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KR20230075504A - Low-temperature solder, low-temperature solder manufacturing method and low-temperature solder coated lead wire - Google Patents

Low-temperature solder, low-temperature solder manufacturing method and low-temperature solder coated lead wire Download PDF

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KR20230075504A
KR20230075504A KR1020237014375A KR20237014375A KR20230075504A KR 20230075504 A KR20230075504 A KR 20230075504A KR 1020237014375 A KR1020237014375 A KR 1020237014375A KR 20237014375 A KR20237014375 A KR 20237014375A KR 20230075504 A KR20230075504 A KR 20230075504A
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KR
South Korea
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low
temperature solder
soldering
temperature
alloy
Prior art date
Application number
KR1020237014375A
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Korean (ko)
Inventor
모리히로 오카다
다카시 아라이
가쓰야 아라이
히로아키 아라이
미에코 스가와라
겐이치 고바야시
히데토시 고미야
쇼고 마쓰이
준 니시고리
나오히사 모리
료 도쿠다
Original Assignee
아토비무 유겐가이샤
모리히로 오카다
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Publication date
Application filed by 아토비무 유겐가이샤, 모리히로 오카다 filed Critical 아토비무 유겐가이샤
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Abstract

[목적] 본 발명은, 저온땜납, 저온땜납의 제조방법 및 저온땜납 피복 리드선에 관한 것으로서, Sn과, Bi, 혹은 Bi와 In 등의 합금으로 이루어지는 저온땜납에 있어서, Al, P, Sb, In 등의 1개 이상을 혼입해서 용융·합금화하고, 수지필름 위의 전극(알루미늄, 구리 등)에 납땜이 가능하고 또한 저렴한 저온땜납을 제공하는 것을 목적으로 한다.
[구성] Sn과, Bi, In, 혹은 Bi와 In의 합금인 모재에, Al, P, Sb, In(모재에 In이 포함되는 경우를 제외함) 중에서 1개 이상으로 이루어지는 주재료를, 합계 최대 3wt% 이하, 바람직하게는 1.0wt% 내지 1.5wt% 이하, 0.01wt% 이상을 혼입해서 용융·합금화하여, 밀착력을 증강한 저온땜납이다.
[Purpose] The present invention relates to low-temperature soldering, a method for manufacturing low-temperature soldering, and a low-temperature solder-coated lead wire, and in low-temperature soldering composed of Sn and Bi or an alloy of Bi and In, Al, P, Sb, In It is an object of the present invention to provide a low-temperature solder capable of being soldered to electrodes (aluminum, copper, etc.) on a resin film by incorporating one or more of these and melting/alloying them, and at a low cost.
[Construction] In a base material that is Sn, Bi, In, or an alloy of Bi and In, a main material composed of one or more of Al, P, Sb, and In (excluding cases in which In is contained in the base material) is used, and the total maximum It is a low-temperature solder whose adhesion is enhanced by mixing 3 wt% or less, preferably 1.0 wt% to 1.5 wt% or less, 0.01 wt% or more, melting and alloying.

Description

저온땜납, 저온땜납의 제조방법 및 저온땜납 피복 리드선Low-temperature solder, low-temperature solder manufacturing method and low-temperature solder coated lead wire

본 발명은, 태양전지기판이나 액정기판 등에 이용되는 수지필름에 사용되는 저온땜납, 저온땜납의 제조방법 및 저온땜납 피복 리드선에 관한 것이다.The present invention relates to low-temperature solder used for resin films used in solar cell substrates, liquid crystal substrates, and the like, methods for manufacturing low-temperature solder, and low-temperature solder-coated lead wires.

종래, 태양전지기판이나 액정기판 등의 전극에 대한 리드선(lead 線)의 납땜은 주석납 솔더링이 강도가 강한 점, 가격이 싼 점 등의 이유로 보다 많이 사용되고 있다.Conventionally, soldering of lead wires to electrodes such as solar cell substrates or liquid crystal substrates is more commonly used for reasons such as the strength of tin lead soldering and low price.

또한 알루미늄 등의 전극인 경우에는, 충분한 납땜강도가 얻어지지 않기 때문에 은 페이스트(銀 paste)를 도포·소결(塗布·燒結)해서 이 위에 리드선을 주석납 솔더링으로 납땜하고 있었다.Further, in the case of an electrode made of aluminum or the like, since sufficient soldering strength could not be obtained, silver paste was applied and sintered, and a lead wire was soldered thereon by tin lead soldering.

또한, 요즘은 공해 등의 관점으로부터 무연 솔더링(無鉛 soldering)의 요구가 강해지고 있다.Moreover, these days, the demand for lead-free soldering is becoming stronger from the viewpoints of pollution and the like.

또한, 유연성(柔軟性)이 있는 PET 등의 수지필름 위에 태양전지를 형성하고, 이 전극(알루미늄 전극, 구리전극 등)에 리드선을 저온납땜하는 요구가 발생하고 있다.In addition, there is a demand for forming a solar cell on a flexible resin film such as PET and soldering a lead wire to the electrode (aluminum electrode, copper electrode, etc.) at a low temperature.

종래의 무연 솔더링은, 주석납 솔더링과 비교하여, 강도가 요구강도에 조금 부족되거나 가격이 높아서 대체(代替)에 이르지 못하는 문제가 있었다.Compared to tin-lead soldering, conventional lead-free soldering has problems in that its strength is slightly less than the required strength or is expensive, so that it cannot be replaced.

또한, 수지필름 위에 형성된 태양전지 등에서는, 납땜온도가 지나치게 높다라는 문제가 발생했다.Further, in solar cells formed on resin films or the like, a problem that the soldering temperature is too high has arisen.

본 발명자들은, 무연 솔더링의 일종인 Sn과, Bi, In, 혹은 Bi와 In의 합금으로 이루어지는 저온땜납에 대해서, Al, P, Sb, In(모재(母材)가 In을 포함하는 때는 제외함) 등 1개 이상을 합계 최대 3wt%. 바람직하게는 1wt% 또는 1.5wt% 이하의 미량을 혼입(混入)해서 용융·합금화(溶融·合金化)한 저온땜납은 수지필름 등의 전극(알루미늄, 구리 등)에 극히 견고하게 납땜이 가능한 것을 발견했다.The inventors of the present invention, for low-temperature soldering composed of Sn, Bi, In, or an alloy of Bi and In, which is a type of lead-free soldering, Al, P, Sb, In (except when the base material contains In) ) up to 3 wt% in total of one or more such. Low-temperature solder, which is preferably melted and alloyed by mixing a trace amount of 1 wt% or 1.5 wt% or less, can be soldered extremely firmly to an electrode (aluminum, copper, etc.) such as a resin film. found.

그 때문에, 본 발명들은, Sn과, Bi, In, 혹은 Bi와 In의 합금으로 이루어지는 저온땜납에 있어서, Sn과, Bi, In, 혹은 Bi와 In의 합금인 모재에, Al, P, Sb, In(모재에 In이 포함되는 경우를 제외함) 중에서 1개 이상으로 이루어지는 주재료(主材料)를, 합계 최대 3wt% 이하, 바람직하게는 1.0wt% 내지 1.5wt% 이하, 0.01wt% 이상을 혼입해서 용융·합금화하여, 밀착력(密着力)을 증강하도록 하고 있다.Therefore, in the present invention, in low-temperature soldering composed of Sn, Bi, In, or an alloy of Bi and In, Al, P, Sb, In the main material consisting of one or more of In (excluding the case where In is contained in the base material), the total maximum of 3 wt% or less, preferably 1.0 wt% to 1.5 wt% or less, 0.01 wt% or more is mixed. It is melted and alloyed to enhance adhesion.

이 때, 용융·합금화한 후의 저온땜납의 용융온도는, 모재의 용융온도와 동일하거나 혹은 낮도록 하고 있다.At this time, the melting temperature of the low-temperature solder after melting/alloying is equal to or lower than the melting temperature of the base material.

또한, Al, P, Sb, In 중에서 1개 이상을 함유하는 합금으로 이루어지는 부재료(副材料)를, 필요에 따라 모재에 혼입해서 용융·합금화되도록 하고 있다.In addition, an auxiliary material made of an alloy containing at least one of Al, P, Sb, and In is incorporated into the base material as necessary to melt and alloy it.

또한, 부재료의 합금으로서 Cu와 P의 합금으로 되도록 되어 있다.In addition, as an alloy of sub-materials, it is intended to be an alloy of Cu and P.

또한, 모재에, 주재료로서 Al, CuP, 필요에 따라 In을, 합계 최대 3wt% 이하, 바람직하게는 1.0wt% 내지 1.5wt% 이하, 0.1wt% 이상을 혼입해서 용융·합금화되도록 하고 있다.Further, in the base material, Al, CuP, and, if necessary, In as the main material are incorporated in a total maximum of 3 wt% or less, preferably 1.0 wt% to 1.5 wt% or less, and 0.1 wt% or more, so that they are melted and alloyed.

또한, 모재, 주재료, 부재료를 일괄로 혹은 복수로 분할하여 혼합해서 용융·합금화되도록 하고 있다.In addition, the base material, the main material, and the sub-material are mixed together or divided into a plurality of parts to be melted and alloyed.

또한, 태양전지기판, 액정기판(수지필름)의 전극에 리드선을 납땜하는 것에 사용하도록 하고 있다.In addition, it is intended to be used for soldering lead wires to electrodes of solar cell substrates and liquid crystal substrates (resin films).

또한, 상기 저온땜납을 선재(線材)와 리본의 표면에 용융도포하도록 하고 있다.In addition, the low-temperature solder is melted and applied to the surface of the wire rod and the ribbon.

또한, 용융도포는 초음파를 인가한 상태에서 용융도포하도록 하고 있다.In addition, melt coating is performed in a state in which ultrasonic waves are applied.

본 발명은, 상기한 바와 같이 Sn과, Bi, In, 혹은 Bi와 In의 합금으로 이루어지는 저온땜납에 대해서, Al, P, Sb, In(모재가 In을 포함하는 때는 제외함) 등 1개 이상을 합계 최대 3wt%. 바람직하게는 1wt% 내지 1.5wt% 이하의 미량을 혼입해서 용융·합금화한 저온땜납은 수지필름 등의 전극(알루미늄, 구리 등)에 극히 견고하게 납땜이 가능하고, 특히 Sn과 Bi의 저온땜납은 매우 싸게 제조될 수 있었다.As described above, the present invention relates to a low-temperature solder composed of Sn, Bi, In, or an alloy of Bi and In, including at least one of Al, P, Sb, and In (except when the base material contains In). Total up to 3wt%. Preferably, the low-temperature solder melted and alloyed by incorporating a trace amount of 1 wt% to 1.5 wt% or less can be soldered extremely firmly to an electrode (aluminum, copper, etc.) such as a resin film. In particular, low-temperature solder of Sn and Bi It could be manufactured very cheaply.

또한, 용융·합금화한 후의 저온땜납의 용융온도는, 모재의 용융온도와 동일하거나 혹은 낮아져, 혼입에 의한 용융온도의 상승을 없앨 수 있었다.In addition, the melting temperature of the low-temperature solder after melting/alloying was equal to or lower than the melting temperature of the base material, so that an increase in the melting temperature due to mixing could be eliminated.

또한, Al, P, Sb, In(모재에 In이 포함되는 경우는 제외함) 등의 1개 이상을 혼입해서 용융·합금화하여 저온땜납을 제조함으로써, 납땜 대상에 대한 밀착강도를 대폭적으로 증강할 수 있었다.In addition, by mixing one or more of Al, P, Sb, In (except when In is included in the base material), melting and alloying to produce low-temperature solder, the adhesion strength to the soldering target can be significantly increased. could

[도1] 본 발명의 저온땜납제조 설명도이다.
[도2] 본 발명의 저온땜납재료 제조장치의 설명도이다.
[도3] 본 발명의 리드선의 저온납땜 설명도이다.
[도4] 본 발명의 저온납땜 설명도이다.
[도5] 본 발명의 저온땜납의 조성례(組成例)이다.
[도6] 본 발명의 저온땜납의 시작례(試作例)이다.
[도7] 본 발명의 저온땜납의 납땜례이다.
[도8] 본 발명의 저온땜납의 납땜례(금속-금속)이다.
[도9] 본 발명의 PET필름 접합례이다.
[도10] 본 발명의 저온땜납의 부재실험례(敷材實驗例)이다.
[도11] 본 발명의 저온땜납의 접합 테스트 결과예이다.
[도12] 본 발명의 초음파출력의 부재실험례(예비가열 없음)이다.
[도13] 본 발명의 저온땜납의 온도 사이클 시험예이다.
[Fig. 1] An explanatory diagram of low-temperature solder manufacturing according to the present invention.
Fig. 2 is an explanatory diagram of the low-temperature solder material manufacturing apparatus of the present invention.
[Fig. 3] An explanatory diagram of low-temperature soldering of the lead wire of the present invention.
[Fig. 4] An explanatory diagram of the low-temperature soldering of the present invention.
[Fig. 5] is a composition example of the low-temperature solder of the present invention.
[Fig. 6] This is a trial example of the low-temperature soldering of the present invention.
[Fig. 7] An example of low-temperature soldering according to the present invention.
[Fig. 8] An example of low-temperature soldering (metal-metal) of the present invention.
[Fig. 9] An example of bonding the PET film of the present invention.
[Fig. 10] An experimental example of the low-temperature solder of the present invention.
[Fig. 11] An example of a bonding test result of the low-temperature solder of the present invention.
[Fig. 12] is an experimental example of the absence of ultrasonic output (without preheating) of the present invention.
[Fig. 13] An example of a temperature cycle test of the low-temperature solder of the present invention.

[실시예1][Example 1]

도1은 본 발명의 저온땜납제조 설명도를 나타낸다.1 shows an explanatory diagram of low-temperature solder manufacturing of the present invention.

도1의 (a)는 플로우 차트를 나타내고, 도1의 (b)는 재료예를 나타낸다.Fig. 1 (a) shows a flow chart, and Fig. 1 (b) shows a material example.

도1의 (a)에 있어서, S1은 모재와 주재료를 준비한다. 이는 도1의 (b)의 재료예에 나타내는 하기(下記)의 재료를 준비한다.In Fig. 1 (a), S1 prepares a base material and a main material. This prepares the following material shown in the material example of Fig. 1(b).

·모재 : Sn42, Bi58 Base material: Sn42, Bi58

·주재료 : Al, GuP, In ·Main materials: Al, GuP, In

여기에서, 모재는 본 발명의 저온땜납을 형성하는 합금의 기본이 되는 재료(모재)로서, 예를 들어 Sn이 42wt%이고, Bi가 58wt%(용융온도 139℃)를 하나로 하여 사용했다. Sn, Bi의 중량비는 합금을 작성(作成)할 수 있는 범위에서 임의, 예를 들어 Bi가 3wt% 내지 58wt%이고, 나머지를 Sn으로 하면 좋다. 어느 비율로 할지는 용융온도(Bi가 많을수록 저온이 되어, 58wt%인 때에 용융온도 139℃) 등을 실험해서 원하는 값이 되도록 적절하게 비율을 선택하면 좋다. 또한, 다른 저온땜납, Sn-In계, Sn-Bi-In계에 관해서도 동일하게 도5와 그 설명에 기재한 것 같이 적절하게 비율을 선택하면 좋다.Here, the base metal is a material (base metal) that is the basis of the alloy forming the low-temperature solder of the present invention, and, for example, Sn is 42 wt% and Bi is 58 wt% (melting temperature: 139° C.). The weight ratio of Sn and Bi is arbitrary within the range in which an alloy can be formed, for example, Bi is 3 wt% to 58 wt%, and the rest may be Sn. Which ratio should be selected appropriately so as to reach the desired value by experimenting with the melting temperature (the more Bi, the lower the temperature, and the melting temperature is 139 ° C. at 58 wt%). In addition, as for other low-temperature solders, Sn-In type, and Sn-Bi-In type, as described in Fig. 5 and the description thereof, the ratio may be appropriately selected.

또한, 주재료는, 납땜 시에 피납땜 대상의 표면의 산화막 제거, 밀착성, 흡습성(吸濕性), 유동성(流動性), 점성(粘性) 등 납땜에 영향을 끼치는 재료로서, 본 발명에서는 주재료의 총량이 최대 3wt% 이하, 바람직하게는 1wt% 내지 1.5wt% 이하, 0.01wt% 이상으로 하는 재료이다. 여기에서는, Al(피납땜 대상의 밀착성), P(또는 CuP, 피납땜 대상의 산화막 제거, 밀착성), In(흡습성, 유동성), Sb(밀착성)의 하나 이상을 혼합해서 용융·합금화하는 대상의 재료이다. 또한, 주재료는, 총량이 최대 3wt% 이하, 바람직하게는 1wt% 내지 1.5wt% 이하, 0.01wt% 이상의 미량과 더불어, 모재에 주재료를 혼합해서 용융·합금화한 후의 저온땜납의 용융온도는 모재의 용융온도와 같거나 혹은 약간 낮다(예를 들어 1℃ 내지 3℃ 정도 낮다). 이는 주재료의 총량이 모재에 대하여 최대 3wt% 이하, 바람직하게는 1wt% 내지 1.5wt% 이하의 미량인 것으로써, 모재의 골격내로 들어가 재골격 구성되는 것으로 추측된다.In addition, the main material is a material that affects soldering, such as removal of oxide film on the surface of the object to be soldered, adhesion, hygroscopicity, flowability, and viscosity during soldering. In the present invention, the main material It is a material whose total amount is at most 3 wt% or less, preferably 1 wt% to 1.5 wt% or less, and 0.01 wt% or more. Here, one or more of Al (adhesion to a target to be soldered), P (or CuP, oxide film removal to a target to be soldered, adhesion), In (hygroscopicity, fluidity), and Sb (adhesion) is mixed to form an object to be melted and alloyed. It is a material. In addition, the total amount of the main material is at most 3 wt% or less, preferably 1 wt% to 1.5 wt% or less, and a trace amount of 0.01 wt% or more, and the melting temperature of the low-temperature solder after melting and alloying the main material is mixed with the base material. The same as or slightly lower than the melting temperature (eg, 1 ° C to 3 ° C lower). This is presumed to be that the total amount of the main material is a very small amount of up to 3 wt% or less, preferably 1 wt% to 1.5 wt% or less with respect to the base material, and enters into the skeleton of the base material to be re-skeletonized.

S2는 모재에 대하여 주재료를 혼합한다. 이는 S1에서 준비된 모재에 주재료를 혼합한다.S2 mixes the main material with respect to the base material. This mixes the main material with the base material prepared in S1.

S3은 모재와 주재료가 용융해서 합금화된다. 이는 S2에서 모재에 주재료를 혼합하고 가열하고 용융하고 잘 교반(攪拌)하여 합금화시킨다. 이 때, 주재료가 공기중의 산소로 산화되어버려 합금화가 곤란한 경우 등의 경우에는, 필요에 따라 불활성가스(예를 들어 질소가스)를 도가니내에 불어 넣거나 혹은 불활성가스를 충족시킨 용융로나 진공용융로를 추가로 사용한다.In S3, the base material and the main material are melted and alloyed. In S2, the main material is mixed with the base material, heated, melted, and well stirred to form an alloy. At this time, if the main material is oxidized by oxygen in the air and alloying is difficult, etc., inert gas (for example, nitrogen gas) is blown into the crucible as necessary, or a melting furnace or vacuum melting furnace filled with inert gas is used. use additional

S4는 저온땜납재료가 완성된다.In S4, the low-temperature solder material is completed.

이상에 의하여 모재와 주재료를 준비하고 이들을 혼합하여 용융·합금화함으로써, 본원 발명에 관한 저온땜납(Sn-Bi계, Sn-In계, Sn-Bi-In계의 저온땜납)을 제조할 수 있다. 이하에서 순차적으로 상세하게 설명한다.By preparing a base material and a main material as described above, mixing them and melting/alloying them, the low-temperature solder (Sn-Bi-based, Sn-In-based, or Sn-Bi-In-based low-temperature solder) according to the present invention can be produced. It will be described in detail sequentially below.

도2는 본 발명의 저온땜납재료 제조장치의 설명도를 나타낸다.Fig. 2 shows an explanatory diagram of the low-temperature solder material manufacturing apparatus of the present invention.

도2에 있어서, 땜납재료(1)는 기술(旣述)한 도1의 S1에서 준비된 모재와 주재료로서, 여기에서는 금속의 파편(조분쇄(粗粉碎)된 것)이다.In Fig. 2, the solder material 1 is a base material and a main material prepared in S1 of Fig. 1, which are metal fragments (roughly pulverized) here.

땜납재료 투입접시(2)는 땜납재료(1)를 실어서 용융로(3)에 투입하는 것이다.The solder material input tray 2 loads the solder material 1 and puts it into the melting furnace 3.

용융로(3)는, 히터(4) 등으로 가열하고, 내부에 땜납재료(1)를 투입하고, 모재와 주재료를 용융하고, 교반하여 합금화하기 위한 것이다. 용융로(3)는, 보통은 대기(大氣) 중에서 내부에 투입된 모재와 주재료를 용융하고 교반하여 합금화한다. 이 때, 필요에 따라 불활성가스(질소가스등)를 불어 넣거나 하여 공기중의 산소에 의한 산화를 저감하거나, 또한 필요에 따라 밀폐해서 불활성가스를 충만(혹은 진공배기)한다.The melting furnace 3 is for heating with a heater 4 or the like, injecting the solder material 1 into the inside, melting the base material and the main material, and stirring them to form an alloy. The melting furnace 3 melts and stirs the base material and the main material introduced into the inside in normal atmosphere to form an alloy. At this time, if necessary, inert gas (such as nitrogen gas) is blown in to reduce oxidation due to oxygen in the air, or if necessary, it is sealed and filled with inert gas (or vacuum exhausted).

이상과 같이 하여, 도1의 S1에서 준비된 모재와 주재료를 혼합해서 용융로(3)에서 용융하고, 교반해서 합금화하여, 본원 발명의 저온땜납(Sn-Bi계, Sn-In계, Sn-Bi-In계의 저온땜납)을 제조할 수 있다.As described above, the base material and the main material prepared in S1 of FIG. 1 are mixed, melted in the melting furnace 3, stirred and alloyed, and the low-temperature solder (Sn-Bi-based, Sn-In-based, Sn-Bi- Indium-based low-temperature solder) can be manufactured.

도3은 본 발명의 리드선의 저온납땜 설명도를 나타낸다.Fig. 3 shows a low-temperature soldering explanatory diagram of the lead wire of the present invention.

도3의 (a)는 플로우 차트를 나타내고, 도3의 (b)는 기판/리드선의 예를 나타낸다.Fig. 3(a) shows a flow chart, and Fig. 3(b) shows an example of a substrate/lead wire.

도3의 (a)에 있어서, S11은 초음파로 저온땜납을 기판에 패턴의 예비납땜을 실시한다. 이는 예를 들어 태양전지기판(PET판 0.1mmt 등)에, 이제부터 납땜하려고 하는 부분(패턴)에, 본원 발명의 저온땜납(도1의 S4에서 제조된 저온땜납)을 초음파 납땜인두의 인두팁에 공급해서 용융하고, 또한 초음파를 인가해서 기판상의 상기 패턴부분에 납땜(초음파 예비납땜이라고 함)을 미리 실시한다.In (a) of FIG. 3, S11 performs pre-soldering of a low-temperature solder pattern on a substrate by means of ultrasonic waves. This is, for example, a solar cell board (PET plate 0.1 mmt, etc.), a part (pattern) to be soldered from now on, and the low-temperature solder of the present invention (low-temperature solder prepared in S4 in FIG. 1) is applied to the tip of an ultrasonic soldering iron. It is supplied and melted, and ultrasonic waves are applied to solder the pattern portion on the substrate (referred to as ultrasonic pre-soldering) in advance.

S12는 리드선을 초음파 있는 납땜, 또는 초음파 없이 납땜한다. 이는 S11에서 예를 들어 태양전지기판(PET판)의 전극(예를 들어 알루미늄박) 위에 초음파 예비납땜된 부분(패턴)에, 리드선을 따라서 그 위에 초음파를 인가하면서 혹은 초음파를 인가하지 않고, 본원 발명의 저온땜납을 용융해서 리드선을 납땜한다. 또한, 저온땜납이 리드선에 미리 예비납땜되어 있을 때는 땜납의 공급은 불필요하다.S12 solders lead wires with or without ultrasonic waves. In S11, for example, the ultrasonic pre-soldered portion (pattern) on the electrode (eg, aluminum foil) of the solar cell substrate (PET plate) is applied along the lead wire or without ultrasonic waves applied thereon. The lead wire is soldered by melting the low-temperature solder of the present invention. Further, supply of solder is unnecessary when low-temperature solder is pre-soldered to the lead wire in advance.

이상에 의하여, 납땜 대상의 부분(예를 들어 태양전지의 기판(PET판)의 전극부분(알루미늄 부분))에 초음파를 사용해서 본원 발명의 저온땜납의 예비납땜을 실시하고(S11), 예비납땜을 실시한 부분(패턴) 위에 본원 발명의 저온땜납을 사용해서 리드선을 초음파 납땜하거나 혹은 초음파 없이 납땜(S12)하는 것에 의하여, 종래의 납땜이 불가(不可)한 태양전지 기판의 전극부분(알루미늄박 부분) 등에, 초음파가 있는 예비납땜하고 그 위에 리드선을 초음파 납땜 혹은 초음파 없이 납땜하는 것이 가능하다.As a result of the above, pre-soldering of the low-temperature solder of the present invention is performed on the part to be soldered (for example, the electrode part (aluminum part) of the substrate (PET plate) of the solar cell) using ultrasonic waves (S11), and the pre-soldering The electrode part (aluminum foil part) of the solar cell substrate, which is impossible to solder in the prior art, by ultrasonically soldering the lead wire using the low-temperature solder of the present invention or soldering (S12) without ultrasonic waves on the part (pattern) applied. ), etc., it is possible to pre-solder with ultrasonic waves and solder the lead wires thereon with ultrasonic soldering or without ultrasonic soldering.

또한, 초음파 납땜은 10W 이하, 보통은 1W 내지 3W 정도로 초음파 납땜을 하고 있다. 강하면 태양전지기판 위에 형성된 막(예를 들어 질화막)이나 기판 표면의 결정(結晶)을 손상하기 때문에 강하게 하지는 않는다.In addition, ultrasonic soldering is performed at 10 W or less, usually at about 1 W to 3 W. If it is strong, the film formed on the solar cell substrate (for example, nitride film) or the crystal on the surface of the substrate is damaged, so it is not strengthened.

도3의 (b)는 기판/리드선의 예를 나타낸다.Figure 3(b) shows an example of the substrate/lead wire.

도3의 (b)에 있어서, 기판은 PET 등의 내열성(耐熱性)이 있는 수지기판(예를 들어 0.1mm 두께 정도의 유연성이 있는 수지기판)으로서, 통상의 납땜에서는 납땜이 극히 곤란한 기판의 예이다. 이들 기판의 전극(알루미늄 전극, 구리전극 등)이 되는 부분(패턴)에 대해서, 본원 발명의 밀착성을 갖게 하는 저온땜납을 초음파 예비납땜한다. 그리고, 이 예비납땜된 부분(패턴)에 리드선을 초음파 납땜하거나 혹은 초음파 없이 납땜함으로써, 리드선을 기판(알루미늄 전극, 구리전극)에 납땜할 수 있다.In FIG. 3(b), the substrate is a heat-resistant resin substrate such as PET (for example, a flexible resin substrate having a thickness of about 0.1 mm), which is extremely difficult to solder in normal soldering. Yes. The low-temperature solder that imparts the adhesion of the present invention is pre-soldered by ultrasonic waves to the portions (patterns) serving as electrodes (aluminum electrodes, copper electrodes, etc.) of these substrates. Then, the lead wire can be soldered to the board (aluminum electrode, copper electrode) by ultrasonically soldering the lead wire to this pre-soldered portion (pattern) or by soldering without ultrasonic wave.

또한, 리드선은, 기판 위의 전극부분(패턴)에, 본원 발명의 밀착성을 갖게 하는 저온땜납을 사용해서 납땜하는 리드선으로서, 와이어(wire)(원형의 동선(銅線)에 본원 발명의 저온땜납을 땜납도금(초음파 땜납도금)한 와이어로서, 조금 타원으로 찌그러뜨려 두면 납땜하기 쉽다), 리본(구리의 얇은 판을 1mm 정도 폭으로 자른 리본에 본 발명의 저온땜납을 미리 땜납도금(초음파 땜납도금)해 둔) 등이다.In addition, the lead wire is a lead wire soldered to an electrode part (pattern) on a substrate using the low-temperature solder that gives the adhesion of the present invention, and the wire (circular copper wire of the present invention is soldered to the low-temperature solder A wire that has been solder-plated (ultrasonic solder plating), and it is easy to solder if it is slightly crushed into an ellipse), ribbon (a thin copper plate cut into a width of about 1 mm, and the low-temperature solder of the present invention is pre-solder plated (ultrasonic solder plating) ), and so on.

도4는 본 발명의 저온납땜 설명도를 나타낸다.Fig. 4 shows a low-temperature soldering explanatory diagram of the present invention.

도4의 (a)는 예비납땜례를 나타내고, 도4의 (b)는 리본 또는 와이어의 납땜례를 나타낸다.Fig. 4(a) shows an example of pre-soldering, and Fig. 4(b) shows an example of ribbon or wire soldering.

도4의 (a)에 있어서, 기판(예: PET판 0.1mmt)(11)은 여기에서는 태양전지기판의 예로서, 상기 기판(11)의 예를 들면 이면(裏面)의 전체면에 알루미늄막(박)(12)을 형성한 것이다.In (a) of FIG. 4, the substrate (e.g., PET sheet 0.1 mmt) 11 is an example of a solar cell substrate, and an aluminum film is formed on the entire surface of the back surface of the substrate 11, for example. (Park) (12) was formed.

알루미늄막(박)(12)은, 태양전지기판인 도시(圖示)의 기판(PET판)(11)의 이면의 전체면에 알루미늄막(박)을 형성(접착, 증착 등)한 전극(알루미늄 전극)이다.The aluminum film (foil) 12 is an electrode formed by forming (adhering, evaporating, etc.) an aluminum film (foil) on the entire surface of the back surface of the illustrated substrate (PET plate) 11, which is a solar cell substrate. aluminum electrode).

초음파 납땜인두팁(13)은 도시 외의 초음파발생기로부터 초음파를 인가하면서 가열되는 납땜인두팁이다.The ultrasonic soldering iron tip 13 is a soldering iron tip heated while applying ultrasonic waves from an ultrasonic generator not shown.

저온땜납(14)은 본 발명의 저온땜납(도1의 S4에서 제조된 저온땜납)이다.The low-temperature solder 14 is the low-temperature solder of the present invention (the low-temperature solder produced in S4 in Fig. 1).

다음에 납땜동작을 설명한다.The soldering operation will be explained next.

(1)기판(11)을 예비가열대 위에 반송(搬送)하고 진공흡착하고 고정하여 예비가열한다(예를 들어 130℃ 정도로 예비가열한다).(1) The substrate 11 is transferred onto a preheating table, vacuum adsorbed, fixed, and preheated (for example, preheated to about 130°C).

(2)알루미늄막(박)(12)의 위에 형성되는 전극의 패턴(직사각형모양의 패턴)의 시작점으로부터 종료점을 향해서, 도시의 초음파 납땜인두팁(13)에 저온땜납(14)을 자동공급하고 용융하면서 초음파를 인가하고 상기 알루미늄막(박)(12) 위를 문지르지 않을 정도로 근접시킨 상태에서 일정속도로 이동시켜서, 알루미늄막(박)(12) 위에 직사각형모양의 예비납땜 패턴을 형성한다.(2) From the starting point to the ending point of the electrode pattern (rectangular pattern) formed on the aluminum film (foil) 12, low-temperature solder 14 is automatically supplied to the illustrated ultrasonic soldering iron tip 13 and melted. While applying ultrasonic waves, the aluminum film (foil) 12 is moved at a constant speed in a state close enough not to be rubbed to form a rectangular pre-soldering pattern on the aluminum film (foil) 12.

이상에 의하여, 본원 발명의 저온땜납(14)을 알루미늄막(박)(12)의 위에 소정 패턴의 예비납땜 패턴을 저온납땜할 수 있다.As a result of the above, it is possible to low-temperature solder the low-temperature solder 14 of the present invention onto the aluminum film (foil) 12 in a predetermined pattern of pre-soldering.

도4의 (b)는 리본 또는 와이어의 저온납땜례를 나타낸다.Figure 4(b) shows an example of low-temperature soldering of a ribbon or wire.

도4의 (b)에 있어서, 초음파 납땜인두팁(13-1)은, 초음파발생기(도면에 나타내지 않음)로부터 초음파를 인가하면서 혹은 초음파를 인가하지 않고 가열되는 납땜인두팁이다.In Fig. 4(b), the ultrasonic soldering iron tip 13-1 is a soldering iron tip that is heated with or without applying ultrasonic waves from an ultrasonic generator (not shown).

저온땜납 부착 리본 또는 와이어(15)는, 리본 또는 와이어에 본원 발명의 저온땜납을 미리 예비납땜한 것이다. 또한, 와이어(15)는 타원형으로 조금 변형시킨 쪽이 납땜성이 양호하다.The low-temperature soldering ribbon or wire 15 is obtained by pre-soldering the low-temperature solder of the present invention to the ribbon or wire. Further, solderability is better when the wire 15 is slightly deformed into an elliptical shape.

다음에서 리본 또는 와이어의 예비납땜 패턴부분에 대한 납땜동작을 설명한다.Next, a soldering operation for the pre-soldering pattern portion of the ribbon or wire will be described.

(1)도4의 (a)와 마찬가지로 기판(11)을 예비가열한다.(1) The substrate 11 is preheated as in FIG. 4(a).

(2)기판(11) 위(이면)의 알루미늄막(박)(12) 부분에 형성된 예비납땜 패턴부분을 따라 배치된 저온땜납 부착 리본 또는 와이어(15)에 대해서, 위로부터 초음파 있는 또는 초음파 없는 납땜인두팁(13-1)으로 가볍게 누르면서 도시의 우측방향으로 일정속도로 이동시켜, 저온땜납 부착 리본 또는 와이어(15)의 땜납을 용융해서 예비납땜 패턴부분에 납땜한다.(2) Regarding the ribbon or wire 15 with low-temperature solder disposed along the portion of the pre-soldering pattern formed on the aluminum film (foil) 12 portion on the upper (rear surface) of the substrate 11, with or without ultrasonic waves, from above While lightly pressing with the soldering iron tip 13-1, it is moved at a constant speed in the right direction in the drawing to melt the solder of the low-temperature soldering ribbon or wire 15 and solder it to the pre-soldering pattern portion.

이상에 의하여, 본원 발명의 저온땜납(14)을 미리 예비납땜된 리본 또는 와이어(15)를 알루미늄막(박)(12) 위의 예비납땜 패턴부분에 납땜할 수 있다.As a result, the ribbon or wire 15 pre-soldered with the low-temperature solder 14 of the present invention can be soldered to the pre-soldering pattern portion on the aluminum film (foil) 12.

또한, 본 발명의 초음파 있는 납땜이나 초음파 없는 납땜의 양부(良否)는, 리본 또는 와이어를 납땜 대상부분에 초음파 있는 납땜이나 혹은 초음파 없는 납땜을 실시하고, 리본 또는 와이어를 잡아 당겨서 기판 등이 깨지는 힘(휘어지는 힘, 약 2∼5Kg 정도)보다 약간 약한 힘으로 인장(引張)하여 기판 등으로부터 박리되지 않을 때에 양호, 박리되었을 때에 불량으로 판정한다.In addition, the quality of the soldering with ultrasonic waves or the soldering without ultrasonic waves of the present invention is that the ribbon or wire is subjected to ultrasonic soldering or ultrasonic-less soldering to the part to be soldered, and the force of pulling the ribbon or wire to break the board or the like (Bending force, about 2 to 5 Kg), it is judged as good when it is not peeled off from the substrate or the like by pulling with a force slightly weaker, and when it is peeled off, it is judged as bad.

도5는 본 발명의 저온땜납의 조성례를 나타낸다.5 shows a composition example of the low-temperature solder of the present invention.

도5에 있어서 모재와 주재료는 도1에서 설명한 모재와 주재료의 구별이다.In FIG. 5, the base material and the main material are the distinction between the base material and the main material described in FIG.

조성례는 모재와 주재료의 조성례이다.The composition example is the composition example of the parent material and the main material.

wt% 예는 모재와 주재료의 조성의 wt%의 예이다.The wt% example is an example of the wt% of the composition of the parent material and the main material.

wt% 범위는 모재와 주재료의 조성의 wt%의 범위예이다.The wt% range is an example of the range of wt% of the composition of the base material and the main material.

도5에 도시의 하기와 같이 조성례, wt% 예, wt% 범위가 된다.As shown in Figure 5, the composition example, wt% example, wt% range.

모재 주재료 비고(융점 예) parent material main ingredient Remarks (example of melting point)

조성례 Sn-Bi합금 Al P Sb In 융점: 예139℃ Cho Sung-rye Sn-Bi alloy Al P Sb In Melting Point: Yes 139°C

(In은 모재에 포함되는 경우는 제외함) (Excluding cases where In is included in the base material)

Sn-In합금 융점: 예120℃ Sn-In alloy Melting Point: Yes 120℃

SnBi-In합금 융점: 예90℃ SnBi-In alloy Melting Point: Yes 90℃

wt%예 Sn Bi In Al CuP8 Sb In wt%yes Sn Bi In Al CuP8 Sb In

42 58 -- 0.5 0.5 0.5 0.5 42 58 -- 0.5 0.5 0.5 0.5

52 -- 48 0.5 0.5 0.5 0.5 52 - 48 0.5 0.5 0.5 0.5

A A/2 A 0.5 0.5 0.5 0.5 A A/2 A 0.5 0.5 0.5 0.5

wt%범위 0.1 미량 0.1 0.1 wt% range 0.1 trace amount 0.1 0.1

| |(P) | | | |(P) | |

1.0 0.1 1.0 1.0 1.0 0.1 1.0 1.0

총량: 최대3wt%, 바람직하게 1.0wt%-1.5wt% 이하 Total amount: maximum 3wt%, preferably 1.0wt%-1.5wt% below

여기에서, 조성례로서, 시작(試作)에서 모재는 도시의 Sn42wt%, Bi58wt%를 사용했다. 또한, 조성범위는, 저온땜납합금(Sn-Bi계, Sn-In계, Sn-Bi-In계 땜납합금)이 작성가능(作成可能)한 범위에서 안정이면 좋고, 예를 들어 Sn-Bi계 땜납합금은 Bi3wt% 내지 58wt%이고 나머지를 Sn으로 한 것으로 좋고, 작성(作成)된 저온땜납합금(모재)의 용융온도 등을 실측(實測)하여 실험에 의해 적절하게 선택하면 좋다. Here, as a composition example, Sn42wt% and Bi58wt% in the city were used as base materials in the trial production. In addition, the composition range may be stable within a range in which low-temperature solder alloys (Sn-Bi-based, Sn-In-based, and Sn-Bi-In-based solder alloys) can be created, for example, Sn-Bi-based The solder alloy may contain 3 wt% to 58 wt% of Bi and the balance of Sn, and may be appropriately selected through experiments by actually measuring the melting temperature of the prepared low-temperature solder alloy (base material).

주재료로서 Al.P(또는 CuP8), In, Bi, Sb 등이 있지만, P은 시작에서는 P(적린)과 CuP8 합금(P이 8wt%이고 나머지가 Cu인 합금, P의 wt%는 CuP8의 8%가 되는 인화구리)을 사용했다. P의 경우에는 약 0.1wt%(또는 CuP8의 경우에는 약 P=0.16wt%)에서 포화되고, 추가로 첨가하면 점성이 대폭적으로 증대해버린다. 이 때문에 유동성, 흡습성 등을 확보하는 통상의 사용에는, P의 포화 이하의 첨가를 실시하는 것이 바람직하다(P의 첨가량은 다른 재료에 비해 10분의 1 정도(바람직하게는 0.1wt% 내지 0.01wt% 정도)가 좋다). 마찬가지로, 다른 주재료에도 그런 경향이 있으므로 필요에 따라 실험에 의해 적당한 첨가량을 정하면 좋다.There are Al.P (or CuP8), In, Bi, Sb, etc. as the main materials, but P is an alloy of P (red phosphorus) and CuP8 at the beginning (an alloy in which P is 8wt% and the rest is Cu, the wt% of P is 8% of CuP8 Phosphate copper) was used. In the case of P, it is saturated at about 0.1 wt% (or about P = 0.16 wt% in the case of CuP8), and when added further, the viscosity increases significantly. For this reason, in normal use to ensure fluidity, hygroscopicity, etc., it is preferable to add less than saturation of P (the amount of P added is about 1/10 compared to other materials (preferably 0.1 wt% to 0.01 wt%). %) is good). Similarly, since other main ingredients tend to do the same, it is good to determine an appropriate amount of addition by experiment as necessary.

또한, 주재료의 총량은 최대 3wt% 이하, 바람직하게는 1wt% 내지 1.5wt% 이하, 0.1wt% 이상이 바람직하다. 이 범위내의 주재료의 첨가에서는 모재의 용융온도와 거의 동일하거나 혹은 조금 낮은 정도이다.In addition, the total amount of the main material is at most 3 wt% or less, preferably 1 wt% to 1.5 wt% or less, and preferably 0.1 wt% or more. In the addition of the main material within this range, it is almost the same as or slightly lower than the melting temperature of the base material.

도6은 본 발명의 저온땜납의 시작례를 나타낸다. 도시는 다수를 시작(試作)한 중에서, 기술(旣述)한 도4의 납땜에 사용이 가능한 것의 예를 나타낸다. 사용이 불가한 것은 생략했다.6 shows a trial example of the low-temperature soldering of the present invention. The illustration shows an example of one that can be used for the soldering shown in FIG. Those that cannot be used are omitted.

도6에 있어서, 본 발명의 저온땜납(도1의 S4에서 제조된 저온땜납)의 모재는,6, the base material of the low-temperature solder (low-temperature solder manufactured in S4 of FIG. 1) of the present invention is

·Sn52/In48(융점: 120℃) ・Sn52/In48 (melting point: 120℃)

·Sn42/Bi58(융점: 139℃) ・Sn42/Bi58 (melting point: 139℃)

·Sn48/Bi52(융점: ) ・Sn48/Bi52 (melting point: )

·Sn40/In40/Bi20(융점: 90℃)의 4 종류를 사용했다. · Four types of Sn40/In40/Bi20 (melting point: 90°C) were used.

주재료는 Al, CuP8, In(각 0.5wt%)의 금속재료를 사용했다. CuP8은 P이 8wt%이고 나머지가 Cu인 인화구리를 사용했다.Metal materials of Al, CuP8, and In (0.5 wt% each) were used as the main materials. CuP8 used phosphide copper with 8 wt% P and the rest Cu.

샘플 No는 시작한 샘플의 번호이다.Sample No is the number of the starting sample.

이상의 시작 샘플에 대해서, 기술한 도5의 초음파 납땜과 무초음파 납땜을 하여 양호한 것만을 기재했다. 납땜이 불가한 것은 생략했다. 결과를 도7에 나타낸다.Regarding the above prototype samples, only good ones were described by ultrasonic soldering and non-ultrasonic soldering of FIG. 5 described above. Those that cannot be soldered are omitted. The results are shown in Figure 7.

도7은 본 발명의 저온땜납의 납땜례를 나타낸다. 여기 도7 중에서,Fig. 7 shows an example of low-temperature soldering according to the present invention. Here in Figure 7,

·초음파는, 초음파 있는 납땜과 초음파 없는 납땜의 구별이다. ·Ultrasonic is a distinction between soldering with ultrasonic waves and soldering without ultrasonic waves.

·납땜 대상물은, 본 발명의 도7의 저온땜납의 샘플을 사용해서 납땜하는 대상의 재료로서, Al판(0.1mmt), Cu판(0.1mmt), Cu선(0.3mm

Figure pct00001
내지 0.4mm
Figure pct00002
)/리본(100μmt, 50μmt, 30μmt), Si웨이퍼(0.2mmt)의 구별이다.・The object to be soldered is a material to be soldered using the low-temperature solder sample of FIG.
Figure pct00001
to 0.4 mm
Figure pct00002
)/ribbon (100 μmt, 50 μmt, 30 μmt) and Si wafer (0.2 mmt).

·◎는, 본 발명의 저온땜납의 납땜 대상물에 대한 밀착 우량 (0.4mm

Figure pct00003
의 주석도금선을 납땜하고 잡아 당겼을 때에 Si웨이퍼가 깨어지는 힘(인장강도 약 1kg 내지 5kg 정도)보다 약간 약한 힘)을 나타낸다.◎ indicates the excellent adhesion of the low-temperature solder of the present invention to the object to be soldered (0.4 mm
Figure pct00003
It shows a force that is slightly weaker than the force (tensile strength of about 1 kg to 5 kg) that breaks the Si wafer when the tin-plated wire of is soldered and pulled.

·△는, 본 발명의 저온땜납의 납땜 대상에 대한 밀착 약 (0.4mm

Figure pct00004
의 주석도금선을 납땜하고 잡아 당겼을 때에 조금 힘을 가하면 박리되는 상태)을 나타낸다.△ is about the adhesion of the low-temperature solder of the present invention to the soldering target (0.4 mm
Figure pct00004
When the tin-plated wire of is soldered and pulled, if a little force is applied, it is peeled off).

이상의 도7의 실험에서, 「초음파 있음」의 경우에는, Al판, Cu판, Cu선/리본, Si웨이퍼에 대하여 충분한 납땜강도가 얻어지는 것이 밝혀졌다.In the above experiment of Fig. 7, it was found that sufficient soldering strength can be obtained with respect to the Al plate, Cu plate, Cu wire/ribbon, and Si wafer in the case of "with ultrasonic waves".

또한, 「초음파 없음」의 경우에는, 잡아 당기면 박리되어버렸다. 납땜 대상물의 표면을 깨끗하게 하면, 상당히 강한 밀착력이 얻어지는 경우도 있고, 그렇치 않은 경우도 있어서 불안정했다.In addition, in the case of "no ultrasonic wave", it peeled off when pulled. When the surface of the object to be soldered was cleaned, a considerably strong adhesion was obtained in some cases, and in some cases it was not, so it was unstable.

도8은 본 발명의 저온땜납의 납땜례(금속-금속)을 나타낸다. 도8의 (a)는 납땜례를 나타낸다. 여기에서 납땜조건은 도면에 나타내는 바와 같이, Fig. 8 shows a soldering example (metal-metal) of the low-temperature solder of the present invention. Fig. 8(a) shows a soldering example. Here, the soldering conditions are as shown in the drawing,

·땜납융점: 약 138℃ ・Solder melting point: about 138℃

·프로세스 최고온도: 180℃ 이하로 했다. · Maximum process temperature: 180 ° C. or less.

사용된 저온땜납은, Sn42wt%, Bi58wt%에 Al, CuP, In을 각0.5wt% 첨가한 것이다(이하에서, 도8 내지 도13은 본 저온땜납을 사용한 예를 사용하여 설명한다). 또한, 다른 Sn-In 합금, SN-Bi 합금의 저온땜납도 동일하다.The low-temperature solder used was obtained by adding 0.5 wt% each of Al, CuP, and In to 42 wt% Sn and 58 wt% Bi. Also, the low-temperature soldering of other Sn-In alloys and SN-Bi alloys is the same.

도8의 (a)에 있어서, 도면에 나타내는 바와 같이, PET 베이스 필름(PET base film)에, Co-PET 접착재를 사용해서 도면에 나타내는 바와 같이 알루미늄박을 접착한 시트(sheet)를 도시의 치수로 절단한다. 그리고, 도면에 나타내는 바와 같이, 알루미늄박의 면이 상하로 부분적으로 겹치도록 하고, 상기 겹치는 부분에 본 발명의 저온땜납(Sn-Bi 저온땜납)이 납땜되도록 납땜한다.In Fig. 8 (a), as shown in the figure, a sheet in which an aluminum foil is bonded to a PET base film using a Co-PET adhesive material as shown in the figure is shown. cut with Then, as shown in the drawing, the surfaces of the aluminum foil are partially overlapped vertically and soldered so that the low-temperature solder (Sn-Bi low-temperature solder) of the present invention is soldered to the overlapping portion.

납땜방법은, 예를 들어 상측과, 하측의 알루미늄박의 부분에 저온땜납으로 예비납땜한다. 또한, 초음파를 인가한 납땜(초음파 납땜)을 하면 확실하게 납땜할 수 있다. As for the soldering method, for example, the upper and lower aluminum foils are pre-soldered with low-temperature solder. Further, soldering can be reliably performed by applying ultrasonic waves (ultrasonic soldering).

그리고, 예비납땜된 상측의 알루미늄박 위의 예비납땜부분과, 하측의 알루미늄박의 예비납땜부분을 도면에 나타내는 바와 같이 겹치고, 전체를 위로부터 납땜인두팁으로 억제하고, 저온땜납을 용융해서 납땜한다. 이 때 초음파 납땜하면 확실하게 납땜할 수 있다.Then, the pre-soldered portion on the upper aluminum foil pre-soldered and the pre-soldered portion on the lower aluminum foil are overlapped as shown in the drawing, the whole is held down with a soldering iron tip from above, and the low-temperature solder is melted and soldered. At this time, ultrasonic soldering can ensure soldering.

이상과 같이 하여, 도8의 (a)와 같이, PET 베이스 필름면에 접착된 알루미늄박을 서로 저온납땜할 수 있었다. 초음파 없는 납땜으로도 할 수 있지만, 확실하게는 초음파 납땜한 것이 바람직하다.As described above, as shown in FIG. Soldering without ultrasonic waves can also be performed, but ultrasonic soldering is preferable.

도8의 (b)는 납땜의 사진 예를 나타낸다. 이들 사진은, PET면에 가늘고 긴 알루미늄박을 가로방향으로 놓고, 그 중앙부분의 도시의 " 납땜부분"만을 초음파 저온납땜한 사진 예를 나타낸다. 도시의 "납땜부분"에서 알루미늄박이 강하게 PET면에 납땜되었다.Figure 8 (b) shows an example of a photograph of soldering. These photographs show examples of photographs in which an elongated aluminum foil is placed horizontally on a PET surface and only the "soldered portion" shown in the center is ultrasonically soldered at a low temperature. In the "soldering area" shown, the aluminum foil was strongly soldered to the PET surface.

다음에 도9를 사용해서 도8의 PET필름 접합례에 대하여 상세하게 설명한다.Next, using FIG. 9, the PET film bonding example of FIG. 8 will be explained in detail.

도9는 본 발명의 PET필름 접합례를 나타낸다.9 shows an example of bonding the PET film of the present invention.

도9의 (a)는 플로우 차트를 나타내고, 도9의 (b)는 그 설명도를 나타낸다.Fig. 9(a) shows a flow chart, and Fig. 9(b) shows an explanatory diagram thereof.

도9의 (a)에 있어서, S21은 스펀지에 필름을 고정한다. 이는 우측의 (b-1)에 나타나 있는 바와 같이, 내열성의 스펀지에 필름(예를 들어 PET 필름)을 고정한다(예를 들어 점착제를 도포한 내열성의 폴리이미드 테이프로 고정한다).In Fig. 9(a), S21 fixes the film to the sponge. As shown in (b-1) on the right, a film (for example, PET film) is fixed to a heat-resistant sponge (for example, it is fixed with a heat-resistant polyimide tape coated with an adhesive).

S22는 인두팁에 땜납을 넉넉하게 붙인다. 이는 우측의 (b-2)에 나타나 있는 바와 같이, 인두팁에 본 발명의 저온땜납을 넉넉하게 붙인다. S22 puts enough solder on the iron tip. As shown in (b-2) on the right, the low-temperature solder of the present invention is generously attached to the iron tip.

S23은 인두팁이 필름에 닫지 않도록 초음파로 납땜한다.S23 is ultrasonically soldered so that the iron tip does not close to the film.

S24는 일방(一方)의 필름을 뒤집어서, 다른 일방의 납땜면을 겹친다. 이는 우측의 (b-3)에 나타나 있는 바와 같이, 예비납땜된 필름면이 겹치도록 한다.In S24, one side of the film is turned over, and the other side of the soldering surface is overlapped. This causes the pre-soldered film sides to overlap, as shown in (b-3) on the right.

S25는 동판(銅板)을 납땜면적의 크기로 자른다.S25 cuts the copper plate to the size of the soldering area.

S26은 동판을 아이론(iron)과 같이 인두팁으로 누른다.S26 presses the copper plate with a tip like an iron.

S27은 녹은 땜납이 끝으로부터 넘치는 것을 확인하고 완성한다. 이들 S26, S27은, 우측의 (b-4)에 나타나 있는 바와 같이, 열전도성이 양호한 동판 위에서 인두팁(초음파 있는)으로 눌러 붙이면 예비납땜된 접합면의 저온땜납이 녹아서 끝으로부터 넘칠 정도로 된다. 이에 따라 인두팁을 직접적으로 필름에 대면 상기 필름이 용융하거나 부드러워져서 수축되는 등의 일 없이, 다리미질을 한 것 같이 깨끗하게 초음파 저온납땜을 할 수 있었다.S27 confirms that the melted solder overflows from the tip and completes it. As shown in (b-4) on the right, when these S26 and S27 are pressed with an iron tip (with ultrasonic waves) on a copper plate with good thermal conductivity, the low-temperature solder on the pre-soldered joint surface melts and overflows from the tip. Accordingly, when the iron tip was directly brought into contact with the film, ultrasonic low-temperature soldering could be performed cleanly, as if ironing, without the film melting or becoming soft and shrinking.

도9의 (c)는 납땜조건례를 나타낸다. 기술한 도9의 (a)와 (b)의 납땜조건례를 나타낸다. 여기에서는 하기(下記)의 조건으로 설정했다.Fig. 9 (c) shows examples of soldering conditions. Examples of soldering conditions in (a) and (b) of FIG. 9 are shown. Here, the following conditions were set.

·인두팁 온도 : 175℃±5℃ ·Iron tip temperature : 175℃±5℃

·슬라이덕(sliduck) 설정치 : 14 ・Sliduck setting value : 14

·부재(敷材) : 포론 스펀지(Poron sponge) Absence : Poron sponge

·초음파출력 : 10W ·Ultrasound output : 10W

도9의 (d)는 납땜의 단면도를 나타낸다. 이는 도9의 (a)의 동판 대신에, 폴리이미드 테이프를 통하여 PET면에 접합된 알루미늄박(Al) (초음파 예비납땜 완료)을 서로 초음파 저온납땜하였을 경우의 단면도식도를 나타낸다. 이 경우, 납땜하는 부분만을 둘러싸도록 점착재 도포한 폴리이미드 테이프를 부착해 두면, 불필요한 부분에 저온납땜되는 것을 방지할 수 있다.Fig. 9 (d) shows a sectional view of soldering. This is a cross-sectional diagram in the case of ultrasonic low-temperature brazing of aluminum foil (Al) (ultrasonic pre-soldered) bonded to the PET surface through a polyimide tape instead of the copper plate of FIG. 9 (a). In this case, if a polyimide tape coated with an adhesive is attached so as to surround only the portion to be soldered, low-temperature soldering to unnecessary portions can be prevented.

도10은 본 발명의 저온땜납의 부재실험례를 나타낸다. 이는, 기술한 도8과 도9의 조건하에서, 초음파 있음과 초음파 없음으로 납땜했을 때의 예를 나타낸다. 본원의 저온납땜에서는, 예를 들어 하기와 같은 결과가 얻어졌다.Fig. 10 shows an experimental example of a member of the low-temperature solder of the present invention. This shows an example of soldering with and without ultrasonic waves under the conditions of Figs. 8 and 9 described above. In the low-temperature soldering of the present application, for example, the following results were obtained.

No. 재질 비고(형상, 경도, 표면상태 등) No. texture Remarks (shape, hardness, surface condition, etc.)

·3 SUS판 예비가열하면 저온납땜 가능 ·3 SUS plate Low-temperature soldering is possible with preheating

(초음파 납땜, 이하 동일) (Ultrasonic soldering, the same below)

·4 커팅보드(cutting board) 예비가열 없음으로 저온납땜 가능 ·4 cutting board Low-temperature soldering is possible without preheating

·5 MDF 상동 ·5 MDF Same as above

·6 코르크 보드 상동 ·6 cork board same

·7 아크릴판 상동 ·7 acrylic board Same as above

·9 EPDM 스펀지 고무 상동 ·9 EPDM Sponge Rubber same

·10 NR 스펀지 고무 상동 ·10 NR Sponge Rubber Same as above

·11 포론 스펀지 상동 ·11 Poron Sponge same

·12 NR 고무 시트 예비가열하면 저온납땜 가능 ·12 NR rubber sheet Low-temperature soldering is possible with preheating

이상과 같은 셀룰로오스/수지재에 관해서도, 본 발명의 저온땜납으로 납땜할 수 있는 것이 밝혀졌다(필요에 따라 초음파 납땜하거나, 예비가열(용융온도보다 10도 정도 낮은 온도)하여 납땜한다).It has been found that the above cellulose/resin materials can also be soldered with the low-temperature soldering of the present invention (soldering with ultrasonic waves or preheating (about 10 degrees lower than the melting temperature) if necessary).

도10(b)는 도10(a)의 부재의 사진 예를 나타낸다.Fig. 10(b) shows an example photograph of the member in Fig. 10(a).

도11은 본 발명의 저온땜납의 접합 테스트 결과예를 나타낸다. 여기에서, 실험결과는 하기를 나타낸다.Fig. 11 shows an example of a bonding test result of the low-temperature solder of the present invention. Here, the experimental results show the following.

*1: 접합 가부(接合可否): 0.2mm

Figure pct00005
와이어를 접합해서 300g 이상의 밀착력을 ○로 판정했다.*1: Joinability: 0.2 mm
Figure pct00005
The wire was bonded, and the adhesive force of 300 g or more was judged as (circle).

*2: US 무표시(無表示)는 초음파 없이도 밀착이 가능*2: US non-marking can be adhered without ultrasonic waves

*3: 29의 PET는 퍼로브스카이트(Perovskite)용의 No.1 후보이다.*3: PET of 29 is the No. 1 candidate for Perovskite.

도11의 도면중에 나타내는 금속(1 은, 2 구리, 3 알루미늄 등)은 초음파가 있거나, 초음파 없이 저온납땜이 가능했다.The metals (1 silver, 2 copper, 3 aluminum, etc.) shown in the drawing of FIG. 11 could be soldered at low temperature with or without ultrasonic waves.

또한 도11의 도면중에 나타내는 산화물을 소성해서 형성한 무기재(無機材)(7 알루미나, 8 티타늄산바륨, 10 탄화규소, 11 질화규소, 12 형석, 13 석영, 14 세라믹(도자기) 등)는 초음파가 있거나, 초음파 없이 저온납땜이 가능했다.In addition, inorganic materials (7 alumina, 8 barium titanate, 10 silicon carbide, 11 silicon nitride, 12 fluorite, 13 quartz, 14 ceramics, etc.) formed by firing oxides shown in the drawing of FIG. or low-temperature soldering was possible without ultrasonic waves.

또한, 도11의 도면중에 나타내는 셀룰로오스/수지류(16 폴리에틸렌, 17 폴리프로필렌, ···, 29 PET 등)는 초음파 있는 저온납땜이 가능했다. 이밖에 기술한 도10에 나타내는, 4 커팅보드, 6 코르크 보드 등이 초음파 납땜이 가능했다.In addition, the cellulose/resins (16 polyethylene, 17 polypropylene, ..., 29 PET, etc.) shown in the drawing of Fig. 11 were capable of low-temperature soldering with ultrasonic waves. In addition, ultrasonic soldering was possible for 4 cutting boards, 6 cork boards, etc. shown in FIG. 10 described above.

도12는 본 발명의 초음파출력의 부재실험례(예비가열 없음)을 나타낸다.12 shows an experimental example of the absence of ultrasonic output (without preheating) of the present invention.

도12의 (a)는 실험조건례를 나타낸다. 여기에서는, 하기의 실험조건으로 실험했다.Figure 12 (a) shows an example of experimental conditions. Here, experiments were conducted under the following experimental conditions.

·인두팁 온도: 180±5℃Iron tip temperature: 180±5℃

·슬라이덕 설정치(V): 14·Slide-duck setting value (V): 14

·산본다(초음파 납땜장치의 상품명) 표시 온도(℃): 180±5・Sanbonda (trade name of ultrasonic soldering device) Display temperature (℃): 180±5

·부재: 포론 스펀지Material: Poron sponge

도12의 (b)는 초음파출력의 실험결과예를 나타낸다. 여기에서, 가로방향의 항목은 하기를 각각 나타낸다.12(b) shows an example of an experimental result of ultrasonic output. Here, the items in the horizontal direction respectively represent the following.

·초음파출력(W)은 인두팁에 인가되는 초음파전력(W)을 나타낸다. ·Ultrasonic power (W) represents the ultrasonic power (W) applied to the iron tip.

·납땜성은 작업성, 땜납의 부착성 등을 나타낸다. · Solderability shows workability, solder adhesion, etc.

·굽힘 시의 밀착은 필름을 구부렸을 때의 박리되는 정도로 판단했다. Adhesion at the time of bending was judged by the degree of peeling when the film was bent.

·필름영향은 납땜인두를 댔을 때 대미지(damage)로 인해 들어가는 정도를 나타낸다. ·Film effect indicates the degree of penetration due to damage when a soldering iron is applied.

이상 중에서 초음파출력(W)을 1, 2, 3 ···· 10까지 변화시켰을 때의 서로 다른 3항목에 대해서 실험한 바, 도12의 (b)에 나타나 있는 실험결과가 얻어졌다.Among the above, when the ultrasonic power (W) was changed to 1, 2, 3...10, experiments were conducted on three different items, and the experimental results shown in Fig. 12(b) were obtained.

이 실험결과로부터, 초음파출력 약 7W 이상(바람직하게는 10W 정도)에서 3개 항목에 대해서 양호한 결과(초음파 납땜 결과)가 얻어지는 것이 밝혀졌다.From these experimental results, it was revealed that good results (ultrasonic soldering results) were obtained for three items at an ultrasonic power of about 7 W or more (preferably about 10 W).

도13은 본 발명의 저온땜납의 온도 사이클 시험예를 나타낸다. 이는 온도 사이클 테스트의 337.8H에 있어서의 중간결과를 나타낸다. 이 중간결과의 시점에서는, 초음파 납땜이나 초음파 없는 납땜 모두, 실험시작시와 중간결과시에서는 밀착성에 변화가 인정되지 않았다.Fig. 13 shows an example of a temperature cycle test of the low-temperature solder of the present invention. This represents an intermediate result at 337.8H of the temperature cycle test. At the time of this intermediate result, no change was recognized in the adhesiveness at the time of the start of the experiment and the time of the intermediate result in both ultrasonic soldering and soldering without ultrasonic waves.

1: 땜납재료
2: 땜납재료 투입접시
3: 용융로
4: 히터
11: 기판(예: PET판 0.1mmt)
12: 알루미늄막(박)
13, 13-1: 초음파 납땜인두팁
14: 저온땜납
15: 저온땜납 부착 리본 또는 와이어
1: Solder material
2: Solder material input dish
3: melting furnace
4: heater
11: Substrate (e.g. PET plate 0.1mmt)
12: aluminum film (foil)
13, 13-1: ultrasonic soldering iron tip
14: low temperature solder
15: ribbon or wire with low temperature solder

Claims (20)

Sn과, Bi, 혹은 In, 혹은 Bi와 In의 합금으로 이루어지는 저온땜납에 있어서,
Sn과, Bi, 혹은 In, 혹은 Bi와 In의 합금인 모재(母材)에, Al, P, Sb, In(모재에 In이 포함되는 경우를 제외함) 중에서 1개 이상으로 이루어지는 주재료(主材料)를, 합계 최대 3wt% 이하, 바람직하게는 1.0wt% 내지 1.5wt% 이하, 0.01wt% 이상을 혼입(混入)하고 용융·합금화(溶融·合金化)하여, 밀착력(密着力)을 증강하는 것을 특징으로 하는
저온땜납.
In low-temperature soldering composed of Sn, Bi, or In, or an alloy of Bi and In,
A main material composed of at least one of Al, P, Sb, and In (except for the case where In is contained in the base material) in a base material that is Sn, Bi, or In, or an alloy of Bi and In. ) in a total maximum of 3 wt% or less, preferably 1.0 wt% to 1.5 wt% or less, and 0.01 wt% or more are mixed and melted and alloyed to enhance adhesion. characterized by
low temperature solder.
제1항에 있어서,
상기 용융·합금화한 후의 저온땜납의 용융온도는, 상기 모재의 용융온도와 동일하거나 혹은 낮은 것을 특징으로 하는
저온땜납.
According to claim 1,
The melting temperature of the low-temperature solder after melting and alloying is equal to or lower than the melting temperature of the base material.
low temperature solder.
제1항 내지 제2항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
Al, P, Sb, In 중에서 1개 이상을 함유하는 합금으로 이루어지는 부재료(副材料)를, 필요에 따라 상기 모재에 혼입해서 용융·합금화하는 것을 특징으로 하는
저온땜납.
According to any one of claims 1 to 2,
Characterized in that an auxiliary material made of an alloy containing at least one of Al, P, Sb, and In is incorporated into the base material as necessary to melt and alloy it.
low temperature solder.
제3항에 있어서,
상기 부재료의 합금으로서 Cu와 P의 합금으로 하는 것을 특징으로 하는
저온땜납.
According to claim 3,
Characterized in that the alloy of the sub-material is an alloy of Cu and P
low temperature solder.
제1항 내지 제4항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
상기 모재에, 상기 주재료로서 Al, CuP, 필요에 따라 In을, 합계 최대 3wt% 이하, 바람직하게는 1.0wt% 내지 1.5wt% 이하, 0.1wt% 이상을 혼입해서 용융·합금화하는 것을 특징으로 하는
저온땜납.
According to any one of claims 1 to 4,
Into the base material, Al, CuP, and, if necessary, In as the main material, in a total maximum of 3 wt% or less, preferably 1.0 wt% to 1.5 wt% or less, 0.1 wt% or more are mixed and melted and alloyed.
low temperature solder.
제1항 내지 제5항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
상기 모재, 주재료, 부재료를 일괄로 혹은 복수로 분할하여 혼합해서 용융·합금화하는 것을 특징으로 하는
저온땜납.
According to any one of claims 1 to 5,
Characterized in that the base material, the main material, and the sub-material are divided into batches or a plurality and mixed and melted and alloyed.
low temperature solder.
제1항 내지 제6항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
태양전지기판, 액정기판의 전극에 리드선을 납땜하는 것에 사용하는 것을 특징으로 하는
저온땜납.
According to any one of claims 1 to 6,
Characterized in that it is used for soldering lead wires to electrodes of solar cell substrates and liquid crystal substrates
low temperature solder.
제1항에 있어서,
상기 용융·합금화하고 밀착력(密着力)을 증강한 것으로서, 납땜하는 대상인, 금속에 관해서는 합금화, 산화물을 소성(燒成)해서 형성한 무기재(無機材)에 관해서는 소결(燒結), 및 셀룰로오스/수지재에 관해서는 표면의 요철(凹凸)의 간극에 들어가 고화(固化)해서 고착(固着)하는 밀착력의 1개 이상을 증강하는 것을 특징으로 한
저온땜납.
According to claim 1,
As a product in which adhesion is enhanced by melting and alloying, alloying is performed for metals to be soldered, sintering is performed for inorganic materials formed by firing oxides, and With respect to cellulose/resin materials, it is characterized in that one or more of the adhesive forces to be solidified by entering into gaps between irregularities on the surface and to be fixed are enhanced.
low temperature solder.
제8항에 있어서,
상기 금속은 적어도 알루미늄, 구리, 철, 스테인레스, 실리콘이고, 상기 무기재는 적어도 글라스, 세라믹이고, 상기 셀룰로오스/수지는 적어도 종이, 목재, 수지필름, 수지 파이버(樹脂 fiber), 카본 파이버인 것을 특징으로 하는
저온땜납.
According to claim 8,
The metal is at least aluminum, copper, iron, stainless, or silicon, the inorganic material is at least glass or ceramic, and the cellulose/resin is at least paper, wood, resin film, resin fiber, or carbon fiber. doing
low temperature solder.
제8항 내지 제9항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
상기 용융·합금화하고 밀착력을 증강한 것으로서, 상기 Sn-Bi 합금에서는 적어도 용융하는 139℃, 상기 Sn-In 합금에서는 적어도 용융하는 120℃, 상기 Sn-In-Bi 합금에서는 용융하는 90℃로부터 각 10℃ 이상의 높은 온도로 납땜하여 밀착력을 증강하는 것을 특징으로 하는
저온땜납.
According to any one of claims 8 to 9,
10 each from 139 ° C for melting at least in the Sn-Bi alloy, 120 ° C for melting at least in the Sn-In alloy, and 90 ° C for melting in the Sn-In-Bi alloy. Characterized in that the adhesion is enhanced by soldering at a high temperature of ℃ or higher
low temperature solder.
제8항 내지 제10항 중의 어느 하나의 항에 있어서
상기 납땜은 초음파 납땜인 것을 특징으로 하는 저온땜납.
According to any one of claims 8 to 10
Low-temperature solder, characterized in that the soldering is ultrasonic soldering.
제1항 내지 제7항에 있어서,
저온땜납을, 선재(線材), 리본의 표면에 용융도포(溶融塗布)하는 것을 특징으로 하는
저온땜납 피복 리드선(被覆 lead 線).
According to claims 1 to 7,
Characterized in that low-temperature solder is melt-coated on the surface of a wire rod or ribbon
Low-temperature solder coated lead wire.
제12항에 있어서,
상기 용융도포는 초음파를 인가한 상태에서 용융도포하는 것을 특징으로 하는
저온땜납 피복 리드선.
According to claim 12,
The melt coating is characterized in that the melt coating in the state of applying ultrasonic waves
Low-temperature solder coated lead wire.
Sn과, Bi, 혹은 In, 혹은 Bi와 In의 합금으로 이루어지는 저온땜납의 제조방법에 있어서,
Sn과, Bi, 혹은 In, 혹은 Bi와 In의 합금인 모재에, Al, P, Sb, In(모재에 In이 포함되는 경우를 제외함) 중에서 1개 이상으로 이루어지는 주재료를, 합계 최대 3wt% 이하, 바람직하게는 1.0wt% 내지 1.5wt% 이하, 0.01wt% 이상을 혼합하는 스텝(step)과,
상기 혼합한 재료를 용융해서 합금화하는 스텝을
구비하고,
밀착력을 증강하는 것을 특징으로 하는
저온땜납의 제조방법.
In the manufacturing method of low-temperature solder made of Sn, Bi, or In, or an alloy of Bi and In,
A main material consisting of one or more of Al, P, Sb, and In (except for the case where In is contained in the base material) is added to a base material that is Sn, Bi, or In, or an alloy of Bi and In, in a total maximum of 3 wt% Below, preferably 1.0wt% to 1.5wt% or less, a step of mixing 0.01wt% or more,
The step of melting and alloying the mixed material
equipped,
characterized by enhancing adhesion
Manufacturing method of low-temperature solder.
제14항에 있어서,
상기 용융·합금화한 후의 저온땜납의 용융온도는, 상기 모재의 용융온도와 동일하거나 혹은 낮은 것을 특징으로 하는
저온땜납의 제조방법.
According to claim 14,
The melting temperature of the low-temperature solder after melting and alloying is equal to or lower than the melting temperature of the base material.
Manufacturing method of low-temperature solder.
제14항 내지 제15항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
Al, P, Sb, In 중에서 1개 이상을 함유하는 합금으로 이루어지는 부재료를, 필요에 따라 상기 모재에 혼입해서 용융·합금화하는 것을 특징으로 하는
저온땜납의 제조방법.
The method of any one of claims 14 to 15,
Characterized in that a sub-material made of an alloy containing at least one of Al, P, Sb, and In is incorporated into the base material as necessary to melt and alloy it.
Manufacturing method of low-temperature solder.
제16항에 있어서,
상기 부재의 합금으로서 Cu와 P의 합금으로 된 것을 특징으로 하는
저온땜납의 제조방법.
According to claim 16,
Characterized in that the alloy of the member is made of an alloy of Cu and P
Manufacturing method of low-temperature solder.
제14항 내지 제17항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
상기 모재에, 상기 주재료로서 Al, CuP, 필요에 따라 In을, 합계 최대 3wt% 이하, 바람직하게는 1.0wt% 내지 1.5wt% 이하, 0.1wt% 이상을 혼입해서 용융·합금화하는 것을 특징으로 하는
저온땜납의 제조방법.
The method of any one of claims 14 to 17,
Into the base material, Al, CuP, and, if necessary, In as the main material, in a total maximum of 3 wt% or less, preferably 1.0 wt% to 1.5 wt% or less, 0.1 wt% or more are mixed and melted and alloyed.
Manufacturing method of low-temperature solder.
제10항 내지 제14항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
상기 모재, 주재료, 부재료를 일괄로 혹은 복수로 분할하여 혼합해서 용융·합금화하는 것을 특징으로 하는
저온땜납의 제조방법.
According to any one of claims 10 to 14,
Characterized in that the base material, the main material, and the sub-material are divided into batches or a plurality and mixed and melted and alloyed.
Manufacturing method of low-temperature solder.
제14 내지 제18항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
태양전지기판, 액정기판의 전극에 리드선을 납땜하는 것에 사용하는 것을 특징으로 하는
저온땜납의 제조방법.
According to any one of claims 14 to 18,
Characterized in that it is used for soldering lead wires to electrodes of solar cell substrates and liquid crystal substrates
Manufacturing method of low-temperature solder.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US11832386B2 (en) * 2021-12-16 2023-11-28 Dell Products L.P. Solder composition for use in solder joints of printed circuit boards

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4135268B2 (en) * 1998-09-04 2008-08-20 株式会社豊田中央研究所 Lead-free solder alloy
JP5169871B2 (en) * 2009-01-26 2013-03-27 富士通株式会社 Solder, soldering method and semiconductor device
JP2013248664A (en) * 2012-06-04 2013-12-12 Nippon Genma:Kk Lead-free solder alloy and solder paste
US20150037087A1 (en) * 2013-08-05 2015-02-05 Senju Metal Industry Co., Ltd. Lead-Free Solder Alloy
JP2016026884A (en) * 2014-07-02 2016-02-18 住友金属鉱山株式会社 Bi-Sn-Al BASED SOLDER ALLOY FOR MEDIUM TO LOW TEMPERATURES AND SOLDER PASTE
CN106216872B (en) * 2016-08-11 2019-03-12 北京康普锡威科技有限公司 A kind of SnBiSb series low-temperature leadless solder and preparation method thereof

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