KR20110013461A

KR20110013461A - 선형상 폴리이미드 전구체, 선형상 폴리이미드와 그 열경화물, 및 이들 제조방법

Info

Publication number: KR20110013461A
Application number: KR1020107027679A
Authority: KR
Inventors: 마사토시 하세가와; 나오유키 기타무라
Original assignee: 제이에프이 케미칼 가부시키가이샤
Priority date: 2008-05-28
Filing date: 2009-05-26
Publication date: 2011-02-09
Also published as: JP2009286868A; EP2295489A4; EP2295489A1; WO2009145339A1; TW201006868A; US20120088109A1

Abstract

선형상 폴리이미드는 멜로판산 이무수물, 디아민(NH₂-A-NH₂) 및 1 관능성산 무수물로부터 얻어지고, 다음의 일반식(3)으로 나타나는 반복 단위를 갖는다.

(식 중, A는 2가의 방향족 디아민 잔기 또는 지방족 디아민 잔기를 나타내고, B는 1관능성산 무수물 잔기를 나타내며, n은 중합도를 나타낸다.)
이 폴리이미드는 우수한 유기용매 용해성 및 열가소성을 갖고, 또한 동박이나 비열가소성 폴리이미드 필름과의 높은 접착력, 높은 유리 전이 온도 및 높은 인성을 겸비한다.

Description

선형상 폴리이미드 전구체, 선형상 폴리이미드와 그 열경화물, 및 이들 제조방법{LINEAR POLYIMIDE PRECURSOR, LINEAR POLYIMIDE, THERMALLY CURED PRODUCT OF THE LINEAR POLYIMIDE, AND METHOD FOR PRODUCING THE LINEAR POLYIMIDE}

본 발명은 우수한 가공성, 즉 유기용매 용해성 및 열가소성을 갖고, 또한 동박이나 비열가소성 폴리이미드 필름과의 높은 접착력, 높은 유리 전이 온도 및 높은 인성(toughness)을 겸비하는 선형상 폴리이미드 전구체, 혹은 선형상 폴리이미드와 그 열경화물 및 이들 제조방법에 관한 것이다. 더 나아가서는 이들을 내열성 접착제 등으로서 이용한 플렉시블 프린트 배선 회로(FPC), 칩 온 필름(COF) 및 테이프 오토메이티드 본딩(TAB)용 전자 회로 기판의 베이스재료인 동장(동을 입힌) 적층판(CCL)에 관한 것이다.

폴리이미드는 우수한 내열성 뿐만 아니라, 내약품성, 내방사선성, 전기 절연성, 우수한 기계적 성질 등의 특성을 겸비하기 때문에, 현재 FPC, COF, TAB용 기재, 반도체소자의 보호막, 집적회로의 층간 절연막 등, 다양한 전자 디바이스에 널리 이용되고 있다. 폴리이미드는 이들 특성 이외에도, 제조방법의 간편함, 극히 높은 막순도, 입수 가능한 각종 모노머를 이용한 물성 개량의 용이함으로부터, 근래 점점 그 중요성이 높아지고 있다.

전자기기의 경박 단소화가 진행함에 따라 폴리이미드에의 요구 특성도 해마다 점점 엄격해지고, 땜납 내열성에만 머무르지 않고, 열사이클이나 흡습에 대한 폴리이미드 필름의 치수 안정성, 투명성, 금속 기판과의 접착성, 성형 가공성, 스루홀 등의 미세 가공성 등, 복수의 특성을 동시에 만족시키는 다기능성 폴리이미드 재료가 요구되도록 되어 오고 있다.

근래, CCL용 베이스 필름이나 내열성 접착제로서의 폴리이미드의 수요가 비약적으로 증가하고 있다. CCL의 구성은 주로 3개의 양식으로 분류된다. 즉, 1) 폴리이미드 필름과 동박을 에폭시계 접착제 등을 이용해서 점착하는 3층 타입, 2) 동박에 폴리이미드 와니스의 도포 후 건조 또는, 폴리이미드 전구체(폴리아미드산) 와니스를 도포 후, 건조/이미드화하거나, 혹은 폴리이미드 필름상에 증착/스퍼터 등에 의해 시드층을 형성한 후, 동도금하여 동층을 형성하는 무접착제 2층 타입, 3) 접착층으로서 열가소성 폴리이미드를 이용하는 의사 2층 타입이 알려져 있다. 폴리이미드 필름에 고도의 치수 안정성이 요구되는 용도에서는 접착제를 사용하지 않는 2층 CCL이 유리하지만, 캐스트법에 의한 폴리이미드막 형성 공정은 한 면밖에 적용할 수 없어, 폴리이미드 필름의 양면에 동박을 점착하는 경우(양면 동장 적층판), 열라미네이트법에 의한 의사 2층 타입이 우수하다.

양면 동장 적층판용 폴리이미드로서는 치수 안정성이 우수한 낮은 선열팽창성의 비열가소성 폴리이미드 필름을 코어층으로 해서 그 양면에 열가소성 폴리이미드층을 형성한 것이 이용된다. 이러한 3층 구조의 폴리이미드 필름은 방전 처리 등으로 접착 강화 처리를 실시한 비열가소성 폴리이미드 필름의 양면에 열가소성 폴리이미드 와니스를 도포/건조시키거나, 또는 비열가소 타입의 폴리이미드 전구체층의 양면에 열가소성 타입의 폴리이미드 전구체층을 형성한 후, 이미드화하여 제작된다.

이 때, 이용되는 열가소성 폴리이미드는 열용융성을 높이기 위해, 통상, 주쇄골격이 에테르 결합 등의 굴곡기나 메타 결합 등의 비대칭 결합을 도입하여, 분자 운동성을 높이는 분자 설계가 이루어진다. 그러나, 열가소성을 높이려고 하면 유리 전이 온도의 대폭적인 저하를 초래하고, 열가소성과 높은 유리 전이 온도를 양립하는 것은 분자 설계상 용이하지는 않다.

예를 들면, 유기용매 용해성 및 열가소성을 겸비하는 시판중인 폴리이미드로서, ULTEM1000(General Electric사)이 알려져 있지만, 유리 전이 온도가 215℃로 땜납 내열성이 불충분하고, FPC 용도에 적용 불가하다.

현재, 의사 2층 CCL에 사용되고 있는 열가소성 폴리이미드층의 유리 전이 온도는 최대 250℃ 정도이다. 그러나, 근래, 땜납의 탈연화에 수반하여, 폴리이미드 접착제의 유리 전이 온도의 가일층의 개선이 강하게 요구되고 있다. 땜납 온도가 높은 경우, 열가소성 폴리이미드 접착층의 급격한 온도 상승에 의해, 접착층에 흡착된 수분도 영향을 주어 접착력이 급격히 저하하는 심각한 문제가 지적되고 있다.

유리 전이 온도를 희생하지 않고, 열가소성을 개선하기 위해 유효한 수단으로서 비대칭 구조를 갖는 테트라 카르본산 이무수물을 사용하는 기술이 개시되어 있다(예를 들면, 비특허문헌 1 참조). 이 기술에 의하면, 종래 이용되고 있던 하기 식(4)로 나타나는 대칭 구조의 3, 3′, 4, 4′-비페닐테트라카르본산 이무수물(s-BPDA) 대신에, 하기 식(5)로 나타나는 비대칭 구조의 2, 3, 3′, 4′-비페닐테트라카르본산 이무수물(a-BPDA)을 사용하고, 적당한 굴곡성 디아민과 조합함으로써 높은 유리 전이 온도를 유지하면서 열가소성을 동시에 달성하는 것이 가능하다.

그러나, a-BPDA를 이용하여 얻어진 폴리이미드는 유기용매에 대한 용해성이나, 막 인성이 반드시 충분하지 않다고 하는 결점이 있다. 만약, a-BPDA에 대신하는 비대칭 구조 함유 테트라카르본산 이무수물을 이용하여 선형상의 폴리이미드가 얻어지면, 높은 유리 전이 온도를 유지하면서, 높은 유기용매 용해성, 높은 열가소성, 높은 막 인성을 모두 만족시키는 종래에 없는 재료를 제공할 수 있다.

그러나, 가령 그러한 신규의 비대칭 구조를 갖는 선형상의 폴리이미드가 얻어졌다고 해도, 상기 우수한 가공성과 높은 막 인성을 유지하면서, 높은 유리 전이 온도와, 동박이나 비열가소성 폴리이미드 필름에 대한 충분한 접착 강도(목표값으로서 1.0kgf/㎝ 이상의 필(peel) 강도)를 양립시키는 것은 극히 곤란한 과제이다. 그러한 재료는 산업상 극히 유익한 의사 2층 CCL용 내열 접착제를 제공할 수 있기 때문에, 지금까지 그 개발이 기다려지고 있었지만, 아직 개발되고 있지 않은 것이 현상이다.

Macromolecules, 32권, 387(1999)

본 발명의 과제는 우수한 가공성, 즉 유기용매 용해성 및 열가소성을 갖고, 또한 동박이나 비열가소성 폴리이미드 필름과의 높은 접착력, 높은 유리 전이 온도 및 높은 인성을 겸비하는 선형상 폴리이미드 전구체, 혹은 선형상 폴리이미드와 그 열경화물, 및 이들 제조방법을 제공하는 것이다. 더 나아가서는 이들을 내열성 접착제 등으로서 이용하고, FPC, COF 및 TAP용 전자회로 기판의 CCL을 제공하는 것이다.

이상의 문제를 감안하여, 예의 연구를 거듭한 결과, 하기 식(1) 또는 (2)로 나타나는 폴리이미드 전구체를 이미드화한 하기 식(3)으로 나타나는 비대칭 구조를 갖는 말단 반응성기 함유 폴리이미드 및 그 열경화물이 상기의 요구 특성을 만족시키는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명은 멜로판산 이무수물, 디아민(NH₂-A-NH₂) 및 1관능성산 무수물로부터 얻어지고, 다음의 일반식(1) 또는 (2)로 나타나는 반복 단위를 함유하는 것을 특징으로 하는 선형상 폴리이미드 전구체； 다음의 일반식(3)으로 나타나는 반복 단위를 함유하는 것을 특징으로 하는 선형상 폴리이미드; 및 해당 선형상 폴리이미드를 열가교 반응시키는 것에 의해서 얻어진 것을 특징으로 하는 열경화물을 제공한다.

(식 중, A는 2가의 방향족 디아민 잔기 또는 지방족 디아민 잔기를 나타내고, B는 1관능성산 무수물 잔기를 나타내고, n은 중합도를 나타낸다.)

또, 본 발명은 상기 본 발명의 폴리이미드 전구체를, 가열 혹은 탈수 시약에 의해서 탈수 환화(이미드화) 반응시키는 것을 특징으로 하는 상기 본 발명의 폴리이미드의 제조 방법; 270℃ 이상의 유리 전이 온도와, 비양성자성 유기용매로의 용해도가 10질량 %이상과, 동박과 적층체를 제작했을 때의 필 강도가 1.0kgf/㎝ 이상과, 파단 신장 10% 이상의 막 인성을 겸비하는 상기 본 발명의 폴리이미드 또는 상기 본 발명의 열경화물을 제공한다.

또, 본 발명은 상기 본 발명의 폴리이미드를 포함하는 것을 특징으로 하는 내열성 접착제; 및 해당 내열성 접착제에 의해 비열가소성 폴리이미드 필름과 동박을 열적층하여 얻어진 것을 특징으로 하는 동장 적층판을 제공한다.

본 발명에 따르면, 우수한 가공성, 즉 유기용매 용해성 및 열가소성을 갖고, 또한 동박이나 비열가소성 폴리이미드 필름과의 높은 접착력, 높은 유리 전이 온도 및 높은 인성을 겸비하는 선형상 폴리이미드 전구체, 혹은 선형상 폴리이미드와 그 열경화물, 및 이들 제조방법을 제공할 수 있다. 더 나아가서는 이들을 내열성 접착제 등으로서 이용하고, FPC, COF 및 TAB용 전자 회로 기판의 CCL 등을 제공할 수도 있다.

다음에 발명을 실시하기 위한 최량의 형태를 예로 들어 본 발명을 상세하게 설명한다.

<분자 설계>

우선, 본 발명에 관한 폴리이미드를 제조하기 위해 이용되는 테트라카르본산 이무수물 모노머에 대해 설명한다. 본 발명에 의하면, 범용 테트라카르본산 이무수물 성분으로서 종래부터 이용되고 있는 하기 식(6)으로 나타나는 피로멜리트산 이무수물(이하, PMDA로 함) 대신에, 그 이성체(異姓體)인 하기 식(7)로 나타나는 멜로판산 이무수물(이하, MPDA로 함) 및 1관능성의 열가교제, 예를 들면, 다음의 일반 식(8)로 나타나는 디카르본산 무수물을 이용함으로써, 상기 요구 특성을 모두 만족시키는 폴리이미드를 얻을 수 있다.

(식 (8) 중, X는 디카르본산 무수물의 반응성기이다.)

식 (8)에서 나타나는 열가교성 디카르본산 무수물로서, 사용 가능한 반응성 디카르본산 무수물로서 특히 한정되지 않지만, 예를 들면, 나딕산 무수물, 말레인산 무수물, 시트라콘산 무수물, 4-페닐에티닐푸탈산 무수물, 4-에티닐푸탈산 무수물, 4-비닐푸탈산 무수물 등을 예로서 들 수 있다. 이 중, 열가교 반응성, 경화물의 물성 및 비용의 관점에서 나딕산 무수물이 바람직하게 이용된다.

PMDA를 이용하여 얻어진 종래형의 폴리이미드에서는 디이미드 부위가 직선형상 구조가 되는데 반해, MPDA를 이용하여 얻어진 폴리이미드에서는 입체적인 절곡 구조가 주쇄중에 도입되고, 이것에 의해 폴리머쇄간 스태킹(stacking)이 방해되어 유리 전이 이상의 고온에 있어서의 분자 운동이 허용되고, 높은 열가소성이 발현된다. 그 한편, 비대칭 구조인 것에 기인하여 MPDA 부위의 국소적인 내부 회전이 억제되는 것에 의해, 높은 유리 전이 온도가 유지되는 것으로 고려된다.

이러한 주쇄 중의 절곡구조는 디아민 성분으로서 하기 식(9)로 나타나는 메타페닐렌디아민을 이용하는 것에 의해서도 도입하는 것은 가능하지만, 메타페닐렌디아민의 사용은 폴리이미드의 용매 용해성의 개선에 거의 기여하지 않을 뿐 아니라, 종종 유리 전이 온도의 극적인 저하 등, 바람직하지 않은 결과를 초래한다.

MPDA와 조합하는 디아민 성분으로서는 에테르 결합을 함유하는 것이 높은 용매 용해성, 높은 열가소성 및 높은 막 인성을 동시에 달성하기 때문에 유효하다. 그러나, 범용의 에테르기 함유 디아민인 4, 4′-옥시디아닐린(이하 4, 4′-ODA로 함)을 이용하면, 얻어진 폴리이미드의 용해성이 불충분하게 될 우려가 있다. 그 때문에, 대표적인 높은 인성 수지인 폴리카보네이트의 주쇄골격의 구조 단위를 포함하는 하기 식(10)으로 나타나는 디아민을 이용함으로써, 용매 용해성을 희생하지 않고, 높은 인성을 달성하는 것이 가능하다.

식 (10) 중, R은 메틸기 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다. 동박과의 접착성 및 제조 비용의 관점에서, 하기 식(11)로 나타나는 디아민, 즉 2, 2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판(이하, BAPP로 함) 단독으로 사용하거나, 또는, 이것을 공중합 성분으로서 이용하는 것이 바람직하다.

<폴리이미드 전구체 조제시의 환상 올리고머 생성의 제어>

다음에, 본 발명에 관한 폴리이미드 전구체 및 폴리이미드의 제조방법에 대해 설명한다. MPDA는 그 특징적인 산 무수물기의 결합 위치에 의해, 디아민과 조합하여 폴리이미드 전구체 혹은 폴리이미드를 조제할 때에, 하기 식(12)에 예시되는 바와 같은 환상의 올리고머를 생성하는 경향이 있는 것이, 고분자(macromolecules), 35권, 8708(2002)에 개시되어 있고, MPDA를 이용하면, 목적으로 하는 선형상의 고분자량 폴리이미드 전구체가 얻어지기 어렵다고 하는 문제가 있다. 환상 올리고머는 분자량이 낮기 때문에, 폴리머쇄끼리의 뒤엉킴이 부족하고, 열가소성이나 용매 용해성은 대응하는 선형상 폴리머보다도 높아지는 것이 예상되지만, 한편으로 막 인성이 현저히 저하하고, 접착제로서 기능하지 않게 될 우려가 있다.

4, 4′-메틸렌디아닐린, 4, 4′-옥시디아닐린 및 1, 4-비스(4-아미노페녹시) 벤젠과 같은 대칭성이 높은 구조의 굴곡성 디아민을 단독으로 이용하면, 식 (12)로 나타나는 바와 같은 환상 올리고머가 형성되기 쉬운 경향이 있기 때문에, 고분자량의 폴리이미드 전구체 및 폴리이미드를 얻기 위해서는 3, 4′-옥시 디아닐린과 같은 비대칭성 디아민의 사용이 효과적이다.

상기와 같은 대칭성이 높은 구조의 굴곡성 디아민을 이용한 경우에도, 중합 반응 초기에 있어서 일단은 선형상의 고분자량 폴리이미드 전구체가 생성하여 중합 반응 용액의 급격한 점도 증가가 일어난다. 그러나, 그 후, 아미드 교환 반응을 거쳐 더욱 안정된 환상 올리고머로 변환되어 가고, 용액 점도가 급격히 저하한다. 본 발명의 폴리이미드 전구체는 중합 반응 용액의 점도를 추적하여 가장 점도가 높아진 타이밍에서, 중합 용액을 빈(貧)용매 중에 적하함으로써, 고분자량의 선형상 폴리이미드 전구체로서 단리(單離)할 수 있다. 또, 그 타이밍에서 중합 용액중에 화학 이미드화 시약을 투입하거나, 혹은 중합 용액을 가열 환류(還流)하여 고리화 탈수 반응(이미드화 반응)시킴으로써, 고분자량의 선형상 폴리이미드를 제조할 수 있다. 일단 이미드화되면, 이미 환상 올리고머로 변환될 우려는 없다.

폴리이미드 전구체를 조제할 때, 모노머 농도가 낮은 경우, 폴리머쇄의 연장보다도 분자내 말단끼리의 결합이 우선적으로 되고, 환상 올리고머가 생성되기 쉽기 때문에, 고분자량의 폴리이미드 전구체를 얻기 위해서는 모노머 농도는 가능한 한 높게 설정하는 것이 유효하다.

폴리이미드 전구체를 조제할 때에 사용하는 용매의 선택도 중요하다. 고분자량의 폴리이미드 전구체를 얻기 위해서는 폴리이미드 전구체에 대한 용매의 친화력이 가능한 한 높을수록 유효하다. 친화성이 높은 용매에서는 용매 분자가 폴리머쇄 코일내에 진입하여 폴리머쇄가 넓어지기 때문에, 말단끼리의 반응에 의해 환상 올리고머가 생성되기 어려운 조건으로 된다. MPDA를 이용하는 폴리이미드 전구체 중합 반응계에서는 범용의 아미드계 용매에서 비교하면, N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 쪽이 N, N-디메틸아세트아미드(DMAc)보다도 중합 용액의 점도 저하의 속도가 늦고, 고분자량의 선형상 폴리이미드 전구체를 제조하기 쉬운 용매이다.

<폴리이미드 전구체의 제조 방법>

다음에, 본 발명에 관한 폴리이미드 전구체의 제조 방법에 대해 구체적으로 설명한다. 폴리이미드 전구체의 조제는 다음과 같이 실행한다. 우선, 디아민 성분을 중합 용매에 용해하고, 이 용액에 식 (7)로 나타나는 MPDA 분말을 더하고, 다음에 식 (8)로 나타나는 반응성 디카르본산 무수물 분말을 첨가하고, 메커니컬 교반기를 이용하여 실온에서 0.5∼48시간 교반한다. 이 때, 모노머 농도는 10∼50질량%, 바람직하게는 20∼40질량%이다. 이 모노머 농도 범위에서 중합을 실행하는 것에 의해 균일하고 더욱 높은 중합도의 폴리이미드 전구체 용액을 얻을 수 있다.

모노머 농도가 높을수록 고중합도의 폴리이미드 전구체가 얻어지는 경향이 있기 때문에, 폴리이미드의 인성을 확보하기 위해서는 가능한 한 높은 모노머 농도로 중합을 개시하는 것이 바람직하다. 또, 중합 반응 용액을 빈번하게 샘플링하여 점도 측정하거나, 토크 미터를 갖는 교반 장치에 의해 점도 변화를 추적함으로써, 용액 점도가 최대가 되는 중합 반응 시간을 정확하게 파악하고, 그 타이밍에서 이미드화를 실행하는 것이 바람직하다.

상기 일반식 (1) 또는 상기 일반식 (2)로 나타나는 폴리이미드 전구체의 합성은 구체적으로는 다음과 같이 실행한다. 우선, 디아민 성분(P몰)을 중합 용매에 용해하고, 이 용액에 소정량의 MPDA 분말(P-0.5×Q몰), 다음에, 열가교 반응성 디카르본산 무수물(Q몰)을 첨가하고, 메커니컬 교반기를 이용하고, 실온에서 0.5∼48시간 교반한다. 열가교 반응성 디카르본산 무수물의 함유율(%)(=0.5Q/P×100)은 0.1∼50%의 범위이며, 더욱 바람직하게는 0.2∼10%의 범위이다.

중합 용매로서는 특히 한정되지 않지만, N-메틸-2-피롤리돈, N, N-디메틸아세트아미드, N, N-디에틸아세트아미드, N, N-디메틸포름아미드, 헥사메틸포스포르아미드, 디메틸술폭시드, γ-부틸로락톤, 1, 3-디메틸-2-이미다졸리디논, 1,2-디메톡시에탄-비스(2-메톡시에틸)에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 피콜린, 피리딘, 아세톤, 클로로포름, 톨루엔, 크실렌 등의 비양성자성 용매 및, 페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, o-클로로페놀, m-클로로페놀, p-클로로페놀 등의 양성자성 용매가 사용 가능하다. 또, 이들 용매는 단독으로도 2종류 이상 혼합해서 이용해도 좋다. 중합 반응 용액의 점도의 저하가 완만하다고 하는 이유에서, N-메틸-2-피롤리돈(NMP)이 바람직하게 이용된다.

폴리이미드의 요구 특성을 현저히 손상시키지 않는 범위에서 사용 가능한 방향족 디아민으로서는 특히 한정되지 않지만, 2,2′-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-디아미노톨루엔, 2,5-디아미노톨루엔, 2,4-디아미노크실렌, 2,4-디아미노듀렌, 4,4′-디아미노디페닐렌메탄, 4,4′-메틸렌 비스(2-메틸아닐린), 4,4′-메틸렌 비스(2-에틸아닐린), 4,4'-메틸렌 비스(2,6-디메틸아닐린), 4,4'-메틸렌 비스(2,6-디에틸아닐린), 4,4′-디아미노디페닐 에테르, 3,4′-디아미노디페닐 에테르, 3,3′-디아미노디페닐 에테르, 2,4′-디아미노디페닐 에테르, 4,4′-디아미노디페닐 술폰, 3,3′-디아미노디페닐 술폰, 4,4′-디아미노벤조페논, 3,3′-디아미노벤조페논, 4,4′-디아미노벤즈아닐리드, 벤지딘, 3,3′-디히드록시벤지딘, 3,3′-디메톡시벤지딘, o-톨리딘, m-톨리딘, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 4,4′-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 비스(4-(3-아미노페녹시)페닐)술폰, 비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)술폰, 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, p-터페닐렌디아민(terphenylenediamine) 등을 예로서 들 수 있다. 또, 이들을 2종류 이상 병용할 수도 있다.

폴리이미드 전구체 조제시에 환상 올리고머의 생성을 방해하고, 폴리이미드의 열가소성 및 용해성을 확보한다고 하는 관점에서, 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 3,4′-디아미노디페닐 에테르, 3,3′-디아미노디페닐 에테르, 2,4′-디아미노디페닐 에테르, 4,4′-디아미노디페닐 술폰, 3, 3'-디아미노디페닐 술폰 등의 굴곡성 디아민이 바람직하게 이용된다.

또, 폴리이미드의 요구 특성을 현저히 손상시키지 않는 범위에서 사용 가능한 지방족 디아민으로서는 특히 한정되지 않지만, 트랜스-1,4-디아미노시클로헥산, 시스(cis)-1,4-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노시클로헥산(트랜스/시스 혼합물), 1,3-디아미노시클로헥산, 이소포론 디아민, 1,4-시클로헥산 비스(메틸아민), 2,5-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 2,6-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 3,8-비스(아미노메틸)트리시클로[5.2.1.0]데칸, 1,3-디아미노아다만탄,4,4′-메틸렌 비스(시클로헥실아민), 4,4′-메틸렌 비스(2-메틸시클로헥실아민), 4,4′-메틸렌 비스(2-에틸시클로헥실아민), 4,4′-메틸렌 비스(2,6-디메틸시클로헥실아민), 4,4′-메틸렌 비스(2,6-디에틸시클로헥실아민), 2,2-비스(4-아미노시클로헥실)프로판, 2,2-비스(4-아미노시클로헥실)헥사플루오로프로판, 1,3-프로판디아민, 1,4-테트라메틸렌디아민, 1,5-펜타메틸렌디아민, 1,6-헥사메틸렌디아민, 1,7-헵타메틸렌디아민, 1,8-옥타메틸렌디아민, 1,9-노나메틸렌디아민 등을 들 수 있다. 또, 이들을 2종류 이상 병용할 수도 있다.

본 발명에 관한 폴리이미드의 요구 특성 및 중합 반응성을 현저히 손상시키지 않는 범위에서, 멜로판산 이무수물 이외의 테트라카르본산 이무수물 성분을 부분적으로 사용해도 상관없다. 공중합에 사용 가능한 산이무수물로서는 특히 한정되지 않지만, 피로멜리트산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 이무수물, 3, 3', 4, 4'-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 3,3', 4,4'-비페닐 에테르 테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐 술폰 테트라카르본산 이무수물, 2,2'-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판산 이무수물, 2,2'-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르본산 이무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 이무수물 등의 방향족 테트라카르본산 이무수물 외, 비시클로크로[2.2.2]옥트(oct)-7-엔(ene)-2,3,5,6-테트라카르본산 이무수물, 5-디옥소테트라히드로푸릴-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르본산 무수물, 4-(2,5-디옥소테트라히드로푸란-3-일(yl))-테트라인-1,2-디카르본산 무수물, 테트라히드로푸란-2,3,4,5-테트라카르본산 이무수물, 비시클로-3,3',4,4'-테트라카르본산 이무수물, 3c-카르복시메틸시클로펜탄-1r,2c,4c-트리카르본산 1,4：2,3-이무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 이무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 이무수물 등의 지환식 테트라카르본산 이무수물을 들 수 있다. 공중합 성분으로서 이들을 단독 혹은 2종류 이상 이용해도 좋다.

본 발명의 폴리이미드 전구체는 용액(와니스)이나 기판상에 도포/건조시켜 필름으로서의 사용 형태 이외에, 와니스를 적절히 희석한 후, 대량의 물이나 메탄올 등의 빈용매 중에 적하/여과/건조시키고, 분말로서 단리할 수도 있다.

본 발명에 관한 선형상 폴리이미드 전구체의 고유 점도는 폴리이미드막의 인성의 관점에서 높을수록 좋지만, 적어도 0.1dL/g 이상인 것이 바람직하고, 0.3dL/g 이상인 것이 더욱 바람직하고, 0.5dL/g 이상인 것이 특히 바람직하다. 고유 점도값이 0.1dL/g를 하회하면, 제막성이 현저히 나빠지고, 캐스트막에 금이 가는 등의 심각한 문제가 생기거나, CCL용 접착층으로서 사용했을 때에 충분한 접착력이 얻어지지 않을 우려가 있다. 또, 폴리이미드 전구체 와니스의 핸들링의 관점에서, 고유 점도값이 5.0dL/g보다 낮은 것이 바람직하다.

<폴리이미드의 제조 방법>

본 발명의 지환 구조 함유 폴리이미드는 상기의 방법에서 얻어진 폴리이미드 전구체를 탈수 폐환(閉環) 반응(이미드화 반응)하여 제조할 수 있다. 이 때 폴리이미드의 사용 가능한 형태는 필름, 금속 기판/폴리이미드 필름 적층체, 분말, 성형체 및 용액을 들 수 있다.

우선, 폴리이미드 필름을 제조하는 방법에 대해 설명한다. 폴리이미드 전구체의 용액(와니스)을 불용성 폴리이미드 필름, 유리, 동, 알루미늄, 스테인리스, 실리콘 등의 기판상에 유연(流涎)하고, 오븐 중 40∼180℃, 바람직하게는 50∼150℃로 건조시킨다. 얻어진 폴리이미드 전구체 필름을 기판상에서 진공중, 질소 등의 불활성 가스중, 혹은 공기 중, 200∼400℃, 바람직하게는 250∼300℃로 가열함으로써 본 발명의 폴리이미드 필름을 제조할 수 있다. 가열 온도는 이미드화의 폐환 반응을 충분히 실행한다고 하는 관점에서 200℃ 이상, 생성한 폴리이미드 필름의 열안정성의 관점에서 300℃ 이하가 바람직하다. 또, 이미드화는 진공중 혹은 불활성 가스중에서 실행하는 것이 바람직하지만, 이미드화 온도가 너무 높아지면 공기중에서 실행해도 상관없다.

또, 이미드화 반응은 열적으로 실행하는 대신에 폴리이미드 전구체 필름을 피리딘이나 트리에틸아민 등의 3급 아민 존재하, 무수 초산 등의 탈수 환화 시약을 함유하는 용액에 침지하는 것에 의해서 실행하는 것도 가능하다. 또, 이들 탈수 환화 시약을 미리 폴리이미드 전구체 와니스중에 투입하고, 20∼100℃에서 0.5∼24시간 교반함으로써, 폴리이미드 와니스를 얻을 수 있다. 이것을 물이나 메탄올 등의 빈용매 중에 적하/여과함으로써, 폴리이미드 분말로서 단리할 수 있다. 또, 상기 폴리이미드 와니스를 상기 기판상에 유연/건조시킴으로써, 폴리이미드 필름을 제작할 수도 있다. 이것을 또한 상기와 같은 온도 범위에서 열처리해도 상관없다.

중합 반응에 의해 얻어진 폴리이미드 전구체의 와니스를 그대로 혹은 동일한 용매로 적절히 희석한 후, 이것을 150∼200℃로 가열함으로써, 폴리이미드 자체가 이용한 용매에 용해하는 경우, 본 발명의 폴리이미드의 용액(와니스)을 용이하게 제조할 수 있다. 용매에 불용인 경우에는 폴리이미드 분말을 침전물로서 얻을 수 있다. 이 때, 이미드화 반응의 부생성물인 물을 공비증류하기 위해, 톨루엔이나 크실렌 등을 첨가해도 상관없다. 또, 촉매로서 γ-피콜린 등의 염기를 첨가할 수 있다. 이미드화 후, 이 반응 용액을 물이나 메탄올 등의 빈용매중에 적하/여과하고, 폴리이미드를 분말로서 단리할 수도 있다. 또, 폴리이미드 분말을 상기 중합 용매에 재용해해서 폴리이미드 와니스로 할 수도 있다.

본 발명의 폴리이미드는 테트라카르본산 이무수물과 디아민을 용매중 고온에서 반응시키는 것에 의해, 폴리이미드 전구체를 단리하는 일 없이, 1단계에서 중합할 수 있다. 이 때, 중합 용액은 반응 촉진의 관점에서, 130∼250℃, 바람직하게는 150∼200℃의 범위로 유지하면 좋다. 또, 폴리이미드가 이용한 용매에 불용인 경우, 폴리이미드는 침전물로서 얻어지고, 가용인 경우에는 폴리이미드의 와니스로서 얻어진다. 중합 용매는 특히 한정되지 않지만, 사용 가능한 용매로서 예를 들면, N, N-디메틸포름아미드, N, N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸술폭시드 등의 비양성자성 용매를 예로서 들 수 있지만, 더욱 바람직하게는 m-크레졸 등의 페놀계 용매나 NMP 등의 아미드계 용매가 이용된다. 이들 용매에 이미드화 반응의 부생성물인 물을 공비증류하기 위해, 톨루엔이나 크실렌 등을 첨가할 수 있다. 또, 이미드화 촉매로서 γ-피콜린 등의 염기를 첨가할 수 있다. 반응 후, 용액을 대량의 물이나 메탄올 등의 빈용매 중에 적하/여과하고, 폴리이미드를 분말로서 단리할 수 있다. 또, 폴리이미드가 용매에 가용인 경우에는 그 분말을 상기 용매에 재용해해서 폴리이미드 와니스로 할 수 있다.

상기 폴리이미드 와니스를 기판상에 도포하고, 40∼300℃에서 건조시키는 것에 의해서도 본 발명에 관한 폴리이미드 필름을 형성할 수 있다. 상기와 같이 얻어진 폴리이미드 분말을 200∼450℃, 바람직하게는 250∼430℃에서 가열 압축함으로써 폴리이미드의 성형체를 제작할 수 있다.

폴리이미드 전구체 용액 중에 N, N-디클로헥실 카르복시이미드나 트리플루오로 무수 초산 등의 탈수 시약을 첨가/교반하여 0∼100℃, 바람직하게는 0∼60℃에서 반응시키는 것에 의해, 폴리이미드의 이성체인 폴리이소이미드가 생성된다. 이소이미드화 반응은 상기 탈수 시약을 함유하는 용액중에 폴리이미드 전구체 필름을 침지하는 것에 의해서도 가능하다. 이 폴리이소이미드 와니스를 이용하여 상기와 마찬가지의 수순으로 제막한 후, 250∼350℃에서 열처리하는 것에 의해, 폴리이미드로 용이하게 변환할 수 있다.

본 발명의 폴리이미드의 와니스를 동박 또는 비열가소성 폴리이미드 필름상에 도포/건조시킨 후, 질소 분위기중 또는 진공중에서 300∼450℃, 바람직하게는 350∼400℃의 범위에서 가열 처리함으로써, 말단 가교기를 열가교하여, 접착력 및 막 인성을 향상시킬 수 있다.

본 발명의 폴리이미드 및 그 전구체 중에, 필요에 따라 산화 안정제, 필러, 접착 촉진제, 실란커플링제, 감광제, 광중합 개시제, 증감제, 말단 밀봉제, 가교제 등의 첨가물을 더할 수 있다.

상기와 같이 해서 얻어진 폴리이미드 와니스를 불용성 폴리이미드 필름면에 캐스트 제막한 후, 동박을 실어 가열 프레스함으로써 동장 적층판을 제작할 수 있다. 또, 동박에 포토레지스트를 도포하고, 패턴 노광 후, 염화 제2철 수용액 등으로 동박을 에칭하여 회로를 형성함으로써, FPC를 제작할 수도 있다.

본 발명에 관한 폴리이미드를 의사 2층 CCL용 접착제에 적용하기 위해 요구되는 특성으로서, 폴리이미드의 유리 전이 온도는 270℃ 이상인 것이 바람직하다. 또, 인장 시험에 있어서 10% 이상의 파단 신장을 갖는 것이 바람직하고, 20% 이상이 더욱 바람직하다. 또, NMP나 DMAc 등의 범용 유기용매에 10질량% 이상 용해하는 것이 바람직하고, 20질량% 이상 용해하는 것이 더욱 바람직하다. 본 발명의 폴리이미드는 열가소성이 높을수록 바람직하다. 열가소성의 지표로서, 동박과 적층체를 제작했을 때, 필 강도가 1.0 kgf/㎝ 이상인 것이 바람직하고, 1.2kgf/㎝ 이상인 것이 더욱 바람직하다.

<용도>

본 발명의 폴리이미드는 우수한 가공성, 즉 유기용매 용해성 및 열가소성을 갖고, 또한 높은 유리 전이 온도 및 높은 인성을 겸비하는 의사 2층 CCL용 내열 접착제로서 극히 유용하다.

[실시예]

이하, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명하겠지만, 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 예에 있어서의 물성값은 다음의 방법에 의해 측정하였다.

<고유 점도>

폴리이미드 전구체 또는 폴리이미드의 0.5질량% 용액(용매：DMAc 또는 NMP)에 대해, 오스트발트(Ostwald) 점토계를 이용하여 30℃에서 측정하였다.

<유리 전이 온도：Tg>

브루커에이엑스사(Bruker AXS. Inc.)제 열기계 분석 장치(TMA4000)를 이용하여 동적 점탄성 측정에 의해, 주파수 0.1㎐, 승온속도 5℃/분에 있어서의 손실 피크로부터 폴리이미드막의 유리 전이 온도를 구하였다.

<선열팽창 계수：CTE>

브루커에이엑스사제 열기계 분석 장치(TMA4000)를 이용하여, 열기계 분석에 의해, 하중 0.5g/막두께 1㎛, 승온속도 5℃/분에 있어서의 시험편의 신장으로부터, 100∼200℃의 범위에서의 평균값으로서 폴리이미드막의 선열팽창 계수를 구하였다.

<5%질량 감소 온도：Td⁵>

브루커에이엑스사제 열질량 분석 장치(TG-DTA2000)를 이용하여, 질소중 또는 공기중, 승온속도 10℃/분에서의 승온 과정에 있어서, 폴리이미드막의 초기 질량이 5% 감소했을 때의 온도를 측정하였다. 이들 값이 높을수록, 열안정성이 높은 것을 나타낸다.

<흡수율>

50℃에서 24시간 진공 건조시킨 폴리이미드막(막두께 20∼30㎛)을 25℃의 물에 24시간 침지한 후, 여분의 수분을 닦아내고, 질량 증가분으로부터 흡수율(%)을 구하였다.

<탄성률, 파단 신장, 파단 강도>

동양볼드윈사(Toyo Baldwin Co., Ltd.)제 인장 시험기(텐실론(Tensilon) UTM-2)를 이용하여, 폴리이미드막의 시험편(3㎜×30㎜)에 대해 인장 시험(연신 속도：8㎜/분)을 실시하고, 응력-왜곡선의 초기의 구배로부터 탄성률을, 막이 파단했을 때의 신장율로부터 파단 신장(%)을 구하였다. 파단 성장이 높을수록 막의 인성이 높은 것을 의미한다.

<용해성 시험>

폴리이미드 분말 10㎎를 각종 용매 1mL에 넣고, 실온에 있어서의 용해성을 시험하였다.

<박리 시험: 필 강도>

의사 2층 CCL을 다음과 같이 제작하였다. 본 발명의 폴리이미드의 와니스(용매：NMP, 농도：15∼20질량%)를 전해 동박(후루카와전공사(FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD.)제 F2-WS: 12㎛두께)의 매트면에 도포하고, 120℃에서 2시간 건조시키고, 또한 250℃에서 2시간 진공 건조시켰다. 다음에, 이 열가소성의 폴리이미드 필름면에 비열가소성 폴리이미드 필름(가네카사(KANEKA CORPORATION)제, 아피칼(Apical) NPI：25㎛두께)를 프레스압 6.2MPa의 하, 350℃에서 30분간 프레스하여 열압착시키고, 시험편을 얻었다. 이들 시험편에 대해, 상기의 인장 시험과 마찬가지의 조건에서 180° 박리 시험을 실시하고, 필 강도를 측정하였다. 박리 시험의 결과, 박리는 모든 시료에 있어서 폴리이미드 접착층과 동박의 계면에서 일어났다.

(합성예)

멜로판산 이무수물의 합성

<1, 2, 3, 4-벤젠테트라카르본산의 합성>

1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8-옥타히드로페난트렌을, 산화제로서 과망간산 칼륨 등을 사용하여 액상 산화 반응에 의해 합성하였다(일본국 특허출원 제2007-110118호 명세서 참조).

<멜로판산 이무수물의 합성>

Macromolecules, 35권, 8708(2002)에 기재된 방법에 준하여, 1, 2, 3, 4-벤젠테트라카르본산과 과잉의 무수 초산을 반응시키는 방법으로 합성하였다. 얻어진 멜로판산 이무수물의 분석값의 일예는 다음과 같다. 융점: 196.5∼198℃, GC순도：99.8%, 원소 분석：탄소 54.8%/수소 0.98%/산소 44 2%

<말단 가교기함유 폴리이미드 전구체의 조제, 이미드화, 열경화 및 얻어진 경화막의 특성 평가>

(실시예 1)

잘 건조시킨 교반기를 갖는 밀폐 반응 용기중에 2, 2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판(이하, BAPP로 함) 10m㏖을 넣고, 몰레큘러시브(molecular sieve; 분자체) 4A로 충분히 탈수시킨 NMP 25mL에 용해한 후, 이 용액에 합성예에 기재한 멜로판산 이무수물(이하, MPDA로 함) 분말 9.9m㏖ 및 나딕산 무수물(이하, NA로 함) 분말 0.2m㏖을 더하였다(전체 용질 농도：약 20질량%). 실온에서 3시간 교반하고, 균일하고 점조(粘稠)한 말단 가교기 함유 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 이 와니스는 실온 및 -20℃에서 1개월간 방치해도 침전, 겔화는 전혀 일어나지 않고, 극히 높은 용액 저장 안정을 나타내었다. NMP 중, 30℃, 0.5질량%의 농도로 오스트발트 점토계로 측정한 폴리이미드 전구체의 고유 점도는 0.43dL/g이었다. 이 폴리이미드 전구체 와니스를 적당히 희석한 후, 화학 이미드화 시약(무수 초산/피리딘, 체적비 7/3, 무수 초산량: 이론 탈수량의 5배 몰)을 적하하고 실온에서 12시간 교반하여 화학 이미드화를 실행하였다.

얻어진 폴리이미드 와니스를 대량의 메탄올에 적하하고, 말단 가교기 함유 폴리이미드를 분말로서 단리하고, 80℃에서 12시간 진공 건조시켰다. 이 폴리이미드 분말을 이용하여 용해성 시험을 실행한 결과, NMP 이외에 DMAc, N, N-디메틸포름아미드, γ-부틸로락톤, 디메틸술폭시드, 클로로포름 등에 실온에서 높은 용해성을 나타내었다. 다음에, 이 폴리이미드 분말을 NMP에 재용해(15∼20질량%)하여 와니스로 하고, 이것을 유리 기판상에 도포하고, 80℃에서 2시간 온풍 건조시켜 얻은 폴리이미드막을 또한 기판상, 진공중에서 열처리를 실행하고, 막두께 약 20㎛의 폴리이미드막을 얻었다. 이 때, 적용한 열처리 조건은 [1] 250℃/2시간, [2] 350℃/2시간, [3] 400℃/1시간의 3종류이다. 표 1에 막 물성 데이터를 나타낸다. 250℃/2시간의 열처리에서는 말단기의 열가교가 거의 일어나고 있지 않기 때문에, 폴리이미드막의 Tg는 258℃에 머물렀지만, 350℃/2시간의 열처리에 의해 Tg는 270℃가 되고, 400℃/1시간의 열처리에서는 Tg는 282℃까지 증가하였다. 350℃/2시간의 열처리에 의해 얻어진 열경화막에 대해 인장 시험을 실행한 결과, 영율(Young's modulus)은 1.44GPa, 파단 강도는 0.077GPa로 저탄성이며, 근래 요구가 높아지고 있는 저반발성 CCL용의 내열 접착제로서 적합한 것을 알 수 있었다. 또, 파단 신장은 59.8%로 높은 인성을 나타내었다. 5%중량 감소 온도는 질소중에서 480℃, 공기중에서 449℃이며, 충분히 높은 열안정성을 갖고 있다. 또, 흡수율은 0. 70%로 비교적 낮은 값을 나타내었다. 또한, 이 폴리이미드를 접착제로서 의사 2층 CCL을 제작하고, 박리 시험을 실시한 결과, 필 강도 1.47kgf/㎝라는 극히 높은 값이 얻어졌다.

(실시예 2)

모노머의 투입량을 BAPP 10m㏖, MPDA 9.95m㏖ 및 NA 0.1m㏖로 변경한 것 이외는 실시예 1에 기재한 방법과 마찬가지로 화학 이미드화/제막하고, 물성 평가를 실행하였다. 물성 데이터를 표 1에 나타낸다.

(비교예 1)

테트라카르본산 이무수물 성분으로서 멜로판산 이무수물 대신에 피로멜리트산 이무수물(이하, PMDA로 함)을 사용한 것 이외는 실시예 1에 기재한 방법과 마찬가지로, 폴리이미드 전구체를 중합하고, 화학 이미드화 시약을 투입하여 이미드화를 시도하였다. 그러나, 반응 용액이 겔화했기 때문에, 물성 평가를 실시할 수 없었다. 이것은 PMDA를 사용했기 때문에, 폴리이미드의 용해성이 부족하기 때문이다.

(비교예 2)

말단 가교제인 NA를 사용하지 않고, MPDA와 BAPP를 등 몰로 반응시켜 고분자량의 폴리이미드 전구체를 중합한 것 이외는 실시예 1에 기재한 방법과 마찬가지로 화학 이미드화/제막하고, 물성 평가를 실행하였다. 표 1에 물성 데이터를 나타낸다. 이 폴리이미드막은 실시예 1에 기재한 경화막과 동등한 Tg, 더욱 높은 파단 신장을 나타냈지만, 필 강도는 0.84kgf/㎝에 머물렀다.

	열처리온도(℃)	고유 점도 (dL/g)	Tg(℃)	CTE (ppm/K)	Td⁵ (N₂) (℃)	Td⁵ (air) (℃)	흡수율 (%)	파단 신장 (%)	영율 (GPa)	파단 강도 (GPa)	필강도 (kgf/㎝)
실시예 1	250	0.43	258	58.2	487	441	-	-	-	-	-
	350	0.43	270	61.2	480	449	0.70	59.8	1.44	0.077	1.47
	400	0.43	282	60.0	468	440	-	-	-	-	-
실시예 2	250	0.51	263	59.2	486	446	-	-	-	-	-
	350	0.51	272	60.7	486	446	0.55	97.6	1.43	0.083	1.40
	400	0.51	304	-	471	436	-	-	-	-	-
비교예2	-	1.57	280	53.6	490	457	0.93	161	1.92	0.110	0.84

본 발명에 따르면, 우수한 가공성, 즉 유기용매 용해성 및 열가소성을 갖고, 또한 동박이나 비열가소성 폴리이미드 필름과의 높은 접착력, 높은 유리 전이 온도 및 높은 인성을 겸비하는 선형상 폴리이미드 전구체, 혹은 선형상 폴리이미드와 그 열경화물, 및 이들 제조방법을 제공할 수 있다. 더 나아가서는 이들을 내열성 접착제 등으로서 이용하고, FPC, COF 및 TAB용 전자 회로 기판의 CCL 등도 제공할 수 있다. 따라서, 산업에 크게 기여할 수 있다.

Claims

멜로판산 이무수물, 디아민(NH₂-A-NH₂) 및 1관능성산 무수물로부터 얻어지고, 다음의 일반식(1) 또는 (2)로 나타나는 반복 단위를 함유하는 것을 특징으로 하는 선형상 폴리이미드 전구체.

(식 중, A는 2가의 방향족 디아민 잔기 또는 지방족 디아민 잔기를 나타내고, B는 1관능성산 무수물 잔기를 나타내며, n은 중합도를 나타낸다.)
다음의 일반식(3)으로 나타나는 반복 단위를 함유하는 것을 특징으로 하는 선형상 폴리이미드.

(식 중, A는 2가의 방향족 디아민 잔기 또는 지방족 디아민 잔기를 나타내고, B는 1관능성산 무수물 잔기를 나타내고, n은 중합도를 나타낸다.)
청구항 2에 기재된 폴리이미드를 열가교 반응시키는 것에 의해서 얻어진 것을 특징으로 하는 열경화물.
청구항 1에 기재된 폴리이미드 전구체를, 가열 혹은 탈수 시약에 의해서 탈수 환화(이미드화) 반응시키는 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재된 폴리이미드의 제조 방법.
270℃ 이상의 유리 전이 온도와, 비양성자성 유기용매에의 용해도가 10질량% 이상과, 동박과 적층체를 제작했을 때의 필 강도가 1.0kgf/㎝이상과, 파단 신장 10% 이상의 막 인성을 겸비하는 청구항 2에 기재된 폴리이미드 또는 청구항 3에 기재된 열경화물.
청구항 2에 기재된 폴리이미드 및 청구항 3의 열경화물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 내열성 접착제.
청구항 6에 기재된 내열성 접착제에 의해 비열가소성 폴리이미드 필름과 동박을 열적층하여 얻어진 것을 특징으로 하는 동장 적층판.