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KR20150103774A - 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치 - Google Patents

디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치 Download PDF

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KR20150103774A
KR20150103774A KR1020140024879A KR20140024879A KR20150103774A KR 20150103774 A KR20150103774 A KR 20150103774A KR 1020140024879 A KR1020140024879 A KR 1020140024879A KR 20140024879 A KR20140024879 A KR 20140024879A KR 20150103774 A KR20150103774 A KR 20150103774A
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KR
South Korea
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pattern
exposure
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horizontal
area
Prior art date
Application number
KR1020140024879A
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English (en)
Inventor
윤상현
김현석
이희국
박정인
장재혁
김창훈
이기범
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to US14/459,912 priority patent/US20150248062A1/en
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Abstract

평면도 상에서 제1 방향으로 이격되는 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하는 제1 패턴 어레이를 형성하기 위한 디지털 노광 방법에 있어서, 상기 제1 패턴에 대응되는 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 패턴에 대응되는 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터를 생성하는 단계, 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여, 제1 광의 광경로를 변환하여, 기판에 입사되는 제2 광을 생성하는 단계 및 상기 제2 광을 이용하여 상기 기판을 상기 제1 방향과 수직하는 제2 방향을 따라 순차적으로 노광하는 단계를 포함하는 디지털 노광 방법.

Description

디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치 {DIGITAL EXPOSURE METHOD AND DIGITAL EXPOSURE DEVICE FOR PERFORMING THE SAME}
본 발명은 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 패턴의 정밀도를 향상시킬 수 있는 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 표시 기판의 스위칭 소자인 박막 트랜지스터(Thin film transistor, TFT), 신호 배선들을 포함하는 금속 패턴을 형성하기 위해서는, 상기 표시 기판 상에 금속층 및 포토레지스트층을 순차적으로 형성하고, 상기 포토레지스트층의 상부에 상기 금속 패턴에 대응하는 형상의 마스크를 배치한다.
이어서, 상기 마스크의 상부에서 광을 제공하여 상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 상기 마스크의 형상에 대응하는 포토레지스트 패턴을 형성한다. 상기 포토레지스트 패턴을 식각 방지막으로 이용하여 상기 금속층을 식각함으로써 상기 금속 패턴을 형성할 수 있다.
그러나 다수의 금속 패턴들을 포함하는 표시 기판의 경우, 상기 금속 패턴들 각각의 형상이 상이하므로 상기 금속 패턴들의 개수에 따른 다수의 마스크들이 필요하다. 또한, 상기 금속 패턴들 각각의 형상을 변경할 때마다 상기 마스크의 형상도 변경되어야 하므로 마스크를 다시 제작해야 한다. 상기 마스크의 제조비용이 상당히 고가이므로 상기 표시 기판의 생산 원가를 증가시키는 요인이 된다.
이러한 문제점을 해결하기 위해, 마스크를 이용하지 않고 기판에 다수의 빔들을 제공할 수 있는 디지털 노광 장치가 이용되고 있다. 상기 디지털 노광 장치에서, 상기 빔들을 개별적으로 온/오프시켜 상기 기판에 선택적으로 상기 빔들을 제공함으로써, 원하는 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있다.
상기 디지털 노광 장치가 광을 제공할 수 있는 영역은 한정적이므로, 대형화되어 가는 기판에 포토레지스트 패턴을 형성하기 위해서는 상기 디지털 노광 장치 또는 상기 기판을 수회 이송시킬 필요가 있다.
그러나 상기 기판이 상기 디지털 노광 장치에 의해 스캐닝될 때, 상기 디지털 노광 장치가 1회 스캐닝된 영역의 일부와 중첩된 상태로 2회 스캐닝이 수행될 수 있다. 이때, 상기 기판의 상기 중첩 영역은 상기 디지털 노광 장치에 의해서 2번 노광된 영역이 되므로 1번 노광된 영역과의 노광량이 달라지므로, 상기 포토레지스트 패턴을 균일하게 형성할 수 없는 문제가 있다.
이에, 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로 본 발명의 목적은 패턴의 정밀도를 향상시킬 수 있는 디지털 노광 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 디지털 노광 방법을 수행하기 위한 디지털 노광 장치를 제공하는 것이다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 디지털 노광 방법은 평면도 상에서 제1 방향으로 이격되는 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하는 제1 패턴 어레이를 형성하기 위한 디지털 노광 방법에 있어서, 상기 제1 패턴에 대응되는 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 패턴에 대응되는 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터를 생성하는 단계, 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여, 제1 광의 광경로를 변환하여, 기판에 입사되는 제2 광을 생성하는 단계 및 상기 제2 광을 이용하여 상기 기판을 상기 제1 방향과 수직하는 제2 방향을 따라 순차적으로 노광하는 단계를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 광의 광경로는, 디지털 마이크로 미러부에 의해 변환될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 광을 생성하는 단계는 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 디지털 마이크로 미러부의 온/오프 데이터를 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 디지털 마이크로 미러부는 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 기판의 제1 수평 노광 영역을 노광하고, 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 방향을 따라, 상기 제1 수평 노광 영역과 연속적으로 배치되는 제2 수평 노광 영역을 노광하며, 상기 제1 수평 노광 영역과 상기 제2 수평 노광 영역 사이의 경계부는 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 모든 패턴들 및 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 모든 패턴들과 이격될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 디지털 마이크로 미러부는 제1 광을 복수의 광경로들을 갖는 제2 광으로 변환하는 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스 및 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스와 이격된 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스를 포함하며, 상기 기판을 노광하는 단계는 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스를 이용하여 상기 제1 수평 노광 영역을 노광하는 단계 및 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스를 이용하여 상기 제2 수평 노광 영역을 노광하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 디지털 마이크로 미러부의 온/오프 데이터를 생성하는 단계는 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스의 온/오프 데이터를 생성하는 단계 및 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스의 온/오프 데이터를 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스 및 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스는 동시에 상기 기판을 노광할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 수평 노광 영역은 상기 제1 수평 노광 영역과 부분적으로 중첩될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터는 상기 제1 패턴 어레이에 대응되는 그래픽 데이터를 분할하여 생성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 패턴 어레이에 대응되는 상기 그래픽 데이터는 화소 단위로 분할될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 패턴 어레이와 다른 층에 배치되는 제3 패턴에 대응되는 제1 수직 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제3 패턴과 상기 제2 방향으로 이격되는 제4 패턴에 대응되는 제2 수직 패턴 영역 그래픽 데이터를 생성하는 단계, 상기 제1 수직 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여, 상기 제1 광의 광경로를 변환하여, 기판에 입사되는 상기 제2 광을 생성하는 단계 및 상기 제2 광을 이용하여 상기 기판을 상기 제1 방향을 따라 순차적으로 노광하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 수직 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 수직 패턴 영역 그래픽 데이터는 상기 제2 패턴 어레이에 대응되는 그래픽 데이터를 분할하여 생성될 수 있다.
상기한 본 발명의 다른 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 디지털 노광 장치는 기판이 배치되는 스테이지, 제1 광을 발생시키는 광원부, 제1 패턴에 대응되는 제1 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제1 패턴과 평면도 상에서 제1 방향으로 이격되는 제2 패턴에 대응되는 제2 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 광의 광경로를 변경하여 제2 광을 생성하고, 상기 제2 광을 이용하여 상기 기판을 상기 제1 방향과 수직하는 제2 방향을 따라 순차적으로 노광하는 노광부를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 노광부는 상기 제1 광의 광경로를 변경하여 상기 제2 광을 생성하는 복수의 디지털 마이크로 미러들을 포함하는 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스를 포함하고, 상기 노광부는 상기 제1 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 기판의 제1 노광 영역을 노광하고, 상기 제2 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 노광 영역과 상기 제1 방향을 따라 연속적으로 배치되는 제2 노광 영역을 노광할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 노광 영역과 상기 제2 노광 영역 사이의 경계부는 상기 제1 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 모든 패턴들 및 상기 제2 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 모든 패턴들과 이격될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 노광부는 상기 제1 노광 영역과 부분적으로 중첩하여 상기 제2 노광 영역을 노광할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 노광부는 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스와 이격된 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스는 상기 제1 노광 영역을 노광하고, 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스는 상기 제2 노광 영역을 노광할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 패턴 영역 그래픽 데이터는 상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴을 포함하는 제1 패턴 어레이에 대응되는 그래픽 데이터를 분할하여 생성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 패턴 어레이에 대응되는 상기 그래픽 데이터는 화소 단위로 분할될 수 있다.
이와 같은 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치에 따르면, 포토레지스트 패턴을 균일하게 형성할 수 있다. 또한, 표시 장치의 표시 품질을 향상 시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 장치를 나타내는 평면도이다.
도 2는 도 1의 디지털 노광 장치를 나타내는 단면도이다.
도 3은 도 2의 디지털 마이크로 미러부를 나타내는 평면도이다.
도 4는 도 1의 디지털 노광 장치에 의한 노광 영역을 설명하기 위한 개념도이다.
도 5는 제1 패턴 어레이의 그래픽 데이터를 분할하는 방법을 설명하기 위한 개념도이다.
도 6은 도 5의 'A'부분에 대응되는 패턴을 설명하기 위한 확대 평면도이다.
도 7은 제2 패턴 어레이를 노광하는 단계의 기판 이송 방향을 설명하기 위한 디지털 노광 장치의 평면도이다.
도 8은 제2 패턴 어레이의 그래픽 데이터를 분할하는 방법을 설명하기 위한 개념도이다.
도 9는 도 8의 'B'부분에 대응되는 패턴을 설명하기 위한 확대 평면도이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 장치를 나타내는 평면도이다. 도 2는 도 1의 디지털 노광 장치를 나타내는 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 디지털 노광 장치는 노광부(200) 및 기판(100)을 이송시키는 스테이지(300)를 포함한다.
상기 기판(100)은 복수의 표시 패널들을 형성하기 위한 모 기판(Mother Substrate)일 수 있다. 상기 기판(100)은 제1 방향 및 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향으로 배치되는 복수의 패널 영역들(P11, P21, ..., Pmn)을 포함할 수 있다. 상기 복수의 패턴 영역들(P11, P21, ..., Pmn)은 매트릭스 형태로 배치될 수 있다. 여기서, m 및 n은 자연수이다.
상기 기판(100)은 상기 노광부(200)의 하부로 상기 제2 방향(D2)에 반대되는 제3 방향을 따라 이송된다. 상기 기판(100)은 상기 기판(100)의 하부에 배치된 스테이지(300)에 의해 상기 노광부(200)로 이송된다. 예를 들어, 상기 기판(100)은 상기 제3 방향에 위치하는 제1 모서리(101)를 포함하고, 상기 제1 모서리(101)부터 상기 노광부(200)로 이송될 수 있다. 이와는 달리, 상기 기판(100)은 상기 제1 방향(D1)과 반대되는 제4 방향에 위치하는 제2 모서리(103)를 포함하고, 상기 제2 모서리(103)부터 상기 노광부(200)로 이송될 수 있다. 이를 위해, 상기 노광부(200)는 상기 기판(100)의 상기 제4 방향에 배치될 수 있다.
상기 기판(100) 상에는 감광막(미도시)이 형성된다. 상기 감광막은 상기 기판(100)에 패턴을 형성하기 위한 마스크를 형성하기 위해 사용된다. 상기 감광막은 기판의 표면에 감광성 에폭시(epoxy) 수지 등의 감광성 수지를 도포하여 형성될 수 있다.
상기 노광 방식은 스텝 노광 또는 스캔 노광을 포함할 수 있다. 스텝 노광은 노광 시 기판의 이송과 멈춤이 반복하는 동작이 포함된 것을 말하며, 스캔 노광은 노광 시 기판의 연속적인 동작이 포함된 것을 말한다. 섬형 패턴(island pattern)은 주로 스텝 노광으로 형성할 수 있고, 스트립 패턴(strip pattern)은 주로 스캔 노광으로 형성할 수 있다.
상기 노광부(200)는 복수의 노광 헤드들(E1, E2)을 포함할 수 있다. 상기 복수의 노광 헤드들은 상기 기판의 이송 방향인 상기 제3 방향과 수직한 상기 제1 방향(D1)을 따라 배열된다.
예를 들어, 상기 복수의 노광 헤드들(E1, E2)은 2열로 배열될 수 있다. 상기 제1 방향(D1)으로 배열된 제1 열의 노광 헤드들과, 상기 제1 열과 근접하여 상기 제1 방향(D1)으로 배열된 제2 열의 노광 헤드들은 교대로 배치될 수 있다. 상기 제1 열의 노광 헤드들과 상기 제2 열의 노광 헤드들은 서로 중첩되게 배치될 수 있다. 상기 노광 헤드들은 도시하지는 않았으나, 다양한 배열 형태로 상기 제1 방향(D1)을 따라 배열될 수 있다.
고정된 상기 노광부(200)가 상기 제3 방향으로 이송하는 상기 기판(100)을 노광하므로 상기 기판(100)에는 상기 제2 방향(D2)으로 노광 패턴이 형성된다.
도 2를 참조하면, 상기 노광 헤드는 광원부(210), 미러(220), 디지털 마이크로 미러부(230) 및 투영 광학계(240)를 포함한다.
상기 광원부(210)는 제1 광을 생성하여, 상기 미러(220)를 향하여 출사한다. 상기 광원부(210)는 상기 제1 광을 연속적으로 출사할 수 있다. 상기 광원부(210)는 광 발생부(미도시), 확산부(미도시), 필터부(미도시) 및 콜리메이터(미도시)를 포함할 수 있다. 상기 제1 광은 상기 감광막과 반응하는 자외선일 수 있다.
상기 미러(220)는 상기 제1 광의 진행 방향을 변경하여 상기 디지털 마이크로 미러부(230)로 제공한다. 상기 미러(220)는 상기 제1 광의 진행방향과 기울어지게 배치된다.
상기 디지털 마이크로 미러부(230)는 상기 미러(220)로부터 상기 제1 광을 제공받는다. 상기 디지털 마이크로 미러부(230)는 상기 제1 광을 복수의 광경로들을 갖는 제2 광으로 변환하여 상기 제2 광을 출사한다. 상기 디지털 마이크로 미러부(230)는 상기 스테이지(300)에 배치된 상기 기판(100)과 수직한 방향으로 상기 제2 광을 출사할 수 있다.
상기 디지털 마이크로 미러부(230)는 MEMS(micro electro mechanical system) 타입의 디지털 마이크로 미러 디바이스(digital micro mirror device, DMD)를 포함한다.
상기 디지털 마이크로 미러부(230)는 복수의 디지털 마이크로 미러들을 포함한다. 상기 디지털 마이크로 미러부(230)의 형상 및 동작에 대해서는 도 3을 참조하여 자세히 설명한다.
상기 투영 광학계(240)는 다수의 렌즈들을 포함하며, 상기 디지털 마이크로 미러부(230)로부터 출사된 상기 제2 광을 노광 빔으로 변환하여 상기 기판(100)으로 출사한다.
도 3은 도 2의 디지털 마이크로 미러부를 나타내는 평면도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 상기 디지털 마이크로 미러부(230)는 복수의 디지털 마이크로 미러들을 포함한다. 상기 디지털 마이크로 미러들은 상기 제1 광을 복수의 상기 제2 광들로 변환한다.
상기 디지털 마이크로 미러들은 매트릭스 형태로 배치된다. 상기 디지털 마이크로 미러들의 개수는 상기 도 3에 한정되지 않으며, 상기 디지털 마이크로 미러들의 개수는 상기 도 3에 비해 많을 수 있다.
상기 디지털 마이크로 미러들은 각각 직사각형의 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 디지털 마이크로 미러들은 각각 정사각형의 형상을 가질 수 있다.
상기 디지털 마이크로 미러부(230)는 상기 기판(100)의 패턴에 대응되는 그래픽 데이터에 기초하여 선택적으로 상기 제1 광을 상기 제2 광들로 변환시킬 수 있다.
상기 디지털 마이크로 미러부(230)는 디지털 마이크로 미러 제어부(미도시)와 연결된다. 상기 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 그래픽 데이터에 기초하여 상기 복수의 디지털 마이크로 미러들의 온/오프를 조절하는 신호를 상기 디지털 마이크로 미러들 각각에 출력한다.
상기 디지털 마이크로 미러의 제어 신호가 온인 경우, 상기 디지털 마이크로 미러는 상기 제1 광을 상기 제2 광으로 변환하여 상기 제2 광을 상기 기판(100)을 향하여 출사한다.
상기 디지털 마이크로 미러의 제어 신호가 오프인 경우, 상기 디지털 마이크로 미러는 상기 제1 광을 상기 제2 광으로 변환하지 않으며, 상기 제2 광을 상기 기판(100)을 향하여 출사하지 않는다.
상기 제2 광들의 개수는 상기 디지털 마이크로 미러들의 개수보다 작거나 같다. 예를 들어, 모든 디지털 마이크로 미러들의 제어 신호가 온인 경우, 상기 제2 광들의 개수는 상기 디지털 마이크로 미러들의 개수와 일치할 수 있다.
상기 디지털 마이크로 미러의 제어 신호에 따라, 상기 디지털 마이크로 미러의 각도가 변경될 수 있다. 예를 들어, 상기 디지털 마이크로 미러의 제어 신호가 온인 경우, 상기 디지털 마이크로 미러는 기준각으로부터 +12도의 각도로 기울어질 수 있다. 상기 디지털 마이크로 미러의 제어 신호가 오프인 경우, 상기 디지털 마이크로 미러는 상기 기준각으로부터 -12도의 각도로 기울어질 수 있다.
상기 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 디지털 마이크로 미러들 각각의 중심부에 연결될 수 있다.
상기 디지털 마이크로 미러부(230) 및 상기 투영 광학계(240)를 통해 변환되어 상기 기판(100)에 조사되는 복수의 광들은 각각 점 형상을 갖고, 일정 간격만큼 떨어져 불연속적으로 분포될 수 있다.
상기 디지털 마이크로 미러부(230)는 상기 기판(100)에 대해 소정 각도로 기울어지도록 구성될 수 있다. 상기 디지털 마이크로 미러부(230)가 상기 기판(100)에 대해 소정 각도로 기울어지면, 상기 기판(100)에 조사되는 광들의 간격을 조절할 수 있다. 따라서, 상기 디지털 노광 장치를 이용하여 선 패턴이나 면 패턴의 노광이 가능하다.
이하에서, 상기 기판(100)은 상기 제1 패널 영역(P11)을 의미하는 것으로 사용될 수 있으며, 상기 제1 패널 영역(P11)은 다른 패널 영역들에 동일하게 적용될 수 있다.
도 4는 도 1의 디지털 노광 장치에 의한 노광 영역을 설명하기 위한 개념도이다.
도 1 및 도 4를 참조하면, 상기 제1 노광 헤드(E1)는 상기 제1 패널 영역(P11)의 제1 노광 영역(EA11)을 노광한다. 제1 노광 영역(EA11)상기 제1 노광 헤드(E1)와 인접한 상기 제2 노광 헤드(E1)는 상기 제1 패널 영역(P11)의 제2 노광 영역(EA12)을 노광한다.
상기 제1 노광 헤드(E1)는 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(231)를 포함한다. 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(231)에 의해 커버되는 영역은 제1 상한 경계(BL11)부터 제1 하한 경계(BL12) 사이의 영역을 포함한다.
상기 제2 노광 헤드(E2)는 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(232)를 포함한다. 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(232)에 의해 커버되는 영역은 제2 상한 경계(BL21)부터 제2 하한 경계(BL22) 사이의 영역을 포함한다.
상기 제1 노광 헤드(E1)에 의해 커버되는 영역은 상기 제2 노광 헤드(E2)에 의해 커버되는 영역과 부분적으로 중첩된다. 상기 중첩되는 영역의 중간을 제1 경계(BL1)라고 정의한다. 상기 제1 경계(BL1)는 직선일 수 있다. 이와는 다르게, 상기 제1 경계(BL1)는 인접하는 패턴의 형상에 대응하여 돌출부 및 함입부를 포함할 수도 있다.
상기 제1 노광 헤드(E1)는 상기 제1 상한 경계(BL11)부터 상기 제1 경계(BL1) 사이의 영역을 노광할 수 있다. 상기 제2 노광 헤드(E2)는 상기 제1 경계(BL1)부터 상기 제2 하한 경계(BL22) 사이의 영역을 노광할 수 있다. 따라서, 상기 제1 노광 영역(EA11)과 상기 제2 노광 영역(EA12)은 중첩되지 않을 수 있다.
이와는 달리, 상기 제1 노광 헤드(E1)는 상기 제1 상한 경계(BL11)부터 상기 제1 하한 경계(BL12) 사이의 영역을 노광할 수 있다. 상기 제2 노광 헤드(E2)는 상기 제2 상한 경계(BL21)부터 상기 제2 하한 경계(BL22) 사이의 영역을 노광할 수 있다. 따라서, 상기 제1 노광 영역(EA11)과 상기 제2 노광 영역(EA12)은 부분적으로 중첩될 수 있다.
도 5는 제1 패턴 어레이의 그래픽 데이터를 분할하는 방법을 설명하기 위한 개념도이다. 도 6은 도 5의 'A'부분에 대응되는 패턴을 설명하기 위한 확대 평면도이다.
도 1, 도 4 내지 도 6을 참조하면, 상기 노광부(200)는 상기 제2 방향(D2)으로 상기 기판(100), 즉, 상기 제1 패널 영역(P11)의 제1 패턴 어레이(PL1)를 노광한다. 즉, 상기 기판(100)이 상기 제3 방향으로 이송되어 상기 노광부(200)에 의해 노광 된다.
상기 제1 패턴 어레이(PL1)는 상기 제2 방향(D2)으로 연장되고 상기 제1 방향(D1)으로 배열되는 복수의 제1 패턴들을 포함한다. 상기 복수의 제1 패턴들은 동일한 층에 형성되는 패턴들일 수 있다. 예를 들어 상기 제1 패턴 어레이(PL1)는 게이트 패턴층일 수 있다. 그러나 이에 한정되지 않고 상기 제1 패턴 어레이(PL1)는 상기 제2 방향(D2)으로 연장되고 상기 제1 방향(D1)으로 배열되는 복수의 패턴들을 포함하는 패턴층이라면 종류에 상관없이 적용될 수 있다.
상기 제1 패턴 어레이(PL1)는 상기 제2 방향(D1)으로 연장되고, 상기 제1 방향(D1)으로 배열되는 복수의 수평 패턴 영역(PA11, PA12, PA13, ..., PA1i)으로 분할될 수 있다. 상기 i는 자연수이다.
상기 제1 패턴 어레이(PL1)는 화소 단위를 기준으로 상기 제1 내지 제i 수평 패턴 영역(PA11, PA12, PA13, ..., PA1i)으로 분할될 수 있다. 즉, 상기 제1 패턴 어레이(PL1)는 각각의 화소들에 대응되는 화소 영역을 포함하고, 상기 제1 내지 제i 수평 패턴 영역(PA11, PA12, PA13, ..., PA1i)들 각각은 적어도 하나 이상의 상기 화소 영역을 포함할 수 있다. 이와는 달리 상기 제1 패턴 어레이(PL1)는 상기 화소 영역보다 작은 단위를 기준으로 분할될 수 있다.
도 6을 참조하면, 상기 수평 패턴 영역에 포함되는 패턴들은 인접하는 수평 패턴 영역에 포함되는 패턴들과 상기 제1 방향(D1)으로 이격된다. 예를 들어, 상기 제2 수평 패턴 영역(PA12)에 포함되는 패턴들(P2)은 상기 제1 수평 패턴 영역(PA11)에 포함되는 패턴들(P1)과 상기 제1 방향(D1)으로 이격된다. 이를 위해서, 상기 제1 수평 패턴 영역(PA11)에 포함되는 상기 패턴들(P1) 및 상기 제2 수평 패턴 영역(PA12)에 포함되는 상기 패턴들(P2)이 상기 제1 방향(D1)으로 이격되도록 제1 수평 경계(HBL1)의 위치를 결정할 수 있다. 상기 제1 수평 경계(HBL1)는 상기 제1 노광 헤드(E1)에 의해 노광 되는 제1 수평 노광 영역(HEA11)과 상기 제2 노광 헤드(E1)에 의해 노광 되는 제2 수평 노광 영역(HEA12)의 경계이다.
즉, 상기 제1 수평 패턴 영역(PA11)에 포함되는 모든 패턴들은 상기 제2 수평 패턴 영역(PA12)에 포함되어 있는 패턴들과 연결되지 않을 수 있다.
다시 도 4 및 도 5를 참조하면, 상기 제1 패널 영역(P11)은 상기 제2 방향(D2)으로 연장되고, 상기 제1 방향(D1)으로 배열되는 제1 내지 제i 수평 노광 영역(HEA11, HEA12, HEA13, ..., HEA1i)으로 분할될 수 있다.
상기 제1 수평 노광 영역(HEA11)은 상기 제1 수평 패턴 영역(PA11)에 대응된다. 상기 제2 수평 노광 영역(HEA12)은 상기 제2 수평 패턴 영역(PA12)에 대응된다. 즉, 상기 제1 내지 제i 수평 노광 영역(HEA11, HEA12, HEA13, ..., HEA1i)은 상기 제1 내지 제i 수평 패턴 영역(PA11, PA12, PA13, ..., PA1i)에 각각 대응된다.
따라서, 상기 제1 내지 제i 수평 노광 영역(HEA11, HEA12, HEA13, ..., HEA1i)간의 경계는 상기 제1 내지 제i 수평 패턴 영역(PA11, PA12, PA13, ..., PA1i)의 경계에 대응된다.
상기 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제1 패턴 어레이(PL1)의 그래픽 데이터를 포함하는 제1 그래픽 데이터를 입력 받는다. 더욱 구체적으로, 상기 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제1 내지 제i 수평 패턴 영역(PA11, PA12, PA13, ..., PA1i)에 대응하여 제1 내지 제i 수평 패턴 영역 그래픽 데이터로 분할된 상기 제1 그래픽 데이터를 입력 받는다. 상기 1 내지 제i 수평 패턴 영역 그래픽 데이터는 상기 제1 내지 제i 수평 패턴 영역(PA11, PA12, PA13, ..., PA1i)에 각각 대응된다.
따라서, 상기 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 패턴들은 인접하는 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 패턴들과 상기 제1 방향(D1)으로 이격된다. 예를 들어, 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 패턴들(P2)은 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 패턴들(P1)과 상기 제1 방향(D1)으로 이격된다. 즉, 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 패턴들은 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되어 있는 패턴들과 연결되지 않을 수 있다.
상기 제1 그래픽 데이터는 상기 제1 패턴 어레이(PL1)의 분할에 대응하여, 화소 단위를 기준으로 상기 제1 내지 제i 수평 패턴 영역 그래픽 데이터로 분할될 수 있다. 즉, 상기 제1 내지 제i 수평 패턴 영역 그래픽 데이터 각각은 적어도 하나 이상의 상기 화소 영역의 그래픽 데이터를 포함할 수 있다. 이와는 달리 상기 제1 그래픽 데이터는 상기 화소 영역보다 작은 단위를 기준으로 분할될 수 있다.
상기 제1 노광 헤드(E1)의 제1 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터를 전달 받는다. 상기 제1 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(231)의 온/오프 데이터를 생성하여 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(231)를 제어한다. 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(231)는 상기 제1 수평 노광 영역(HEA11)을 노광한다.
상기 제2 노광 헤드(E2)의 제2 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터를 전달 받는다. 상기 제2 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(232)의 온/오프 데이터를 생성하여 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(232)를 제어한다. 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(232)는 상기 제2 수평 노광 영역(HEA12)을 노광한다. 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(231) 및 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(232)는 동시에 상기 제1 수평 노광 영역(HEA11) 및 상기 제2 수평 노광 영역(HEA12)을 노광할 수 있다. 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(231) 및 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(232)는 제1 기간 동안 상기 제1 수평 노광 영역(HEA11) 및 상기 제2 수평 노광 영역(HEA12)을 노광한 후 나머지 상기 수평 노광 영역들을 순차적으로 노광할 수 있다. 이와는 달리, 상기 노광부(200)는 상기 수평 노광 영역들의 수에 대응 되는 복수의 디지털 마이크로 미러 디바이스들을 포함하고, 상기 제1 패널 영역(P11) 전체를 한번에 노광할 수 있다.
이와는 달리, 제1 기간 동안 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 노광 헤드(E1)가 상기 제1 수평 노광 영역(HEA11)을 노광하고, 제2 기간 동안 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 노광 헤드(E1)가 상기 제2 수평 노광 영역(HEA12)을 노광할 수 있다. 상기 제1 노광 헤드(E1)는 상기 제1 기간과 상기 제2 기간 사이에 상기 제2 노광 헤드(E2)의 위치로 이동할 수 있다.
본 실시예에서, 상기 노광부(200)는 상기 제1 노광 헤드(E1) 및 상기 제2 노광 헤드(E2)를 포함하는 것을 기준으로 설명 하였으나, 상기 노광 헤드의 수는 이에 한정되지 않는다.
도 7은 제2 패턴 어레이를 노광하는 단계의 기판 이송 방향을 설명하기 위한 디지털 노광 장치의 평면도이다. 도 8은 제2 패턴 어레이의 그래픽 데이터를 분할하는 방법을 설명하기 위한 개념도이다. 도 9는 도 8의 'B'부분에 대응되는 패턴을 설명하기 위한 확대 평면도이다.
도 1, 도 4, 도 7 내지 도 9를 참조하면, 상기 노광부(200)는 상기 제1 방향(D1)으로 상기 기판(100), 즉, 상기 제1 패널 영역(P11)의 제2 패턴 어레이(PL2)를 노광한다. 즉, 상기 기판(100)이 상기 제1 방향(D1)에 반대되는 제4 방향으로 이송되어 상기 노광부(200)에 의해 노광 된다.
상기 기판(100)을 상기 제1 방향(D1)으로 노광하기 위해서 상기 기판(100) 및 상기 노광부(200)를 재배치시킬 수 있다.
상기 제2 패턴 어레이(PL2)는 상기 제1 방향(D1)으로 연장되고 상기 제2 방향(D2)으로 배열되는 복수의 제2 패턴들을 포함한다. 상기 복수의 제2 패턴들은 동일한 층에 형성되는 패턴들일 수 있다. 예를 들어 상기 제2 패턴 어레이(PL2)는 데이터 패턴층일 수 있다. 그러나 이에 한정되지 않고 상기 제2 패턴 어레이(PL2)는 상기 제1 방향(D1)으로 연장되고 상기 제2 방향(D2)으로 배열되는 복수의 패턴들을 포함하는 패턴층이라면 종류에 상관없이 적용될 수 있다.
상기 제2 패턴 어레이(PL2)는 상기 제1 방향(D1)으로 연장되고, 상기 제2 방향(D2)으로 배열되는 복수의 수직 패턴 영역(PA21, PA22, PA23, ..., PA2j)으로 분할될 수 있다. 상기 j는 자연수이다.
상기 제2 패턴 어레이(PL2)는 화소 단위를 기준으로 상기 제1 내지 제j 수직 패턴 영역(PA21, PA22, PA23, ..., PA2i)으로 분할될 수 있다. 즉, 상기 제2 패턴 어레이(PL2)는 각각의 화소들에 대응되는 화소 영역을 포함하고, 상기 제1 내지 제j 수직 패턴 영역(PA21, PA22, PA23, ..., PA2j)들 각각은 적어도 하나 이상의 상기 화소 영역을 포함할 수 있다. 이와는 달리 상기 제2 패턴 어레이(PL2)는 상기 화소 영역보다 작은 단위를 기준으로 분할될 수 있다.
도 9를 참조하면, 상기 수직 패턴 영역에 포함되는 패턴들은 인접하는 수직 패턴 영역에 포함되는 패턴들과 상기 제2 방향(D2)으로 이격된다. 예를 들어, 상기 제2 수직 패턴 영역(PA22)에 포함되는 패턴들(P4)은 상기 제1 수직 패턴 영역(PA21)에 포함되는 패턴들(P3)과 상기 제2 방향(D2)으로 이격된다. 이를 위해서, 상기 제1 수직 패턴 영역(PA21)에 포함되는 상기 패턴들(P3) 및 상기 제2 수직 패턴 영역(PA22)에 포함되는 상기 패턴들(P4)이 상기 제2 방향(D2)으로 이격되도록 제1 수직 경계(VBL1)의 위치를 결정할 수 있다. 상기 제1 수직 경계(VBL1)는 상기 제1 노광 헤드(E1)에 의해 노광 되는 제1 수직 노광 영역(VEA21)과 상기 제2 노광 헤드(E1)에 의해 노광 되는 제2 수직 노광 영역(VEA22)의 경계이다.
즉, 상기 제1 수직 패턴 영역(PA21)에 포함되는 모든 패턴들은 상기 제2 수직 패턴 영역(PA22)에 포함되어 있는 패턴들과 연결되지 않을 수 있다.
다시 도 4 및 도 8을 참조하면, 상기 기판(100)은 상기 제1 방향(D1)으로 연장되고, 상기 제2 방향(D2)으로 배열되는 제1 내지 제j 수직 노광 영역(VEA21, VEA22, VEA23, ..., VEA2j)으로 분할될 수 있다.
상기 제1 수직 노광 영역(VEA21)은 상기 제1 수직 패턴 영역(PA21)에 대응된다. 상기 제2 수직 노광 영역(VEA22)은 상기 제2 수직 패턴 영역(PA22)에 대응된다. 즉, 상기 제1 내지 제j 수직 노광 영역(VEA21, VEA22, VEA23, ..., VEA2j)은 상기 제1 내지 제j 수직 패턴 영역(PA21, PA22, PA23, ..., PA2j)에 각각 대응된다.
따라서, 상기 제1 내지 제j 수직 노광 영역(VEA21, VEA22, VEA23, ..., VEA2j)간의 경계는 상기 제1 내지 제j 수직 패턴 영역(PA21, PA22, PA23, ..., PA2i)의 경계에 대응된다.
상기 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제2 패턴 어레이(PL2)의 그래픽 데이터를 포함하는 제2 그래픽 데이터를 입력 받는다. 더욱 구체적으로, 상기 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제1 내지 제j 수직 패턴 영역(PA21, PA22, PA23, ..., PA2j)에 대응하여 제1 내지 제j 수직 패턴 영역 그래픽 데이터로 분할된 상기 제2 그래픽 데이터를 입력 받는다. 상기 1 내지 제j 수직 패턴 영역 그래픽 데이터는 상기 제1 내지 제j 수직 패턴 영역(PA21, PA22, PA23, ..., PA2j)에 각각 대응된다.
따라서, 상기 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 패턴들은 인접하는 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 패턴들과 상기 제2 방향(D2)으로 이격된다. 예를 들어, 상기 제2 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 패턴들(P4)은 상기 제1 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 패턴들(P3)과 상기 제2 방향(D2)으로 이격된다. 즉, 상기 제1 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 패턴들은 상기 제2 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되어 있는 패턴들과 연결되지 않을 수 있다.
상기 제2 그래픽 데이터는 상기 제2 패턴 어레이(PL2)의 분할에 대응하여, 화소 단위를 기준으로 상기 제1 내지 제j 수직 패턴 영역 그래픽 데이터로 분할될 수 있다. 즉, 상기 제1 내지 제j 수직 패턴 영역 그래픽 데이터 각각은 적어도 하나 이상의 상기 화소 영역의 그래픽 데이터를 포함할 수 있다. 이와는 달리 상기 제2 그래픽 데이터는 상기 화소 영역보다 작은 단위를 기준으로 분할될 수 있다.
상기 제1 노광 헤드(E1)의 제1 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제1 수직 패턴 영역 그래픽 데이터를 전달 받는다. 상기 제1 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제1 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(231)의 온/오프 데이터를 생성하여 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(231)를 제어한다. 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(231)는 상기 제1 수직 노광 영역(VEA21)을 노광한다.
상기 제2 노광 헤드(E2)의 제2 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제2 수직 패턴 영역 그래픽 데이터를 전달 받는다. 상기 제2 디지털 마이크로 미러 제어부는 상기 제2 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(232)의 온/오프 데이터를 생성하여 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(232)를 제어한다. 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(232)는 상기 제2 수직 노광 영역(VEA22)을 노광한다. 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(231) 및 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(232)는 동시에 상기 제1 수직 노광 영역(VEA21) 및 상기 제2 수직 노광 영역(VEA22)을 노광할 수 있다.
이와는 달리, 제3 기간 동안 상기 제1 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 노광 헤드(E1)가 상기 제1 수직 노광 영역(VEA21)을 노광하고, 제4 기간 동안 상기 제2 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 노광 헤드(E1)가 상기 제2 수직 노광 영역(VEA22)을 노광할 수 있다. 상기 제1 노광 헤드(E1)는 상기 제3 기간과 상기 제4 기간 사이에 상기 제2 노광 헤드(E2)의 위치로 이동할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 제1 노광 헤드에 의해 노광되는 영역과 제2 노광 헤드에 의해 노광되는 영역의 경계가 패턴이 없는 빈 공간에 위치하도록 제1 노광 헤드에 입력되는 그래픽 데이터와 제2 노광 헤드에 입력되는 그래픽 데이터를 분할할 수 있다. 따라서, 포토레지스트 패턴에 발생하는 스티치(stitch) 얼룩을 제거할 수 있어 패턴의 정밀도를 향상시킬 수 있다. 또한, 표시 장치의 표시 품질을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 타이밍 제어부는 모바일폰, 노트북 컴퓨터, 태블릿 컴퓨터 등과 같은 휴대용 표시 장치 또는 텔레비전, 데스크톱 모니터와 같은 고정형 표시 장치를 비롯하여 냉장고, 세탁기, 에어컨디셔너와 같은 일반 가전제품에 포함되는 표시 장치에도 사용될 수 있다.
이상 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100: 기판 101: 제1 모서리
103: 제2 모서리 200: 노광부
210: 광원부 220: 미러
230: 디지털 마이크로 미러부
231: 제1 디지털 마이크로 디바이스
232: 제2 디지털 마이크로 디바이스
240: 투영 광학계 300: 스테이지
E1: 제1 노광 헤드 E2: 제2 노광 헤드
PA11: 제1 수평 패턴 영역 PA21: 제1 수직 패턴 영역
HEA11: 제1 수평 노광 영역 VEA11: 제1 수직 노광 영역

Claims (20)

  1. 평면도 상에서 제1 방향으로 이격되는 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하는 제1 패턴 어레이를 형성하기 위한 디지털 노광 방법에 있어서,
    상기 제1 패턴에 대응되는 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 패턴에 대응되는 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터를 생성하는 단계;
    상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여, 제1 광의 광경로를 변환하여, 기판에 입사되는 제2 광을 생성하는 단계; 및
    상기 제2 광을 이용하여 상기 기판을 상기 제1 방향과 수직하는 제2 방향을 따라 순차적으로 노광하는 단계를 포함하는 디지털 노광 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 광의 광경로는, 디지털 마이크로 미러부에 의해 변환되는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 디지털 마이크로 미러부의 온/오프 데이터를 생성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 디지털 마이크로 미러부는 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 기판의 제1 수평 노광 영역을 노광하고, 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 방향을 따라, 상기 제1 수평 노광 영역과 연속적으로 배치되는 제2 수평 노광 영역을 노광하며,
    상기 제1 수평 노광 영역과 상기 제2 수평 노광 영역 사이의 경계부는 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 모든 패턴들 및 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 모든 패턴들과 이격되는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 디지털 마이크로 미러부는 제1 광을 복수의 광경로들을 갖는 제2 광으로 변환하는 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스 및 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스와 이격된 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스를 포함하며,
    상기 기판을 노광하는 단계는
    상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스를 이용하여 상기 제1 수평 노광 영역을 노광하는 단계; 및
    상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스를 이용하여 상기 제2 수평 노광 영역을 노광하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 디지털 마이크로 미러부의 온/오프 데이터를 생성하는 단계는
    상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스의 온/오프 데이터를 생성하는 단계; 및
    상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스의 온/오프 데이터를 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  7. 제5항에 있어서, 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스 및 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스는 동시에 상기 기판을 노광하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  8. 제4항에 있어서, 상기 제2 수평 노광 영역은 상기 제1 수평 노광 영역과 부분적으로 중첩되는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 제1 수평 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 수평 패턴 영역 그래픽 데이터는 상기 제1 패턴 어레이에 대응되는 그래픽 데이터를 분할하여 생성되는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 제1 패턴 어레이에 대응되는 상기 그래픽 데이터는 화소 단위로 분할되는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 제1 패턴 어레이와 다른 층에 배치되는 제3 패턴에 대응되는 제1 수직 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제3 패턴과 상기 제2 방향으로 이격되는 제4 패턴에 대응되는 제2 수직 패턴 영역 그래픽 데이터를 생성하는 단계;
    상기 제1 수직 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 수직 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여, 상기 제1 광의 광경로를 변환하여, 상기 기판에 입사되는 상기 제2 광을 생성하는 단계; 및
    상기 제2 광을 이용하여 상기 기판을 상기 제1 방향을 따라 순차적으로 노광하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 제1 수직 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 수직 패턴 영역 그래픽 데이터는 상기 제2 패턴 어레이에 대응되는 그래픽 데이터를 분할하여 생성되는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  13. 기판이 배치되는 스테이지;
    제1 광을 발생시키는 광원부;
    제1 패턴에 대응되는 제1 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제1 패턴과 평면도 상에서 제1 방향으로 이격되는 제2 패턴에 대응되는 제2 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 광의 광경로를 변경하여 제2 광을 생성하고, 상기 제2 광을 이용하여 상기 기판을 상기 제1 방향과 수직하는 제2 방향을 따라 순차적으로 노광하는 노광부를 포함하는 디지털 노광 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 노광부는 상기 제1 광의 광경로를 변경하여 상기 제2 광을 생성하는 복수의 디지털 마이크로 미러들을 포함하는 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스를 포함하고,
    상기 노광부는 상기 제1 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 기판의 제1 노광 영역을 노광하고, 상기 제2 패턴 영역 그래픽 데이터에 기초하여 상기 제1 노광 영역과 상기 제1 방향을 따라 연속적으로 배치되는 제2 노광 영역을 노광하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제1 노광 영역과 상기 제2 노광 영역 사이의 경계부는 상기 제1 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 모든 패턴들 및 상기 제2 패턴 영역 그래픽 데이터에 포함되는 모든 패턴들과 이격되는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 장치.
  16. 제14항에 있어서, 상기 노광부는 상기 제1 노광 영역과 부분적으로 중첩하여 상기 제2 노광 영역을 노광하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 장치.
  17. 제14항에 있어서, 상기 노광부는 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스와 이격된 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 장치.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스는 상기 제1 노광 영역을 노광하고, 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스는 상기 제2 노광 영역을 노광하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 장치.
  19. 제13항에 있어서, 상기 제1 패턴 영역 그래픽 데이터 및 상기 제2 패턴 영역 그래픽 데이터는 상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴을 포함하는 제1 패턴 어레이에 대응되는 그래픽 데이터를 분할하여 생성되는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 제1 패턴 어레이에 대응되는 상기 그래픽 데이터는 화소 단위로 분할되는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 장치.
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KR102672027B1 (ko) * 2016-12-20 2024-06-03 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 광-민감성 층을 노광하기 위한 디바이스 및 방법

Family Cites Families (6)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10112579A (ja) * 1996-10-07 1998-04-28 M S Tec:Kk レジスト露光方法及びその露光装置
TW200602814A (en) * 2004-03-29 2006-01-16 Fuji Photo Film Co Ltd Exposure device
CN101052918B (zh) * 2004-07-14 2012-09-26 旭化成电子材料株式会社 感光性组合物、图案形成材料、感光性层叠体以及图案形成装置和图案形成方法
US7333177B2 (en) * 2004-11-30 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2007013612A1 (ja) * 2005-07-29 2007-02-01 Fujifilm Corporation 描画方法および装置
JP2008003163A (ja) * 2006-06-20 2008-01-10 Shinko Electric Ind Co Ltd 描画方法およびそのコンピュータプログラム

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