and the measurement pump control process during refresh are all processes in which the target value is set higher than in normal times. It is sufficient that the processing is controlled so as to pump out more oxygen in the gas flow portion to be measured than in comparison.
  • the control process at the time of refresh may be a process of performing constant voltage control of the pump cell without performing feedback control using the target value, or a process of performing constant current control of the pump cell.
  • the CPU 92 controls the variable power supply 24 so that the pump voltage Vp0 becomes a predetermined constant voltage higher than the value during the normal main pump control process without feedback control. It may be processed.
  • the refresh main pump control process may be a process in which the CPU 92 controls the variable power supply 24 so that the pump current Ip0 becomes a predetermined constant current higher than the value during the normal main pump control process.
  • the execution timing of the refresh process is exemplified during the operation of the internal combustion engine other than when the fuel is cut.
  • the execution timing is when the hybrid vehicle is running on electricity (when the engine is stopped) and when the exhaust gas is stationary (when exhaust gas remains around the sensor element 101). good too.
  • the execution timing may be the timing at which it can be assumed that the gas to be measured is not in the atmosphere.
  • the refresh process may be performed without determining whether or not it is time to execute, that is, whether or not the gas to be measured in the gas flow section to be measured can be considered to contain carbon. For example, when the sensor element 101 is performing the control routine of FIG.
  • step S140 may be omitted.
  • the refresh process is performed during fuel cut rather than during operation, and the undershoot and overshoot of the pump current Ip2 may not be reduced.
  • it is determined in the next refresh necessity determination process that the refresh process is necessary, and the refresh process is executed again. can get.
  • the NOx concentration cannot be measured correctly during the refresh process as described above, it is preferable to determine whether or not it is time to execute the refresh process in order to reduce such time as much as possible.
  • the CPU 92 detects the start time of the fuel cut based on the fuel cut execution information and the time other than the fuel cut. good too.
  • the pump current Ip0 flowing during the normal main pump control process is determined by the oxygen concentration of the gas to be measured flowing from the gas inlet 10 into the gas flow part to be measured (that is, the gas to be measured around the sensor element 101). Varies depending on When the gas to be measured is the exhaust gas of an internal combustion engine, the oxygen concentration in the gas to be measured becomes approximately the same as the oxygen concentration in the atmosphere when the fuel is cut.
  • the CPU 92 determines whether the pump current Ip0 flowing during the normal main pump control process is a value corresponding to a predetermined range of concentration (for example, 20 to 22%) that can be regarded as being the same as the oxygen concentration in the atmosphere. , it can be determined whether or not the fuel is being cut. Therefore, for example, the CPU 92 may determine in step S110 whether or not it is time to start fuel cut based on the pump current Ip0, and if it is time to start, it may be determined that it is time to determine whether or not fuel cut is necessary. In step S140, the CPU 92 may determine whether or not the fuel is being cut based on the pump current Ip0, and may determine that it is time to execute the refresh process if the fuel is not being cut.
  • a predetermined range of concentration for example, 20 to 226%
  • step S120 If it is determined in step S120 whether or not the refresh process is necessary based on the amount of overshoot of the pump current Ip2, the CPU 92 determines in step S110 whether or not the fuel cut is finished based on the pump current Ip0. If it is the end time, it may be determined that it is the necessity determination timing.
  • fuel cut may be started during the refresh process in step S170.
  • the refresh process may be terminated without waiting for the processing time (10 seconds in the above embodiment) to elapse.
  • the oxygen concentration adjustment chamber has the first internal space 20 and the second internal space 40, but the oxygen concentration adjustment chamber is not limited to this, and for example the oxygen concentration adjustment chamber further has another internal space. Alternatively, one of the first internal space 20 and the second internal space 40 may be omitted.
  • the adjustment pump cell has the main pump cell 21 and the auxiliary pump cell 50, but the adjustment pump cell is not limited to this, and for example, the adjustment pump cell may further include another pump cell. 21 and one of the auxiliary pump cell 50 may be omitted.
  • the auxiliary pump cell 50 may be omitted when the oxygen concentration of the gas to be measured can be sufficiently lowered only by the main pump cell 21 .
  • the CPU 92 may perform a process of controlling the main pump cell 21 so that the oxygen concentration in the oxygen concentration adjustment chamber (first internal space 20) reaches the target concentration, for example, as the normal adjustment pump control process. . More specifically, the target value V0* is predetermined, and the CPU 92 varies the voltage V0 so that it becomes the target value V0* (that is, so that the oxygen concentration in the first internal space 20 becomes the target concentration).
  • the main pump cell 21 may be controlled by feedback-controlling the pump voltage Vp ⁇ b>0 of the power supply 24 .
  • the outer pumping electrode 23 is a part of the main pumping cell 21 and is disposed outside the sensor element 101 at a portion in contact with the gas to be measured, and a part of the auxiliary pumping cell 50. and an outer auxiliary pump electrode disposed in a portion of the sensor element 101 that contacts the gas to be measured, and a part of the measuring pump cell 41 that is disposed in a portion of the sensor element 101 that contacts the gas to be measured.
  • the provided outer measurement electrode it is not limited to this. Any one or more of the outer main pump electrode, the outer auxiliary pump electrode, and the outer measurement electrode may be provided outside the sensor element 101 separately from the outer pump electrode 23 .
  • the outer pump electrode 23 is exposed to the outside of the sensor element 101.
  • the outer pump electrode 23 is not limited to this and is placed outside the element body (layers 1 to 6) so as to be in contact with the gas to be measured. It is sufficient if it is provided in
  • the sensor element 101 may comprise a porous protective layer covering the element body (layers 1-6) and the outer pump electrode 23 may also be covered with the porous protective layer.
  • the sensor element 101 of the gas sensor 100 is provided with the first internal space 20, the second internal space 40, and the third internal space 61, but it is not limited to this.
  • the third internal cavity 61 may not be provided.
  • the gas introduction port 10 between the lower surface of the second solid electrolyte layer 6 and the upper surface of the first solid electrolyte layer 4, the gas introduction port 10, the first diffusion control section 11, The buffer space 12, the second diffusion rate-controlling portion 13, the first internal space 20, the third diffusion rate-controlling portion 30, and the second internal space 40 are formed adjacently in a manner communicating in this order. .
  • the measurement electrode 44 is arranged on the upper surface of the first solid electrolyte layer 4 inside the second internal cavity 40 .
  • the measurement electrode 44 is covered with a fourth diffusion control portion 45 .
  • the fourth diffusion control portion 45 is a film made of a ceramic porous material such as alumina (Al 2 O 3 ).
  • the fourth diffusion rate-controlling part 45 plays a role of limiting the amount of NOx flowing into the measurement electrode 44, like the fourth diffusion rate-controlling part 60 of the above-described embodiment.
  • the fourth diffusion rate-limiting part 45 also functions as a protective film for the measurement electrode 44 .
  • a ceiling electrode portion 51 a of the auxiliary pump electrode 51 is formed up to just above the measurement electrode 44 . Even with the sensor element 201 having such a configuration, the NOx concentration can be detected based on, for example, the pump current Ip2 as in the above-described embodiment. In this case, the area around the measuring electrode 44 functions as a measuring chamber.
  • the element body of the sensor element 101 is a laminate having a plurality of solid electrolyte layers (layers 1 to 6), but it is not limited to this.
  • the element main body of the sensor element 101 may include at least one oxygen ion conductive solid electrolyte layer, and may be provided with a gas flow portion to be measured therein.
  • layers 1 to 5 other than the second solid electrolyte layer 6 in FIG. 1 may be structural layers made of a material other than the solid electrolyte (for example, layers made of alumina).
  • each electrode of sensor element 101 may be arranged on second solid electrolyte layer 6 .
  • the reference gas introduction space 43 is provided in the spacer layer 5 instead of the first solid electrolyte layer 4
  • the air introduction layer 48 is provided in the second solid electrolyte layer 4 instead of providing it between the first solid electrolyte layer 4 and the third substrate layer 3. It may be provided between the electrolyte layer 6 and the spacer layer 5 , and the reference electrode 42 may be provided behind the third internal space 61 and on the lower surface of the second solid electrolyte layer 6 .
  • the control device 90 sets the target value V0* of the voltage V0 based on the pump current Ip1 so that the pump current Ip1 becomes the target current Ip1* (feedback control).
  • the pump voltage Vp0 is feedback-controlled so that the voltage V0 becomes the target value V0*
  • other control may be performed.
  • the control device 90 may feedback-control the pump voltage Vp0 based on the pump current Ip1 so that the pump current Ip1 becomes the target current Ip1*.
  • control device 90 omits acquisition of the voltage V0 from the oxygen partial pressure detection sensor cell 80 for main pump control and setting of the target value V0*, and directly controls the pump voltage Vp0 based on the pump current Ip1 ( Consequently, the pump current Ip0 may be controlled).
  • the gas sensor 100 detects the NOx concentration as the specific gas concentration, but not limited to this, other oxide concentrations may be used as the specific gas concentration.
  • the specific gas is an oxide
  • oxygen is generated when the specific gas itself is reduced in the third internal space 61 as in the above-described embodiment.
  • Specific gas concentration can be detected.
  • the specific gas may be a non-oxide such as ammonia.
  • the specific gas is a non-oxide
  • the specific gas is converted into an oxide in the first internal space 20 (for example, if it is ammonia, it is oxidized and converted into NO), so that the oxide after conversion is Since oxygen is generated when reducing in the third internal space 61, the CPU 92 can acquire a detection value corresponding to this oxygen and detect the specific gas concentration.
  • the gas sensor 100 can detect the specific gas concentration based on the oxygen generated in the third internal cavity 61 due to the specific gas. .
  • the target value V0r* in the main pump control process during refresh is set to a value higher than the target value V0*, and in FIG. 6 the target value V0r* is set to 1000 mV.
  • This target value V0r* is preferably more than 700 mV and 1100 mV or less.
  • the inventors investigated the relationship between the refresh processing time and the effect of reducing the amount of undershoot when the target value V0r* was changed in the range of 700 mV to 1100 mV. The results are shown in FIG.
  • the horizontal and vertical axes of FIG. 9 are the same as the horizontal and vertical axes of FIG. 6, and the graph of FIG. 9 is the solid line of FIG. ) was measured under the same conditions as the graph shown in .
  • FIG. 9 shows the results when the target value V0r* is changed to 700 mV, 800 mV, 900 mV, 1000 mV, and 1100 mV.
  • the result when the target value V0r* is 1000 mV in FIG. 9 (the double-dot chain line graph in FIG. 9) is almost the same as the solid line graph in FIG. 6 where the target value V0r* is the same 1000 mV. .
  • the larger the target value V0r* the more the difference .DELTA.US tends to approach 0% in a short period of time, confirming that the effect of refreshing the sensor element 101 is high.
  • the target value V0r* should preferably exceed 700 mV, and more preferably be 800 mV or more. Also, the higher the target value V0r*, the higher the voltage Vp0 during the main pump control process during refresh. If the voltage Vp0 is too high, the solid electrolyte (zirconia in this case) of the sensor element 101 may be reduced. Therefore, the target value V0r* is preferably 1100 mV or less.
  • the target value V1r* for the auxiliary pump control process during refresh and the target value V2r* for the measurement pump control process during refresh are preferably more than 700 mV and 1100 mV or less, more preferably 800 mV or more.
  • the present invention can be used for a gas sensor that detects the concentration of a specific gas such as NOx in gas to be measured such as automobile exhaust gas.
  • Second substrate layer 1 First substrate layer, 2 Second substrate layer, 3 Third substrate layer, 4 First solid electrolyte layer, 5 Spacer layer, 6 Second solid electrolyte layer, 10 Gas introduction port, 11 First diffusion control part, 12 Buffer Space 13 Second diffusion rate-limiting part 20 First internal space 21 Main pump cell 22 Inner pump electrode 22a Ceiling electrode part 22b Bottom electrode part 23 Outer pump electrode 24 Variable power supply 30 Third diffusion rate-limiting part , 40 second internal space, 41 measurement pump cell, 42 reference electrode, 43 reference gas introduction space, 44 measurement electrode, 45 fourth diffusion rate-determining section, 46 variable power supply, 48 atmosphere introduction layer, 50 auxiliary pump cell, 51 auxiliary pump Electrode 51a Ceiling electrode portion 51b Bottom electrode portion 52 Variable power supply 60 Fourth diffusion control portion 61 Third internal space 70 Heater portion 71 Connector electrode 72 Heater 73 Through hole 74 Heater insulating layer 75 Pressure dissipation hole, 76 Heater power supply, 80 Oxygen partial pressure detection sensor cell for main pump control, 81 Oxygen partial pressure detection sensor cell for auxiliary pump control,

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Measuring Oxygen Concentration In Cells (AREA)

Abstract

ガスセンサ100は、センサ素子101と制御装置とを備える。制御装置は、ポンプ電流Ip2のアンダーシュートとオーバーシュートとの少なくとも一方に基づいてセンサ素子101のリフレッシュの要否を判定する。また、制御装置は、リフレッシュが必要と判定した場合に、通常時調整用ポンプ制御処理と比べて酸素濃度調整室(第1内部空所20及び第2内部空所40)の酸素をより多く汲み出すように調整用ポンプセル(主ポンプセル21又は補助ポンプセル50)を制御するリフレッシュ時調整用ポンプ制御処理と、通常時測定用ポンプ制御処理と比べて第3内部空所61の酸素をより多く汲み出すように測定用ポンプセル41を制御するリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理と、の少なくともいずれかを含むリフレッシュ処理を行う。

Description

ガスセンサ
 本発明は、ガスセンサに関する。
 従来、自動車の排気ガスなどの被測定ガスにおけるNOxなどの特定ガス濃度を検出するガスセンサが知られている。例えば、特許文献1に記載のNOxセンサは、酸素イオン伝導性の固体電解質とNOx還元能を有する測定電極とを含んで構成される電気化学的ポンプセルを備えている。このNOxセンサは、測定電極において被測定ガス中のNOxガスをO2ガスに変換し、変換後のO2ガスの濃度に応じて変化する前記電気化学的ポンプセルを流れるポンプ電流に基づいて被測定ガス中のNOx濃度を出力する。
 また、特許文献1では、こうしたNOxセンサにおいて、例えばエンジンへの燃料供給を停止するフューエルカットが行われたときなどのNOx濃度がゼロに変化したときに、NOx濃度の出力信号が理想的な信号と比べて一時的に過剰に低下するアンダーシュートが生じることが記載されている。このようなアンダーシュートが生じると、NOx濃度の測定精度が悪化しやすいため好ましくない。特許文献2では、このような現象は被測定ガス中の水分の変化によって生じることが記載されている。また、特許文献1には、NOxセンサのセンサ素子をリッチ雰囲気の下で500℃以上の温度で15分以上処理するリッチ処理を行うことで、アンダーシュートを抑制できることが記載されている。このときのリッチ雰囲気は、炭化水素を含み、NOの濃度が体積比で0.05%以上1.0%以下、空気過剰率(λ)が0.80~0.9999のガス雰囲気である。
特開2014-190939号公報 国際公開第2008/038773号パンフレット
 ところで、製造時に上記のポンプ電流のアンダーシュートが生じないガスセンサであっても、ガスセンサの使用に伴ってアンダーシュートが増大していく場合があった。また、ガスセンサの使用に伴ってアンダーシュートと同様にオーバーシュートも増大していく場合があった。
 本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、ガスセンサの使用に伴う測定用ポンプ電流のアンダーシュート及びオーバーシュートの増大を抑制することを主目的とする。
 本発明は、上述した主目的を達成するために以下の手段を採った。
[1]本発明のガスセンサは、
 酸素イオン伝導性の固体電解質層を含み、被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体と、
 前記被測定ガスと接触するように前記素子本体の外側に設けられた外側測定電極と、前記被測定ガス流通部のうちの測定室に配設された内側測定電極と、を有し、前記内側測定電極の周囲から前記外側測定電極の周囲に酸素の汲み出しを行う測定用ポンプセルと、
 前記被測定ガス流通部のうち前記測定室の上流側に設けられた酸素濃度調整室の酸素濃度を調整する調整用ポンプセルと、
 前記被測定ガス中の特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガスと接触するように前記素子本体の内部に配設された基準電極と、
 前記基準電極と前記内側測定電極との間の測定用電圧を検出する測定用電圧検出センサセルと、
 を有するセンサ素子と、
 前記調整用ポンプセルを動作させる通常時調整用ポンプ制御処理と、前記センサ素子の前記測定用電圧が目標値になるように前記測定用ポンプセルを制御して前記測定室の酸素を汲み出す通常時測定用ポンプ制御処理と、を行い、該通常時測定用ポンプ制御処理によって前記測定用ポンプセルに流れる測定用ポンプ電流に基づいて前記被測定ガス中の前記特定ガス濃度を検出する特定ガス濃度検出部と、
 前記測定用ポンプ電流の急変時のアンダーシュートとオーバーシュートとの少なくとも一方に基づいて前記センサ素子のリフレッシュの要否を判定するリフレッシュ要否判定処理を行う要否判定部と、
 前記リフレッシュ要否判定処理で前記リフレッシュが必要と判定した場合に、前記通常時調整用ポンプ制御処理と比べて前記酸素濃度調整室の酸素をより多く汲み出すように前記調整用ポンプセルを制御するリフレッシュ時調整用ポンプ制御処理と、前記通常時測定用ポンプ制御処理と比べて前記測定室の酸素をより多く汲み出すように前記測定用ポンプセルを制御するリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理と、の少なくともいずれかを含むリフレッシュ処理を行うリフレッシュ制御部と、
 を備えたものである。
 このガスセンサでは、調整用ポンプセルを動作させる通常時調整用ポンプ制御処理と、センサ素子の測定用電圧が目標値になるように測定用ポンプセルを制御して測定室の酸素を汲み出す通常時測定用ポンプ制御処理と、が行われる。そして、通常時測定用ポンプ制御処理によって測定用ポンプセルに流れる測定用ポンプ電流に基づいて被測定ガス中の特定ガス濃度が検出される。このようにガスセンサが特定ガス濃度の検出に使用されると、使用に伴って測定用ポンプ電流の急変時のアンダーシュート及びオーバーシュートが増大する場合がある。そこで、このガスセンサでは、測定用ポンプ電流の急変時のアンダーシュートとオーバーシュートとの少なくとも一方に基づいてセンサ素子のリフレッシュの要否を判定するリフレッシュ要否判定処理を行い、リフレッシュが必要と判定した場合に、リフレッシュ処理を行う。リフレッシュ処理は、通常時調整用ポンプ制御処理と比べて酸素濃度調整室の酸素をより多く汲み出すように調整用ポンプセルを制御するリフレッシュ時調整用ポンプ制御処理と、通常時測定用ポンプ制御処理と比べて測定室の酸素をより多く汲み出すように測定用ポンプセルを制御するリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理と、の少なくともいずれかを含んでいる。本発明者らは、このようなリフレッシュ処理を行うことで、ガスセンサの使用に伴って増大したアンダーシュート及びオーバーシュートを低減できることを見出した。このガスセンサでは、リフレッシュの要否判定を行ってリフレッシュが必要と判定された場合にリフレッシュ処理を行うことで、ガスセンサの使用に伴う測定用ポンプ電流のアンダーシュート及びオーバーシュートの増大を抑制できる。
 ここで、リフレッシュ要否判定処理は、測定用ポンプ電流そのものに基づいて判定を行う処理に限らず、測定用ポンプ電流に換算可能な値又は測定用ポンプ電流と同視できる値に基づいて判定を行う処理も含む。例えば、測定用ポンプ電流に基づいて検出された特定ガス濃度の値の急変時のアンダーシュートとオーバーシュートとの少なくとも一方に基づいて、リフレッシュ要否判定処理を行ってもよい。また、前記特定ガス濃度検出部は、前記リフレッシュ処理中には前記通常時測定用ポンプ制御処理を行わないことが好ましく、さらに前記通常時調整用ポンプ制御処理も行わないことがより好ましい。前記リフレッシュ処理中には、前記測定用ポンプセルが前記測定室に酸素を汲み入れるような制御が行われないことが好ましく、さらに前記調整用ポンプセルが前記酸素濃度調整室に酸素を汲み入れるような制御も行われないことがより好ましい。
[2]上述したガスセンサ(前記[1]に記載のガスセンサ)において、前記リフレッシュ処理は、前記リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理を含んでいてもよい。リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理は、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理と比べて、センサ素子をリフレッシュさせる効果が高い。そのため、リフレッシュ処理において少なくともリフレッシュ時調整用ポンプ制御処理を行うことで、測定用ポンプ電流のアンダーシュート及びオーバーシュートを抑制する効果を高くすることや、リフレッシュ処理をより短時間で行うことができる。この場合において、前記リフレッシュ処理は、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理を含まなくてもよい。
[3]この場合において(前記[2]に記載のガスセンサにおいて)、前記酸素濃度調整室は、第1内部空所と、該第1内部空所よりも下流側且つ前記測定室よりも上流側に設けられた第2内部空所と、を有し、前記調整用ポンプセルは、前記第1内部空所の酸素濃度を調整する主ポンプセルと、前記第2内部空所の酸素濃度を調整する補助ポンプセルと、を有し、前記リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理は、前記通常時調整用ポンプ制御処理と比べて前記第1内部空所の酸素をより多く汲み出すように前記主ポンプセルを制御する処理と、前記通常時調整用ポンプ制御処理と比べて前記第2内部空所の酸素をより多く汲み出すように前記補助ポンプセルを制御する処理と、の少なくともいずれかを含んでいてもよい。
[4]上述したガスセンサ(前記[1]~[3]のいずれかに記載のガスセンサ)において、前記被測定ガスは、内燃機関の排ガスであり、前記要否判定部は、前記内燃機関のフューエルカットに伴う前記測定用ポンプ電流の急変時の挙動に基づいて、前記リフレッシュ要否判定処理を行ってもよい。測定用ポンプ電流のアンダーシュート及びオーバーシュートは、被測定ガス中のH2O濃度(水分)の急変時に生じやすい。そして、内燃機関のフューエルカット時にはH2O濃度が急変している可能性が高い。そのため、内燃機関のフューエルカットに伴う測定用ポンプ電流の急変時の挙動(アンダーシュート又はオーバーシュートの少なくとも一方)に基づいて要否判定を行うことで、リフレッシュの要否をより適切に判定できる。
[5]上述したガスセンサ(前記[1]~[4]のいずれかに記載のガスセンサ)において、前記要否判定部は、前記測定用ポンプ電流の急変時のアンダーシュート量とオーバーシュート量との少なくとも一方が許容範囲から外れていた場合に、前記リフレッシュが必要であると判定してもよい。こうすれば、アンダーシュート量とオーバーシュート量との少なくとも一方に基づいて、リフレッシュの要否を適切に判定できる。
[6]上述したガスセンサ(前記[1]~[5]のいずれかに記載のガスセンサ)において、前記リフレッシュ制御部は、前記被測定ガス流通部内の前記被測定ガスが炭素を含むとみなせるときに前記リフレッシュ処理を行ってもよい。ここで、リフレッシュ処理は、被測定ガスが炭素を含む状態で行う必要がある。そのため、被測定ガス流通部内の被測定ガスが炭素を含むとみなせるときにリフレッシュ処理を行うことで、効果的にリフレッシュを行うことができる。これにより、例えばリフレッシュ処理を行ってもアンダーシュート及びオーバーシュートが低減されず再度のリフレッシュ処理が必要になるといった状況になりにくい。ここで、「被測定ガスが炭素を含む」は、被測定ガスが炭素を有する分子を含む場合も含む。例えば、被測定ガスが炭素(C),一酸化炭素(CO),二酸化炭素(CO2).炭化水素(HC)のうち1以上を含んでいる場合、その被測定ガスは炭素を含んでいると言える。
[7]上述したガスセンサ(前記[1]~[6]のいずれかに記載のガスセンサ)において、前記リフレッシュ処理の処理時間は1秒以上10秒以下としてもよい。処理時間を1秒以上とすることで、センサ素子をより確実にリフレッシュさせることができる。また、リフレッシュ処理は長期間実行してもリフレッシュする効果があまり高くならず、開始から最初の10秒間でのリフレッシュ効果が比較的高い。また、リフレッシュ処理中は特定ガス濃度を正しく検出できないため、リフレッシュ処理の処理時間は短い方が好ましい。処理時間を10秒以下とすることで、特定ガス濃度を正しく検出できない時間を短くしつつ、センサ素子のリフレッシュを効率的に行うことができる。
ガスセンサ100の断面模式図。 制御装置90と各セル及びヒータ72との電気的な接続関係を示すブロック図。 ポンプ電流Ip2のアンダーシュート及びオーバーシュートの様子を示すグラフ。 センサ素子101におけるポンプ電流Ip2のアンダーシュート及びオーバーシュートが増大する様子を示すグラフ。 リフレッシュ処理の前後でのアンダーシュート及びオーバーシュートの様子を示すグラフ。 リフレッシュ処理の処理時間とアンダーシュート量の低減効果との関係を示すグラフ。 制御ルーチンの一例を示すフローチャート。 変形例のセンサ素子201の断面模式図。 リフレッシュ処理の処理時間とアンダーシュート量の低減効果との関係を示すグラフ。
 次に、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。図1は、本発明の一実施形態であるガスセンサ100の構成の一例を概略的に示した断面模式図である。図2は、制御装置90と各セル及びヒータ72との電気的な接続関係を示すブロック図である。このガスセンサ100は、例えばガソリンエンジンやディーゼルエンジンなどの内燃機関の排ガス管などの配管に取り付けられている。ガスセンサ100は、内燃機関の排ガスを被測定ガスとして、被測定ガス中のNOxなどの特定ガスの濃度を検出する。ガスセンサ100は、長尺な直方体形状をしたセンサ素子101と、センサ素子101の一部を含んで構成される各セル15,21,41,50,80~83と、センサ素子101の内部に設けられたヒータ部70と、ガスセンサ100全体を制御する制御装置90と、を備えている。
 センサ素子101は、それぞれがジルコニア(ZrO2)等の酸素イオン伝導性固体電解質層からなる第1基板層1と、第2基板層2と、第3基板層3と、第1固体電解質層4と、スペーサ層5と、第2固体電解質層6との6つの層が、図面視で下側からこの順に積層された積層体を有する素子である。また、これら6つの層を形成する固体電解質は緻密な気密のものである。係るセンサ素子101は、例えば、各層に対応するセラミックスグリーンシートに所定の加工および回路パターンの印刷などを行った後にそれらを積層し、さらに、焼成して一体化させることによって製造される。
 センサ素子101の先端部側(図1の左端部側)であって、第2固体電解質層6の下面と第1固体電解質層4の上面との間には、ガス導入口10と、第1拡散律速部11と、緩衝空間12と、第2拡散律速部13と、第1内部空所20と、第3拡散律速部30と、第2内部空所40と、第4拡散律速部60と、第3内部空所61とが、この順に連通する態様にて隣接形成されてなる。
 ガス導入口10と、緩衝空間12と、第1内部空所20と、第2内部空所40と、第3内部空所61とは、スペーサ層5をくり抜いた態様にて設けられた上部を第2固体電解質層6の下面で、下部を第1固体電解質層4の上面で、側部をスペーサ層5の側面で区画されたセンサ素子101内部の空間である。
 第1拡散律速部11と、第2拡散律速部13と、第3拡散律速部30とはいずれも、2本の横長の(図面に垂直な方向に開口が長手方向を有する)スリットとして設けられる。また、第4拡散律速部60は、第2固体電解質層6の下面との隙間として形成された1本の横長の(図面に垂直な方向に開口が長手方向を有する)スリットとして設けられる。なお、ガス導入口10から第3内部空所61に至る部位を被測定ガス流通部とも称する。
 また、被測定ガス流通部よりも先端側から遠い位置には、第3基板層3の上面と、スペーサ層5の下面との間であって、側部を第1固体電解質層4の側面で区画される位置に基準ガス導入空間43が設けられている。基準ガス導入空間43には、NOx濃度の測定を行う際の基準ガスとして、例えば大気が導入される。
 大気導入層48は、多孔質セラミックスからなる層であって、大気導入層48には基準ガス導入空間43を通じて基準ガスが導入されるようになっている。また、大気導入層48は、基準電極42を被覆するように形成されている。
 基準電極42は、第3基板層3の上面と第1固体電解質層4とに挟まれる態様にて形成される電極であり、上述のように、その周囲には、基準ガス導入空間43につながる大気導入層48が設けられている。また、後述するように、基準電極42を用いて第1内部空所20内,第2内部空所40内,及び第3内部空所61内の酸素濃度(酸素分圧)を測定することが可能となっている。基準電極42は、多孔質サーメット電極(例えば、PtとZrO2とのサーメット電極)として形成される。
 被測定ガス流通部において、ガス導入口10は、外部空間に対して開口してなる部位であり、該ガス導入口10を通じて外部空間からセンサ素子101内に被測定ガスが取り込まれるようになっている。第1拡散律速部11は、ガス導入口10から取り込まれた被測定ガスに対して、所定の拡散抵抗を付与する部位である。緩衝空間12は、第1拡散律速部11より導入された被測定ガスを第2拡散律速部13へと導くために設けられた空間である。第2拡散律速部13は、緩衝空間12から第1内部空所20に導入される被測定ガスに対して、所定の拡散抵抗を付与する部位である。被測定ガスが、センサ素子101外部から第1内部空所20内まで導入されるにあたって、外部空間における被測定ガスの圧力変動(被測定ガスが自動車の排気ガスの場合であれば排気圧の脈動)によってガス導入口10からセンサ素子101内部に急激に取り込まれた被測定ガスは、直接第1内部空所20へ導入されるのではなく、第1拡散律速部11、緩衝空間12、第2拡散律速部13を通じて被測定ガスの圧力変動が打ち消された後、第1内部空所20へ導入されるようになっている。これによって、第1内部空所20へ導入される被測定ガスの圧力変動はほとんど無視できる程度のものとなる。第1内部空所20は、第2拡散律速部13を通じて導入された被測定ガス中の酸素分圧を調整するための空間として設けられている。係る酸素分圧は、主ポンプセル21が作動することによって調整される。
 主ポンプセル21は、第1内部空所20に面する第2固体電解質層6の下面のほぼ全面に設けられた天井電極部22aを有する内側ポンプ電極22と、第2固体電解質層6の上面の天井電極部22aと対応する領域に外部空間に露出する態様にて設けられた外側ポンプ電極23と、これらの電極に挟まれた第2固体電解質層6とによって構成されてなる電気化学的ポンプセルである。
 内側ポンプ電極22は、第1内部空所20を区画する上下の固体電解質層(第2固体電解質層6および第1固体電解質層4)、および、側壁を与えるスペーサ層5にまたがって形成されている。具体的には、第1内部空所20の天井面を与える第2固体電解質層6の下面には天井電極部22aが形成され、また、底面を与える第1固体電解質層4の上面には底部電極部22bが形成され、そして、それら天井電極部22aと底部電極部22bとを接続するように、側部電極部(図示省略)が第1内部空所20の両側壁部を構成するスペーサ層5の側壁面(内面)に形成されて、該側部電極部の配設部位においてトンネル形態とされた構造において配設されている。
 内側ポンプ電極22と外側ポンプ電極23とは、多孔質サーメット電極(例えば、Auを1%含むPtとZrO2とのサーメット電極)として形成される。なお、被測定ガスに接触する内側ポンプ電極22は、被測定ガス中のNOx成分に対する還元能力を弱めた材料を用いて形成される。
 主ポンプセル21においては、内側ポンプ電極22と外側ポンプ電極23との間に所望のポンプ電圧Vp0を印加して、内側ポンプ電極22と外側ポンプ電極23との間に正方向あるいは負方向にポンプ電流Ip0を流すことにより、第1内部空所20内の酸素を外部空間に汲み出し、あるいは、外部空間の酸素を第1内部空所20に汲み入れることが可能となっている。
 また、第1内部空所20における雰囲気中の酸素濃度(酸素分圧)を検出するために、内側ポンプ電極22と、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、基準電極42によって、電気化学的なセンサセル、すなわち、主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80が構成されている。
 主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80における起電力(電圧V0)を測定することで第1内部空所20内の酸素濃度(酸素分圧)がわかるようになっている。さらに、電圧V0が目標値となるように可変電源24のポンプ電圧Vp0をフィードバック制御することでポンプ電流Ip0が制御されている。これによって、第1内部空所20内の酸素濃度は所定の一定値に保つことができる。
 第3拡散律速部30は、第1内部空所20で主ポンプセル21の動作により酸素濃度(酸素分圧)が制御された被測定ガスに所定の拡散抵抗を付与して、該被測定ガスを第2内部空所40に導く部位である。
 第2内部空所40は、あらかじめ第1内部空所20において酸素濃度(酸素分圧)が調整された後、第3拡散律速部30を通じて導入された被測定ガスに対して、さらに補助ポンプセル50による酸素分圧の調整を行うための空間として設けられている。これにより、第2内部空所40内の酸素濃度を高精度に一定に保つことができるため、係るガスセンサ100においては精度の高いNOx濃度測定が可能となる。
 補助ポンプセル50は、第2内部空所40に面する第2固体電解質層6の下面の略全体に設けられた天井電極部51aを有する補助ポンプ電極51と、外側ポンプ電極23(外側ポンプ電極23に限られるものではなく、センサ素子101の外側の適当な電極であれば足りる)と、第2固体電解質層6とによって構成される、補助的な電気化学的ポンプセルである。
 係る補助ポンプ電極51は、先の第1内部空所20内に設けられた内側ポンプ電極22と同様なトンネル形態とされた構造において、第2内部空所40内に配設されている。つまり、第2内部空所40の天井面を与える第2固体電解質層6に対して天井電極部51aが形成され、また、第2内部空所40の底面を与える第1固体電解質層4には、底部電極部51bが形成され、そして、それらの天井電極部51aと底部電極部51bとを連結する側部電極部(図示省略)が、第2内部空所40の側壁を与えるスペーサ層5の両壁面にそれぞれ形成されたトンネル形態の構造となっている。なお、補助ポンプ電極51についても、内側ポンプ電極22と同様に、被測定ガス中のNOx成分に対する還元能力を弱めた材料を用いて形成される。
 補助ポンプセル50においては、補助ポンプ電極51と外側ポンプ電極23との間に所望の電圧Vp1を印加することにより、第2内部空所40内の雰囲気中の酸素を外部空間に汲み出し、あるいは、外部空間から第2内部空所40内に汲み入れることが可能となっている。
 また、第2内部空所40内における雰囲気中の酸素分圧を制御するために、補助ポンプ電極51と、基準電極42と、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4と、第3基板層3とによって電気化学的なセンサセル、すなわち、補助ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル81が構成されている。
 なお、この補助ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル81にて検出される起電力(電圧V1)に基づいて電圧制御される可変電源52にて、補助ポンプセル50がポンピングを行う。これにより第2内部空所40内の雰囲気中の酸素分圧は、NOxの測定に実質的に影響がない低い分圧にまで制御されるようになっている。
 また、これとともに、そのポンプ電流Ip1が、主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80の起電力の制御に用いられるようになっている。具体的には、ポンプ電流Ip1は、制御信号として主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80に入力され、その電圧V0の上述した目標値が制御されることにより、第3拡散律速部30から第2内部空所40内に導入される被測定ガス中の酸素分圧の勾配が常に一定となるように制御されている。NOxセンサとして使用する際は、主ポンプセル21と補助ポンプセル50との働きによって、第2内部空所40内での酸素濃度は約0.001ppm程度の一定の値に保たれる。
 第4拡散律速部60は、第2内部空所40で補助ポンプセル50の動作により酸素濃度(酸素分圧)が制御された被測定ガスに所定の拡散抵抗を付与して、該被測定ガスを第3内部空所61に導く部位である。第4拡散律速部60は、第3内部空所61に流入するNOxの量を制限する役割を担う。
 第3内部空所61は、あらかじめ第2内部空所40において酸素濃度(酸素分圧)が調整された後、第4拡散律速部60を通じて導入された被測定ガスに対して、被測定ガス中の窒素酸化物(NOx)濃度の測定に係る処理を行うための空間として設けられている。NOx濃度の測定は、主として、第3内部空所61において、測定用ポンプセル41の動作により行われる。
 測定用ポンプセル41は、第3内部空所61内において、被測定ガス中のNOx濃度の測定を行う。測定用ポンプセル41は、第3内部空所61に面する第1固体電解質層4の上面に設けられた測定電極44と、外側ポンプ電極23と、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4とによって構成された電気化学的ポンプセルである。測定電極44は、被測定ガス中のNOx成分に対する還元能力を、内側ポンプ電極22よりも高めた材料にて構成された多孔質サーメット電極である。測定電極44は、第3内部空所61内の雰囲気中に存在するNOxを還元するNOx還元触媒としても機能する。
 具体的には、測定電極44は、触媒活性を有する貴金属であるPt及びRhの少なくともいずれかを含む電極である。測定電極44は、Pt及びRhの少なくともいずれかと、酸素イオン導電性を有する酸化物(ここではZrO2)とを含むサーメットからなる電極とすることが好ましい。また、測定電極44は、多孔質体であることが好ましい。本実施形態では、測定電極44は、Pt及びRhとZrO2との多孔質サーメット電極とした。
 測定用ポンプセル41においては、測定電極44の周囲の雰囲気中における窒素酸化物の分解によって生じた酸素を汲み出して、その発生量をポンプ電流Ip2として検出することができる。
 また、測定電極44の周囲の酸素分圧を検出するために、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、測定電極44と、基準電極42とによって電気化学的なセンサセル、すなわち、測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82が構成されている。測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82にて検出された起電力(電圧V2)に基づいて可変電源46が制御される。
 第2内部空所40内に導かれた被測定ガスは、酸素分圧が制御された状況下で第4拡散律速部60を通じて第3内部空所61内の測定電極44に到達することとなる。測定電極44の周囲の被測定ガス中の窒素酸化物は還元されて(2NO→N2+O2)酸素を発生する。そして、この発生した酸素は測定用ポンプセル41によってポンピングされることとなるが、その際、測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82にて検出された電圧V2が一定(目標値)となるように可変電源46の電圧Vp2が制御される。測定電極44の周囲において発生する酸素の量は、被測定ガス中の窒素酸化物の濃度に比例するものであるから、測定用ポンプセル41におけるポンプ電流Ip2を用いて被測定ガス中の窒素酸化物濃度が算出されることとなる。
 また、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、外側ポンプ電極23と、基準電極42とから電気化学的なセンサセル83が構成されており、このセンサセル83によって得られる起電力(電圧Vref)によりセンサ外部の被測定ガス中の酸素分圧を検出可能となっている。
 このような構成を有するガスセンサ100においては、主ポンプセル21と補助ポンプセル50とを作動させることによって酸素分圧が常に一定の低い値(NOxの測定に実質的に影響がない値)に保たれた被測定ガスが測定用ポンプセル41に与えられる。したがって、被測定ガス中のNOxの濃度に略比例して、NOxの還元によって発生する酸素が測定用ポンプセル41より汲み出されることによって流れるポンプ電流Ip2に基づいて、被測定ガス中のNOx濃度を知ることができるようになっている。
 さらに、センサ素子101は、固体電解質の酸素イオン伝導性を高めるために、センサ素子101を加熱して保温する温度調整の役割を担うヒータ部70を備えている。ヒータ部70は、ヒータコネクタ電極71と、ヒータ72と、スルーホール73と、ヒータ絶縁層74と、圧力放散孔75とを備えている。
 ヒータコネクタ電極71は、第1基板層1の下面に接する態様にて形成されてなる電極である。ヒータコネクタ電極71を外部電源と接続することによって、外部からヒータ部70へ給電することができるようになっている。
 ヒータ72は、第2基板層2と第3基板層3とに上下から挟まれた態様にて形成される電気抵抗体である。ヒータ72は、スルーホール73を介してヒータコネクタ電極71と接続されており、該ヒータコネクタ電極71を通してヒータ電源76(図2参照)により給電されることにより発熱し、センサ素子101を形成する固体電解質の加熱と保温を行う。
 また、ヒータ72は、第1内部空所20から第3内部空所61の全域に渡って埋設されており、センサ素子101全体を上記固体電解質が活性化する温度に調整することが可能となっている。
 ヒータ絶縁層74は、ヒータ72の上下面に、アルミナ等の絶縁体によって形成されてなる絶縁層である。ヒータ絶縁層74は、第2基板層2とヒータ72との間の電気的絶縁性、および、第3基板層3とヒータ72との間の電気的絶縁性を得る目的で形成されている。
 圧力放散孔75は、第3基板層3及び大気導入層48を貫通し、基準ガス導入空間43に連通するように設けられてなる部位であり、ヒータ絶縁層74内の温度上昇に伴う内圧上昇を緩和する目的で形成されてなる。
 制御装置90は、図2に示すように、上述した可変電源24,46,52と、ヒータ電源76と、制御部91と、を備えている。制御部91は、CPU92及び記憶部94などを備えたマイクロプロセッサである。記憶部94は、例えば各種プログラムや各種データを記憶する装置である。制御部91は、主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80にて検出される電圧V0、補助ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル81にて検出される電圧V1、測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82にて検出される電圧V2、センサセル83にて検出される電圧Vref、主ポンプセル21にて検出されるポンプ電流Ip0、補助ポンプセル50にて検出されるポンプ電流Ip1及び測定用ポンプセル41にて検出されるポンプ電流Ip2を入力する。また、制御部91は可変電源24,46,52へ制御信号を出力することで可変電源24,46,52が出力するポンプ電圧Vp0,Vp1,Vp2を制御し、これにより、主ポンプセル21,測定用ポンプセル41及び補助ポンプセル50を制御する。制御部91は、ヒータ電源76に制御信号を出力することでヒータ電源76がヒータ72に供給する電力を制御する。記憶部94には、後述する目標値V0*,V0r*,V1*,V1r*,V2*,V2r*なども記憶されている。制御部91のCPU92は、これらの目標値V0*,V0r*,V1*,V1r*,V2*,V2r*を参照して、各セル21,41,50の制御を行う。
 制御部91は、第2内部空所40の酸素濃度が目標濃度となるように補助ポンプセル50を制御する通常時補助ポンプ制御処理を行う。具体的には、制御部91は、電圧V1が一定値(目標値V1*と称する)となるように可変電源52の電圧Vp1をフィードバック制御することで、補助ポンプセル50を制御する。目標値V1*は、第2内部空所40の酸素濃度がNOxの測定に実質的に影響がない所定の低濃度となるような値として定められている。
 制御部91は、通常時補助ポンプ制御処理によって補助ポンプセル50が第2内部空所40の酸素濃度を調整するときに流れるポンプ電流Ip1が目標電流(目標電流Ip1*と称する)になるように主ポンプセル21を制御する通常時主ポンプ制御処理を行う。具体的には、制御部91は、電圧Vp1によって流れるポンプ電流Ip1が一定の目標電流Ip1*となるように、ポンプ電流Ip1に基づいて電圧V0の目標値(目標値V0*と称する)を設定(フィードバック制御)する。そして、制御部91は、電圧V0が目標値V0*となるように(つまり第1内部空所20の酸素濃度が目標濃度となるように)可変電源24のポンプ電圧Vp0をフィードバック制御する。この通常時主ポンプ制御処理により、第3拡散律速部30から第2内部空所40内に導入される被測定ガス中の酸素分圧の勾配が常に一定となる。目標値V0*は、第1内部空所20の酸素濃度が0%よりは高く且つ低酸素濃度となるような値に設定される。また、この通常時主ポンプ制御処理中に流れるポンプ電流Ip0は、ガス導入口10から被測定ガス流通部内に流入する被測定ガス(すなわちセンサ素子101の周囲の被測定ガス)の酸素濃度に応じて変化する。そのため、制御部91は、ポンプ電流Ip0に基づいて被測定ガス中の酸素濃度を検出することもできる。
 上述した通常時主ポンプ制御処理及び通常時補助ポンプ制御処理をまとめて通常時調整用ポンプ制御処理とも称する。また、第1内部空所20及び第2内部空所40をまとめて酸素濃度調整室とも称する。主ポンプセル21及び補助ポンプセル50をまとめて調整用ポンプセルとも称する。制御部91が通常時調整用ポンプ制御処理を行うことで、調整用ポンプセルが酸素濃度調整室の酸素濃度を調整する。
 さらに、制御部91は、電圧V2が一定値(目標値V2*と称する)となるように(つまり第3内部空所61内の酸素濃度が所定の低濃度になるように)測定用ポンプセル41を制御する通常時測定用ポンプ制御処理を行う。具体的には、制御部91は、電圧V2が目標値V2*となるように可変電源46の電圧Vp2をフィードバック制御することで、測定用ポンプセル41を制御する。この通常時測定用ポンプ制御処理により、第3内部空所61内から酸素が汲み出される。
 通常時測定用ポンプ制御処理が行われることで、被測定ガス中のNOxが第3内部空所61で還元されることにより発生した酸素が実質的にゼロとなるように、第3内部空所61内から酸素が汲み出される。そして、制御部91は、特定ガス(ここではNOx)に由来して第3内部空所61で発生する酸素に応じた検出値としてポンプ電流Ip2を取得し、このポンプ電流Ip2に基づいて被測定ガス中のNOx濃度を算出する。
 記憶部94には、ポンプ電流Ip2とNOx濃度との対応関係として、関係式(例えば一次関数の式)やマップなどが記憶されている。このような関係式又はマップは、予め実験により求めておくことができる。
 次に、センサ素子101のポンプ電流Ip2に生じるアンダーシュート及びオーバーシュートについて説明する。図3は、ポンプ電流Ip2のアンダーシュート及びオーバーシュートの様子を示すグラフである。図3は、ガスセンサ100が被測定ガス中のNOx濃度を測定している途中で内燃機関のフューエルカットが行われたときのポンプ電流Ip2の挙動の一例を実線で示している。また、理想的なポンプ電流Ip2の挙動を破線で示している。
 フューエルカットが開始されると被測定ガス中のNOx濃度は急激に減少してほぼゼロとなり、フューエルカットが終了すると再び被測定ガス中のNOx濃度は急激に上昇する。そのため、原理的には、図3に破線で示すように、NOx濃度に対応する値であるポンプ電流Ip2はフューエルカットが開始されるとこれに速やかに追随して対応する値に変化する(図3においてはI1→I0と変化する)はずである。また、フューエルカットが終了するとこれに速やかに追随して対応する値に変化する(図3においてはI0→I1と変化する)はずである。しかしながら、実際には、図3に実線で示すように、ポンプ電流Ip2には現実のNOx濃度の変化とは異なる過剰な出力変動が生じてしまう。具体的には、フューエルカットの開始時にはポンプ電流Ip2には値が一度過剰に低下してから現実のNOx濃度に対応する値まで上昇するアンダーシュートが生じる。また、フューエルカットの終了時にはポンプ電流Ip2には値が一度過剰に上昇してから現実のNOx濃度に対応する値まで下降するオーバーシュートが生じる。例えば製造直後のガスセンサ100においてはこのようなポンプ電流Ip2のオーバーシュート及びアンダーシュートが生じない場合もあるが、ガスセンサ100の使用に伴ってオーバーシュート及びアンダーシュートは増大していく傾向にある。例えば、ガスセンサ100の使用に伴って図3に示すアンダーシュート量及びオーバーシュート量が大きくなっていく傾向にある。特に、センサ素子101がヒータ72で高温になった状態且つ車両停止時など、センサ素子101が高温且つ大気雰囲気に晒されると、このようなオーバーシュート及びアンダーシュートの増大が生じやすい。なお、アンダーシュート量は、例えば、ポンプ電流Ip2が過剰に低下した際の最低値と、その後にポンプ電流Ip2が安定したときの値と、の差分として算出することができる。オーバーシュート量は、例えば、ポンプ電流Ip2が過剰に上昇した際の最高値と、その後にポンプ電流Ip2が安定したときの値と、の差分値として算出することができる。あるいは、ポンプ電流Ip2に過剰な出力変動が生じたときの値と、理想的なポンプ電流Ip2の値と、の差分値の最大値として、アンダーシュート量及びオーバーシュート量を算出することもできる。
 本発明者らは、特定ガス濃度の測定時(通常時)と比べて被測定ガス流通部の酸素をより多く汲み出すようにセンサ素子101を制御する処理を行うことで、ガスセンサ100の使用に伴って増大したアンダーシュート及びオーバーシュートを低減できることを見出した。この処理をリフレッシュ処理と称する。リフレッシュ処理は、具体的には、通常時調整用ポンプ制御処理と比べて酸素濃度調整室の酸素をより多く汲み出すように調整用ポンプセルを制御するリフレッシュ時調整用ポンプ制御処理と、通常時測定用ポンプ制御処理と比べて第3内部空所61の酸素をより多く汲み出すように測定用ポンプセル41を制御するリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理と、の少なくともいずれかを含む。
 リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理は、本実施形態では、電圧V2が上述した目標値V2*よりも高い目標値V2r*になるように可変電源46の電圧Vp2をフィードバック制御する点以外は、通常時測定用ポンプ制御処理と同じとした。電圧V2は基準電極42の周囲と第3内部空所61との酸素濃度差に関連する値であり、第3内部空所61の酸素濃度が低いほど酸素濃度差が大きくなり電圧V2も高い値になる。したがって、目標値V2r*が目標値V2*よりも高い値であるということは、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理の実行時には、通常時測定用ポンプ制御処理の実行時と比べて、第3内部空所61の酸素濃度の目標値をより低い値に設定することを意味する。したがって、このリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理では、通常時測定用ポンプ制御処理と比べて第3内部空所61の酸素をより多く汲み出すように測定用ポンプセル41が制御される。
 リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理は、通常時主ポンプ制御処理と比べて第1内部空所20の酸素をより多く汲み出すように主ポンプセル21を制御するリフレッシュ時主ポンプ制御処理と、通常時補助ポンプ制御処理と比べて第2内部空所40の酸素をより多く汲み出すように補助ポンプセル50を制御するリフレッシュ時補助ポンプ制御処理と、の少なくともいずれかを含む。リフレッシュ時主ポンプ制御処理及びリフレッシュ時補助ポンプ制御処理は、本実施形態では、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理と同様に、フィードバック制御の目標値を通常時よりも高い値にする処理とした。具体的には、リフレッシュ時主ポンプ制御処理は、電圧V0が上述した目標値V0*よりも高い所定の目標値V0r*になるように可変電源24のポンプ電圧Vp0をフィードバック制御する処理とした。なお、通常時主ポンプ制御処理では、ポンプ電流Ip1に基づいて目標値V0*が設定(変更)されるが、リフレッシュ時主ポンプ制御処理では、目標値V0r*はポンプ電流Ip1に基づく変更は行われず予め定められた値を用いる。リフレッシュ時補助ポンプ制御処理は、電圧V1が目標値V1*よりも高い所定の目標値V1r*になるように可変電源52の電圧Vp1をフィードバック制御する点以外は、通常時補助ポンプ制御処理と同じとした。
 リフレッシュ処理中には、通常時測定用ポンプ制御処理を行わないことが好ましく、さらに通常時調整用ポンプ制御処理も行わないことがより好ましい。リフレッシュ処理中には、測定用ポンプセル41が第3内部空所61に酸素を汲み入れるような制御が行われないことが好ましく、さらに主ポンプセル21が第1内部空所20に酸素を汲み入れるような制御及び補助ポンプセル50が第2内部空所40に酸素を汲み入れるような制御も行われないことがより好ましい。例えば、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理を行う場合は、通常時測定用ポンプ制御処理は当然行うことができないが、通常時調整用ポンプ制御処理も行わないことが好ましい。例えば、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理を行う場合は、可変電源24及び可変電源52は電圧を印加せず、主ポンプセル21及び補助ポンプセル50は動作していない状態とすることが好ましい。同様に、リフレッシュ時主ポンプ制御処理を行う場合は、可変電源52及び可変電源46は電圧を印加せず、補助ポンプセル50及び測定用ポンプセル41は動作していない状態とすることが好ましい。リフレッシュ時補助ポンプ制御処理を行う場合は、可変電源24及び可変電源46は電圧を印加せず、主ポンプセル21及び測定用ポンプセル41は動作していない状態とすることが好ましい。このように、主ポンプセル21,補助ポンプセル50,及び測定用ポンプセル41のうち、リフレッシュ処理に用いないポンプセルについては、通常時のポンプ制御処理及び酸素を汲み入れるような制御が行われないことが好ましく、ポンプセルを動作させない状態とすることが好ましい。
 図4は、実際のセンサ素子101におけるポンプ電流Ip2のアンダーシュート及びオーバーシュートが増大する様子を示すグラフである。このグラフは以下のようにして得た。センサ素子101を配管に取り付け、モデルガス装置を用いて被測定ガスとしてのモデルガスを配管に流した状態で、制御装置90がセンサ素子101を制御してNOx濃度の測定を行っている状態とした。モデルガスとして最初に第1モデルガス(NO濃度500ppm,H2O濃度12%,酸素濃度0%,ベースガスは窒素)を流し、次に第2モデルガス(NO濃度0ppm,H2O濃度0%,酸素濃度21%,ベースガスは窒素)を流し、続いて再び第1モデルガスを流すことで、被測定ガスのNO濃度,H2O濃度,及び酸素濃度を急変させて、フューエルカットが行われた状態を模擬した。モデルガスの流量は100L/min,温度は120℃とした。そして、このときのポンプ電流Ip2の時間変化を測定した。図4の破線は、初期状態(製造直後)のセンサ素子101におけるポンプ電流Ip2の時間変化である。図4の実線は、初期状態から使用された後の状態を模擬したセンサ素子101におけるポンプ電流Ip2の時間変化である。初期状態のセンサ素子101をヒータ72に通電して700℃~800℃程度に維持した状態で5分間大気中で放置することで、使用後の状態を模擬したセンサ素子101を用意した。図4に示すように、初期状態のセンサ素子101ではオーバーシュート及びアンダーシュートがほとんど生じていないのに対し、使用後の状態を模擬したセンサ素子101では、オーバーシュート及びアンダーシュートが増大していた。
 次に、上記の使用後の状態を模擬したセンサ素子101に対して、以下のようにリフレッシュ処理を行った。CO2濃度15%,H2O濃度15%,ベースガスは窒素としたモデルガスを被測定ガスとして、センサ素子101を取り付けた配管に流した。この状態で、リフレッシュ処理として、上述したリフレッシュ時主ポンプ制御処理を行った。リフレッシュ時主ポンプ制御処理の目標値V0r*は1000mVとし、処理時間は300秒とした。リフレッシュ処理中は、可変電源46及び可変電源52は電圧を印加せず、測定用ポンプセル41及び補助ポンプセル50は動作していない状態とした。リフレッシュ処理後のセンサ素子101に対して、図4と同様にフューエルカットが行われた状態を模擬したときのポンプ電流Ip2の時間変化を測定した。結果を図5に示す。図5の実線は、リフレッシュ処理を行う前のセンサ素子101におけるポンプ電流Ip2の時間変化である。図5の破線は、リフレッシュ処理を行った後のセンサ素子101におけるポンプ電流Ip2の時間変化である。図5に示すように、リフレッシュ処理を行うことでアンダーシュート及びオーバーシュートが低減されて、センサ素子101は図4に示した初期状態のセンサ素子101とほぼ同じ状態まで回復していた。なお、アンダーシュート及びオーバーシュートが生じるのはポンプ電流Ip2の波形であることから、リフレッシュ処理によりセンサ素子101のうち特に測定電極44がリフレッシュされていると考えられる。
 次に、図5と同様にリフレッシュ処理としてリフレッシュ時主ポンプ制御処理を行った場合について、処理時間を異ならせて図5と同様にポンプ電流Ip2の時間変化を測定し、処理時間とアンダーシュート量の低減効果との関係を調べた。また、リフレッシュ処理としてリフレッシュ時補助ポンプ制御処理を行った場合、及びリフレッシュ処理としてリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理を行った場合についても、同様に処理時間とアンダーシュート量の低減効果との関係を調べた。結果を図6及び表1に示す。なお、リフレッシュ時補助ポンプ制御処理を行う場合の目標値V1r*は1000mVとし、この処理中は主ポンプセル21及び測定用ポンプセル41は動作していない状態とした。リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理を行う場合の目標値V2r*は1000mVとし、この処理中は主ポンプセル21及び補助ポンプセル50は動作していない状態とした。図6の縦軸は、初期状態のセンサ素子101のアンダーシュート量(ゼロに近い小さい値)を初期値として、初期値とリフレッシュ処理後のアンダーシュート量との差ΔUSを初期値を基準とした百分率で表している。この差ΔUSが0%に近いほど、アンダーシュート量が低減されて初期状態と同じ状態までセンサ素子101が回復(リフレッシュ)していることを意味する。図6では、リフレッシュ時主ポンプ制御処理を行ったときのデータを実線(凡例で「V0」と表記)で示し、リフレッシュ時補助ポンプ制御処理を行ったときのデータを破線(凡例で「V1」と表記)で示し、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理を行ったときのデータを一点鎖線(凡例で「V2」と表記)で示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 図6及び表1からわかるように、リフレッシュ処理の処理時間が0秒のセンサ素子101すなわち上述した使用後の状態を模擬したセンサ素子101では差ΔUSが約-450%(アンダーシュート量が初期値の約5.5倍)であったのに対し、処理時間が長くなるほど差ΔUSが0%に近くなる傾向が確認された。また、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理を行った場合(図6及び表1の凡例「V2」で示すデータ)と比べて、リフレッシュ時主ポンプ制御処理を行った場合及びリフレッシュ時補助ポンプ制御処理を行った場合(図6及び表1の凡例「V0」及び「V1」で示すデータ)の方が、差ΔUSが短時間で0%に近づくことが確認された。すなわち、リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理(ここではリフレッシュ時主ポンプ制御処理及びリフレッシュ時補助ポンプ制御処理)は、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理と比べて、センサ素子101をリフレッシュさせる効果が高いことが確認された。したがって、リフレッシュ処理は、リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理を含むことが好ましい。また、図6及び表1からわかるように、処理時間が10秒以下のときには差ΔUSが急激に0%に近づいていき、その後は比較的緩やかに0%に近づく傾向が確認された。そのため、リフレッシュ処理を長時間実行してもリフレッシュする効果はあまり高くならず、開始から最初の10秒間でのリフレッシュ効果が比較的高いと考えられる。したがって、1回のリフレッシュ処理を長時間行うよりも、短時間のリフレッシュ処理を複数回行った方が効率良くセンサ素子101をリフレッシュできると考えられる。また、リフレッシュ処理の処理時間は、1秒以上が好ましい。
 ここで、リフレッシュ処理は被測定ガス流通部内の被測定ガスが炭素を含む状態で行う必要がある。「被測定ガスが炭素を含む」は、被測定ガスが炭素を有する分子を含む場合も含む。例えば、被測定ガスが炭素(C),一酸化炭素(CO),二酸化炭素(CO2).炭化水素(HC)のうち1以上を含んでいる場合、その被測定ガスは炭素を含んでいると言える。例えば、上述した例におけるリフレッシュ処理はCO2濃度15%,H2O濃度15%,ベースガスは窒素としたモデルガスを用いて行ったが、CO2を含まないモデルガスを用いてリフレッシュ処理を行った場合は、アンダーシュート及びオーバーシュートの低減効果が見られなかった。また、CO2を含まない代わりにエチレン(C24)を含むモデルガスを用いてリフレッシュ処理を行った場合は、アンダーシュート及びオーバーシュートの低減効果が確認された。
 このように被測定ガスが炭素を含む場合にリフレッシュ処理の効果が得られる理由は、以下のように考えられる。まず、初期状態(製造直後)のセンサ素子101では測定電極44に炭素(C),一酸化炭素(CO)及び炭化水素(HC)の少なくともいずれかが付着しており、これによりアンダーシュート及びオーバーシュートが生じないか又は小さくなっていると考えられる。そして、センサ素子101の使用に伴って測定電極44に付着した上記の物質が減少していくと、アンダーシュート及びオーバーシュートが増大していくと考えられる。ここで、リフレッシュ処理を行うと、被測定ガス流通部内の被測定ガス中の酸素が通常時よりも多く汲み出されて通常時よりも還元雰囲気となる。これにより、被測定ガス中の二酸化炭素(CO2)が還元されて炭素(C)及び一酸化炭素(CO)が生成されたり、被測定ガス中の炭素(C)及び一酸化炭素(CO)が酸化されて二酸化炭素(CO2)になることが抑制されたりする。そのため、リフレッシュ処理を行うことで炭素(C)と一酸化炭素(CO)との少なくともいずれかが測定電極44に付着しやすくなると考えられる。その結果、測定電極44を初期状態と同様の状態に回復(リフレッシュ)することができ、アンダーシュート及びオーバーシュートが低減されると考えられる。また、被測定ガス中に炭化水素(HC)が存在する場合には、リフレッシュ処理を行うことで上記の通り被測定ガスが還元雰囲気になるから、炭化水素(HC)が酸化されて水(H2O)と二酸化炭素(CO2)が生成されることが抑制される。そのため、リフレッシュ処理を行うことで炭化水素(HC)が測定電極44に付着しやすくなると考えられる。したがって、この場合も測定電極44を初期状態と同様の状態に回復(リフレッシュ)することができ、アンダーシュート及びオーバーシュートが低減されると考えられる。
 また、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理を行う場合、測定電極44の周辺から酸素を通常時よりも多く汲み出すことになり、例えば被測定ガス中の水(H2O)から奪われて生じた酸素の一部が測定電極44の周辺の炭素(C)及び一酸化炭素(CO)を酸化して二酸化炭素(CO2)が生成されてしまうと考えられる。これに対して、リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理を行う場合は、既に酸素が汲み出された後の被測定ガスが測定電極44に到達するから、測定電極44の周辺での二酸化炭素(CO2)の生成はほとんど起きないと考えられる。この違いにより、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理を行う場合はリフレッシュ時調整用ポンプ制御処理を行う場合と比較して測定電極44に付着する炭素(C)及び一酸化炭素(CO)の量が少なくなると考えられる。この理由により、図6で示したように、リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理はリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理と比べて、センサ素子101をリフレッシュさせる効果が高くなっていると考えられる。
 次に、ガスセンサ100の制御部91がNOx濃度の測定及びリフレッシュ処理を行う場合の一例について説明する。図7は、制御部91が実行する制御ルーチンの一例を示すフローチャートである。制御部91は、このルーチンを例えば記憶部94に記憶している。制御部91は、例えばヒータ電源76がヒータ72に供給する電力を制御し、ヒータ72の温度が目標温度(例えば800℃など)になったときにこの制御ルーチンを開始する。
 制御部91のCPU92は、制御ルーチンが開始されると、まず、NOx濃度の測定を行うための通常時制御処理を開始する(ステップS100)。通常時制御処理では、CPU92は、上述した通常時調整用ポンプ制御処理(通常時主ポンプ制御処理及び通常時補助ポンプ制御処理)を行うと共に、上述した通常時測定用ポンプ制御処理を行う。そして、CPU92は、通常時測定用ポンプ制御処理によって流れるポンプ電流Ip2に基づいて被測定ガス中のNOx濃度を算出する。
 次に、CPU92は、センサ素子101のリフレッシュの要否を判定する要否判定タイミングであるか否かを判定する(ステップS110)。要否判定タイミングとは、ポンプ電流Ip2にアンダーシュート又はオーバーシュートが生じる可能性のあるタイミングである。特許文献2にも記載されているように、被測定ガス中のH2O濃度が変化する時に、アンダーシュート及びオーバーシュートが生じやすい。そのため、被測定ガス流通部内の被測定ガス中のH2O濃度が急変したとみなせるタイミングを、要否判定タイミングとすることが好ましい。本実施形態では、要否判定タイミングは、内燃機関のフューエルカットの開始時とした。フューエルカットが開始されると、被測定ガスは大気雰囲気と同様の状態になりH2O濃度が急変する可能性が高いため、要否判定タイミングに適している。なお、フューエルカットが開始されると被測定ガス中のNOx濃度も急変する。例えば、制御部91は、内燃機関の図示しないエンジンECUから取得するフューエルカット実行情報に基づいて、フューエルカットの開始を検出する。例えば、CPU92は、エンジンECUからフューエルカットがなされた旨のフューエルカット実行情報を取得したか否かを所定時間毎に判定しており、フューエルカット実行情報を取得したときにフューエルカットが開始されたため要否判定タイミングであると判定する。
 ステップS110で要否判定タイミングであると判定した場合には、CPU92は、ポンプ電流Ip2のアンダーシュート量を算出して、算出した値が許容範囲内であるか否かを判定するリフレッシュ要否判定処理を行う(ステップS120)。本実施形態ではフューエルカットの開始時に要否判定タイミングであると判定するため、その直後にポンプ電流Ip2はフューエルカットに伴い図3~5に示したように急激に減少する。CPU92はこのときのポンプ電流Ip2の挙動(波形)からアンダーシュート量を算出する。ステップS120の判定は、今回算出されたアンダーシュート量そのものと許容範囲とを比較して行ってもよいし、センサ素子101の初期状態でのアンダーシュート量(初期値)と今回算出されたアンダーシュート量との差と許容範囲とを比較して行ってもよい。例えば、許容範囲の上限値を、NOx濃度5ppm分に対応するポンプ電流Ip2の値として設定しておき、アンダーシュート量そのものがこの上限値を超えた場合に、許容範囲を外れたと判定してもよい。あるいは、初期値と今回のアンダーシュート量との差がこの上限値を超えた場合に、許容範囲を外れたと判定してもよい。許容範囲や初期値の情報は、予め記憶部94に記憶しておけばよい。ステップS120でアンダーシュート量が許容範囲を外れていたときには、CPU92は、リフレッシュ処理が必要であると判定して、フラグFを値1に設定する(ステップS130)。フラグFは、リフレッシュ処理が必要な場合に値1に設定され、リフレッシュ処理が不要な場合及び制御ルーチンの開始時には値0に設定される。
 ステップS130のあと、ステップS110でリフレッシュの要否判定タイミングでないと判定したとき、又はステップS120でアンダーシュート量が許容範囲内であったときには、CPU92は、リフレッシュ処理の実行タイミングであるか否かを判定する(ステップS140)。リフレッシュ処理の実行タイミングとは、被測定ガス流通部内の被測定ガスが炭素を含むとみなせるタイミングである。本実施形態では、実行タイミングは、内燃機関の運転中(フューエルカット時以外)とした。フューエルカット時以外であれば、被測定ガス中には基本的に炭素(特にCO2)が含まれるため、リフレッシュ処理に適している。例えば、CPU92は、内燃機関の図示しないエンジンECUから取得するフューエルカット実行情報に基づいて、リフレッシュ処理の実行タイミングであるか否かを判定する。例えば、CPU92は、エンジンECUからフューエルカットがなされた旨のフューエルカット実行情報を取得したか否かを所定時間毎に判定しており、フューエルカット実行情報を取得していないときには現在はフューエルカット時以外の運転中でありリフレッシュ処理の実行タイミングであると判定する。
 ステップS140でリフレッシュ処理の実行タイミングであると判定すると、CPU92は、フラグFが値1であるか否かを判定し(ステップS150)、値1であればステップS100で開始した通常時制御処理を停止して(ステップS160)、リフレッシュ処理を実行する(ステップS170)。すなわち、リフレッシュ処理の実行タイミングであり且つリフレッシュが必要であると判定されている(フラグFが値1である)ときには、CPU92はリフレッシュ処理を行う。CPU92は、例えばリフレッシュ処理としてリフレッシュ時主ポンプ制御処理を10秒間実行する。この場合、ステップS160で通常時制御処理を停止しているため、リフレッシュ処理中には通常時補助ポンプ制御処理及び通常時測定用ポンプ制御処理は行われない。そして、リフレッシュ処理が終了すると、CPU92は、フラグFを値0に設定して(ステップS180)、再び通常時制御処理を開始して(ステップS190)、NOx濃度の検出を開始する。
 ステップS190で通常時制御処理を開始したあと、ステップS140でリフレッシュ処理の実行タイミングでないと判定したとき、又はステップS150でフラグFが値1でなかったときには、CPU92は、ステップS110以降の処理を実行する。以上のようにCPU92が図7の制御ルーチンを行うことで、NOx濃度の測定を行いつつ必要に応じてリフレッシュ処理を行うことができる。このように、本発明のリフレッシュ処理は、ガスセンサ100の製造時又はメンテナンス時に限らずガスセンサ100の使用時(例えば内燃機関の運転中など)においても行うことができる。
 ここで、本実施形態の構成要素と本発明の構成要素との対応関係を明らかにする。本実施形態の第1基板層1と第2基板層2と第3基板層3と第1固体電解質層4とスペーサ層5と第2固体電解質層6との6つの層がこの順に積層された積層体が本発明の素子本体に相当し、外側ポンプ電極23が外側測定電極に相当し、第3内部空所61が測定室に相当し、測定電極44が内側測定電極に相当し、測定用ポンプセル41が測定用ポンプセルに相当し、第1内部空所20及び第2内部空所40が酸素濃度調整室に相当し、主ポンプセル21及び補助ポンプセル50が調整用ポンプセルに相当し、基準電極42が基準電極に相当し、測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82が測定用電圧検出センサセルに相当し、センサ素子101がセンサ素子に相当し、ポンプ電流Ip2が測定用ポンプ電流に相当し、制御装置90が特定ガス濃度検出部,要否判定部,及びリフレッシュ制御部に相当する。
 以上詳述した本実施形態のガスセンサ100によれば、制御装置90は、ポンプ電流Ip2の急変時のアンダーシュートに基づいてセンサ素子101のリフレッシュの要否を判定するリフレッシュ要否判定処理を行い、リフレッシュが必要と判定した場合に、リフレッシュ処理を行う。リフレッシュ処理は、通常時調整用ポンプ制御処理と比べて酸素濃度調整室(ここでは第1内部空所20及び第2内部空所40)の酸素をより多く汲み出すように調整用ポンプセル(ここでは主ポンプセル21及び補助ポンプセル50)を制御するリフレッシュ時調整用ポンプ制御処理と、通常時測定用ポンプ制御処理と比べて第3内部空所61の酸素をより多く汲み出すように測定用ポンプセル41を制御するリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理と、の少なくともいずれかを含んでいる。このようなリフレッシュ処理を行うことで、ガスセンサ100の使用に伴うポンプ電流Ip2のアンダーシュート及びオーバーシュートの増大を抑制できる。
 また、リフレッシュ処理は、リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理を含んでいる。リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理は、リフレッシュ時測定用ポンプ制御処理と比べて、センサ素子101をリフレッシュさせる効果が高い。そのため、リフレッシュ処理において少なくともリフレッシュ時調整用ポンプ制御処理を行うことで、ポンプ電流Ip2のアンダーシュート及びオーバーシュートを抑制する効果を高くすることや、リフレッシュ処理をより短時間で行うことができる。
 さらに、酸素濃度調整室は、第1内部空所20と、第1内部空所20よりも下流側且つ第3内部空所61よりも上流側に設けられた第2内部空所40と、を有している。また、調整用ポンプセルは、第1内部空所20の酸素濃度を調整する主ポンプセル21と、第2内部空所40の酸素濃度を調整する補助ポンプセル50と、を有している。そして、リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理は、通常時調整用ポンプ制御処理と比べて第1内部空所20の酸素をより多く汲み出すように主ポンプセル21を制御する処理と、通常時調整用ポンプ制御処理と比べて第2内部空所40の酸素をより多く汲み出すように補助ポンプセル50を制御する処理と、の少なくともいずれかを含んでいる。
 また、被測定ガスは、内燃機関の排ガスであり、制御部91は、内燃機関のフューエルカットに伴うポンプ電流Ip2の急変時の挙動に基づいて、リフレッシュ要否判定処理を行う。上述したように、ポンプ電流Ip2のアンダーシュートは、被測定ガス中のNOx濃度の急変ではなくH2O濃度の急変時に生じやすい。そして、内燃機関のフューエルカット時には、一時的に被測定ガスが大気雰囲気と同じような状態になるため、H2O濃度が急変している可能性が高い。そのため、内燃機関のフューエルカットに伴うポンプ電流Ip2の急変時の挙動に基づいて要否判定を行うことで、リフレッシュの要否をより適切に判定できる。例えば、NOx濃度が急変してもH2O濃度が急変していない場合は、実際にはセンサ素子101がリフレッシュ処理が必要な状態であっても、ポンプ電流Ip2のアンダーシュート及びオーバーシュートがあまり大きくならない場合がある。この場合にリフレッシュ要否判定処理を行うと、リフレッシュ処理が不要であると判定してしまい、要否判定が適切に行えない場合がある。これに対し、H2O濃度が急変している可能性の高いフューエルカット時にリフレッシュ要否判定処理を行うことで、リフレッシュの要否をより適切に判定できる。
 さらにまた、制御装置90は、ポンプ電流Ip2の急変時のアンダーシュート量が許容範囲から外れていた場合に、センサ素子101のリフレッシュが必要であると判定する。これにより、アンダーシュート量に基づいてリフレッシュの要否を適切に判定できる。
 そして、制御装置90は、被測定ガス流通部内の被測定ガスが炭素を含むとみなせるときにリフレッシュ処理を行う。リフレッシュ処理は、被測定ガスが炭素を含む状態で行う必要があるため、被測定ガス流通部内の被測定ガスが炭素を含むとみなせるときにリフレッシュ処理を行うことで、効果的にリフレッシュを行うことができる。これにより、例えばリフレッシュ処理を行ってもアンダーシュート及びオーバーシュートが低減されず再度のリフレッシュ処理が必要になるといった状況になりにくい。
 そしてまた、リフレッシュ処理の処理時間は1秒以上10秒以下である。処理時間を1秒以上とすることで、センサ素子101をより確実にリフレッシュさせることができる。また、リフレッシュ処理は長期間実行してもリフレッシュする効果があまり高くならず、開始から最初の10秒間でのリフレッシュ効果が比較的高い。また、リフレッシュ処理中はNOx濃度を正しく検出できないため、リフレッシュ処理の処理時間は短い方が好ましい。処理時間を10秒以下とすることで、NOx濃度を正しく検出できない時間を短くしつつ、センサ素子101のリフレッシュを効率的に行うことができる。なお、リフレッシュ処理の処理時間を10秒以下とすることで1回のリフレッシュ処理ではポンプ電流Ip2のアンダーシュート及びオーバーシュートが十分低減できない場合もある。ただし、この場合は次のリフレッシュ要否判定処理(例えば図7のステップS170を行った後のステップS120)においてリフレッシュ処理が必要であると判定されて再びリフレッシュ処理が実行されることになる。そのため、リフレッシュ要否判定処理でリフレッシュ処理が不要であると判定されるまでは、リフレッシュ処理は繰り返し実行されて、最終的にはリフレッシュ処理が不要と判定される程度にアンダーシュート及びオーバーシュートが低減されることになる。
 また、リフレッシュ処理の処理時間を10秒以下とすることで、センサ素子101のライトオフ時間を短くすることができる。例えば、図7のステップS190で通常時制御処理を開始してから、ポンプ電流Ip2がNOx濃度に対応する値になるまでに時間がかかる場合がある。この時間はライトオフ時間と呼ばれ、ライトオフ時間が経過するまではNOx濃度を正しく測定できない。そして、リフレッシュ処理時間が長くなるほど、ライトオフ時間も長くなる傾向がある。リフレッシュ処理の処理時間を10秒以下とすることで、センサ素子101のライトオフ時間を短くして、リフレッシュ処理後に速やかにNOx濃度の測定を開始することができる。
 なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。
 例えば、上述した実施形態では、図7のステップS120において、CPU92はポンプ電流Ip2のアンダーシュート量に基づいてリフレッシュ処理の要否判定を行ったが、これに限らずポンプ電流Ip2のアンダーシュートに基づいて要否判定を行えばよい。例えば、ポンプ電流Ip2のアンダーシュートの最低値に基づいてリフレッシュ処理の要否判定を行ってもよい。あるいは、ポンプ電流Ip2がアンダーシュートの最低値になったときからその後にポンプ電流Ip2が安定するまでの時間であるアンダーシュート時間に基づいてリフレッシュ処理の要否判定を行ってもよい。また、CPU92はポンプ電流Ip2のオーバーシュートに基づいてリフレッシュ処理の要否判定を行ってもよい。例えば、ポンプ電流Ip2のオーバーシュート量に基づいてリフレッシュ処理の要否判定を行ってもよい。ポンプ電流Ip2のオーバーシュートの最高値に基づいてリフレッシュ処理の要否判定を行ってもよい。あるいは、ポンプ電流Ip2がオーバーシュートの最高値になったときからその後にポンプ電流Ip2が安定するまでの時間であるオーバーシュート時間に基づいてリフレッシュ処理の要否判定を行ってもよい。また、CPU92はポンプ電流Ip2のアンダーシュートとオーバーシュートとの両方に基づいてリフレッシュ処理の要否判定を行ってもよい。
 ポンプ電流Ip2のオーバーシュート量に基づいてリフレッシュ処理の要否判定を行う場合、ステップS110で判定する要否判定タイミングは、オーバーシュートが生じる可能性のあるタイミングとして、例えばフューエルカットの終了時としてもよい。フューエルカットの終了時は、フューエルカット開始時と同様に上述したフューエルカット実行情報に基づいて検出することができる。例えば、CPU92は、エンジンECUからフューエルカットがなされた旨のフューエルカット実行情報を取得したか否かを所定時間毎に判定しておき、フューエルカット実行情報を取得してから初めてフューエルカット実行情報を取得しなくなったときに、フューエルカットが終了したため要否判定タイミングであると判定してもよい。
 上述した実施形態では、ポンプ電流Ip2のアンダーシュートに基づいてリフレッシュの要否判定を行ったが、ポンプ電流Ip2そのものに基づいて判定を行う場合に限らず、ポンプ電流Ip2に換算可能な値又はポンプ電流Ip2と同視できる値に基づいて判定を行ってもよい。例えば、ポンプ電流Ip2に基づくNOx濃度[ppm]の値の挙動(アンダーシュート及びオーバーシュートの少なくとも一方)に基づいて、リフレッシュの要否判定を行ってもよい。
 上述した実施形態では、ステップS170のリフレッシュ処理はリフレッシュ時主ポンプ制御処理としたが、上述したようにリフレッシュ処理はリフレッシュ時調整用ポンプ制御処理とリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理との少なくともいずれかを含んでいればよい。したがって、ステップS170では、リフレッシュ時主ポンプ制御処理,リフレッシュ時補助ポンプ制御処理,及びリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理のうち1以上を実行すればよい。ただし、図6及び表1を用いて説明したように、リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理の方がリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理よりもリフレッシュ効果が高いため、リフレッシュ処理は、リフレッシュ時主ポンプ制御処理及びリフレッシュ時補助ポンプ制御処理の少なくともいずれかを含むことが好ましい。
 上述した実施形態では、リフレッシュ時主ポンプ制御処理,リフレッシュ時補助ポンプ制御処理,及びリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理は、いずれも通常時と比べて目標値を高くする処理としたが、通常時と比べて被測定ガス流通部内の酸素をより多く汲み出すように制御する処理であればよい。例えば、リフレッシュ時の制御処理は、目標値を用いたフィードバック制御を行わずにポンプセルの定電圧制御を行う処理としたり、ポンプセルの定電流制御を行う処理としてもよい。例えば、リフレッシュ時主ポンプ制御処理は、フィードバック制御を行わずに、ポンプ電圧Vp0が通常時主ポンプ制御処理中の値よりも高い所定の定電圧になるように、CPU92が可変電源24を制御する処理としてもよい。あるいは、リフレッシュ時主ポンプ制御処理は、ポンプ電流Ip0が通常時主ポンプ制御処理中の値よりも高い所定の定電流になるように、CPU92が可変電源24を制御する処理としてもよい。リフレッシュ時補助ポンプ制御処理及びリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理についても同様である。
 上述した実施形態では、リフレッシュ処理の実行タイミングとして内燃機関のフューエルカット時以外の運転中を例示したが、被測定ガス流通部内の被測定ガスが炭素を含むとみなせるタイミングであれば、これに限られない。例えば、ガスセンサ100が取り付けられた車両がハイブリッド車である場合、ハイブリッド車の電気運転時(エンジン停止時)且つ排ガス静止時(センサ素子101の周囲に排ガスが残っている時)を、実行タイミングとしてもよい。また、被測定ガスが大気雰囲気でないとみなせるタイミングを、実行タイミングとしてもよい。また、実行タイミングか否かの判定、すなわち被測定ガス流通部内の被測定ガスが炭素を含むとみなせるか否かの判定を行わずに、リフレッシュ処理を行ってもよい。例えば、センサ素子101が図7の制御ルーチンを行っているときは、基本的には内燃機関の運転中であり、リフレッシュ処理を行う効果が得られる。そのため、ステップS140を省略してもよい。この場合、例えば運転中ではなくフューエルカット中にリフレッシュ処理を行ってしまいポンプ電流Ip2のアンダーシュート及びオーバーシュートを低減できない場合もある。しかし、この場合は次のリフレッシュ要否判定処理でリフレッシュ処理が必要であると判定されて再びリフレッシュ処理が実行されることになり、そのとき内燃機関が運転中であれば、リフレッシュ処理の効果が得られる。このように、リフレッシュ処理の実行タイミングであるか否かを判定しない場合でも、リフレッシュ処理を複数回行うことで最終的にはアンダーシュート及びオーバーシュートを低減することはできる。ただし、上述したようにリフレッシュ処理中はNOx濃度を正しく測定できないため、そのような時間をなるべく少なくすべく実行タイミングか否かの判定を行うことが好ましい。
 上述した実施形態では、CPU92は、フューエルカット実行情報に基づいてフューエルカットの開始時を検出したりフューエルカット時以外であることを検出したりしたが、ポンプ電流Ip0に基づいてこれらを検出してもよい。上述したように、通常時主ポンプ制御処理中に流れるポンプ電流Ip0は、ガス導入口10から被測定ガス流通部内に流入する被測定ガス(すなわちセンサ素子101の周囲の被測定ガス)の酸素濃度に応じて変化する。そして、被測定ガスが内燃機関の排ガスである場合には、フューエルカット時には被測定ガス中の酸素濃度が大気中の酸素濃度と同程度となる。そのため、CPU92は、通常時主ポンプ制御処理中に流れるポンプ電流Ip0が、大気中の酸素濃度と同じとみなせる所定範囲の濃度(例えば20~22%など)に対応する値であるか否かによって、フューエルカット中か否かを判定することができる。そこで、例えばCPU92はステップS110でポンプ電流Ip0に基づいてフューエルカットの開始時であるか否かを判定して、開始時であれば要否判定タイミングであると判定してもよい。また、CPU92はステップS140でポンプ電流Ip0に基づいてフューエルカット中か否かを判定して、フューエルカット中でなければリフレッシュ処理の実行タイミングであると判定してもよい。ステップS120でポンプ電流Ip2のオーバーシュート量に基づいてリフレッシュ処理の要否判定を行う場合は、CPU92はステップS110でポンプ電流Ip0に基づいてフューエルカットの終了時であるか否かを判定して、終了時であれば要否判定タイミングであると判定してもよい。
 上述した実施形態では説明しなかったが、ステップS170のリフレッシュ処理中にフューエルカットが開始されてしまう場合もある。この場合は、処理時間(上述した実施形態では10秒)の経過を待たずにリフレッシュ処理を終了してもよい。
 上述した実施形態では、酸素濃度調整室は第1内部空所20と第2内部空所40とを有していたが、これに限らず例えば酸素濃度調整室がさらに別の内部空所を備えていてもよいし、第1内部空所20と第2内部空所40との一方を省略してもよい。同様に、上述した実施形態では調整用ポンプセルは主ポンプセル21と補助ポンプセル50とを有していたが、これに限らず例えば調整用ポンプセルがさらに別のポンプセルを備えていてもよいし、主ポンプセル21と補助ポンプセル50との一方を省略してもよい。例えば、主ポンプセル21のみで被測定ガスの酸素濃度を十分低くすることができる場合は、補助ポンプセル50を省略してもよい。この場合、CPU92は、通常時調整用ポンプ制御処理として、例えば酸素濃度調整室(第1内部空所20)の酸素濃度が目標濃度となるように主ポンプセル21を制御する処理を行ってもよい。より具体的には、目標値V0*を予め定めておき、CPU92は、電圧V0が目標値V0*となるように(つまり第1内部空所20の酸素濃度が目標濃度となるように)可変電源24のポンプ電圧Vp0をフィードバック制御することで、主ポンプセル21を制御してもよい。
 上述した実施形態では、外側ポンプ電極23は、主ポンプセル21の一部でありセンサ素子101の外側の被測定ガスと接触する部分に配設された外側主ポンプ電極と、補助ポンプセル50の一部でありセンサ素子101の外側の被測定ガスと接触する部分に配設された外側補助ポンプ電極と、測定用ポンプセル41の一部でありセンサ素子101の外側の被測定ガスと接触する部分に配設された外側測定電極と、を兼ねていたが、これに限られない。外側主ポンプ電極,外側補助ポンプ電極,及び外側測定電極のうちのいずれか1以上を、外側ポンプ電極23とは別にセンサ素子101の外側に設けてもよい。
 上述した実施形態では、外側ポンプ電極23はセンサ素子101の外部に露出しているが、これに限らず外側ポンプ電極23は被測定ガスと接触するように素子本体(層1~6)の外側に設けられていればよい。例えば、センサ素子101が素子本体(層1~6)を被覆する多孔質保護層を備えており、外側ポンプ電極23も多孔質保護層に被覆されていてもよい。
 上述した実施形態では、ガスセンサ100のセンサ素子101は第1内部空所20,第2内部空所40,第3内部空所61を備えるものとしたが、これに限られない。例えば、図8のセンサ素子201のように、第3内部空所61を備えないものとしてもよい。図8に示した変形例のセンサ素子201では、第2固体電解質層6の下面と第1固体電解質層4の上面との間には、ガス導入口10と、第1拡散律速部11と、緩衝空間12と、第2拡散律速部13と、第1内部空所20と、第3拡散律速部30と、第2内部空所40とが、この順に連通する態様にて隣接形成されてなる。また、測定電極44は、第2内部空所40内の第1固体電解質層4の上面に配設されている。測定電極44は、第4拡散律速部45によって被覆されてなる。第4拡散律速部45は、アルミナ(Al23)などのセラミックス多孔体にて構成される膜である。第4拡散律速部45は、上述した実施形態の第4拡散律速部60と同様に、測定電極44に流入するNOxの量を制限する役割を担う。また、第4拡散律速部45は、測定電極44の保護膜としても機能する。補助ポンプ電極51の天井電極部51aは、測定電極44の直上まで形成されている。このような構成のセンサ素子201であっても、上述した実施形態と同様に例えばポンプ電流Ip2に基づいてNOx濃度を検出できる。この場合、測定電極44の周囲が測定室として機能することになる。
 上述した実施形態では、センサ素子101の素子本体は複数の固体電解質層(層1~6)を有する積層体としたが、これに限られない。センサ素子101の素子本体は、酸素イオン伝導性の固体電解質層を少なくとも1つ含み、且つ被測定ガス流通部が内部に設けられていればよい。例えば、図1において第2固体電解質層6以外の層1~5は固体電解質以外の材質からなる構造層(例えばアルミナからなる層)としてもよい。この場合、センサ素子101が有する各電極は第2固体電解質層6に配設されるようにすればよい。例えば、図1の測定電極44は第2固体電解質層6の下面に配設すればよい。また、基準ガス導入空間43を第1固体電解質層4の代わりにスペーサ層5に設け、大気導入層48を第1固体電解質層4と第3基板層3との間に設ける代わりに第2固体電解質層6とスペーサ層5との間に設け、基準電極42を第3内部空所61よりも後方且つ第2固体電解質層6の下面に設ければよい。
 上述した実施形態では、制御装置90は、通常時主ポンプ制御処理において、ポンプ電流Ip1が目標電流Ip1*となるようにポンプ電流Ip1に基づいて電圧V0の目標値V0*を設定(フィードバック制御)し、電圧V0が目標値V0*となるようにポンプ電圧Vp0をフィードバック制御したが、他の制御を行ってもよい。例えば、制御装置90は、通常時主ポンプ制御処理において、ポンプ電流Ip1が目標電流Ip1*となるように、ポンプ電流Ip1に基づいてポンプ電圧Vp0をフィードバック制御してもよい。すなわち、制御装置90は、主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80からの電圧V0の取得及び目標値V0*の設定を省略して、ポンプ電流Ip1に基づいて直接的にポンプ電圧Vp0を制御(ひいてはポンプ電流Ip0を制御)してもよい。
 上述した実施形態では、ガスセンサ100は特定ガス濃度としてNOx濃度を検出したが、これに限らず他の酸化物濃度を特定ガス濃度としてもよい。特定ガスが酸化物の場合には、上述した実施形態と同様に特定ガスそのものを第3内部空所61で還元したときに酸素が発生するから、CPU92はこの酸素に応じた検出値に基づいて特定ガス濃度を検出できる。また、特定ガスがアンモニアなどの非酸化物であってもよい。特定ガスが非酸化物の場合には、特定ガスが例えば第1内部空所20で酸化物に変換(例えばアンモニアであれば酸化されてNOに変換)されることで、変換後の酸化物が第3内部空所61で還元したときに酸素が発生するから、CPU92はこの酸素に応じた検出値を取得して特定ガス濃度を検出できる。このように、特定ガスが酸化物と非酸化物とのいずれであっても、ガスセンサ100は、特定ガスに由来して第3内部空所61で発生する酸素に基づいて特定ガス濃度を検出できる。
 上述した実施形態では、リフレッシュ時主ポンプ制御処理における目標値V0r*は目標値V0*よりも高い値とし、図6では目標値V0r*は1000mVとした。この目標値V0r*は、700mV超過1100mV以下が好ましい。本発明者らは、目標値V0r*を700mV~1100mVの範囲で異ならせた場合の、リフレッシュ処理時間とアンダーシュート量の低減効果との関係を調べた。結果を図9に示す。図9の横軸及び縦軸は図6の横軸及び縦軸と同じであり、図9のグラフは目標値V0r*を異ならせた点以外は図6の実線(凡例で「V0」と表記)で示したグラフと同じ条件で測定した。図9では、目標値V0r*を700mV,800mV,900mV,1000mV,1100mVの5通りに変化させた場合の結果を示している。図9のうち目標値V0r*が1000mVの場合の結果(図9の二点鎖線のグラフ)は、目標値V0r*の値が同じ1000mVである図6の実線のグラフとほぼ同じ結果になった。図9からわかるように、目標値V0r*が大きいほど、差ΔUSが短時間で0%に近づく傾向があり、センサ素子101をリフレッシュさせる効果が高いことが確認された。また、目標値V0r*が700mVではセンサ素子101をリフレッシュさせる効果がほとんど得られなかったことから、目標値V0r*は700mV超過が好ましく、800mV以上がより好ましいと考えられる。また、目標値V0r*が高いほどリフレッシュ時主ポンプ制御処理時の電圧Vp0が高くなる。そして、電圧Vp0が高すぎると、センサ素子101の固体電解質(ここではジルコニア)の還元が生じてしまう場合がある。そのため、目標値V0r*は1100mV以下が好ましい。リフレッシュ時補助ポンプ制御処理の目標値V1r*,及びリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理の目標値V2r*についても、目標値V0r*と同様に700mV超過1100mV以下が好ましく、800mV以上がより好ましい。
 本出願は、2021年8月25日に出願された日本国特許出願第2021-137094号を優先権主張の基礎としており、引用によりその内容の全てが本明細書に含まれる。
 本発明は、自動車の排気ガスなどの被測定ガスにおけるNOxなどの特定ガス濃度を検出するガスセンサに利用可能である。
1 第1基板層、2 第2基板層、3 第3基板層、4 第1固体電解質層、5 スペーサ層、6 第2固体電解質層、10 ガス導入口、11 第1拡散律速部、12 緩衝空間、13 第2拡散律速部、20 第1内部空所、21 主ポンプセル、22 内側ポンプ電極、22a 天井電極部、22b 底部電極部、23 外側ポンプ電極、24 可変電源、30 第3拡散律速部、40 第2内部空所、41 測定用ポンプセル、42 基準電極、43 基準ガス導入空間、44 測定電極、45 第4拡散律速部、46 可変電源、48 大気導入層、50 補助ポンプセル、51 補助ポンプ電極、51a 天井電極部、51b 底部電極部、52 可変電源、60 第4拡散律速部、61 第3内部空所、70 ヒータ部、71 コネクタ電極、72 ヒータ、73 スルーホール、74 ヒータ絶縁層、75 圧力放散孔、76 ヒータ電源、80 主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル、81 補助ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル、82 測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル、83 センサセル、90 制御装置、91 制御部、92 CPU、94 記憶部、100 ガスセンサ、101,201 センサ素子。

Claims (7)

  1.  酸素イオン伝導性の固体電解質層を含み、被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体と、
     前記被測定ガスと接触するように前記素子本体の外側に設けられた外側測定電極と、前記被測定ガス流通部のうちの測定室に配設された内側測定電極と、を有し、前記内側測定電極の周囲から前記外側測定電極の周囲に酸素の汲み出しを行う測定用ポンプセルと、
     前記被測定ガス流通部のうち前記測定室の上流側に設けられた酸素濃度調整室の酸素濃度を調整する調整用ポンプセルと、
     前記被測定ガス中の特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガスと接触するように前記素子本体の内部に配設された基準電極と、
     前記基準電極と前記内側測定電極との間の測定用電圧を検出する測定用電圧検出センサセルと、
     を有するセンサ素子と、
     前記調整用ポンプセルを動作させる通常時調整用ポンプ制御処理と、前記センサ素子の前記測定用電圧が目標値になるように前記測定用ポンプセルを制御して前記測定室の酸素を汲み出す通常時測定用ポンプ制御処理と、を行い、該通常時測定用ポンプ制御処理によって前記測定用ポンプセルに流れる測定用ポンプ電流に基づいて前記被測定ガス中の前記特定ガス濃度を検出する特定ガス濃度検出部と、
     前記測定用ポンプ電流の急変時のアンダーシュートとオーバーシュートとの少なくとも一方に基づいて前記センサ素子のリフレッシュの要否を判定するリフレッシュ要否判定処理を行う要否判定部と、
     前記リフレッシュ要否判定処理で前記リフレッシュが必要と判定した場合に、前記通常時調整用ポンプ制御処理と比べて前記酸素濃度調整室の酸素をより多く汲み出すように前記調整用ポンプセルを制御するリフレッシュ時調整用ポンプ制御処理と、前記通常時測定用ポンプ制御処理と比べて前記測定室の酸素をより多く汲み出すように前記測定用ポンプセルを制御するリフレッシュ時測定用ポンプ制御処理と、の少なくともいずれかを含むリフレッシュ処理を行うリフレッシュ制御部と、
     を備えたガスセンサ。
  2.  前記リフレッシュ処理は、前記リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理を含む、
     請求項1に記載のガスセンサ。
  3.  前記酸素濃度調整室は、第1内部空所と、該第1内部空所よりも下流側且つ前記測定室よりも上流側に設けられた第2内部空所と、を有し、
     前記調整用ポンプセルは、前記第1内部空所の酸素濃度を調整する主ポンプセルと、前記第2内部空所の酸素濃度を調整する補助ポンプセルと、を有し、
     前記リフレッシュ時調整用ポンプ制御処理は、前記通常時調整用ポンプ制御処理と比べて前記第1内部空所の酸素をより多く汲み出すように前記主ポンプセルを制御する処理と、前記通常時調整用ポンプ制御処理と比べて前記第2内部空所の酸素をより多く汲み出すように前記補助ポンプセルを制御する処理と、の少なくともいずれかを含む、
     請求項2に記載のガスセンサ。
  4.  前記被測定ガスは、内燃機関の排ガスであり、
     前記要否判定部は、前記内燃機関のフューエルカットに伴う前記測定用ポンプ電流の急変時の挙動に基づいて、前記リフレッシュ要否判定処理を行う、
     請求項1~3のいずれか1項に記載のガスセンサ。
  5.  前記要否判定部は、前記測定用ポンプ電流の急変時のアンダーシュート量とオーバーシュート量との少なくとも一方が許容範囲から外れていた場合に、前記リフレッシュが必要であると判定する、
     請求項1~3のいずれか1項に記載のガスセンサ。
  6.  前記リフレッシュ制御部は、前記被測定ガス流通部内の前記被測定ガスが炭素を含むとみなせるときに前記リフレッシュ処理を行う、
     請求項1~3のいずれか1項に記載のガスセンサ。
  7.  前記リフレッシュ処理の処理時間は1秒以上10秒以下である、
     請求項1~3のいずれか1項に記載のガスセンサ。
PCT/JP2022/030972 2021-08-25 2022-08-16 ガスセンサ WO2023026899A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE112022002209.4T DE112022002209T5 (de) 2021-08-25 2022-08-16 Gassensor
CN202280051127.9A CN117751287A (zh) 2021-08-25 2022-08-16 气体传感器
JP2023543827A JPWO2023026899A1 (ja) 2021-08-25 2022-08-16
US18/414,696 US20240192160A1 (en) 2021-08-25 2024-01-17 Gas sensor

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021137094 2021-08-25
JP2021-137094 2021-08-25

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US18/414,696 Continuation US20240192160A1 (en) 2021-08-25 2024-01-17 Gas sensor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023026899A1 true WO2023026899A1 (ja) 2023-03-02

Family

ID=85321965

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/030972 WO2023026899A1 (ja) 2021-08-25 2022-08-16 ガスセンサ

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20240192160A1 (ja)
JP (1) JPWO2023026899A1 (ja)
CN (1) CN117751287A (ja)
DE (1) DE112022002209T5 (ja)
WO (1) WO2023026899A1 (ja)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61212753A (ja) * 1985-03-18 1986-09-20 Fujikura Ltd 酸素センサ−の自己診断方法
JP2003329640A (ja) * 2002-05-09 2003-11-19 Toyota Motor Corp ガス濃度測定装置
JP2009229225A (ja) * 2008-03-21 2009-10-08 Toyota Motor Corp ガス濃度検出装置
JP2014190939A (ja) * 2013-03-28 2014-10-06 Ngk Insulators Ltd センサ素子の処理方法及びセンサ素子
JP2020165815A (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 日本碍子株式会社 センサ素子の制御用の目標値の決定方法,センサ素子の製造方法,及びガスセンサの製造方法
JP2021039088A (ja) * 2019-08-28 2021-03-11 日本碍子株式会社 ガスセンサおよびガスセンサの動作制御方法
JP2021085664A (ja) * 2019-11-25 2021-06-03 日本碍子株式会社 ガスセンサ及びクラック検出方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2008038773A1 (ja) 2006-09-29 2010-01-28 日本碍子株式会社 ガスセンサ素子の処理方法
JP7475897B2 (ja) 2020-03-02 2024-04-30 株式会社三共 遊技機

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61212753A (ja) * 1985-03-18 1986-09-20 Fujikura Ltd 酸素センサ−の自己診断方法
JP2003329640A (ja) * 2002-05-09 2003-11-19 Toyota Motor Corp ガス濃度測定装置
JP2009229225A (ja) * 2008-03-21 2009-10-08 Toyota Motor Corp ガス濃度検出装置
JP2014190939A (ja) * 2013-03-28 2014-10-06 Ngk Insulators Ltd センサ素子の処理方法及びセンサ素子
JP2020165815A (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 日本碍子株式会社 センサ素子の制御用の目標値の決定方法,センサ素子の製造方法,及びガスセンサの製造方法
JP2021039088A (ja) * 2019-08-28 2021-03-11 日本碍子株式会社 ガスセンサおよびガスセンサの動作制御方法
JP2021085664A (ja) * 2019-11-25 2021-06-03 日本碍子株式会社 ガスセンサ及びクラック検出方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE112022002209T5 (de) 2024-03-21
CN117751287A (zh) 2024-03-22
JPWO2023026899A1 (ja) 2023-03-02
US20240192160A1 (en) 2024-06-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10605763B2 (en) Method of reducing output degradation of gas sensor
WO2022123865A1 (ja) ガスセンサ
JP4592570B2 (ja) センサ素子劣化判定装置およびセンサ素子劣化判定方法
US11378543B2 (en) Gas sensor and sensor element
US20220113280A1 (en) Gas sensor
JP7261053B2 (ja) ガスセンサ及びセンサ素子
JPH09288084A (ja) 窒素酸化物センサ
JP6966348B2 (ja) 特定ガス濃度測定装置及び特定ガス濃度測定システム
JP2020159881A (ja) ガスセンサ及びセンサ素子
JP5876430B2 (ja) センサ素子の処理方法
WO2023026899A1 (ja) ガスセンサ
US11078858B2 (en) Control apparatus for an internal combustion engine
US20220178869A1 (en) Gas sensor
JP2001074693A (ja) ガス濃度センサのヒータ制御装置
JP4592571B2 (ja) センサ素子劣化判定装置およびセンサ素子劣化判定方法
JP2009150741A (ja) ガス濃度検出装置
JP2023090025A (ja) ガスセンサ
WO2024084889A1 (ja) ガスセンサ
JP6455389B2 (ja) センサ制御装置
WO2022210347A1 (ja) センサ素子及びガスセンサ
JP2024119106A (ja) ガスセンサ
WO2022210348A1 (ja) センサ素子及びガスセンサ
US20240133839A1 (en) Gas sensor
JP2023096373A (ja) ガスセンサ及びガスセンサの制御方法
JP2024061252A (ja) ガスセンサ

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22861187

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2023543827

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 112022002209

Country of ref document: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 202280051127.9

Country of ref document: CN

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 22861187

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1