KR20150094625A - Multilayer printed circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
종래의 빌트업법으로 얻을 수 있는 다층 프린트 배선판의 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」를 저감한 다층 프린트 배선판 및 그 제조 방법의 제공을 목적으로 한다. 이 목적을 달성하기 위해, 코어 기판의 양면에 2층 이상의 빌트업 배선층을 설치한 다층 프린트 배선판에 있어서, 당해 다층 프린트 배선판을 구성하는 당해 코어 기판은, 절연층의 두께가 150㎛ 이하이고, 골격재를 포함하는 절연층의 양면에 내층 회로를 구비하고, 또한 당해 골격재를 포함하는 절연층의 X-Y 방향 선팽창율이 0ppm/℃ 내지 20ppm/℃이고, 당해 코어 기판의 양면에 설치하는 제1 빌트업 배선층 및 제2 빌트업 배선층은, 구리 회로층과, X-Y 방향 선팽창율이 1ppm/℃ 내지 50ppm/℃의 절연 수지층으로 이루어지고, 또한 당해 절연 수지층의 X 방향 선팽창율(Bx)의 값과 Y 방향 선팽창율(By)의 값의 비가 0.9 내지 1.1의 관계를 만족하는 다층 프린트 배선판 등을 채용한다.The present invention aims to provide a multilayer printed wiring board in which warping, twisting, and dimensional change of a multilayered printed circuit board obtained by a conventional built-up method are reduced, and a manufacturing method thereof. In order to achieve this object, in a multilayer printed wiring board in which two or more build-up wiring layers are provided on both sides of a core substrate, the core substrate constituting the multilayer printed wiring board has a thickness of 150 mu m or less, Wherein an inner layer circuit is provided on both surfaces of the insulating layer including the ash material and the linear expansion coefficient in the XY direction of the insulating layer including the skeleton is from 0 ppm / DEG C to 20 ppm / DEG C, The up-wired layer and the second built-up wiring layer are composed of a copper circuit layer and an insulating resin layer having a coefficient of linear thermal expansion in the XY direction of 1 ppm / DEG C to 50 ppm / DEG C, and the value of the linear thermal expansion coefficient Bx And the ratio of the Y-direction linear expansion coefficient By to the value of 0.9 to 1.1.
Description
본원 발명은 다층 프린트 배선판 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 특히, 빌트업법에 의해 제조한 다층 프린트 배선판에 관한 것이다.The present invention relates to a multilayer printed wiring board and a manufacturing method thereof. In particular, the present invention relates to a multilayer printed wiring board manufactured by a build-up method.
종래부터, 다층 프린트 배선판은 신호 전달 속도를 빠르게 하고, 프린트 배선판으로서의 탑재 면적을 작게 한다는 목적 등을 달성하기 위해, 널리 사용되어 왔다. 이 다층 프린트 배선판은, 다양한 전자 부품을 실장해서 사용되는 것이다. 이 다층 프린트 배선판에의 전자 부품의 실장은, 땜납 리플로우법, 와이어 본딩법 등의 다양한 방법이 사용된다. 이 때 다층 프린트 배선판에, 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」가 있으면, 양호한 전자 부품을 실장할 수 없어 바람직하지 않다. 특히, 다층 프린트 배선판의 제조 방법으로서 빌트업법을 사용했을 때, 가공 도중에 있어서도, 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」가 발생되기 쉬우므로, 이들 현상을 해소하기 위한 다양한 기술이 제창되어 왔다. 이하, 이와 같은 선행 기술을 예시한다.Background Art [0002] Conventionally, a multilayer printed wiring board has been widely used in order to achieve a purpose of increasing the signal transmission speed and reducing the mounting area as a printed wiring board. This multilayer printed wiring board is used by mounting various electronic parts. Various methods such as a solder reflow method, a wire bonding method, and the like are used for mounting electronic components on the multilayer printed wiring board. At this time, if the multilayered printed circuit board has "bending", "twisting", and "dimensional change", it is not preferable because good electronic parts can not be mounted. Especially, when the build-up method is used as a manufacturing method of a multilayered printed circuit board, "warping", "twisting", and "dimensional change" are likely to occur even during processing, and various techniques for solving these phenomena have been proposed . Hereinafter, such prior art will be illustrated.
특허문헌 1(일본 특허 출원 공개 평11-261228호 공보)에는, X-Y 방향 및 Z 방향의 치수 변화가 작고, 표면의 기복 및 휨이 적은 다층 프린트 배선판의 제공을 목적으로 하고, 「코어 기판에 층간 수지 절연층과 도체층을 교대로 적층하여 이루어지는 다층 프린트 배선판에 있어서, 코어 기판을, 유리 천 등의 저열팽창 섬유의 천에 비스말레이이미드 트리아진 수지를 함침한 두께 0.15㎜ 이하의 프리프레그를 6층 이상 적층해서 형성한다. 이 때 수지 함침 프리프레그의 1매당 두께를 얇게 하여, 매수를 증가시킴으로써, 프리프레그를 적층해서 이루어지는 코어 기판, 즉 다층 프린트 배선판의 X-Y 방향의 치수 변화, 휨을 방지한다.」라는 수법을 개시하고 있다.Patent Document 1 (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 11-261228) discloses a multilayer printed wiring board with small dimensional changes in the XY and Z directions and little surface undulation and warpage. A multilayer printed wiring board in which a resin insulating layer and a conductor layer are alternately laminated is characterized in that the core substrate is made of a prepreg having a thickness of 0.15 mm or less impregnated with a bismaleimide triazine resin in a low thermal expansion fiber cloth such as a glass cloth, Layer or more. In this case, by thinning the thickness of the resin-impregnated prepreg by one and increasing the number of sheets, the dimensional change and warping of the core substrate, that is, the multilayered printed circuit board obtained by laminating the prepregs in the XY directions are prevented " .
특허문헌 2(일본 특허 출원 공개 제2003-086941호 공보)에는, 열이력에 의한 휨의 발생을 저감할 수 있음과 함께, 최외층의 도체층을 파인 패턴으로 형성하는 것이 용이해지는 프린트 배선판의 제공을 목적으로 하고, 「내층 회로 기판의 표면에 복수층의 절연 수지층과 도체층을 교대로 빌드업하여 설치함으로써 형성되는 프린트 배선판에 있어서, 최외층의 절연 수지층은 유리 섬유포를 기재로서 함유하지 않는 수지 주체의 층으로서 형성되고 있음과 함께, 최외층으로부터 2층째의 절연 수지층은 유리 섬유를 기재로서 함유하는 층으로서 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판.」을 채용하고 있다.Patent Document 2 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-086941) discloses a printed wiring board capable of reducing the occurrence of warping due to thermal history and facilitating formation of a conductor layer in the outermost layer in a fine pattern , And "a printed wiring board formed by alternately building up a plurality of layers of insulating resin layer and conductor layer on the surface of an inner layer circuit board, wherein the insulating resin layer on the outermost layer contains glass fiber cloth as a base material And the second insulating resin layer from the outermost layer is formed as a layer containing glass fibers as a base material.
특허문헌 3(일본 특허 출원 공개 제2004-342827호 공보)에는, IVH 내에 수지가 충전되어 수지층만으로 빌드업 적층된 다층 프린트 배선판에 비해 휨·비틀림이 작고, 탄성률이 높은 것을 얻을 수 있어, 프리프레그만으로 제작된 다층 프린트 배선판에 비해, 표면 요철이 우수하고, 내열성, 내마이그레이션성이 우수한 프린트 배선판을 얻는 것을 목적으로 하고, 「IVH를 갖는 내층판의 표리에 유기 필름 기재 수지 조성물 혹은 기재 보강이 없는 수지 조성물층을 형성하여 IVH의 충전을 행하고, 적어도 최외층은 섬유 부직포 기재 보강의 수지 조성물층이 형성된 구조의 프린트 배선판으로 한다.」는 제조 방법을 채용하고 있다.In Patent Document 3 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-342827), it is possible to obtain a resin having a low flexural / torsional rigidity and a high modulus of elasticity as compared with a multilayer printed wiring board in which resin is filled in the IVH, A printed wiring board excellent in surface irregularities and excellent in heat resistance and migration resistance as compared with a multilayer printed wiring board manufactured by FREMON alone is disclosed. "An organic film base resin composition or substrate reinforcement Is formed to fill the IVH, and at least the outermost layer is a printed wiring board having a structure in which a resin composition layer for reinforcing fibrous nonwoven fabric base is formed. &Quot;
특허문헌 4(일본 특허 출원 공개 제2008-307886호 공보)에는, 휨을 저감한 금속 클래드 적층판과 다층 적층판의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고, 「프리프레그에 금속박을 배치해서 형성되는 적층체를, 소정의 성형 온도 및 소정의 제1 성형 압력으로 가열 가압하는 제1 공정과, 상기 제1 공정에 의한 상기 가열 가압 후에 있어서의 소정의 시점으로부터 적어도 5분 이상의 기간, 압력비가 상기 제1 성형 압력의 0.4 이하인 제2 성형 압력으로 상기 적층체를 가압하면서, 상기 적층체의 온도를, 상기 프리프레그가 최저 용융 점도가 되는 온도보다 5℃ 낮은 온도 이상으로 유지하는 제2 공정과, 상기 소정의 시점으로부터 30분 이상 경과한 후, 상기 적층체를 냉각해서 성형하는 제3 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 클래드 적층판의 제조 방법.」을 채용하는 것이 개시되어 있다.Patent Document 4 (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2008-307886) proposes a metal clad laminate with reduced warpage and a method for producing a multilayer laminate, wherein a laminate formed by disposing a metal foil on a prepreg , A first step of heating and pressing at a predetermined molding temperature and a predetermined first molding pressure, and a second step of forming a first molding pressure A second step of keeping the temperature of the laminate at a temperature not lower than the temperature at which the prepreg is at least 5 占 폚 lower than the temperature at which the prepreg is at the lowest melt viscosity while pressurizing the laminate at a second molding pressure of 0.4 or less, And a third step of cooling and forming the laminate after lapse of at least 30 minutes from the step of forming the metal clad laminate. It is disclosed to employ.
그러나, 상술한 특허문헌 1 내지 특허문헌 4 중 어느 하나에 개시된 발명에 관해서도, 실제 조업 중에서의 다양한 문제가 있고, 또한 다층 프린트 배선판의 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」의 각 문제를 완전하게 해결할 수 없다는 지적이 있었다. 상술한 각 특허문헌에 개시된 발명의 문제점을 생각하면, 이하와 같이 된다.However, the inventions disclosed in any one of
특허문헌 1에 개시된 기술에서는, 「프리프레그를 6층 이상 적층해서 형성한다.」라는 제약이 있어, 다층 프린트 배선판의 Z 방향의 층 구성에 제약이 있으므로, 다층 프린트 배선판의 X-Y 방향의 치수 변화, 휨을 방지할 수 있어도, Z 방향의 두께를 얇게 하기 위해서는 일정한 한계가 있었다.In the technique disclosed in
또한, 특허문헌 2에 개시된 기술에 따르면, 빌드업법으로 얻을 수 있는 프린트 배선판에 있어서, 「최외층의 절연 수지층은 유리 섬유를 기재로서 함유하지 않는 수지 주체의 층으로서 형성되어 있는 것」 및 「최외층으로부터 2층째의 절연 수지층은 유리 섬유포를 기재로서 함유하는 층으로서 형성되어 있는 것」의 2조건을 만족할 필요가 있다.According to the technique disclosed in
특허문헌 3에 개시된 기술에 따르면, 「IVH를 갖는 내층판의 표리에 유기 필름 기재 수지 조성물 혹은 기재 보강이 없는 수지 조성물층을 형성한 후에 IVH의 충전을 행하는 것.」 및 「적어도 최외층은 섬유 부직포 기재 보강의 수지 조성물층이 형성되어 있는 것.」의 2조건을 만족할 필요가 있다.According to the technique disclosed in
또한, 특허문헌 4에 개시된 기술에 따르면, 「상기 제1 공정에 의한 상기 가열 가압 후에 있어서의 소정의 시점으로부터 적어도 5분 이상의 기간, 압력비가 상기 제1 성형 압력의 0.4 이하인 제2 성형 압력으로 상기 적층체를 가압하면서, 상기 적층체의 온도를, 상기 프리프레그가 최저 용융 점도가 되는 온도보다 5℃ 낮은 온도 이상으로 유지하는 제2 공정과 …」와 같이, 제조 공정이 복잡화되어, 얻을 수 있는 제품의 품질에 편차가 발생되기 쉬워진다.Further, according to the technique disclosed in
이상으로부터 이해할 수 있는 바와 같이, 종래의 빌트업법을 사용하여 얻을 수 있는 다층 프린트 배선판의 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」라고 하는 현상을 저감하고, 또한 이들 현상의 편차가 적은 다층 프린트 배선판, 및 그 제조 방법의 간략화가 요망되어 왔다.As can be understood from the above, it is possible to reduce the phenomenon called " bending ", " twist ", and " dimensional change " of the multilayered printed circuit board obtained by using the conventional built-up method, A wiring board and a manufacturing method thereof have been desired to be simplified.
따라서, 예의 연구의 결과, 본건 발명자들은, 단순한 제조 방법의 변경, 다층 프린트 배선판의 층 구성의 변경으로는, 빌트업법을 사용해 얻을 수 있는 다층 프린트 배선판의 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」를, 편차없이 억제하는 것은 곤란하다는 인식에 이르렀다. 그 결과, 이하의 기술 사상을 채용함으로써, 당해 다층 프린트 배선판에 경도의 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」가 있었다고 하더라도, 프린트 배선판 제품 사이에 있어서의 편차를 줄일 수 있는 것으로 상도되었다. 이하, 본건 출원에 관한 발명의 개요에 대해 설명한다.As a result of intensive researches, the inventors of the present invention have found that the change of a simple manufacturing method and the change of the layer configuration of a multilayer printed wiring board can be classified into a "bend", "twist", "dimensional change Quot ;, it is difficult to suppress it without deviation. As a result, by adopting the following technical idea, it has been deemed that the deviation between the printed wiring board products can be reduced even if the multilayered printed circuit board has hardness "warpage", "twist" and "dimensional change". The outline of the invention relating to the present application will be described below.
1. 다층 프린트 배선판1. Multilayer Printed Circuit Board
본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판은, 코어 기판의 양면에 2층 이상의 빌트업 배선층을 설치한 다층 프린트 배선판에 있어서, 당해 다층 프린트 배선판을 구성하는 당해 코어 기판은, 절연층의 두께가 150㎛ 이하이고, 골격재를 포함하는 절연층의 양면에 내층 회로를 구비하고, 또한 당해 골격재를 포함하는 절연층의 X-Y 방향 선팽창율이 0ppm/℃ 내지 20ppm/℃이고, 당해 코어 기판의 양면에 설치되는 제1 빌트업 배선층 및 당해 제1 빌트업 배선층의 표면에 설치되는 제2 빌트업 배선층은, 구리 회로층과, X-Y 방향 선팽창율이 1ppm/℃ 내지 50ppm/℃의 절연 수지층으로 이루어지고, 또한 당해 절연 수지층의 X 방향 선팽창율(Bx)의 값과 Y 방향 선팽창율(By)의 값이, [Bx]/[By]=0.9 내지 1.1의 관계를 만족하는 것을 특징으로 한다.The multilayer printed wiring board according to the present application is a multilayer printed wiring board in which two or more built-up wiring layers are provided on both surfaces of a core substrate. The core substrate constituting the multilayer printed wiring board has a thickness of 150 탆 or less , And an inner layer circuit on both surfaces of an insulating layer including a skeletal material and having an expansion coefficient in a range of 0 ppm / DEG C to 20 ppm / DEG C in an XY direction of an insulating layer including the skeleton, The first built-up wiring layer and the second built-up wiring layer provided on the surface of the first built-up wiring layer comprise a copper circuit layer and an insulating resin layer having a coefficient of linear thermal expansion in the XY direction of 1 ppm / DEG C to 50 ppm / The value of the linear expansion coefficient (Bx) in the X direction and the value of the Y direction linear expansion coefficient (By) of the insulating resin layer satisfy the relation of [Bx] / [By] = 0.9 to 1.1.
본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 상기 제1 빌트업 배선층 및 제2 빌트업 배선층을 구성하는 절연 수지층은 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5㎬ 내지 10㎬인 것이 바람직하다.It is preferable that the insulating resin layer constituting the first built-up wiring layer and the second built-up wiring layer of the multilayer printed wiring board according to the present application has a tensile elastic modulus at 25 캜 of 5 ㎬ to 10㎬.
본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 상기 제1 빌트업 배선층 및 제2 빌트업 배선층을 구성하는 절연 수지층은 두께가 20㎛ 내지 80㎛인 것이 바람직하다.It is preferable that the thickness of the insulating resin layer constituting the first built-up wiring layer and the second built-up wiring layer of the multilayer printed wiring board according to the present application has a thickness of 20 탆 to 80 탆.
본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 상기 제1 빌트업 배선층 및 제2 빌트업 배선층을 구성하는 절연 수지층은 비유전률이 3.5 이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the insulating resin layer constituting the first built-up wiring layer and the second built-up wiring layer of the multilayer printed wiring board according to the present application has a relative dielectric constant of 3.5 or less.
본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 최외층에, 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만의 절연 수지층을 구비하는 빌트업 배선층을 설치하는 것이 바람직하다.It is preferable to provide a built-up wiring layer having an insulation resin layer having a tensile modulus at 25 캜 of less than 5.0 에 at the outermost layer of the multilayer printed wiring board according to the present application.
2. 다층 프린트 배선판의 제조 방법2. Manufacturing Method of Multilayer Printed Circuit Board
본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 제조 방법은 이하의 2개의 제조 방법의 개념을 포함하고 있다. 따라서, 제1 제조 방법과 제2 제조 방법이라고 칭한다.The manufacturing method of the multilayered printed circuit board according to the present application includes the following two manufacturing methods. Therefore, it is referred to as a first manufacturing method and a second manufacturing method.
<제1 제조 방법><First Production Method>
이 제1 제조 방법은 이하의 공정 1 내지 공정 3을 구비하는 것을 특징으로 하는 상술한 다층 프린트 배선판의 제조 방법이다.The first manufacturing method is the manufacturing method of the multilayered printed circuit board described above, which comprises the
공정 1 : 절연층의 두께가 150㎛ 이하이며, X-Y 방향 선팽창율이 0ppm/℃ 내지 20ppm/℃의 골격재를 포함하는 절연층의 표면에 동박층을 구비하는 구리 클래드 적층판을 사용하여, 내층 회로를 형성하고, 코어 기판을 얻는다.Step 1: Using a copper clad laminate having a copper foil layer on the surface of an insulating layer including a skeleton having a thickness of an insulating layer of 150 占 퐉 or less and a coefficient of linear thermal expansion in the XY direction of 0 ppm / 占 폚 to 20 ppm / And a core substrate is obtained.
공정 2 : 동박의 표면에, 경화 후의 절연 수지층의 X-Y 방향 선팽창율이 1ppm/℃ 내지 50ppm/℃로 되는 반경화 수지층을 형성한 반경화 수지층이 부착된 동박을 사용하여, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층측을, 상기 코어 기판의 양면에 접촉시켜 적층하고, 회로 형성을 행함으로써 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판을 얻는다.Step 2: Using a copper foil having a semi-cured resin layer formed on the surface of the copper foil and having a semi-cured resin layer having a coefficient of linear thermal expansion of 1 to 50 ppm / 占 폚 in the XY direction of the cured insulating resin layer, The laminated board having the first build-up wiring layer attached thereto is obtained by laminating the side of the semi-cured resin layer of the copper foil having the resin layer on both sides of the core substrate, and performing circuit formation.
공정 3 : 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판의 표면에, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층을 접촉시켜, 절연 수지층과 동박층으로 이루어지는 빌트업층을 더 형성하고, 회로 형성을 행하는 조작을 제1 단위 공정으로서 당해 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판의 양면에 대해, 이 제1 단위 공정을 n1회(n1≥1의 정수) 반복해서 행하고, 코어 기판의 양면에 (4+2n1)층의 층 구성의 빌트업층을 구비하는 다층 프린트 배선판을 얻는다.Step 3: The semi-cured resin layer of the copper foil to which the semi-cured resin layer is adhered is brought into contact with the surface of the laminate with the first build-up wiring layer attached thereto to form a built-up layer composed of the insulating resin layer and the copper foil layer, for the operation of performing a formation on both surfaces of the art is the first build-up wiring layer as a first unit process-clad laminate, the first step is performed by repeating a unit of n 1 times (n an integer from 1 ≥1), both surfaces of the core substrate, Layered printed wiring board having a built-up layer having a layer structure of (4 + 2n 1 ) layer is obtained.
<제2 제조 방법><Second Manufacturing Method>
이 제2 제조 방법은, 이하의 공정 1 내지 공정 4를 구비하는 것을 특징으로 하는 상술한 다층 프린트 배선판의 제조 방법이다.This second manufacturing method is a manufacturing method of the multilayered printed circuit board described above, which comprises the
공정 1 : 절연층의 두께가 150㎛ 이하이고, X-Y 방향 선팽창율이 0ppm/℃ 내지 20ppm/℃의 골격재를 포함하는 절연층의 표면에 동박층을 구비하는 구리 클래드 적층판을 사용하여, 내층 회로를 형성하고, 코어 기판을 얻는다.Step 1: Using a copper clad laminate having a copper foil layer on the surface of an insulating layer including a skeleton having an insulating layer thickness of 150 mu m or less and a coefficient of linear thermal expansion in the XY direction of 0 ppm / ° C to 20 ppm / And a core substrate is obtained.
공정 2 : 동박의 표면에, 경화 후의 절연 수지층의 X-Y 방향 선팽창율이 1ppm/℃ 내지 50ppm/℃로 되는 반경화 수지층을 형성한 반경화 수지층이 부착된 동박을 사용하여, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층측을, 상기 코어 기판의 양면에 접촉시켜 적층하고, 회로 형성을 행함으로써 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판을 얻는다.Step 2: Using a copper foil having a semi-cured resin layer formed on the surface of the copper foil and having a semi-cured resin layer having a coefficient of linear thermal expansion of 1 to 50 ppm / 占 폚 in the XY direction of the cured insulating resin layer, The laminated board having the first build-up wiring layer attached thereto is obtained by laminating the side of the semi-cured resin layer of the copper foil having the resin layer on both sides of the core substrate, and performing circuit formation.
공정 3 : 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판의 표면에, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층을 접촉시켜, 절연 수지층과 동박층으로 이루어지는 빌트업층을 더 형성하고, 회로 형성을 행하는 조작을 제1 단위 공정으로서 당해 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판의 양면에 대해, 이 제1 단위 공정을 n1회(n1≥1의 정수) 반복해서 행하고, 코어 기판의 양면에 (4+2n1) 층의 빌트업 배선층을 구비하는 다층 프린트 배선판을 얻는다.Step 3: The semi-cured resin layer of the copper foil to which the semi-cured resin layer is adhered is brought into contact with the surface of the laminate with the first build-up wiring layer attached thereto to form a built-up layer composed of the insulating resin layer and the copper foil layer, for the operation of performing a formation on both surfaces of the art is the first build-up wiring layer as a first unit process-clad laminate, the first step is performed by repeating a unit of n 1 times (n an integer from 1 ≥1), both surfaces of the core substrate, (4 + 2n 1 ) layer of a multilayer printed wiring board having a built-up wiring layer.
공정 4 : 당해 제1 단위 공정을 사용해서 형성한 (4+2n1) 층의 빌트업 배선층의 표면에, 경화 후에 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만이 되는 반경화 수지층을 형성한 반경화 수지층이 부착된 동박을 사용하여, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층측을 접촉시켜 적층하고, 회로 형성을 행하는 조작을 제2 단위 공정으로서, 이 제2 단위 공정을 n2회(n2≥1의 정수) 반복해서 행하고, 코어 기판의 양면에 {4+2(n1+n2)} 층의 층 구성의 빌트업층을 구비하고, 또한 최외층에 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만의 절연 수지층을 구비하는 빌트업 배선층을 배치한 다층 프린트 배선판을 얻는다.Step 4: the radius a in a built surface of the up wiring layer is formed by using the art the first unit process, (4 + 2n 1) layer, forming a semi-cured resin layer is less than 5.0㎬ tensile elastic modulus at 25 ℃ after curing Chemistry The operation of forming a circuit by laminating the copper foil with the resin layer on the side of the semi-cured resin layer of the copper foil with the semi-cured resin layer attached thereto is referred to as a second unit process, and this second unit process is referred to as n twice performed repeatedly (n an integer from 2 ≥1), {4 + 2 (
본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판은, 당해 코어 기판의 절연층의 X-Y 방향 선팽창율과, 그 양면에 설치하는 빌트업 배선층을 구성하는 절연 수지층의 X-Y 방향 선팽창율이, 상술한 조건 및 관계를 취함으로써, 코어 기판의 양면에 2층 이상의 빌트업 배선층을 구비하는 다층 프린트 배선판의 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」를, 편차없이 확실하게 저감시킨 것으로 된다.In the multilayered printed circuit board according to the present application, the linear expansion rate in the XY direction of the insulating layer of the core substrate and the linear expansion rate in the XY direction of the insulating resin layer constituting the built-up wiring layer provided on both sides thereof take the above- Warpage " and " dimensional change " of the multilayered printed circuit board having two or more built-up wiring layers on both sides of the core substrate can be surely reduced without deviation.
도 1은 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 모식 단면도이다.
도 2는 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 제조 공정을 설명하기 위한 모식도이다.
도 3은 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 제조 공정을 설명하기 위한 모식도이다.
도 4는 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 제조 공정을 설명하기 위한 모식도이다.
도 5는 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 제조 공정을 설명하기 위한 모식도이다.
도 6은 본건 출원에 관한 8층의 다층 프린트 배선판의 모식 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a multilayer printed wiring board according to the present application.
2 is a schematic view for explaining a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to the present application.
3 is a schematic view for explaining a manufacturing process of a multilayer printed circuit board according to the present application.
4 is a schematic view for explaining a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to the present application.
5 is a schematic diagram for explaining a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to the present application.
6 is a schematic cross-sectional view of an eight-layer multilayered printed circuit board according to the present application.
이하, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 형태와 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 제조 방법의 형태에 관하여 서술한다.Hereinafter, the form of the multilayered printed circuit board relating to the present application and the method of manufacturing the multilayered printed circuit board relating to the present application will be described.
1. 다층 프린트 배선판의 형태 1. Form of multilayer printed wiring board
본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)은, 코어 기판(2)의 양면에 2층 이상의 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구비하고, 도 1에 단면 모식도로서 도시하는 층 구성을 구비하고 있다. 이 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)을 구성하는 「제1 빌트업 배선층 Bu1」과 「제2 빌트업 배선층 Bu2」가 이하에 서술하는 조건을 만족하고 있으면, 제3층째 이후의 빌트업 배선층이, 본건 발명에서 설명하는 바람직한 조건을 만족하고 있지 않아도, 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」를 저감시키는 것이 가능해진다.The multilayer printed
이하, 도 1을 참조하면서, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)의 설명을 행한다. 또한, 도 1에 2층의 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구비하는 층 구성으로서, 거기에 층간 도통 수단으로서의 스킵드 비어(21)를 구비하는 형태를 나타내고 있다. 이하의 설명에 있어서는, 가능한 한 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)의 구성요소마다 설명한다.Hereinafter, the multilayered printed
코어 기판 : 여기서, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)을 구성하는 당해 코어 기판(2)은, 절연층의 두께가 150㎛ 이하이고, 골격재를 포함하는 절연층의 양면에 내층 회로를 구비하고, 또한 당해 골격재를 포함하는 절연층의 X-Y 방향 선팽창율이 0ppm/℃ 내지 20ppm/℃인 것이 바람직하다. 이 당해 골격재를 포함하는 절연층의 X-Y 방향 선팽창율의 하한을 0ppm/℃로 하고 있는 것은, 코어 기판(2)을 구성하는 절연층 구성 수지(11) 및 골격재(12)의 종류의 조합을 고려하더라도, 이 값 이하로 하는 것이 곤란하기 때문이다. 한편, 당해 골격재를 포함하는 절연층의 X-Y 방향 선팽창율이 20ppm/℃를 초과하면, 「휨」도 「비틀림」도 현저하게 될 경향이 높아, 프린트 배선판으로서의 치수 안정성을 확보할 수 없게 될 경향이 높아지므로 바람직하지 않다. 또한, 여기서 「X-Y 방향 선팽창율」로서 표시하고 있는 것은, 평면적으로 보아 사각 판형상의 코어 기판을 상정했을 때의 한변을 따른 방향에 있어서의 팽창율을 「X 방향 선팽창율」이라고 칭하고, 당해 한변에 대한 수직 방향의 팽창율을 「Y 방향 선팽창율」이라고 칭하고 있다.Core board: Here, the
이상으로 서술한 골격재를 포함하는 절연층의 X-Y 방향 선팽창율의 측정은, 골격재를 포함하는 절연층의 양면에 동박을 적층한 후, 동박을 에칭 제거하여, 경화된 시트 형상의 골격재를 포함하는 절연층을 얻고, 이를 시료로서 TMA 시험 장치를 사용해 인장 하중법으로 승온 속도 5℃/분의 조건으로 2회 측정하고, 2번째의 측정의 실온으로부터 유리 전이 온도까지의 선팽창율의 평균치를 산출한 값이다.The measurement of the coefficient of linear expansion of the insulating layer including the skeleton described above in the XY direction can be performed by laminating copper foils on both surfaces of the insulating layer including the skeleton and then removing the copper foil by etching to form a cured sheet- And the resultant was measured twice using a TMA test apparatus under the conditions of a temperature rise rate of 5 캜 / min by a tensile load method. The average value of the linear expansion rates from the room temperature to the glass transition temperature of the second measurement was .
그리고, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)의 상기 코어 기판(2)은, 통상 그 양면에 내층 회로(22)를 구비한다. 이 내층 회로(22)와 코어 기판(2)의 외층 측에 위치하는 제1 빌트업 배선층 Bu1의 구리 회로(23)가, 비어 홀, 스루홀 등의 임의의 층간 도통 수단(도시를 생략)으로 접속해서 사용된다.The
또한, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)의 상기 코어 기판(2)은 절연층의 두께가 150㎛ 이하인 것이 바람직하다. 코어 기판(2)의 절연층의 두께가 150㎛를 초과하면, 얇은 프린트 배선판에 대한 요구는 만족할 수 없게 되므로 바람직하지 않다. 또한, 여기서 하한값를 정하지 않고 있지만, 가장 얇은 골격재(12)를 생각하면, 현 단계에서는 15㎛가 하한값라고 생각된다. 그리고, 시장에 있어서의 프린트 배선판의 박층화 요구를 고려하면, 상기 코어 기판(2)의 두께를 100㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 80㎛ 이하이다.It is preferable that the thickness of the insulating layer of the
그리고, 여기서 말하는 골격재(12)에는, 프린트 배선판의 절연층의 구성 재료로서 사용되는 유리 섬유포, 유리 부직포의 사용이 가능하고, 유리의 재질에 관해서 특별한 한정은 없다. 또한, 코어 기판(2)의 절연층 구성 수지(11)로서는, 프린트 배선판의 절연층의 구성 재료로서 사용되는 에폭시계 수지, 시아네이트계 수지, 말레이미드계 수지, 폴리페닐렌 에테르계 수지, 폴리 부타디엔계 수지, 아크릴레이트계 수지 등의 사용이 가능하고, 특별한 한정은 없다.The skeleton material 12 referred to herein can be a glass fiber cloth or a glass nonwoven fabric used as a constituent material of the insulating layer of the printed wiring board, and the material of the glass is not particularly limited. As the insulating
빌트업 배선층 : 이 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2는, 도 1로부터 이해할 수 있는 바와 같이, 코어 기판의 내층 회로(22)를 형성한 표면에 설치하는 것이다. 그리고, 이 때의 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판을 구성하는 당해 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2는, 구리 회로층(23, 24)과, X-Y 방향 선팽창율이 1ppm/℃ 내지 50ppm/℃의 절연 수지층(30, 31)으로 이루어지는 것이다. 여기서, 절연 수지층(30, 31)의 X-Y 방향 선팽창율의 하한을 1ppm/℃로 하고 있는 것은, 현실적으로 보아, 이 값 이하로 하는 것이 곤란하기 때문이다. 한편, 당해 절연 수지층(30, 31)의 X-Y 방향 선팽창율이 50ppm/℃을 초과하면, 「휨」도 「비틀림」도 현저하게 되는 경향이 있어, 프린트 배선판으로서의 치수 안정성의 확보가 곤란해져 바람직하지 않다.Built-up wiring layer: As can be understood from Fig. 1, the first built-up wiring layer Bu1 and the second built-up wiring layer Bu2 are provided on the surface on which the
여기서 말하는 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2의 절연 수지층(30, 31)을 구성하는 수지로서는, 에폭시계 수지, 시아네이트계 수지, 말레이미드계 수지, 폴리페닐렌 에테르계 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리 아미드이미드 수지, 폴리 부타디엔계 수지, 아크릴레이트계 수지 등을 사용하는 것이 가능하다.Examples of the resin constituting the insulating resin layers 30 and 31 of the first built-up wiring layer Bu1 and the second built-up wiring layer Bu2 are epoxy resin, cyanate resin, maleimide resin, polyphenylene ether resin , A polyamide resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, a polybutadiene resin, an acrylate resin, or the like can be used.
이상으로 서술한 빌트업 배선층의 X-Y 방향 선팽창율의 측정은, 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2의 절연 수지층(30, 31)의 형성에 사용하는 상술한 수지 성분을 사용하고, 후술하는 2매의 반경화 수지층이 부착된 동박을 제조하여, 이들 수지면끼리를 접촉시켜 적층한 후, 동박을 에칭 제거하여, 경화된 시트 형상의 절연 수지층을 얻고, 상술한 TMA 시험 장치 및 시험 조건으로 측정한 값이다.The foregoing linear expansion coefficient of the built-up wiring layer in the XY direction is measured by using the above-mentioned resin component used for forming the insulating resin layers 30 and 31 of the first built-up wiring layer Bu1 and the second built-up wiring layer Bu2 , A copper foil with two semi-cured resin layers to be described later is prepared, these resin surfaces are brought into contact with each other and laminated, and then the copper foil is removed by etching to obtain a cured sheet-like insulating resin layer. And the test conditions.
이상으로 서술해 온, 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구성하는 절연 수지층(30, 31)의 X-Y 방향 선팽창율은, 상술한 바와 같이 사각 형상의 빌트업 배선층을 상정했을 때에는, X 방향 선팽창율(Bx)과 Y 방향 선팽창율(By)로 분리하여 생각할 수 있다. 이 때의 X 방향 선팽창율(Bx)의 값과, Y 방향 선팽창율(By)의 값이, [Bx]/[By]=0.9 내지 1.1의 관계를 만족하는 것이 바람직하고, [Bx]/[By]=0.95 내지 1.05의 관계를 만족하는 것이 보다 바람직하다. 이 [Bx]/[By]의 값이 이 범위를 벗어나면, 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2 자체 중에서, X 방향과 Y 방향으로 선팽창율이 크게 상이하게 되어, 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」가 작은 다층 프린트 배선판(1)을 얻을 수 없게 되어, 바람직하지 않다.The linear expansion coefficients in the XY direction of the insulating resin layers 30 and 31 constituting the first built-up wiring layer Bu1 and the second built-up wiring layer Bu2 which have been described above are assumed to be rectangular built-up wiring layers as described above , It can be considered to be separated into the X-direction linear expansion coefficient Bx and the Y-direction linear expansion coefficient By. It is preferable that the value of the linear expansion coefficient Bx in the X direction and the value of the linear expansion coefficient of the Y direction at this time satisfy the relation of [Bx] / [By] = 0.9 to 1.1, By] = 0.95 to 1.05. If the value of [Bx] / [By] is out of this range, the coefficient of linear expansion in the X direction and the Y direction becomes significantly different among the first built-up wiring layer Bu1 and the second built- The multilayered printed
이 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구성하는 절연 수지층(30, 31)의 X-Y 방향 선팽창율을 조정하기 위해, 당해 절연 수지층에 필러로서 실리카 입자, 중공 실리카 입자, 알루미나 입자, 탈크 등을 함유시키는 것도 바람직하다. 이 때의 필러는, 평균 입경으로서 20㎚ 내지 1㎛의 것을 사용하는 것이 바람직하다. 이 때, 필러의 평균 입경의 하한값에 특별한 한정은 없지만, 공업 제품으로서의 실상을 고려해서 20㎚로 하고 있다. 한편, 당해 필러의 평균 입경이 1㎛를 초과하면, 동박의 조면의 돌기 부분과, 절연 수지층 중의 필러가 접촉할 가능성이 높아, 밀착성을 저하시키는 경향이 있어, 바람직하지 않다. 그리고, 당해 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구성하는 절연 수지층(30, 31)에 필러를 함유시키는 경우, 당해 절연 수지층(30, 31)에 대해, 필러를 30 중량% 내지 70 중량%의 범위로 함유시키는 것이 바람직하다. 이 필러 함유량이 30 중량% 미만인 경우에는, 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구성하는 절연 수지층(30, 31)의 X-Y 방향 선팽창율을 조정하는 것이 곤란해지므로 바람직하지 않다. 한편, 당해 필러 함유량이 70 중량%를 초과하는 경우에는, 코어 기판이 구비하는 내층 회로 사이를 필러를 함유한 절연 수지층이 매설되는 것이 곤란해지므로 바람직하지 않다.In order to adjust the coefficient of linear thermal expansion of the insulating resin layers 30 and 31 constituting the first built-up wiring layer Bu1 and the second built-up wiring layer Bu2, silica particles, hollow silica particles, alumina Particles, talc, and the like. As the filler at this time, it is preferable to use a filler having an average particle diameter of 20 nm to 1 m. In this case, the lower limit value of the average particle diameter of the filler is not particularly limited, but is 20 nm in consideration of the actual state as an industrial product. On the other hand, if the average particle diameter of the filler exceeds 1 탆, the projections of the roughened surface of the copper foil and the filler in the insulating resin layer are highly likely to come into contact with each other, which tends to lower the adhesiveness. When the filler is contained in the insulating resin layers 30 and 31 constituting the first built-up wiring layer Bu1 and the second built-up wiring layer Bu2, the filler is added to the insulating resin layers 30 and 31 by 30 weight % To 70% by weight. When the filler content is less than 30% by weight, it is not preferable to adjust the linear expansion rate in the XY directions of the insulating resin layers 30 and 31 constituting the first built-up wiring layer Bu1 and the second built-up wiring layer Bu2 . On the other hand, when the filler content exceeds 70% by weight, it is not preferable that the insulating resin layer containing filler is buried between the inner layer circuits provided in the core substrate.
이하, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)의 상기 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구성하는 절연 수지층(30, 31)을 특징지우는 물리적 특성 등에 관하여 서술한다. 당해 절연 수지층(30, 31)은 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5㎬ 내지 10㎬인 것이 바람직하다. 이 절연 수지층(30, 31)의 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5㎬ 미만인 경우에는, 다층 프린트 배선판(1)으로 했을 때의 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」가 커지는 경향이 있으므로 바람직하지 않다. 한편, 이 절연 수지층(30, 31)의 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 10㎬를 초과하면, 당해 절연 수지층(30, 31)이 물러지므로, 다층 프린트 배선판(1)으로 했을 때의 약간의 「휨」 또는 「비틀림」이 원인으로, 부품 실장시에 빌트업 배선층에 크랙이 생길 경향이 높아져 바람직하지 않다.Hereinafter, the physical characteristics and the like for characterizing the insulating resin layers 30 and 31 constituting the first built-up wiring layer Bu1 and the second built-up wiring layer Bu2 of the multilayer printed
또한, 여기서 말하는 「25℃에 있어서의 인장 탄성률」의 측정은, 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2의 절연 수지층(30, 31)의 형성에 사용하는 상술한 수지 성분을 사용하고, 후술하는 2매의 반경화 수지층이 부착된 동박을 제조하고, 이들 수지면끼리를 접촉시켜 적층한 후, 동박을 에칭 제거하여, 경화된 시트 형상의 절연 수지층을 얻고, 이를 시료로 하여 점탄성 측정 장치(DMA)를 사용해 측정한 값이다.The "tensile modulus at 25 ° C" referred to herein is measured by using the above-mentioned resin component used for forming the first built-up wiring layer Bu1 and the insulating resin layers 30, 31 of the second built-up wiring layer Bu2 Then, a copper foil having two semi-cured resin layers to be described later is prepared, and these resin surfaces are brought into contact with each other and laminated. Thereafter, the copper foil is removed by etching to obtain a cured sheet-shaped insulating resin layer, Measured using a viscoelasticity measuring device (DMA).
그리고, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)의 상기 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구성하는 절연 수지층(30, 31)의 비유전률은 3.5 이하인 것이 바람직하다. 이하, 이 비유전률을 규정한 이유에 관하여 설명한다. 휴대 전화 등의 고주파 시그널을 사용하는 경우의 고밀도 프린트 배선판의 임피던스 컨트롤을 생각하면, 양호한 층간의 크로스 토크 특성의 제어가 요구된다. 이 크로스 토크 특성을 좌우하는 요소로서 회로 폭, 층간의 절연 거리, 절연층에 사용하는 수지 성분의 비유전률 등이 있다. 이 중, 층간의 절연 거리가 짧은 경우, 스트립 라인의 회로 폭을 가늘게 할 필요가 있으므로, 회로 형성이 곤란해진다. 따라서, 층간의 절연 거리가 짧고, 굵은 스트립 라인을 사용하기 위해서는, 낮은 비유전률의 절연층을 사용할 필요가 있다. 즉, 층간의 절연 거리의 짧은 기판(얇은 프린트 배선판)을 사용하는 경우의 임피던스 컨트롤을 행하기 위해서는, 낮은 비유전률의 얇은 프린트 배선판을 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 이유로부터, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)의 상기 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구성하는 절연 수지층(30, 31)의 비유전률을 3.5 이하로 함으로써, 고밀도 프린트 배선판의 임피던스 컨트롤이 행하기 쉬워진다. 그리고, 바람직하게는, 당해 비유전률을 3.1 이하로 하면, 임피던스 컨트롤 정밀도가 한층 향상된다. 또한, 당해 비유전률을 3.0 이하로 하면, 시장 요구를 거의 만족하는 임피던스 컨트롤 정밀도를 확보할 수 있게 된다. 여기서, 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2의 비유전률은, 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2의 절연 수지층(30, 31)의 형성에 사용하는 상술한 수지 성분을 사용하여, 후술하는 2매의 반경화 수지층이 부착된 동박을 제조하고, 이러한 수지면끼리를 접촉시켜 적층한 후, 동박을 에칭 제거하여, 경화된 시트 형상의 절연 수지층을 얻고, 이를 시료로 하여 스플릿 포스트 유전체 공진법(사용 주파수 : 1㎓)으로 측정한 값이다.It is preferable that the dielectric constant of the insulating resin layers 30 and 31 constituting the first built-up wiring layer Bu1 and the second built-up wiring layer Bu2 of the multilayer printed
또한, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)의 상기 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구성하는 절연 수지층(30, 31)은, 경화 후의 유리 전이 온도(Tg)에 특별한 한정은 없지만, 160℃ 미만인 것이 바람직하다. 이 유리 전이 온도(Tg)를 160℃ 미만으로 함으로써, 절연 수지층(30, 31)의 고온 영역에서 저탄성이 되는 경향이 있고, 휨이 발생하기 어려워지므로 바람직하다. 또한, 여기서 말하는 「유리 전이 온도」는, 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2의 절연 수지층(30, 31)의 형성에 사용하는 상술한 수지 성분을 사용하여, 후술하는 2매의 반경화 수지층이 부착된 동박을 제조하고, 이들 수지면끼리를 접촉시켜 적층한 후, 동박을 에칭 제거하여, 경화된 시트 형상의 절연 수지층을 얻고, 이를 시료로 하여 점탄성 측정 장치(DMA)를 사용하고, 승온 속도 5℃/분의 조건으로 측정한 값이다.The insulating resin layers 30 and 31 constituting the first built-up wiring layer Bu1 and the second built-up wiring layer Bu2 of the multilayer printed
또한, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판(1)의 상기 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구성하는 절연 수지층(30, 31)은 두께가 20㎛ 내지 80㎛인 것이 바람직하다. 이 절연 수지층(30, 31)의 두께가 20㎛ 미만인 경우에는, 절연성을 확보하는 것도 곤란해지고, 또한 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」가 커지는 경향이 있으므로 바람직하지 않다. 한편, 이 절연 수지층(30, 31)의 두께가 80㎛를 초과하는 경우에는, 얇은 프린트 배선판에 대한 요구를 만족하는 것이 곤란해져, 절연 수지층(30, 31)의 두께 편차도 커져, 오히려 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」가 커지는 경향이 있으므로 바람직하지 않다. 그리고, 상기 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업 배선층 Bu2를 구성하는 절연 수지층(30, 31)의 두께는, 시장에 있어서의 프린트 배선판의 박층화 요구를 고려하면, 50㎛ 이하가 보다 바람직하고, 40㎛ 이하로 하는 것이 더욱 바람직하다.The insulating resin layers 30 and 31 constituting the first built-up wiring layer Bu1 and the second built-up wiring layer Bu2 of the multilayer printed
8층 이상의 다층 프린트 배선판 : 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판은 가장 적은 층 구성이 6층이고, 이 6층의 다층 프린트 배선판의 외층에, 새로운 빌트업 배선층을 설치한 것이고, 이 8층 이상의 다층 프린트 배선판의 최외층에, 이하에 서술하는 빌트업 배선층을 설치하는 것이 바람직하다.8 layer or more multilayer printed wiring board: The multilayer printed wiring board according to the present application has a minimum number of layers constituted by six layers, and a new built-up wiring layer is provided on the outer layer of the six multilayer printed wiring boards. It is preferable to provide a build-up wiring layer described below on the outermost layer of the wiring board.
이 최외층에 배치하는 빌트업 배선층은 당해 빌트업 배선층을 구성하는 절연 수지층을 25℃에 있어서의 인장 탄성률을 5.0㎬ 미만의 저탄성으로 하는 것이 바람직하다. 이와 같이 저탄성률의 절연 수지층을 채용한 것은 이하의 이유 때문이다. 땜납 볼 등을 사용해 다층 프린트 배선판에 부품 실장을 행한 후에, 잘못하여 당해 실장 기판을 낙하시켜, 바닥면에 충돌한 경우, 실장 기판이 매우 강한 낙하 충격을 받는다. 이러한 경우에, 부품 실장에 사용한 땜납 볼을 배치한 실장용 회로와 절연 수지 기재가 접촉하는 면에 있어서, 상술한 낙하와 같이 강한 충격을 받으면, 실장 부품의 중량이, 실장용 회로를 강하게 눌러, 회로의 테두리 단부로부터 절연 수지층 내로의 크랙 발생, 실장 부품의 박리 탈락, 회로 단선 등이 일어나는 경우가 있다. 이와 같은 문제를 해소하기 위해서는, 최외층의 빌트업 배선층을 구성하는 절연 수지층을 저탄성으로 설계하는 것이 바람직하기 때문이다. 당해 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만이 되면, 실장 기판이 된 후에 낙하가 일어나도, 크랙 발생·실장 부품의 박리 탈락·회로 단선 등을 효과적으로 방지하고, 실장 기판에 양호한 내드롭 성능을 부여할 수 있다. 이 때, 당해 인장 탄성률이 3.5㎬ 미만이 되면, 실장 기판의 내드롭 성능이 현격히 상승하고, 당해 인장 탄성률이 3.0㎬ 미만이 되면, 더욱 당해 내드롭 성능이 향상되어, 실장 기판의 취급 시에 낙하되어도 거의 손상은 일어나지 않게 된다. 또한, 여기서, 당해 인장 탄성률의 하한에 관하여 말하지 않지만, 경험적으로 보아 0.1㎬ 정도이다. 이 인장 탄성률이 0.1㎬ 미만인 경우에는, 부품 실장시에 사용하는 본더의 압력에 의해, 실장하는 위치의 회로가 압입되어 침입하므로 바람직하지 않다.It is preferable that the insulation resin layer constituting the built-up wiring layer has a low elasticity with a tensile elastic modulus at 25 캜 of less than 5.0.. The reason why the insulating resin layer having such a low elastic modulus is adopted is as follows. A component is mounted on the multilayer printed circuit board by using a solder ball or the like, and then the mounting board erroneously falls and the mounting board is subjected to a very strong falling impact when it collides against the bottom surface. In this case, when a strong impact such as the above-described drop is received on the surface where the solder ball used for component mounting is placed and the insulating resin base material come into contact with each other, the weight of the mounting component is increased, Cracks from the edge portion of the circuit to the insulating resin layer, peeling-off of the mounting components, circuit breakage, and the like may occur. In order to solve such a problem, it is preferable to design the insulating resin layer constituting the build-up wiring layer of the outermost layer to have low elasticity. When the tensile modulus of elasticity is less than 5.0 psi, even when falling occurs after the substrate is mounted, it is possible to effectively prevent occurrence of cracks, peeling-off of components to be mounted, disconnection of circuits, and the like, and good drop performance can be imparted to the mounting substrate. At this time, when the tensile modulus of elasticity is less than 3.5 psi, the drop performance of the mounting board significantly increases. When the tensile modulus of elasticity is less than 3.0 psi, the drop performance is further improved, So that almost no damage occurs. Here, the lower limit of the tensile modulus is not mentioned, but from the empirical point of view, it is about 0.1.. When the tensile modulus of elasticity is less than 0.1 GPa, the circuit at the mounting position is press-fitted and infiltrated by the pressure of the bonder used for component mounting, which is not preferable.
또한, 이 최외층에 배치하는 빌트업 배선층을 구성하는 절연 수지층은, 파단 신장율이 5% 이상인 것이 바람직하다. 파단 신장율이 5% 미만인 경우, 빌트업 배선층을 구성하는 절연 수지층이 물러져, 상술한 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만이여도, 상술한 실장 기판의 내드롭 성능에 편차가 생기는 경우가 있다. 그런데, 당해 절연 수지층의 파단 신장율이 5% 이상이 되면, 빌트업 배선층을 구성하는 절연 수지층이 충격에 대한 충분한 유연성을 갖추게 되어, 양호한 내드롭 성능을 얻을 수 있는 경향이 있기 때문이다.The insulating resin layer constituting the built-up wiring layer disposed on the outermost layer preferably has a break elongation of 5% or more. When the elongation at break is less than 5%, the insulating resin layer constituting the built-up wiring layer is removed, and even when the above-described tensile elastic modulus is less than 5.0,, there is a possibility that the above-mentioned drop performance of the mounting board may deviate. However, when the breaking elongation percentage of the insulating resin layer is 5% or more, the insulating resin layer constituting the built-up wiring layer is provided with sufficient flexibility against impact, and a good drop performance tends to be obtained.
여기서 말하는 최외층에 배치하는 빌트업 배선층의 절연 수지층을 구성하는 저탄성의 수지로서 에폭시계 수지, 시아네이트계 수지, 말레이미드계 수지, 폴리페닐렌 에테르계 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리 아미드이미드 수지, 폴리 부타디엔계 수지, 아크릴레이트계 수지, 폴리에스텔 수지, 페녹시 수지, 폴리비닐 아세탈 수지, 스틸렌-부타디엔계 수지 등을 사용할 수 있다.As the low elastic resin constituting the insulating resin layer of the build-up wiring layer disposed on the outermost layer, an epoxy resin, a cyanate resin, a maleimide resin, a polyphenylene ether resin, a polyamide resin, a polyimide resin , Polyamideimide resin, polybutadiene resin, acrylate resin, polyester resin, phenoxy resin, polyvinyl acetal resin, styrene-butadiene resin and the like can be used.
2. 다층 프린트 배선판의 제조 형태2. Manufacturing form of multilayer printed wiring board
<제1 제조 방법><First Production Method>
이 다층 프린트 배선판의 제1 제조 방법은 이하의 공정 1 내지 공정 3을 구비하는 것을 특징으로 한다. 이하, 도 2 내지 도 4를 참조하면서, 공정마다 설명한다.The first manufacturing method of the multilayer printed wiring board is characterized by comprising the following
공정 1 : 이 공정에서는, 도 2의 (a)에 도시한 바와 같은, 골격재(12)와 X-Y 방향 선팽창율이 0ppm/℃ 내지 20ppm/℃의 절연 수지(11)로 이루어지는 골격재를 포함하는 절연층(10)의 표면에 동박층(14)을 구비하는 구리 클래드 적층판(40)을 준비한다. 그리고, 이 구리 클래드 적층판(40)의 동박층(14)에, 필요에 따라, 비어 홀 가공, 층간 도통 도금 가공, 에칭 가공 등을 실시하여, 소정의 내층 회로(22)를 형성하고, 도 2의 (b)에 도시한 절연층의 두께가 150㎛ 이하의 코어 기판(2)을 얻는다.Step 1: In this step, as shown in Fig. 2 (a), the skeleton material 12 and the skeleton material composed of the insulating
공정 2 : 이 공정에서는, 도 3의 (c)에 도시한 바와 같이, 반경화 수지층이 부착된 동박(50)의 반경화 수지층측(15)을, 도 2의 (b)에 도시한 코어 기판(2)의 표면에 접촉시켜 적층하고, 도 3의 (d)에 도시한 바와 같이, 코어 기판(2)의 양면에 절연 수지층(30)과 동박층(14)으로 이루어지는 제1 빌트업층(3a)을 형성한다. 그리고, 이 때의 당해 절연 수지층(30)은, X-Y 방향 선팽창율이 1ppm/℃ 내지 50ppm/℃이고, 또한 당해 절연 수지층의 X 방향 선팽창율(Bx)의 값과 Y 방향 선팽창율(By)의 값이, [Bx]/[By]=0.9 내지 1.1의 관계를 만족하는 것이다. 또한, 이 반경화 수지층이 부착된 동박(50)은, 동박(14)의 표면에, 절연 수지층을 형성하기 위한 수지 니스를 도포하고, 건조시킴으로써 제조되는 것이다. 이 반경화 수지층이 부착된 동박(50)의 제조 방법에 관해서는, 프린트 배선판의 제조 분야에 있어서의 당업자라면, 용이하게 이해할 수 있으므로, 도면을 사용한 설명은 생략한다.Step 2: In this step, as shown in Fig. 3 (c), the semi-cured
그리고, 이 공정 2에서는, 도 3의 (d)에 도시한 상태로부터, 당해 제1 빌트업층(3a)의 표면에 있는 동박층(14)에 대해, 필요에 따라, 비어 홀 가공, 층간 도통 도금 가공, 에칭 가공 등을 실시하여, 회로(23)를 형성하고 제1 빌트업 배선층 Bu1을 설치함으로써, 도 3의 (e)에 도시한 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판(51)을 얻는다.3 (d), the copper foil layer 14 on the surface of the first built-up layer 3a is subjected to via hole processing, interlayer conductive plating The
공정 3 : 이 공정에서는, 당해 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판(51)의 양면에 있는 회로 형성면에 대해, 제1 단위 공정을 n1회(n1≥1의 정수) 반복해서 행하고, 코어 기판의 양면에 (4+2n1) 층의 빌트업 배선층을 구비하는 다층 프린트 배선판을 얻는다. 여기서 말하는 제1 단위 공정이라 함은, 「빌트업층의 표면에, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층을 접촉시켜, 절연 수지층과 동박층으로 이루어지는 빌트업층을 더 형성하고, 회로 형성을 실시하는 조작」이다. Step 3: In this step, the first unit process is repeated n 1 times (an integer of n 1? 1) with respect to the circuit formation surface on both surfaces of the laminate plate 51 to which the first build- (4 + 2n 1 ) layers of build-up wiring layers on both sides of the core substrate. The term " first unit process " as used herein refers to a process in which a semi-cured resin layer of a copper foil on which the semi-cured resin layer is adhered is brought into contact with the surface of the built-up layer to further form a buildup layer comprising the insulating resin layer and the copper foil layer, Circuit forming operation ".
이 제1 단위 공정은, 도 4의 (f) 내지 도 5의 (h)에 도시한 공정이 해당된다. 즉, 도 4의 (f)에 도시한 바와 같이, 당해 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판(51)의 제1 빌트업 배선층 Bu1의 회로 형성면에 대해, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박(50)의 반경화 수지층(15)을 접촉시켜, 절연 수지층(31)과 동박층(14)으로 이루어지는 제2 빌트업층(3b)을 형성하고, 도 4의 (g)에 도시한 바와 같이, 코어 기판(2)의 양면에 2층의 제1 빌트업 배선층 Bu1, 제2 빌트업층(3b)을 구비하는 다층 구리 클래드 적층판(52)을 얻는다.This first unit process corresponds to the process shown in Figs. 4 (f) to 5 (h). 4 (f), on the circuit formation surface of the first built-up wiring layer Bu1 of the laminate board 51 to which the first build-up wiring layer is attached, The second built-up layer 3b made of the insulating
그리고, 도 4의 (g)에 도시한 당해 다층 구리 클래드 적층판(52)의 양면에 있는 제2 빌트업층(3b)의 동박층(14)에 대해, 비어 홀 가공, 층간 도통 도금 가공, 에칭 가공 등을 필요에 따라 실시하고, 도 5의 (h)에 도시한 바와 같이 회로(24)를 형성해 제2 빌트업 배선층 Bu2를 설치한 다층 프린트 배선판(1)을 얻는다. 또한, 도 5의 (h)에 도시한 바와 같이, 층간 도통 도금(20)을 실시하고, 스킵드 비아(21)를 형성하면, 내층측의 제1 빌트업 배선층 Bu1의 천공 가공을 생략할 수 있어, 제1 빌트업 배선층 Bu1을 형성할 때의 공정을 삭감할 수 있으므로 바람직하다.Then, the copper foil layer 14 of the second built-up layer 3b on both sides of the multilayer copper clad laminate 52 shown in Fig. 4 (g) is subjected to via hole processing, interlayer conductive plating processing, And a
이상으로 서술한 제1 단위 공정을, n1회(n1≥1의 정수) 반복해 실시하면, 코어 기판의 양면에 (4+2n1) 층의 빌트업 배선층을 구비하는 다층 프린트 배선판(1)을 얻을 수 있다.Repeatedly performing the above-described first unit process n 1 times (n 1 > = 1 ), a multilayer printed
<제2 제조 방법><Second Manufacturing Method>
이 다층 프린트 배선판의 제2 제조 방법은 상술한 다층 프린트 배선판의 제조 방법이고, 이하의 공정 1 내지 공정 4를 구비하는 것을 특징으로 한다. 여기서, 공정 1 내지 공정 3에 관해서는, 상술한 제1 제조 방법과 동일하다. 따라서, 여기에서는 다른 공정인 공정 4에 관해서만 서술하고, 중복되는 설명은 생략한다.The second manufacturing method of the multilayer printed wiring board is the manufacturing method of the multilayered printed circuit board described above and is characterized by including the following
공정 4 : 이 공정에서는, 제1 제조 방법의 공정 3으로 얻어진 「코어 기판의 양면에 (4+2n1)층의 빌트업 배선층을 구비하는 다층 프린트 배선판」의 양면의 최외층에 있는 빌트업 배선층의 회로 형성면에 대해, 최외층에 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만의 절연 수지층을 구비하는 빌트업 배선층을 구비하는 다층 프린트 배선판을 얻는다. 이 때, 경화 후에 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만이 되는 반경화 수지층을 구비하는 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층측을, 다층 프린트 배선판의 표면에 접촉시켜, 적층한다고 하는 제2 단위 공정을, n2회(n2≥1의 정수) 반복해서 행하고, 코어 기판의 양면에 {4+2(n1+n2)} 층의 층 구성의 빌트업 배선층을 설치할 수 있다.Step 4: In this step, the circuit of the built-up wiring layer on the outermost layer of both sides of the " multilayered printed wiring board having the (4 + 2n 1 ) layer built-up wiring layers on both sides of the core substrate " obtained in
이 제2 단위 공정의 제조 프로세스는, 제1 단위 공정의 제조 프로세스와 동일하다. 그러나, 빌트업층의 형성에 사용하는 반경화 수지층이 부착된 동박이 상이하다. 즉, 제2 단위 공정에 사용하는 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층에는, 경화 후에 있어서, 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만이 되는 것을 사용하여, 절연 수지층과 동박층으로 이루어지는 빌트업층을 형성한다. 따라서, 도 5의 (h)에 도시한 상태로부터, 양면에 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층을 적층하고, 회로(25)를 형성해 제3 빌트업 배선층 Bu3을 설치한, 도 5의 (i)에 도시한 다층 프린트 배선판(1)을 얻을 수 있다. 이 때의 제3 빌트업 배선층 Bu3의 절연 수지층(32)의 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만으로 되어 있다.The manufacturing process of the second unit process is the same as the manufacturing process of the first unit process. However, the copper foil having the semi-cured resin layer used for forming the build-up layer is different. That is, in the semi-cured resin layer of the copper foil having the semi-cured resin layer used in the second unit process, the tensile elastic modulus at 25 ° C of less than 5.0 kPa after curing was used, Layer is formed. Therefore, from the state shown in FIG. 5 (h), a circuit obtained by laminating a semi-cured resin layer of a copper foil having a semi-cured resin layer on both sides thereof and forming a
실시예 1Example 1
이 실시예 1에서는, 이하의 공정을 거쳐, 도 6에 도시한 바와 같이 10층의 다층 프린트 배선판을 제조했다.In Example 1, a multilayer printed wiring board with ten layers was produced as shown in Fig. 6 through the following steps.
공정 1 : 실시예 1에서는, 도 2의 (a)에 도시한 상태의, 절연층의 양면에, 동박을 구비한 구리 클래드 적층판(동박 두께 : 18㎛, 절연층 두께 : 60㎛, 절연층 : 유리 섬유포를 함유, X 방향 선팽창율이 14.0ppm/℃, Y 방향 선팽창율이 12.0ppm/℃)을 준비했다. 그리고, 당해 구리 클래드 적층판의 외층의 동박을 에칭 가공하고, 양면에 소정의 내층 회로(22)를 형성하여, 도 2의 (b)에 도시한 바와 같은, 절연층의 두께가 150㎛ 이하의 코어 기판(2)을 얻었다.Step 1: In Example 1, a copper clad laminate (copper foil thickness: 18 占 퐉, insulating layer thickness: 60 占 퐉, insulating layer: copper clad laminated board having copper foil on both surfaces of the insulating layer in the state shown in Fig. A glass fiber cloth was contained, the linear expansion coefficient in the X direction was 14.0 ppm / ° C, and the linear expansion coefficient in the Y direction was 12.0 ppm / ° C). Then, the copper foil of the outer layer of the copper clad laminate is etched and a predetermined
공정 2 : 이 공정 2에서는, 도 3의 (c)에 도시한 바와 같이, 반경화 수지층이 부착된 동박(50)(두께 : 30㎛, 동박 두께 : 18㎛, 반경화 수지층 : 에폭시계 수지를 사용해서 형성한 수지 피막)의 반경화 수지층측(15)을, 도 2의 (b)에 도시한 코어 기판(2)의 표면에 접촉시켜 적층하고, 도 3의 (d)에 도시한, 코어 기판(2)의 양면에 절연 수지층(30)과 동박층(14)으로 이루어지는 제1 빌트업층(3a)을 형성했다. 이 때의 제1 빌트업층(3a)의 절연 수지층은, X-Y 방향 선팽창율이 39ppm/℃, 당해 절연 수지층의 X 방향 선팽창율(Bx)의 값과 Y 방향 선팽창율(By)의 값의 비가 [Bx]/[By]=1.0, 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 7.0㎬, 비유전률이 3.1, 유리 전이 온도(Tg)가 150℃이었다.Step 2: In this
그리고, 이 공정 2에서는, 도 3의 (d)에 도시한 상태로부터, 당해 제1 빌트업층(3a)의 표면에 있는 동박층(14)에 대해, 필요에 따라, 비어 홀 가공, 층간 도통 도금 가공, 에칭 가공 등을 실시하고, 회로(23)를 구비하는 제1 빌트업 배선층 Bu1로 하고, 도 3의 (e)에 도시한 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판(51)을 얻었다.3 (d), the copper foil layer 14 on the surface of the first built-up layer 3a is subjected to via hole processing, interlayer conductive plating Etching, and the like were carried out to obtain a laminate plate 51 having the first build-up wiring layer shown in FIG. 3 (e) attached to the first built-up wiring layer Bu1 having the
공정 3 : 이 공정 3에서는, 당해 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판(51)의 양면에 있는 회로 형성면에 대해, 제1 빌트업층(3a)의 형성에 사용했던 것과 동일한 반경화 수지층이 부착된 동박(50)을 사용하여, 상술한 제1 단위 공정을 2회 반복해서 행하고, 2층의 제2 빌트업 배선층 Bu2, 제3 빌트업 배선층 Bu3을 설치하여, 당해 코어 기판(2)의 양면에 빌트업 배선층 Bu1 내지 Bu3을 구비하는 8층의 다층 프린트 배선판을 얻었다.Step 3: In this
공정 4 : 공정 4에서는, 공정 3에서 얻어진 8층의 다층 프린트 배선판의 최외층에 있는 제3 빌트업 배선층 Bu3의 회로 형성면에 대해, 경화 후에 있어서, 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만이 되는 반경화 수지층을 구비하는 반경화 수지층이 부착된 동박(두께 : 40㎛, 동박 두께 : 18㎛)을 사용하여, 상술한 제2 단위 공정을 1회 행하고, 제 4 빌트업 배선층 Bu4를 설치함으로써, 코어 기판의 양면에 10층의 빌트업 배선층 Bu1 내지 Bu4를 구비하고, 또한 최외층에 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만의 절연 수지층을 구비하는 빌트업 배선층을 배치한 10층의 다층 프린트 배선판을 얻었다. 또한, 이 10층의 다층 프린트 배선판에 설치된 회로는 고밀도 배선 회로를 본뜬 테스트용 회로 패턴을 형성했다.Step 4: In
그리고, 여기서 얻어진 10층의 다층 프린트 배선판을 4 분할하고, 12㎝×12㎝의 측정용 시료로 하고, 이를 Akrometrix 사제의 TherMoire AXP로 휨량을 측정했다. 휨량은 4 분할해서 얻어진 각 측정용 시료의 30℃ 내지 260℃까지의 가열 과정과, 260℃ 내지 30℃까지의 강온 과정에 있어서, 표 1에 도시하는 각 온도로 4개의 측정용 시료의 휨량을 측정했다. 그리고, 이 4개의 측정값 중, 가장 최고 휨이 적은 측정 데이터(표 1에서는, 「최고 데이터」라고 표시하고 있다.)와, 가장 휨이 발생하고 있던 측정 데이터(표 1에서는, 「최저 데이터」라고 표시하고 있다.)를 표 1에 게재했다. 이하의 실시예 및 비교예에 있어서도 마찬가지다.The ten-layered multilayered printed circuit board thus obtained was divided into four parts and used as a measurement sample of 12 cm x 12 cm. The amount of bending was measured by TherMoire AXP manufactured by Akrometrix. The warping amount was obtained by dividing the amount of deflection of the four measuring samples at the respective temperatures shown in Table 1 in the heating process of each measurement sample obtained by dividing into four pieces to 30 to 260 占 폚 and the descending temperature of 260 占 폚 to 30 占 폚 Respectively. Among the four measured values, the measurement data (the highest data in Table 1) and the measurement data in which the maximum warp occurred (the lowest data in Table 1) ) Are shown in Table 1. The same applies to the following examples and comparative examples.
실시예 2Example 2
이 실시예 2에서는, 실시예 1과 동일한 공정 1 내지 공정 4를 거쳐, 도 6에 도시한 바와 같이 10층의 다층 프린트 배선판을 제조하고, 실시예 1과 마찬가지로 하여 휨량을 측정했다. 따라서, 다른 부분에 관해서만 서술한다.In Example 2, ten multilayered printed circuit boards were produced through the
이 실시예 2에 있어서는, 반경화 수지층이 부착된 동박(50)(두께 : 30㎛, 동박 두께 : 18㎛, 반경화 수지층 : 에폭시계 수지와 시아네이트 수지와 비스마레이미드 수지를 사용해서 형성한 수지 피막)을 사용해 실시예 1과 동일한 공정 1 내지 공정 3을 거쳐 형성된 제1 빌트업 배선층 Bu1 내지 제3 빌트업 배선층 Bu3의 절연 수지층(32)은, X-Y 방향 선팽창율이 24ppm/℃, 당해 절연 수지층의 X 방향 선팽창율(Bx)의 값과 Y 방향 선팽창율(By)의 값의 비가 [Bx]/[By]=1.0, 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 8.9㎬, 비유전률이 3.2, 유리 전이 온도(Tg)가 270℃이었다.In this Example 2, a copper foil 50 (thickness: 30 탆, copper foil thickness: 18 탆, semi-cured resin layer: epoxy resin, cyanate resin and bismaleimide resin with a semi-cured resin layer) The insulating resin layer 32 of the first built-up wiring layer Bu1 to the third built-up wiring layer Bu3 formed through the
비교예Comparative Example
[비교예 1][Comparative Example 1]
이 비교예 1에서는, 실시예 1 및 실시예 2와 동일한 10층의 다층 프린트 배선판을 제조하고, 실시예 1과 마찬가지로 하여 휨량을 측정했다.In this Comparative Example 1, a multilayer printed wiring board having ten layers identical with those of Example 1 and Example 2 was produced, and the amount of warpage was measured in the same manner as in Example 1. [
이 비교예 1에서는, 실시예 1에서 사용한 코어 기판(2)의 양면에, 두께 20㎛의 유리 섬유를 골격재로서 포함한 프리프레그(적층 후에 두께 30㎛가 되는 것)와, 두께 18㎛의 동박을 겹쳐 적층하고, 테스트용 회로 패턴을 형성한다고 하는 공정을 4회 반복하여, 절연층의 모두를 프리프레그로 구성한 10층의 다층 프린트 배선판을 제조했다. 이 프리프레그로 구성된 절연 수지층은, X 방향 선팽창율이 14ppm/℃, Y 방향 선팽창율이 12ppm/℃, 당해 X 방향 선팽창율(Bx)의 값과 Y 방향 선팽창율(By)의 값의 비가 [Bx]/[By]=1.2, 25℃에 있어서의 X 방향 인장 탄성률이 24㎬·Y 방향 인장 탄성률이 22㎬, 비유전률이 4.6이었다.In Comparative Example 1, on both sides of the
[비교예 2][Comparative Example 2]
이 비교예 2에서는, 실시예 1 및 실시예 2와 동일한 10층의 다층 프린트 배선판을 제조하고, 실시예 1과 마찬가지로 해서 휨량을 측정했다.In this Comparative Example 2, ten multilayer printed wiring boards identical to those of Examples 1 and 2 were produced, and the amount of warpage was measured in the same manner as in Example 1. [
비교예 2에서는, 실시예 1 및 실시예 2의 최외층의 형성에 사용한 「경화 후에 있어서, 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만이 되는 반경화 수지층을 구비하는 반경화 수지층이 부착된 동박(두께 : 40㎛, 동박 두께 : 18㎛)」을 사용하여, 실시예 1에서 사용한 코어 기판(2)의 양면에, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박을 적층하고, 테스트용 회로 패턴을 형성한다고 하는 공정을 4회 반복하여, 10층의 다층 프린트 배선판을 제조했다. 이 때의 절연 수지층은, X-Y 방향 선팽창율이 70ppm/℃, 당해 X 방향 선팽창율(Bx)의 값과 Y 방향 선팽창율(By)의 값의 비가 [Bx]/[By]=1.0, 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 3.2㎬, 비유전률이 3.1이었다.In Comparative Example 2, the "cured" semi-cured resin layer having a semi-cured resin layer having a tensile modulus at 25 ° C of less than 5.0 kPa, which was used for forming the outermost layers of Examples 1 and 2, The copper foil with the semi-cured resin layer adhered thereon was laminated on both surfaces of the
또한, 비교예 2에서 얻어진 휨량의 측정용 시료는, 작성 직후의 단계에서 1.0㎜ 이상의 휨이 발생하고 있었으므로, 승온·강온 과정에 있어서의 휨량의 측정은 행하지 않았다.In addition, the sample for measuring the deflection amount obtained in Comparative Example 2 did not measure the amount of deflection in the process of raising and lowering the temperature, since warpage of 1.0 mm or more occurred in the stage immediately after the preparation.
[실시예와 비교예와의 대비][Contrast between Examples and Comparative Examples]
실시예와 비교예를 대비 가능하도록, 상술한 특성값 및 휨량을 포함하여 표 1에 통합해서 나타낸다.Included in Table 1 are the values of the characteristics and the amount of deflection described above so that the embodiment and the comparative example are comparable.
표 1을 참조하면서, 실시예와 비교예 1의 휨량을 비교한다. 최초로, 실시예와 비교예 1을, 가장 휨량이 적은 최고 데이터를 보면, 비교예 1의 절연층의 모두를 프리프레그로 구성한 10층의 다층 프린트 배선판이, 가장 휨이 적고, 표준 편차도 작으므로 휨의 편차가 작은 것을 알 수 있다. 그런데, 실시예와 비교예 1의, 가장 휨량이 많은 최저 데이터를 보면, 이 관계가 역전된다. 실시예 1의 최저 데이터의 휨량을 보면, 최고치 164㎛, 최저치 126㎛, 평균치 140㎛, 표준 편차가 13.4㎛이었다. 그리고, 실시예 2의 최저 데이터의 휨량을 보면, 최고치 191㎛, 최저치 124㎛, 평균치 156㎛, 표준 편차가 18.8㎛이었다. 이에 대해, 비교예 1의 최저 데이터의 휨량을 보면, 최고치 227㎛, 최저치 145㎛, 평균치 164㎛, 표준 편차가 25.2㎛이다. 따라서, 가장 휨량이 많은 최저 데이터로 보면, 비교예 1의 절연층의 모두를 프리프레그로 구성한 10층의 다층 프린트 배선판이 가장 휨이 크고, 표준 편차도 커서, 휨의 편차도 크다고 판단할 수 있다.With reference to Table 1, the amounts of deflection of Examples and Comparative Example 1 are compared. First, the embodiment and the comparative example 1 show that the ten-layer multilayered printed circuit board in which all of the insulating layers of the comparative example 1 are made of prepregs has the smallest warpage and the smallest standard deviation It can be seen that the deviation of warpage is small. By the way, when the lowest data having the greatest amount of deflection in the embodiment and the comparative example 1 is viewed, this relationship is reversed. The minimum data deflection amount in Example 1 was found to be a maximum value of 164 mu m, a minimum value of 126 mu m, an average value of 140 mu m, and a standard deviation of 13.4 mu m. The minimum amount of deflection of the data in Example 2 was found to be a maximum value of 191 탆, a minimum value of 124 탆, an average value of 156 탆, and a standard deviation of 18.8 탆. On the other hand, when the amount of deflection of the lowest data in Comparative Example 1 is observed, the maximum value is 227 占 퐉, the minimum value is 145 占 퐉, the average value is 164 占 퐉, and the standard deviation is 25.2 占 퐉. Therefore, from the lowest data with the greatest amount of bending, it can be judged that the ten-layered multilayered printed circuit board comprising all the insulating layers of the prepreg in Comparative Example 1 has the largest warpage, the large standard deviation, and the large variation in warpage .
이로부터 이해할 수 있는 것은, 비교예 1과 같이 프리프레그만을 사용해 제조한 다층 프린트 배선판의 경우, 동일 로트의 제품 사이에서 휨량의 편차가 생겨, 제품으로서의 취급이 곤란해지는 경우가 있다. 이에 대해, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판과 같이 「제1 빌트업층」과「제2 빌트업층」이 상술한 조건을 만족하고 있으면, 제3 층째 이후의 빌트업 배선층에 어떤 종류의 층을 배치하더라도, 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」를 경감하고, 또한 편차가 적게 됨으로써, 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」의 예측이 가능해져 취급성이 향상된다.It can be understood from this that, in the case of the multilayered printed circuit board manufactured using only the prepreg as in Comparative Example 1, the deflection amount varies between the products of the same lot, which may make handling as a product difficult. On the other hand, if the "first built-up layer" and the "second built-up layer" satisfy the above-described conditions as in the multilayer printed wiring board according to the present application, even if any kind of layers are arranged in the built- Bending "," torsion ", and" dimensional change "can be predicted by reducing" warping "," torsion ", and" dimensional change "
본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판은, 종래의 빌트업 배선층을 구비하는 다층 프린트 배선판과 비교하여, 「휨」·「비틀림」·「치수 변화」가 작고, 편차가 적으므로, 제조 과정에 있어서의 오차를 미리 상정하는 것이 가능하고, 제조 과정에서의 문제가 생기기 어려워진다. 그로 인해, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판은 부품 실장이 용이하고, 고품질의 프린트 배선판으로서 시장에 공급할 수 있다. 또한, 본건 출원에 관한 다층 프린트 배선판의 제조 방법은, 종래의 빌트업 제조법을 그대로 사용할 수 있으므로, 기존 설비의 유효 이용성이 우수하다.The multilayered printed circuit board according to the present application has a smaller deflection, " torsion " and " dimensional change " and less variation, as compared with a multilayered printed circuit board having a conventional built-up wiring layer, Can be predicted in advance, and problems in the manufacturing process are less likely to occur. As a result, the multilayer printed wiring board relating to the present application can easily be mounted on a component, and can be supplied to the market as a high-quality printed wiring board. In addition, since the conventional build-up method can be used as it is in the method of manufacturing a multilayered printed circuit board according to the present application, the existing usability of the existing equipment is excellent.
1 : 다층 프린트 배선판
2 : 코어 기판
3a, 3b : 빌트업층
10 : 골격재를 포함하는 절연층
11 : 코어 기판의 절연층 구성 수지
12 : 골격재
14 : 동박(층)
15 : 절연 수지층
20 : 층간 도통 도금
21 : 스킵드 비어
22 : 내층 회로
23, 24, 25 : 구리 회로층
30, 31, 32 : 절연 수지층
40 : 구리 클래드 적층판
50 : 반경화 수지층이 부착된 동박
51 : 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판
52 : 다층 구리 클래드 적층판
Bun : 제n 빌트업 배선층(n≥1)1: multilayer printed wiring board
2: core substrate
3a, 3b: built-up layer
10: Insulating layer comprising skeletal material
11: Insulation layer constituent resin of core substrate
12: Skeleton material
14: Copper foil (layer)
15: Insulation resin layer
20: Interlayer plating
21: Skiped Beer
22: Inner layer circuit
23, 24, 25: Copper circuit layer
30, 31, 32: insulating resin layer
40: Copper clad laminate
50: Copper with a semi-cured resin layer
51: Laminate with first build-up wiring layer
52: multilayer copper clad laminate
B: The nth built-up wiring layer (n? 1)
Claims (7)
당해 다층 프린트 배선판을 구성하는 당해 코어 기판은, 절연층의 두께가 150㎛ 이하이고, 골격재를 포함하는 절연층의 양면에 내층 회로를 구비하고, 또한 당해 골격재를 포함하는 절연층의 X-Y 방향 선팽창율이 0ppm/℃ 내지 20ppm/℃이고,
당해 코어 기판의 양면에 설치하는 제1 빌트업 배선층 및 당해 제1 빌트업 배선층의 표면에 설치되는 제2 빌트업 배선층은, 구리 회로층과, X-Y 방향 선팽창율이 1ppm/℃ 내지 50ppm/℃의 절연 수지층으로 이루어지고, 또한 당해 절연 수지층의 X 방향 선팽창율(Bx)의 값과 Y 방향 선팽창율(By)의 값이 [Bx]/[By]=0.9 내지 1.1의 관계를 만족하는 것을 특징으로 하는, 다층 프린트 배선판.In a multilayer printed wiring board in which two or more build-up wiring layers are provided on both sides of a core substrate,
The core substrate constituting the multilayered printed circuit board is characterized in that the thickness of the insulating layer is 150 占 퐉 or less and the inner layer circuit is provided on both surfaces of the insulating layer including the skeleton and the XY direction of the insulating layer including the skeleton The coefficient of linear expansion is 0 ppm / DEG C to 20 ppm / DEG C,
The first built-up wiring layer provided on both sides of the core substrate and the second built-up wiring layer provided on the surface of the first built-up wiring layer are formed of a copper circuit layer and a copper foil layer having a linear expansion coefficient in the XY direction of 1 ppm / The value of the linear expansion coefficient Bx of the insulating resin layer in the X direction and the value of the Y direction linear expansion coefficient By of the insulation resin layer satisfy the relation of [Bx] / [By] = 0.9 to 1.1 Layer printed wiring board.
이하의 공정 1 내지 공정 3을 구비하는 것을 특징으로 하는, 다층 프린트 배선판의 제조 방법.
공정 1 : X-Y 방향 선팽창율이 0ppm/℃ 내지 20ppm/℃의 골격재를 포함하는 절연층의 표면에 동박층을 구비하는 구리 클래드 적층판을 사용하여, 내층 회로를 형성하고, 절연층의 두께가 150㎛ 이하의 코어 기판을 얻는다.
공정 2 : 동박의 표면에, 경화 후의 절연 수지층의 X-Y 방향 선팽창율이 1ppm/℃ 내지 50ppm/℃이고, 또한 당해 절연 수지층의 X 방향 선팽창율(Bx)의 값과 Y 방향 선팽창율(By)의 값이 [Bx]/[By]=0.9 내지 1.1의 관계를 만족하는 반경화 수지층을 형성한 반경화 수지층이 부착된 동박을 사용하여, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층측을, 상기 코어 기판의 양면에 접촉시켜 적층하고, 회로 형성을 행함으로써 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판을 얻는다
공정 3 : 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판의 표면에, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층을 접촉시켜, 절연 수지층과 동박층으로 이루어지는 빌트업층을 더 형성하고, 회로 형성을 행하는 조작을 제1 단위 공정으로서 당해 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판의 양면에 대해, 이 제1 단위 공정을 n1회(n1≥1의 정수) 반복해서 행하고, 코어 기판의 양면에 (4+2n1) 층의 층 구성의 빌트업층을 구비하는 다층 프린트 배선판을 얻는다.The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 4,
A process for producing a multilayer printed wiring board characterized by comprising the following steps 1 to 3.
Step 1: An inner layer circuit is formed by using a copper clad laminate having a copper foil layer on the surface of an insulating layer including a skeleton having an XY linear expansion coefficient of 0 ppm / ° C to 20 ppm / ° C. Mu] m or less.
Step 2: The surface of the copper foil is coated with the insulating resin layer after curing in a range of 1 ppm / 占 폚 to 50 ppm / 占 폚 in the XY direction in the XY direction, the value of the linear expansion coefficient (Bx) ) Of the copper foil having the semi-cured resin layer adhered thereto is in the range of [Bx] / [By] = 0.9 to 1.1, The resin layer side is brought into contact with both surfaces of the core substrate and laminated, and a circuit is formed to obtain a laminated board having the first build-up wiring layer attached thereto
Step 3: The semi-cured resin layer of the copper foil to which the semi-cured resin layer is adhered is brought into contact with the surface of the laminate with the first build-up wiring layer attached thereto to form a built-up layer composed of the insulating resin layer and the copper foil layer, for the operation of performing a formation on both surfaces of the art is the first build-up wiring layer as a first unit process-clad laminate, the first step is performed by repeating a unit of n 1 times (n an integer from 1 ≥1), both surfaces of the core substrate, Layered printed wiring board having a built-up layer having a layer structure of (4 + 2n 1 ) layer is obtained.
이하의 공정 1 내지 공정 4를 구비하는 것을 특징으로 하는, 다층 프린트 배선판의 제조 방법.
공정 1 : X-Y 방향 선팽창율이 0ppm/℃ 내지 20ppm/℃의 골격재를 포함하는 절연층의 표면에 동박층을 구비하는 구리 클래드 적층판을 사용하여, 내층 회로를 형성하고, 절연층의 두께가 150㎛ 이하의 코어 기판을 얻는다.
공정 2 : 동박의 표면에, 경화 후의 절연 수지층의 X-Y 방향 선팽창율이 1ppm/℃ 내지 50ppm/℃이고, 또한 당해 절연 수지층의 X 방향 선팽창율(Bx)의 값과 Y 방향 선팽창율(By)의 값이 [Bx]/[By]=0.9 내지 1.1의 관계를 만족하는 반경화 수지층을 형성한 반경화 수지층이 부착된 동박을 사용하여, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층측을, 상기 코어 기판의 양면에 접촉시켜 적층하고, 회로 형성을 행함으로써 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판을 얻는다.
공정 3 : 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판의 표면에, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층을 접촉시켜, 절연 수지층과 동박층으로 이루어지는 빌트업층을 더 형성하고, 회로 형성을 행하는 조작을 제1 단위 공정으로서 당해 제1 빌드업 배선층이 부착된 적층판의 양면에 대해, 이 제1 단위 공정을 n1회(n1≥1의 정수) 반복해서 행하고, 코어 기판의 양면에 (4+2n1) 층의 빌트업 배선층을 구비하는 다층 프린트 배선판을 얻는다.
공정 4 : 당해 제1 단위 공정을 사용해서 형성한 (4+2n1) 층의 빌트업 배선층의 표면에, 경화 후에 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만이 되는 반경화 수지층을 형성한 반경화 수지층이 부착된 동박을 사용하고, 당해 반경화 수지층이 부착된 동박의 반경화 수지층측을 접촉시켜 적층하고, 회로 형성을 행하는 조작을 제2 단위 공정으로서, 이 제2 단위 공정을 n2회(n2≥1의 정수) 반복해서 행하고, 코어 기판의 양면에 {4+2(n1+n2)} 층의 층 구성의 빌트업층을 구비하고, 또한 최외층에 25℃에 있어서의 인장 탄성률이 5.0㎬ 미만의 절연 수지층을 구비하는 빌트업 배선층을 배치한 다층 프린트 배선판을 얻는다.The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 5,
A method for manufacturing a multilayer printed wiring board characterized by comprising the following steps 1 to 4.
Step 1: An inner layer circuit is formed by using a copper clad laminate having a copper foil layer on the surface of an insulating layer including a skeleton having an XY linear expansion coefficient of 0 ppm / ° C to 20 ppm / ° C. Mu] m or less.
Step 2: The surface of the copper foil is coated with the insulating resin layer after curing in a range of 1 ppm / 占 폚 to 50 ppm / 占 폚 in the XY direction in the XY direction, the value of the linear expansion coefficient (Bx) ) Of the copper foil having the semi-cured resin layer adhered thereto is in the range of [Bx] / [By] = 0.9 to 1.1, The resin layer side is brought into contact with both surfaces of the core substrate and laminated, and a circuit is formed to obtain a laminate plate having the first build-up wiring layer attached thereto.
Step 3: The semi-cured resin layer of the copper foil to which the semi-cured resin layer is adhered is brought into contact with the surface of the laminate with the first build-up wiring layer attached thereto to form a built-up layer composed of the insulating resin layer and the copper foil layer, for the operation of performing a formation on both surfaces of the art is the first build-up wiring layer as a first unit process-clad laminate, the first step is performed by repeating a unit of n 1 times (n an integer from 1 ≥1), both surfaces of the core substrate, (4 + 2n 1 ) layer of a multilayer printed wiring board having a built-up wiring layer.
Step 4: the radius a in a built surface of the up wiring layer is formed by using the art the first unit process, (4 + 2n 1) layer, forming a semi-cured resin layer is less than 5.0㎬ tensile elastic modulus at 25 ℃ after curing Chemistry A process of forming a circuit by using a copper foil having a resin layer attached thereto and laminating the copper foil on the side of the semi-cured resin layer of the copper foil on which the semi-cured resin layer is adhered is laminated to form a second unit process, twice performed repeatedly (n an integer from 2 ≥1), {4 + 2 (n 1+ n 2)} on both surfaces of a core substrate provided with a built-up layer of the layer structure of the layer, the tensile elastic modulus at 25 ℃ the outermost layer And a built-up wiring layer having an insulating resin layer of less than 5.0 mu m is disposed.
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