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WO2006109419A1 - 光学積層体 - Google Patents

光学積層体 Download PDF

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Publication number
WO2006109419A1
WO2006109419A1 PCT/JP2006/305376 JP2006305376W WO2006109419A1 WO 2006109419 A1 WO2006109419 A1 WO 2006109419A1 JP 2006305376 W JP2006305376 W JP 2006305376W WO 2006109419 A1 WO2006109419 A1 WO 2006109419A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
hard coat
resin
coat layer
fine particles
conductive fine
Prior art date
Application number
PCT/JP2006/305376
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Masataka Nakashima
Takeshi Hirai
Yoko Kinoshita
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co., Ltd. filed Critical Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Priority to US11/817,832 priority Critical patent/US20090011229A1/en
Priority to JP2007512435A priority patent/JPWO2006109419A1/ja
Publication of WO2006109419A1 publication Critical patent/WO2006109419A1/ja

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    • Y10T428/269—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension including synthetic resin or polymer layer or component

Definitions

  • the present invention relates to an optical laminate in which a hard coat layer having excellent antistatic effects and excellent optical properties is formed.
  • the display surface of an image display device such as a liquid crystal display (LCD) or a cathode ray tube display device (CRT) or a plasma display (PDP) reduces reflection by light rays emitted from an external light source such as a fluorescent lamp. Therefore, it is required to improve the visibility.
  • an optical laminate for example, an antireflection laminate
  • an image display device The visibility of the display surface is reduced and the visibility is improved.
  • Patent Document 1 Patent Publication No. 2004 94007 proposes an antireflection optical laminate in which an antistatic layer and a hard coat layer are smoothly formed in this order on the surface of a light-transmitting substrate. Yes. Furthermore, the outermost surface of the image display device is required to have excellent scratch resistance, and for this purpose, it is essential to provide a hard coat layer.
  • both of these functions are imparted by separate layers rather than by one layer (for example, Patent Document 2). That is, in the past, a method has been adopted in which a conductive layer for preventing static charge is formed thinly and a hard coat layer is provided on the surface, and a technology that realizes both of these functions with a single layer has not been achieved. is the current situation.
  • the present inventors have examined whether the antistatic property can be imparted to the hard coat layer at the same time or not. It is necessary to contain a relatively large amount of conductive particles in order to have a high particle size. However, for example, when conductive particles such as ATO are dispersed in a UV-cured resin, the primary particle size is set to suppress haze. Must be limited to 150 or less. When such conductive fine particles are used as an antistatic agent, for example, the weight ratio (PV value) of the conductive fine particles Z resin needs to be 150 or more. This is because, when the PV value is lower than this level, the conductive ultrafine particles do not come into good contact with each other, so that the antistatic performance does not appear.
  • PV value weight ratio
  • the refractive index of the hard coat layer increases, the difference in refractive index between the optical laminate such as the antireflection laminate and the layer in contact with the hard coat increases, and the interface between the layers is increased. Therefore, the occurrence of interface reflection and interference fringes is often seen as a problem. In particular, it has been pointed out that interference fringes are generated at the interface between the light-transmitting substrate and the antistatic layer, thereby reducing the visibility of the image. Also, in order to obtain good optical characteristics as an antireflection laminate, the refractive index of the hard coat layer needs to be controlled to about ⁇ 0.03 with respect to the refractive index of each substrate.
  • the refractive index of the base material is 1.65
  • the hard coat layer on the base material The refractive index of the primer layer necessary for obtaining the adhesion of 1.55 to 1.57.
  • This primer layer is designed so that no interference fringes are generated between the hard coat having a refractive index of 1.50. Therefore, in this case, the refractive index of the hard coat layer should be about ⁇ 0.03, which is the refractive index of 1.50 of the design standard, that is, about 1.47 to 1.53.
  • Patent Document 1 Patent Publication No. 2004-94007
  • Patent Document 2 JP-A-11 42729
  • the present invention is directed to solving the above-described technical problem, and provides an optical laminate in which a hard coat layer having excellent antistatic effects and excellent optical characteristics is formed.
  • the purpose is to do.
  • the resin layer is conductive. is doing. This is thought to be because the conductive fine particles dispersed in the resin layer form a three-dimensional network structure in a unique agglomeration manner.
  • the optical laminate according to the present invention is an optical laminate in which a hard coat layer is formed on a substrate directly or via another layer, and the hard coat layer is made of a resin and a conductive material.
  • the PV value defined by the ratio of the weight of the conductive fine particles to the weight of the resin is in the range of 3 to 50, and the hard coat layer has antistatic performance.
  • the refractive index range can be controlled from 1.47 to 1.53.
  • the hard coat layer since the hard coat layer has conductivity and has antistatic properties, the hard coat layer also serves as the antistatic layer.
  • the optical layered body according to the present invention preferably has a hard coat layer thickness in the hard coat layer of 1 IX m to 20 ⁇ m, preferably 1 ⁇ m to 10 ⁇ m. Based on the haze when the hard coat contains no conductive fine particles, the haze increase when containing the conductive fine particles is 0.5% or less.
  • the conductive fine particles form a structure in which the fine particles are aggregated and dispersed in a three-dimensional network form in the resin, so A conductive path is formed.
  • a low refractive index layer may be further formed on the surface of the hard coat layer.
  • the present invention also includes the use of the optical laminate as an antireflection laminate and an image display device having the optical laminate.
  • the optical laminate according to the present invention is an optical laminate in which a hard coat layer is formed on a substrate directly or via another layer, and the hard coat layer is electrically conductive with a resin.
  • the PV value defined by the ratio of the weight of the conductive fine particles to the weight of the resin is in the range of 3 to 50, and the hard coat layer has antistatic performance. It has a refractive index that can be controlled to about 1.47 to 1.53.
  • the light transmissive substrate preferably has smoothness and heat resistance and is excellent in mechanical strength.
  • Specific examples of the material for forming the light-transmitting substrate include polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), cenololose triacetate, cenololose diacetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polyamide, polyimide, polyether sulfone.
  • Thermoplastic sulfone such as polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polychlorinated butyl, polybutylacetal, polyether ketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, or polyurethane, preferably polyester (polyethylene terephthalate, Polyethylene naphthalate) and cellulose triacetate.
  • polyester polyethylene terephthalate, Polyethylene naphthalate
  • cellulose triacetate preferably polyester (polyethylene terephthalate, Polyethylene naphthalate) and cellulose triacetate.
  • Cyclo-Olefin-Polymer (COP) film can also be used.
  • This is a base material on which norbornene-based polymer, monocyclic cyclic olefin-based polymer, cyclic conjugation-based polymer, vinyl alicyclic hydrocarbon-based polymer resin, etc. are used.
  • ZEONEX ZEONOR Neorbornene series manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., Sumilite F S-1700, JSR Co., Ltd.
  • the thickness of the light-transmitting substrate is 20 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less, preferably the upper limit is 200 ⁇ m or less, and the lower limit is 30 m or more. When the light-transmitting substrate is a plate-like body, the thickness may exceed these thicknesses.
  • the light-transmitting substrate is called an anchor agent or primer in addition to physical treatment such as corona discharge treatment and oxidation treatment in order to improve adhesion when forming an optical property layer on the substrate.
  • the composition may be applied in advance.
  • the “hard coat layer” means a layer having a hardness of “H” or more in a lead writing brush hardness test specified in JIS5600-5-4 (1999).
  • the film thickness (at the time of curing) of the hard coat layer is 0.1 to: LOO / z m, preferably 0.8 to 20 m.
  • the hard coat layer contains a resin and conductive fine particles.
  • the conductive fine particles act as an antistatic agent.
  • the hard coat layer contains the resin and conductive fine particles, and the PV value defined by the ratio of the weight of the conductive fine particles to the weight of the resin is in the range of 3 to 50. is there.
  • the conductive fine particles include those having metal oxide strength.
  • metal oxides include ZnO (refractive index 1.90, hereinafter, the numerical value in Katsuko represents the refractive index), CeO (1.95), Sb 2 O (1.71), SnO (1. 997)
  • ITO indium tin oxide (1.95), In O (2.00), Al 2 O (1.63), antimony, often abbreviated as ITO
  • ATO fine particles can be particularly preferably used.
  • the fine particles refer to particles having a size of 1 micron or less, so-called submicron, and preferably mean particles having an average particle size of 0.1 nm to 0.1 ⁇ m.
  • the primary particle size of the fine particles is about 20 to 70 nm, and the secondary particle size is preferably about 200 nm or less.
  • the present invention is defined by the ratio of the conductive fine particles to the weight of the resin.
  • the PV value is in the range of 3 to 50, preferably in the range of 5 to 20, and more preferably in the range of 5 to 10.
  • the PV value is less than 3, formation of a conductive path, which will be described later, becomes difficult, and the expression of conductivity is insufficient.
  • the PV value exceeds 50, it tends to cause a decrease in hardness, a decrease in the total light transmittance, and an increase in the film refractive index. Therefore, it is important to control the PV value within the above range.
  • the conductivity sufficiently effective for preventing static electricity is exhibited even though the weight ratio of the conductive fine particles in the hard coat layer is unexpectedly low.
  • Such an expression mechanism of conductivity is not necessarily clear, and the present invention is not limited to any theory, but can be estimated as follows.
  • the conductive fine particles added in a relatively small amount form a three-dimensional network structure in a specific aggregation manner in the resin layer, and the conductive fine particles are connected from the front surface to the back surface of the layer. This is considered to be caused by the formation of a “conductive path”. More specifically, the matrix resin constituting the hard coat layer is phase-separated to form an agglomerate, and the hydrophilic group is exposed to the conductive fine particles such as ATO by exposing the surface hydrophilic group of the agglomerate. Therefore, it is considered that the conductive fine particles are localized on the surface of the aggregate.
  • Conductive fine particles localized in such agglomerates come into contact with each other at the contact points of the agglomerates, and a connection of conductive fine particles extending from the front surface to the back surface of the hard coat layer, that is, a conductive path is formed.
  • a conductive path due to the localization of such particles, the absolute amount of conductive particles necessary for the development of conductivity is drastically reduced compared to the case where conductive particles are dispersed throughout the matrix resin. It is considered possible.
  • the degree of localization of the conductive fine particles on the surface of the aggregate can be controlled, whereby the conductivity can be controlled to the optimum state.
  • curable resin precursors such as monomers, oligomers and prepolymers are collectively referred to as “resins” unless otherwise specified.
  • the resin constituting the hard coat layer are transparent, and specific examples thereof include ionizing radiation curable resins and ionizing radiation curable resins that are cured by ultraviolet rays or electron beams. And solvent-dried resin (such as thermoplastic resin, which can be used to form a film by simply drying the solvent to adjust the solid content during coating), or thermosetting resin There are three types, and preferably ionizing radiation curable resin.
  • the ionizing radiation curable resin include those having an acrylate functional group such as a polyester resin, a polyether resin, an acrylic resin, an epoxy resin having a relatively low molecular weight, Examples include urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiolpolyene resins, oligomers or prepolymers such as (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols, reactive diluents, Specific examples thereof include monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethyl hexyl (meth) acrylate, styrene, methyl styrene, N butyl pyrrolidone, and polyfunctional monomers such as polymethylol propane tri (meta).
  • an acrylate functional group such as a polyester resin, a polyether resin, an acrylic resin, an epoxy resin having a relatively low molecular weight
  • Examples
  • photopolymerization initiators include acetophenones, benzophenones, Michlerbenzoyl benzoate, a amyl oxime ester, tetramethyl thiuram monosulfide in the case of a resin having a radically polymerizable unsaturated group. , Thioxanthones, propiophenones, benzyls, benzoins, and acylphosphine oxides can be mentioned.
  • an aromatic diazo-um salt, an aromatic sulfo-um salt, an aromatic iodine salt, a metathelone compound, a benzoin sulfone is used as a photopolymerization initiator.
  • Acid esters are used alone or as a mixture.
  • the addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable composition.
  • Specific examples of the photosensitizers preferably used in combination include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like.
  • thermoplastic resin examples include thermoplastic resin.
  • thermoplastic rosin those generally exemplified are used. A coating film defect on the coated surface can be effectively prevented by adding the solvent-dried resin.
  • preferable thermoplastic resins include, for example, styrene-based resins, (meth) acrylic-based resins, butyl acetate-based resins, butyl ether-based resins, halogen-containing resins, and alicyclic olefin-based resins. Examples thereof include resin, polycarbonate-based resin, polyester-based resin, polyamide-based resin, cellulose derivative, silicone-based resin, and rubber or elastomer.
  • the resin a resin that is non-crystalline and soluble in an organic solvent (especially a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds) is usually used.
  • an organic solvent especially a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds
  • moldable or film-forming, transparent, highly weatherable resin such as styrene resin, (meth) acrylic resin, alicyclic olefin resin, polyester resin, cellulose derivative (Cellulose esters and the like) are preferred.
  • thermoplastic resin when the material of the transparent substrate is a cellulosic resin such as TAC, preferred specific examples of the thermoplastic resin include cellulosic resins such as -trocenorelose, acetinoresenore. Examples thereof include sucrose, cenololose acetate propionate, and ethinorehydrochetyl cellulose.
  • the material of the light-transmitting substrate is a cellulose-based resin such as triacetyl cellulose “TAC”, as a preferable specific example of the thermoplastic resin
  • a cellulose-based resin for example, -trocellulose, acetyl cellulose, cellulose acetate propionate, ethyl hydroxyethyl cellulose and the like can be mentioned.
  • Cellulose base By using the fat, it is possible to improve the adhesion and transparency between the light-transmitting substrate and the antistatic layer (if necessary).
  • thermosetting resin examples include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melanin resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin.
  • examples thereof include fat, amino alkyd resin, melamine urea co-condensed resin, key resin resin, and polysiloxane oil.
  • a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like can be further added as necessary.
  • a photopolymerization initiator can be used, and specific examples thereof include 1-hydroxy monocyclohexyl mono-phenol. This compound is commercially available, for example, trade name “Irgacure 184” (manufactured by Ciba Specialty Chemicals).
  • Other specific examples of photopolymerization initiators include acetophenone, benzophenone, Michler benzoylbenzoate, a amyl oxime ester, thixanthone, propiofenone, benzyl, benzoin, and acylphosphine. Examples include cisids.
  • Specific examples of the photosensitizers preferably used in combination include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like.
  • acetophenones, benzophenones, thixanthones, benzoin, benzoin methyl ether, and the like are used alone or in the case of a resin having a radically polymerizable unsaturated group.
  • a resin having a cationically polymerizable functional group an aromatic diazo-um salt, an aromatic sulfo-um salt, an aromatic iodonium salt, a metatheron compound, a benzoin sulfonate ester is used as a photopolymerization initiator.
  • Etc. are used alone or as a mixture.
  • the addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1 to: LO parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable composition.
  • a resin component is appropriately used in combination. It is preferable.
  • Dispersant A dispersant can also be used to promote good localization as described above.
  • a dispersant for example, higher fatty acid esters such as polyglycerin fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, and sucrose fatty acid ester can be used.
  • Polydalycerin fatty acid esters are preferred, but in particular polyglycerin may contain branched polyglycerin partially condensed at ⁇ -position and cyclic polyglycerin in addition to linear polydallyline condensed at ⁇ - position.
  • the polyglycerin constituting the polyglycerol fatty acid ester constituting the polyglycerol fatty acid ester preferably has a number average degree of polymerization of about 2 to 20, more preferably about 2 to 10 in order to obtain a better dispersion state. is there.
  • fatty acids branched or straight-chain saturated or unsaturated fatty acids are preferred.
  • Preferred examples include aliphatic monocarboxylic acids such as palmitic acid, isostearic acid, stearic acid, oleic acid, isononanoic acid and araquinic acid.
  • polyglycerin fatty acid esters used as higher fatty acid esters in particular, Ajinomoto Chemical Co., Ajispa 1-411 and PA-111, SY Glycer from Sakamoto Yakuhin Kogyo Co., etc. can be preferably used.
  • dispersants such as sulfonic acid amides, ⁇ -force prolatatones, haloid lost stearic acids, polycarboxylic acids, and polyesters can be used.
  • Solpers 3000, 9000, 17000, 20000, 24000, 41090 above, manufactured by Zeneca
  • the conductive fine particles can be dispersed by various dispersion methods.
  • a pulverizer such as an ultrasonic mill, a bead mill, a sand mill, or a disk mill is used.
  • a composition for hard coat layer in which the above-mentioned resin component and conductive fine particles are mixed with a solvent is used.
  • Solvents are the above-mentioned resin components: types of polymers and curable resin precursors, solubility, conductivity
  • the solvent can be selected and used according to the dispersibility of the fine particles, and can be any solvent that can uniformly dissolve at least solids (a plurality of polymers and curable resin precursors, reaction initiators, and other additives). .
  • solvents examples include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), fatty acids, Cyclic hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), water , Alcohols (ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.), cellosolves (methyl caffeosolve, ethylcethylsolve, etc.), cellosolve acetates, sulfoxides (dimethylsulf
  • the hard coat layer can be formed by applying a composition obtained by mixing the above-described resin, a solvent, an optional component, and conductive fine particles to a light-transmitting substrate. According to a preferred embodiment of the present invention, it is preferable to add a fluorine or silicone leveling agent to the liquid composition.
  • the liquid composition to which the leveling agent is added can impart antifouling resistance and scratch resistance.
  • Examples of methods for applying the composition include application methods such as a roll coating method, a Miyaba coat method, and a gravure coating method. After application of the liquid composition, drying and UV curing are performed.
  • Specific examples of the ultraviolet light source include ultra-high pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc lamp, black light fluorescent lamp, and metal halide lamp light source.
  • As the wavelength of the ultraviolet light a wavelength range of 190 to 380 nm can be used.
  • Specific examples of electron beam sources include Cockcroft-Walt type, Bandegraft type, resonant transformer type, insulated core transformer type, or various types of electron beam accelerators such as linear type, dynamitron type, and high frequency type.
  • the optical laminate according to the present invention is a hard coat laminate or an antireflection laminate. Used as The optical laminate according to the present invention is used for a transmissive display device. In particular, it is used for display displays such as cathode ray tube display (CRT), plasma display (PDP), electoric luminescence display (ELD), liquid crystal display (LCD). In particular, it is used on the outermost surface of displays such as CRT, PDP, and liquid crystal panels.
  • CTR cathode ray tube display
  • PDP plasma display
  • ELD electoric luminescence display
  • LCD liquid crystal display
  • a hard coat layer composition having the following composition was coated on a PET substrate (Toray Industries, Inc., U46 (100 ⁇ m thickness)) to form a hard coat layer of about 5 ⁇ m.
  • ATO Mitsubishi Materials, ITO, average primary particle size: 30nm
  • a hard coat layer was formed for the composition in which the weight ratio (%) (PV value) of ATO to rosin in the hard coat component was changed in the range of 0 to 150, and the total light transmittance, haze, surface resistivity (application) Voltage 1000V), and the film refractive index was measured. The results are shown below.
  • the haze value can be measured according to JIS K-7136.
  • the instrument used for the measurement is a reflection / transmittance meter HM-150 (Murakami Color Research Laboratory).
  • the total light transmittance can be measured with the same measuring device as the haze value according to JIS K-7361.
  • the haze and total light transmittance are measured with the coated surface facing the light source.
  • the surface resistance value ( ⁇ Higuchi) was measured using a surface resistivity meter (Mitsubishi Corp., product number; Hiresta IP MCP-HT260), and the surface was flat on a table made by SAKURAI. To clean. one One (SC75RB) was placed on top of it and measured at an applied voltage of 1000V.
  • the refractive index of the hard coat was measured using an Abbe refractometer NAR-1T manufactured by Atago Co., Ltd.
  • the scratch resistance evaluation test as an evaluation of the surface hardness of the hard coat was performed by reciprocating the surface of the hard coat layer of the optical laminate using # 0000 steel wool at a predetermined friction load of 300gZc m2 for 10 cycles. The film was then visually checked for the presence or absence of peeling, and evaluated according to the following criteria.
  • the interference fringes were observed by visually observing the optical laminate under the three-wavelength fluorescence by applying a black tape on the surface opposite to the hard coat layer of the optical laminate to prevent back surface reflection. Evaluation was performed according to the following evaluation criteria.
  • Evaluation X Interference fringes can be confirmed by visual observation in all directions.
  • the hard coat layer according to the present invention controls the PV value defined by the ratio of the weight of the conductive fine particles to the weight of the resin in the range of 3 to 50. Therefore, it exhibits good conductivity, functions effectively as an antistatic layer, prevents the decrease in total light transmittance, and has good characteristics in terms of haze value.
  • an increase in the refractive index of the film can also be prevented (refractive index 1.47 ⁇ : controllable to L 53). The occurrence of interference fringes can be effectively prevented even when an interference fringe-preventing easy adhesion layer) is used, or even when a triacetyl cellulose base material is used.
  • the PV value when the PV value is less than 3, especially 0 and 1, the surface resistivity performance is insufficient.
  • the PV value when the PV value is 60, the total light transmittance is 85. Less than%, and good optical performance was not obtained. Therefore, in order to obtain good optical performance, it is important that the PV value is 50 or less.
  • the total light transmittance was as low as 70.3%. The haze is also high. Since the refractive index is also higher than 1.53, interference fringes cannot be prevented, and the surface hardness by the steel wool test is lowered, and good optical and physical properties cannot be obtained.

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Abstract

　本発明は、帯電防止効果にすぐれるとともに光学特性にもすぐれたハードコート層が形成されてなる光学積層体を提供するものであって、本発明に係る光学積層体は、基材上に、直接ないし他の層を介して、ハードコート層が形成されてなる光学積層体であって、前記ハードコート層が、樹脂と導電性微粒子を含有してなり、かつ、前記樹脂の重量に対する前記導電性微粒子の重量の比によって定義されるＰＶ値が３～５０の範囲であり、該ハードコート層が帯電防止性能を有することを特徴とするものである。

Description

光学積層体
技術分野
[0001] 本発明は、帯電防止効果にすぐれるとともに光学特性にもすぐれたハードコート層 が形成されてなる光学積層体に関する。
背景技術
[0002] 液晶ディスプレイ (LCD)又は陰極線管表示装置 (CRT)やプラズマディスプレイ (P DP)等の画像表示装置における表示面は、蛍光燈等の外部光源から照射された光 線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、透明 な物体の表面を屈折率の低い透明皮膜で被覆することにより反射率を低下させた光 学積層体 (例えば、反射防止積層体)を備えてなることにより、画像表示装置の表示 面の反射性を低減させ視認性を向上させることがなされている。
[0003] また、画像表示装置の表示面の耐汚染性等の観点から、光学積層体には帯電防 止層を形成することが一般的に行われている。例えば、特許文献 1 (特許公開 2004 94007号）では、光透過型基材の表面に、帯電防止層、ハードコート層がこれらの 順で平滑に形成されてなる反射防止光学積層体が提案されている。さらにまた、画 像表示装置の最表面は耐傷性にすぐれて 、ることが要請され、そのためにハードコ 一ト層を設けることが必須となっている。
[0004] しかしながら、上記のような光学積層体にハードコート性と帯電防止性と光透過性 のすベてを効果的に付与することは容易ではない。
また、一般的に、ハードコート性と帯電防止性を両立させるためには、 1層ではなぐ 別々の層によってこれら両機能を付与することが行われている（たとえば、特許文献 2 )。すなわち、従来においては、帯電防止のための導電層を薄く形成し、その表面に なんらかのハードコート層を設ける方法がとられており、これら両機能を単一の層で 実現した技術は未だな 、のが現状である。
[0005] これに対して、本発明者等は、ハードコート層に帯電防止特性を同時に付与するこ とができないか、その可能性について検討したところ、ハードコート層に帯電防止性 をもたせるためには、比較的大量の導電性粒子を含有させる必要があるが、たとえば UV硬化榭脂中に ATO等の導電性微粒子を分散させる場合、ヘイズを抑えるため にその 1次粒径を 150應程度以下に制限しなければならない。このような導電性微 粒子を帯電防止剤として使用する場合には、たとえば導電性微粒子 Z榭脂の重量 比率（PV値）を 150以上にする必要がある。なぜならば、このレベルの PV値未満の 場合にあっては、導電性超微粒子同士がうまく接触しないため、帯電防止性能が発 現しないからである。
しカゝしながら、このような高 PV値にした場合、光学積層体自体の光透過率がいきお V、低下してしまうと ヽぅ新たな問題 (ヘイズの上昇や全光線透過率の低下）が生じる。 さらに、榭脂の相対量が低下するため、耐擦傷性や鉛筆硬度も低下するという問題も ある。また、導電性微粒子は、比較的高屈折率の材料が多いため、ハードコート層の 屈折率が上昇することになる。
[0006] このハードコート層の屈折率が上昇することにより、反射防止積層体などの光学積 層体において、ハードコートと接する層との屈折率の差が大きくなり、その層の界面 にお 、て、界面反射および干渉縞が生じることがしばしば見受けられ問題となって 、 る。特に、光透過性基材と帯電防止層との界面にあっては、干渉縞が発生し、画像 の視認性を低下することが指摘されている。また、反射防止積層体として良好な光学 特性を得るためにも、ハードコート層の屈折率は各基材の屈折率に対し ±0.03程度 に制御する必要がある。
例えば、基材として干渉縞防止用のポリエチレンテレフタレート（PET)フィルム (東 レ製、 U46、 100 m)を用いた場合は、基材の屈折率が 1. 65、基材上のハードコー ト層との密着性を出すために必要なプライマー層の屈折率は 1. 55から 1. 57である 。このプライマー層は、屈折率 1. 50のハードコートとの間に干渉縞が発生しないよう に設計されている。よって、この場合にはハードコート層の屈折率は、設計基準の屈 折率 1. 50の ±0. 03程度、つまり 1. 47から 1. 53程度であるのがよいとされている。
[0007] 特許文献 1：特許公開 2004— 94007号
特許文献 2：特開平 11 42729号
発明の開示 発明が解決しょうとする課題
[0008] 本発明は、上述した技術的課題を解決することに向けられたものであり、帯電防止 効果にすぐれるとともに光学特性にもすぐれたハードコート層が形成されてなる光学 積層体を提供することを目的とする。
本発明者の知見によれば、比較的少量の導電性微粒子を榭脂中に特定の量範囲 で含有させることによって、逆に、予想に反し当該榭脂層が導電性を帯びることが判 明している。これは、榭脂層内に分散した導電性微粒子が特異な凝集の仕方で 3次 元的ネットワーク状構造を形成することに起因するものと考えられる。
すなわち、本発明に係る光学積層体は、基材上に、直接ないし他の層を介して、ハ ードコート層が形成されてなる光学積層体であって、前記ハードコート層が、榭脂と 導電性微粒子を含有してなり、かつ、前記樹脂の重量に対する前記導電性微粒子 の重量の比によって定義される PV値が 3〜50の範囲であり、該ハードコート層が帯 電防止性能を有し、屈折率範囲を 1. 47から 1. 53程度に制御できるものであること 特徴とするものである。
上記本発明の光学積層体は、ハードコート層が導電性を有し、帯電防止性を具備 するため、当該ハードコート層が帯電防止層を兼ねるものとなる。
さらに本発明に係る光学積層体は、好ましくは、前記ハードコート層においてハード コート層膜厚が 1 IX m以上 20 μ m以下であるとき、好ましくは 1 μ m以上 10 μ m以下 であるときに、ハードコート中の導電性微粒子を含有しない場合のヘイズを基準とし、 導電性微粒子を含有するときのヘイズ上昇が 0. 5%以下である。
また、本発明に係る光学積層体においては、好ましくは、導電性微粒子が榭脂中 に 3次元ネットワーク状に凝集'分散した構造を形成することにより、ハードコート層の 表面と裏面との間で導電パスが形成されてなる。
本発明の光学積層体の他の態様においては、上記ハードコート層の表面にさらに 低屈折率層が形成されて 、てもよ 、。
また、本発明は、上記光学積層体の反射防止積層体としての使用ならびに上記光 学積層体を有する画像表示装置を包含する。
[0009] [発明の効果] 本発明によれば、それ自体帯電防止層としても機能し、しかも光学特性にもすぐれ たハードコート層を提供することが可能となり、特にディスプレイ分野において活用さ れる光学積層体用途にぉ ヽてすぐれた効果を奏する。
発明を実施するための最良の形態
[0010] 本発明による光学積層体は、基材上に、直接ないし他の層を介して、ハードコート 層が形成されてなる光学積層体であって、前記ハードコート層が、榭脂と導電性微粒 子を含有してなり、かつ、前記榭脂の重量に対する前記導電性微粒子の重量の比に よって定義される PV値が 3〜50の範囲であり、該ハードコート層が帯電防止性能を 有し、屈折率が 1. 47から 1. 53程度に制御できるものであることを特徴とするもので ある。
[0011] 某材
光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。 光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル (ポリエチレンテレフタ レート、ポリエチレンナフタレート）、セノレローストリアセテート、セノレロースジアセテート 、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル スルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビュル、ポリ ビュルァセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ま たはポリウレタン等の熱可塑性榭脂が挙げられ、好ましくはポリエステル (ポリエチレ ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。 上記の他に、光透過性基材としては、脂環構造を有した非晶質ォレフィンポリマー（
Cyclo-Olefin-Polymer: COP)フィルムも用いることができる。これは、ノルボルネン系 重合体、単環の環状ォレフィン系重合体、環状共役ジェン系重合体、ビニル脂環式 炭化水素系重合体榭脂などが用いられる基材であって、例えば、 日本ゼオン (株)製 のゼォネックスゃゼォノア（ノルボルネン系榭脂）、住友ベークライト (株)製 スミライト F S- 1700、 JSR (株)製 アートン (変性ノルボルネン系榭脂)、三井ィ匕学 (株)製 アベル（ 環状ォレフィン共重合体）、 Ticona社製の Topas (環状ォレフィン共重合体）、 日立 化成 (株)製 ォプトレッツ OZ-1000シリーズ (脂環式アクリル榭脂)などが挙げられる。 また、トリァセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ (株)製の FVシリーズ (低複屈折率、低光弾性率フィルム)も好ましく用いられ得る。
[0012] 光透過性基材の厚さは、 20 μ m以上 300 μ m以下、好ましくは上限が 200 μ m以下 であり、下限が 30 m以上である。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さ を越える厚さであってもよい。また、光透過性基材は、その上に光学特性層を形成す るのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理 のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる組成物の塗布を予め行なってもよ い。
[0013] ハードコート層
本発明において、「ハードコート層」とは、 JIS5600— 5— 4 (1999)で規定される鉛 筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚 (硬化時）は 0. 1〜： LOO /z m、好ましくは 0. 8〜20 mの範囲である。
本発明において、ハードコート層は、榭脂と導電性微粒子とを含有してなる。導電 性微粒子は耐電防止剤として作用する。
[0014] 導雷件微粒子
本発明においては、ハードコート層は、上記樹脂と導電性微粒子を含有してなり、 かつ、前記樹脂の重量に対する前記導電性微粒子の重量の比によって定義される P V値が 3〜50の範囲である。
導電性微粒子の具体例としては、金属酸ィ匕物力もなるものを挙げることができる。そ のような金属酸ィ匕物としては、 ZnO (屈折率 1. 90、以下、カツコ内の数値は屈折率を 表す。）、 CeO (1. 95)、Sb O (1. 71)、SnO (1. 997)
2 2 2 2 、 ITOと略して呼ばれるこ との多い酸化インジウム錫（1. 95)、 In O (2. 00)、 Al O (1. 63)、アンチモンド
2 3 2 3 一 プ酸化錫（略称: ATO、 2. 0)、アルミニウムドープ酸ィ匕亜鉛 (略称: AZO、 2. 0)等を 挙げることができる。上記のうちでも、 ATO微粒子が特に好ましく用いられ得る。 本発明において、微粒子とは、 1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのも のを指し、好ましくは、平均粒径が 0. lnm〜0. 1 μ mのものを意味する。また、本発 明の好ましい態様によれば、微粒子の一次粒径は 20〜70nm程度であり、二次粒径 は、 200nm以下程度が好ましい。
[0015] 本発明において、上記導電性微粒子の榭脂の重量に対する比によって定義される PV値は 3〜50の範囲であり、好ましくは、 5〜20の範囲であり、さらに好ましくは 5〜 10の範囲である。
PV値が 3未満では、後述する導電パスの形成が困難となり導電性の発現が不十分 となる。一方、 PV値が 50を超えると、硬度の低下、全光線透過率の低下ならびに膜 屈折率の上昇をもたらす傾向を生じさせることから、 PV値は上記範囲に制御すること が肝要である。
[0016] 上述したように、本発明においては、ハードコート層中の導電性微粒子の重量比率 が予想外に低いレベルであるにもかかわらず、帯電防止に十分有効な導電性を発 現することに特徴がある。このような導電性の発現メカニズムは必ずしも明確ではなく 、また本発明はいかなる理論にも拘束されるものではないが、以下のように推定する ことができる。
すなわち、比較的少量添加した導電性微粒子が榭脂層内にお 、て特異な凝集の 仕方で 3次元的ネットワーク状構造を形成し、これにより導電性微粒子が層の表面か ら裏面まで連結した「導電パス」が形成されることに起因するものと考えられる。より具 体的には、ハードコート層を構成するマトリクス榭脂が相分離し凝集塊を形成し、その 凝集塊の表面親水基が露出することによって、該親水基が ATOなどの導電性微粒 子を吸着し、このため導電性微粒子が凝集塊表面に局在すると考えられる。このよう な凝集塊に局在する導電性微粒子同士が凝集塊の接点において接し、ハードコート 層の表面カゝら裏面に至る導電性微粒子の連結、すなわち導電パスが形成される。こ のような粒子の局在による導電パスの形成によって、導電性発現に必要な導電性微 粒子の絶対量は、マトリクス榭脂全体に導電性微粒子を分散させる場合に比べて極 端に低減させることができると考えられる。
また、導電性微粒子の疎水性をコントロールすることによって凝集塊表面における 導電性微粒子の局在の程度をコントロールすることができ、これにより導電性を最適 状態に制御することが可能である。
[0017] また、屈折率の差が大きい層を積層させた反射防止積層体にあっては、互いに重 なり合った層の界面において、界面反射および干渉縞が生じることがしばしば見受け られる。特に、光透過性基材と帯電防止層との界面にあっては、干渉縞が発生し、画 像の視認性を低下することが指摘されている。本発明においては、導電性微粒子の 上記分散によってハードコート層の屈折率制御（1. 47〜： L 53)が可能であるので、 このような干渉縞の発生を効果的に防止することができる点においてもすぐれている
[0018] マトリクス榭脂
本発明では、モノマー、オリゴマー、プレボリマーなどの硬化性榭脂前駆体を、特別 な記載がない限り、総称して"榭脂"と記載する。
ハードコート層を構成する榭脂としては、透明性のものが好ましぐその具体例とし ては、紫外線または電子線により硬化する榭脂である電離放射線硬化型榭脂、電離 放射線硬化型榭脂と溶剤乾燥型榭脂 (熱可塑性榭脂など、塗工時に固形分を調整 するための溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような榭脂）との混合物、または熱硬 化型榭脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型榭脂が挙げられる。
[0019] 電離放射線硬化型榭脂の具体例としては、アタリレート系の官能基を有するもの、 例えば比較的低分子量のポリエステル榭脂、ポリエーテル榭脂、アクリル榭脂、ェポ キシ榭脂、ウレタン榭脂、アルキッド榭脂、スピロァセタール榭脂、ポリブタジエン榭脂 、ポリチオールポリェン榭脂、多価アルコール等の多官能化合物の (メタ）アタリレート 等のオリゴマー又はプレボリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例として は、ェチル (メタ）アタリレート、ェチルへキシル (メタ）アタリレート、スチレン、メチルス チレン、 N ビュルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポ リメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、へキサンジオール (メタ）アタリレート、トリ プロピレングリコールジ (メタ）アタリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アタリレート、 ペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ（メタ）アタリレ ート、 1, 6 へキサンジオールジ (メタ）アタリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ） アタリレート等が挙げられる。
[0020] 電離放射線硬化型榭脂を紫外線硬化型榭脂として使用する場合には、光重合開 始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、ラジカル重合性不飽 和基を有する榭脂系の場合は、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、ミヒラーべンゾィ ルベンゾエート、 a アミ口キシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、 チォキサントン類、プロピオフエノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ァシルホスフィン ォキシド類が挙げられる。また、カチオン重合性官能基を有する榭脂系の場合は、光 重合開始剤として、芳香族ジァゾ -ゥム塩、芳香族スルホ -ゥム塩、芳香族ョードニ ゥム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として 用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物 100重量部に対し、 0 . 1〜10重量部である。また、光増感剤を混合して用いることが好ましぐその具体例 としては、 n—ブチルァミン、トリェチルァミン、ポリ一 n—ブチルホソフィン等が挙げら れる。
電離放射線硬化型榭脂に混合して使用される溶剤乾燥型榭脂としては、主として 熱可塑性榭脂が挙げられる。熱可塑性榭脂は一般的に例示されるものが利用される 。溶剤乾燥型榭脂の添カ卩により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。 好ましい熱可塑性榭脂の具体例としては、例えば、スチレン系榭脂、（メタ)アクリル系 榭脂、酢酸ビュル系榭脂、ビュルエーテル系榭脂、ハロゲン含有榭脂、脂環式ォレ フィン系榭脂、ポリカーボネート系榭脂、ポリエステル系榭脂、ポリアミド系榭脂、セル ロース誘導体、シリコーン系榭脂、及びゴム又はエラストマ一等が挙げられる。榭脂と しては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒 (特に複数のポリマーや硬化性化合物 を溶解可能な共通溶媒)に可溶な榭脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透 明性ゃ耐候性の高い榭脂、例えば、スチレン系榭脂、（メタ)アクリル系榭脂、脂環式 ォレフィン系榭脂、ポリエステル系榭脂、セルロース誘導体 (セルロースエステル類等 )等が好ましい。
本発明の好ま 、態様によれば、透明基材の材料が TAC等のセルロース系榭脂 の場合、熱可塑性榭脂の好ましい具体例として、セルロース系榭脂、例えば-トロセ ノレロース、ァセチノレセノレロース、セノレロースアセテートプロピオネート、ェチノレヒドロキ シェチルセルロース等が挙げられる。
本発明の好まし 、態様によれば、光透過性基材の材料がトリァセチルセルロース「 TAC」等のセルロース系榭脂の場合、熱可塑性榭脂の好ましい具体例として、セル ロース系榭脂、例えば-トロセルロース、ァセチルセルロース、セルロースアセテート プロピオネート、ェチルヒドロキシェチルセルロース等が挙げられる。セルロース系榭 脂を用いことにより、光透過性基材と帯電防止層（必要に応じて)との密着性と透明 性とを向上させることができる。
[0022] 熱硬化性榭脂の具体例としては、フエノール榭脂、尿素樹脂、ジァリルフタレート榭 脂、メラニン榭脂、グアナミン榭脂、不飽和ポリエステル榭脂、ポリウレタン榭脂、ェポ キシ榭脂、アミノアルキッド榭脂、メラミン 尿素共縮合榭脂、ケィ素榭脂、ポリシロキ サン榭脂等が挙げられる。熱硬化性榭脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重 合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用する ことができる。
[0023] ハードコート層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その具体例とし ては、 1—ヒドロキシ一シクロへキシル一フエ-ルーケトンが挙げられる。この化合物 は巿場入手可能であり、例えば商品名ィルガキュア 184 (チバスぺシャリティーケミカ ルズ社製)が挙げられる。その他、光重合開始剤の具体例としては、ァセトフヱノン類 、ベンゾフエノン類、ミヒラーベンゾィルベンゾエート、 a アミ口キシムエステル、チォ キサントン類、プロピオフエノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ァシルホスフィンォキ シド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましぐその具体例と しては、 n—ブチルァミン、トリェチルァミン、ポリ— n—ブチルホスフィン等が挙げられ る。
光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する榭脂系の場合は、ァセト フエノン類、ベンゾフエノン類、チォキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエー テル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する榭脂系の 場合は、光重合開始剤として、芳香族ジァゾ -ゥム塩、芳香族スルホ -ゥム塩、芳香 族ョードニゥム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混 合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物 100重量 部に対し、 0. 1〜： LO重量部である。
[0024] 上記のような導電性微粒子の局在化による導電パスの形成を促進するためのマトリ クス榭脂の相分離と凝集塊の形成を生じさせるために、適宜榭脂成分を組み合わせ て用いることが好ましい。
[0025] 分散剤 上記のような良好な局在化を促進するために、分散剤を使用することもできる。この ような分散剤としては、たとえば、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸ェ ステル、ショ糖脂肪酸エステル等の高級脂肪酸エステルが用いられ得る。ポリダリセリ ン脂肪酸エステルが好ましいが、特にポリグリセリンは α位で縮合した直鎖状ポリダリ セリン以外に一部 β位で縮合した分岐状ポリグリセリンおよび環状ポリグリセリンを含 有して 、てもよ 、。ポリグリセリン脂肪酸エステルを構成するポリグリセリン脂肪酸エス テルを構成するポリグリセリンは、より良好な分散状態を得る上で、数平均重合度が 2 〜20程度が好ましいが、より好ましくは 2〜10程度である。脂肪酸としては、分岐状 または直鎖状の飽和または不飽和脂肪酸が好ましぐたとえば、カブロン酸、ェナン チル酸、力プリル酸、ノナン酸、力プリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ベへニン酸、パ ルミチン酸、イイソステアリン酸、ステアリン酸、ォレイン酸、イソノナン酸、ァラキン酸 などの脂肪族モノカルボン酸などが好ましく挙げられる。また、高級脂肪酸エステルと して用いられるポリグリセリン脂肪酸エステルとしては、特に、味の素ケミカル社製、ァ ジスパ一- ΡΝ- 411や PA- 111、阪本薬品工業社製の SYグリスターなどが好ましく使用 できる。
さらに、上記の他にも、スルホン酸アミド系、 ε—力プロラタトン系、ハロイドロステア リン酸系、ポリカルボン酸系、ポリエステル系など各種分散剤を使用することができる 。具体的には、ソルパース 3000、 9000、 17000, 20000, 24000, 41090 (以上、 ゼネカ社製）、 Disperbyk- 161、—162、—163、—164、 Disperbyk— 108、 110、 1 11、 112、 116、 140、 170、 171、 174、 180、 182、 220S (以上、ビックケミ一社製 )などが挙げられる。
なお、導電性微粒子の分散方法については、種種の分散方法で分散することがで きる。例えば、超音波ミル、ビーズミル、サンドミル、ディスクミルなどの粉砕機を用い る。
腿
ハードコート層を形成するには、上記榭脂成分と導電性微粒子を溶剤ともに混合し たハードコート層用組成物を利用する。
溶媒は、上記榭脂成分:ポリマー及び硬化性榭脂前駆体の種類及び溶解性、導電 性微粒子の分散性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分 (複数のポリ マー及び硬化性榭脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤)を均一に溶解できる溶媒 であればよい。そのような溶媒としては、例えば、ケトン類 (アセトン、メチルェチルケト ン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノン等）、エーテル類 (ジォキサン、テトラヒド 口フラン等)、脂肪族炭化水素類 (へキサン等)、脂環式炭化水素類 (シクロへキサン 等)、芳香族炭化水素類 (トルエン、キシレン等)、ハロゲンィ匕炭素類 (ジクロロメタン、 ジクロロェタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸ブチル等）、水、アル コール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロへキサノール等）、セロソ ルブ類（メチルセ口ソルブ、ェチルセ口ソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキ シド類 (ジメチルスルホキシド等）、アミド類 (ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド 等)等が例示でき、これらの混合溶媒が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類 が挙げられる。
[0027] ハードコート層の形成
ハードコート層は、上記した榭脂と溶剤と任意成分ならびに導電性微粒子とを混合 して得た組成物を光透過性基材に塗布することにより形成することができる。本発明 の好ましい態様によれば、上記の液体組成物に、フッ素系またはシリコーン系などの レべリング剤を添加することが好ましい。レべリング剤を添加した液体組成物は、耐防 汚染性、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。
[0028] 組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバ一コート法、グラビアコート 法等の塗布方法が挙げられる。液体組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。 紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンァ ーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の 波長としては、 190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例 としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器 型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる
[0029] 光学穑層体の用涂
本発明による光学積層体は、ハードコート積層体として、あるいは反射防止積層体 として利用される。また、本発明による光学積層体は、透過型表示装置に利用される 。特に、陰極線管表示装置 (CRT)、プラズマディスプレイ (PDP)、エレクト口ルミネッ センスディスプレイ (ELD)、液晶ディスプレイ (LCD)などのディスプレイ表示に使用さ れる。とりわけ、 CRT、 PDP、液晶パネルなどのディスプレイの最表面に用いられる。 実施例
[0030] 本発明の内容を下記の実施例により詳細に説明するが、本発明の内容は実施例 により限定して解釈されるものではない。
靈列
PET基材 (東レ (株)製、 U46 (100 μ m厚) )上に下記組成のハードコート層用組成 物を塗工し、約 5 μ mのハードコート層を形成した。
(ハードコート層用組成物）
<ハードコート成分 >
(1) ATO (三菱マテリアル社製、 ITO、平均 1次粒径： 30nm)
(2)ペンタエリスリトールトリアタリレート榭脂（日本ィ匕薬社製、 PET- 30)
(1)及び (2)の総重量を 50gに調整
<分散剤 >
(味の素ケミカル社製、ァジスパー PN- 411) lg
<希釈溶剤 >
イソプロピルアルコール 50g
上記ハードコート成分の ATO対榭脂の重量比率（％) (PV値）を 0〜150の範囲で 変化させた組成についてハードコート層を形成し、全光線透過率、ヘイズ、表面抵抗 率 (印加電圧 1000V)、および膜屈折率を測定した。結果を以下に示す。
[0031] ヘイズ値は、 JIS K— 7136に従って測定することができる。測定に使用する機 器としては、反射'透過率計 HM— 150 (村上色彩技術研究所）が挙げられる。
全光線透過率は、 JIS K— 7361に従って、ヘイズ値と同じ測定器で測定できる。 なお、ヘイズ、全光線透過率は、塗工面を光源に向けて測定する。
[0032] 表面抵抗値（ΩΖ口）は、表面抵抗率測定器 (三菱ィ匕学製、製品番号; Hiresta I P MCP-HT260)を使用し、表面が平らな台の上に SAKURAI (株)製クリーンへ。一 一 (SC75RB)を 15枚置きその上で、印加電圧 1000Vにて測定した。
[0033] 膜屈折率は、（株)ァタゴ製、アッベ屈折計 NAR-1Tを用いて、ハードコートの屈折 率を測定した。
[0034] ハードコートの表面硬度評価としての耐擦傷性評価試験は、光学積層体のハードコ ート層の表面を、 # 0000番のスチールウールを用いて、所定の摩擦荷重 300gZc m2で 10往復摩擦し、その後の塗膜の剥がれの有無を目視し下記の基準にて評価 した。
評価〇：キズが全くな力つた。
評価△： 10本以下の傷が発生した。
評価 X： 10本以上の傷が発生した。
[0035] 干渉縞は、光学積層体のハードコート層と反対面に、裏面反射を防ぐために黒色 テープを貼り、ハードコート層の面力 光学積層体を三波長蛍光下で目視しで観察 し、下記評価基準にて評価した。
龍難
評価〇：全方位での目視観察にて干渉縞が発生して 、な 、。
評価 X：全方位での目視観察にて干渉縞を確認することができる。
[表 1]
4
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上記実施例の結果から明らかなように、本発明に係るハードコート層は、榭脂の重 量に対する導電性微粒子の重量の比によって定義される PV値を 3〜50の範囲に制 御することによって良好な導電性が発現し、帯電防止層として十分有効に機能し、し 力 ^全光線透過率の低下を防止し、ヘイズ値においても良好な特性を有している。さ らにまた、膜屈折率の上昇も防止することができる（屈折率 1.47〜： L 53に制御可 能）ことから、たとえば、干渉縞抑制を行ったポリエチレンテレフタレート（PET)基材（ 干渉縞防止易接着層）を用いた場合や、トリァセチルセルロース基材などにぉ ヽても 干渉縞の発生を効果的に防止することができる。
なお、上記結果においては、 PV値が 3未満、特に 0、 1の場合には、表面抵抗率性 能が不足しており、一方、 PV値が 60の場合には、全光線透過率が 85%未満となり、 良好な光学性能が得られな力つた。よって、良好な光学性能を得るには、 PV値が 50 以下であることが重要である。更に、 PV値を大きくした比較例として、従来技術では 帯電防止性を付与するために必須であった PV値が 150の場合には、全光線透過率 が 70. 3%とのきなみ低くなり、ヘイズも高い。屈折率も 1. 53よりも高くなるため、干 渉縞防止が不可能となり、かつ、スチールウール試験による表面硬度も低下してしま い、良好な光学特性、物理特性が得られな力つた。

Claims

請求の範囲
[1] 基材上に、直接ないし他の層を介して、ハードコート層が形成されてなる光学積層 体であって、
前記ハードコート層が、榭脂と導電性微粒子を含有してなり、かつ、前記樹脂の重 量に対する前記導電性微粒子の重量の比によって定義される PV値が 3〜50の範囲 であり、該ハードコート層が帯電防止性能を有する、光学積層体。
[2] 前記ハードコート層が、帯電防止層を兼ねる、請求項 1に記載の光学積層体。
[3] 前記ハードコート層において、ハードコート層膜厚が 1 μ m以上 20 m以下である ときに、ハードコート中の導電性微粒子を含有しない場合のヘイズを基準とし、導電 性微粒子を含有するときのヘイズ上昇が 0. 5%以下である、請求項 1または 2に記載 の光学積層体。
[4] 前記導電性微粒子が榭脂中に 3次元ネットワーク状に凝集 ·分散した構造を形成 することにより、ハードコート層の表面と裏面との間で導電パスが形成されてなる、請 求項 1に記載の光学積層体。
[5] 請求項 1〜4のいずれか一項に記載の光学積層体の反射防止積層体としての使用
[6] 請求項 1〜4のいずれか一項に記載の光学積層体を有する画像表示装置。
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