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KR20210136442A - Flexible display divice bonding table structure - Google Patents

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KR20210136442A
KR20210136442A KR1020200054702A KR20200054702A KR20210136442A KR 20210136442 A KR20210136442 A KR 20210136442A KR 1020200054702 A KR1020200054702 A KR 1020200054702A KR 20200054702 A KR20200054702 A KR 20200054702A KR 20210136442 A KR20210136442 A KR 20210136442A
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KR
South Korea
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bonding
film
base
base table
slider
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KR1020200054702A
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Inventor
배건수
손민구
이현우
Original Assignee
(주) 에스엔에프
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Publication date
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Abstract

An object of the present invention is to provide a flexible display device bonding table structure. The present invention includes: a base table (822) supporting and holding a flexible film (2) passing along a transfer line of a main frame (110); and a vacuum unit (824) which is provided on the base table (822) to adsorb and fix the flexible film (2) to an upper surface of the base table (822) by vacuum. Therefore, it is possible to improve device bonding operation efficiency by increasing device bonding operation precision, such as shortening a bonding operation time.

Description

유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조{Flexible display divice bonding table structure}Flexible display device bonding table structure {Flexible display device bonding table structure}

본 발명은 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 소자와 같은 소자와 플렉시블 필름 사이의 본딩 작업시 플렉시블 필름을 진공압으로 안정적으로 고정한 상태에서 소자를 플렉시블 필름에 본딩할 수 있는 새로운 구성의 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조에 관한 것이다.The present invention relates to a flexible display device bonding table structure, and more particularly, in a bonding operation between a device such as a semiconductor device and a flexible film, the device can be bonded to the flexible film in a state in which the flexible film is stably fixed with vacuum pressure. It relates to a flexible display device bonding table structure of a new configuration.

일반적으로 엘씨디나 엘이디와 같은 평판 디스플레이들은 점차 경박단소화되어 감에따라 이에 대응하여 글래스의 패턴부에 반도체 소자나 회로기판과 같은 소자들이 직접 본딩되어 제작되는 경우가 많으며, 이러한 본딩작업은 로딩부와 본딩부가 각각 구비된 소자본딩장치에 의해 이루어진다.In general, flat panel displays such as LCDs and LEDs are gradually becoming lighter, thinner and smaller, and in response to this, elements such as semiconductor elements or circuit boards are directly bonded to the pattern part of glass and are often manufactured. and a device bonding device each having a bonding unit.

상기 소자본딩장치에 글래스와 반도체 소자 등을 본딩하려면 로딩부에 글래스와 반도체 소자를 각각 로딩시켜 셋팅한 후 본딩부에서 본딩헤드로 가압하면서 본딩을 행하게 된다.In order to bond glass and a semiconductor device to the device bonding apparatus, the glass and the semiconductor device are respectively loaded and set in the loading unit, and then the bonding is performed while the bonding unit is pressed with a bonding head.

그러나, 이러한 종류의 평판 디스플레이 장치가 갖는 문제점은 유리 기판으로 인해 기판이 매우 단단하고 무거울 뿐만 아니라 휨 응력(Bending stress)에 대한 매우 낮은 허용오차를 갖는다는 점이다. 상기 디스플레이 장치가 휨모멘트를 받으면 기판 사이의 셀갭의 변화로 인해 디스플레이 이미지의 손실이 초래되는데 이것은 액정층의 두께변화가 발생되기 때문이다.However, a problem with this type of flat panel display device is that, due to the glass substrate, the substrate is very hard and heavy, and has a very low tolerance for bending stress. When the display device receives a bending moment, a display image is lost due to a change in the cell gap between the substrates because a change in the thickness of the liquid crystal layer occurs.

또한, 유비쿼터스 디스플레이 환경을 구현하기 위해서는 디스플레이 장치의 휴대성을 향상시킴과 동시에 각종 멀티미디어 정보를 표시가 가능하면서 가볍고, 표시면적이 넓고, 해상도가 우수하며, 표시속도가 빠른 디스플레이 장치의 특성이 요구되어야 한다.In addition, in order to implement a ubiquitous display environment, the characteristics of a display device that can display various multimedia information while improving the portability of the display device, and being lightweight, have a large display area, have excellent resolution, and have a fast display speed, are required. do.

따라서, 유연성, 경량화 및 휴대성이 우수한 특성을 동시에 만족시키기 위해서는 디스플레이 장치의 배선 및 소자를 플라스틱 기판 상에 형성하는 유연디스플레이 장치의 필요성이 대두되고 있다. 유연디스플레이 장치는 롤러(Roll) 투 롤러(Roll) 방식으로 제조되는 경우가 많다. 이러한 유연디스플레이의 제조 공정에서는 플렉시블 필름(2)과 반도체 소자나 플렉시블 인쇄회로기판과 같은 소자 간의 본딩 작업이 수행된다.Therefore, in order to simultaneously satisfy the excellent characteristics of flexibility, weight reduction and portability, the need for a flexible display device in which wiring and elements of the display device are formed on a plastic substrate is emerging. Flexible display devices are often manufactured in a Roll-to-Roll method. In the manufacturing process of such a flexible display, a bonding operation between the flexible film 2 and a device such as a semiconductor device or a flexible printed circuit board is performed.

그런데, 유연디스플레이 장치를 생산하기 위해서는 플렉시블 필름(2)과 소자 간의 정밀하고 오차없는 본딩 작업이 요구된다. 플렉시블 필름(2)은 유연디스플레이의 기판이라 할 수 있으며, 예를 들어 PI Film(2)이 될 수 있는데, 이러한 유연디스플레이 기판과 반도체 소자의 본딩 작업시 오차가 생기면 본딩 불량으로 인한 유연디스플레의 불량이 발생되므로, 정밀하고 오차가 없는 소자와 유연디스플레이 기판 사이의 본딩 작업이 요구된다. 또한, 공정 수율 및 효율성이 저하되는 경우 등을 방지하기 위한 본딩 작업의 정밀도가 더욱 요구된다.However, in order to produce a flexible display device, a precise and error-free bonding operation between the flexible film 2 and the device is required. The flexible film (2) can be called a substrate of a flexible display, and for example, it can be a PI Film (2). Since this occurs, a bonding operation between the device and the flexible display substrate that is precise and error-free is required. In addition, the precision of the bonding operation is more required to prevent a case in which the process yield and efficiency are lowered.

한국등록특허 제10-1754511호(2017년06월29일 등록)Korean Patent Registration No. 10-1754511 (registered on June 29, 2017) 한국공개특허 제10-1996-0035935호(1996년10월28일 공개)Korean Patent Publication No. 10-1996-0035935 (published on October 28, 1996) 한국공개특허 제10-2000-0074174호(2000년12월05일 공개)Korean Patent Publication No. 10-2000-0074174 (published on December 05, 2000) 한국등록실용신안 제20-0311427호(2003년04월11일 등록)Korea Registered Utility Model No. 20-0311427 (Registered on April 11, 2003)

본 발명은 전술한 바와 같은 문제를 해결하기 위해 개발된 것으로, 본 발명의 목적은 플렉시블 필름과 반도체 소자와 같은 소자 간의 가압 본딩 작업시 플렉시블 필름을 진공압으로 안정적으로 고정한 상태에서 소자를 플렉시블 필름에 본딩할 수 있도록 하며, 본딩 정밀도 향상이 이루어질 수 있는 으로 인하여 유연디스플레이의 고품질을 보장할 수 있도록 하는 새로운 구성의 유연디스플레이 소자용 공정 시스템의 진공 히팅 가압 본딩 시스템을 제공하고자 하는 것이다.The present invention was developed to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to attach the device to the flexible film in a state in which the flexible film is stably fixed with vacuum pressure during the pressure bonding operation between the flexible film and the device such as a semiconductor device. An object of the present invention is to provide a vacuum heating pressure bonding system of a process system for a flexible display device of a new configuration that enables bonding and guarantees the high quality of a flexible display due to which bonding precision can be improved.

상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명에 의하면, 메인 프레임의 이송 라인을 따라 지나가는 플렉시블 필름을 받쳐서 지지하는 베이스 테이블; 상기 베이스 테이블에 구비되어 상기 플렉시블 필름을 상기 베이스 테이블의 상면에 진공으로 흡착 고정되도록 하는 진공 유닛;을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조가 제공된다.According to the present invention for solving the above problems, a base table for supporting and supporting the flexible film passing along the transfer line of the main frame; A flexible display device bonding table structure is provided, comprising a; a vacuum unit provided on the base table to adsorb and fix the flexible film on the upper surface of the base table by vacuum.

상기 베이스 테이블은 상기 메인 프레임에 설치된 레이저 헤드의 아래에서 이송 라인을 따라 지나가는 플렉시블 필름을 받쳐서 지지하도록 구성된 것을 특징으로 한다.The base table is characterized in that it is configured to support and support the flexible film passing along the transfer line under the laser head installed in the main frame.

상기 진공 유닛은, 상기 베이스 테이블의 내부에 확보된 진공 형성홀; 상기 진공 형성홀에 연결되어 상기 베이스 테이블의 상면으로 연통된 복수개의 흡착홀;을 포함하는 것을 특징으로 한다.The vacuum unit may include a vacuum forming hole secured inside the base table; and a plurality of suction holes connected to the vacuum forming hole and communicating with the upper surface of the base table.

상기 베이스 테이블은 내부에 히터가 내장되도록 구성된 것을 특징으로 한다.The base table is characterized in that the heater is configured to be built therein.

상기 베이스 테이블과 상기 진공 유닛은 업다운 작동부에 의해 승강되도록 구성된 것을 특징으로 한다.The base table and the vacuum unit are configured to be raised and lowered by an up-down operation unit.

상기 플렉시블 필름에 탑재된 상기 소자는 본딩 가압수단에 의해 가압되고, 상기 베이스 테이블은 아래에서 상기 플렉시블 필름과 상기 소자를 받쳐주도록 구성된 것을 특징으로 한다.The element mounted on the flexible film is pressed by a bonding pressing means, and the base table is characterized in that it is configured to support the flexible film and the element from below.

상기 본딩 가압수단은 승강 슬라이더를 구비하고, 상기 승강 슬라이더에 구비된 쿼츠 홀더에 쿼츠가 결합된 것을 특징으로 한다.The bonding pressing means includes an elevating slider, and quartz is coupled to a quartz holder provided in the elevating slider.

상기 쿼츠의 저면이 아래의 플렉시블 필름과 마주하고, 상기 쿼츠의 저면은 수평면으로 구성된 것을 특징으로 한다.The lower surface of the quartz faces the flexible film below, and the lower surface of the quartz is characterized in that it is composed of a horizontal surface.

본 발명에 의하면, 메인 프레임의 이송 라인을 따라 지나가는 플렉시블 필름을 받쳐서 지지하는 베이스 테이블; 상기 베이스 테이블에 구비되어 상기 플렉시블 필름을 상기 베이스 테이블의 상면에 진공으로 흡착 고정되도록 하는 진공 유닛;을 포함하고, 상기 베이스 테이블의 하부에는 상부 슬라이더가 구비되고, 상기 상부 슬라이더의 저면은 상부 업다운 경사면으로 구성되고, 상기 상부 슬라이더의 아래에는 하부 슬라이더가 구비되고, 상기 하부 슬라이더의 상면은 상기 상부 업다운 경사면과 면접촉되는 하부 업다운 경사면으로 구성되며, 상기 하부 슬라이더는 이동 작동수단에 의해 전후진하여 상기 상부 슬라이더와 상기 베이스 테이블을 승강시키는 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조가 제공된다.According to the present invention, a base table for supporting and supporting a flexible film passing along the transfer line of the main frame; a vacuum unit provided on the base table to adsorb and fix the flexible film to an upper surface of the base table by vacuum; and a lower slider is provided below the upper slider, and an upper surface of the lower slider includes a lower up-down inclined surface in surface contact with the upper up-down inclined surface, and the lower slider is moved forward and backward by a moving operation means to move the There is provided a flexible display device bonding table structure, characterized in that for elevating the upper slider and the base table.

본 발명에 의하면, 메인 프레임의 이송 라인을 따라 지나가는 플렉시블 필름을 받쳐서 지지하는 베이스 테이블; 상기 베이스 테이블에 구비되어 상기 플렉시블 필름을 상기 베이스 테이블의 상면에 진공으로 흡착 고정되도록 하는 진공 유닛;을 포함하고, 상기 메인 프레임에는 본딩 베이스 지지패널이 구비되고, 상기 본딩 베이스 지지패널의 상면에는 가이드 레일이 구비되고, 상기 가이드 레일은 상기 메인 프레임의 X축 방향과 나란한 방향으로 배치되고, 상기 가이드 레일에는 블록이 슬라이드 가능하게 결합되고, 상기 블록은 상기 본딩 베이스 서포트 블록의 하부에 연결되고, 상기 베이스 테이블은 상기 본딩 베이스 지지패널에 결합되고, 상기 베이스 테이블이 상기 메인 프레임의 PI Film이 지나가는 X축 방향으로 이동될 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조가 제공된다.According to the present invention, a base table for supporting and supporting a flexible film passing along the transfer line of the main frame; a vacuum unit provided on the base table to adsorb and fix the flexible film to the upper surface of the base table by vacuum; the main frame is provided with a bonding base support panel, and a guide is provided on the upper surface of the bonding base support panel A rail is provided, the guide rail is disposed in a direction parallel to the X-axis direction of the main frame, a block is slidably coupled to the guide rail, and the block is connected to a lower portion of the bonding base support block, and the The base table is coupled to the bonding base support panel, and there is provided a flexible display device bonding table structure, characterized in that the base table is configured to be moved in the X-axis direction through which the PI Film of the main frame passes.

본 발명의 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조에서는 PI Film(기판) 쪽으로 베이스 테이블 상승, 레이저 헤드에서의 레이저 조사, 레이저 본딩수단에 의해 소자를 PI Flim에 압착 본딩하는 과정을 반복함으로써, PI Film(기판)에 소자(주로 반도체 소자)를 본딩하게 되며, 이러한 본 발명의 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조는 플렉시블 필름과 반도체 소자와 같은 소자 간의 가압 본딩 작업시 플렉시블 필름을 진공압으로 안정적으로 고정한 상태에서 소자를 플렉시블 필름에 본딩할 수 있기 때문에, 소자 본딩 오차를 최소화시켜서 유연디스플레이의 고품질을 보장하는데 많은 도움이 되는 효과가 있으며, 소자 본딩 작업 정밀도를 높여서 본딩 작업 시간 단축과 같이 소자 본딩 작업 능률을 향상시킬 수 있는 효과도 있다.In the flexible display device bonding table structure of the present invention, by repeating the process of raising the base table toward the PI Film, laser irradiation from the laser head, and press-bonding the device to the PI Flim by laser bonding means, the PI Film (substrate) The device (mainly a semiconductor device) is bonded to the device, and the flexible display device bonding table structure of the present invention makes the device flexible in a state in which the flexible film is stably fixed with vacuum pressure during pressure bonding between the flexible film and the device such as a semiconductor device. Since it can be bonded to a film, it has an effect that is very helpful in ensuring the high quality of flexible displays by minimizing device bonding errors, There is an effect.

도 1은 본 발명에 의한 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조와 메인 프레임을 보여주는 정면도
도 2는 도 1에 도시된 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조와 메인 프레임을 보여주는 사시도
도 3은 본 발명에 의한 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조의 사시도
도 4는 도 3의 측단면도
도 5는 도 4의 주요부의 확대된 정단면도
도 6은 도 2에 도시된 베이스 테이블과 레이저 본딩 가압부의 측면도
도 7은 도 6의 주요부인 베이스 테이블 부분을 확대하여 보여주는 측면도
도 8은 본 발명에 의해 소자 본딩 작업이 이루어지는 플렉시블 필름의 일부를 보여주는 사시도
도 9는 2의 베이스 테이블 부분이 하부 슬라이더에 결합된 상태를 보여주는 사시도
도 10은 도 9의 정면도
도 11은 도 9의 좌측면도
도 12는 도 9의 우측면도
1 is a front view showing a flexible display device bonding table structure and a main frame according to the present invention;
Figure 2 is a perspective view showing the flexible display device bonding table structure and the main frame shown in Figure 1;
3 is a perspective view of a flexible display device bonding table structure according to the present invention;
Figure 4 is a side cross-sectional view of Figure 3;
Fig. 5 is an enlarged front sectional view of the main part of Fig. 4;
6 is a side view of the base table and the laser bonding pressing unit shown in FIG.
7 is a side view showing an enlarged base table part of FIG. 6 ;
8 is a perspective view showing a part of the flexible film on which the device bonding operation is made according to the present invention;
9 is a perspective view showing a state in which the base table part of 2 is coupled to the lower slider;
Figure 10 is a front view of Figure 9
11 is a left side view of FIG.
Fig. 12 is a right side view of Fig. 9;

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 상기 본 발명의 목적과 특징 및 장점은 첨부도면 및 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 더욱 쉽게 이해될 수 있을 것이다. 도면에서 동일 부분에 대해서는 동일 부호를 사용한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The objects, features and advantages of the present invention will be more readily understood by referring to the accompanying drawings and the following detailed description. In the drawings, the same reference numbers are used for the same parts. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In addition, in describing the components of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used. These terms are only for distinguishing the components from other components, and the essence, order, or order of the components are not limited by the terms. When it is described that a component is “connected”, “coupled” or “connected” to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, but another component is between each component. It will be understood that may also be "connected", "coupled" or "connected".

도면을 참조하면, 본 발명에 의한 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조는 메인 프레임(110)에 설치된 레이저 헤드(812)의 아래에서 이송 라인을 따라 지나가는 플렉시블 필름(2)을 받쳐서 지지하는 베이스 테이블(822)과, 상기 베이스 테이블(822)에 구비되어 플렉시블 필름(2)을 베이스 테이블(822)의 상면에 진공으로 흡착 고정되도록 하는 진공 유닛을 포함한다. 본 발명에서 플렉시블 필름(2)은 PI Film(폴리이미드 필름)이다. PI Film(2)은 플렉시블 기판이라 할 수 있다.Referring to the drawings, the flexible display device bonding table structure according to the present invention supports and supports the flexible film 2 passing along the transfer line under the laser head 812 installed in the main frame 110. Base table 822 and a vacuum unit provided on the base table 822 to adsorb and fix the flexible film 2 to the upper surface of the base table 822 by vacuum. In the present invention, the flexible film 2 is a PI Film (polyimide film). The PI Film (2) can be called a flexible substrate.

상기 메인 프레임(110)은 육면체 프레임 형상으로 구성된다. 메인 프레임(110)에는 메인 베이스(112)가 구비된다. 상기 메인 프레임(110)의 좌우 양쪽 위치에는 각각 언와인더 유닛(210)과 리와인더 유닛(310)이 배치되어, 상기 언와인더 유닛(210)과 리와인더 유닛(310)에 의해서 PI Film(2)이 메인 프레임(110)의 메인 베이스(112) 위의 이송 경로를 따라 피딩된다. 상기 언와인더 유닛(210)과 리와인더 유닛(310) 이외에도 PI Film(2)은 다른 공지의 피딩 수단에 의해 메인 프레임(110)의 이송 경로를 따라 공급되도록 구성될 수 있다.The main frame 110 is configured in a hexahedral frame shape. The main frame 110 is provided with a main base 112 . An unwinder unit 210 and a rewinder unit 310 are disposed at both left and right positions of the main frame 110, respectively, and the PI Film 2 is formed by the unwinder unit 210 and the rewinder unit 310. It is fed along a transport path on the main base 112 of this main frame 110 . In addition to the unwinder unit 210 and the rewinder unit 310 , the PI Film 2 may be configured to be supplied along the transport path of the main frame 110 by other known feeding means.

상기 메인 프레임(110)에는 메인 베이스(112) 위쪽에 배치되도록 레이저 헤드(812)가 장착된다. 레이저 헤드(812)의 저면에는 렌즈가 구비되어, 레이저 헤드(812) 내부에 구비된 레이저 장치에서 발생한 레이저가 렌즈를 통해서 PI Film(2) 쪽으로 조사되도록 구성된다.A laser head 812 is mounted on the main frame 110 to be disposed above the main base 112 . A lens is provided on the bottom surface of the laser head 812 so that the laser generated from the laser device provided inside the laser head 812 is irradiated toward the PI Film 2 through the lens.

본 발명은 레이저 헤드(812)의 하부에 배치되어 메인 프레임(110)의 이송 경로상으로 지나가는 플렉시블 필름(2)(본 발명에서는 PI Film(2)으로서 이하에서는 편의상 플렉시블 필름(2)을 PI Film(2)이라 칭함)을 받쳐서 지지하는 베이스 테이블을 포함한다.The present invention is a flexible film 2 disposed under the laser head 812 and passing on the transport path of the main frame 110 (in the present invention, as PI Film 2, hereinafter for convenience, the flexible film 2 is used as a PI Film (referred to as (2)) and includes a base table supporting it.

상기 베이스 테이블(822)은 내부에 히터가 내장되도록 구성된다. 베이스 테이블(822)의 내부에 복수개의 나란한 히터가 내장되어, 상기 히터에 의해 베이스 테이블(822)이 가열되도록 구성될 수 있다.The base table 822 is configured to have a heater built therein. A plurality of side by side heaters are built into the base table 822 , and the base table 822 may be heated by the heaters.

상기 베이스 테이블(822)과 진공 유닛(824)은 업다운 작동부에 의해 승강되도록 구성된다.The base table 822 and the vacuum unit 824 are configured to be raised and lowered by an up-down operation unit.

상기 업다운 작동부는 승강 작동 서보모터(832)와 승강 작동 볼나사(833)와 승강 작동 볼너트(834)와 상부 슬라이더 및 하부 슬라이더를 포함한다.The up-down operation unit includes a lifting operation servo motor 832 , a lifting operation ball screw 833 , a lifting operation ball nut 834 , an upper slider, and a lower slider.

상기 메인 프레임의 베이스 프레임판에 본딩 베이스 서포트 블록(826)이 구비되고, 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)에 상부 슬라이더와 하부 슬라이더가 내장된다.A bonding base support block 826 is provided on the base frame plate of the main frame, and an upper slider and a lower slider are built in the bonding base support block 826 .

상기 베이스 테이블(822)은 상부 슬라이더(828) 위에 있는 단열재(835)의 상면에 결합되어 있다. 상기 메인 프레임(110)의 이송 경로를 따라 지나가는 PI Film(2)의 아래에서 베이스 테이블(822)이 업다운 작동부에 의해 승강될 수 있도록 구성된다.The base table 822 is coupled to the upper surface of the insulation 835 above the upper slider 828 . The base table 822 is configured to be raised and lowered by the up-down operation unit under the PI Film 2 passing along the transport path of the main frame 110 .

상기 하부 슬라이더(827)의 상면은 하부 업다운 경사면(827SF)으로 구성된다. 상기 하부 슬라이더(827)는 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 공간부에 이동 가능하게 내장된다. 하부 슬라이더(827)는 PI Film(2)이 지나가는 메인 프레임(110)의 이송 경로인 X축 방향과 직교하는 방향인 Y축 방향으로 전후진 가능하도록 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 공간부에 내장된다. 상기 하부 슬라이더(827)의 상면을 이루는 하부 업다운 경사면(827SF)은 한쪽은 상대적으로 다른 쪽보다 높은 경사면이다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 한쪽 옆에서 볼 때에 하부 업다운 경사면(827SF)의 높은 쪽이 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 후방 쪽에 배치되고, 하부 업다운 경사면(827SF)의 낮은 쪽이 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 전방 쪽에 배치된다.The upper surface of the lower slider 827 is composed of a lower up-down inclined surface 827SF. The lower slider 827 is movably embedded in the inner space of the bonding base support block 826 . The lower slider 827 is located in the inner space of the bonding base support block 826 so as to move forward and backward in the Y-axis direction, which is a direction orthogonal to the X-axis direction, which is the transport path of the main frame 110 through which the PI Film 2 passes. is built-in One of the lower up-down inclined surfaces 827SF constituting the upper surface of the lower slider 827 is a relatively higher inclined surface than the other. When viewed from one side of the bonding base support block 826, the higher side of the lower up-down inclined surface 827SF is disposed on the rear side of the bonding base support block 826, and the lower side of the lower up-down inclined surface 827SF is the bonding base support It is disposed on the front side of block 826 .

상기 하부 슬라이더(827)는 업다운 엘엠 가이드에 의해 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 하면에 이동 가능하게 결합된다. 업다운 엘엠 가이드는 업다운 가이드 레일과 업다운 가이드 레일블록으로 구성되는데, 업다운 가이드 레일은 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 전후 방향으로 배치된다. 메인 프레임(110)에서 PI Film(2)의 이송 방향인 X축 방향과 직교하는 Y축 방향과 나란한 방향으로 업다운 가이드 레일이 배치된다. 상기 업다운 가이드 레일에는 업다운 가이드 레일블록이 슬라이드 가능하게 결합되고, 상기 업다운 가이드 레일블록은 하부 슬라이더(827)에 연결되어, 상기 하부 슬라이더(827)가 업다운 엘엠 가이드에 의해 메인 프레임(110)의 PI Film(2) 이송 방향과 직교하는 방향으로 이동될 수 있도록 구성된다. 이때, 하부 슬라이더(827)의 저면에 업다운 가이드 레일홈이 구비되고, 메인 프레임(110)에서 PI Film(2)의 이송 방향인 X축 방향과 직교하는 Y축 방향과 나란한 방향으로 업다운 가이드 레일이 배치되어, 상기 하부 슬라이더(827)의 업다운 가이드 레일홈이 상기 업다운 가이드 레일에 슬라이드 가능하게 결합되도도록 구성될 수도 있다. 이러한 경우에는 업다운 엘엠 가이드는 상기 업다운 가이드 레일홈과 상기 업다운 가이드 레일로 구성된다.The lower slider 827 is movably coupled to the inner lower surface of the bonding base support block 826 by an up-down LM guide. The up-down LM guide is composed of an up-down guide rail and an up-down guide rail block, and the up-down guide rail is disposed in the front-rear direction of the bonding base support block 826 . In the main frame 110 , an up-down guide rail is disposed in a direction parallel to the Y-axis direction orthogonal to the X-axis direction, which is the transport direction of the PI Film 2 . An up-down guide rail block is slidably coupled to the up-down guide rail, the up-down guide rail block is connected to a lower slider 827, and the lower slider 827 is PI of the main frame 110 by an up-down LM guide. Film (2) is configured to be movable in a direction orthogonal to the transport direction. At this time, an up-down guide rail groove is provided on the bottom surface of the lower slider 827, and the up-down guide rail is parallel to the Y-axis direction orthogonal to the X-axis direction, which is the transport direction of the PI Film (2) in the main frame 110. It may be arranged so that the up-down guide rail groove of the lower slider 827 is slidably coupled to the up-down guide rail. In this case, the up-down LM guide includes the up-down guide rail groove and the up-down guide rail.

상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)에는 승강 작동 서보모터(832)가 장착된다. 승강 작동 서보모터(832)의 모터축은 메인 프레임(110)의 PI Film(2) 이송 방향과 직교하는 방향(Y축 방향)과 나란한 방향으로 배치된다. 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축에는 승강 작동 볼나사(833)가 구비된다. 승강 작동 볼나사(833)도 상기 Y축 방향으로 배치된다.A lifting operation servo motor 832 is mounted on the bonding base support block 826 . The motor shaft of the lifting operation servomotor 832 is disposed in a direction perpendicular to the PI Film (2) transport direction (Y-axis direction) of the main frame 110 and in a direction parallel to the direction. The lifting operation ball screw 833 is provided on the motor shaft of the lifting operation servo motor 832 . The lifting operation ball screw 833 is also disposed in the Y-axis direction.

상기 승강 작동 볼나사(833)에는 승강 작동 볼너트(834)가 결합된다. 승강 작동 볼나사(833)가 하부 슬라이더(827)의 후면에 구비되고, 상기 승강 작동 볼너트(834)가 승강 작동 서보모터(832)의 모터축에 구비된 승강 작동 볼나사(833)에 결합된다.The lifting operation ball nut 834 is coupled to the lifting operation ball screw 833 . The lifting operation ball screw 833 is provided on the rear surface of the lower slider 827 , and the lifting operation ball nut 834 is coupled to the lifting operation ball screw 833 provided on the motor shaft of the lifting operation servo motor 832 . do.

상기 하부 슬라이더(827)에는 승강 작동 서보모터(832)의 모터축이 연결된다. 상기 승강 작동 서보모터(832)는 본딩 베이스 서포트 블록(826)에 볼트와 브라켓과 같은 고정수단에 의해 고정되고, 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축에는 승강 작동 볼나사(833)가 구비되고, 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)에는 승강 작동 볼너트(834)가 구비되고, 상기 승강 작동 볼너트(834)가 상기 슬라이더 볼나사에 결합된다. 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축은 PI Film(2)의 이송 경로와 직교하는 방향으로 배치된 상태에서 하부 슬라이더(827)에 연결된다. 하부 슬라이더(827)의 일측면에서 볼 때에 승강 작동 서보모터(832)의 모터축이 하부 슬라이더(827)의 후면에 연결된다.A motor shaft of a lifting operation servo motor 832 is connected to the lower slider 827 . The lifting operation servomotor 832 is fixed to the bonding base support block 826 by fixing means such as bolts and brackets, and a lifting operation ball screw 833 is provided on the motor shaft of the lifting operation servomotor 832 . A lifting operation ball nut 834 is provided on the bonding base support block 826 , and the lifting operation ball nut 834 is coupled to the slider ball screw. The motor shaft of the lifting operation servomotor 832 is connected to the lower slider 827 in a state in which it is disposed in a direction orthogonal to the transport path of the PI Film (2). When viewed from one side of the lower slider 827 , the motor shaft of the lifting operation servo motor 832 is connected to the rear surface of the lower slider 827 .

상기 하부 슬라이더(827)는 업다운 작동부에 의해 전후진하도록 구성된다. 본 발명에서 업다운 작동부는 승강 작동 서보모터(832)와 승강 작동 볼나사(833) 및 승강 작동 볼너트(834)와 상부 슬라이더 및 하부 슬라이더를 포함한다.The lower slider 827 is configured to move forward and backward by an up-down operation unit. In the present invention, the up-down operation unit includes a lifting operation servo motor 832 , a lifting operation ball screw 833 , a lifting operation ball nut 834 , and an upper slider and a lower slider.

따라서, 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축이 정역회전하면 승강 작동 볼나사(833)가 정역회전하여 승강 작동 볼너트(834)에 연결된 하부 슬라이더(827)가 업다운 엘엠 가이드에 의해서 PI Film(2)의 이송 방향과 직교하는 Y축 방향을 따라 전진하거나 후진할 수 있게 된다. 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축과 승강 작동 볼나사(833)가 정역회전하면, 하부 슬라이더(827)가 연결된 하부 업다운 이동 볼너트가 하부 업다운 엘엠 가이드의 업다운 가이드 레일을 따라 전후진하므로, 상기 하부 업다운 이동 볼너트에 연결된 하부 슬라이더(827)가 PI Film(2)의 이송 방향과 직교하는 Y축 방향을 따라 전진하거나 후진할 수 있게 되는 것이다. 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축의 회전력이 승강 작동 볼나사(833)와 승강 작동 볼너트(834)에 의해서 직선운동으로 전환되어 업다운 엘엠 가이드에 의해 상기 하부 슬라이더(827)가 PI Film(2)의 이송 방향과 직교하는 Y축 방향으로 전후진할 수 있게 된다. 하부 슬라이더(827)가 PI Film(2)의 이송 방향과 직교하는 방향으로 이동할 때에 하부 업다운 경사면(827SF)도 PI Film(2)의 이송 방향과 직교하는 방향으로 이동할 수 있게 된다.Therefore, when the motor shaft of the lifting operation servomotor 832 rotates forward and reverse, the lifting operation ball screw 833 rotates forward and reverse, and the lower slider 827 connected to the lifting operation ball nut 834 moves up and down by the LM guide. It becomes possible to move forward or backward along the Y-axis direction orthogonal to the feed direction of (2). When the motor shaft of the lifting operation servo motor 832 and the lifting operation ball screw 833 rotate forward and reverse, the lower up-down movement ball nut to which the lower slider 827 is connected moves forward and backward along the up-down guide rail of the lower up-down LM guide. , the lower slider 827 connected to the lower up-down movement ball nut can move forward or backward along the Y-axis direction orthogonal to the transport direction of the PI Film (2). The rotational force of the motor shaft of the lifting operation servomotor 832 is converted into a linear motion by the lifting operation ball screw 833 and the lifting operation ball nut 834, and the lower slider 827 is moved by the PI Film ( It becomes possible to move forward and backward in the Y-axis direction orthogonal to the transfer direction of 2). When the lower slider 827 moves in a direction perpendicular to the transport direction of the PI Film 2 , the lower up-down inclined surface 827SF can also move in a direction perpendicular to the transport direction of the PI Film 2 .

상기 하부 슬라이더(827)의 위에 상부 슬라이더(828)가 배치된다. 상기 상부 슬라이더(828)는 테이블 업다운 슬라이더라 할 수 있다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 공간부에 상부 슬라이더(828)가 구비된다. 상기 상부 슬라이더(828)의 저면은 상부 업다운 경사면(828SF)으로 구성된다. 상기 상부 슬라이더(828)는 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 공간부에 승강 가능하게 내장된다. 즉, 상부 슬라이더(828)는 슬라이더 승강 엘엠 가이드에 의해서 본딩 베이스 서포트 블록(826)에 승강 가능하게 결합된다. 상부 슬라이더(828)는 메인 프레임(110)의 이송 경로를 따라 지나가는 PI Film(2)의 아래에서 승강되도록 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 공간부에 내장된다. 상기 상부 슬라이더(828)의 저면을 이루는 상부 업다운 경사면(828SF)은 한쪽은 상대적으로 다른 쪽보다 높은 경사면이다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 한쪽 옆에서 볼 때에 상부 업다운 경사면(828SF)의 높은 쪽이 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 후방 쪽에 배치되고, 상부 업다운 경사면(828SF)의 낮은 쪽이 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 전방 쪽에 배치된다. 상기 상부 슬라이더(828) 저면의 상부 업다운 경사면(828SF)은 하부 슬라이드 상면의 하부 업다운 경사면(827SF)에 맞닿아 있다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 일측면에서 볼 때에 상부 슬라이더(828)의 상부 업다운 경사면(828SF)과 하부 슬라이더(827)의 하우 업다운 경사면이 서로 맞닿아 있는 상태에서 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 후방에서 전방 쪽으로 기울어진 경사면으로 형성된다.An upper slider 828 is disposed on the lower slider 827 . The upper slider 828 may be referred to as a table up-down slider. An upper slider 828 is provided in the inner space of the bonding base support block 826 . The bottom surface of the upper slider 828 is composed of an upper up-down inclined surface 828SF. The upper slider 828 is embedded in the inner space of the bonding base support block 826 to be liftable. That is, the upper slider 828 is coupled to the bonding base support block 826 to be elevating by the slider elevating LM guide. The upper slider 828 is embedded in the inner space of the bonding base support block 826 so as to be raised and lowered under the PI Film 2 passing along the transport path of the main frame 110 . One of the upper up-down inclined surfaces 828SF constituting the bottom surface of the upper slider 828 is a relatively higher inclined surface than the other. When viewed from one side of the bonding base support block 826, the high side of the upper up-down inclined surface 828SF is disposed on the rear side of the bonding base support block 826, and the lower side of the upper up-down inclined surface 828SF is the bonding base support It is disposed on the front side of block 826 . The upper up-down inclined surface 828SF of the lower surface of the upper slider 828 is in contact with the lower up-down inclined surface 827SF of the upper surface of the lower slide. When viewed from one side of the bonding base support block 826, the upper up-down inclined surface 828SF of the upper slider 828 and the lower up-down inclined surface of the lower slider 827 are in contact with each other. Bonding base support block 826 It is formed as a slope inclined from the rear to the front of the

상기 업다운 가동수단을 구성하는 승강 작동 서보모터(832)의 모터축과 승강 작동 볼나사(833)가 한쪽 방향으로 회전함에 따라 하부 슬라이더(827)가 전진한다. 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 한쪽 측면에서 볼 때에 하부 슬라이더(827)가 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 후방에서 전방 쪽으로 전진한다. 그러면, 하부 슬라이더(827)의 하부 업다운 가이드면과 상부 슬라이더(828)의 상부 업다운 가이드면에 의해서 상부 슬라이더(828)가 상승한다.As the motor shaft of the lifting operation servo motor 832 and the lifting operation ball screw 833 constituting the up-down operation means rotate in one direction, the lower slider 827 advances. When viewed from one side of the bonding base support block 826 , the lower slider 827 advances from the rear to the front of the bonding base support block 826 . Then, the upper slider 828 rises by the lower up-down guide surface of the lower slider 827 and the upper up-down guide surface of the upper slider 828 .

상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축과 승강 작동 볼나사(833)가 다른 쪽 방향으로 회전함에 따라 하부 슬라이더(827)가 후진한다. 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 한쪽 측면에서 볼 때에 하부 슬라이더(827)가 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 전방에서 후방 쪽으로 전진한다. 그러면, 하부 슬라이더(827)의 하부 업다운 가이드면과 상부 슬라이더(828)의 상부 업다운 가이드면에 의해서 상부 슬라이더(828)가 하강한다.As the motor shaft of the lifting operation servo motor 832 and the lifting operation ball screw 833 rotate in the other direction, the lower slider 827 moves backward. When viewed from one side of the bonding base support block 826 , the lower slider 827 advances from the front to the rear of the bonding base support block 826 . Then, the upper slider 828 descends by the lower up-down guide surface of the lower slider 827 and the upper up-down guide surface of the upper slider 828 .

상기 상부 슬라이더(828)의 상면에는 단열재(835)가 구비된다. 상기 단열재(835) 위에 베이스 테이블(822)이 구비된다. 베이스 테이블(822)의 하부와 상부 슬라이더(828)의 상면 사이에 단열재(835)가 개재된다. 즉, 상기 베이스 테이블(822)의 하부에는 상부 슬라이더(828)가 구비되고, 상기 상부 슬라이더(828)의 저면은 상부 업다운 경사면(828SF)으로 구성되고, 상기 상부 슬라이더(828)의 아래에는 하부 슬라이더(827)가 구비되고, 상기 하부 슬라이더(827)의 상면은 상기 상부 업다운 경사면(828SF)과 면접촉되는 하부 업다운 경사면(827SF)으로 구성되며, 상기 하부 슬라이더(827)는 업다운 작동부에 의해 전후진하고, 상기 하부 슬라이더(827)가 전후진 작동함에 따라 상부 슬라이더(828)와 베이스 테이블(822)를 승강시키게 된다. 물론 단열재(835)도 상부 슬라이더(828)와 베이스 테이블(822)와 함께 승강된다.A heat insulating material 835 is provided on the upper surface of the upper slider 828 . A base table 822 is provided on the insulator 835 . A heat insulating material 835 is interposed between the lower portion of the base table 822 and the upper surface of the upper slider 828 . That is, an upper slider 828 is provided under the base table 822 , a bottom surface of the upper slider 828 is composed of an upper up-down inclined surface 828SF, and a lower slider is below the upper slider 828 . 827 is provided, and the upper surface of the lower slider 827 includes a lower up-down inclined surface 827SF that is in surface contact with the upper up-down inclined surface 828SF, and the lower slider 827 is moved back and forth by an up-down operation unit. As the lower slider 827 moves forward and backward, the upper slider 828 and the base table 822 are raised and lowered. Of course, the heat insulating material 835 is also raised and lowered together with the upper slider 828 and the base table 822 .

상기 진공 유닛은 베이스 테이블(822)의 내부에 확보된 진공 형성홀(824VH)과, 상기 진공 형성홀(824VH)에 연결되어 베이스 테이블(822)의 상면으로 연통된 복수개의 흡착홀(824SH);을 포함한다.The vacuum unit includes a vacuum forming hole (824VH) secured inside the base table (822), and a plurality of suction holes (824SH) connected to the vacuum forming hole (824VH) and communicating with the upper surface of the base table (822); includes

상기 진공척(824)은 베이스 테이블(822)의 내부에 확보된 진공 형성홀(824VH)과, 상기 진공 형성홀(824VH)에 연결되어 베이스 테이블(822)의 상면으로 연통된 복수개의 흡착홀(824SH)을 포함한다.The vacuum chuck 824 includes a vacuum forming hole 824VH secured inside the base table 822 and a plurality of suction holes connected to the vacuum forming hole 824VH and communicating with the upper surface of the base table 822 ( 824SH).

상기 진공 형성홀(824VH)은 베이스 테이블(822)의 내부에 진공을 형성하기 위한 통로를 형성한다. 상기 진공 형성홀(824VH)에는 미도시된 진공장치가 배큐엄 니플과 연결관과 같은 연결수단을 매개로 연결된다.The vacuum forming hole 824VH forms a passage for forming a vacuum inside the base table 822 . A vacuum device (not shown) is connected to the vacuum forming hole 824VH through a connecting means such as a vacuum nipple and a connecting pipe.

상기 복수개의 흡착홀(824SH)들은 진공 형성홀(824VH)과 연통된다. 복수개의 흡착홀(824SH)들이 베이스 테이블(822)에 격자 배열 형태로 분포된다. 복수개의 흡착홀(824SH)들이 베이스 테이블(822)의 상면에 균일한 간격으로 격자 형태로 배열된 구조가 된다. 상기 진공 형성홀(824VH)에 진공장치의 작동에 의해 진공이 형성되면 상기 복수개의 흡착홀(824SH)들에서는 베이스 테이블(822)의 상면에 얹혀진 PI Film(2)을 진공압으로 흡착하여 베이스 테이블(822)의 상면에 고정하게 된다. 베이스 테이블(822)의 상면에 균일한 격자형으로 배열된 복수개의 흡착홀(824SH)들에 의해서 PI Film(2)을 균일한 진공압으로 흡착하여 진공 흡착 플레이트의 상면에 안정적으로 밀착되도록 고정하는 것이다.The plurality of adsorption holes 824SH communicate with the vacuum forming hole 824VH. A plurality of suction holes 824SH are distributed on the base table 822 in a grid arrangement. A plurality of suction holes 824SH are arranged in a lattice form at uniform intervals on the upper surface of the base table 822 . When a vacuum is formed in the vacuum forming hole 824VH by the operation of a vacuum device, the PI Film 2 placed on the upper surface of the base table 822 is adsorbed by vacuum pressure in the plurality of adsorption holes 824SH to the base table. It is fixed to the upper surface of the 822. The PI Film (2) is adsorbed with a uniform vacuum pressure by a plurality of adsorption holes (824SH) arranged in a uniform grid on the upper surface of the base table 822 and fixed to be stably adhered to the upper surface of the vacuum adsorption plate. will be.

또한, 상기 메인 프레임(110)의 메인 베이스(112)에는 본딩 베이스 지지패널(837)이 장착된다. 상기 메인 베이스(112)의 아래에 본딩 베이스 지지패널(837)이 장착된다. 본딩 베이스 지지패널(837)은 브라켓과 볼트 등의 체결구와 같은 고정수단으로 메인 베이스(112)의 아래에 장착될 수 있다.In addition, a bonding base support panel 837 is mounted on the main base 112 of the main frame 110 . A bonding base support panel 837 is mounted under the main base 112 . The bonding base support panel 837 may be mounted under the main base 112 by fixing means such as fasteners such as brackets and bolts.

상기 베이스 테이블(820)는 엘엠 가이드에 의해 본딩 베이스 지지패널(837)에 이동 가능하게 결합된다.The base table 820 is movably coupled to the bonding base support panel 837 by the LM guide.

상기 본딩 베이스 지지패널(837)의 상면에는 가이드 레일(837GR)이 구비된다. 상기 가이드 레일은 메인 프레임(110)의 X축 방향(즉, PI Film(2)이 지나가는 X축 방향)과 나란한 방향으로 배치된다. 적어도 두 개의 가이드 레일이 이동 가이드 패널(714)의 상면에 나란하게 배치된다.A guide rail 837GR is provided on the upper surface of the bonding base support panel 837 . The guide rail is disposed in a direction parallel to the X-axis direction of the main frame 110 (ie, the X-axis direction through which the PI Film 2 passes). At least two guide rails are disposed side by side on the upper surface of the moving guide panel 714 .

상기 가이드 레일에는 블록(837RB)이 슬라이드 가능하게 결합된다. 각각의 가이드 레일에 블록이 슬라이드 가능하게 결합된다.A block 837RB is slidably coupled to the guide rail. A block is slidably coupled to each guide rail.

상기 블록(837RB)이 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 하부에 연결된다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 하단부에는 테이블 장착 베이스(826TMB)가 구비되고, 상기 테이블 장착 베이스(837TMB)의 저면에 상기 블록(837RB)이 연결된다. 결국, 상기 블록(837RB)이 베이스 테이블(820)의 구성인 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 하부에 연결된 구조가 된다. 이때, 상기 메인 프레임(110)의 메인 베이스(112)에는 X축 방향을 따라 길게 연장된 블록 이동 가이드홀이 구비되어, 상기 블록이 메인 베이스(112)의 블록 이동 가이드홀에 의해 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826) 하단부의 테이블 장착 베이스에 볼트와 같은 고정수단으로 연결될 수 있다. 상기 메인 베이스(112)에 블록 이동 가이드홀은 블록의 갯수에 대응되는 갯수로 형성된다. 두 개의 가이드 레일에 두 개의 블록이 결합된 경우, 상기 메인 베이스(112)의 블록 이동 가이드홀은 두 개가 구비된다.The block 837RB is connected to the bottom of the bonding base support block 826 . A table mounting base 826TMB is provided at a lower end of the bonding base support block 826 , and the block 837RB is connected to a lower surface of the table mounting base 837TMB. As a result, the block 837RB has a structure connected to the lower portion of the bonding base support block 826 constituting the base table 820 . At this time, the main base 112 of the main frame 110 is provided with a block movement guide hole extending along the X-axis direction, so that the block is supported by the bonding base by the block movement guide hole of the main base 112 . The block 826 may be connected to the table mounting base at the lower end by a fixing means such as a bolt. The number of block movement guide holes in the main base 112 corresponds to the number of blocks. When two blocks are coupled to two guide rails, two block movement guide holes of the main base 112 are provided.

결국, 상기 가이드 레일과 블록이 엘엠 가이드로서, 상기 베이스 테이블(820)가 엘엠 가이드에 의해 메인 프레임(110)의 메인 베이스(112) 아래에 있는 본딩 베이스 지지패널(837)에 결합되어, 상기 베이스 테이블(820)가 메인 프레임(110)의 PI Film(2)이 지나가는 X축 방향으로 이동될 수 있도록 구성된다.As a result, the guide rail and the block are LM guides, and the base table 820 is coupled to the bonding base support panel 837 under the main base 112 of the main frame 110 by the LM guide, and the base The table 820 is configured to be movable in the X-axis direction through which the PI Film 2 of the main frame 110 passes.

상기 본딩 베이스 지지패널(837)의 상면에는 볼트 등의 체결구과 브라켓으로 지지된 본딩 베이스 이동 볼나사(839)가 장착된다. 본딩 베이스 이동 볼나사(839)는 상기 엘엠 가이드의 가이드 레일과 나란한 방향으로 배치된다. 즉, 본딩 베이스 이동 볼나사(839)가 메인 프레임(110)의 PI Film(2)이 지나가는 X축 방향과 나란한 방향으로 배치된다.A bonding base moving ball screw 839 supported by a fastener such as a bolt and a bracket is mounted on the upper surface of the bonding base support panel 837 . The bonding base moving ball screw 839 is disposed in a direction parallel to the guide rail of the LM guide. That is, the bonding base moving ball screw 839 is disposed in a direction parallel to the X-axis direction through which the PI Film 2 of the main frame 110 passes.

상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)에는 본딩 베이스 이동 볼너트(841)가 구비된다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 하단부에 결합된 테이블 장착 베이스에 본딩 베이스 이동 볼너트(841)가 결합되므로, 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)에는 본딩 베이스 이동 볼너트(841)가 구비된 구조가 된다.The bonding base support block 826 is provided with a bonding base moving ball nut 841 . Since the bonding base moving ball nut 841 is coupled to the table mounting base coupled to the lower end of the bonding base support block 826, the bonding base moving ball nut 841 is provided in the bonding base support block 826. becomes

상기 본딩 베이스 이동 볼너트(841)가 본딩 베이스 이동 볼나사(839)에 결합되어, 상기 본딩 베이스 이동 볼나사(839)의 회전에 따라 본딩 베이스 이동 볼너트(841)와 베이스 테이블(820)가 메인 프레임(110)의 X축 방향으로 이동될 수 있게 된다.The bonding base moving ball nut 841 is coupled to the bonding base moving ball screw 839, and according to the rotation of the bonding base moving ball screw 839, the bonding base moving ball nut 841 and the base table 820 are It is possible to move in the X-axis direction of the main frame 110 .

이때, 상기 메인 베이스(112)의 저면 또는 상기 본딩 베이스 지지패널(837)에는 본딩 베이스 이동 서보모터(843)가 장착되고, 상기 본딩 베이스 이동 서보모터(843)의 모터축은 본딩 베이스 이동 볼나사(839)에 연결되어, 상기 본딩 베이스 이동 서보모터(843)의 모터축이 회전함에 따라 본딩 베이스 이동 볼나사(839)가 회전하고, 본딩 베이스 이동 볼너트(841)와 베이스 테이블(820)가 메인 프레임(110)의 X축 방향을 따라 이동될 수 있다. 상기 메인 프레임(110)의 메인 베이스(112)에는 X축 방향으로 이동 가이드홀이 구비되어, 상기 본딩 베이스 이동 볼너트(841)와 상기 블록이 메인 베이스(112)에 걸리지 않고 상기 이동 가이드홀을 따라 X축 방향으로 상기 블록과 본딩 베이스 이동 볼너트(841)이 이동할 수 있고, 상기 블록과 본딩 베이스 이동 볼너트(841)가 하부에 연결된 베이스 테이블(820)가 메인 프레임(110)에서 X축 방향을 따라 이동될 수 있다. 즉, 상기 본딩 베이스 이동 서보모터(843)의 모터축의 회전 운동이 본딩 베이스 이동 볼나사(839)와 본딩 베이스 이동 볼너트(841)에 의해 직선 운동으로 전환되어 상기 베이스 테이블(820)가 메인 프레임(110)의 X축 방향으로 이동되도록 구성된다.At this time, a bonding base movement servo motor 843 is mounted on the bottom surface of the main base 112 or the bonding base support panel 837, and the motor shaft of the bonding base movement servo motor 843 is a bonding base movement ball screw ( 839), as the motor shaft of the bonding base movement servo motor 843 rotates, the bonding base movement ball screw 839 rotates, and the bonding base movement ball nut 841 and the base table 820 are main The frame 110 may be moved along the X-axis direction. The main base 112 of the main frame 110 is provided with a movement guide hole in the X-axis direction, so that the bonding base movement ball nut 841 and the block are not caught in the main base 112 and the movement guide hole is provided. Accordingly, the block and the bonding base moving ball nut 841 can move in the X-axis direction, and the base table 820 connected to the lower part of the block and the bonding base moving ball nut 841 is connected to the main frame 110 by the X-axis. It can be moved along the direction. That is, the rotational motion of the motor shaft of the bonding base moving servomotor 843 is converted into a linear motion by the bonding base moving ball screw 839 and the bonding base moving ball nut 841, so that the base table 820 is the main frame. (110) is configured to move in the X-axis direction.

즉, 상기 메인 프레임(110)에는 본딩 베이스 지지패널이 구비되고, 상기 본딩 베이스 지지패널(837)의 상면에는 가이드 레일(837GR)이 구비되고, 상기 가이드 레일은 메인 프레임(110)의 X축 방향과 나란한 방향으로 배치되고, 상기 가이드 레일에는 블록(837RB)이 슬라이드 가능하게 결합되고, 상기 블록은 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 하부에 연결되고, 상기 베이스 테이블(822)은 본딩 베이스 지지패널에 결합되고, 상기 베이스 테이블이 메인 프레임(110)의 PI Film(2)이 지나가는 X축 방향으로 이동될 수 있도록 구성된다.That is, the main frame 110 is provided with a bonding base support panel, and a guide rail 837GR is provided on the upper surface of the bonding base support panel 837 , and the guide rail is in the X-axis direction of the main frame 110 . and a block 837RB is slidably coupled to the guide rail, the block is connected to the lower portion of the bonding base support block 826, and the base table 822 is attached to the bonding base support panel. It is coupled, and the base table is configured to be movable in the X-axis direction through which the PI Film 2 of the main frame 110 passes.

상기 플렉시블 필름에 탑재된 상기 소자는 본딩 가압수단에 의해 가압되고, 상기 베이스 테이블(822)은 아래에서 플렉시블 필름과 소자를 받쳐주도록 구성된다The element mounted on the flexible film is pressed by a bonding pressing means, and the base table 822 is configured to support the flexible film and the element from below.

상기 본딩 가압수단은 승강 슬라이더를 구비하고, 상기 승강 슬라이더에 구비된 쿼츠 홀더에 쿼츠가 결합된다. 승강 슬라이더는 메인 프레임에 승강 가능하게 장착되고, 승강 슬라이더는 프레스 장치나 승강 작동 실린더와 같은 승강 작동수단에 의해 승강 되도록 구성될 수 있다.The bonding pressing means includes an elevating slider, and the quartz is coupled to a quartz holder provided in the elevating slider. The elevating slider is mounted to the main frame to be elevating, and the elevating slider may be configured to be elevated by elevating operation means such as a press device or elevating operation cylinder.

상기 쿼츠의 저면이 아래의 플렉시블 필름과 마주하고, 상기 쿼츠의 저면은 수평면으로 구성된다. 상기 승강 슬라이더(854)의 하부에는 쿼츠 홀더(854HD)가 고정되고, 상기 쿼츠 홀더(854HD)에는 쿼츠(855)가 결합되어, 상기 승강 슬라이더(854)의 하부에 쿼츠(855)가 배치된다. 이때, 쿼츠(855)는 블록 형상으로 구성되어, 승강 슬라이더(854) 내부의 레이저 조사 공간부와 위아래에서 만나는 위치에 배치된다. 쿼츠(855)는 메인 프레임(110)의 기대(724)에 장착된 레이저 헤드(812)의 렌즈(레이저 광학계 렌즈)와도 위아래에서 만나는 위치에 배치된다. 상기 레이저 헤드(812)에 생성된 레이저가 렌즈를 통과하여 아래로 조사되면, 상기 쿼츠(855)를 통과한 레이저가 메인 프레임(110)의 이송 경로를 따라 지나가는 PI Film(2) 쪽에 조사된다. 이때, 상기 쿼츠(855)는 육면체 블록 형상으로 구성되고, 쿼츠(855)의 저면은 PI Film(2)(플렉시블 필름)과 마주하고, 상기 쿼츠(855)의 저면은 수평면으로 구성된다. 쿼츠(855)의 저면이 수평면으로서 PI Film(2)을 쿼츠(855)의 저면 전체면이 균일한 힘으로 가압할 수 있도록 구성된다. 쿼츠(855)의 저면 전체면이 균일한 수평면이므로, 쿼츠(855)의 저면 전체면이 PI Film(2)을 위에서 균일한 힘으로 누를 수 있게 되는 것이다.A bottom surface of the quartz faces the flexible film below, and the bottom surface of the quartz is configured as a horizontal plane. A quartz holder 854HD is fixed to a lower portion of the elevating slider 854 , and a quartz 855 is coupled to the quartz holder 854HD, and a quartz 855 is disposed under the elevating slider 854 . At this time, the quartz 855 is configured in a block shape, and is disposed at a position where it meets the laser irradiation space inside the elevating slider 854 at the top and bottom. The quartz 855 is disposed at a position where it also meets the lens (laser optical system lens) of the laser head 812 mounted on the base 724 of the main frame 110 from above and below. When the laser generated in the laser head 812 passes through the lens and is irradiated downward, the laser passing through the quartz 855 is irradiated to the PI Film 2 passing along the transport path of the main frame 110 . At this time, the quartz 855 is configured in a hexahedral block shape, the bottom surface of the quartz 855 faces the PI Film 2 (flexible film), and the bottom surface of the quartz 855 is configured as a horizontal plane. The bottom surface of the quartz 855 is a horizontal plane, and the entire bottom surface of the quartz 855 is configured to press the PI Film 2 with a uniform force. Since the entire bottom surface of the quartz 855 is a uniform horizontal surface, the entire bottom surface of the quartz 855 can press the PI Film 2 from above with a uniform force.

상기 플렉시블 필름에 탑재된 소자는 본딩 가압수단에 의해 가압되고, 상기 베이스 테이블(822)은 아래에서 플렉시블 필름과 소자를 받쳐주도록 구성된다.The element mounted on the flexible film is pressed by a bonding pressing means, and the base table 822 is configured to support the flexible film and the element from below.

상기 본딩 가압수단은 승강 슬라이더를 구비하고, 상기 승강 슬라이더에 구비된 쿼츠 홀더에 쿼츠가 결합된다. 상기 승강 슬라이더는 프레스 장치나 승강 작동 실린더와 같은 공지의 승강 작동수단에 의해 상기 베이스 테이블 위쪽에서 승강될 수 있다.The bonding pressing means includes an elevating slider, and the quartz is coupled to a quartz holder provided in the elevating slider. The elevating slider may be elevated above the base table by a known elevating operation means such as a press device or an elevating operating cylinder.

상기 베이스 테이블의 상면에 소자(주로 반도체 소자)가 탑재된 PI Film(2)이 배치된 상태에서 상기 승강 슬라이더가 내려오면, 쿼츠(855)를 내리 눌러서 상기 쿼츠(855)가 PI Film(2)에 탑재된 소자를 일정 압력으로 가압하고, 상기 레이저 헤드(812)에서부터 쿼츠(855)의 저면으로 조사된 레이저에 의해서 소자가 본딩 페이스트에 의해 PI Film(2)에 본딩되도록 한다.When the elevating slider descends in a state where the PI Film (2) on which the element (mainly semiconductor element) is mounted is placed on the upper surface of the base table, the quartz 855 is pushed down to release the quartz 855 to the PI Film (2). Pressing the device mounted on the device with a certain pressure, the device is bonded to the PI Film 2 by a bonding paste by the laser irradiated from the laser head 812 to the bottom of the quartz 855 .

베이스 테이블 위에 받쳐진 PI Film(2) 위의 소자(반도체 소자)를 하강한 쿼츠(855)가 가압하여 본딩 페이스트에 의해 PI Film(2) 위에 본딩시키게 되는 것이다. 이때, 상기 쿼츠(855)의 저면에는 실리콘 블록이 구비될 수 있으며, 이러한 경우에는 실리콘 블록이 소자(3)에 접촉되어 PI Film(2) 위에 소자(3)를 본딩시키게 된다.The quartz 855, which descends the element (semiconductor element) on the PI Film 2 supported on the base table, presses it, and bonds it onto the PI Film 2 by the bonding paste. At this time, a silicon block may be provided on the bottom surface of the quartz 855 , and in this case, the silicon block contacts the device 3 to bond the device 3 on the PI Film 2 .

상기 승강 슬라이더(854) 및 쿼츠(855)를 내리 눌러서 상기 쿼츠(855)가 PI Film(2)에 탑재된 소자(3)를 베이스 테이블(822)의 상면에 일정 압력으로 가압하게 되는데, 상기와 같이, 승강 작동 서보모터(832)에 의해 승강 작동 볼나사((833)(테이블 업다운 슬라이더 볼나사)가 회전하면서 승강 작동 볼너트(834)에 의해 하부 슬라이더(827)의 전후진에 따라 상부 슬라이더(828)(테이블 업다운 슬라이더)가 상승 또는 하강하는데, 상기 상부 슬라이더(828)의 상승에 의해서 베이스 테이블(822)의 상면이 소자(3)가 탑재된 PI Film(2)의 저면에 접촉된 상태에서 배큐엄 니플과 진공 형성홀(824VH)을 통해서 진공이 형성되며, 흡착홀(824SH)을 통해서 PI Film(2)을 진공압으로 흡착한다. 상기 배큐엄 니플은 미도시된 진공발생장치에 호스 등의 연결관을 매개로 연결되고, 배큐엄 니플은 베이스 테이블(822)의 내부에 구비진 진공 형성홀(824VH)에 연결되어, 진공발생장치에서 발생한 진공에 의해 베이스 테이블(822)의 내부 진공 형성홀(824VH)에 진공압이 형성되고, 진공압은 진공 형성홀(824VH)로부터 베이스 테이블(822)의 상면으로 연통된 흡착홀(824SH)을 통해서 작용하여 상기 PI Film(2)이 진공압에 의해서 베이스 테이블(822)의 상면에 안정적으로 흡착 고정된다.By pressing down the elevating slider 854 and the quartz 855, the element 3 in which the quartz 855 is mounted on the PI Film 2 is pressed to the upper surface of the base table 822 with a constant pressure, and Similarly, the upper slider 827 moves forward and backward by the lifting operation ball nut 834 while the lifting operation ball screw 833 (table up-down slider ball screw) is rotated by the lifting operation servo motor 832. A state in which the upper surface of the base table 822 is in contact with the lower surface of the PI Film 2 on which the element 3 is mounted due to the rise of the upper slider 828 while the 828 (table up-down slider) rises or descends. A vacuum is formed through the vacuum nipple and the vacuum forming hole 824VH, and the PI Film 2 is adsorbed by vacuum pressure through the adsorption hole 824SH The vacuum nipple is connected to a vacuum generator (not shown) with a hose. It is connected through a connecting pipe such as a vacuum nipple, and the vacuum nipple is connected to a vacuum forming hole (824VH) provided in the interior of the base table 822, and the internal vacuum of the base table 822 is generated by the vacuum generated by the vacuum generator. A vacuum pressure is formed in the forming hole 824VH, and the vacuum pressure acts from the vacuum forming hole 824VH through the suction hole 824SH connected to the upper surface of the base table 822, so that the PI Film 2 is subjected to vacuum pressure. Thus, it is stably adsorbed and fixed to the upper surface of the base table 822 .

상기 승강 슬라이더(854)에는 쿼츠 홀더(854HD) 및 쿼츠(855)가 연결되어 있어서, 상기 승강 슬라이더(854)가 하강하면, PI Film(2)과 소자(3)(주로 반도체 소자)를 가압하게 된다.A quartz holder 854HD and a quartz 855 are connected to the elevating slider 854, so that when the elevating slider 854 is lowered, the PI Film 2 and the element 3 (mainly a semiconductor element) are pressed. do.

한편, 상기 PI Film(2)은 밑에 있는 베이스 테이블(822)이 받치고 있으면서 진공압으로 고정된 상태로 유지된다.On the other hand, the PI Film (2) is maintained in a fixed state by vacuum pressure while the base table (822) below is supported.

상기 레이저 헤드(812)에서 렌즈(레이저 광학 렌즈)를 통해 레이저를 조사하여 소자(반도체 소자)를 본딩 페이스트와 같은 본딩재에 의해 PI Film(2) 위에 본딩되도록 한다. 이때, 가열용 히터와 온도측청용 센서에 의해 베이스 테이블(822)이 적정 온도(약 100℃)로 유지되도록 한다. 베이스 테이블(822)에 가열용 히터와 온도 측정용 센서가 구비되어, 온도 측정용 센서가 감지하는 온도에 따라 제어부 등에서 가열용 히터가 베이스 테이블(822)를 가열하는 온도가 상기 적정 온도(약 100℃)로 유지되도록 함으로써, 소자가 PI Film(2)에 불량 등의 발생이 없이 안정적으로 본딩되도록 한다.The laser head 812 irradiates a laser through a lens (laser optical lens) to bond the device (semiconductor device) onto the PI Film 2 by a bonding material such as a bonding paste. At this time, the base table 822 is maintained at an appropriate temperature (about 100° C.) by the heater for heating and the sensor for temperature measurement. A heater for heating and a sensor for temperature measurement are provided in the base table 822, and the temperature at which the heater for heating in the control unit or the like heats the base table 822 according to the temperature detected by the sensor for temperature measurement is set to the appropriate temperature (about 100). ℃), so that the device is stably bonded to the PI Film (2) without defects or the like.

본 발명에서는 쿼츠(855)가 소자에 접촉되어 소자와 PI Film(2)을 가압한다. 쿼츠(855)가 하강할 때에 소자와 PI Film(2)이 가압되도록 할 수 있다. 쿼츠(855)의 저면이 PI Film(2)에 탑재된 소자(반도체 소자)에 접촉된 상태에서 소자를 PI Film(2)에 본딩 작업을 수행할 수 있도록 한다.In the present invention, the quartz 855 is in contact with the device to press the device and the PI Film (2). When the quartz 855 descends, the element and the PI Film 2 may be pressed. In a state where the bottom of the quartz 855 is in contact with the device (semiconductor device) mounted on the PI Film (2), the device can be bonded to the PI Film (2).

상기한 구성의 본 발명에 의한 유연디스플레이 소자용 열공정 시스템의 가압 본딩 시스템은 유연디스플레이 장치를 생산하기 위하여 PI Film(2)(Polyimid Film)과 소자(주로 반도체 소자)간의 정밀하고 오차없는 본딩 작업이 가능하며, 공정 수율 및 효율성이 저하되는 경우 등을 방지하기 위한 본딩 작업의 정밀도가 더욱 확실하게 달성할 수 있다. PI Film(2)은 플렉시블 기판의 일종이며, 본 발명에서 기술하는 PI Film(2)과 플렉시블 기판과 유연 디스플레이 필름은 동일한 것으로 이해하면 될 것이다.The pressure bonding system of the thermal process system for a flexible display device according to the present invention of the above configuration is a precise and error-free bonding operation between the PI Film (2) (Polyimid Film) and the device (mainly a semiconductor device) in order to produce a flexible display device. This is possible, and the precision of the bonding operation can be achieved more reliably to prevent the case where the process yield and efficiency are lowered. The PI Film (2) is a kind of flexible substrate, and it will be understood that the PI Film (2) described in the present invention, the flexible substrate, and the flexible display film are the same.

상기 승강 슬라이더(854)가 하강되어 쿼츠가 PI Film(2)과 소자(반도체 소자)를 적절하게 균일한 힘으로 가압하여 소자를 PI Film(2)에 레이저 본딩이 되도록 하는데, 상기 베이스 테이블에 구비된 복수개의 진공 흡착홀에서 작용하는 진공압으로 PI Film(2)과 소자를 흔들림이 없이 안정적으로 흡착 고정한 상태에서 본딩 작업이 이루어지도록 하므로, PI Film(2) 위에 있는 복수개의 소자들을 정밀하게 PI Film(2)에 본딩되도록 할 수 있다. 예를 들어, 쿼츠(855)가 가압할 수 있는 영역에 네 개의 소자가 들어와 있다면, 상기 쿼츠(855)가 네 개의 소자를 가압하여 PI Film(2)에 본딩되도록 하는데, 쿼츠(855)가 네 개의 소자들을 균일한 힘으로 눌러주면서 동시에 베이스 테이블의 진공압으로 PI Film(2)과 소자가 흔드림이 없이 잡아준 상태에서 PI Film(2)에 소자 본딩되도록 하기 때문에, PI Film(2)에 소자를 정밀하게 본딩할 수 있도록 한다. 즉, 상기 베이스 테이블(822)에 진공 형성홀(824VH)과 복수개의 흡착홀(824SH)이 구비되어, 상기 베이스 테이블(822)에 올려져 있는 PI Film(2)을 진공 형성홀(824VH)과 흡착홀(824SH)을 통해서 진공압으로 안정적으로 고정한 상태에서 소자가 PI Film(2) 위에 레이저 본딩되도록 할 수 있으므로, 본딩 작업중에 PI Film(2)과 소자가 유동됨으로 인한 소자 본딩 정밀도가 저하되는 경우를 방지하고, 소자의 본딩(접합) 불량이 발생되는 것을 확실하게 방지할 수 있으며, 나아가 유연디스플레이의 고품질을 보장하고 작업시간 딜레이를 방지하여 작업 능률을 향상시킬 수 있다.The elevating slider 854 is lowered so that the quartz presses the PI Film 2 and the device (semiconductor device) with an appropriate and uniform force so that the device is laser-bonded to the PI Film 2, which is provided on the base table The vacuum pressure acting on the plurality of vacuum adsorption holes allows the bonding operation to be performed while the PI Film (2) and the device are stably adsorbed and fixed without shaking. It can be bonded to the Film (2). For example, if four elements are placed in a region that can be pressed by the quartz 855, the quartz 855 presses the four elements to be bonded to the PI Film 2, and the quartz 855 presses the four elements. PI Film (2) is bonded to the PI Film (2) while pressing the elements with a uniform force while simultaneously holding the PI Film (2) and the element without shaking with the vacuum pressure of the base table. to precisely bond. That is, the base table 822 is provided with a vacuum forming hole 824VH and a plurality of adsorption holes 824SH, so that the PI Film 2 mounted on the base table 822 is formed with a vacuum forming hole 824VH and a vacuum forming hole 824VH. Since the device can be laser-bonded on the PI Film (2) in a state where it is stably fixed with vacuum pressure through the suction hole (824SH), the device bonding precision is lowered due to the flow of the PI Film (2) and the device during the bonding operation. It is possible to prevent cases from occurring, and it is possible to reliably prevent the occurrence of defects in bonding (bonding) of devices, and furthermore, it is possible to improve the work efficiency by guaranteeing the high quality of the flexible display and preventing the working time delay.

또한, 상기 본딩 베이스 이동 서보모터(843)의 모터축의 회전 운동이 본딩 베이스 이동 볼나사(839)와 본딩 베이스 이동 볼너트(841)에 의해 직선 운동으로 전환되어 상기 PI Film(2)의 위치와 소자의 위치에 맞추어서 베이스 테이블(820)을 메인 프레임(110)의 X축 방향, 다시 말해, PI Film(2)의 이송 방향을 따라 이동시킬 수 있으므로, 소자 본딩 작업시 PI Film(2)과 소자 위치에 맞추어 본딩 작업을 더 손쉽고 신속하게 수행할 수 있게 된다.In addition, the rotational motion of the motor shaft of the bonding base moving servomotor 843 is converted into a linear motion by the bonding base moving ball screw 839 and the bonding base moving ball nut 841, so that the position of the PI Film (2) and Since the base table 820 can be moved in the X-axis direction of the main frame 110, that is, along the transport direction of the PI Film 2 according to the position of the device, the PI Film 2 and the device are bonded during device bonding. According to the position, the bonding operation can be performed more easily and quickly.

이상, 본 발명의 특정 실시예에 대하여 상술하였다. 그러나, 본 발명의 사상 및 범위는 이러한 특정 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위 내에서 다양하게 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다.In the above, specific embodiments of the present invention have been described above. However, the spirit and scope of the present invention is not limited to these specific embodiments, and various modifications and variations are possible within the scope that does not change the gist of the present invention. Anyone who has it will understand.

따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Accordingly, since the embodiments described above are provided to fully inform those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs the scope of the invention, it should be understood that they are exemplary in all respects and not limiting, The invention is only defined by the scope of the claims.

2. 플렉시블 필름(PI Film) 3. 소자
110. 메인 프레임 112. 메인 베이스
812. 레이저 헤드 822. 베이스 테이블 824VH. 진공 형성홀 824SH. 흡착홀
826. 본딩 베이스 서포트 블록 827. 하부 슬라이더
827SF. 하부 업다운 경사면 828. 상부 슬라이더
828SF. 상부 업다운 경사면 832. 승강 작동 서보모터
833. 승강 작동 볼나사 834. 승강 작동 볼너트
835. 단열재 837. 본딩 베이스 지지패널
839. 본딩 베이스 이동 볼나사 841. 본딩 베이스 이동 볼너트
843. 본딩 베이스 이동 서보모터
2. Flexible Film (PI Film) 3. Device
110. Main Frame 112. Main Base
812. Laser head 822. Base table 824VH. Vacuum forming hole 824SH. suction hole
826. Bonding base support block 827. Lower slider
827SF. Lower up-down slope 828. Upper slider
828SF. Upper up-down slope 832. Elevating operation servomotor
833. Lifting action ball screw 834. Lifting action ball nut
835. Insulation material 837. Bonding base support panel
839. Bonding base moving ball screw 841. Bonding base moving ball nut
843. Bonding base moving servomotor

Claims (8)

메인 프레임(110)의 이송 라인을 따라 지나가는 플렉시블 필름(2)을 받쳐서 지지하는 베이스 테이블(822);
상기 베이스 테이블(822)에 구비되어 상기 플렉시블 필름(2)을 상기 베이스 테이블(822)의 상면에 진공으로 흡착 고정되도록 하는 진공 유닛(824);을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조.
a base table 822 supporting and supporting the flexible film 2 passing along the transfer line of the main frame 110;
A flexible display device bonding table comprising a; a vacuum unit 824 provided on the base table 822 to adsorb and fix the flexible film 2 on the upper surface of the base table 822 by vacuum structure.
제1항에 있어서,
상기 베이스 테이블(822)은 상기 메인 프레임(110)에 설치된 레이저 헤드(812)의 아래에서 이송 라인을 따라 지나가는 플렉시블 필름(2)을 받쳐서 지지하도록 구성된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조.
According to claim 1,
The base table 822 is a flexible display device bonding table structure, characterized in that it is configured to support and support the flexible film 2 passing along the transfer line under the laser head 812 installed in the main frame 110 .
제1항에 있어서,
상기 진공 유닛(824)은,
상기 베이스 테이블(822)의 내부에 확보된 진공 형성홀(824VH);
상기 진공 형성홀(824VH)에 연결되어 상기 베이스 테이블(822)의 상면으로 연통된 복수개의 흡착홀(824SH);을 포함하는 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조.
According to claim 1,
The vacuum unit 824,
a vacuum forming hole (824VH) secured inside the base table (822);
A flexible display device bonding table structure comprising a; a plurality of suction holes (824SH) connected to the vacuum forming hole (824VH) and communicating with the upper surface of the base table (822).
제3항에 있어서,
상기 베이스 테이블(822)은 내부에 히터가 내장되도록 구성된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조.
4. The method of claim 3,
The base table 822 is a flexible display device bonding table structure, characterized in that configured to have a built-in heater therein.
제1항에 있어서,
상기 베이스 테이블(822)과 상기 진공 유닛(824)은 업다운 작동부에 의해 승강되도록 구성된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조.
According to claim 1,
The base table 822 and the vacuum unit 824 are flexible display device bonding table structure, characterized in that configured to be lifted by an up-down operation unit.
제1항에 있어서,
상기 플렉시블 필름에 탑재된 상기 소자는 본딩 가압수단에 의해 가압되고, 상기 베이스 테이블(822)은 아래에서 상기 플렉시블 필름과 상기 소자를 받쳐주도록 구성된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조.
According to claim 1,
The element mounted on the flexible film is pressed by a bonding pressing means, and the base table 822 is a flexible display element bonding table structure, characterized in that it is configured to support the flexible film and the element from below.
제6항에 있어서,
상기 본딩 가압수단은 승강 슬라이더를 구비하고, 상기 승강 슬라이더에 구비된 쿼츠 홀더에 쿼츠가 결합된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조.
7. The method of claim 6,
The bonding pressing means is provided with an elevating slider, and a flexible display element bonding table structure, characterized in that quartz is coupled to a quartz holder provided in the elevating slider.
제7항에 있어서,
상기 쿼츠의 저면이 아래의 플렉시블 필름과 마주하고, 상기 쿼츠의 저면은 수평면으로 구성된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 본딩 테이블 구조.
8. The method of claim 7,
A flexible display device bonding table structure, characterized in that the lower surface of the quartz faces the flexible film below, and the lower surface of the quartz is configured as a horizontal surface.
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