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KR20120129861A - Lift pin assembly - Google Patents

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KR20120129861A
KR20120129861A KR1020120130098A KR20120130098A KR20120129861A KR 20120129861 A KR20120129861 A KR 20120129861A KR 1020120130098 A KR1020120130098 A KR 1020120130098A KR 20120130098 A KR20120130098 A KR 20120130098A KR 20120129861 A KR20120129861 A KR 20120129861A
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KR
South Korea
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lift pin
guide
susceptor
housing
lift
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Application number
KR1020120130098A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김용진
Original Assignee
주성엔지니어링(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by 주성엔지니어링(주) filed Critical 주성엔지니어링(주)
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Abstract

PURPOSE: A lift pin assembly is provided to minimize the frictional force generated between a lift pin and a guide and to prevent damage of the lift pin. CONSTITUTION: A lift pin(100) supports a substrate. A lift pin guide(200) forms a penetration hole of the lift pin. The lift pin guide is fixed in a housing(300). A connecting unit fixes the housing to the susceptor. The lift pin guide is formed in both ends of the housing.

Description

리프트핀 어셈블리{Lift pin assembly}Lift pin assembly

본 발명은 리프트핀 어셈블리에 관한 것으로, 구체적으로는 LCD 증착장비 내부에 구비되어 서셉터의 승하강방향을 안내하는 리프트핀 어셈블리에 관한 것이다.
The present invention relates to a lift pin assembly, and more particularly, to a lift pin assembly provided inside an LCD deposition apparatus to guide a lifting direction of a susceptor.

일반적으로 액정표시소자(LCD, Liquid Crystal Display)는 인가전압에 따른 액정의 투과도 변화를 이용하여 각종 장치에서 발생되는 여러 가지 전기적인 신호를 시각정보로 변화시켜 전달하는 전자소자이다. 이러한 액정표시소자는 액정층에 전계를 인가하기 위한 전극과, 액정셀 별로 데이터 공급을 절환하기 위한 박막트랜지스터와, 외부에서 공급되는 데이터를 액정셀로 공급하는 신호배선 및 박막트랜지스터의 제어신호를 공급하는 신호 배선 등이 구비된 하판과, 칼라 필터가 형성된 상판과, 일정한 셀 갭을 확보하기 위해 상기 상,하판 사이에 구비되는 스페이서와, 상기 스페이서에 의해 마련된 공간에 충진되는 액정으로 구성된다.In general, a liquid crystal display (LCD) is an electronic device that transmits various electrical signals generated by various devices to visual information by using a change in transmittance of liquid crystal according to an applied voltage. The liquid crystal display device includes an electrode for applying an electric field to the liquid crystal layer, a thin film transistor for switching data supply for each liquid crystal cell, a signal line for supplying data supplied from the outside to the liquid crystal cell, and a control signal for the thin film transistor. And a lower plate provided with signal wirings, a top plate formed with a color filter, a spacer provided between the upper and lower plates to secure a constant cell gap, and a liquid crystal filled in a space provided by the spacer.

한편, 상기와 같은 액정표시소자의 제조는 웨이퍼 또는 글라스(이하 기판이라 함) 상에 유전체 물질 등을 박막으로 증착하는 박막증착공정과, 감광성 물질을 사용하여 상기 박막 중 선택된 영역을 노출 또는 은폐시키는 포토리소그라피공정과, 선택된 영역의 박막을 제거하여 목적하는 대로 패터닝하는 식각공정과, 잔류물을 제거하기 위한 세정공정으로 이루어지되, 상기한 공정을 수차례 반복함으로써 완성되는 바, 이들 각 공정은 해당 공정의 최적 환경이 조성된 챔버 내부에서 진행된다. 이 중, 박막증착공정은 박막트랜지스터의 채널부로 포함되는 활성층과 박막트랜지스터를 보호하기 위한 보호막을 기판에 증착하는 공정으로 플라스마를 이용하여 기판 상에 박막을 증착하는 플라즈마 화학증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition;PECVD)공법이 사용된다.On the other hand, the manufacturing of the liquid crystal display device as described above is a thin film deposition process for depositing a dielectric material or the like on a wafer or glass (hereinafter referred to as a substrate), and using a photosensitive material to expose or conceal the selected region of the thin film A photolithography process, an etching process for removing the thin film of the selected region and patterning as desired, and a cleaning process for removing residue, are completed by repeating the above steps several times. The optimum environment for the process is carried out inside the chamber. Among these, the thin film deposition process is a process of depositing an active layer included in the channel portion of the thin film transistor and a protective film for protecting the thin film transistor on the substrate. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition is used to deposit a thin film on the substrate using plasma. ; PECVD) method is used.

도 1a와 도 1b는 플라스마를 이용하여 기판 상에 박막을 증착하는 PECVD 장치에서 기판이 공정위치까지 로딩되는 과정을 도시하는 공정도이다.1A and 1B are process diagrams illustrating a process of loading a substrate to a process position in a PECVD apparatus for depositing a thin film on a substrate using plasma.

기판처리장치의 구성을 먼저 살펴보면, 일정한 반응공간이 내부에 형성되며 기판(S)을 출입시키기 위한 도어(D)가 측벽에 구비되는 챔버(10)와, 상면에 기판(S)이 안착되며 상기 챔버(10)의 내부에 위치되는 서셉터(20)와, 다수의 분사홀(42)를 통해 서셉터(20)의 상부에서 공정가스를 분사하는 가스분배판(40)과, 외부 가스저장부(미도시)와 연결되며 상기 가스분배판(40)을 통해 공정가스를 유입하는 가스유입관(80)과 가스배출구(미도시)를 포함한다.Looking at the configuration of the substrate processing apparatus first, a constant reaction space is formed therein, the chamber 10 is provided on the side wall and the door (D) for entering and exiting the substrate (S), the substrate (S) is mounted on the upper surface A susceptor 20 positioned inside the chamber 10, a gas distribution plate 40 for injecting process gas from the upper portion of the susceptor 20 through a plurality of injection holes 42, and an external gas storage unit; It is connected to (not shown) and includes a gas inlet pipe 80 and a gas discharge port (not shown) for introducing a process gas through the gas distribution plate 40.

상기의 가스분배판(40)은 RF전원(60)으로부터 RF전력이 인가되는 플라스마전극(50)과 일체로 결합되기도 하며, 상기 플라스마 전극(50)과 RF전원(60) 사이에는 상기 플라스마 전극(50)에 최대 전력이 인가될 수 있도록 경로 임피던스를 매칭하는 임피던스 정합기(Impedance Matching Box, 70)가 설치된다. 상기 플라스마 전극(50)에 대응되는 전극은 접지된 서셉터(20)가 되는데, 경우에 따라 서셉터(20)에도 RF전원을 연결하여 기판(S)으로 입사되는 플라스마 에너지를 제어하는 경우도 있다. 또한, 플라스마 전극(50)과 가스분배판(40) 사이에는 가스유입관(80)으로 유입된 공정가스를 일차 확산시키기 위한 버퍼공간(52)이 형성되어 공정가스가 분사홀(42)을 통하여 균일하게 분사될 수 있게 한다. The gas distribution plate 40 may be integrally coupled with the plasma electrode 50 to which RF power is applied from the RF power source 60, and between the plasma electrode 50 and the RF power source 60, the plasma electrode ( An impedance matching box 70 is installed to match the path impedance so that maximum power can be applied to 50). The electrode corresponding to the plasma electrode 50 becomes a grounded susceptor 20, and in some cases, the RF energy is also connected to the susceptor 20 to control the plasma energy incident to the substrate S. . In addition, a buffer space 52 is formed between the plasma electrode 50 and the gas distribution plate 40 to first diffuse the process gas introduced into the gas inlet pipe 80 so that the process gas is injected through the injection hole 42. Allows to spray uniformly.

한편, 서셉터(20)에는 상하를 관통하는 리프트핀 홀(21)이 다수 형성되며, 각 리프트핀 홀(21)에는 리프트핀(30)이 결합되는 바, 이러한 리프트핀(30)은 기판(S)을 서셉터(20)에 안착시키거나 반출하는데 이용된다. 리프트핀(30)의 상단부에는 직경이 큰 헤드가 형성되고, 리프트핀 홀(21)의 상부에도 그에 대응하는 걸림턱이 형성되어있다. 기판(S)을 챔버(10)의 내부로 반입하여 서셉터(20)에 안착시키는 경우에는, 도 1a에 도시된 바와 같이, 서셉터(20)를 하강시켜 리프트핀(30)의 하단부가 챔버(10) 저면에 접촉됨으로써 리프트핀(30)의 상단부가 서셉터(20)의 상부로 돌출되고, 이때 도어(D)를 통해 반입된 기판(S)이 돌출된 리프트핀(30) 위에 안착된다. Meanwhile, a plurality of lift pin holes 21 penetrating up and down are formed in the susceptor 20, and the lift pins 30 are coupled to each lift pin hole 21, and the lift pins 30 are formed of a substrate ( S) is used to seat or unload the susceptor 20. A head having a large diameter is formed at an upper end of the lift pin 30, and a corresponding locking jaw is formed at an upper portion of the lift pin hole 21. When the substrate S is loaded into the chamber 10 and seated on the susceptor 20, as shown in FIG. 1A, the susceptor 20 is lowered to lower the lower end of the lift pin 30. 10, the upper end of the lift pin 30 protrudes to the top of the susceptor 20 by contacting the bottom surface, and the substrate S loaded through the door D is seated on the protruding lift pin 30. .

상기 기판(S)이 리프트핀(30) 위에 안착된 후, 박막증착공정이 진행되기 전에 기판(S)을 서셉터(20)를 공정위치까지 상승시키게 되는데, 리프트핀(30)은 별도 구동장치 없이 서셉터(20)에 대하여 자유로이 결합되어 있는 상태이어서 서셉터(20)가 상승할 때 리프트핀(30)의 헤드가 관통홀 상부 걸림턱에 걸리게 되므로, 리프트핀(30)에 안착된 기판은 자연스럽게 서셉터(20)의 상면에 안착된다. After the substrate S is seated on the lift pins 30, the susceptor 20 is raised to the process position before the thin film deposition process is performed. The lift pins 30 are driven separately. Since the head of the lift pin 30 is caught by the upper engaging jaw of the through-hole when the susceptor 20 is raised since the freely coupled state with respect to the susceptor 20, the substrate seated on the lift pin 30 It is naturally seated on the upper surface of the susceptor 20.

기판이 상면에 안치된 이후에도 서셉터(20)가 공정위치까지 계속 상승하면, 도 1b에 도시된 바와 같이 리프트핀(30)은 서셉터(20)에 매달린 상태에서 서셉터(20)와 함께 공정위치까지 상승하게 된다. If the susceptor 20 continues to rise to the process position even after the substrate is placed on the upper surface, the lift pin 30 is processed together with the susceptor 20 in a state where the lift pin 30 is suspended from the susceptor 20, as shown in FIG. Will rise to position.

공정위치에서 공정을 마친 이후에는 다시 서셉터(20)가 하강하게 되며, 서셉터(20)에 매달린 리프트핀(30)의 하단부가 챔버(10)의 저면에 닿으면, 도 1a에 도시된 바와 마찬가지로 리프트핀(30)의 상단부가 다시 서셉터(20)의 상부로 돌출되며, 도어(40)를 통해 진입한 로봇이 서셉터(20)와 기판(S)의 사이로 진입하여 기판(S)을 반출하게 된다. After finishing the process at the process position, the susceptor 20 is lowered again, and when the lower end of the lift pin 30 suspended on the susceptor 20 touches the bottom of the chamber 10, as shown in FIG. 1A. Similarly, the upper end of the lift pin 30 is protruded to the upper part of the susceptor 20 again, and the robot entered through the door 40 enters between the susceptor 20 and the substrate S to lift the substrate S. Will be taken out.

이상에서 리프트핀(30)은 서셉터(20)에 기판을 안치하거나 서셉터(20)로부터 기판(S)을 반출하는데 필수적인 역할을 하며, 주기적으로 리프트핀 홀(21)을 관통하여 상하로 운동함을 알 수 있다. In the above, the lift pin 30 plays an essential role in placing the substrate in the susceptor 20 or removing the substrate S from the susceptor 20, and periodically moves up and down through the lift pin hole 21. It can be seen.

서셉터(20)는 통상 알루미늄 재질로 제작되며, 내부에 기판의 예열을 위한 히터를 내장하고 있다. 서셉터를 관통하는 리프트핀(30)은 알루미나(Al2O3) 등과 같은 세라믹 재질로 제작되고, 서셉터의 두께보다 길게 제작되며, 서셉터(20)의 하강 시 리프트핀(30)의 하단이 챔버(10)의 바닥면에 먼저 닿도록 제작된다.The susceptor 20 is usually made of aluminum and has a heater therein for preheating the substrate. The lift pin 30 penetrating the susceptor is made of a ceramic material such as alumina (Al 2 O 3 ), is made longer than the thickness of the susceptor, the lower end of the lift pin 30 when the susceptor 20 is lowered The bottom surface of the chamber 10 is first produced.

그리고, 상기 서셉터(20)에는 상하로 관통된 리프트핀 홀(21)의 내부에 플라스마가 형성되는 것을 방지하기 위해서 절연재질의 리프트핀 가이드(100)를 리프트핀 홀(21) 내벽에 추가로 결합한다. In addition, in order to prevent plasma from being formed in the lift pin hole 21 vertically penetrating through the susceptor 20, an lift pin guide 100 made of an insulating material is further added to the inner wall of the lift pin hole 21. To combine.

도 2a는 종래기술에 의한 리프트핀과 리프트핀 가이드의 결합상태를 도시하는 종단면도이고, 도 2b는 종래기술에 의한 리프트핀과 리프트핀 가이드의 결합상태를 도시하는 횡단면도이다.Figure 2a is a longitudinal cross-sectional view showing a coupling state of the lift pin and the lift pin guide according to the prior art, Figure 2b is a cross-sectional view showing a coupling state of the lift pin and the lift pin guide according to the prior art.

도 2a를 참조하면, 리프트핀 가이드(90)는 중앙에 상하를 관통하는 관통홀(91)을 구비하는 관형의 구조체로서, 서셉터(20)의 하부로부터 삽입되어 고정되고, 리프트핀(30)의 상단에는 리프트핀 헤드(32)가 형성되어 서셉터 상면의 걸림턱(22)에 걸릴 수 있도록 한다.Referring to FIG. 2A, the lift pin guide 90 is a tubular structure having a through hole 91 penetrating up and down in the center thereof, and is inserted and fixed from the lower part of the susceptor 20, and the lift pin 30. A lift pin head 32 is formed at an upper end thereof so as to be caught by the locking jaw 22 of the upper surface of the susceptor.

리프트핀 가이드(90)의 상부와 하부에는 내벽에서 안쪽 방향으로 선접촉부(92) 또는 면접촉부(93)가 각각 형성되어 있는데, 이는 리프트핀 가이드(90)를 관통하여 승강하는 리프트핀(30)을 상부와 하부에서 고정하여 줌으로써 최대한 수직상태로 유지시키기 위한 것이다. The upper and lower portions of the lift pin guide 90 are respectively formed with a line contact portion 92 or a surface contact portion 93 inward from the inner wall, which are lift pins 30 which are lifted through the lift pin guide 90. It is to maintain the vertical as possible by fixing the upper and lower.

서셉터(20)가 하강할 때, 리프트핀(30)의 하단부가 챔버 저면에 닿은 후에도 서셉터(20)는 일정 거리를 더 하강하게 되는데, 이때 리프트핀(30)이 기울어져 있으면 하강하는 서셉터(20)에 의해 리프트핀(30)이 파손될 수 있으므로, 이를 방지하기 위해서는 리프트핀(30)을 최대한 수직상태로 유지하여야 한다. When the susceptor 20 descends, even after the lower end of the lift pin 30 touches the bottom of the chamber, the susceptor 20 further descends a predetermined distance, wherein the lift pin 30 is lowered if the lift pin 30 is inclined. Since the lift pin 30 may be damaged by the acceptor 20, the lift pin 30 should be maintained as vertical as possible to prevent this.

하지만, 상기와 같이 구성된 종래의 증착장비에서는, 서셉터(20) 내의 리프트핀(30)이 외부 구동수단에 의하여 승강된 상태에서 로봇이 기판(S)을 챔버(10) 내부로 이동시켜 리프트핀(30) 상부에 올려놓으면, 서셉터(20)의 열변형과 상기 기판(S)의 하중으로 기판(S)은 도 2c와 같이 휘어지게 되고, 이로 인해 리프트핀(30)이 기울어지게 된다. However, in the conventional deposition apparatus configured as described above, while the lift pin 30 in the susceptor 20 is lifted by the external driving means, the robot moves the substrate S into the chamber 10 to lift the lift pin. 30, the substrate S is bent as shown in FIG. 2C due to the heat deformation of the susceptor 20 and the load of the substrate S, thereby causing the lift pin 30 to be inclined.

상기의 리프트핀(30)이 기울어짐에 따라 도 2c의 점(E)에서 리프트핀(30)이 리프트핀 가이드(90)를 누르게 되어 리프트 핀(30)과 리프트핀 가이드(90) 사이에서 대각선 방향으로 마찰력이 증가하게 되고, 이 상태에서 기판(S)의 언로딩(Unloading)을 위해 서셉터(20)가 하강을 하면, 상기 마찰력에 의해 순간적인 전단력이 발생하여 리프트핀(30)이 부러지는 상황이 발생한다.As the lift pin 30 is inclined, the lift pin 30 presses the lift pin guide 90 at the point E of FIG. 2C, and thus the diagonal line between the lift pin 30 and the lift pin guide 90. Direction, the friction force increases, and in this state, when the susceptor 20 descends for unloading the substrate S, a momentary shear force is generated by the friction force, and the lift pin 30 is broken. Losing situation occurs.

상기의 리프트핀(30)이 파손되면, 파손된 리프트핀(30)을 교체하기 위하여 장비 가동을 중단시켜야 하므로, 장비의 생산성에 큰 지장을 초래할 뿐만 아니라, 상부에 안치된 기판(S)도 손상을 입거나 파손될 가능성이 커진다. 또한, 기판(S)이 파손되면 플라스마에 의하여 기판처리장비의 다른 부품들이 연쇄적으로 손상될 우려가 높아 그 피해가 큰 실정이다.
If the lift pin 30 is damaged, the equipment must be stopped in order to replace the broken lift pin 30, which not only causes a great effect on the productivity of the equipment, but also damages the substrate S placed thereon. It is more likely to wear or break. In addition, when the substrate (S) is broken, there is a high possibility that other components of the substrate processing equipment may be damaged in series by the plasma, and thus the damage is large.

본 발명은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, LCD 등을 제작하기 위한 증착 장비의 챔버에서 리프트핀 가이드의 내부에서 리프트핀이 보다 자유롭게 승하강할 수 있도록 하는 리프트핀 어셈블리를 제공한다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, and provides a lift pin assembly that allows the lift pin to move up and down more freely in the lift pin guide in the chamber of the deposition equipment for manufacturing the LCD and the like.

또한, 본 발명은 리프트핀과 가이드 사이의 상호 마찰로 인하여 리프트핀이 파손되는 현상을 방지할 수 있는 리프트핀 어셈블리를 제공한다.
In addition, the present invention provides a lift pin assembly that can prevent the lift pin is damaged due to mutual friction between the lift pin and the guide.

본 발명의 일 양태에 따른 리프트핀 어셈블리는 서셉터; 기판을 지지하는 리프트 핀; 상기 리프트핀이 관통하는 관통공이 형성되고, 상기 관통공의 내벽에는 상기 리프트핀을 윤활시키는 윤활수단이 구비된 리프트핀 가이드; 상기 서셉터에 결합되며, 내부에 상기 리프트핀 가이드가 고정되는 하우징; 및 상기 서셉터 하부에서 상기 하우징의 일부와 접촉되어 상기 서셉터에 상기 하우징을 고정시키는 결합구를 포함하고, 상기 리프트핀 가이드는 상기 하우징의 상하 양단부에 각각 구비되며, 상기 하우징의 내부로 삽입되어 상기 하우징과 결합된다.Lift pin assembly according to an aspect of the present invention susceptor; Lift pins supporting the substrate; A lift pin guide having a through hole through which the lift pin penetrates, and an inner wall of the through hole provided with lubrication means for lubricating the lift pin; A housing coupled to the susceptor and having the lift pin guide fixed therein; And a coupling hole contacting a portion of the housing at the lower part of the susceptor to fix the housing to the susceptor, wherein the lift pin guides are respectively provided at upper and lower ends of the housing and are inserted into the housing. It is coupled with the housing.

상기 리프트 핀은 헤드와, 상기 헤드로부터 소정 길이 돌출되는 스템을 포함하고, 상기 헤드와 스템 사이에 형성된 단턱부가 상기 서셉터의 리프트핀 홀의 내부에 형성된 걸림턱에 대응된다.The lift pin includes a head and a stem protruding a predetermined length from the head, and a stepped portion formed between the head and the stem corresponds to a locking step formed in the lift pin hole of the susceptor.

상기 윤활수단은 볼인 것을 특징으로 한다.The lubrication means is characterized in that the ball.

상기 리프트핀 가이드는, 상기 윤활수단이 안착되는 제 1 안착공이 측벽에 형성되는 내측가이드와, 상기 내측가이드의 주위를 감싸는 외측가이드로 구성되고,The lift pin guide includes an inner guide having a first seating hole on which the lubricating means is seated and formed on a side wall, and an outer guide surrounding the inner guide.

상기 윤활수단은 상기 제 1 안착공을 통해 상기 리프트핀 측으로 일부 돌출되는 것을 특징으로 한다.
The lubricating means is characterized in that part protrudes toward the lift pin through the first seating hole.

본 발명 리프트핀 어셈블리는 LCD 등을 제작하기 위한 증착 장비의 챔버에 구비되어 리프트핀 가이드의 내부에서 리프트핀이 보다 자유롭게 승강할 수 있도록 한다. 또한, 리프트핀 가이드에 다수의 윤활수단을 구비함으로써 리프트핀이 기울어짐에 따라 리프트핀과 가이드 사이에 발생되는 마찰력을 최소화할 수 있으며, 그에 따라 리프트핀이 파손되는 것을 방지할 수 있다.The lift pin assembly of the present invention is provided in the chamber of the deposition equipment for manufacturing the LCD, such that the lift pin can be lifted more freely inside the lift pin guide. In addition, by providing a plurality of lubrication means in the lift pin guide can minimize the friction force generated between the lift pin and the guide as the lift pin is inclined, thereby preventing the lift pin from being damaged.

뿐만 아니라, 윤활수단에 회전 가능한 볼(Ball)을 사용함으로써 상기 볼의 회전력으로 인하여 감소시킬 수 있어 리프트핀이 파손되는 현상을 방지하여 생산성 향상 및 PM 주기 증대라는 부가적인 효과를 거둘 수 있다.
In addition, by using the rotatable ball (Ball) in the lubrication means can be reduced due to the rotational force of the ball to prevent the phenomenon that the lift pin is broken can have the additional effect of improving productivity and increasing the PM cycle.

도 1a와 도 1b는 플라스마를 이용하여 기판 상에 박막을 증착하는 플라즈마 화학증착 장치에서 기판이 공정위치까지 로딩되는 과정을 도시하는 공정도.
도 2a 및 도 2b는 종래기술에 의한 리프트핀과 리프트핀 가이드의 결합상태를 도시하는 종단면도 및 횡단면도.
도 2c는 서셉터의 열변형과 기판의 하중으로 변형된 상태를 도시하는 종단면도.
도 3a는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 리프트핀과 리프트핀 가이드의 결합상태를 도시하는 종단면도.
도 3b는 도 3a의 리프트핀 가이드를 도시하는 단면사시도.
도 3c는 도 3a의 횡단면도.
도 4a는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 리프트핀과 리프트핀 가이드의 결합상태를 도시하는 종단면도.
도 4b는 도 4a의 리프트핀 가이드를 도시하는 단면사시도.
도 4c는 도 4a의 횡단면도.
도 5a는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 리프트핀과 리프트핀 가이드의 결합상태를 도시하는 종단면도.
도 5b는 도 5a의 리프트핀 가이드를 도시하는 단면사시도.
도 5c는 도 5a의 횡단면도.
도 5d는 상기 도 5c 중 외측가이드가 분해된 상태를 도시하는 횡단면도.
도 6은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 리프트핀과 리프트핀 가이드의 결합상태를 도시하는 종단면도.1A and 1B are process diagrams illustrating a process in which a substrate is loaded to a process position in a plasma chemical vapor deposition apparatus which deposits a thin film on a substrate using plasma;
Figures 2a and 2b is a longitudinal sectional view and a cross-sectional view showing a coupling state of the lift pin and the lift pin guide according to the prior art.
FIG. 2C is a longitudinal sectional view showing a state in which the strain is deformed due to the thermal deformation of the susceptor and the load of the substrate; FIG.
Figure 3a is a longitudinal cross-sectional view showing a coupling state of the lift pin and the lift pin guide according to the first embodiment of the present invention.
3B is a cross-sectional perspective view of the lift pin guide of FIG. 3A.
3C is a cross-sectional view of FIG. 3A.
Figure 4a is a longitudinal cross-sectional view showing a coupling state of the lift pin and the lift pin guide according to a second embodiment of the present invention.
4B is a cross-sectional perspective view of the lift pin guide of FIG. 4A.
4C is a cross-sectional view of FIG. 4A.
Figure 5a is a longitudinal cross-sectional view showing a coupling state of the lift pin and the lift pin guide according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 5B is a cross-sectional perspective view of the lift pin guide of FIG. 5A. FIG.
5C is a cross-sectional view of FIG. 5A.
5D is a cross-sectional view showing a state in which the outer guide of FIG. 5C is disassembled.
Figure 6 is a longitudinal cross-sectional view showing a coupling state of the lift pin and the lift pin guide according to a fourth embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 따른 각 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, each embodiment according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

[실시예 1]Example 1

도 3a는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 리프트핀과 리프트핀 가이드의 결합상태를 도시하는 종단면도이고, 도 3b는 도 3a의 리프트핀 가이드를 도시하는 단면사시도이며, 도 3c는 도 3a의 횡단면도이다.Figure 3a is a longitudinal cross-sectional view showing a coupling state of the lift pin and the lift pin guide according to the first embodiment of the present invention, Figure 3b is a cross-sectional perspective view showing the lift pin guide of Figure 3a, Figure 3c is a Cross section view.

도면에 도시된 바와 같이 상기 제 1 실시예는 기판을 지지하는 리프트핀(100)과, 상기 리프트핀(100)의 승강방향을 안내하는 리프트핀 가이드(200)와, 내부에 상기 리프트핀 가이드(200)가 구비되는 하우징(300)을 포함하여 구성된다.As shown in the drawing, the first embodiment includes a lift pin 100 for supporting a substrate, a lift pin guide 200 for guiding a lifting direction of the lift pin 100, and the lift pin guide (inside). It is configured to include a housing 300 is provided with a 200.

상기 리프트핀(100)은 기판(도 1a의 S)을 서셉터(20)의 상면에 안착시키거나 반출 시 기판(S)을 서셉터(20)의 상면으로부터 이격시키는데 사용되는 것으로 원기둥 형상의 헤드(110)와, 상기 헤드(110)의 하부로 소정 길이 돌출되는 스템(120)으로 형성된다. 이때, 상기 스템(120)은 상기 헤드(110)에 비해 작은 직경으로 형성되므로 헤드(110)와 스템(120)의 연결부위에는 단턱부(130)가 형성되는 바, 상기 단턱부(130)는 서셉터(20)의 리프트핀 홀(21) 내부에 형성된 걸림턱(22)에 대응되는 것으로 리프트핀(100)이 리프트핀 홀(21)로부터 이탈되는 것을 방지하기 위함이다.The lift pin 100 is used to seat the substrate (S in FIG. 1A) on the upper surface of the susceptor 20 or to separate the substrate S from the upper surface of the susceptor 20 when being taken out. 110 and a stem 120 protruding a predetermined length downward from the head 110. At this time, the stem 120 is formed with a smaller diameter than the head 110, so that the step portion 130 is formed at the connection portion between the head 110 and the stem 120, the step portion 130 is Corresponding to the locking step 22 formed in the lift pin hole 21 of the susceptor 20 to prevent the lift pin 100 from being separated from the lift pin hole 21.

상기 리프트핀 가이드(200)는 내부에 관통공(210)이 형성되는 관형 구조체로 상기 관통공(210)은 리프트핀 가이드(200)의 상하면 중심을 관통하여 형성되고, 상기 관통공(210)에는 상기 리프트핀(100)이 관통하여 결합된다. 또한, 상기 관통공(210)의 내벽에는 상기 리프트핀(100)과 점접촉하는 윤활수단(220)이 구비되어 리프트핀(100) 승강 시 발생되는 마찰력을 최소화한다. 이때, 본 실시예에서는 상기 윤활수단(220)으로 볼을 예시하였으나 이에 한정되지 아니하며, 다른 예로 상기 리프트핀(100)의 중심축과 수직으로 배치되는 원기둥 형상의 윤활수단도 가능하다.The lift pin guide 200 is a tubular structure having a through hole 210 formed therein. The through hole 210 is formed to penetrate through the upper and lower centers of the lift pin guide 200. The lift pin 100 is coupled through. In addition, the inner wall of the through hole 210 is provided with lubrication means 220 in point contact with the lift pin 100 to minimize the friction force generated when the lift pin 100 is raised and lowered. In this embodiment, the ball is exemplified as the lubrication means 220, but is not limited thereto. In another example, a cylindrical lubrication means may be disposed perpendicularly to the central axis of the lift pin 100.

한편, 상기 리프트핀 가이드(200)의 측벽에는 상기 윤활수단(이하, 볼(220)이라함)이 안착되는 안착공(230)이 형성되고, 상기 안착공(230)에 볼(220)이 삽입된 상태에서 상기 하우징(300)의 내부로 삽입되어 결합된다. 이때, 상기 볼(220)은 상기 안착공(230)의 외부, 즉 상기 리프트핀(100) 측으로 일부 돌출되도록 삽입되어 리프트핀(100)과 점접촉하게 되어, 상기 리프트핀 가이드(200)는 상기 하우징(300)의 내부에 고정된다.On the other hand, the side wall of the lift pin guide 200 is formed with a seating hole 230 for the lubrication means (hereinafter referred to as ball 220) is formed, the ball 220 is inserted into the seating hole 230 In the state is inserted into the housing 300 is coupled. At this time, the ball 220 is inserted so as to partially protrude to the outside of the seating hole 230, that is, the lift pin 100 is in contact with the lift pin 100, the lift pin guide 200 is the It is fixed inside the housing 300.

여기서, 상기 리프트핀(100)이 수직상태를 유지하기 위해서 리프트핀 가이드는(200) 상기 하우징(300)의 상하 양단부에 각각 구비되는 것이 바람직하며, 특히 리프트핀(100)과 접촉되는 상기 볼(220)은 동일한 평면상에 3개 이상이 서로 대칭적으로 구비되는 것이 더욱 바람직하다. 본 실시예의 경우 동일한 평면상에 4개의 볼(220)이 구비되며, 상기 4개의 볼(220)은 서로 등간격으로 배치되고, 리프트핀(100) 측으로 돌출되는 높이 또한 동일하다.In this case, in order to maintain the lift pin 100 in a vertical state, the lift pin guide 200 may be provided at both upper and lower ends of the housing 300, and in particular, the ball contacting the lift pin 100. It is more preferable that 220 or more are provided symmetrically with each other on the same plane. In the present embodiment, four balls 220 are provided on the same plane, and the four balls 220 are arranged at equal intervals from each other, and the heights protruding toward the lift pin 100 are also the same.

상기 하우징(300) 또한 관형 구조체로 상술한 바와 같이 내부에는 상기 리프트핀 가이드(200)가 구비되고, 외주면 상에는 걸림턱(310)이 형성된다. 상기 걸림턱(310)은 서셉터(20)와 결합된 상태에서 상기 하우징(300)이 서셉터(20)로부터 이탈되는 것을 방지하기 위하여 형성된 것이며, 본 실시예에서는 상기 하우징(300)이 서셉터(20)에 견고하게 고정될 수 있도록 별도의 결합구(320)가 더 구비된다. 상기 결합구(320)는 상기 하우징(300) 및 서셉터(20)의 일부와 접촉되며 서셉터(20)에 나사결합되어 하우징(300)을 고정한다.The housing 300 is also a tubular structure, as described above, the lift pin guide 200 is provided therein, and a locking jaw 310 is formed on an outer circumferential surface thereof. The locking jaw 310 is formed to prevent the housing 300 from being separated from the susceptor 20 in a state in which it is coupled with the susceptor 20, and in this embodiment, the housing 300 is susceptor. A separate coupler 320 is further provided to be firmly fixed to the 20. The coupler 320 is in contact with the housing 300 and a part of the susceptor 20 and is screwed to the susceptor 20 to fix the housing 300.

상기와 같은 본실시예의 각 구성요소(100, 200, 300)는 공정가스에 항상 노출되므로 내식성이 강한 세라믹 재질 또는 절연재질로 제작되는 것이 바람직하다.
Since each component 100, 200, 300 of the present embodiment as described above is always exposed to the process gas, it is preferable to be made of a ceramic material or an insulating material with high corrosion resistance.

[실시예 2][Example 2]

도 4a는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 리프트핀과 리프트핀 가이드의 결합상태를 도시하는 종단면도이고, 도 4b는 도 4a의 리프트핀 가이드를 도시하는 단면사시도이며, 도 4c는 도 4a의 횡단면도이다.Figure 4a is a longitudinal cross-sectional view showing a coupling state of the lift pin and the lift pin guide according to a second embodiment of the present invention, Figure 4b is a cross-sectional perspective view showing the lift pin guide of Figure 4a, Figure 4c Cross section view.

도면에 도시된 바와 같이 상기 제 2 실시예는 기판을 지지하는 리프트핀(100)과, 상기 리프트핀(100)의 승강방향을 안내하는 리프트핀 가이드(200)와, 내부에 상기 리프트핀 가이드(200)가 구비되는 하우징(300)을 포함하여 구성된다. 그리고 상기 하우징(300)이 서셉터(20)에 견고하게 고정될 수 있도록 별도의 결합구(320)가 더 구비된다.As shown in the drawing, the second embodiment includes a lift pin 100 for supporting a substrate, a lift pin guide 200 for guiding the lifting direction of the lift pin 100, and the lift pin guide therein ( It is configured to include a housing 300 is provided with a 200. In addition, a separate coupler 320 is further provided to allow the housing 300 to be firmly fixed to the susceptor 20.

이때, 상기 리프트핀 가이드(200)는 상기 리프트핀(100) 측에 위치되는 내측가이드(201)와, 상기 내측가이드(201)가 내부에 삽입되어 결합되는 외측가이드(202)로 구성된다.In this case, the lift pin guide 200 is composed of an inner guide 201 positioned on the lift pin 100 and an outer guide 202 into which the inner guide 201 is inserted and coupled.

상기 리프트핀 가이드(200)는 볼(220)이 안착되는 안착공(230)이 측벽에 형성되는 내측가이드(201)와, 상기 내측가이드(201)가 내부에 삽입되어 결합되는 중공 원통형상의 외측가이드(202)로 구성된다. 그 구조를 좀 더 상세히 살펴보면, 상기 내측가이드(201)의 측벽에는 상기 볼(220)이 안착되는 안착공(230)이 형성되고, 상기 안착공(230)에 볼(220)이 삽입된 상태에서 상기 외측가이드(202)의 내부로 결합되어지되, 상기 볼(220)은 상기 안착공(230)의 외부, 즉 상기 리프트핀(100) 측으로 일부 돌출되도록 삽입되어 리프트핀(100)과 점접촉하게 된다. 상기 외측가이드(202)는 길이 방향으로 절개된 복수개(바람직하게는 2개)의 편부로 구성되어 안착공(230)에 볼(220)이 안착된 내측가이드(201)의 외부를 감싸도록 결합될 수도 있다.The lift pin guide 200 has an inner guide 201 in which a seating hole 230 in which the ball 220 is seated is formed on the side wall, and a hollow cylindrical outer guide in which the inner guide 201 is inserted into and coupled to the inner guide 201. 202. Looking at the structure in more detail, in the side wall of the inner guide 201 is formed a seating hole 230 for seating the ball 220, the ball 220 is inserted into the seating hole 230 Is coupled to the inside of the outer guide 202, the ball 220 is inserted to protrude to the outside of the seating hole 230, that is, the lift pin 100 side is in point contact with the lift pin 100 do. The outer guide 202 is composed of a plurality of pieces (preferably two) cut in the longitudinal direction is coupled to surround the outside of the inner guide 201 in which the ball 220 is seated in the seating hole 230 It may be.

여기서, 상기 안착공(230)과 안착공(230)에 삽입되는 볼(220)은 복수개로 구비되며 상기 리프트핀(100)의 승강방향을 따라 일렬로 배열된다. 이는 상기 리프트핀(100)이 상기 리프트핀 가이드(200)에 형성된 관통공(210)에 관통, 결합된 상태에서 수직을 유지하기 위함으로 상기 볼(220)은 동일한 평면상에 4개가 구비되고, 상기 4개의 볼(220)은 서로 등간격으로 배치되며, 리프트핀 측으로 돌출되는 높이 또한 동일하다.Here, the seating hole 230 and the ball 220 is inserted into the seating hole 230 is provided in plurality and arranged in a line along the lifting direction of the lift pin (100). This is to maintain the vertical in the state in which the lift pin 100 is penetrated, coupled to the through hole 210 formed in the lift pin guide 200, the ball 220 is provided with four on the same plane, The four balls 220 are arranged at equal intervals from each other, and the height protruding toward the lift pin side is also the same.

상기와 같은 구성의 본실시예는 상기 하우징(300)의 내벽과 리프트핀 가이드(200)의 외벽 사이에 소정 간극이 형성되고, 상기 리프트핀 가이드(200)의 상부, 즉 상기 하우징(300)의 내측 상단부에 소정의 공간이 마련되는 바, 상기 리프트핀(100) 승강 시 상기 리프트핀 가이드(200)는 리프트핀(100)을 따라 일정높이만큼 승강되므로 리프트핀(100) 승강 시 발생되는 마찰력을 더욱 감소시킬 수 있다.
In this embodiment of the above configuration, a predetermined gap is formed between an inner wall of the housing 300 and an outer wall of the lift pin guide 200, and an upper portion of the lift pin guide 200, that is, of the housing 300. A predetermined space is provided at an inner upper end of the bar, and when the lift pin 100 is lifted, the lift pin guide 200 is lifted by a predetermined height along the lift pin 100, thereby increasing the friction force generated when the lift pin 100 is lifted. Can be further reduced.

[실시예 3][Example 3]

도 5a는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 리프트핀과 리프트핀 가이드의 결합상태를 도시하는 종단면도이고, 도 5b는 도 5a의 리프트핀 가이드를 도시하는 단면사시도이다. 또한, 도 5c는 도 5a의 횡단면도이며, 도 5d는 상기 도 5c 중 외측가이드가 분해된 상태를 도시하는 횡단면도이다.5A is a longitudinal cross-sectional view illustrating a coupling state of a lift pin and a lift pin guide according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 5B is a cross-sectional perspective view illustrating the lift pin guide of FIG. 5A. 5C is a cross-sectional view of FIG. 5A, and FIG. 5D is a cross-sectional view showing a state in which the outer guide of FIG. 5C is disassembled.

도면에 도시된 바와 같이 상기 제 3 실시예는 기판을 지지하는 리프트핀(100)과, 상기 리프트핀(100)의 승강방향을 안내하는 리프트핀 가이드(200)와, 내부에 상기 리프트핀 가이드(200)가 구비되는 하우징(300)을 포함하여 구성된다. 그리고 상기 하우징(300)이 서셉터(20)에 견고하게 고정될 수 있도록 별도의 결합구(320)가 더 구비된다.As shown in the drawing, the third embodiment includes a lift pin 100 for supporting a substrate, a lift pin guide 200 for guiding the lifting direction of the lift pin 100, and the lift pin guide therein ( It is configured to include a housing 300 is provided with a 200. In addition, a separate coupler 320 is further provided to allow the housing 300 to be firmly fixed to the susceptor 20.

이때, 상기 리프트핀 가이드(200)는 상기 리프트핀 측에 위치되는 내측가이드(203)와, 상기 내측가이드(203)의 외부를 감싸도록 결합되는 한 쌍의 외측가이드(204a, 204b)로 구성된다. In this case, the lift pin guide 200 is composed of an inner guide 203 positioned on the lift pin side and a pair of outer guides 204a and 204b coupled to surround the outside of the inner guide 203. .

상기 리프트핀 가이드(200)는 볼(220)이 안착되는 안착공(230)이 측벽에 형성되는 내측가이드(203)와, 상기 내측가이드(203)의 외부를 감싸도록 결합되는 중공 원통형상의 외측가이드(204a, 204b)로 구성된다. 그 구조를 좀 더 상세히 살펴보면, 상기 내측가이드(203)의 측벽에는 상기 볼(220)이 안착되는 제 1 안착공(232)이 형성되고, 상기 제 1 안착공(232)에 볼(220)이 삽입된 상태에서 한 쌍의 외측가이드(204a, 204b)가 내측가이드(203)의 외부를 감싸도록 결합된다. 이때, 상기 외측가이드(204a, 204b)의 측벽에는 상기 제 1 안착공(232)과 대응되는 위치에 제 2 안착공(234)이 형성되며, 상기 볼(220)은 상기 제 1 안착공(232)과 제 2 안착공(234)의 외부, 즉 상기 리프트핀(100) 측과 상기 하우징 측(300)으로 일부 돌출되도록 삽입되어 리프트핀(100) 및 하우징(300)과 점접촉하게 된다. 한편, 상기 리프트핀 가이드(200)의 상하 양단부에는 리프트핀 가이드(200)의 결합상태를 유지하기 위한 덮개(240)가 더 구비된다.The lift pin guide 200 includes an inner guide 203 having a seating hole 230 on which the ball 220 is seated, and a hollow cylindrical outer guide coupled to surround the outside of the inner guide 203. 204a, 204b. Looking at the structure in more detail, a first seating hole 232 is formed on the side wall of the inner guide 203, the ball 220 is seated, the ball 220 in the first seating hole 232 In the inserted state, the pair of outer guides 204a and 204b are coupled to surround the outside of the inner guide 203. In this case, a second seating hole 234 is formed on a sidewall of the outer guides 204a and 204b at a position corresponding to the first seating hole 232, and the ball 220 is the first seating hole 232. ) And the outside of the second seating hole 234, that is, partially protruded to the lift pin 100 side and the housing side 300 to be in point contact with the lift pin 100 and the housing 300. On the other hand, the upper and lower ends of the lift pin guide 200 is further provided with a cover 240 for maintaining the coupled state of the lift pin guide 200.

여기서, 상기 제 1, 2 안착공(232, 234)과 제 1, 2 안착공(232, 234)에 삽입되는 볼(220)은 복수개로 구비되며 상기 리프트핀(100)의 승강방향을 따라 일렬로 배열된다. 이는 상기 리프트핀(100)이 상기 리프트핀 가이드(200)에 형성된 관통공(210)에 관통, 결합된 상태에서 수직을 유지하기 위함으로 상기 볼(220)은 동일한 평면상에 4개가 구비되고, 상기 4개의 볼(200)은 서로 등간격으로 배치되며, 돌출되는 높이 또한 동일하다. 한편, 외측가이드는 동일 평면상에 구비된 볼의 개수만큼 분리되어 구성되는 것이 바람직할 수 있다.Here, a plurality of balls 220 inserted into the first and second seating holes 232 and 234 and the first and second seating holes 232 and 234 are provided in a row along the lifting direction of the lift pin 100. Is arranged. This is to maintain the vertical in the state in which the lift pin 100 is penetrated, coupled to the through hole 210 formed in the lift pin guide 200, the ball 220 is provided with four on the same plane, The four balls 200 are arranged at equal intervals from each other, the height is also the same protruding. On the other hand, the outer guide may be preferably separated by the number of balls provided on the same plane.

상기와 같은 구성의 본실시예는 상기 하우징(300)의 내벽과 리프트핀 가이드(200)의 외벽 사이에 간극이 형성되고, 상기 리프트핀 가이드(200)의 상부, 즉 상기 하우징(300)의 내측 상단부에 소정의 공간이 마련되는 바, 상기 리프트핀(100) 승강 시 상기 리프트핀 가이드(200)는 리프트핀(100)을 따라 일정높이만큼 승강되므로 리프트핀(100) 승강 시 발생되는 마찰력을 감소시킬 수 있다. 뿐만 아니라 상기 리프트핀 가이드(200)의 외측으로 돌출되는 볼(220)은 상기 하우징(300)과 점접촉하므로 리프트핀 승강 시 발생되는 마찰력을 더욱 감소시킬 수 있다.
In this embodiment of the above configuration, a gap is formed between an inner wall of the housing 300 and an outer wall of the lift pin guide 200, and an upper portion of the lift pin guide 200, that is, an inner side of the housing 300. A predetermined space is provided at an upper end of the bar, and thus the lift pin guide 200 is lifted by a certain height along the lift pin 100 when the lift pin 100 is lifted, thereby reducing the friction force generated when the lift pin 100 is lifted. You can. In addition, the ball 220 protruding to the outside of the lift pin guide 200 is in point contact with the housing 300 can further reduce the friction force generated when the lift pin is raised and lowered.

[실시예 4]Example 4

도 6은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 리프트핀과 리프트핀 가이드의 결합상태를 도시하는 종단면도이다.Figure 6 is a longitudinal cross-sectional view showing a coupling state of the lift pin and the lift pin guide according to a fourth embodiment of the present invention.

도면에 도시된 바와 같이 상기 제 4 실시예는 기판을 지지하는 리프트핀(100)과, 상기 리프트핀(100)의 승강방향을 안내하는 리프트핀 가이드(200)와, 내부에 상기 리프트핀 가이드(200)가 구비되는 하우징(300)을 포함하여 구성된다. 이때, 상기 가이드(200)는 상기 리프트핀 측에 위치되는 내측가이드(205)와, 상기 내측가이드(205)의 외부를 감싸도록 결합되는 한 쌍의 외측가이드(206a, 206b)로 구성된다.As shown in the drawing, the fourth embodiment includes a lift pin 100 for supporting a substrate, a lift pin guide 200 for guiding the lifting direction of the lift pin 100, and the lift pin guide therein ( It is configured to include a housing 300 is provided with a 200. At this time, the guide 200 is composed of an inner guide 205 positioned on the lift pin side, and a pair of outer guides 206a and 206b coupled to surround the outside of the inner guide 205.

여기서, 상기 리프트핀 가이드(200)는 복수개로 구비되어 상기 리프트핀(100)의 승강방향을 따라 일렬로 배열되어지되, 상기 복수개의 리프트핀 가이드(200)는 상기 하우징(300) 내부에서 각각 독립적으로 유동되게 수납된다. 즉, 복수개의 상기 리프트핀 가이드(200)는 서로 구속되지 않고 상기 하우징(300) 내측면과 소정 거리로 이격되게 수납된다.Here, the lift pin guide 200 is provided in plurality in a row along the lifting direction of the lift pin 100, the plurality of lift pin guide 200 are each independently in the housing 300 It is received to flow in. That is, the plurality of lift pin guides 200 are not spaced apart from each other but are spaced apart from the inner surface of the housing 300 by a predetermined distance.

따라서, 본 실시예의 경우 상기 리프트핀 가이드(200)가 상기와 같이 독립적으로 유동되므로 기판(도 1a의 S)의 자중에 의해 상기 리프트핀(100)이 일정 각도 기울어진 상태에서 리프트핀(100) 승강 시 발생되는 전단력을 방지할 수 있다.
Therefore, in the present embodiment, since the lift pin guide 200 flows independently as described above, the lift pin 100 is inclined at an angle by the weight of the substrate (S of FIG. 1A). It is possible to prevent the shear force generated during lifting.

상술한 바와 같은, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 리프트핀 어셈블리의 구성 및 동작을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만, 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능하다는 것을 이 분야의 통상적인 기술자들은 잘 이해할 수 있을 것이다.
As described above, the configuration and operation of the lift pin assembly according to a preferred embodiment of the present invention has been shown in accordance with the above description and drawings, but this is merely described for example and within the scope not departing from the technical spirit of the present invention. It will be appreciated by those skilled in the art that various changes and modifications are possible.

100 : 리프트핀 110 : 헤드
120 : 스템 130 : 단턱부
200 : 리프트핀 가이드 201, 203, 205 : 내측가이드
202, 204a, 204b, 206a, 206b : 외측가이드
210 : 관통공 220 : 윤활수단, 볼
230 : 안착공 232 : 제 1 안착공
234 : 제 2 안착공 240 : 덮개
300 : 하우징 310 : 걸림턱
320 : 결합구100: lift pin 110: head
120: stem 130: step
200: lift pin guide 201, 203, 205: inner guide
202, 204a, 204b, 206a, 206b: outer guide
210: through hole 220: lubrication means, ball
230: seating hole 232: first seating hole
234: second seating hole 240: cover
300: housing 310: locking jaw
320: coupler

Claims (4)

서셉터;
기판을 지지하는 리프트 핀;
상기 리프트핀이 관통하는 관통공이 형성되고, 상기 관통공의 내벽에는 상기 리프트핀을 윤활시키는 윤활수단이 구비된 리프트핀 가이드;
상기 서셉터에 결합되며, 내부에 상기 리프트핀 가이드가 고정되는 하우징; 및
상기 서셉터 하부에서 상기 하우징의 일부와 접촉되어 상기 서셉터에 상기 하우징을 고정시키는 결합구를 포함하고,
상기 리프트핀 가이드는 상기 하우징의 상하 양단부에 각각 구비되며, 상기 하우징의 내부로 삽입되어 상기 하우징과 결합되는 리프트핀 어셈블리
Susceptor;
Lift pins supporting the substrate;
A lift pin guide having a through hole through which the lift pin passes, and an inner wall of the through hole provided with lubrication means for lubricating the lift pin;
A housing coupled to the susceptor and having the lift pin guide fixed therein; And
A coupler contacting a portion of the housing below the susceptor to secure the housing to the susceptor,
The lift pin guides are provided at upper and lower ends of the housing, respectively, and are lift pin assemblies inserted into the housing and coupled to the housing.
제 1 항에 있어서,
상기 리프트 핀은 헤드와, 상기 헤드로부터 소정 길이 돌출되는 스템을 포함하고, 상기 헤드와 스템 사이에 형성된 단턱부가 상기 서셉터의 리프트핀 홀의 내부에 형성된 걸림턱에 대응되는 리프트핀 어셈블리.
The method of claim 1,
The lift pin includes a head and a stem protruding a predetermined length from the head, and a stepped portion formed between the head and the stem corresponds to a locking jaw formed in the lift pin hole of the susceptor.
제 1 항에 있어서,
상기 윤활수단은 볼인 것을 특징으로 하는 리프트핀 어셈블리.
The method of claim 1,
Lift pin assembly, characterized in that the lubricating means is a ball.
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 리프트핀 가이드는, 상기 윤활수단이 안착되는 제 1 안착공이 측벽에 형성되는 내측가이드와, 상기 내측가이드의 주위를 감싸는 외측가이드로 구성되고,
상기 윤활수단은 상기 제 1 안착공을 통해 상기 리프트핀 측으로 일부 돌출되는 것을 특징으로 하는 리프트핀 어셈블리.The method according to claim 1 or 3,
The lift pin guide includes an inner guide having a first seating hole on which the lubricating means is seated and formed on a side wall, and an outer guide surrounding the inner guide.
The lubrication means is a lift pin assembly, characterized in that protruding in part to the lift pin side through the first seating hole.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20150003189U (en) * 2015-07-10 2015-08-25 김길중 Susceptor for chemical of vapor deposition apparatus
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