Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

RU2153986C2 - Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы - Google Patents

Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы Download PDF

Info

Publication number
RU2153986C2
RU2153986C2 RU98101117/12A RU98101117A RU2153986C2 RU 2153986 C2 RU2153986 C2 RU 2153986C2 RU 98101117/12 A RU98101117/12 A RU 98101117/12A RU 98101117 A RU98101117 A RU 98101117A RU 2153986 C2 RU2153986 C2 RU 2153986C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
compound
solubility
composition
radiation
aqueous developer
Prior art date
Application number
RU98101117/12A
Other languages
English (en)
Other versions
RU98101117A (ru
Inventor
Гэрет Родри ПАРСОНС (GB)
Гэрет Родри Парсонс
Дейвид Стивен РАЙЛИ (GB)
Дейвид Стивен Райли
Ричард Дейвид ХОР (GB)
Ричард Дейвид Хор
Элан Стенли Виктор МАНК (GB)
Элан Стенли Виктор МАНК
Original Assignee
Хорселл Грэфик Индастриз Лимитед
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=27268256&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=RU2153986(C2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Priority claimed from GBGB9608394.4A external-priority patent/GB9608394D0/en
Priority claimed from GBGB9614693.1A external-priority patent/GB9614693D0/en
Priority claimed from PCT/GB1996/001973 external-priority patent/WO1997007986A2/en
Priority claimed from GBGB9700884.1A external-priority patent/GB9700884D0/en
Application filed by Хорселл Грэфик Индастриз Лимитед filed Critical Хорселл Грэфик Индастриз Лимитед
Publication of RU98101117A publication Critical patent/RU98101117A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2153986C2 publication Critical patent/RU2153986C2/ru

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/36—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
    • B41M5/368—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/14—Multiple imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/145—Infrared
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146—Laser beam
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/165—Thermal imaging composition

Landscapes

  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Liquid Developers In Electrophotography (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)

Abstract

Термочувствительная композиция и способ ее применения предназначены для изготовления матриц позитивных рабочих литографических печатных форм и позволяют повысить качество изготовления матриц. Покрытие на литографической подложке состоит из комплекса фенольной смолы, не растворимой в проявителе, и соединения, которое образует термочувствительный комплекс с фенольной смолой. Этот комплекс менее растворим в растворе проявителя, чем не связанная комплексом фенольная смола. Однако, при нагревании, соответствующем изображению, этот комплекс разлагается, высвобождая фенольную смолу, которая растворяется в растворе проявителя. Различие растворимости между нагретыми и ненагретыми участками фенольной смолы увеличивается, если фенольная смола связана комплексом. На литографической подложке предпочтительно также присутствие материала, поглощающего лазерное излучение. Выявлено большое количество соединений, которые образуют термочувствительные комплексы с фенольной смолой. Примерами таких соединений являются соединения хинолина, бензотиазола, пиридина и имидазола. 4 с. и 37 з.п. ф-лы, 12 табл.

Description

Настоящее изобретение относится к матрицам позитивных рабочих литографических печатных форм, к способу их применения, а также к составам, обеспечивающим получение изображения и наносимым на указанные формы.
Технология литографической печати основана на несмешиваемости масла и воды, при этом маслянистый материал или краска предпочтительно удерживается в зоне изображения, а вода или фонтанирующий раствор предпочтительно удерживается в свободной от изображения зоне. Если поверхность, подготовленную соответствующим образом, увлажнить водой, а затем нанести краску, то фон или зона, свободная от изображения, будет удерживать воду, а зона изображения будет принимать краску и отталкивать воду. Затем краску, нанесенную в зоне изображения, переносят на поверхность материала, на котором воспроизводится изображение, в частности, на бумагу, ткань и т. п. Обычно краску вначале переносят на поверхность промежуточного материала, называемого промежуточной формой, а затем переводят на поверхность того материала, на котором воспроизводится изображение.
В общем случае заготовка литографической печатной формы имеет светочувствительное покрытие, нанесенное на алюминиевую основу. Заготовки негативных литографических печатных форм имеют светочувствительное покрытие, которое отверждается при экспонировании в открытых зонах. При проявлении неэкспонированные участки покрытия удаляются, оставляя изображение. Заготовки позитивных литографических печатных форм, напротив, имеют покрытие, которое после экспонирования светом соответствующей длины волны становится более растворимым в проявителе на экспонированных участках, чем на неэкспонированных. Это различие растворимости, вызываемое светом, называется фотосолюбилизацией. Большое количество выпускаемых в промышленном масштабе заготовок позитивных рабочих печатных форм с покрытием из хинондиазидов с фенольной смолой обеспечивают получение изображения за счет фотосолюбилизации. В обоих случаях зона изображения печатной формы является восприимчивой к краске, или олеофильной, а зона, свободная от изображения, или фон - восприимчивой к воде, или гидрофильной.
Различие между зоной изображения и зоной, свободной от изображения, формируется в процессе экспонирования, когда на заготовку печатной формы наносят пленку с вакуумным отсосом для обеспечения хорошего контакта. После этого заготовку печатной формы облучают светом, который частично состоит из ультрафиолетового излучения. В случае применения заготовки позитивной печатной формы участок пленки на заготовке печатной формы, соответствующий изображению, является непрозрачным и не пропускает свет на заготовку печатной формы, в то время как участок пленки, соответствующий зоне, свободной от изображения, прозрачен и пропускает излучение на покрытие, которое становится более растворимым и удаляется.
Более поздние разработки в области заготовок литографических печатных форм обеспечили получение светочувствительных составов, которые можно применять для изготовления заготовок печатных форм с прямой лазерной адресацией. При этом изображение печатной формы может быть получено с использованием цифровой информации без помощи оригинала, в частности, фототранспаранта.
Известен широкий спектр термосолюбилизирующих составов, полезных в качестве термографических регистрирующих материалов, ранее описанный в патенте Великобритании 1245924, выданном 15 сентября 1971 года, где указано, что растворимость любого данного участка слоя, обеспечивающего получение изображения, в данном растворителе может быть увеличена за счет нагревания указанного слоя при косвенном экспонировании под кратковременным воздействием интенсивного видимого света и/или инфракрасного излучения, передаваемого или отражаемого от фоновых участков графического оригинала, расположенного в контакте с регистрирующим материалом. Патент предполагает, что пленки покрытия, состоящие из таких смол, будут иметь повышенную растворимость при нагревании. Составы могут содержать такие теплопоглощающие соединения, как газовую сажу или милори синий (C.I. Пигмент синий 27). Такие материалы дополнительно окрашивают изображение при использовании их в качестве регистрирующей среды. Однако уровень дифференциации растворимости составов, описанных в патенте Великобритании 1245924, является очень низким по сравнению с теми промышленными составами, которые применяются для заготовок позитивных рабочих литографических печатных форм. Очень малая широта проявления делает составы, описанные в патенте GB 1245924, неприемлемыми для промышленных заготовок литографических печатных форм.
Еще один пример заготовки печатной формы с лазерной адресацией, которую можно использовать как непосредственную позитивную рабочую систему, описан в патенте США 5372907, выданном 13 декабря 1994 года, и в патенте США 5491046, выданном 13 февраля 1996 года. Эти два патента описывают разложение латентной кислоты Бренстеда, вызываемое излучением, с целью повышения растворимости матрицы из смолы при экспонировании. Однако эти заготовки печатных форм весьма чувствительны к ультрафиолетовому излучению из-за того, что в них применяются материалы, вырабатывающие кислоту.
Известна олеофильная термочувствительная композиция, включающая полимерное вещество, растворимое в водном проявителе, и соединение, которое понижает растворимость вещества в водном проявителе, описанная в патенте США 4708925, выданном 24 ноября 1987 года. Этот патент описывает заготовку позитивной печатной формы, в которой слой, обеспечивающий получение изображения, содержит фенольную смолу и светочувствительную ониевую соль. Как показано в патенте, взаимодействие фенольной смолы и ониевой соли приводит к образованию не растворимого в щелочи соединения, которое восстанавливает растворимость в щелочи после фотолитического разложения ониевой соли. Заготовку печатной формы можно использовать как позитивную или негативную за счет введения дополнительных технологических операций между экспонированием и проявлением, как это подробно описано в патенте Великобритании 2082339. Заготовки печатных форм, описанные в патенте США 4708925, принципиально чувствительны к ультрафиолетовому излучению и могут быть дополнительно сенсибилизированы к видимому и инфракрасному излучению.
Описанные выше известные заготовки печатных форм, которые можно применять в качестве заготовок позитивных рабочих печатных форм прямого изображения, не обладают одним или несколькими желательными качествами. Ни одну из описанных заготовок печатных форм нельзя широко использовать без учета условий освещения в рабочей зоне. Для работы с заготовками печатных форм в течение неограниченного периода времени требуется специальное защитное освещение, которое предотвращает нежелательное облучение ультрафиолетовым светом. Заготовки печатных форм можно использовать только в течение ограниченного периода при освещении белым светом, при этом длительность рабочего периода зависит от выходного спектра источника белого света. Желательно было бы использовать оборудование для оцифровывания изображения и заготовки печатных форм на прессовочных участках в условиях освещения белым светом без каких-либо ограничений, чтобы обеспечить непрерывность технологического потока, поэтому чувствительность таких зон к ультрафиолетовому излучению является недостатком. Кроме того, работа при белом свете улучшила бы условия труда на традиционных подготовительных участках прессования, где в настоящее время приходится соблюдать строгие светозащитные меры.
Кроме того, обе системы заготовок печатных форм имеют ограничения в отношении компонентов, создающие трудности в оптимизации свойств форм для получения оптимальных характеристик в широком диапазоне требуемых рабочих параметров литографических форм, включая растворимость проявителя, восприимчивость к краске, длину прохода и адгезию.
В системах, описанных в патенте США 4708925, наличие функциональных групп, которые после облучения создают поперечные связи в фенольной смоле в присутствии ониевых солей, не допускается ни в виде модификации щелочерастворимой смолы, ни в виде дополнительных компонентов состава, поскольку эти группы вызывали бы снижение растворимости после экспонирования.
Из ЕР 0631189, G 03 F 7/021, 1994, известна заготовка позитивной рабочей литографической печатной формы, имеющая покрытие, нанесенное на подложку с гидрофильной поверхностью, а также способ получения литографической печатной формы, включающий прямое экспонирование излучением заготовки, имеющей термочувствительную композицию. Известна также печатная форма, получаемая путем прямого экспонирования излучением заготовки печатной формы, имеющей покрытие, нанесенное на подложку с гидрофильной поверхностью.
Известные заготовка, печатная форма и способ ее получения также обладают указанными выше недостатками (чувствительность заготовки к УФ-излучению, необходимость в защитном освещении, ограниченный срок годности и т.п.).
Задачей изобретения является получение термочувствительной композиции, пригодной для применения в качестве термочувствительной заготовки позитивной печатной формы для получения изображения при нагревании, а также соответствующих заготовки и формы, не имеющих известных недостатков, которые описаны выше. При этом локальный нагрев композиции, предпочтительно вызываемый соответствующим излучением, должен приводить к повышению растворимости экспонированных участков в водном проявителе.
Указанная задача решается тем, что олеофильная термочувствительная композиция, включающая полимерное вещество, растворимое в водном проявителе, и соединение, которое понижает растворимость полимерного вещества в водном проявителе, отличается тем, что растворимость композиции в водном проявителе увеличивается при нагревании и не увеличивается от падающего ультрафиолетового излучения.
Таким образом, одним из аспектов настоящего изобретения является получение олеофильной термочувствительной композиции, которая содержит полимерное вещество, растворимое в водном проявителе и называемое далее "активным полимером", и соединение, которое снижает растворимость полимерного вещества в водном растворителе и называется далее "соединением, обратимо понижающим растворимость", причем растворимость композиции в водном проявителе увеличивается при нагревании и не увеличивается от падающего ультрафиолетового излучения.
Указывая в описании изобретения, что растворимость композиции в водном проявителе увеличивается, авторы имеют в виду ее существенное увеличение, т. е. на величину, полезную для процесса литографической печати. Указывая, что растворимость композиции в водном проявителе не увеличивается под действием падающего ультрафиолетового излучения, авторы имеют в виду ее несущественное увеличение, т. е. на величину, которая не требует принятия мер защиты от ультрафиолетового излучения. Таким образом, в пределах настоящего изобретения может допускаться несущественное увеличение растворимости под действием ультрафиолетового излучения.
Печатной формой предпочтительно является литографическая форма, которая будет называться так далее.
Таким образом, во всех предпочтительных вариантах реализации настоящего изобретения позитивную рабочую литографическую печатную форму получают после термического проявления и обработки. Растворимость композиции покрытия в водном проявителе значительно ниже, чем растворимость одного активного полимера. При последующем экспонировании под соответствующим излучением нагретые участки композиции становятся более растворимыми в растворе проявления. Таким образом, при экспонировании происходит дифференциация растворимости экспонированных и неэкспонированных участков композиции. Вследствие этого экспонированные участки композиции растворяются, открывая нижнюю гидрофильную поверхность формы.
Термическое изображение на формах с покрытием согласно изобретению можно создать косвенным образом путем экспонирования под кратковременным излучением с высокой интенсивностью, передаваемым или отражаемым от нижних участков графического оригинала, расположенного в контакте с материалом, регистрирующим изображение.
В другом предпочтительном варианте реализации изобретения термическое изображение на форме можно создавать, используя нагретое тело. Например, обратная сторона формы или, предпочтительно, чувствительная к нагреву композиция могут иметь контакт с нагретой иглой.
Еще в одном предпочтительном варианте реализации изобретения форму экспонируют непосредственно с помощью лазера для нагрева покрытия. Наиболее предпочтительно лазер имеет излучение с длиной волны, превышающей 600 нм.
Несмотря на то, что заявители не хотят вводить ограничений, связанных с теоретическим объяснением принципа действия их изобретения, предполагается, что между активным полимером и соединением, обратимо понижающим растворимость, образуется термически неустойчивый комплекс. Образование этого комплекса, по- видимому, является обратимым, и его можно разрушить путем нагревания, чтобы восстановить растворимость композиции в водном проявителе. Предполагается, что полимерные вещества, подходящие для использования в настоящем изобретении, когда они не связаны в комплекс, содержат функциональные группы, в которых много электронов, и что подходящие соединения, которые снижают растворимость полимерного вещества в водном проявителе, бедны электронами. При этом не предполагается необходимости разложения компонентов в композиции или наличия какого-либо существенного разложения в проведенных до настоящего времени опытах.
Полимерное вещество, растворимое в водном проявителе, может содержать одну или несколько функциональных групп, выбранных из ряда, включающего гидроксильную, карбоксильную, аминогруппу, амидную и малеимидную группу.
Полимерное вещество, растворимое в водном проявителе, может быть выбрано из полимера или сополимера гидроксистирола, полимера или сополимера акриловой кислоты, полимера или сополимера метакриловой кислоты, полимера или сополимера малеимида, полимера или сополимера малеинового ангидрида, гидроксицеллюлозы, карбоксицеллюлозы и фенольной смолы.
Примеры функциональных групп указанных активных полимеров, пригодных для применения в данном изобретении, включают гидроксильную, карбоксильную, аминогруппу, амидную и малеимидную функциональные группы. Для использования в настоящем изобретении пригоден широкий спектр полимерных материалов, примеры которых включают фенольные смолы, сополимеры 4-гидроксистирола, в частности, с 3-метил-4-гидроксистиролом или 4-метоксистиролом, сополимеры (мет)акриловой кислоты, например, со стиролом, сополимеры малеимида, например, со стиролом, гидрокси- или карбоксицеллюлозы, сополимеры малеинового ангидрида, например, со стиролом, частично гидролизованные полимеры малеинового ангидрида.
Полимерное вещество, растворимое в водном проявителе, может быть фенольной смолой. Наиболее предпочтительным активным полимером является фенольная смола. Особенно полезными для данного изобретения являются конденсаты, которые получают при взаимодействии фенола, С-алкилзамещенных фенолов (например, крезолов и п-трет-бутилфенола), дифенолов (например, бисфенола-А) и альдегидов (например, формальдегида). В зависимости от схемы конденсации можно получить ряд фенольных материалов с различными структурами и свойствами. Особенно полезными для данного изобретения являются новолачные смолы, резольные смолы и смеси новолачных и резольных смол. Примеры пригодных новолачных смол имеют следующую общую структуру.
Figure 00000001

Водный раствор проявителя может быть водным раствором щелочи.
Состав водного проявителя зависит от природы полимерного вещества. Общими компонентами водных литографических проявителей являются поверхностно-активные вещества, вещества, вызывающие образование хелатных соединений, в частности, соли этилендиаминтетрауксусной кислоты, органические растворители, в частности, бензиловый спирт, и щелочные компоненты, в частности, неорганические метасиликаты, органические метасиликаты, гидроксиды или бикарбонаты.
Предпочтительно водный проявитель является щелочным проявителем, который содержит неорганические или органические метасиликаты, если полимерное вещество представляет собой фенольную смолу.
Большое количество соединений, понижающих растворимость в воде пригодных полимерных веществ, испытано для использования в качестве соединений, обратимо снижающих растворимость.
Полезный класс соединений, обратимо снижающих растворимость, представляет собой азотосодержащие соединения, в которых по меньшей мере один атом азота либо является четвертичным, либо встроен в гетероциклическое кольцо, либо одновременно является четвертичным и встроенным в гетероциклическое кольцо.
Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может представлять собой соединение, содержащее по меньшей мере один четвертичный атом азота.
Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может представлять собой соединение, содержащее по меньшей мере один атом азота, встроенный в гетероциклическое кольцо.
Более предпочтительным соединением, обратимо снижающим растворимость, является азотосодержащее гетероциклическое соединение.
Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может быть выбрано из хинолина и триазола.
Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может представлять собой соединение, содержащее по меньшей мере один четвертичный атом азота, встроенный в гетероциклическое кольцо.
Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может быть выбрано из соединения имидазолина, соединения хинолина, соединения бензотиазола и соединения пиридина.
Примерами пригодных азотосодержащих гетероциклических соединений являются хинолин и триазолы, в частности, 1,2,4- триазол.
Более предпочтительным соединением, обратимо снижающим растворимость, является четвертичное гетероциклическое соединение.
Примерами пригодных четвертичных гетероциклических соединений являются соединения имидазолина, в частности, Моназолин С, Моназолин О, Моназолин CY и Моназолин Т, которые производит компания Mona Industries, соединения хинолина, в частности, 1-этил-2-метилхинолиниодид и 1-этил-4- метилхинолиниодид, соединения бензотиазола, в частности, 3-этил-2-метилбензотиазолиодид и соединения пиридина, в частности, цетилпиридинбромид, этилвиологендибромид, а также фторпиридинтетрафторборат.
Соединение хинолина может быть цианиновым красителем.
Соединение бензотиазола может быть цианиновым красителем.
Полезными соединениями хинолина или бензотиазола являются катионные цианиновые красители, в частности, краситель А, хинолин синий и 3-этил-2-[3-(3-этил-2(3Н)бензотиазолиден)-2-метил-1- пропенил]бензотиазолиодид.
Краситель А
Figure 00000002

Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может быть соединением триарилметана.
Примерами полезных соединений, содержащих четвертичный азот, являются триарилметановые красители, в частности, кристаллвиолет (Cl основной виолет 3) и этилвиолет, а также тетраалкиламмониевые соединения, в частности, цетримид.
Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может быть соединением, содержащим карбонильную функциональную группу.
Примерами подходящих соединений, содержащих карбонил, являются α-нафтофлавон, β-нафтофлавон, 2,3-дифенил-1-инденеон, флавон, флаванон, ксантон, бензофенон, N-(4-бромобутил)фталимид и фенантренхинон.
Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может быть выбрано из соединений флавона.
Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может быть выбрано из флаванона, ксантона, бензофенона, N-(4-бромбутил)фталимида, 2,3-дифенил-1-инденеона и фенантренхинона.
Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может представлять собой соединение с общей формулой:
Q1 - S(O)n-Q2,
где Q1 - произвольно замещенная фенильная или алкильная группа,
n - 0, 1 или 2, а Q2 - атом галогена или алкоксильная группа.
Предпочтительно Q1 представляет собой C1-4 алкилфенильную группу, например, толильную группу, или C1-4 алкильную группу. Предпочтительно n равно 1 или лучше 2. Q2 предпочтительно представляет собой атом хлора или C1-4 алкоксильную группу, особенно предпочтительно - этоксильную группу.
Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может быть выбрано из этил-п-толуолсульфоната и п-толуолсульфонилхлорида.
Соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может быть красителем акридиновым основным оранжевым (Cl оранжевый растворитель 15).
Соединение, которое понижает растворимость полимерного вещества в водном проявителе, может быть ферроценовым соединением. В частности, это может быть ферроценгексафторфосфат.
Указанная задача решается также тем, что заготовка позитивной рабочей литографической печатной формы имеет покрытие, содержащее композицию из указанного активного полимера и указанного соединения, обратимо понижающего растворимость, которое нанесено на подложку с гидрофильной поверхностью.
Указанное покрытие может быть хорошо адаптировано для предпочтительного поглощения излучения и превращения указанного излучения в теплоту.
Указанная композиция может содержать поглотитель излучения, способный поглощать падающее излучение и превращать его в теплоту.
Указанное покрытие может содержать дополнительный слой, расположенный под композицией, причем указанный дополнительный слой может содержать поглотитель излучения, способный поглощать падающее излучение и превращать его в теплоту.
В одном из предпочтительных вариантов реализации изобретения может быть использован дополнительный слой, содержащий поглотитель излучения. Такая многослойная конструкция может обеспечить высокую чувствительность, поскольку позволяет использовать увеличенные количества поглотителя, не оказывая влияния на функцию слоя, формирующего изображение. В принципе любой поглотитель излучения, который имеет достаточно сильное поглощение в нужном диапазоне длин волн, может быть введен или нанесен в виде однородного покрытия. Красители, металлы и пигменты (включая оксиды металлов) могут быть использованы в форме слоев, получаемых паровым осаждением. Технология получения и применения таких пленок хорошо известна и описана, например, в патенте ЕР 0652483. Предпочтительными компонентами для настоящего изобретения являются такие, которые образуют гидрофильное однородное покрытие или могут быть обработаны для получения гидрофильной поверхности, например, за счет применения гидрофильного слоя.
Предпочтительным поглотителем инфракрасного света является такой поглотитель, который имеет значительный спектр поглощения в области выходных длин волн лазера, используемого в способе согласно настоящему изобретению. Полезно применение для этой цели органического пигмента или красителя, в частности, фталоцианинового пигмента. Это может быть также краситель или пигмент классов скварилия, мероцианина, цианина, индолизина, пирилия или металлодитиолина. Примерами таких соединений являются:
Figure 00000003

и краситель В
Figure 00000004

Figure 00000005

а у красителя C, поставляемого Riedel de Haen UK, Мидлэссекс, Англия, под маркой KF654 В PINA, предполагается следующая структура:
Figure 00000006

Приемлемое содержание поглотителя излучения составляет не менее 1%, предпочтительно - не менее 2%, предпочтительно до 25%, более предпочтительно - до 15% общей массы композиции. Таким образом, предпочтительное содержание поглотителя излучения можно выразить как 2-15% от общей массы композиции. Возможно также присутствие нескольких поглотителей излучения. Указания на концентрацию таких соединений относятся к их общему содержанию.
Большое количество соединений или их сочетаний можно использовать в качестве поглотителей излучения в предпочтительных вариантах реализации настоящего изобретения.
В предпочтительных вариантах реализации поглотитель излучения поглощает инфракрасное излучение. Однако могут использоваться и другие материалы, которые поглощают излучение иной длины волны (исключая длины волн ультрафиолетового излучения), например, излучение Ar-ионного лазерного источника с длиной волны 488 нм, и преобразуют излучение в теплоту.
Соединение, которое понижает растворимость в водном проявителе полимерного вещества композиции, может также являться поглотителем излучения, способным поглощать падающее излучение и превращать его в теплоту.
В качестве поглотителя излучения полезно использовать углерод, в частности, газовую сажу или графит. Это может быть поставляемый промышленно пигмент, в частности гелиоген зеленый, выпускаемый BASF, или нигрозин основной NGl, выпускаемый NH Laboratories Inc. или милори синий (Cl. пигмент синий 27), поставляемый Aldrich.
Поглотителем излучения может быть газовая сажа.
Поглотителем излучения может быть пигмент. Пигментом может быть органический пигмент.
Пигментом может быть фталоцианиновый пигмент.
Указанным пигментом может быть неорганический пигмент.
Указанный пигмент может быть выбран из прусской зелени, гелиогена зеленого или нигрозина.
Поглотителем излучения может быть краситель, выбранный из следующего ряда классов: скварилий, мероцианин, цианин, индолизин, пирилий или дитиолин металла.
Отдельный слой, поглощающий излучение, может быть тонким слоем красителя или пигмента.
Отдельный слой, поглощающий излучение, может быть тонким слоем металла или оксида металла.
Соединение, которое понижает растворимость полимерного вещества в водном проявителе, а также является поглотителем излучения, может представлять собой цианиновый краситель, который содержит группу хинолина.
Такими соединениями предпочтительно являются цианиновые красители, а более предпочтительно - хинолинцианиновые красители, которые поглощают волны длиной более 600 нм.
К примерам таких соединений относятся:
2-[3-хлоро-5-(1-этил-2(1Н)-хинолинилиден)-1,3-пентадиенил] - 1-этилхинолинбромид
Figure 00000007

1 -этил-2-[5-(1-этил-2(1Н)-хинолинилиден)-1,3- пентадиенил]хинолиниодид
Figure 00000008

4-[3-хлоро-5-(1-этил-4(1Н)-хинолинилиден)-1,3-пентадиенил] -1- этилхинолиниодид
Figure 00000009

Краситель D, 1-этил-4-[5-(1-этил-4(1H)-хинолинилиден)-1,3-пентадиенил] хинолиниодид
Figure 00000010

Приемлемое содержание соединения, которое обратимо понижает растворимость, а также является поглотителем излучения, составляет не менее 1%, предпочтительно - не менее 2%, предпочтительно до 25%, более предпочтительно - до 15% общей массы композиции. Таким образом, предпочтительное содержание соединения, которое обратимо понижает растворимость, а также является поглотителем излучения, можно выразить как 2-15% от общей массы композиции.
Поглотитель излучения может поглощать излучение, превышающее 600 нм.
Указанная задача решается также тем, что в способе получения литографической печатной формы, включающем прямое экспонирование излучением заготовки, используют описанную выше заготовку, предложенную в данном изобретении.
В предпочтительном способе согласно изобретению покрытую форму непосредственно экспонируют лазерным излучением. Наиболее предпочтительным является излучение лазера, превышающее 600 нм, и использование в качестве поглотителя излучения красителя, поглощающего инфракрасный свет.
Источником излучения может быть лазер. Примеры лазеров, которые можно использовать в способе согласно настоящему изобретению, включают полупроводниковые диодные лазеры с длиной волны излучения от 600 нм до 1100 нм. Одним из примеров является Nd лазер YAG с излучением 1064 нм, однако может быть использован любой лазер с достаточной мощностью формирования изображения (излучение которого поглощается композицией).
Эмиссионное излучение лазера может превышать 600 нм.
Теплота может поступать от нагретого тела.
Указанная задача решается также тем, что печатную форму получают путем применения описанного способа к описанной заготовке печатной формы.
Кроме активного полимера, который описанным образом взаимодействует с соединением, обратимо снижающим растворимость, композиция может содержать полимерное вещество, которое не вступает в указанное взаимодействие. Следует отметить, что в такой композиции, содержащей смесь полимерных веществ, активный полимер может быть представлен в более низком количестве по массе, чем одна или несколько полимерных добавок. Приемлемым содержанием активного полимера является не менее 10%, предпочтительно - не менее 25%, более предпочтительно - не менее 50% от общей массы полимерных веществ, присутствующих в композиции. Однако наиболее предпочтительным вариантом является присутствие активного полимера при исключении всех полимерных веществ, которые не могут вступать в указанное взаимодействие.
Основной частью композиции предпочтительно является одно или нескольких полимерных веществ, включая активный полимер, и, возможно, дополнительное полимерное вещество, которое не вступает в указанное взаимодействие. Предпочтительно дополнительная часть композиции состоит из соединения, обратимо снижающего растворимость.
Указанная выше основная часть приемлемо составляет не менее 50%, предпочтительно - не менее 65% и наиболее предпочтительно - не менее 80% от общей массы композиции.
Указанная выше дополнительная часть приемлемо составляет менее 50%, предпочтительно - до 20% и наиболее предпочтительно - до 15% от общей массы композиции.
Соединение, обратимо снижающее растворимость, составляет не менее 1%, предпочтительно - не менее 2%, предпочтительно - до 25%, более предпочтительно - до 15% от общей массы композиции. Таким образом, предпочтительное содержание по массе соединения, обратимо понижающего растворимость, может быть выражено как 2-15% от общей массы композиции.
Возможно присутствие нескольких полимерных веществ, взаимодействующих с указанным соединением. Приведенные здесь указания на концентрацию таких веществ относятся к их общему содержанию. Возможно также присутствие нескольких соединений, обратимо понижающих растворимость. Указания на их концентрацию относятся к общему содержанию таких веществ.
Шесть простых испытаний (испытания 1 - 6) можно выполнить для определения пригодности для данного изобретения композиции, содержащей активный полимер, и соединения, обратимо понижающего растворимость, а также соответствующего водного проявителя.
Испытание 1. Композицию, содержащую активный полимер при отсутствии вещества, обратимо понижающего растворимость, наносят на гидрофильную основу и сушат. Затем поверхность покрывают краской. Если покрытие краской получается однородным, то композиция при нанесении дает олеофильный слой.
Испытание 2. Гидрофильную основу, покрытую композицией, содержащей активный полимер при отсутствии вещества, обратимо понижающего растворимость, обрабатывают пригодным водным проявителем при комнатной температуре в течение соответствующего времени, которое можно определить путем проб и ошибок и которое обычно составляет от 30 до 60 секунд, а затем ополаскивают, сушат и покрывают краской. Если краска не дает покрытия, то композиция растворилась в проявителе.
Испытание 3. Композицию, содержащую активный полимер и вещество, обратимо понижающее растворимость, наносят на гидрофильную основу, сушат и покрывают краской. Если покрытие краской получается однородным, то композиция при нанесении дает олеофильный слой.
Испытание 4. Гидрофильную основу, покрытую композицией, содержащей активный полимер и вещество, обратимо понижающее растворимость, обрабатывают подходящим водным проявителем при комнатной температуре в течение соответствующего времени, которое можно определить путем проб и ошибок и которое обычно составляет от 30 до 60 секунд, а затем ополаскивают, сушат и покрывают краской. Если краска дает однородное покрытие, то композиция не растворяется существенно в проявляющем растворе.
Испытание 5. Гидрофильную основу, покрытую композицией, содержащей активный полимер и вещество, обратимо понижающее растворимость, нагревают в печи таким образом, чтобы композиция достигла нужной температуры за соответствующее время. Затем ее обрабатывают подходящим водным проявителем в течение разумного времени при комнатной температуре.
После этого поверхность сушат и покрывают краской. Если краска не дает покрытия, то нагретая композиция растворилась в проявителе.
Температура и время обработки зависят от выбранных компонентов композиции и их соотношения. Соответствующие условия можно определить с помощью простых опытов методом проб и ошибок. Если такие опыты не дают возможности установить условия прохождения данного испытания, то следует сделать заключение, что композиция не выдерживает этого испытания.
Для типичных композиций предпочтительно, чтобы композицию, содержащую активный полимер и соединение, обратимо понижающее растворимость, нагревали в печи таким образом, чтобы композиция достигала температуры от 50oC до 160oC в течение 5 - 20 секунд. Затем ее обрабатывают подходящим водным проявителем при комнатной температуре в течение соответствующего времени, которое можно определить путем проб и ошибок и которое обычно составляет 30 - 120 секунд.
Наиболее предпочтительно, чтобы композицию, содержащую активный полимер и соединение, обратимо понижающее растворимость, нагревали в печи таким образом, чтобы композиция достигала температуры от 50oC до 120oC в течение 10 -15 секунд. Затем ее обрабатывают подходящим водным проявителем при комнатной температуре в течение 30 - 90 секунд.
Испытание 6. Гидрофильную основу, покрытую композицией, содержащей активный полимер и вещество, обратимо понижающее растворимость, экспонируют под ультрафиолетовым излучением в течение соответствующего времени, которое можно определить путем проб и ошибок и которое обычно составляет 30 секунд. Затем ее обрабатывают подходящим водным проявителем при комнатной температуре в течение соответствующего времени, которое можно определить путем проб и ошибок и которое обычно составляет 30 - 60 секунд. После этого поверхность сушат и покрывают краской. Если краска остается на покрытии, то это означает, что ультрафиолетовое излучение не вызывает растворения композиции и, следовательно, такая композиция обладает достаточной устойчивостью к нормальным условиям рабочего освещения.
Если композиция может пройти все шесть испытаний, то она пригодна для использования согласно настоящему изобретению.
Основанием, которое можно использовать в качестве подложки, предпочтительно является алюминиевая пластина, прошедшая обычное анодирование, зернение и последующие виды обработки, по технологии, хорошо известной в литографии, с целью создания поверхности, предназначенной для нанесения чувствительной к излучению композиции и исполняющей при печати функцию фона.
Другим материалом, который можно использовать в способе согласно настоящему изобретению, является основание из пластмассы или обработанной бумаги, аналогичной применяемой в фотографической промышленности. Особенно полезным в качестве материала для пластмассового основания является полиэтилентерефталат с подслоем, обеспечивающим гидрофильность его поверхности. Можно также применять так называемую бумагу, покрытую смолой, которая обработана в коронном разряде.
Композиции согласно изобретению могут содержать другие ингредиенты, в частности, стабилизирующие добавки, инертные красители, дополнительные инертные полимерные связующие, которые присутствуют во многих композициях литографических форм.
Предпочтительно термочувствительные композиции согласно настоящему изобретению не содержат компонентов, чувствительных к ультрафиолетовому излучению. Однако могут присутствовать чувствительные к УФ компоненты, которые не активируются УФ вследствие присутствия других компонентов, в частности, инертных красителей, поглощающих УФ, или верхнего слоя, поглощающего УФ.
Любой признак каждого аспекта настоящего изобретения или примера его реализации, описанных здесь, может быть скомбинирован с любым признаком какой-либо иной задачи какого-либо описанного здесь изобретения или примера реализации.
Приведенные ниже примеры служат более наглядной иллюстрацией различных аспектов настоящего изобретения, описанных выше.
Далее приведены ссылки на следующие продукты:
Смола A: LB6564 - фенольно-крезольная новолачная смола, выпускаемая компанией Bakelit.
Смола В: R17620 - фенолформальдегидная резольная смола, выпускаемая компанией В.Р. Chemicals Ltd, Салли, Уэльс.
Смола С: SMD995 - алкилфенолформальдегидная резольная смола, выпускаемая компанией Schnectady Midland Ltd, Уолверхэмтон, Англия.
Смола D: Maruka Lyncur M(S-2) - поли(гидроксистирольная) смола, выпускаемая компанией Maruzen Petrochemical Со. Ltd, Токио, Япония.
Смола Е: Ronacoat 300 - полимер на основе диметилмалеимида, выпускаемый компанией Rohner Ltd, Праттельн, Швейцария.
Смола F: Gantrez An 119 - сополимер метилвинилового эфира и малеинового ангидрида, выпускаемый компанией Gaf Chemicals Co., Гилдфорд, Англия.
Смола G: SMA 2625Р - полуэфир стиролмалеинового ангидрида, выпускаемый компанией Elf Atochem UK Ltd., Ньюбари, Англия.
Смола Н: ацетат-пропионат целлюлозы (мол. масса 75 000, содержит 2,5% ацетата и 45-49% пропионата), выпускаемый компанией Eastman Fine Chemicals, Рочестер, США.
Способ испытания при экспонировании
Подложку с покрытием, на которой нужно было получить изображение, вырезали в форме круга диаметром 105 мм и помещали на диск, который можно было вращать с постоянной скоростью в пределах от 100 до 2500 оборотов в минуту. Рядом с вращающимся диском на передвигаемом столике был размещен источник лазерного излучения таким образом, чтобы луч лазера под прямым углом падал на подложку с покрытием, при этом передвигаемый столик радиально смещал лазерный луч относительно вращающегося диска по линейному закону.
Используемый лазер представлял собой диодный лазер с одной модой, имеющей длину волны 830 нм, мощностью 20 мВт и был сфокусирован на разрешение 10 микрон. Электропитание лазера осуществлялось стабилизированным источником постоянного тока.
Получаемое изображение имело форму спирали, при этом изображение в центре спирали соответствовало низкой скорости сканирования лазера и длительному времени экспонирования, а наружная часть спирали - высокой скорости сканирования и малому времени экспонирования. Энергию получения изображения определяли путем измерения диаметра, на котором формировалось изображение.
Минимальная энергия, которую можно было получить при такой системе экспонирования, составляла 150 мДж/см2 при 2500 об/мин.
Сравнительные примеры С1-С5 и примеры 1-9 (см. таблицы 1 и 2).
Покрытия, используемые во всех примерах, были приготовлены в виде растворов в 1-метоксипропан-2-оле, за исключением примеров 4, 5 и 8, в которых использовали растворы в 1-метоксипропан-2- оле/диметилформамиде 40:60 (по объему), и примера 7, где использовали раствор в 1-метоксипропан-2-оле/диметилформамиде 35: 65 (по объему). Подложка представляла собой лист алюминия толщиной 0,3 мм, который прошел электролитическое травление, анодирование и последующую обработку водным раствором неорганического фосфата. Растворы покрытия наносили на подложку с помощью стержня с обмоткой. Концентрацию раствора выбирали таким образом, чтобы обеспечить получение указанных составов в виде сухой пленки с весом покрытия 1,3 г на квадратный метр после тщательной сушки в печи при 100oC в течение 3 минут.
Формы испытали на проявляемость путем погружения в водный раствор проявителя на 30 секунд с использованием соответствующего водного раствора проявителя, как описано ниже.
Проявитель А: 14% раствор метасиликатпентагидрата натрия в воде.
Проявитель В: 7% раствор метасиликатпентагидрата натрия в воде.
Результаты простых испытаний на проявляемость представлены в таблице 3.
Композиции, описанные в сравнительных примерах, не обладают сопротивлением к воздействию проявителя. Композиции, описанные в примерах 1-9, иллюстрируют эффект снижения растворимости полимера в проявителе за счет использования веществ, описанных в настоящем изобретении.
Другие образцы форм экспонировали с помощью описанного выше лазерного устройства с длиной волны 830 нм. После этого экспонированные диски обрабатывали погружением в водный раствор на 30 секунд с использованием соответствующего водного раствора проявителя, как описано выше. Затем определяли чувствительность форм.
Результаты представлены в таблице 4.
Печатная форма, изготовленная согласно примеру в таблице 4, была испытана на промышленно выпускаемой установке Trendsetter производства компании Creo Products, Ванкувер, Канада. Форма обеспечила получение не менее 10000 хороших оттисков на литографическом печатном прессе.
Пример 10 (см. таблицу 5)
Приготовили раствор, содержащий 8,15 г 1-метоксипропан-2-ола, 2,40 г 40 % по массе раствора смолы А в 1-метоксипропан-2-оле, 0,12 г красителя A и 0,24 г дисперсии газовой сажи в воде с концентрацией 50% (по массе), и нанесли в виде покрытия, как описано в примерах 1-9.
Полученную форму экспонировали с использованием диодного лазера мощностью 200 мВ с длиной волны излучения 830 нм при помощи описанного выше устройства экспонирования. Затем форму проявляли в проявителе В в течение 30 секунд. Плотность энергии, необходимая для получения соответствующего изображения, составляла ≤ 150 мДж/см2.
Печатная форма, изготовленная согласно примеру 10, была также испытана на промышленно выпускаемой установке Trendsetter производства компании Creo Products, Ванкувер, Канада. Форма обеспечила получение не менее 10000 хороших оттисков на литографическом печатном прессе.
Пример 11
Матрицу печатной формы с составом, указанным ниже в таблице 6, приготовили, как описано в примере 4.
Полученную форму экспонировали с использованием диодного лазера мощностью 200 мВ с длиной волны излучения 830 нм при помощи описанного выше устройства экспонирования. Затем форму проявляли в проявителе В в течение 30 секунд. Плотность энергии, необходимая для получения соответствующего изображения, составляла ≤ 150 мДж/см2.
Печатная форма, изготовленная согласно примеру 11, была также испытана на промышленно выпускаемой установке Trendsetter производства компании Creo Products, Ванкувер, Канада. Форма обеспечила получение не менее 10000 хороших оттисков на литографическом печатном прессе.
Примеры 12-18 (см. таблицу 7).
Составы покрытий, используемых во всех примерах, были приготовлены, как описано выше, в виде растворов в 1-метоксипропан-2-оле, за исключением примера 16, в котором использовали раствор в 1-метоксипропан-2-оле/диметилформамиде 80:20 (по объему).
Образцы форм экспонировали с помощью описанного выше лазерного устройства с длиной волны 830 нм. После этого экспонированные диски обрабатывали погружением на определенное время в водный раствор соответствующего проявителя, как описано выше. Затем определяли чувствительность форм. Результаты представлены в таблице 8.
Проявитель С: 15% β-нафтилэтоксилата, 5% бензилового спирта, 2% тринатриевой соли нитрилотриуксусной кислоты, 78% воды.
Проявитель D: 3% β-нафтилэтоксилата, 1% бензилового спирта, 2% тринатриевой соли нитрилотриуксусной кислоты, 94% воды.
Проявитель Е: 1,5% β-нафтилэтоксилата, 0,5% бензилового спирта, 1% тринатриевой соли нитрилотриуксусной кислоты, 97% воды.
Примеры 19-30 (см. таблицу 9)
Составы покрытий были приготовлены, как описано выше, в виде растворов в 1-метоксипропан-2-оле за исключением примера 26, в котором использовали раствор в 1-метоксипропан-2- оле/диметилформамиде 50:50 (по объему).
Составы были нанесены в виде покрытия, как описано в примерах 1-9, для получения сухой пленочной композиции согласно приведенной таблице 9.
Образцы форм экспонировали с помощью описанного выше лазерного устройства с длиной волны 830 нм. После этого экспонированные диски обрабатывали погружением на определенное время в водный раствор соответствующего проявителя, как описано выше. Затем определяли чувствительность форм. Результаты представлены в таблице 10.
Пример 31 (см. таблицу 11)
Составы покрытий были приготовлены, как описано выше, в виде растворов в 1-метоксипропан-2-оле. Составы наносили, как указано в примерах 1-9 для получения сухой пленочной композиции согласно приведенной ниже таблице 11.
Образцы форм нагревали с помощью паяльника Weller ЕС 2100 М до 311oC. Скорость движения паяльника по поверхности формы указана в приведенной ниже таблице 12. Затем образцы экспонированных форм обрабатывали путем погружения в проявитель А на 60 секунд. Результаты представлены в приведенной таблице 12.
В различных местах описания мы ссылаемся на ультрафиолетовое излучение. Специалистам в данной области известен типичный диапазон длин волн ультрафиолетового излучения. Однако во избежание сомнений указываем, что типичный диапазон длин волн ультрафиолетового излучения составляет от 190 нм до 400 нм.
Все признаки, приведенные в данном описании (включая прилагаемую формулу изобретения, реферат и фигуры чертежей) и/или все операции описанных способов или процессов, могут сочетаться в любой комбинации за исключением тех комбинаций, в которых по меньшей мере несколько таких признаков и/или операций взаимно исключаются.
Каждый признак, приведенный в данном описании (включая прилагаемую формулу изобретения, реферат и фигуры чертежей), может быть заменен альтернативными признаками, которые служат той же самой, равноценной или аналогичной цели, если однозначно не указано иного. Таким образом, если однозначно не указано иного, каждый описанный признак является только примером целой серии равноценных или аналогичных признаков.
Изобретение не ограничивается деталями описанных выше вариантов реализации. Изобретение включает все новые признаки или новые комбинации признаков, приведенных в данном описании (включая прилагаемую формулу изобретения, реферат и фигуры чертежей), а также все новые операции или новые комбинации операций любого описанного способа или процесса.

Claims (41)

1. Олеофильная термочувствительная композиция, включающая полимерное вещество, растворимое в водном проявителе, и соединение, которое понижает растворимость полимерного вещества в водном проявителе, отличающаяся тем, что растворимость композиции в водном проявителе увеличивается при нагревании и не увеличивается от падающего ультрафиолетового излучения.
2. Композиция по п. 1, в которой полимерное вещество, растворимое в водном проявителе, содержит одну или несколько функциональных групп, выбранных из ряда, включающего гидроксильную, карбоксильную, аминогруппу, амидную и малеимидную группу.
3. Композиция по п.1, в которой полимерное вещество, растворимое в водном проявителе, выбирают из полимера или сополимера гидроксистирола, полимера или сополимера акриловой кислоты, полимера или сополимера метакриловой кислоты, полимера или сополимера малеимида, полимера или сополимера малеинового ангидрида, гидроксицеллюлозы, карбоксицеллюлозы и фенольной смолы.
4. Композиции по п.1, в которой полимерное вещество, растворимое в водном проявителе, является фенольной смолой.
5. Композиция по п.4, в которой водный раствор проявителя является водным раствором щелочи.
6. Композиции по п. 1, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, представляет собой соединение, содержащее по меньшей мере один четвертичный атом азота.
7. Композиция по п. 1, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, представляет собой соединение, содержащее по меньшей мере один атом азота, встроенный в гетероциклическое кольцо.
8. Композиция по п. 7, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, выбирают из хинолина и триазола.
9. Композиция по п. 1, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном растворе, представляет собой соединение, содержащее по меньшей мере один четвертичный атом азота, встроенный в гетероциклическое кольцо.
10. Композиция по п.9, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, выбирают из соединения имидазолина, соединения хинолина, соединения бензотиазола и соединения пиридина.
11. Композиция по п.10, в которой соединение хинолина является цианиновым красителем.
12. Композиция по п.10, в которой соединение бензотиазола является цианиновым красителем.
13. Композиция по п.1, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, является соединением триарилметана.
14. Композиция по п.1, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, является соединением. содержащим карбонильную функциональную группу.
15. Композиция по п.14, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, выбирают из соединений флавона.
16. Композиция по п.14, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, выбирают из флаванона, ксантона, бензофенона, N-(4-бромбутил)фталимида, 2,3-дифенил-1-инденеона и фенантренхинона.
17. Композиция по п.1, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, представляет собой соединение с общей формулой
Q1 - S(O)n - Q2,
где Q1 - произвольно замещенная фенильная или алкильная группы;
n - 0, 1 или 2;
Q2 - атом галогена или алкоксильная группа.
18. Композиция по п.1, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, выбирают из этил-п-толуолсульфоната и п-толуолсульфонилхлорида.
19. Композиция по п.1, в которой соединение, понижающее растворимость полимерного вещества в водном проявителе, является красителем акридиновым основным оранжевым (С1 оранжевый растворитель 15).
20. Композиция по п.1, в которой соединение, которое понижает растворимость полимерного вещества в водном проявителе, является ферроценовым соединением.
21. Заготовка позитивной рабочей литографической печатной формы, имеющая покрытие, которое содержит композицию по пп.1 - 20 и нанесено на подложку с гидрофильной поверхностью.
22. Заготовка литографической печатной формы по п.21, в которой указанное покрытие хорошо адаптировано для предпочтительного поглощения излучения и превращения указанного излучения в теплоту.
23. Заготовка литографической печатной формы по п.22, в которой указанная композиция содержит поглотитель излучения способный поглощать падающее излучение и превращать его в теплоту.
24. Заготовка литографической печатной формы по п.22, в которой указанное покрытие содержит дополнительный слой, расположенный под композицией по п. 1, где указанный дополнительный слой содержит поглотитель излучения, способный поглощать падающее излучение и превращать его в теплоту.
25. Заготовка литографической печатной формы по п.22, в которой соединение, которое понижает растворимость в водном проявителе полимерного вещества композиции по п.1, также является поглотителем излучения, способным поглощать падающее излучение и превращать его в теплоту.
26. Заготовка литографической печатной формы по пп.23 и 24, в которой поглотителем излучения является газовая сажа.
27. Заготовка литографической печатной формы по пп.23 и 24, в которой поглотителем излучения является пигмент.
28. Заготовка литографической печатной формы по п.27, в которой указанным пигментом является органический пигмент.
29. Заготовка литографической печатной формы по п.28, в которой указанным пигментом является фталоцианиновый пигмент.
30. Заготовка литографической печатной формы по п.27, в которой указанным пигментом является неорганический пигмент.
31. Заготовка литографической печатной формы по п.27, в которой указанный пигмент выбирают из прусской зелени, гелиогена зеленого или нигрозина.
32. Заготовка литографической печатной формы по пп.23 и 24, в которой поглотителем излучения является краситель, выбранный из следующего ряда классов: скварилий, мероцианин, цианин, индолизин, пирилий или дитиолин металла.
33. Заготовка литографической печатной формы по п.24, в которой отдельный слой, поглощающий излучение, является тонким слоем красителя или пигмента.
34. Заготовка литографической печатной формы по п.24, в которой отдельный слой, поглощающий излучение, является тонким слоем металла или оксида металла.
35. Заготовка литографической печатной формы по п.25, в которой соединение, которое понижает растворимость полимерного вещества в водном проявителе, а также является поглотителем излучения, представляет собой цианиновый краситель, который содержит группу хинолина.
36. Заготовка литографической печатной формы по пп.27, 32 и 35, в которой поглотитель излучения поглощает изучение, превышающее 600 нм.
37. Способ получения литографической печатной формы, включающий прямое экспонирование излучением заготовки, описанной в любом из пп.21 - 36.
38. Способ по п.37, в котором источником излучения является лазер.
39. Способ по п.38, в котором эмиссионное излучение лазера превышает 600 нм.
40. Способ по п.27, в котором теплота поступает от нагретого тела.
41. Печатная форма, получаемая путем применения способа по пп.37 - 40 к заготовке печатной формы по пп.21 - 36.
Приоритет по пунктам:
23.04.96 - по пп.1, 4, 5 - 7, 9, 11, 21, 22, 23, 25 - 30, 32, 35 - 39, 41;
22.04.97 - по пп.2, 3, 13 - 19, 24, 31, 33, 34;
17.01.97 - по пп.8, 20;
12.07.96 - по пп.10, 40;
13.08.96 по п.12.
RU98101117/12A 1996-04-23 1997-04-22 Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы RU2153986C2 (ru)

Applications Claiming Priority (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB9608394.4A GB9608394D0 (en) 1996-04-23 1996-04-23 Lithgraphic plates
GB9608394.4 1996-04-23
GB9614693.1 1996-07-12
GBGB9614693.1A GB9614693D0 (en) 1996-07-12 1996-07-12 Lithographic plates
WOPCT/GB96/01973 1996-08-13
PCT/GB1996/001973 WO1997007986A2 (en) 1995-08-15 1996-08-13 Water-less lithographic plates
GBGB9700884.1A GB9700884D0 (en) 1997-01-17 1997-01-17 Lithographic plates
GB9700884.1 1997-01-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU98101117A RU98101117A (ru) 1999-11-10
RU2153986C2 true RU2153986C2 (ru) 2000-08-10

Family

ID=27268256

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU98101117/12A RU2153986C2 (ru) 1996-04-23 1997-04-22 Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы

Country Status (16)

Country Link
US (2) US6280899B1 (ru)
EP (2) EP0825927B1 (ru)
JP (1) JP3147908B2 (ru)
CN (1) CN1078132C (ru)
AT (2) ATE183136T1 (ru)
AU (1) AU707872B2 (ru)
BR (1) BR9702181A (ru)
CA (1) CA2225567C (ru)
CZ (1) CZ292739B6 (ru)
DE (4) DE69714225T2 (ru)
ES (2) ES2114521T3 (ru)
IL (1) IL122318A (ru)
NO (1) NO976002L (ru)
PL (1) PL324248A1 (ru)
RU (1) RU2153986C2 (ru)
WO (1) WO1997039894A1 (ru)

Families Citing this family (228)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9516723D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5858626A (en) 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
GB9622657D0 (en) 1996-10-31 1997-01-08 Horsell Graphic Ind Ltd Direct positive lithographic plate
US6060222A (en) 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
DE69833046T2 (de) † 1997-03-11 2006-08-03 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
AU8229498A (en) * 1997-07-05 1999-01-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Pattern-forming methods
GB9714526D0 (en) 1997-07-11 1997-09-17 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern Formation
EP0897134B1 (en) * 1997-08-13 2004-12-01 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image
WO1999008879A1 (en) 1997-08-14 1999-02-25 Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. Method of making masks and electronic parts
GB9722861D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
US6117613A (en) * 1997-09-12 2000-09-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition for use with an infrared laser
EP0908306B3 (en) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP0908305B2 (en) † 1997-10-08 2006-07-19 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP1258369B1 (en) 1997-10-17 2005-03-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. A positive type photosensitive image-forming material for an infrared laser and a positive type photosensitive composition for an infrared laser
EP0913253B1 (en) * 1997-10-28 2002-12-18 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming an image thereon
GB9722862D0 (en) 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
DE69835969T2 (de) 1997-11-07 2007-06-14 Toray Industries, Inc. Direkt beschreibbare Flachdruckvorstufe und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten
JP3810538B2 (ja) 1997-11-28 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 ポジ型画像形成材料
US6399279B1 (en) 1998-01-16 2002-06-04 Mitsubishi Chemical Corporation Method for forming a positive image
US5922512A (en) * 1998-01-29 1999-07-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive polymer and methods of imaging and printing
EP0934822B1 (en) 1998-02-04 2005-05-04 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image
DE19910363B4 (de) * 1998-03-10 2007-08-30 Mitsubishi Paper Mills Ltd. Positives, lichtempfindliches bebilderbares Element
GB2335282B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
GB2335283B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
US6444393B2 (en) * 1998-03-26 2002-09-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anionic infrared-ray absorbing agent, photosensitive composition and planographic printing plate precursor using same
US6447977B2 (en) * 1998-04-15 2002-09-10 Agfa-Gevaert Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
IT1299220B1 (it) 1998-05-12 2000-02-29 Lastra Spa Composizione sensibile sia a radiazioni ir che a radiazioni uv e lastra litografica
GB9811813D0 (en) * 1998-06-03 1998-07-29 Horsell Graphic Ind Ltd Polymeric compounds
US6358669B1 (en) 1998-06-23 2002-03-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6534238B1 (en) * 1998-06-23 2003-03-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6352811B1 (en) 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
DE19834745A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE19834746A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6190831B1 (en) 1998-09-29 2001-02-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing
JP3635203B2 (ja) * 1998-10-06 2005-04-06 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用原版
GB2342460A (en) * 1998-10-07 2000-04-12 Horsell Graphic Ind Ltd Method of making an electronic part
GB2342459B (en) 1998-10-07 2003-01-15 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to electronic parts
JP3979757B2 (ja) 1998-11-16 2007-09-19 三菱化学株式会社 ポジ型感光性平版印刷版、その製造方法およびポジ画像形成方法
US6344306B1 (en) 1999-03-16 2002-02-05 Toray Industries, Inc. Directly imageable waterless planographic printing plate precursor, and directly imageable waterless planographic printing plate
US6124425A (en) * 1999-03-18 2000-09-26 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use
JP2000275828A (ja) * 1999-03-25 2000-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
EP1053868B1 (en) * 1999-05-21 2008-02-06 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition and planographic printing plate base using same
CA2314520A1 (en) 1999-07-30 2001-01-30 Domenico Tiefenthaler Composition sensitive to ir radiation and to heat and lithographic plate coated therewith
DE60002791T2 (de) 1999-07-30 2004-03-18 Lastra S.P.A. Infrarotstrahlungs- und wärme-empfindliche Zusammensetzung, und lithographische Druckplatte, die mit dieser Zusammensetzung beschichtet ist
EP1072404B1 (en) * 1999-07-30 2003-05-21 Lastra S.P.A. Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated with this composition
EP1072405B1 (en) * 1999-07-30 2003-06-04 Lastra S.P.A. Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated therewith
US6255033B1 (en) 1999-07-30 2001-07-03 Creo, Ltd. Positive acting photoresist compositions and imageable element
US6706466B1 (en) 1999-08-03 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6251559B1 (en) 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6461794B1 (en) 1999-08-11 2002-10-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
US6550989B1 (en) 1999-10-15 2003-04-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Apparatus and methods for development of resist patterns
EP1093934B1 (en) 1999-10-19 2004-02-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition and planographic printing plate using the same
US6232031B1 (en) 1999-11-08 2001-05-15 Ano-Coil Corporation Positive-working, infrared-sensitive lithographic printing plate and method of imaging
US6391524B2 (en) 1999-11-19 2002-05-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Article having imagable coatings
US6300038B1 (en) 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance
US6558787B1 (en) 1999-12-27 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to manufacture of masks and electronic parts
EP1142709B1 (en) 2000-04-06 2004-11-24 Toray Industries, Inc. Directly imageable planographic printing plate and method of production thereof
JP2001305722A (ja) * 2000-04-18 2001-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6458511B1 (en) 2000-06-07 2002-10-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging
US6506533B1 (en) 2000-06-07 2003-01-14 Kodak Polychrome Graphics Llc Polymers and their use in imagable products and image-forming methods
EP1307513B1 (en) 2000-07-06 2009-01-21 Cabot Corporation Modified pigment products, dispersions thereof, and compositions comprising the same
WO2002011984A1 (en) 2000-08-04 2002-02-14 Kodak Polychrome Graphics Co. Ltd. Lithographic printing form and method of preparation and use thereof
US6649324B1 (en) * 2000-08-14 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Aqueous developer for lithographic printing plates
US6555291B1 (en) 2000-08-14 2003-04-29 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6558872B1 (en) 2000-09-09 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to the manufacture of masks and electronic parts
US6451502B1 (en) 2000-10-10 2002-09-17 Kodak Polychrome Graphics Llc manufacture of electronic parts
US6864040B2 (en) 2001-04-11 2005-03-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds
WO2002034517A1 (en) 2000-10-26 2002-05-02 Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. Compositions comprising a pigment
US6596460B2 (en) 2000-12-29 2003-07-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions
US6548215B2 (en) 2001-02-09 2003-04-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using the dual-feed technology
US6613494B2 (en) 2001-03-13 2003-09-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element having a protective overlayer
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7049046B2 (en) * 2004-03-30 2006-05-23 Eastman Kodak Company Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US7592128B2 (en) 2001-04-04 2009-09-22 Eastman Kodak Company On-press developable negative-working imageable elements
US6777164B2 (en) 2001-04-06 2004-08-17 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
EP1256444B1 (en) 2001-04-09 2004-06-30 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursor
US6739260B2 (en) 2001-05-17 2004-05-25 Agfa-Gevaert Method for the preparation of a negative working printing plate
EP1258349B1 (en) * 2001-05-17 2005-04-20 Agfa-Gevaert Method for the preparation of a negative working printing plate
BR0102218B1 (pt) 2001-05-31 2012-10-16 produto sensìvel à radiação, e processo de impressão ou revelação de imagem utilizando o referido produto.
US6706454B2 (en) 2001-07-05 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using particle growing acceleration by an additive polymer
JP3917422B2 (ja) 2001-07-26 2007-05-23 富士フイルム株式会社 画像形成材料
US6593055B2 (en) 2001-09-05 2003-07-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Multi-layer thermally imageable element
US7294447B2 (en) 2001-09-24 2007-11-13 Agfa Graphics Nv Positive-working lithographic printing plate precursor
EP1295717B1 (en) 2001-09-24 2007-07-25 Agfa Graphics N.V. Heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor
KR100406460B1 (ko) * 2001-09-29 2003-11-19 한국과학기술연구원 커플링된 스티릴시아닌 색소 및 그의 제조 방법
US6723490B2 (en) 2001-11-15 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Minimization of ablation in thermally imageable elements
US6699636B2 (en) 2001-12-12 2004-03-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent
US6960423B2 (en) 2001-12-26 2005-11-01 Creo Inc. Preparation of gravure and intaglio printing elements using direct thermally imageable media
US6723489B2 (en) 2002-01-30 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llp Printing form precursors
US6830862B2 (en) 2002-02-28 2004-12-14 Kodak Polychrome Graphics, Llc Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer
US20050003296A1 (en) * 2002-03-15 2005-01-06 Memetea Livia T. Development enhancement of radiation-sensitive elements
US6732653B2 (en) 2002-04-26 2004-05-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Method to remove unwanted, unexposed, positive-working, radiation-sensitive layer
US6843176B2 (en) 2002-04-26 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate
EP1396338B1 (en) 2002-09-04 2006-07-19 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US6858359B2 (en) 2002-10-04 2005-02-22 Kodak Polychrome Graphics, Llp Thermally sensitive, multilayer imageable element
US7195859B2 (en) 2002-10-04 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method of making a lithographic printing plate precursor
CN100448689C (zh) 2002-10-04 2009-01-07 爱克发印艺公司 制造平版印刷版前体的方法
DE60316826T2 (de) 2002-10-04 2008-07-17 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur herstellung eines lithographischen druckplattenvorläufers
US7198877B2 (en) 2002-10-15 2007-04-03 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7458320B2 (en) 2002-10-15 2008-12-02 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7455949B2 (en) 2002-10-15 2008-11-25 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US6794107B2 (en) 2002-10-28 2004-09-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal generation of a mask for flexography
CN1332809C (zh) * 2002-12-26 2007-08-22 富士胶片株式会社 平版印刷版前体
DE60320204T2 (de) 2002-12-27 2009-05-14 Fujifilm Corp. Wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer
JP4163964B2 (ja) 2003-01-07 2008-10-08 岡本化学工業株式会社 画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版
US7160667B2 (en) * 2003-01-24 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US6790590B2 (en) 2003-01-27 2004-09-14 Kodak Polychrome Graphics, Llp Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US6953652B2 (en) 2003-01-27 2005-10-11 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7087359B2 (en) 2003-01-27 2006-08-08 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
WO2004071767A1 (en) * 2003-02-11 2004-08-26 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor.
US7229744B2 (en) * 2003-03-21 2007-06-12 Eastman Kodak Company Method for preparing lithographic printing plates
US6908726B2 (en) * 2003-04-07 2005-06-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable elements imageable at several wavelengths
US20040214108A1 (en) * 2003-04-25 2004-10-28 Ray Kevin B. Ionic liquids as dissolution inhibitors in imageable elements
JP4703104B2 (ja) * 2003-06-06 2011-06-15 株式会社東芝 通信端末装置
EP1630606B1 (en) * 2003-06-30 2008-08-13 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
JP4657276B2 (ja) * 2003-07-03 2011-03-23 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
JP4732420B2 (ja) * 2003-07-03 2011-07-27 株式会社シンク・ラボラトリー 製版方法
JP4732419B2 (ja) * 2003-07-03 2011-07-27 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
JP2007528807A (ja) 2003-07-08 2007-10-18 コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー 硫酸化ポリマーを含んで成る画像形成可能要素
US7371454B2 (en) * 2003-12-15 2008-05-13 Eastman Kodak Company Imageable element comprising sulfated polymers
US6942957B2 (en) * 2003-07-17 2005-09-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Ionic liquids as developability enhancing agents in multilayer imageable elements
US6844141B1 (en) 2003-07-23 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for developing multilayer imageable elements
US6992688B2 (en) * 2004-01-28 2006-01-31 Eastman Kodak Company Method for developing multilayer imageable elements
JP2005047181A (ja) * 2003-07-30 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
US7226724B2 (en) 2003-11-10 2007-06-05 Think Laboratory Co., Ltd. Positive-type photosensitive composition
ATE403552T1 (de) 2003-12-04 2008-08-15 Ibf Ind Brasileira De Filmes S Positiv arbeitende thermische bilderzeugungsanordnung und verfahren zu deren herstellung
US7297465B2 (en) 2003-12-18 2007-11-20 Agfa Graphics Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7205084B2 (en) 2003-12-18 2007-04-17 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1697144A1 (en) 2003-12-18 2006-09-06 Agfa-Gevaert N.V. Positive-working lithographic printing plate precursor
US7467587B2 (en) 2004-04-21 2008-12-23 Agfa Graphics, N.V. Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material
US7348126B2 (en) 2004-04-27 2008-03-25 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1750175B1 (en) * 2004-05-27 2008-07-30 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
DE602004006099T2 (de) 2004-06-11 2008-03-13 Agfa Graphics N.V. Negativ arbeitende wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer
DE102004029501A1 (de) * 2004-06-18 2006-01-12 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern
US7279263B2 (en) * 2004-06-24 2007-10-09 Kodak Graphic Communications Canada Company Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements
US7195861B2 (en) 2004-07-08 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7425405B2 (en) 2004-07-08 2008-09-16 Agfa Graphics, N.V. Method for making a lithographic printing plate
US7354696B2 (en) 2004-07-08 2008-04-08 Agfa Graphics Nv Method for making a lithographic printing plate
JP4152928B2 (ja) * 2004-08-02 2008-09-17 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
JP4242815B2 (ja) * 2004-08-27 2009-03-25 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
US7198883B2 (en) 2004-09-24 2007-04-03 Agfa-Gevaert Processless lithographic printing plate
EP1640175B1 (en) 2004-09-24 2007-08-15 Agfa Graphics N.V. Processless lithographic printing plate
JP2006154477A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Think Laboratory Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
DE602005003007T2 (de) 2005-03-21 2008-08-14 Agfa Graphics N.V. Entwicklungsfreie Flachdruckplatten
JP2006293162A (ja) 2005-04-13 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
KR100693357B1 (ko) * 2005-04-19 2007-03-12 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 포지티브형 감광성 조성물
EP1885759B1 (en) 2005-06-03 2013-01-23 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near-infrared absorbing acetal copolymers, methods of preparation and methods of use
US7678533B2 (en) 2005-06-30 2010-03-16 Agfa Graphics, N.V. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20070292802A1 (en) * 2005-07-12 2007-12-20 Think Laboratiory Co., Ltd. Positive Photosenstive Composition
US8313885B2 (en) 2005-11-10 2012-11-20 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor comprising bi-functional compounds
US7338745B2 (en) * 2006-01-23 2008-03-04 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element with improved chemical resistance
WO2007099053A1 (en) 2006-02-28 2007-09-07 Agfa Graphics Nv Method for making a lithographic printing plate
EP1826021B1 (en) 2006-02-28 2009-01-14 Agfa Graphics N.V. Positive working lithographic printing plates
EP1834764B1 (en) 2006-03-17 2009-05-27 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
ATE449683T1 (de) 2006-05-24 2009-12-15 Agfa Graphics Nv Negativ arbeitender hitzeempfindlicher lithographiedruckformvorläufer
ES2334254T3 (es) 2006-05-24 2010-03-08 Agfa Graphics N.V. Metodo para la fabricacion de una plancha de impresion litografica.
GB2439734A (en) * 2006-06-30 2008-01-09 Peter Andrew Reath Bennett Coating for a lithographic precursor and use thereof
WO2008066522A1 (en) * 2006-11-28 2008-06-05 Eastman Kodak Company Multilayer imageable elements having good solvent resistance
WO2008126722A1 (ja) * 2007-04-05 2008-10-23 Think Laboratory Co., Ltd. ポジ型感光性組成物
EP1985445B1 (en) 2007-04-27 2011-07-20 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
EP2002987B1 (en) 2007-06-13 2014-04-23 Agfa Graphics N.V. A method for treating a lithographic printing plate
US7582407B2 (en) * 2007-07-09 2009-09-01 Eastman Kodak Company Imageable elements with low pH developer solubility
ATE509764T1 (de) 2007-08-14 2011-06-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithographiedruckform
WO2009030279A1 (en) 2007-09-07 2009-03-12 Agfa Graphics Nv A heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7989146B2 (en) 2007-10-09 2011-08-02 Eastman Kodak Company Component fabrication using thermal resist materials
EP2062728B1 (en) 2007-11-13 2011-08-31 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
DE602007006822D1 (de) 2007-11-30 2010-07-08 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte
JP2009132974A (ja) 2007-11-30 2009-06-18 Fujifilm Corp 微細構造体
ATE481240T1 (de) 2008-02-28 2010-10-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte
ES2430562T3 (es) 2008-03-04 2013-11-21 Agfa Graphics N.V. Método para la fabricación de un soporte de una plancha de impresión litográfica
ATE514561T1 (de) 2008-03-31 2011-07-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur behandlung einer lithografischen druckplatte
EP2159049B1 (en) 2008-09-02 2012-04-04 Agfa Graphics N.V. A heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor
EP2194429A1 (en) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
EP2213690B1 (en) 2009-01-30 2015-11-11 Agfa Graphics N.V. A new alkali soluble resin
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
EP2263874B1 (en) 2009-06-18 2012-04-18 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
EP2284005B1 (en) 2009-08-10 2012-05-02 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors with beta-hydroxy alkylamide crosslinkers
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
EP2293144B1 (en) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing
US8298750B2 (en) 2009-09-08 2012-10-30 Eastman Kodak Company Positive-working radiation-sensitive imageable elements
US8936899B2 (en) 2012-09-04 2015-01-20 Eastman Kodak Company Positive-working lithographic printing plate precursors and use
EP2316645B1 (en) 2009-10-27 2012-05-02 AGFA Graphics NV Novel cyanine dyes and lithographic printing plate precursors comprising such dyes
AU2010312263B2 (en) 2009-10-29 2013-10-03 Mylan Group Gallotannic compounds for lithographic printing plate coating compositions
EP2329951B1 (en) 2009-12-04 2012-06-20 AGFA Graphics NV A lithographic printing plate precursor
ES2395993T3 (es) 2010-03-19 2013-02-18 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresión litográfica
US20110236832A1 (en) * 2010-03-26 2011-09-29 Celin Savariar-Hauck Lithographic processing solutions and methods of use
US8939080B2 (en) 2010-11-18 2015-01-27 Eastman Kodak Company Methods of processing using silicate-free developer compositions
US20120129093A1 (en) 2010-11-18 2012-05-24 Moshe Levanon Silicate-free developer compositions
WO2012101046A1 (en) 2011-01-25 2012-08-02 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
EP2489512B1 (en) 2011-02-18 2013-08-28 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
CN103797421B (zh) 2011-09-08 2017-02-15 爱克发印艺公司 制备平版印刷印版的方法
US9096759B2 (en) * 2011-12-21 2015-08-04 E I Du Pont De Nemours And Company Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin
US20130255515A1 (en) 2012-03-27 2013-10-03 Celin Savariar-Hauck Positive-working lithographic printing plate precursors
BR112015001857B1 (pt) 2012-07-27 2021-09-14 Fujifilm Corporation Suporte para chapa de impressão litográfica, precursor da chapa de impressão litográfica e método de produção do suporte para chapa de impressão litográfica
WO2014106554A1 (en) 2013-01-01 2014-07-10 Agfa Graphics Nv (ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
EP2775351B1 (en) 2013-03-07 2017-02-22 Agfa Graphics NV Apparatus and method for processing a lithographic printing plate
JP6313851B2 (ja) 2013-06-18 2018-04-18 アグファ・ナームローゼ・フェンノートシャップＡｇｆａ Ｎｖ パターン化されたバック層を有する平版印刷版前駆体の製造方法
EP2871057B1 (en) 2013-11-07 2016-09-14 Agfa Graphics Nv Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP2933278B1 (en) 2014-04-17 2018-08-22 Agfa Nv (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
EP2944657B1 (en) 2014-05-15 2017-01-11 Agfa Graphics Nv (Ethylene, Vinyl Acetal) Copolymers and Their Use In Lithographic Printing Plate Precursors
CN104035279B (zh) * 2014-05-23 2017-07-18 浙江康尔达新材料股份有限公司 阳图红外敏感组合物及其可成像元件
ES2660063T3 (es) 2014-06-13 2018-03-20 Agfa Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
EP2963496B1 (en) 2014-06-30 2017-04-05 Agfa Graphics NV A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers
ES2655798T3 (es) 2014-12-08 2018-02-21 Agfa Nv Sistema para reducir los residuos de ablación
EP3130465B1 (en) 2015-08-12 2020-05-13 Agfa Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US9588429B1 (en) 2015-09-03 2017-03-07 Eastman Kodak Company Lithographic developer composition and method of use
EP3170662B1 (en) 2015-11-20 2019-08-14 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
ES2812324T3 (es) 2016-03-16 2021-03-16 Agfa Nv Aparato para procesar una plancha de impresión litográfica y procedimiento correspondiente
EP3239184A1 (en) 2016-04-25 2017-11-01 Agfa Graphics NV Thermoplastic polymer particles and a lithographic printing plate precursor
EP3441223B1 (en) 2017-08-07 2024-02-21 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
CN111051981B (zh) 2017-08-25 2024-04-09 富士胶片株式会社 负型平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法
EP3474073B1 (en) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv A method for making a printing plate
EP3637188A1 (en) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
EP3650938A1 (en) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3715140A1 (en) 2019-03-29 2020-09-30 Agfa Nv A method of printing
EP3778253A1 (en) 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Method for processing a lithographic printing plate
EP3922462B1 (en) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability
EP4263224A1 (en) 2020-12-16 2023-10-25 Eco3 Bv Lithographic printing press make-ready method
EP4382306A1 (en) 2022-12-08 2024-06-12 Eco3 Bv Lithographic printing press make-ready method

Family Cites Families (134)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE510151A (ru) 1949-07-23
US3046121A (en) 1949-07-23 1962-07-24 Azoplate Corp Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein
US3046119A (en) 1950-08-01 1962-07-24 Azoplate Corp Light sensitive material for printing and process for making printing plates
BE506677A (ru) 1950-10-31
NL166823B (nl) 1951-02-02 Petroles Cie Francaise Electrisch koppelingsorgaan voor koppeling onder water.
US2767092A (en) 1951-12-06 1956-10-16 Azoplate Corp Light sensitive material for lithographic printing
GB742557A (en) 1952-10-01 1955-12-30 Kalle & Co Ag Light-sensitive material for photomechanical reproduction and process for the production of images
GB772517A (en) 1954-02-06 1957-04-17 Kalle & Co Ag Improvements in or relating to photo-mechanical reproduction
BE540225A (ru) 1954-08-20
US2907665A (en) 1956-12-17 1959-10-06 Cons Electrodynamics Corp Vitreous enamel
NL247299A (ru) 1959-01-14
NL254616A (ru) 1959-08-05
US3105465A (en) 1960-05-31 1963-10-01 Oliver O Peters Hot water heater
NL6608712A (ru) * 1966-06-23 1966-11-25
US3635709A (en) 1966-12-15 1972-01-18 Polychrome Corp Light-sensitive lithographic plate
GB1170495A (en) 1967-03-31 1969-11-12 Agfa Gevaert Nv Radiation-Sensitive Recording Material
GB1231789A (ru) * 1967-09-05 1971-05-12
GB1245924A (en) * 1967-09-27 1971-09-15 Agfa Gevaert Improvements relating to thermo-recording
GB1260662A (en) * 1968-03-27 1972-01-19 Agfa Gevaert Improvements relating to the sub-titling of processed photographic materials
US3837860A (en) 1969-06-16 1974-09-24 L Roos PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS
US3647443A (en) 1969-09-12 1972-03-07 Eastman Kodak Co Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions
JPS5024641B2 (ru) 1972-10-17 1975-08-18
US3891439A (en) 1972-11-02 1975-06-24 Polychrome Corp Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
JPS5536518B2 (ru) 1972-11-21 1980-09-20
US3859099A (en) 1972-12-22 1975-01-07 Eastman Kodak Co Positive plate incorporating diazoquinone
CA1085212A (en) 1975-05-27 1980-09-09 Ronald H. Engebrecht Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides
DE2529054C2 (de) 1975-06-30 1982-04-29 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes
DE2543820C2 (de) * 1975-10-01 1984-10-31 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels Laserstrahlen
DE2607207C2 (de) 1976-02-23 1983-07-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen
US4486529A (en) 1976-06-10 1984-12-04 American Hoechst Corporation Dialo printing plate made from laser
GB1603920A (en) 1978-05-31 1981-12-02 Vickers Ltd Lithographic printing plates
JPS5560944A (en) 1978-10-31 1980-05-08 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
US4308368A (en) 1979-03-16 1981-12-29 Daicel Chemical Industries Ltd. Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide
JPS561044A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS561045A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS569740A (en) 1979-07-05 1981-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
US4316952A (en) * 1980-05-12 1982-02-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy sensitive element having crosslinkable polyester
GB2082339B (en) * 1980-08-05 1985-06-12 Horsell Graphic Ind Ltd Lithographic printing plates and method for processing
US4529682A (en) 1981-06-22 1985-07-16 Philip A. Hunt Chemical Corporation Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins
JPS58203433A (ja) 1982-05-21 1983-11-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS58224351A (ja) 1982-06-23 1983-12-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性印刷版
US4609615A (en) 1983-03-31 1986-09-02 Oki Electric Industry Co., Ltd. Process for forming pattern with negative resist using quinone diazide compound
DE3325023A1 (de) 1983-07-11 1985-01-24 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden
US4708925A (en) * 1984-12-11 1987-11-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin
US4693958A (en) 1985-01-28 1987-09-15 Lehigh University Lithographic plates and production process therefor
DE3541534A1 (de) 1985-11-25 1987-05-27 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
ZA872295B (ru) 1986-03-13 1987-09-22
US4684599A (en) 1986-07-14 1987-08-04 Eastman Kodak Company Photoresist compositions containing quinone sensitizer
US4743528A (en) * 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Enhanced imaging composition containing an azinium activator
GB8700599D0 (en) * 1987-01-12 1987-02-18 Vickers Plc Printing plate precursors
DE3716848A1 (de) 1987-05-20 1988-12-01 Hoechst Ag Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials
US4845143A (en) 1987-08-21 1989-07-04 Oki Electric Industry Co., Ltd. Pattern-forming material
US4973572A (en) * 1987-12-21 1990-11-27 Eastman Kodak Company Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
JPH01201654A (ja) 1988-02-06 1989-08-14 Nippon Oil Co Ltd ポジ型フォトレジスト材料
US4962147A (en) 1988-05-26 1990-10-09 Hoechst Celanese Corporation Process for the suspension polymerization of 4-acetoxystyrene and hydrolysis to 4-hydroxystyrene polymers
DE3820001A1 (de) 1988-06-11 1989-12-14 Basf Ag Optisches aufzeichnungsmedium
JPH0820734B2 (ja) * 1988-08-11 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物
US4877718A (en) 1988-09-26 1989-10-31 Rennsselaer Polytechnic Institute Positive-working photosensitive polyimide operated by photo induced molecular weight changes
JP2547626B2 (ja) 1988-10-07 1996-10-23 富士写真フイルム株式会社 モノマーの製造方法
EP0366590B2 (en) 1988-10-28 2001-03-21 International Business Machines Corporation Highly sensitive positive photoresist compositions
DE68921146T2 (de) 1988-11-11 1995-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliche Zusammensetzung.
JP2571115B2 (ja) 1989-01-17 1997-01-16 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物
JP2871710B2 (ja) 1989-03-17 1999-03-17 株式会社きもと 画像形成方法
JPH02251962A (ja) 1989-03-27 1990-10-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 微細パターン形成材料およびパターン形成方法
US5200298A (en) 1989-05-10 1993-04-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of forming images
EP0410606B1 (en) 1989-07-12 1996-11-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same
DE69032464T2 (de) 1989-10-19 1998-11-12 Fujitsu Ltd Verfahren zur Herstellung von Photolackmustern
GB9004337D0 (en) 1990-02-27 1990-04-25 Minnesota Mining & Mfg Preparation and use of dyes
DE4013575C2 (de) 1990-04-27 1994-08-11 Basf Ag Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien
EP0455228B1 (en) 1990-05-02 1998-08-12 Mitsubishi Chemical Corporation Photoresist composition
JP2729850B2 (ja) 1990-05-15 1998-03-18 富士写真フイルム株式会社 画像形成層
JP2639853B2 (ja) 1990-05-18 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物
JP2645384B2 (ja) 1990-05-21 1997-08-25 日本ペイント株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
US5145763A (en) 1990-06-29 1992-09-08 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Positive photoresist composition
JP3244288B2 (ja) * 1990-07-23 2002-01-07 昭和電工株式会社 近赤外光消色型記録材料
US5085972A (en) 1990-11-26 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins
JPH04359906A (ja) 1991-06-07 1992-12-14 Shin Etsu Chem Co Ltd ポリ（パラ−ｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン）及びその製造方法
CA2066895A1 (en) 1991-06-17 1992-12-18 Thomas P. Klun Aqueous developable imaging systems
US5258257A (en) 1991-09-23 1993-11-02 Shipley Company Inc. Radiation sensitive compositions comprising polymer having acid labile groups
US5437952A (en) 1992-03-06 1995-08-01 Konica Corporation Lithographic photosensitive printing plate comprising a photoconductor and a naphtho-quinone diazide sulfonic acid ester of a phenol resin
US5368977A (en) 1992-03-23 1994-11-29 Nippon Oil Co. Ltd. Positive type photosensitive quinone diazide phenolic resin composition
DE4321607A1 (de) 1992-06-30 1994-01-05 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd Aufzeichnungsmaterial
US5268245A (en) 1992-07-09 1993-12-07 Polaroid Corporation Process for forming a filter on a solid state imager
CA2091286A1 (en) 1992-07-20 1994-01-21 John Grunwald Direct imaging process for forming resist pattern on a surface, and use thereof in fabricating printed boards
US5351617A (en) 1992-07-20 1994-10-04 Presstek, Inc. Method for laser-discharge imaging a printing plate
US5286612A (en) 1992-10-23 1994-02-15 Polaroid Corporation Process for generation of free superacid and for imaging, and imaging medium for use therein
EP0608983B1 (en) 1993-01-25 1997-11-12 AT&T Corp. A process for controlled deprotection of polymers and a process for fabricating a device utilizing partially deprotected resist polymers
US5340699A (en) * 1993-05-19 1994-08-23 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates
DE69323546T2 (de) * 1993-06-24 1999-08-26 Agfa-Gevaert N.V. Verbesserung der Lagerungsstabilität eines Diazo-Aufzeichnungselementes zur Herstellung einer Druckplatte
DE4426820A1 (de) 1993-07-29 1995-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd Bilderzeugungsmaterial und Bilderzeugungsverfahren
GB9322705D0 (en) * 1993-11-04 1993-12-22 Minnesota Mining & Mfg Lithographic printing plates
DE69512113T2 (de) * 1994-03-14 2000-05-25 Kodak Polychrome Graphics Llc, Norwalk Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, enthaltend ein Resolharz, ein Novolakharz, einen Infrarotabsorber und ein Triazin, und seine Verwendung in lithographischen Druckplatten
JP3317574B2 (ja) 1994-03-15 2002-08-26 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP3461377B2 (ja) 1994-04-18 2003-10-27 富士写真フイルム株式会社 画像記録材料
US5441850A (en) 1994-04-25 1995-08-15 Polaroid Corporation Imaging medium and process for producing an image
US5824451A (en) * 1994-07-04 1998-10-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition
US5858604A (en) 1994-07-11 1999-01-12 Konica Corporation Presensitized lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
US5466557A (en) * 1994-08-29 1995-11-14 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates
EP0706899A1 (en) 1994-10-13 1996-04-17 Agfa-Gevaert N.V. Thermal imaging element
US5491046A (en) * 1995-02-10 1996-02-13 Eastman Kodak Company Method of imaging a lithographic printing plate
US5658708A (en) 1995-02-17 1997-08-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material
JPH0962005A (ja) 1995-06-14 1997-03-07 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性組成物
GB9516694D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
GB9516723D0 (en) * 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
US5641608A (en) 1995-10-23 1997-06-24 Macdermid, Incorporated Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates
JPH09120157A (ja) * 1995-10-25 1997-05-06 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要感光性平版印刷版
US6132935A (en) 1995-12-19 2000-10-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative-working image recording material
US5814431A (en) * 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
JP3589365B2 (ja) 1996-02-02 2004-11-17 富士写真フイルム株式会社 ポジ画像形成組成物
EP0803771A1 (en) 1996-04-23 1997-10-29 Agfa-Gevaert N.V. A method for making a lithopgrapic printing plate wherein an imaging element is used that comprises a thermosensitive mask
DE69608679D1 (de) 1996-07-19 2000-07-06 Agfa Gevaert Nv IR-Strahlungsempfindliches Bildaufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung von lithographischen Druckplatten mit diesem Element
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5705309A (en) 1996-09-24 1998-01-06 Eastman Kodak Company Photosensitive composition and element containing polyazide and an infrared absorber in a photocrosslinkable binder
US5759742A (en) 1996-09-25 1998-06-02 Eastman Kodak Company Photosensitive element having integral thermally bleachable mask and method of use
US5858626A (en) * 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
US5705308A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Infrared-sensitive, negative-working diazonaphthoquinone imaging composition and element
US5705322A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element
US6117610A (en) * 1997-08-08 2000-09-12 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use
EP0839647B2 (en) 1996-10-29 2014-01-22 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate with improved ink-uptake
US6060222A (en) * 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
DE69804876T2 (de) 1997-01-24 2002-11-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Flachdruckplatte
DE69806986T2 (de) 1997-03-11 2003-05-08 Agfa-Gevaert, Mortsel Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
DE19712323A1 (de) 1997-03-24 1998-10-01 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
JP3779444B2 (ja) 1997-07-28 2006-05-31 富士写真フイルム株式会社 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
EP0908306B3 (en) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
US6060218A (en) * 1997-10-08 2000-05-09 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
EP0913253B1 (en) * 1997-10-28 2002-12-18 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming an image thereon
EP0934822B1 (en) * 1998-02-04 2005-05-04 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image
US6251559B1 (en) * 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6300038B1 (en) * 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11506550A (ja) 1999-06-08
EP0887182B1 (en) 2002-07-24
US6485890B2 (en) 2002-11-26
ES2181120T3 (es) 2003-02-16
EP0825927B1 (en) 1999-08-11
ATE220991T1 (de) 2002-08-15
DE69700397T2 (de) 2000-04-13
ES2114521T1 (es) 1998-06-01
CA2225567A1 (en) 1997-10-30
EP0825927A1 (en) 1998-03-04
IL122318A (en) 2001-01-28
CA2225567C (en) 2003-01-21
US6280899B1 (en) 2001-08-28
CZ400897A3 (cs) 1998-04-15
US20020045124A1 (en) 2002-04-18
IL122318A0 (en) 1998-04-05
DE29724584U1 (de) 2002-04-18
DE825927T1 (de) 1998-07-16
DE69700397D1 (de) 1999-09-16
JP3147908B2 (ja) 2001-03-19
NO976002L (no) 1998-02-17
PL324248A1 (en) 1998-05-11
DE69714225D1 (de) 2002-08-29
ES2114521T3 (es) 2000-01-16
CN1078132C (zh) 2002-01-23
NO976002D0 (no) 1997-12-19
CN1196701A (zh) 1998-10-21
EP0887182A1 (en) 1998-12-30
CZ292739B6 (cs) 2003-12-17
AU707872B2 (en) 1999-07-22
DE69714225T2 (de) 2003-03-27
AU2396697A (en) 1997-11-12
BR9702181A (pt) 1999-12-28
ATE183136T1 (de) 1999-08-15
WO1997039894A1 (en) 1997-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2153986C2 (ru) Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы
EP1024958B1 (en) Manufacture of lithographic printing forms
US6083662A (en) Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
US20020001771A1 (en) Article having imagable coatings
JPH10268512A (ja) ポジ型感光性組成物、ポジ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版の製版方法
EP1725402B1 (en) Thermally sensitive imageable element
JPH11190903A (ja) ポジ型感光性組成物、感光性平版印刷版及びポジ画像の形成方法
EP0864419A1 (en) Method for making positive working lithographic printing plates
US6777164B2 (en) Lithographic printing forms
US6352814B1 (en) Method of forming a desired pattern
JPH10282643A (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JPH10186649A (ja) 赤外感光性画像形成組成物、要素及び方法
US6248505B1 (en) Method for producing a predetermined resist pattern
EP1307341B1 (en) Lithographic printing form and method of preparation and use thereof
KR100277346B1 (ko) 열-감지조성물 및 이를 이용하여석판인쇄인화형을표시하는 방법
JPH11288089A (ja) ポジ型感光性組成物、ポジ型感光性平版印刷版及びポジ画像形成方法
JP2002023364A (ja) ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版
JP3802259B2 (ja) ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版
JPH10282652A (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JPH11327160A (ja) ポジ型感光体の現像方法及びそれに用いる現像液
JP2002072461A (ja) ポジ型感光性平版印刷版及びその製造方法
JP2002123002A (ja) ポジ型感光性平版印刷版の製版方法
JP2002123001A (ja) 現像補充液及びポジ型感光性平版印刷版の製版方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20050423