TWI385361B - 多種物距組合檢測裝置及檢測方法 - Google Patents
多種物距組合檢測裝置及檢測方法 Download PDFInfo
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Description
本發明關於一種用以檢測光學擷取裝置的檢測裝置,特別是關於一種能夠產生多種物距組合以便於檢測光學擷取裝置的檢測裝置。
目前,光學擷取裝置已大量地被應用於數位相機、影像電話、PC Camera、手機、PDA、玩具、安全監控等裝置,用以擷取一影像。光學擷取裝置可以包含一CMOS或CCD等影像感測元件及鏡頭組,上述感測元件及鏡頭組由於製造及組裝過程中,會因製程差異而改變光學擷取裝置所擷取之影像的品質。因此,光學擷取裝置於出廠前均需經過調焦檢測進行調整,以檢測製造完成的光學擷取裝置,是否符合原設計之規範。
圖1顯示習知用以檢測光學擷取裝置之光箱的示意圖。習知用以檢測光學擷取裝置之光箱10的整體設計係符合國際標準組織(ISO;International Standard Organization)及標準行動影像架構(SMIA;Standard mobile imaging architecture)之規範,且光箱10所進行檢測之光學擷取裝置14的特性可以為解析度、光電轉換函數(OECF;Opto-electronic conversion function)、灰階度、光學調制函數(modulation transfer function,
MTF)、或光學空間頻率反應(spatial frequency responce)等等。
請參見圖1,光箱10包含一外殼(housing)11、及設置於外殼11內的一標靶12、二光源13、一光學擷取裝置14、一主機15及一調整螺桿16。為檢測光學擷取裝置14的不同特性,可以於標靶12上形成不同的檢測圖面(Test Chart)。舉例而言,當所要檢測的特性是光學擷取裝置14之解析度時,可以採用符合ISO12233標準檢測圖面。進行檢測時,來自光源13的光線照射至標靶12後,再反射至光學擷取裝置14。光學擷取裝置14擷取一影像並傳送至主機15,再利用主機15對此被擷取到的影像進行分析。
然而,習知光箱10要檢測不同物距(亦即光學擷取裝置14及標靶12間的距離)的對焦狀況或分析焦景深時,必需利用調整螺桿16移動標靶以改變物距,如此一來時間效益較差且無法同時取得景深資料。特別是,對有自動對焦檢測需求的光學擷取裝置;或對具有利用軟體演算延伸景深(Extend Deep of Focus or Field,E.D.O.F)之功能的光學擷取裝置進行檢測時,皆需要擷取具不同的物距之標靶的影像,以分析自動對焦或對焦解析能力,檢測所需花費時間較長。
本發明一實施例之目的在於同時提供一種多種
物距組合檢測裝置,其能夠產生多個相異的物距。
依本發明之一實施例,一種多種物距組合檢測裝置包含至少一反射鏡、至少一第一標靶模組、至少一第二標靶模組及至少一第三標靶模組。第一標靶模組用以形成一第一圖案化的光型並可被光學擷取裝置擷取。第二標靶模組用以形成一第二圖案化的光型,並經由反射鏡反射後可被上述光學擷取裝置擷取。第三標靶模組利用準直儀以形成模擬的無窮遠的一第三圖案化的光型後可被上述光學擷取裝置擷取。第一標靶模組與光學擷取裝置間的距離小於第二標靶模組與光學擷取裝置間的距離。
依本發明之一實施例,一種檢測方法用以檢測一光學擷取裝置。此檢測方法包含:控制一第一標靶模組形成一第一圖案化的光型並可被光學擷取裝置擷取;控制一第二標靶模組形成一第二圖案化的光型,並先照射至一反射鏡後反射再被上述光學擷取裝置擷取;以及控制一第三標靶模組模擬無窮遠的一第三圖案化的光型後可被上述光學擷取裝置擷取。於一實施例中,第一、第二及第三標靶模組係分別依據一檢測圖面形成第一、第二及第三圖案化的光型。較佳地此檢測方法更包含利用光學擷取裝置擷取對應檢測圖面的一影像,並分析影像以取得光學擷取裝置的特徵資料。
依本發明一實施例,提供能夠產生多個相異的物距的多種物距組合檢測裝置,而能夠改善解決習知技術之
不方便性,以提供一更有效率的檢測裝置及方法。
本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例並配合所附圖式,作詳細說明如下。
有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效,在以下配合參考圖式之實施例的詳細說明中,將可清楚的呈現。以下實施例中所提到的方向用語,例如:上、下、左、右、前或後等,僅是參考附加圖式的方向。因此,使用的方向用語是用來說明並非用來限制本發明。
圖2為依本發明一實施例之多種物距組合檢測裝置的示意圖。請參考圖2,多種物距組合檢測裝置100包含一近距標靶模組121、一中距標靶模組122、一遠距標靶模組123、一反射鏡170及一光學擷取裝置141。
圖3A為依本發明一實施例之近距標靶模組的示意圖。請參考圖2及3A,近距標靶模組121可以包含一光源211及一標靶212。光源211用以產生一光線。標靶212設有一檢測圖面(未圖示)。來自光源211的光線穿過標靶212,並依據檢測圖面形成一圖案化的光型I1後可被上述光學擷取裝置141擷取。近距標靶模組121的標靶212與光學擷取裝置141間的距離為物距D1。
圖3B為依本發明一實施例之遠距標靶模組的示意圖。請參考圖2及3B,遠距標靶模組123包含一光源231、一標靶232、一準直儀鏡片組233。光源231用以產生一光線。標靶232設有一檢測圖面(未圖示)。來自光源231的光線被準直儀233準直後形成準平行的光線,此平行的光線穿過標靶232,並依據檢測圖面形成平行的圖案化的光型I3後可被上述光學擷取裝置141擷取。因此,遠距標靶模組123能夠在遠距標靶模組123的標靶232與光學擷取裝置141之間摸擬出無窮遠的物距。
圖3C為依本發明一實施例之中距標靶模組的示意圖。中距標靶模組122可以分別包含一光源221及一標靶222。光源221用以產生一光線。標靶222設有一檢測圖面(未圖示)。來自光源221的光線穿過標靶222,並依據檢測圖面形成一圖案化的光型I2,此圖案化的光型I2經反射鏡170反射後可被上述光學擷取裝置141擷取。中距標靶模組122的標靶222與光學擷取裝置141間的距離為物距D2,且物距D2大於物距D1。藉由設置反射鏡170能夠有效地減小中距標靶模組122所需的寬度。相較於習知技術,依據圖3A至圖3C的設計,能夠簡化多種物距組合檢測裝置之各種元件在一外殼(如後述)內的配置。
圖4為依本發明一實施例利用至少一反射鏡之多種物距組合檢測裝置的示意圖。多種物距組合檢測裝置
100a相似於圖2所示之多種物距組合檢測裝置100,相同的元件使用相同的符號,並省略其相關說明,僅說明兩者的相異處。如圖4所示,多種物距組合檢測裝置100a包含一第一反射鏡171及一第二反射鏡172其分別設置於中距標靶模組122的標靶222及光學擷取裝置141間,且第一反射鏡171及第二反射鏡172位於相對側。當中距標靶模組122的標靶222與光學擷取裝置141間的距離為物距D2時,為使光學擷取裝置141擷取到足夠用以分析影像的資料量,依據習知技術,中距標靶模組122的標靶222的寬度需為W1。於本實施例中,中距標靶模組122的標靶222的第二端229所發出之部分的圖案化的光型I2會先照射至第一反射鏡171後再照射至光學擷取裝置141。中距標靶模組122的標靶222的相對於第二端229的第一端228所發出之部分的圖案化的光型I2會先照射至第二反射鏡172後再照射至光學擷取裝置141。因此,即使將標靶222的寬度設為小於W1的W2,亦能夠使光學擷取裝置141擷取到足夠用以分析影像的資料量,而能夠減小多種物距組合檢測裝置100a的體積。
圖5示意地顯示依本發明一實施例之多種物距組合檢測裝置之內部的側視圖。圖6示意地顯示依本發明一實施例多種物距組合檢測裝置之載台的俯視圖。多種物距組合檢測裝置100b相似於圖2所示之多種物距組合檢測裝置100,相同的元件使用相同的符號,並省略
其相關說明,僅說明兩者的相異處。本實施例中,多種物距組合檢測裝置100b可以為一光箱用以檢測光學擷取裝置。請參考圖5及圖6,多種物距組合檢測裝置100b包含一外殼111;以及設置於外殼111內的一第一位移產生裝置、至少一近距標靶模組121、至少一中距標靶模組122、至少一遠距標靶模組123、至少一反射鏡170、一光學擷取裝置141。第一位移產生裝置用以使反射鏡170、近距標靶模組121及中距標靶模組122,相對光學擷取裝置141移動。於本實施例中,位移產生裝置包含一載台115及一第一調整桿112及一第二調整桿113。第一調整桿112及第二調整桿113固定於外殼111。第二標靶模組122可相對移動地設於第二調整桿113,而能夠利用第二調整桿113移動中距標靶模組122。載台115可相對移動地設於第一調整桿112且位於中距標靶模組122及光學擷取裝置141之間。此些反射鏡170、此些近距標靶模組121及此些遠距標靶模組123設於載台115。請參考圖6,載台115包含至少一滑槽155及一至少一支持座156。滑槽155貫穿載台115。反射鏡170、近距標靶模組121及遠距標靶模組123固定於支持座156。支持座156可移動地設於滑槽155,而能夠使支持座156相對於載台115的中心前後移動,如此即可檢測不同視角之焦景深。
圖7係為遠距標靶模組與光學擷取裝置不同視角的示意圖。如圖7所示,於一實施例中,遠距標靶模組
123係可旋轉地設於支持座156,因此能夠調整遠距標靶模組123而得到適當視角。
請再參照圖5,多種物距組合檢測裝置100b可以更包含一微距標靶模組124及一第二位移產生裝置114。第二位移產生裝置114設於載台115之鄰近光學擷取裝置141的一側面,並選擇性地移動微距標靶模組124,使微距標靶模組124介於載台115及光學擷取裝置141間。本發明不限定第二位移產生裝置114的結構。於一實施例中第二位移產生裝置114可以包含一馬達及一連桿(未圖示),微距標靶模組124固定於連桿,馬達與連桿係以一鋸齒結構連接,使得馬達能夠驅動此連桿前後移動。於另一實施例中,馬達能夠使此連桿旋轉,而帶動微距標靶模組124旋轉,使微距標靶模組124介於載台115及光學擷取裝置141間。
圖8示意地顯示包含一控制系統之依本發明一實施例多種物距組合檢測裝置,其中控制系統係以方塊圖表示。多種物距組合檢測裝置100c相似於圖5所示之多種物距組合檢測裝置100b,相同的元件使用相同的符號,並省略其相關說明,僅說明兩者的相異處。於圖8中為求簡潔而省略例如調整桿等的圖示。多種物距組合檢測裝置100c可以更包含一控制系統300。控制系統300包含一光源控制器301及一主機302。光源控制器301耦接第一標靶模組121、第二標靶模組122、第三標靶模組123及第四標靶模組124。主機302可以為
一具有運算功能的電腦,其耦接光學擷取裝置141及第二位移產生裝置114。利用控制系統300可對多種物距組合檢測裝置100c進行控制,而執行依本發明一實施例之用以檢測一光學擷取裝置的檢測方法。
圖9顯示依本發明一實施例之用以檢測一光學擷取裝置的檢測方法的流程圖。此檢測方法能夠檢測具有自動對焦功能之光學擷取裝置141的對焦能力,其包含以下步驟。
步驟S01:開始。
步驟S02:控制第一標靶模組121形成第一圖案化的光型I1並照射至光學擷取裝置141。於一實施例中係更依據設置於第一標靶模組121上的一檢測圖面形成第一圖案化的光型I1。
步驟S04:控制第二標靶模組形122成第二圖案化的光型I2,並先照射至一反射鏡170後再照射至光學擷取裝置141。於一實施例中係更依據設置於第一標靶模組122上的一檢測圖面形成第一圖案化的光型I2。
步驟S06:控制第三標靶模組123形成平行的第三圖案化的光型I3後再照射至光學擷取裝置141。於一實施例中係更依據設置於第一標靶模組123上的一檢測圖面形成第一圖案化的光型I3。
步驟S08:利用光學擷取裝置141擷取對應此檢測圖面的一影像,並分析此影像以取得光學擷取裝置141的特徵資料。
步驟S09:結束。
此外,於一實施例中,若要檢測光學擷取裝置141的固定焦距的景深能力時,可以同時地執行步驟S02、步驟S04及步驟S06,亦即同時地控制第一、第二及第三標靶模組分別形成第一、第二及第三圖案化的光型(光線)I1、I2及I3,再利用步驟S08分析影像,而能夠檢測出光學擷取裝置141的景深能力。
圖10A至圖10C係顯示依本發明一實施例之檢測圖面。本實施例之檢測方法能夠檢測光學擷取裝置141的各種特徵,以下示例地說明利用檢測圖面401檢測光學調制函數之特徵的方法;以及利用檢測圖面402及403檢測空間頻率響應之特徵的方法。
如圖10A所示,檢測圖面401包含多個沿垂直方向延伸的第一條紋411及多個沿水平方向延伸的第二條紋412,其中垂直方向垂直於水平方向。為得到較佳的檢測效果,第一條紋411及第二條紋412係為黑色並設置於白色的底面上。而分析此影像的步驟,亦即步驟S08,可以包含以下步驟(未圖示)。
步驟S81:計算垂直方向及水平方向的一光學調制函數。光學調制函數等於(Max-Min)/(Max+Min),Max為影像的最大亮度值而Min為影像的最小亮度值。
如圖10B所示,檢測圖面402包含多個方形區塊421,此些方形區塊421的多個邊界423及424分別沿垂直方向及水平方向延伸。為得到較佳的檢測效果,方
形區塊421係為黑色並設置於白色的底面上。而分析此影像的步驟,亦即步驟S08,可以包含以下步驟(未圖示)。
步驟S82:取得垂直方向及水平方向的此些邊界的一邊界函數(Edge Spread Function,ESF);步驟S83:對此邊界函數微分(dESF/dx)以取得一線展開函數(Line Spread Function,LSF);步驟S84:對此線展開函數進行傅利葉轉換(Fourier Transform)以取得一空間頻率響應(Spatial Frequency Response,SFR)。
如圖10C所示,檢測圖面403包含一十字形區塊431,此十字形區塊431的多個邊界432及433分別沿垂直方向及水平方向延伸。為得到較佳的檢測效果,十字形區塊431係為白色並設置於黑色的底面上。而分析此影像的步驟,亦即步驟S08,可以包含以下步驟(未圖示)。
步驟S85:取得垂直方向及水平方向的一線展開函數。
步驟S86:對此線展開函數進行傅利葉轉換以取得一空間頻率響應。
依本發明一實施例之目的在改善解決習知技術之不方便性,以提供一更有效率的檢測裝置及方法。本發明一實施例是利用一近距標靶模組,並在其相鄰位置配置一反射鏡將光程延伸以擺設一中距標靶模組,並在上
述反射鏡相鄰位置擺設包含準直儀的遠距標靶模組而可以模擬無窮遠物距,如此即可同時擁有至少三種不同物距之檢測裝置,若上述標靶模組及反射鏡搭配一第一位移產生裝置而能夠進行高度調整則可延伸不同的物距變化。於一實施例中則可以利用一控制系統來提供各種不同模式的檢測需求。
應了解的是第一位移產生裝置不限定於圖5所示結構。圖11示意地顯示依本發明一實施例之多種物距組合檢測裝置之內部的側視圖。多種物距組合檢測裝置100d相似於圖5所示之多種物距組合檢測裝置100b,相同的元件使用相同的符號,並省略其相關說明,僅說明兩者的相異處。如圖11所示,第一位移產生裝置包含一第一載台502及一第二載台503及一調整桿501。第二標靶模組122、第一載台502及第二載台503可相對移動地設於調整桿501。第一載台502位於第二標靶模組122及光學擷取裝置141間。第二載台503位於第一載台502及光學擷取裝置141間,反射鏡170及第三標靶模組123設於第一載台502,第一標靶模組121設於第二載台503。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。另外,本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達成本發
明所揭露之全部目的或優點或特點。此外,摘要部分和標題僅是用來輔助專利文件搜尋之用,並非用來限制本發明之權利範圍。
10‧‧‧光箱
100‧‧‧多種物距組合檢測裝置
100a‧‧‧多種物距組合檢測裝置
100b‧‧‧多種物距組合檢測裝置
100c‧‧‧多種物距組合檢測裝置
100d‧‧‧多種物距組合檢測裝置
11‧‧‧外殼
111‧‧‧外殼
112‧‧‧第一調整桿
113‧‧‧第二調整桿
114‧‧‧第二位移產生裝置
115‧‧‧載台
12‧‧‧標靶
121‧‧‧近距標靶模組
122‧‧‧中距標靶模組
123‧‧‧遠距標靶模組
124‧‧‧微距標靶模組
13‧‧‧光源
14‧‧‧光學擷取裝置
141‧‧‧光學擷取裝置
15‧‧‧主機
155‧‧‧滑槽
156‧‧‧支持座
16‧‧‧調整螺桿
170‧‧‧反射鏡
171‧‧‧第一反射鏡
172‧‧‧第二反射鏡
211‧‧‧光源
212‧‧‧標靶
221‧‧‧光源
222‧‧‧標靶
228‧‧‧第一端
229‧‧‧第二端
231‧‧‧光源
232‧‧‧標靶
233‧‧‧準直儀
300‧‧‧控制系統
301‧‧‧光源控制器
302‧‧‧主機
401‧‧‧檢測圖面
402‧‧‧檢測圖面
403‧‧‧檢測圖面
411‧‧‧第一條紋
412‧‧‧第二條紋
421‧‧‧方形區塊
423‧‧‧邊界
424‧‧‧邊界
431‧‧‧十字形區塊
432‧‧‧邊界
433‧‧‧邊界
501‧‧‧調整桿
502‧‧‧第一載台
503‧‧‧第二載台
D1‧‧‧物距
D2‧‧‧物距
I1‧‧‧圖案化的光型
I2‧‧‧圖案化的光型
I3‧‧‧圖案化的光型
圖1顯示習知用以檢測光學擷取裝置之光箱的示意圖。
圖2為依本發明一實施例之多種物距組合檢測裝置的示意圖。
圖3A、3B及3C分別為依本發明一實施例之近距、遠距及中距標靶模組的示意圖。
圖4為依本發明一實施例利用至少一反射鏡之多種物距組合檢測裝置的示意圖。
圖5為依本發明一實施例之多種物距組合檢測裝置的示意圖。
圖6示意地顯示依本發明一實施例多種物距組合檢測裝置之載台的俯視圖。
圖7係為遠距標靶模組123與光學擷取裝置141不同視角的示意圖。
圖8示意地顯示依本發明一實施例多種物距組合檢測裝置。
圖9顯示依本發明一實施例之用以檢測一光學擷取裝置的檢測方法的流程圖。
圖10A至圖10C係顯示依本發明一實施例之檢測圖面。
圖11示意地顯示依本發明一實施例之多種物距組合檢測裝置之內部的側視圖。
121‧‧‧近距標靶模組
122‧‧‧中距標靶模組
123‧‧‧遠距標靶模組
170‧‧‧反射鏡
141‧‧‧光學擷取裝置
I1‧‧‧圖案化的光型
I2‧‧‧圖案化的光型
I3‧‧‧圖案化的光型
Claims (19)
- 一種多種物距組合檢測裝置,用以檢測一光學擷取裝置,該檢測裝置包含:至少一反射鏡;至少一第一標靶模組,用以形成一第一圖案化的光型並照射至該光學擷取裝置;至少一第二標靶模組,用以形成一第二圖案化的光型,並先經由該反射鏡反射後至該光學擷取裝置;以及至少一第三標靶模組,用以形成準平行光的一第三圖案化的光型後再照射至該光學擷取裝置,其中,該第一標靶模組與該光學擷取裝置間的距離小於該第二標靶模組與該光學擷取裝置間的距離。
- 如申請專利範圍第1項所述之多種物距組合檢測裝置,其中該第一或第二標靶模組分別包含:一光源,用以產生一光線;以及一標靶,設有一檢測圖面,其中該光線穿過該標靶後分別依據該檢測圖面形成該第一或該第二圖案化的光型。
- 如申請專利範圍第1項所述之多種物距組合檢測裝置,其中該第一或第二標靶模組分別包含:一光源,用以產生一光線;以及一標靶,設有一檢測圖面,其中該光線照射該標靶並被該標靶反射後,分別依據該檢測圖 面形成該第一或該第二圖案化的光型。
- 如申請專利範圍第1項所述之多種物距組合檢測裝置,其中該第三標靶模組包含:一光源,用以產生一光線;一準直儀,用以大致地平行化該光線;一標靶,設有一檢測圖面,其中大致地被平行化的該光線穿過該標靶後依據該檢測圖面形成準平行的該第三圖案化的光型。
- 如申請專利範圍第1項所述之多種物距組合檢測裝置,更包含:一第一位移產生裝置,用以使該反射鏡、該第一標靶模組及該第二標靶模組至少其一,相對該光學擷取裝置移動。
- 如申請專利範圍第5項所述之多種物距組合檢測裝置,更包含:一控制系統,耦接該第一標靶模組、該第二標靶模組、該第三標靶模組及該光學擷取裝置,該控制系統控制該第一、該第二及該第三標靶模組形成該第一、該第二及該第三圖案化的光型,且接收該光學擷取裝置所擷取的一影像並分析該影像。
- 如申請專利範圍第5項所述之多種物距組合檢測裝置,其中該第一位移產生裝置包含一載台及一第一調整桿及一第二調整桿,其中該第二標靶模組可相對移動地設於該第二調整桿,該載台可相對移動地設於該第一調整桿且位於該第二標靶模組及該光學擷取裝置之間,而該反射鏡、該第一標靶模組及該第三標靶模組設於該載台。
- 如申請專利範圍第7項所述之多種物距組合檢測裝置,更包含一第四標靶模組及一第二位移產生裝置,該第二位移產生裝置 設於該載台之鄰近該光學擷取裝置的一側面,並選擇性地移動該第四標靶模組,使該第四標靶模組介於該載台及該光學擷取裝置間。
- 如申請專利範圍第8項所述之多種物距組合檢測裝置,更包含一控制系統,該控制系統包含:一光源控制器,耦接該第一標靶模組、該第二標靶模組、該第三標靶模組及該第四標靶模組;以及一主機,耦接該光學擷取裝置及該第二位移產生裝置。
- 如申請專利範圍第7項所述之多種物距組合檢測裝置,其中該載台包含:至少一滑槽,貫穿該載台;以及至少一支持座,可移動地設於該滑槽內,其中該反射鏡、該第一標靶模組及該第三標靶模組固定於該支持座。
- 如申請專利範圍第10項所述之多種物距組合檢測裝置,其中該滑槽內設有多個該支持座。
- 如申請專利範圍第5項所述之多種物距組合檢測裝置,其中該第一位移產生裝置包含一第一載台及一第二載台及一調整桿,其中該第二標靶模組、該第一載台及該第二載台可相對移動地設於該調整桿,該第一載台位於該第二標靶模組及該光學擷取裝置間,該第二載台位於該第一載台及該光學擷取裝置間,該反射鏡及該第三標靶模組設於該第一載台,該第一標靶模組設於該第二載台。
- 一種檢測方法,用以檢測一光學擷取裝置,該方法包含: 控制一第一標靶模組形成一第一圖案化的光型並照射至該光學擷取裝置;控制一第二標靶模組形成一第二圖案化的光型,並先照射至一反射鏡後再照射至該光學擷取裝置;以及控制一第三標靶模組形成準平行的一第三圖案化的光型後再照射至該光學擷取裝置。
- 如申請專利範圍第13項所述之檢測方法,其中同時地控制該第一、第二及第三標靶模組分別形成該第一、第二及第三圖案化的光型。
- 如申請專利範圍第13項所述之檢測方法,其中該第一、第二及第三標靶模組係分別依據一檢測圖面形成該第一、第二及第三圖案化的光型。
- 如申請專利範圍第15項所述之檢測方法,更包含:利用該光學擷取裝置擷取對應該檢測圖面的一影像,並分析該影像以取得該光學擷取裝置的特徵資料。
- 如申請專利範圍第16項所述之檢測方法,其中,該檢測圖面包含多個沿一第一方向延伸的第一條紋及多個沿一第二方向延伸的第二條紋,且該第一方向垂直於該第二方向,且該分析該影像的步驟包含:計算該第一方向及該第二方向的一光學調制函數,其中該光學調制函數等於(Max-Min)/(Max+Min),該Max為該影像的最大亮度值而該Min為該影像的最小亮度值。
- 如申請專利範圍第16項所述之檢測方法,其中, 該檢測圖面包含多個方形區塊,該些方形區塊的多個邊界分別沿一第一方向及垂直於該第一方向的一第二方向延伸,且該分析該影像的步驟包含:取得該第一方向及該第二方向的該些邊界的一邊界函數;對該邊界函數微分以取得一線展開函數;對該線展開函數進行傅利葉轉換以取得一空間頻率響應。
- 如申請專利範圍第16項所述之檢測方法,其中,該檢測圖面包含一十字形區塊,該十字形區塊的多個邊界分別沿一第一方向及垂直於該第一方向的一第二方向延伸,且該分析該影像的步驟包含:取得該第一方向及該第二方向的一線展開函數;以及並對該線展開函數進行傅利葉轉換以取的一空間頻率響應。
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