WO2006098475A1

WO2006098475A1 - パネルおよびその製造方法

Info

Publication number: WO2006098475A1
Application number: PCT/JP2006/305588
Authority: WO
Inventors: Masahiko Kondo; Shingo Jogan
Original assignee: Sharp Kabushiki Kaisha
Priority date: 2005-03-18
Filing date: 2006-03-20
Publication date: 2006-09-21
Also published as: CN101080664A; KR100836332B1; JP4944014B2; US20090303427A1; JPWO2006098475A1; CN100465738C; US7880854B2; KR20070086464A

Abstract

【解決手段】液晶表示パネルは、ＴＦＴ基板１と、ＴＦＴ基板に対向配置されたカラーフィルタ（ＣＦ）基板と、ＴＦＴ基板およびＣＦ基板に挟まれ、両基板の周辺部に形成されたシール材と、ＴＦＴ基板およびＣＦ基板の間に介在する液晶層とを備える。ＣＦ基板はシール材が設けられる周辺部に遮光層を有する。この遮光層は、ＴＦＴ基板の配線と重なる領域に隙間を有する。

Description

明細書

パネルおよびその製造方法

技術分野

[0001] 本発明はパネルおよびその製造方法に関する。特に、一滴充填方式により液晶層が形成された液晶パネルに関する。

背景技術

[0002] 液晶パネルを製造する工程の中には、パネル内に液晶材料を充填する工程がある。液晶材料の充填方法としては、ディップ式ゃデイスペンサ式が挙げられる。これらの方法では、シール材を介して一対の基板を貼り合わせた後に、毛細管現象と圧力差とを利用して、シール材の開口部からパネル内に液晶材料を充填し、さらに開口部を封止する手法が採られている。し力画面サイズの大型化に伴って、液晶材料充填のタクトタイムが長いことが問題となっている。

[0003] 近年、パネル内に液晶材料を充填する他の方法として、一滴充填方式 (ODF方式や滴下貼り合わせ方式とも呼ばれている。）が開発されている。一滴充填方式とは、シールパターンに開口を設けずに、重ね合わせる前の一方の基板に形成されたシールパターン枠内に液晶材料を滴下し、減圧下で一対の基板を重ね合わせた後に、シール材を硬化させる方式である。一滴充填方式によれば、画面サイズの大型化に対応でき、液晶材料充填のタクトタイムが飛躍的に短縮できるという利点がある。

[0004] し力、し、一滴充填方式においては、シール材が硬化するまでは未硬化のシール材が液晶材料と接触するので、シール材中の成分が液晶層中に混入するおそれがある。したがって、液晶配向の状態が不安定になったり、滲みやムラ、フリッカーなどが発生したりすることにより、液晶パネルの表示品位低下のおそれがある。

[0005] 一滴充填方式において未硬化のシール材と液晶材料との接触を防ぐための技術が特許文献 1〜4に開示されている。具体的には、シール材の液晶層側にシールバリアを設けることにより、未硬化のシール材と液晶材料との接触を防ぐことが開示されている。

特許文献 1：特開平 6- 194615号公報特許文献 2：特開 2002-40442号公報

特許文献 3 :特開 2003-315810号公報

特許文献 4 :特開 2004-233648号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0006] しかし、この方法では、シールバリアを形成する工程が増えるので、製造コストを上昇させるという問題がある。

[0007] 一方、モパイルパネルのように狭額縁のパネルでは、非表示領域をできる限り低減するために、パネルの周縁から距離を空けずに、遮光層（ブラックマトリクス）が表示部の周辺部に設けられる。図 7(a)はモパイル液晶パネルを模式的に示す平面図であり、図 7(b)は図 7(a)中の Yで囲まれた部分における TFT (Thin Film Transistor)基板 100の模式的な拡大図であり、図 7(c)は図 7(a)中の Yで囲まれた部分における力ラーフィルタ基板 200の模式的な拡大図である。図 7(c)に示すようにカラーフィルタ基板 200のシール材 300の領域にブラックマトリクス 500が設けられるので、カラーフィルタ基板 200に対向して配置される TFT基板 100側から紫外光などの光を照射して、シール材 300を硬化させる必要がある。

[0008] TFT基板 100の周辺部には各種の配線 400が形成されているので、 TFT基板 100

側から光（紫外光）を照射した場合、配線 400により遮光されてシール材 300の光重合反応が十分に進行しない部分がある。すなわち、従来は TFT基板 100側からしか光（紫外光）を照射することができず、また TFT基板 100の配線 400により遮光されたシール材 300は十分な硬化が得られなかった。そのため、シール材 300中に光（紫外線)硬化剤だけでなぐ熱硬化剤を含有させて、紫外線硬化とともに熱硬化を併用するしかなかった。

[0009] し力し、熱硬化時の加熱によってシール材 300の粘度の低下がいったん起こった後に、硬化が進行して粘度が上昇していく。この過程で液晶温度が上昇してネマティック'等方相転移温度（M点）を越えるので、シール材 300の硬化が十分進行するより先に、シール材 300中の不純物が液晶層中へ混入するおそれがある。

課題を解決するための手段 [0010] 本発明の目的の一つは、シール材中の未硬化な部分を低減することである。また本発明の他の目的は、製造コストの上昇を抑えつつ、シール材中の成分が液晶層中に混入するおそれが低減された液晶パネルを提供することであり、究極的には、良好な表示品位を維持して、液晶パネルの信頼性を確保することである。

[0011] 本発明は、シール材が設けられる周辺部において、第 1基板の配線に対してネガポジの関係になる隙間（スリット）を有する遮光層を第 2基板に形成することによって、上記課題を解決する。具体的には、本発明のパネルは、第 1基板と、前記第 1基板に対向配置された第 2基板と、前記第 1基板および前記第 2基板に挟まれ、かつ前記第 1基板および前記第 2基板の周辺部に形成されたシール材とを備える。前記第 1 基板は遮光性を有する配線を少なくとも前記周辺部に有している。一方、前記第 2基板は前記周辺部に遮光層を有しており、前記遮光層は前記配線と重なる領域に隙間を有する。本発明のパネルによれば、パネルの両面側から光を照射してシール材を硬化させることができるので、シール材中の未硬化な部分を低減することができる。

[0012] 本発明のパネルは、前記第 1基板および前記第 2基板の間に介在する液晶層をさらに備えた液晶パネルであっても良い。本発明の液晶パネルにおけるシール材は、液晶材料を注入するための開口を持たなレ、ループ状（閉じた枠状）であっても良レ、。言い換えれば、本発明の液晶パネルは、一滴充填方式により液晶層が形成されても良レ、。また、液晶材料を注入するための開口をシール材が有しており、ディップ式やデイスペンサ式によりシール材の開口力液晶材料を充填しても良レ、。

[0013] シール材は紫外線などの光を照射することで光硬化反応が進行する光硬化型シーノレ材だけでなぐ光照射と加熱との両方で硬化反応が進行する光/熱併用硬化型シール材であっても良レ、。言い換えれば、シール材が光硬化剤だけでなぐ熱硬化剤を含む組成物であっても良レ、。但し、熱硬化時の加熱により、未硬化シール材中の不純物が液晶層中へ混入するおそれがあるので、光/熱併用硬化型シール材よりも光硬化型シール材が好ましレ、。

[0014] 特に、本発明の液晶パネルは、両面側からの照射が可能であるので、光硬化型シ一ル材を用いることにより硬化時間をより短縮することができ、液晶層と未硬化のシーノレ材との接触時間を短縮することができる。したがって、本発明の液晶パネルは、シール材中の成分が液晶層中に混入するおそれがより低減されるので、より確実に表示品位を維持することができる。

[0015] 本発明の液晶パネルは、前記シール材に沿って形成され、前記シール材側に傾斜面を有する隔壁を前記シール材の内側にさらに備えていても良レ、。この液晶パネルは、シール材の内側（液晶層側）に形成された隔壁を有するので、第 1基板と第 2基板とを貼り合わせてからシール材を硬化させるまでの間に、未硬化シール材中の成分が液晶層と接触するのを防ぐことができる。また隔壁のシール材側の面が傾斜しているので、隔壁のシール側の面がパネル面に対して垂直である場合に比して、隔壁とシール材との接触面積がより大きくなる。これにより、隔壁とシール材との接着信頼性が向上するので、第 1基板および第 2基板の相対的な位置ずれをより確実に防ぐことができる。さらに、シール材の幅を短縮することが可能となるので、表示に寄与しなレ、、液晶表示パネル周辺の非表示領域の縮小が可能となる。すなわち、液晶表示パネルの小型化が可能となる。

[0016] 本発明は、第 1基板と、前記第 1基板に対向配置された第 2基板と、前記第 1基板および前記第 2基板に挟まれ、かつ前記第 1基板および前記第 2基板の周辺部に形成されたシール材と、前記第 1基板および前記第 2基板の間に介在する液晶層とを備えた液晶パネルを製造する方法をも提供する。この製造方法は、遮光性を有する配線を前記第 1基板の少なくとも前記周辺部に形成する工程と、前記配線に重なる領域に隙間を有する遮光層を前記第 2基板の前記周辺部に形成する工程と、前記第 1基板および前記第 2基板のうちいずれか一方の基板の前記周辺部に光硬化剤を含む未硬化シール材をループ状に塗布する工程と、前記未硬化シール材に包囲された領域内に液晶材料を滴下する工程と、前記第 1基板および前記第 2基板を貼り合わせる工程と、前記未硬化シール材に対して前記第 1基板および前記第 2基板の両側から光を照射することによって、前記未硬化シール材を硬化させて、前記シーノレ材を形成する工程とを含む。なお、本発明において「光」は、可視光、紫外線、 X線を包含する。

[0017] 本発明の製造方法によれば、一滴充填方式を採用した液晶パネルの製造方法において、光照射のみによりシール材を十分に硬化させることができるので、光 Z熱併用硬化型シール材を用いた場合よりも、シール材中の不純物が液晶層中へ混入するおそれを低減することができる。したがって、より確実に表示品位を維持して、液晶パネルの信頼性を確保することができる。

発明の効果

[0018] 本発明によればシール材中の未硬化な部分を低減することができる。また本発明を液晶パネルに適用した場合、製造コストの上昇を抑えつつ、シール材中の成分が液晶層中に混入するおそれを低減することができる。したがって、良好な表示品位を維持して、液晶パネルの信頼性を確保することができる。

図面の簡単な説明

[0019] [図 1]図 1(a)は実施形態 1の液晶表示パネルを模式的に示す平面図であり、図 1(b) は図 1(a)中の Xで囲まれた部分における TFT基板の模式的な拡大図であり、図 1(c) は図 1(a)中の Xで囲まれた部分におけるカラーフィルタ基板の模式的な拡大図である。

[図 2]図 1(a)中の Π— ΙΙ線断面図である。

[図 3]図 3(a)〜図 3(e)は図 1(a)中の A〜Eでそれぞれ囲まれた部分における TFT基板の模式的な拡大図である。

[図 4]実施形態 1の液晶表示パネルの製造工程を模式的に示す断面図である。

[図 5]実施形態 2の液晶表示パネルの周辺部における模式的な断面図である。

[図 6]実施形態 2の液晶表示パネルの製造工程を模式的に示す断面図である。

[図 7]図 7(a)はモパイル液晶パネルを模式的に示す平面図であり、図 7(b)は図 7(a) 中の Yで囲まれた部分における TFT基板の模式的な拡大図であり、図 7(c)は図 7(a) 中の Yで囲まれた部分におけるカラーフィルタ基板の模式的な拡大図である。

符号の説明

[0020] 1 TFT基板

2 CF基板

3 シール材

4 配線 6 隙間

7 液晶層

8 隔壁

11 静電気対策用回路ブロック

12 対向共通電極用配線

13 未硬化シール材

14 ソースバスライン

15 ゲートバスライン

16 検查用配線

17 液晶材料

18 感光性樹脂膜

81 傾斜面

82 側面

100 TFT基板

200 カラーフィルタ基板

300 シール材

400 配線

500 ブラックマトリクス

発明を実施するための最良の形態

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。以下の実施形態では、液晶表示パネルを例示して説明する。しかし、本発明におけるパネルは、液晶表示パネル以外の他の表示パネルにも適用することができる。具体的には、表示媒体として液晶材料以外の光学媒体を採用した表示素子、例えば、プラズマ表示パネル (P DP)、無機または有機のエレクト口ルミネッセンス（EL)表示パネル、エレクト口クロミツク表示（ECD)パネル、電気泳動表示パネルなどの表示パネルに適用できる。また、本発明のパネルは、画像表示を目的とした表示パネルに限定されず、他の目的に用レ、られるパネルにも適用することができる。例えば、画素を光学的に順次シフトさせる画像シフトパネルや三次元映像を表示可能とするパララックスバリアパネルにも適用することもできる。なお、画像シフトパネルは、典型的には、光の偏光状態を変調する液晶パネルと、この液晶パネルから出射された光の偏光状態に応じて光路をシフトさせる複屈折素子との組合せを少なくとも一組有する。またパララックスバリアパネルは、左目用画素および右目用画素を有する映像表示素子と組み合わせることにより、立体映像を表示することができる。

[0022] (実施形態 1)

図 1(a)は実施形態 1の液晶表示パネルを模式的に示す平面図であり、図 1(b)は図 1(a)中の Xで囲まれた部分における TFT基板 1の模式的な拡大図であり、図 1(c) は図 1(a)中の Xで囲まれた部分におけるカラーフィルタ基板 2の模式的な拡大図である。また図 2は図 1(a)中の II— II線断面図である。

[0023] 本実施形態の液晶表示パネルは、第 1基板としての TFT基板 1と、 TFT基板 1に対向配置された第 2基板としてのカラーフィルタ（CF)基板 2と、 TFT基板 1および CF基板 2に挟まれ、両基板 1 , 2の周辺部に形成されたシール材 3と、 TFT基板 1および C F基板 2の間に介在する液晶層 7とを備える。

[0024] TFT基板 1は、それぞれが行方向に延びる複数のゲートバスライン（不図示）と、ゲートバスラインと交差して延びる複数のソースバスライン (不図示）と、ゲートバスラインおよびソースバスラインの交差部近傍に設けられた TFT (不図示）と、 TFTを介してソースバスライン (不図示）に接続され、マトリクス状に配置された画素透明電極（不図示）と、画素透明電極を覆う液晶配向膜 (不図示）とを有する。さらに、典型的には、 T FT基板 1上のシール材 3の外側に、ゲートバスラインおよびソースバスラインにそれぞれ信号を入力するための端子や駆動回路 (いずれも不図示）が形成されている。

[0025] CF基板 2は、カラーフィルタ層（不図示）と、各色のカラーフィルタ層の境界領域に形成されたブラックマトリクスと、 ITO (インジウム錫酸化物）などからなる対向共通電極と、ポリイミドゃポリアミック酸などからなる液晶配向膜 (不図示）とを有する。

液晶配向膜はラビング処理を通常行って使用するが、垂直配向膜を使う場合や PD LC (ポリマ分散型液晶）表示モードではラビング処理を行わないこともある。

[0026] TFT基板 1および CF基板 2はいずれも光透過性を有する。基板 1， 2の材料としては、石英ガラスやソーダライムガラス、ホウケィ酸ガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラスなどのガラス、ポリエステルやポリイミドなとのプラスチックが挙げられる。

[0027] シール材 3は、両基板 1 , 2の周縁に沿って連続的にループ状に形成され、両基板 1 , 2を接着することにより、液晶材料を封止するとともに、パネル外の空気や水分が液晶層 7中に混入するのを防ぐ機能を有する。シール材 3としては、好ましくは紫外線硬化性の組成物が用いられる。例えば、アクリル系ポリマおよび/またはエポキシ系ポリマやアクリル一エポキシ系ポリマなどをベースにし、紫外線ないし可視光により反応する硬化剤（重合開始剤）を含む組成物が用いられる。シール材 3の幅は、シーノレ材 3の材料などの様々な条件に左右され、一義的に決定されるものではないが、典型的には、 0. 3mm以上 3mm以下程度である。

[0028] TFT基板 1は、シール材 3が設けられる周辺部に配線 4を有する。配線 4は、典型的には、アルミニウム膜、チタン膜、アルミ合金膜、モリブデン合金膜、クロム膜などから、あるいはこれらの多層膜から形成され、光を殆ど透過させない特性 (遮光性）を有する。図 3(a)〜図 3(e)は図 1(a)中の A〜Eでそれぞれ囲まれた部分における TFT 基板 1の模式的な拡大図である。図 3(a)〜図 3(e)中の参照符号 11は静電気対策用回路ブロック、参照符号 12は対向共通電極用配線、参照符号 14はソースバスライン、参照符号 15はゲートバスライン、参照符号 16は検査用配線である。図 3(a)〜図 3( e)に示すように、シール材 3が設けられる周辺部には様々な配線 4が形成され、またシール材 3が形成された周辺部の面積のうち配線 4が占める面積の割合は場所によつて異なる。

[0029] CF基板 2はシール材 3が設けられる周辺部に遮光層 5を有する。この遮光層 5は、 TFT基板 1の配線 4と重なる領域に隙間 6を有する。言い換えれば、図 1(b)および (c )に示すように、遮光層 5は TFT基板 1の配線 4に対してネガポジの関係になる隙間 6 を有する。遮光層 5の材料は限定されず、樹脂や金属などであっても良い。

[0030] 隙間 6は、 TFT基板 1の配線 4の幅 dと略等しレ、が、 5 z m以上が好ましぐ ΙΟ μ ΐη 以上がより好ましい。隙間 6が 5 z m未満の場合、 CF基板 2側から光を照射してシーノレ材 3を光硬化させる際に、隙間 6を通過する光量が少なくなり、隙間 6に対応する領域 (言い換えれば TFT基板 1の配線 4の領域）のシール材 3が硬化不十分となるおそれがある。但し、図 3(a)〜図 3(e)に示すように、配線 4の形成密度は場所により異なるので、配線 4の形成密度が低い場合には、幅 dが 5 /i m未満の配線 4であっても、それに対応する隙間 6を 5 _β m以上にしなくてもシール材 3を十分に硬化できることがある。

[0031] 本実施形態の液晶表示パネルは、 TFT基板 1の配線 4と重なる領域において遮光層 5が隙間 6を有するので、パネルの両面から光照射を行なってシール材 3を硬化させること力 Sできる。すなわち、光硬化性のシール材 3を用いた場合でも、シール材 3中の未硬化な部分を低減することができる。また、シール材 3と液晶層 7との間に隔壁を設けなくても良いので、製造コストの上昇を抑えることができる。したがって、液晶表示パネルの表示品位を良好に維持して、信頼性を確保することができる。なお、遮光層 5の隙間 6に対応する TFT基板 1には、遮光性を有する配線 4が形成されているので、液晶表示パネルの使用時において、バックライトなどの光源の光漏れを防ぐことができる。

[0032] 次に、本実施形態の液晶表示パネルを製造する工程について説明する。図 4は本実施形態の液晶表示パネルの製造工程を模式的に示す断面図である。なお、 TFT 基板 1は、フォトリソグラフィ法などの常套手段により形成することができるので、製造工程の説明を省略する。

[0033] まず、印刷法などによって、 CF基板 2の表示領域内と、図 4(a)に示すように、 CF基板 2の周辺部（非表示領域）に遮光層 5を形成する。表示領域内の遮光層（ブラックマトリクス）は、各色のカラーフィルタの境界領域に形成される。周辺部の遮光層 5は、 TFT基板 1の配線 4と重なる領域に隙間 6を有するように形成される。遮光層 5は、表示領域内の遮光層（ブラックマトリクス）と同時に形成しても良い。さらに、対向共通電極 (不図示）と、ポリイミドなどからなる液晶配向膜 (不図示）とを順次形成した後、ラビング処理を施す。

[0034] 図 4(b)に示すように、 CF基板 2の周辺部に、スクリーン印刷法ゃデイスペンサ法によって、アクリル樹脂やエポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型の未硬化シール材 13 を塗布する。未硬化シール材 13のパターンは、液晶注入口となる開口を持たないループ状（閉じた枠状）である。なお、紫外線硬化型のシール材に代えて、可視光により硬化反応が進行するシール材を使用する場合には、以降の紫外線照射工程を可視光照射工程に変更すれば良レ、。

[0035] 図 4(c)に示すように、 CF基板 2上の未硬化シール材 13に包囲された領域内に、例えば液晶材料 17を滴下する。真空チャンバ内で両基板 1 , 2を重ね合わせることによりパネル内に液晶材料 17が封入されて、液晶層 7が形成される（図 4(d)を参照）。

[0036] 図 4(d)に示すように、未硬化シール材 13に対して TFT基板 1側および CF基板 2 側の両側から紫外線 (UV)を照射する。 TFT基板 1の配線 4上の未硬化シール材 1 3には、 TFT基板 1側から照射された紫外線 (UV)が入射しない。しかし、 CF基板 2 の遮光層 5は、配線 4に対応する領域に隙間 6を有するので、 CF基板 2側から照射された紫外線（UV)が未硬化シール材 13に入射する。これにより、 TFT基板 1の配線 4の隙間および CF基板 2の隙間 6から紫外線 (UV)が入射して、未硬化シール材 13 の硬化が進行するので、シール材 3中の未硬化な部分を低減することができる。以上の工程を経て、本実施形態の液晶表示パネルが製造される。

[0037] なお、 TFT基板 1および CF基板 2のうちいずれか一方の基板側から紫外線照射を行なった後に、他方の基板側から紫外線照射を行なっても良ぐあるいは両基板 1， 2に対して同時に紫外線照射を行なっても良い。但し、未硬化シール材 13と液晶層 7との接触時間をできる限り短縮させて、未硬化シール材 13中の成分が液晶層 7中に混入するおそれを低減するには、両基板 1， 2に対して同時に紫外線照射を行なうことが好ましい。

[0038] また、本実施形態では、 TFT基板 1側および CF基板 2側の両側から紫外線を照射しているが、 CF基板 2側からのみ紫外線を照射することもあり得る。例えば、 TFT基板 1のシール材 3領域における配線 4の形成密度が高い場合、配線 4の隙間が占める面積が小さいので、 TFT基板 1側から紫外線を照射しても、未硬化シール材 13の硬化が殆ど望めないことがある。このような場合には、 CF基板 2における遮光層 5の隙間 6の占有面積が大きいので、 CF基板 2側からのみ紫外線を照射することで、未硬化シール材 13の殆どを硬化させることが可能となる。

[0039] さらに、本実施形態では、 TFT基板 1と CF基板 2とを用いてパネルを構成しているが、カラーフィルタを有する TFT基板と対向基板とを用いてパネルを構成しても良い。この場合、対向基板はシール材が設けられる周辺部に遮光層を有しおり、この遮光層は TFT基板の配線と重なる領域に隙間を有する。

[0040] (実施形態 2)

図 5は実施形態 2の液晶表示パネルの周辺部における模式的な断面図である。なお、以降の図面において実施形態 1の液晶表示パネルの構成要素と実質的に同じ機能を有する構成要素を同じ参照符号で示し、その説明を省略する。

[0041] 本実施形態の液晶表示パネルは、ループ状のシール材 3の内側（液晶層 7側）に、シール材 3に沿って連続的に形成された隔壁 8をさらに備えており、液晶層 7が隔壁 8に包囲されている。

[0042] 隔壁 8は、シール材 3側の傾斜面 81と、液晶層 7側の側面 82とを有する。隔壁 8は光透過性を有する材料から形成されていることが好ましい。隔壁 8の材料としては、例えば、アクリル系、ポリイミド系またはエポキシ系の感光性有機材料、二酸化珪素などの無機材料が挙げられる。また、使用するシール材 3の材料と同種の材料を用いて隔壁 8を形成しても良い。これにより、シール材 3と隔壁 8との接着信頼性を向上させること力 Sできる。

[0043] 隔壁 8はフォトリソグラフィ法などの常套手段により形成することができる。例示的に、フォトリソグラフィ法により隔壁 8を形成する方法について説明する。まず、フィルム状ソルダレジストゃドライフィルムをラミネータにより CF基板 2上に熱圧着する。あるいは液状ソルダレジストをスピンコート法、スリットコート法、スリット &スピン法、スクリーン印刷法、スプレー法、カーテンコート法などにより CF基板 2の全面に均一に塗布した後、ホットプレートやオーブンにより仮焼き（プリベータ）させる。その後、 CF基板 2上に形成されたソルダレジストゃドライフィルムにフォトマスクを重ね合わせた後、紫外線ないし可視光等によって所望のパターンに露光する。さらに、現像を行なって不要な部分を除去し、ホットプレートやオーブンで本焼成（ポストベータ）することにより、隔壁 8が形成される。

[0044] 露光に際しては、一部の透過率が連続的に変化する遮光部を有する階調フォトマスクを用いることにより、傾斜面 81を形成することができる。具体的には、ネガ型のソルダレジストやドライフィルムを用レ、る場合には、傾斜面 81に対応する領域において内側から外側に向かって紫外線の透過率が連続的に低下するフォトマスクを用いる。なお、階調フォトマスクについては特開 2002-229040号公報に開示されている。

[0045] また、露光量 (時間、照度)や現像条件 (現像液濃度、現像液温度、現像時間）を変えることによつても、傾斜面 81を形成することが可能である。さらに、無機材料を使つて隔壁 8を形成する場合には、二酸化珪素などをデポマスク越しに蒸着を行うことも可能である。スパッタゃ EB (電子ビーム）蒸着など通常知られてレ、る様々な方法で処理すること力 Sできる。また、蒸着途中でデポマスクを変更してレ、くことにより、傾斜面 8 1を形成することが可能である。

[0046] 本実施形態の液晶表示装置では、シール材 3と液晶層 7との間に隔壁 8が介在するので、シール材 3中の未硬化成分が液晶層 7中に混入するのを防ぐことができる。また、隔壁 8のシール材 3側の面 81が傾斜しているので、隔壁 8とシール材 3との接触面積が大きい。したがって、 TFT基板 1と CF基板 2との相対的な位置ずれをより確実に防ぐことができる。これにより、シール材 3の幅を短縮することが可能となるので、液晶表示パネルの小型化が可能となる。

[0047] 次に、本実施形態の液晶表示パネルを製造する工程について説明する。図 6は本実施形態の液晶表示パネルの製造工程を模式的に示す断面図である。なお、 TFT 基板 1はフォトリソグラフィ法ゃ印刷法などの常套手段により形成することができ、 CF 基板 2は実施形態 1に示した方法により形成することができるので、これらの製造工程の説明を省略する。

[0048] まず、図 6(a)に示すように、スクリーン印刷法を用いて、 CF基板 2上に液状の感光性アクリル樹脂を塗布し、乾燥させて、感光性樹脂膜 18を成膜する。階調フォトマスクを用いたフォトリソグラフィ法により感光性樹脂膜 18をパターユングすることによって、 CF基板 2の周縁近傍に、光透過性を有するループ状の隔壁 8を形成する（図 6(b) を参照）。

[0049] なお、両基板 1， 2を重ね合わせたときに隔壁 8が若干つぶれるので、その分の見込量 (0. 2 μ m程度）とセルギャップをカ卩えた値に隔壁 8の高さを設定することが好ましい。また、液晶表示装置が柱状スぺーサを有する場合には、隔壁 8を形成するとともに、柱状スぺーサを形成することにより、製造工程が簡略化される。

[0050] 図 6(c)に示すように、 CF基板 2の周縁であって、隔壁 8の傾斜面 81側に、スクリーン印刷法ゃデイスペンサ法によって、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等を含有する紫外線硬化型の未硬化シール材 13を塗布する。未硬化シール材 13のパターンは、液晶注入口となる開口を持たないループ状（閉じた枠状）である。隔壁 8の外側の面 81が傾いているので、未硬化シール材 13を塗布するとき、未硬化シール材 13中に気泡が巻き込まれ難い。特に、隔壁 8の傾斜面 81と未硬化シール材 13との間に隙間が生じ難い。

[0051] 未硬化シール材 13を塗布した後、 CF基板 2上の隔壁 8に包囲された領域内に、例えば液晶材料 17を滴下する。真空チャンバ内の減圧下で両基板 1， 2を重ね合わせることによりパネル内に液晶材料 17が封入されて、液晶層 7が形成される（図 6 (d)を参照）。

[0052] 図 6(d)に示すように、隔壁 8および未硬化シール材 13に対して TFT基板 1側および CF基板 2側の両側から紫外線 (UV)を照射する。隔壁 8が透光性を有しており、また CF基板 2の遮光層 5が配線 4に対応する領域に隙間 6を有するので、 CF基板 2側力照射された紫外線 (UV)が未硬化シール材 13に入射する。これにより、 TFT基板 1の配線 4の隙間および CF基板 2の隙間 6から紫外線 (UV)が入射して、未硬化シール材 13の硬化が進行するので、シール材 3中の未硬化な部分を低減することができる。また、 CF基板 2側から隔壁 8の底面に入射した紫外線の一部は隔壁 8の傾斜面 81から出射する。これにより、未硬化シール材 13の傾斜面 81側からも硬化が進行するので、シール材 3中の未硬化成分が減少し、シール材 3による接着信頼性が高くなる。以上の工程を経て、本実施形態の液晶表示パネルが製造される。

[0053] なお、照射する光は、未硬化シール材 13を硬化させる波長を有していれば良ぐ紫外線に限らず、例えば可視光や X線であっても良レ、。未硬化シール材 13に紫外線を照射するときには、液晶表示部分に紫外線が照射されないようにするために、表示領域を遮光するフォトマスクを介して紫外線を照射することが好ましい。

[0054] 本実施形態では、 CF基板 2上に隔壁 8を形成している力 S、 CF基板 2に代えて TFT 基板 1上に隔壁 8を形成しても良い。また本実施形態では、 CF基板 2上に未硬化シール材 13を塗布している力 TFT基板 1上に未硬化シール材 13を塗布しても良レ、。さらに、 TFT基板 1と CF基板 2とを用いてパネルを構成している力カラーフィルタを有する TFT基板と対向基板とを用いてパネルを構成しても良い。

[0055] 以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲に限定されない。上記実施形態が例示であり、それらの各構成要素や各処理プロセスの組合せに、さらにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。

[0056] 例えば、実施形態 1および 2では、液晶駆動素子として TFTが用いられているが、 MIM(Metal Insulator Metal)などの他のアクティブ駆動素子を用いても良ぐあるレヽは駆動素子を用いなレ、パッシブ（マルチプレックス)駆動でも良い。なお、液晶表示パネルは、透過型、反射型、透過反射両用型のいずれであっても良い。

産業上の利用可能性

[0057] 本発明のパネルは、液晶表示パネル、 PDP、無機または有機の EL表示パネル、 E CDパネル、電気泳動表示パネルなどに利用することができる。また、表示パネルに限らず、画像シフトパネルやパララックスバリアパネルなどにも利用することができる。より具体的には、携帯電話機、 PDA (Personal Digital Assistance )、パーソナルコンピュータ、薄型テレビ、医療用ディスプレイ、カーナビゲーシヨンシステム、アミユーズメント機器などに利用することができる。

Claims

請求の範囲

[1] 第 1基板と、前記第 1基板に対向配置された第 2基板と、前記第 1基板および前記第 2基板に挟まれ、かつ前記第 1基板および前記第 2基板の周辺部に形成されたシ一ル材とを備えたパネルであって、

前記第 1基板は遮光性を有する配線を少なくとも前記周辺部に有しており、前記第 2基板は前記周辺部に遮光層を有しており、前記遮光層は前記配線と重なる領域に隙間を有するパネル。

[2] 前記第 1基板および前記第 2基板の間に介在する液晶層をさらに備えた請求項 1 に記載のパネル。

[3] 前記シール材がループ状である請求項 2に記載のパネル。

[4] 前記シール材は光硬化剤を含む組成物から形成された請求項 1に記載のパネル。

[5] 前記シール材の内側に、前記シール材に沿って形成された隔壁をさらに備え、前記隔壁は前記シール材側に傾斜面を有する請求項 2に記載のパネル。

[6] 第 1基板と、前記第 1基板に対向配置された第 2基板と、前記第 1基板および前記第 2基板に挟まれ、かつ前記第 1基板および前記第 2基板の周辺部に形成されたシール材と、前記第 1基板および前記第 2基板の間に介在する液晶層とを備えたパネルを製造する方法であって、

遮光性を有する配線を前記第 1基板の少なくとも前記周辺部に形成する工程と、前記配線に重なる領域に隙間を有する遮光層を前記第 2基板の前記周辺部に形成する工程と、

前記第 1基板および前記第 2基板のうちいずれか一方の基板の前記周辺部に光硬化剤を含む未硬化シール材をループ状に塗布する工程と、

前記未硬化シール材に包囲された領域内に液晶材料を滴下する工程と、前記第 1基板および前記第 2基板を貼り合わせる工程と、

前記未硬化シール材に対して前記第 1基板および前記第 2基板の両側から光を照射することによって、前記未硬化シール材を硬化させて、前記シール材を形成する工程とを含む方法。