KR20040036237A - Inkjet printhead with ink supplying mechanism through porous medium and method of manufacturing thereof - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 잉크젯 프린트헤드에 관한 것으로, 보다 상세하게는 다공성 매체를 통한 잉크 공급 구조를 가진 열구동 방식의 잉크젯 프린트헤드 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an inkjet printhead, and more particularly, to a thermally driven inkjet printhead having an ink supply structure through a porous medium and a method of manufacturing the same.
일반적으로 잉크젯 프린트헤드는, 인쇄용 잉크의 미소한 액적(droplet)을 기록용지 상의 원하는 위치에 토출시켜서 소정 색상의 화상으로 인쇄하는 장치이다. 이러한 잉크젯 프린트헤드는 잉크 액적의 토출 메카니즘에 따라 크게 두가지 방식으로 분류될 수 있다. 그 하나는 열원을 이용하여 잉크에 버블(bubble)을 발생시켜 그 버블의 팽창력에 의해 잉크 액적을 토출시키는 열구동 방식의 잉크젯 프린터헤드이고, 다른 하나는 압전체를 사용하여 그 압전체의 변형으로 인해 잉크에 가해지는 압력에 의해 잉크 액적을 토출시키는 압전구동 방식의 잉크젯 프린트헤드이다.In general, an inkjet printhead is an apparatus for ejecting a small droplet of printing ink to a desired position on a recording sheet to print an image of a predetermined color. Such inkjet printheads can be largely classified in two ways depending on the ejection mechanism of the ink droplets. One is a heat-driven inkjet printhead which generates bubbles in the ink by using a heat source and ejects ink droplets by the expansion force of the bubbles, and the other is ink due to deformation of the piezoelectric body using a piezoelectric body. A piezoelectric drive inkjet printhead which discharges ink droplets by a pressure applied thereto.
상기 열구동 방식의 잉크젯 프린트헤드에서의 잉크 액적 토출 메카니즘을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다. 저항 발열체로 이루어진 히터에 펄스 형태의 전류가 흐르게 되면, 히터에서 열이 발생되면서 히터에 인접한 잉크는 대략 300℃로 순간 가열된다. 이에 따라 잉크가 비등하면서 버블이 생성되고, 생성된 버블은 팽창하여 잉크 챔버 내부에 채워진 잉크에 압력을 가하게 된다. 이로 인해 노즐 부근에 있던 잉크가 노즐을 통해 액적의 형태로 잉크 챔버 밖으로 토출된다.The ink droplet ejection mechanism of the thermally driven inkjet printhead will be described in detail as follows. When a pulse current flows through a heater made of a resistive heating element, heat is generated in the heater and the ink adjacent to the heater is instantaneously heated to approximately 300 ° C. Accordingly, as the ink boils, bubbles are generated, and the generated bubbles expand and apply pressure to the ink filled in the ink chamber. As a result, the ink near the nozzle is discharged out of the ink chamber in the form of droplets through the nozzle.
여기에서, 버블의 성장방향과 잉크 액적의 토출 방향에 따라 상기 열구동 방식은 다시 탑-슈팅(top-shooting), 사이드-슈팅(side-shooting), 백-슈팅(back-shooting) 방식으로 분류될 수 있다. 탑-슈팅 방식은 버블의 성장 방향과 잉크 액적의 토출 방향이 동일한 방식이고, 사이드-슈팅 방식은 버블의 성장 방향과 잉크 액적의 토출 방향이 직각을 이루는 방식이며, 그리고 백-슈팅 방식은 버블의 성장 방향과 잉크 액적의 토출 방향이 서로 반대인 잉크 액적 토출 방식을 말한다.Here, the thermal driving method is further classified into a top-shooting, side-shooting, and back-shooting method according to the bubble growth direction and the ink droplet ejection direction. Can be. In the top-shooting method, the growth direction of the bubble and the ejection direction of the ink droplets are the same. In the side-shooting method, the growth direction of the bubble and the ejection direction of the ink droplets are perpendicular to each other. An ink droplet ejecting method in which the growth direction and the ejecting direction of the ink droplets are opposite to each other.
이와 같은 열구동 방식의 잉크젯 프린트헤드는 일반적으로 다음과 같은 요건들을 만족하여야 한다. 첫째, 가능한 한 그 제조가 간단하고 제조비용이 저렴하며, 대량 생산이 가능하여야 한다. 둘째, 고화질의 화상을 얻기 위해서는 인접한 노즐들 사이의 간섭(cross talk)은 억제하면서도 인접한 노즐 사이의 간격은 가능한 한좁아야 한다. 즉, DPI(dots per inch)를 높이기 위해서는 다수의 노즐을 고밀도로 배치할 수 있어야 한다. 셋째, 고속 인쇄를 위해서는, 잉크 챔버로부터 잉크가 토출된 후 잉크 챔버에 잉크가 리필되는 주기가 가능한 한 짧아야 한다. 즉, 가열된 잉크와 히터의 냉각이 빨리 이루어져 구동 주파수를 높일 수 있어야 한다.Such thermally driven inkjet printheads generally must meet the following requirements. First, the production should be as simple as possible, inexpensive to manufacture, and capable of mass production. Second, in order to obtain a high quality image, the distance between adjacent nozzles should be as narrow as possible while suppressing cross talk between adjacent nozzles. In other words, in order to increase dots per inch (DPI), it is necessary to be able to arrange a plurality of nozzles at high density. Third, for high speed printing, the period during which ink is refilled in the ink chamber after the ink is ejected from the ink chamber should be as short as possible. That is, the heated ink and the heater should be cooled quickly to increase the driving frequency.
한편, 잉크 내에 존재하는 불순물 입자는 프린트헤드의 성능을 떨어뜨리는 원인이 된다. 즉, 불순물 입자가 잉크 공급 유로를 막게 되면 잉크 챔버 내로 잉크의 원활한 공급이 이루어지지 않게 된다. 이러한 불순물 입자는 헤드칩과 잉크 카트리지의 조립과정에서도 유입될 수 있으며, 잉크가 카트리지의 필터를 거치더라도 미세한 불순물 입자는 여전히 잉크 내에 존재할 수 있다. 따라서, 프린트헤드의 성능을 향상시키기 위해서는 상기의 요건 이외에도 잉크 내에 존재하는 불순물을 여과하여 불순물 입자가 잉크 공급 유로를 막는 것을 방지하여야 한다.On the other hand, impurity particles present in the ink cause a decrease in the performance of the printhead. In other words, when the impurity particles block the ink supply flow path, the ink may not be smoothly supplied into the ink chamber. These impurity particles may also be introduced during the assembly of the head chip and the ink cartridge, and even fine ink particles may still be present in the ink even though the ink passes through the filter of the cartridge. Therefore, in order to improve the performance of the printhead, in addition to the above requirements, impurities present in the ink must be filtered to prevent the impurity particles from blocking the ink supply flow path.
도 1은 불순물 입자를 여과할 수 있는 종래의 잉크젯 프린트헤드의 일례로서, 미국특허 US 5,734,399호에 개시된 잉크젯 프린트헤드의 평면도이다.1 is a plan view of an inkjet printhead disclosed in US Pat. No. 5,734,399 as an example of a conventional inkjet printhead capable of filtering impurity particles.
도 1을 참조하면, 잉크는 매니폴드(16)로부터 잉크 채널(14)을 통하여 히터(12) 부위로 공급된다. 그리고, 잉크 유로에 포토레지스트를 이용한 다양한 형태의 섬들(island, 18)을 배치시켜 불순물 입자(19)가 히터(12) 부위로 유입되는 것을 방지하고 있다.Referring to FIG. 1, ink is supplied from the manifold 16 to the heater 12 site through the ink channel 14. In addition, various types of islands 18 using photoresists are disposed in the ink flow path to prevent the impurity particles 19 from entering the heater 12.
그런데, 이러한 잉크젯 프린트헤드는 미세한 불순물 입자를 여과하기에는 한계가 있다. 또한, 상기한 구조는 잉크 채널이 기판의 표면에 평행하게 형성된 경우에만 적용이 가능하며 잉크 채널이 기판의 표면에 수직하게 형성된 경우에는 적용하기 어렵다.However, such an inkjet printhead has a limit in filtering fine impurity particles. Further, the above structure is applicable only when the ink channel is formed parallel to the surface of the substrate, and is difficult to apply when the ink channel is formed perpendicular to the surface of the substrate.
도 2에는 종래의 잉크젯 프린트헤드의 다른 예로서, 미국특허 US 5,940,099호에 개시된 다공성 매체를 통한 잉크 공급 구조를 가진 잉크젯 프린트헤드가 도시되어 있다.2 shows an inkjet printhead having an ink supply structure through a porous medium disclosed in US Pat. No. 5,940,099 as another example of a conventional inkjet printhead.
도 2에 도시된 잉크젯 프린트헤드는, 구동층(22)과, 캐비티층(24)과, 잉크공급층(26)과, 노즐층(28)이 위에서부터 아래로 순차 적층되어 접합된 구조를 가지고 있다. 그리고, 구동층(22)의 상부에는 트랜스듀서(23), 예컨대 압전체가 마련되어 있으며, 캐비티층(24)에는 잉크가 채워지는 캐비티(25)가 형성되어 있다. 다공성 매체로 이루어진 잉크공급층(26)에는 다수의 관통공(27)이 형성되어 있으며, 노즐층(28)에는 잉크를 토출하는 다수의 노즐(29)이 형성되어 있다. 한편, 노즐층(28) 대신에 한쪽 끝에 노즐이 형성되어 있는 유리모세관이 잉크공급층(26)의 관통공(27)에 끼워지기도 한다.The inkjet printhead shown in FIG. 2 has a structure in which a drive layer 22, a cavity layer 24, an ink supply layer 26, and a nozzle layer 28 are laminated in order from top to bottom. have. A transducer 23, for example a piezoelectric body, is provided on the driving layer 22, and a cavity 25 in which ink is filled is formed in the cavity layer 24. A plurality of through holes 27 are formed in the ink supply layer 26 made of a porous medium, and a plurality of nozzles 29 for discharging ink are formed in the nozzle layer 28. On the other hand, the glass capillary in which the nozzle is formed at one end instead of the nozzle layer 28 may be fitted in the through hole 27 of the ink supply layer 26.
그런데, 이러한 구조를 가진 잉크젯 프린터헤드를 제조하기 위해서는, 구동층(22)의 트랜스듀서(23)와, 캐비티층(24)의 캐비티(25)와, 잉크공급층(26)의 관통공(27) 및 노즐층(28)의 노즐(29)의 중심을 모두 맞춘 상태로 다수의 층들(22, 24, 26, 28)을 접합하여야 하기 때문에, 여러 단계의 복잡한 중심 정렬 및 접합 공정을 필요로 하게 되어, 제조공정이 복잡하고 오정렬의 문제가 발생될 수 있는 단점이 있다. 그리고, 잉크는 잉크 리저버로부터 잉크공급층(26)의 상,하면에 비해 상대적으로 매우 작은 면적을 가진 측면을 통해 캐비티(25)로 유입되므로, 잉크의 리필 속도가 늦어지는 단점이 있다.By the way, in order to manufacture an inkjet printhead having such a structure, the transducer 23 of the drive layer 22, the cavity 25 of the cavity layer 24, and the through hole 27 of the ink supply layer 26 are provided. ) And multiple layers 22, 24, 26, and 28 must be bonded while centering the nozzles 29 of the nozzle layer 28. Therefore, there is a disadvantage that the manufacturing process is complicated and a problem of misalignment may occur. In addition, since the ink flows into the cavity 25 from the ink reservoir through the side surface having a relatively small area compared to the upper and lower surfaces of the ink supply layer 26, the refilling speed of the ink is slow.
한편, 도 3에는 종래의 잉크젯 프린트헤드의 또 다른 예로서, 2002년 1월 29일에 특허공개번호 2002-007741호로 공개된 본 출원인의 한국특허출원에 개시된 일체형(monolithic) 잉크젯 프린트헤드가 도시되어 있다.Meanwhile, FIG. 3 illustrates a monolithic inkjet printhead disclosed in the Korean patent application of the present applicant, which is disclosed as Korean Patent Application Publication No. 2002-007741 on January 29, 2002, as another example of a conventional inkjet printhead. have.
도 3을 참조하면, 실리콘 기판(30)의 표면쪽에는 반구형의 잉크 챔버(32)가 형성되어 있고, 기판(30)의 배면쪽에는 잉크 공급을 위한 매니폴드(36)가 형성되어 있으며, 잉크 챔버(32)의 바닥에는 잉크 챔버(32)와 매니폴드(36)를 연결하는 잉크 채널(34)이 관통 형성되어 있다. 그리고, 기판(30) 상에는 다수의 물질층(41, 42, 43)이 적층되어 이루어진 노즐 플레이트(40)가 기판(30)과 일체로 형성되어 있다. 노즐 플레이트(40)에는 잉크 챔버(32)의 중심부에 대응되는 위치에 노즐(47)이 형성되어 있으며, 노즐(47)의 둘레에는 도체(46)에 연결된 히터(45)가 배치되어 있다. 노즐(47)의 가장자리에는 잉크 챔버(32)의 깊이 방향으로 연장된 노즐 가이드(44)가 형성되어 있다. 상기 히터(45)에서 발생된 열은 절연층(41)을 통해 잉크 챔버(32) 내부의 잉크(48)로 전달되고, 이에 따라 잉크(48)는 비등되어 버블(49)이 생성된다. 생성된 버블(49)은 팽창하며 잉크 챔버(32) 내에 채워진 잉크(48)에 압력을 가하게 되고, 이에 따라 잉크(48)는 노즐(47)을 통해 액적(48')의 형태로 토출된다. 그 다음에, 대기와 접촉되는 잉크(48)의 표면에 작용하는 표면장력에 의해, 매니폴드(36)로부터 잉크 채널(34)을 통해 잉크(48)가 흡입되면서 잉크 챔버(32)에 다시 잉크(48)가 채워진다.Referring to FIG. 3, a hemispherical ink chamber 32 is formed on the surface side of the silicon substrate 30, and a manifold 36 for ink supply is formed on the back side of the substrate 30. An ink channel 34 connecting the ink chamber 32 and the manifold 36 is formed through the bottom of the chamber 32. In addition, a nozzle plate 40 formed by stacking a plurality of material layers 41, 42, and 43 on the substrate 30 is integrally formed with the substrate 30. The nozzle plate 40 is formed in the nozzle plate 40 at a position corresponding to the center of the ink chamber 32, and a heater 45 connected to the conductor 46 is disposed around the nozzle 47. At the edge of the nozzle 47, a nozzle guide 44 extending in the depth direction of the ink chamber 32 is formed. The heat generated by the heater 45 is transferred to the ink 48 inside the ink chamber 32 through the insulating layer 41, whereby the ink 48 is boiled to generate bubbles 49. The resulting bubbles 49 expand and apply pressure to the ink 48 filled in the ink chamber 32, whereby the ink 48 is ejected through the nozzle 47 in the form of droplets 48 ′. Then, by the surface tension acting on the surface of the ink 48 in contact with the atmosphere, the ink 48 is sucked from the manifold 36 through the ink channel 34, and the ink is returned to the ink chamber 32 again. 48 is filled.
상기한 바와 같은 구조를 가진 종래의 일체형 잉크젯 프린트헤드에 있어서는, 실리콘 기판(30)과 노즐 플레이트(40)가 일체로 형성되어 제조 공정이 간단하고 오정렬의 문제점이 해소되는 장점이 있으며, 또한 노즐(46), 잉크 챔버(32), 잉크 채널(34) 및 매니폴드(36)가 수직으로 배열됨으로써, 노즐 밀도를 높일 수 있는 장점이 있다.In the conventional integrated inkjet printhead having the structure as described above, the silicon substrate 30 and the nozzle plate 40 are integrally formed to simplify the manufacturing process and eliminate the problem of misalignment. 46, the ink chamber 32, the ink channel 34 and the manifold 36 are arranged vertically, there is an advantage that the nozzle density can be increased.
그런데, 도 3에 도시된 일체형 잉크젯 프린트헤드에 있어서, 잉크 채널(34)은 노즐(47)을 통해 잉크 챔버(32) 바닥 부위의 기판(30)을 이방성 이온 식각함으로써 형성되므로, 잉크 채널(34)의 형상 및 단면적은 노즐(47)의 형상 및 단면적에 의해 제약된다. 이에 따라, 잉크 액적(48')의 토출 단계에서의 잉크(48)의 역류 현상 및 잉크의 리필 단계에서의 잉크의 유입과 관련된 잉크의 유동 임피던스를 능동적으로 제어할 수 없는 단점이 있다.By the way, in the integrated inkjet printhead shown in FIG. 3, the ink channel 34 is formed by anisotropic ion etching of the substrate 30 at the bottom of the ink chamber 32 through the nozzle 47, so that the ink channel 34 ) Is constrained by the shape and cross-sectional area of the nozzle 47. Accordingly, there is a disadvantage that the flow impedance of the ink associated with the inflow of the ink 48 in the ejecting step of the ink droplets 48 'and the inflow of the ink in the refilling step of the ink cannot be actively controlled.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로, 그 일 목적은 다공성 매체를 통한 잉크 공급 구조를 가짐으로써 잉크의 유동 임피던스를 효과적으로 제어할 수 있으며 미세한 불순물 입자도 여과할 수 있는 잉크젯 프린트헤드를 제공하는데 있다.The present invention was created to solve the problems of the prior art as described above, and its object is to have an ink supply structure through a porous medium to effectively control the flow impedance of the ink and to filter fine impurity particles. An inkjet printhead is provided.
그리고, 본 발명의 다른 목적은, 상기한 구조를 가진 잉크젯 프린트헤드를 접합 공정 없이 또는 접합 공정을 최소화하여 제조하는 방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an inkjet printhead having the above structure without a bonding process or by minimizing a bonding process.
도 1은 종래의 잉크젯 프린트헤드의 일례를 나타내 보인 평면도이다.1 is a plan view showing an example of a conventional inkjet printhead.
도 2는 종래의 잉크젯 프린트헤드의 다른 예를 나타내 보인 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing another example of a conventional inkjet printhead.
도 3은 종래의 잉크젯 프린트헤드의 또 다른 예를 나타내 보인 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing still another example of a conventional inkjet printhead.
도 4는 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드의 평면 구조를 도시한 도면이다.Fig. 4 is a diagram showing the planar structure of the inkjet printhead according to the first preferred embodiment of the present invention.
도 5는 도 4에 표시된 A-A'선을 따른 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드의 수직 단면도이다.FIG. 5 is a vertical sectional view of the inkjet printhead according to the first preferred embodiment of the present invention along the line AA ′ shown in FIG. 4.
도 6은 다공성 매체를 통한 잉크 유동 특성을 설명하기 위한 그래프이다.6 is a graph illustrating the ink flow characteristics through a porous medium.
도 7 내지 도 11은 본 발명의 제 2 내지 제 6 실시예들을 도시한 수직 단면도들이다.7 to 11 are vertical cross-sectional views showing second to sixth embodiments of the present invention.
도 12a 내지 도 12c는 도 7에 도시된 본 발명의 제2 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드에서 잉크가 공급되고 토출되는 메카니즘을 설명하기 위한 도면들이다.12A to 12C are views for explaining a mechanism in which ink is supplied and discharged in the inkjet printhead according to the second embodiment of the present invention shown in FIG.
도 13 내지 도 18은 도 5에 도시된 본 발명의 제1 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드의 바람직한 제조방법을 단계적으로 설명하기 위한 단면도들이다.13 to 18 are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing an inkjet printhead according to a first embodiment of the present invention shown in FIG. 5 step by step.
도 19 내지 도 25는 도 7에 도시된 본 발명의 제2 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드의 바람직한 제조방법을 단계적으로 설명하기 위한 단면도들이다.19 to 25 are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing an inkjet printhead according to a second embodiment of the present invention shown in FIG.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
110,510,610...기판 511,611...제1 기판110,510,610 ... substrate 511,611 ... first substrate
512,612...제2 기판 120,220,320...노즐 플레이트512,612 ... Second substrate 120,220,320 ... Nozzle plate
121...제1 보호층 122...제2 보호층121 ... first protective layer 122 ... second protective layer
124...열전도층 126...제3 보호층124 ... heat conducting layer 126 ... third protective layer
132,532,632...잉크 챔버 136,536,636...매니폴드132,532,632 ... ink chamber 136,536,636 ... manifold
138,238,338...노즐 142...히터138,238,338 ... Nozzle 142 ... Heater
144...도체 129,229...노즐 가이드144 ... Conductor 129,229 ... Nozzle Guide
227...시드층 228,328...열발산층227 seed layer 228,328 heat dissipation layer
상기의 기술적 과제를 달성하기 위해 본 발명은,The present invention to achieve the above technical problem,
표면쪽에는 토출될 잉크가 채워지는 잉크 챔버가 형성되고, 배면쪽에는 상기 잉크 챔버와 소정 간격을 두고 상기 잉크 챔버에 잉크를 공급하기 위한 매니폴드가형성된 기판;A substrate having an ink chamber filled with ink to be discharged on a surface thereof, and a manifold for supplying ink to the ink chamber at a predetermined distance from the ink chamber at a rear surface thereof;
상기 기판 상에 적층된 다수의 물질층으로 이루어지며, 상기 잉크 챔버로부터 잉크의 토출이 이루어지는 노즐이 관통되어 형성된 노즐 플레이트; 및A nozzle plate formed of a plurality of material layers stacked on the substrate, the nozzle plate penetrating through a nozzle through which ink is discharged from the ink chamber; And
상기 노즐 플레이트의 상기 물질층들 사이에 마련되어, 상기 잉크 챔버 내부의 잉크를 가열하는 히터와 상기 히터에 전류를 인가하는 도체;를 구비하며,And a heater provided between the material layers of the nozzle plate, the heater heating the ink inside the ink chamber, and a conductor applying a current to the heater.
상기 기판은 적어도 상기 잉크 챔버의 아랫 부분이 다공성 매체로 이루어지며, 상기 다공성 매체를 통해 상기 매니폴드로부터 상기 잉크 챔버로의 잉크 공급이 이루어지는 잉크젯 프린트헤드를 제공한다.The substrate provides an inkjet printhead wherein at least a lower portion of the ink chamber is made of a porous medium, through which ink is supplied from the manifold to the ink chamber through the porous medium.
여기에서, 상기 기판은 전체가 다공성 매체로 이루어질 수 있다.Here, the substrate may be entirely made of a porous medium.
한편, 상기 기판은 상기 매니폴드가 형성된 제1 기판과, 상기 제1 기판 상에 적층되며 상기 잉크 챔버가 형성된 제2 기판으로 이루어지고, 상기 제1 기판이 다공성 매체로 이루어질 수 있다.The substrate may include a first substrate on which the manifold is formed, a second substrate stacked on the first substrate, and the ink chamber is formed, and the first substrate may be formed of a porous medium.
상기 다공성 매체는 다공성 실리콘 기판과 소결성형된 금속 플레이트 중 어느 하나인 것이 바람직하다.The porous medium is preferably any one of a porous silicon substrate and a sintered metal plate.
상기 제2 기판은 실리콘 기판, 금속 플레이트 또는 상기 제1 기판 상에 도금된 금속층으로 이루어질 수도 있다.The second substrate may be formed of a silicon substrate, a metal plate, or a metal layer plated on the first substrate.
상기 제1 기판과 상기 제2 기판은 밀착되어 접합될 수 있으며, 또는 접착제에 의해 소정의 갭을 두고 접합될 수도 있다.The first substrate and the second substrate may be in close contact with each other, or may be joined with a predetermined gap by an adhesive.
상기 잉크 챔버는 상기 제2 기판을 관통하도록 형성되어 상기 제1 기판의 상면이 상기 잉크 챔버의 바닥을 형성하도록 된 것이 바람직하다.Preferably, the ink chamber is formed to penetrate the second substrate so that an upper surface of the first substrate forms a bottom of the ink chamber.
그리고, 상기 노즐 플레이트의 상기 물질층들은 다수의 보호층들과, 상기 보호층들 사이에 마련되며 상기 잉크 챔버의 위쪽에 배치되어 상기 히터 및 도체로부터 절연되고 그 일부분이 상기 기판에 접촉되는 열전도층을 포함하는 것이 바람직하다.The material layers of the nozzle plate are provided between the plurality of protective layers and the protective layers and are disposed above the ink chamber to be insulated from the heater and the conductor, and a portion thereof contacts the substrate. It is preferable to include.
또한, 상기 노즐 플레이트의 상기 물질층들은 다수의 보호층들과, 상기 보호층들 위에 적층되며 금속으로 이루어진 열발산층을 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the material layers of the nozzle plate preferably include a plurality of protective layers and a heat dissipation layer made of a metal stacked on the protective layers.
또한, 상기 노즐의 하부 가장자리에는 상기 잉크 챔버의 내부로 연장된 노즐 가이드가 형성될 수 있다.In addition, a nozzle guide extending into the ink chamber may be formed at a lower edge of the nozzle.
그리고, 본 발명은 상기한 구조를 가진 잉크젯 프린트헤드를 제조하는 방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method of manufacturing an inkjet printhead having the above structure.
본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드의 제조방법은,The manufacturing method of the inkjet printhead according to the present invention,
다공성 매체로 이루어진 기판을 준비하는 단계;Preparing a substrate made of a porous medium;
적층된 다수의 물질층으로 이루어지며 상기 물질층들을 관통하는 노즐이 형성된 노즐 플레이트를 상기 기판 상에 형성하면서, 히터와 상기 히터에 연결되는 도체를 상기 물질층들 사이에 형성하는 단계;Forming a heater plate and a conductor connected to the heater between the material layers while forming a nozzle plate on the substrate, the nozzle plate comprising a plurality of stacked material layers and having nozzles penetrating the material layers;
상기 노즐을 통해 노출된 상기 기판을 식각하여 잉크가 채워지는 잉크 챔버를 형성하는 단계; 및Etching the substrate exposed through the nozzle to form an ink chamber filled with ink; And
상기 기판의 배면을 식각하여 잉크를 공급하는 매니폴드를 형성하는 단계;를 구비한다.And etching a rear surface of the substrate to form a manifold for supplying ink.
여기에서, 상기 기판은 다공성 실리콘 기판과 소결성형된 금속 플레이트 중어느 하나인 것이 바람직하다.Here, the substrate is preferably one of a porous silicon substrate and a sintered metal plate.
그리고, 상기 노즐 플레이트 형성 단계는,And, the nozzle plate forming step,
상기 기판 상에 다수의 보호층들을 순차적으로 형성하면서, 상기 보호층들 사이에 상기 히터와 상기 도체를 형성하고, 상기 보호층들 사이에 상기 잉크 챔버의 위쪽에 배치되며 상기 히터 및 도체로부터 절연되고 그 일부가 상기 기판과 접촉되는 열전도층을 형성하는 단계와; 상기 보호층들을 관통하도록 식각하여 상기 노즐을 형성하는 단계;를 구비할 수 있다.Forming a plurality of passivation layers on the substrate sequentially, forming the heater and the conductor between the passivation layers, disposed above the ink chamber between the passivation layers, and insulated from the heater and the conductor; Forming a thermally conductive layer, a portion of which is in contact with the substrate; And etching through the protective layers to form the nozzle.
한편, 상기 노즐 플레이트 형성 단계는,On the other hand, the nozzle plate forming step,
상기 기판 상에 다수의 보호층들을 순차적으로 형성하면서, 상기 보호층들 사이에 상기 히터와 상기 도체를 형성하고, 상기 보호층들 사이에 상기 잉크 챔버의 위쪽에 배치되며 상기 히터 및 도체로부터 절연되고 그 일부가 상기 기판과 접촉되는 열전도층을 형성하는 단계와; 상기 보호층들 위에 금속으로 이루어진 열발산층을 형성하면서, 상기 노즐을 상기 보호층들과 상기 열발산층을 관통하도록 형성하는 단계;를 구비할 수도 있다.Forming a plurality of passivation layers on the substrate sequentially, forming the heater and the conductor between the passivation layers, disposed above the ink chamber between the passivation layers, and insulated from the heater and the conductor; Forming a thermally conductive layer, a portion of which is in contact with the substrate; Forming a heat dissipation layer made of a metal on the protective layers while penetrating the nozzles through the protective layers and the heat dissipation layer.
그리고, 상기 열발산층과 상기 노즐을 형성하는 단계는,The forming of the heat dissipating layer and the nozzle may include:
상기 잉크 챔버가 형성될 부위의 상부에 상기 보호층들을 관통되도록 식각하여 하부 노즐을 형성하는 단계와; 상기 하부 노즐 내부에 제1 희생층을 형성하는 단계와; 상기 제1 희생층 위에 상부 노즐을 형성하기 위한 제2 희생층을 형성하는 단계와; 상기 보호층들 위해 상기 열발산층을 전기도금에 의해 형성하는 단계와; 상기 제2 희생층과 상기 제1 희생층을 제거하여 상기 하부 노즐과 상부 노즐로 이루어지는 상기 노즐을 형성하는 단계;를 구비하는 것이 바람직하다.Forming a lower nozzle by etching the passivation layers over the portion where the ink chamber is to be formed; Forming a first sacrificial layer inside the lower nozzle; Forming a second sacrificial layer for forming an upper nozzle on the first sacrificial layer; Forming said heat dissipating layer by electroplating for said protective layers; And removing the second sacrificial layer and the first sacrificial layer to form the nozzle including the lower nozzle and the upper nozzle.
또한, 상기 열발산층을 형성하는 단계 후에, 상기 열발산층의 상면을 화학기계적연마 공정의 의해 평탄화하는 단계;를 더 구비하는 것이 바람직하다.In addition, after the step of forming the heat dissipating layer, the step of planarizing the upper surface of the heat dissipating layer by a chemical mechanical polishing process, it is preferable to further include.
여기에서, 상기 제1 희생층과 상기 보호층들 위에 상기 열발산층의 전기도금을 위한 시드층을 형성한 후, 상기 제2 희생층을 형성할 수 있다.Here, after forming a seed layer for electroplating the heat dissipation layer on the first sacrificial layer and the protective layers, the second sacrificial layer may be formed.
한편, 상기 하부 노즐을 형성한 후, 상기 보호층들과 상기 하부 노즐에 의해 노출된 상기 기판 위에 상기 열발산층의 전기도금을 위한 시드층을 형성한 다음, 상기 제1 희생층과 제2 희생층을 형성할 수도 있다.After forming the lower nozzle, a seed layer for electroplating the heat dissipation layer is formed on the protective layers and the substrate exposed by the lower nozzle, and then the first sacrificial layer and the second sacrificial layer. It may also form a layer.
그리고, 상기 노즐을 형성하는 단계는,And, forming the nozzle,
상기 히터 안쪽으로 상기 보호층들과 상기 기판을 이방성 식각하여 소정 깊이의 홀을 형성하는 단계와, 상기 홀의 내면에 소정의 물질층을 증착하는 단계와, 상기 홀의 바닥 부위에 형성된 상기 물질층을 식각하여 상기 기판을 노출시킴과 동시에 상기 홀의 측면에 상기 물질층으로 이루어지며 상기 노즐을 한정하는 노즐 가이드를 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.Anisotropically etching the protective layers and the substrate into the heater to form a hole having a predetermined depth, depositing a predetermined material layer on an inner surface of the hole, and etching the material layer formed at a bottom portion of the hole. And exposing the substrate and forming a nozzle guide formed of the material layer on the side of the hole and defining the nozzle.
또한, 본 발명은 상기한 구조를 가진 잉크젯 프린트헤드를 제조하는 다른 방법들을 제공한다.The present invention also provides other methods of manufacturing an inkjet printhead having the above structure.
본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드의 다른 제조방법은,Another manufacturing method of the inkjet printhead according to the present invention,
다공성 매체로 이루어진 제1 기판을 준비하는 단계;Preparing a first substrate made of a porous medium;
상기 제1 기판 상에 제2 기판을 적층하는 단계;Stacking a second substrate on the first substrate;
적층된 다수의 물질층으로 이루어지며 상기 물질층들을 관통하는 노즐이 형성된 노즐 플레이트를 상기 제2 기판 상에 형성하면서, 히터와 상기 히터에 연결되는 도체를 상기 물질층들 사이에 형성하는 단계;Forming a heater and a conductor connected to the heater between the material layers while forming a nozzle plate on the second substrate, the nozzle plate comprising a plurality of stacked material layers and having nozzles therethrough formed thereon;
상기 노즐을 통해 노출된 상기 제2 기판을 식각하여 잉크가 채워지는 잉크 챔버를 형성하는 단계; 및Etching the second substrate exposed through the nozzle to form an ink chamber filled with ink; And
상기 제1 기판의 배면쪽에 잉크를 공급하는 매니폴드를 형성하는 단계;를 구비한다.And forming a manifold for supplying ink to the rear side of the first substrate.
여기에서, 상기 제1 기판은 다공성 실리콘 기판과 소결성형된 금속 플레이트 중 어느 하나인 것이 바람직하며, 상기 제2 기판은 실리콘 기판과 금속 플레이트 중 어느 하나인 것이 바람직하다.Here, the first substrate is preferably any one of a porous silicon substrate and a sintered metal plate, and the second substrate is preferably one of a silicon substrate and a metal plate.
그리고, 상기 제1 기판과 상기 제2 기판은 밀착되어 접합될 수 있으며, 이 경우 상기 제1 기판과 상기 제2 기판은 SDB법에 의해 접합되는 것이 바람직하다.The first substrate and the second substrate may be in close contact with each other, and in this case, the first substrate and the second substrate may be bonded by the SDB method.
한편, 상기 제1 기판과 상기 제2 기판은 접착제에 의해 소정의 갭을 두고 접합될 수 있다.On the other hand, the first substrate and the second substrate may be bonded with a predetermined gap by an adhesive.
본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드의 또 다른 제조방법은,Another manufacturing method of the inkjet printhead according to the present invention,
다공성 매체로 이루어진 제1 기판을 준비하는 단계;Preparing a first substrate made of a porous medium;
상기 제1 기판 상에 금속으로 이루어진 제2 기판을 적층하면서 상기 제2 기판에 잉크가 채워지는 잉크 챔버를 형성하는 단계;Forming an ink chamber in which ink is filled in the second substrate while stacking a second substrate made of metal on the first substrate;
적층된 다수의 물질층으로 이루어지며 상기 물질층들을 관통하는 노즐이 형성된 노즐 플레이트를 상기 제2 기판 상에 형성하면서, 히터와 상기 히터에 연결되는 도체를 상기 물질층들 사이에 형성하는 단계; 및Forming a heater and a conductor connected to the heater between the material layers while forming a nozzle plate on the second substrate, the nozzle plate comprising a plurality of stacked material layers and having nozzles therethrough formed thereon; And
상기 제1 기판의 배면쪽에 잉크를 공급하는 매니폴드를 형성하는 단계;를 구비한다.And forming a manifold for supplying ink to the rear side of the first substrate.
여기에서, 상기 제1 기판은 다공성 실리콘 기판과 소결성형된 금속 플레이트 중 어느 하나인 것이 바람직하다.Here, the first substrate is preferably any one of a porous silicon substrate and a sintered metal plate.
그리고, 상기 제2 기판의 적층과 잉크 챔버를 형성하는 단계는,The stacking of the second substrate and forming the ink chamber may include:
상기 제1 기판 상에 상기 잉크 챔버를 형성하기 위한 희생층을 형성하는 단계와, 상기 제1 기판 상에 소정의 금속물질을 전기도금하여 상기 제2 기판을 형성하는 단계를 구비할 수 있으며, 상기 희생층은 상기 노즐 플레이트 형성 단계 후에 상기 노즐을 통해 제거될 수 있다.Forming a sacrificial layer for forming the ink chamber on the first substrate, and forming the second substrate by electroplating a predetermined metal material on the first substrate. The sacrificial layer may be removed through the nozzle after the nozzle plate forming step.
한편, 상기 제2 기판의 적층과 잉크 챔버를 형성하는 단계는,Meanwhile, in the stacking of the second substrate and forming the ink chamber,
금속 플레이트로 이루어진 상기 제2 기판에 상기 잉크 챔버를 관통되도록 형성하는 단계와, 상기 제2 기판을 상기 제1 기판 상에 접합시키는 단계와, 상기 잉크 챔버 내에 희생층을 채우는 단계를 구비할 수도 있으며, 상기 희생층은 상기 노즐 플레이트 형성 단계 후에 상기 노즐을 통해 제거될 수 있다.Forming the ink chamber through the second substrate made of a metal plate; bonding the second substrate on the first substrate; and filling a sacrificial layer in the ink chamber. The sacrificial layer may be removed through the nozzle after the nozzle plate forming step.
이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 도면상에서 각 구성요소의 크기는 설명의 명료성과 편의상 과장되어 있을 수 있다. 또한, 한 층이 기판이나 다른 층의 위에 존재한다고 설명될 때, 그 층은 기판이나 다른 층에 직접 접하면서 그 위에 존재할 수도 있고, 그 사이에 제 3의 층이 존재할 수도 있다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, like reference numerals refer to like elements, and the size of each element may be exaggerated for clarity and convenience of description. In addition, when one layer is described as being on top of a substrate or another layer, the layer may be present over and in direct contact with the substrate or another layer, with a third layer in between.
도 4는 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드의 평면 구조를 도시한 도면이고, 도 5는 도 4에 표시된 A-A'선을 따른 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드의 수직 단면도이다.4 is a view showing a planar structure of an inkjet printhead according to a first preferred embodiment of the present invention, and FIG. 5 is an inkjet according to a first preferred embodiment of the present invention along line AA ′ shown in FIG. Vertical cross section of the printhead.
도 4와 도 5를 함께 참조하면, 잉크젯 프린트헤드의 기판(110)에는 그 표면쪽에 토출될 잉크가 채워지는 잉크 챔버(132)가 소정 깊이로 형성되고, 그 배면쪽에는 잉크 챔버(132)로 공급될 잉크가 흐르는 매니폴드(136)가 형성된다. 상기 매니폴드(136)는 잉크 챔버(132)의 아래쪽에 형성되며, 잉크를 담고 있는 잉크 리저버(미도시)와 연결된다.4 and 5 together, an ink chamber 132 filled with ink to be discharged on a surface thereof is formed in the substrate 110 of the inkjet printhead to a predetermined depth, and an ink chamber 132 is formed on the rear surface thereof. A manifold 136 through which ink to be supplied flows is formed. The manifold 136 is formed below the ink chamber 132 and is connected to an ink reservoir (not shown) containing ink.
한편, 도면에는 잉크젯 프린트헤드의 단위 구조만 도시되어 있지만, 칩 상태로 제조되는 잉크젯 프린트헤드에서는 다수의 잉크 챔버(132)가 매니폴드(136) 위에 일렬 또는 2열로 배치되며, 해상도를 더욱 높이기 위해 3열 이상으로 배치될 수도 있다.Meanwhile, although only the unit structure of the inkjet printhead is shown in the drawing, in the inkjet printhead manufactured in a chip state, a plurality of ink chambers 132 are arranged in a row or two rows on the manifold 136 to further increase the resolution. It may be arranged in three or more rows.
여기에서, 상기 기판(110)으로는 다공성 매체가 사용된다. 다공성 매체로는, 다공성 실리콘 기판이 사용될 수 있으며, 또는 소결성형된 금속 플레이트, 예컨대 소결성형된 스테인레스 플레이트 등이 사용될 수 있다. 본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드에는 잉크 챔버(132)와 매니폴드(136)를 연결하는 별도의 잉크 채널이 형성되지 않는다. 따라서, 잉크 챔버(132)로의 잉크의 공급은 다공성 매체로 이루어진 기판(110)을 통해 이루어진다. 이를 위해, 잉크 챔버(132)와 매니폴드(136)는 그들 사이의 기판(110)이 잉크의 유동 속도를 고려하여 대략 수㎛ ~ 수십㎛의 두께, 바람직하게는 5㎛ ~ 20㎛의 두께를 가지도록 형성된다. 이에 대해서는 뒤에서상세하게 설명하기로 한다.Here, a porous medium is used as the substrate 110. As the porous medium, a porous silicon substrate can be used, or a sintered metal plate such as sintered stainless plate or the like can be used. In the inkjet printhead according to the present invention, a separate ink channel connecting the ink chamber 132 and the manifold 136 is not formed. Therefore, the supply of ink to the ink chamber 132 is made through the substrate 110 made of a porous medium. To this end, the ink chamber 132 and the manifold 136 has a thickness of approximately several micrometers to several tens of micrometers, preferably 5 micrometers to 20 micrometers in consideration of the flow rate of the ink between the substrate 110 therebetween. It is formed to have. This will be described in detail later.
상기한 바와 같이 잉크 챔버(132)와 매니폴드(136)가 형성되어 있는 다공성 기판(110)의 상부에는 노즐 플레이트(120)가 마련된다. 상기 노즐 플레이트(120)는 잉크 챔버(132)의 상부벽을 이루며, 잉크 챔버(132)의 중심에 대응하는 위치에는 잉크 챔버(132)로부터 잉크의 토출이 이루어지는 노즐(138)이 수직으로 관통되어 형성된다.As described above, the nozzle plate 120 is provided on the porous substrate 110 on which the ink chamber 132 and the manifold 136 are formed. The nozzle plate 120 forms an upper wall of the ink chamber 132, and a nozzle 138 through which ink is discharged from the ink chamber 132 is vertically penetrated at a position corresponding to the center of the ink chamber 132. Is formed.
상기 노즐(138)의 단면 형상은 원형으로 된 것이 바람직하다. 한편, 노즐(138)의 단면 형상은 원형이 아니더라도 타원형이나 다각형 등 다양한 형상을 가질 수 있다.The cross-sectional shape of the nozzle 138 is preferably circular. On the other hand, the cross-sectional shape of the nozzle 138 may have a variety of shapes, such as elliptical or polygonal, not circular.
상기 노즐 플레이트(120)는 기판(110) 상에 적층된 다수의 물질층으로 이루어진다. 이 물질층들은 제1 및 제2 보호층(121, 122)과, 열전도층(124)과, 제3 보호층(126)을 포함한다. 그리고, 제1 및 제2 보호층(121, 122) 사이에는 히터(142)가 마련되며, 제2 보호층(122)과 제3 보호층(126) 사이에는 도체(144)가 마련된다.The nozzle plate 120 is formed of a plurality of material layers stacked on the substrate 110. The material layers include first and second protective layers 121 and 122, a thermal conductive layer 124, and a third protective layer 126. The heater 142 is provided between the first and second protective layers 121 and 122, and the conductor 144 is provided between the second protective layer 122 and the third protective layer 126.
상기 제1 보호층(passivation layer, 121)은 노즐 플레이트(120)를 이루는 다수의 물질층 중 가장 아래쪽의 물질층으로서 기판(110)의 상면에 형성된다. 상기 제1 보호층(121)은 그 위에 형성되는 히터(142)와 그 아래의 기판(110) 사이의 절연과 히터(142)의 보호를 위한 물질층으로서 실리콘 산화물이나 실리콘 질화물로 이루어질 수 있다.The first passivation layer 121 is formed on the upper surface of the substrate 110 as a material layer at the bottom of the plurality of material layers constituting the nozzle plate 120. The first passivation layer 121 may be formed of silicon oxide or silicon nitride as a material layer for insulating and protecting the heater 142 between the heater 142 formed thereon and the substrate 110 thereunder.
제1 보호층(121) 위에는 잉크 챔버(132)의 상부에 위치하여 잉크 챔버(132) 내부의 잉크를 가열하는 히터(142)가 노즐(138)을 둘러싸는 형상으로 형성된다. 이히터(142)는 불순물이 도핑된 폴리 실리콘, 탄탈륨-알루미늄 합금, 탄탈륨 질화물(tantalum nitride), 티타늄 질화물(titanium nitride), 텅스텐 실리사이드(tungsten silicide)와 같은 저항 발열체로 이루어진다. 상기 히터(142)는 도 4에 도시된 바와 같이 노즐(138)을 둘러싸는 원형의 링 형상으로 형성될 수 있으며, 또는 사각형이나 다이아몬드 형상으로 형성될 수도 있다.On the first protective layer 121, a heater 142 positioned above the ink chamber 132 and heating the ink in the ink chamber 132 is formed in a shape surrounding the nozzle 138. The heater 142 is made of a resistive heating element such as polysilicon, a tantalum-aluminum alloy, tantalum nitride, titanium nitride, and tungsten silicide doped with impurities. The heater 142 may be formed in a circular ring shape surrounding the nozzle 138 as shown in FIG. 4, or may be formed in a square or diamond shape.
상기 제2 보호층(122)은 제1 보호층(121)과 히터(142) 위에 마련된다. 상기 제2 보호층(122)은 그 위에 마련되는 열전도층(124)과 그 아래의 히터(142) 사이의 절연과 히터(142)의 보호를 위해 마련된다. 상기 제2 보호층(122)도 제1 보호층(121)과 마찬가지로 실리콘 질화물 또는 실리콘 산화물로 이루어질 수 있다.The second passivation layer 122 is provided on the first passivation layer 121 and the heater 142. The second protective layer 122 is provided for insulation between the thermal conductive layer 124 provided thereon and the heater 142 below and the protection of the heater 142. Like the first passivation layer 121, the second passivation layer 122 may be made of silicon nitride or silicon oxide.
제2 보호층(122) 위에는 히터(142)와 전기적으로 연결되어 히터(142)에 펄스 형태의 전류를 인가하는 도체(conductor, 144)가 마련된다. 상기 도체(144)의 일단부는 제2 보호층(122)에 형성된 제1 컨택홀(C1)을 통해 히터(142)에 접속되며, 그 타단부는 도시되지 않은 본딩 패드에 전기적으로 연결된다. 그리고, 상기 도체(144)는 도전성이 양호한 금속, 예컨대 알루미늄이나 알루미늄 합금 또는 금이나 은으로 이루어질 수 있다.A conductor 144 is provided on the second protective layer 122 to be electrically connected to the heater 142 to apply a pulse current to the heater 142. One end of the conductor 144 is connected to the heater 142 through the first contact hole C 1 formed in the second protective layer 122, and the other end thereof is electrically connected to a bonding pad (not shown). In addition, the conductor 144 may be made of a metal having good conductivity, such as aluminum or an aluminum alloy, or gold or silver.
상기 열전도층(124)은 상기 제2 보호층(122) 위에 마련될 수 있다. 상기 열전도층(124)은 히터(142)와 히터(142) 주변의 열을 기판(110)으로 전도시키는 기능을 하는 것으로, 가능한 한 잉크 챔버(132)와 히터(142)를 모두 덮을 수 있도록 넓게 형성되는 것이 바람직하다. 다만, 열전도층(124)과 도체(144) 사이의 절연을 위해 열전도층(124)은 도체(144)로부터 소정 간격을 두고 형성되어야 한다. 한편, 열전도층(124)과 히터(142) 사이의 절연은 상기한 바와 같이 그들 사이에 개재된 제2 보호층(122)에 의해 이루어질 수 있다. 그리고, 열전도층(124)은 제1 보호층(121)과 제2 보호층(122)을 관통하여 형성된 제2 컨택홀(C2)을 통해 기판(110)의 상면에 접촉된다.The thermal conductive layer 124 may be provided on the second protective layer 122. The thermal conductive layer 124 functions to conduct the heater 142 and the heat around the heater 142 to the substrate 110, and is wide enough to cover both the ink chamber 132 and the heater 142 as much as possible. It is preferably formed. However, in order to insulate between the heat conductive layer 124 and the conductor 144, the heat conductive layer 124 should be formed at a predetermined distance from the conductor 144. On the other hand, the insulation between the thermal conductive layer 124 and the heater 142 may be made by the second protective layer 122 interposed therebetween as described above. The thermal conductive layer 124 contacts the upper surface of the substrate 110 through the second contact hole C 2 formed through the first protective layer 121 and the second protective layer 122.
상기 열전도층(124)은 열전도성이 양호한 금속으로 이루어진다. 상기한 바와 같이 열전도층(124)이 도체(144)와 함께 제2 보호층(122) 위에 형성되는 경우에는, 열전도층(124)은 도체(144)와 같은 금속물질, 즉 알루미늄이나 알루미늄 합금 또는 금이나 은으로 이루어질 수 있다.The thermal conductive layer 124 is made of a metal having good thermal conductivity. As described above, when the thermal conductive layer 124 is formed on the second protective layer 122 together with the conductor 144, the thermal conductive layer 124 may be formed of a metal material such as the conductor 144, that is, aluminum or an aluminum alloy or the like. It can be made of gold or silver.
한편, 열전도층(124)을 도체(144)의 두께보다 두껍게 형성하고자 하거나, 도체(144)와는 다른 금속물질로 형성하고자 하는 경우에는, 도체(144)와 열전도층(124) 사이에 도시되지 않은 절연층이 더 마련될 수 있다.On the other hand, when the thermal conductive layer 124 is to be formed thicker than the thickness of the conductor 144, or to be formed of a metal material different from the conductor 144, not shown between the conductor 144 and the thermal conductive layer 124 An insulating layer may be further provided.
이러한 열전도층(124)을 통해 잉크가 토출된 후에 히터(142) 및 그 주변에 잔류하는 열이 기판(110)으로 보다 빨리 전도될 수 있다. 따라서, 잉크가 토출된 후에 보다 빠른 방열이 이루어지고 노즐(138) 주위의 온도가 낮아지게 되므로, 높은 구동주파수로 안정적인 인쇄가 가능하게 된다.After the ink is discharged through the heat conductive layer 124, the heat remaining in the heater 142 and the surroundings may be more quickly conducted to the substrate 110. Therefore, since the heat dissipation is faster after the ink is discharged and the temperature around the nozzle 138 is lowered, stable printing is possible at a high driving frequency.
상기 제3 보호층(126)은 상기 도체(144)와 제2 보호층(122) 위에 마련된다. 상기 제3 보호층(126)은 TEOS(Tetraethylorthosilicate) 산화물 또는 실리콘 산화물로 이루어질 수 있다.The third protective layer 126 is provided on the conductor 144 and the second protective layer 122. The third protective layer 126 may be made of tetraethylorthosilicate (TEOS) oxide or silicon oxide.
그리고, 도 5에 도시된 바와 같이, 노즐(138)의 가장자리에 잉크 챔버(132) 내부로 소정 길이 연장된 노즐 가이드(129)가 형성될 수 있다. 이와 같이, 노즐 가이드(129)가 마련되면 노즐(138)의 전체 길이가 보다 길어지게 되어, 노즐(138)을 통해 토출되는 잉크 액적의 직진성이 보다 향상되는 장점이 있다.5, the nozzle guide 129 extending a predetermined length into the ink chamber 132 may be formed at the edge of the nozzle 138. As such, when the nozzle guide 129 is provided, the total length of the nozzle 138 becomes longer, and thus the straightness of the ink droplets discharged through the nozzle 138 may be further improved.
상기한 바와 같은 구성을 가진 본 발명의 제1 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드에 있어서, 잉크 챔버로의 잉크의 공급은 다공성 매체로 이루어진 기판을 통해 이루어지게 된다. 이와 같은 다공성 기판을 통한 잉크의 공급은 잉크 액적의 토출 단계에서는 잉크가 역류하는 것을 억제하는 한편, 반대로 잉크의 리필 단계에서는 잉크가 잉크 챔버로 원활하게 유입되도록 한다. 그리고, 잉크 채널이 형성되지 않으므로 잉크에 포함된 불순물 입자에 의해 잉크 채널이 막히는 종래의 문제점이 근원적으로 해소될 수 있다. 또한, 종래의 잉크 채널을 가진 구조에서 발생되는 잉크 채널의 형상과 단면적에 관련된 제약 등을 근본적으로 피할 수 있는 장점이 있다.In the inkjet printhead according to the first embodiment of the present invention having the configuration as described above, the supply of ink to the ink chamber is made through a substrate made of a porous medium. Such supply of ink through the porous substrate suppresses back flow of ink in the ejection stage of the ink droplets, while conversely, ink flows smoothly into the ink chamber during the refilling stage of the ink. In addition, since the ink channel is not formed, the conventional problem of clogging the ink channel by impurity particles included in the ink can be fundamentally solved. In addition, there is an advantage that it is possible to fundamentally avoid the restrictions related to the shape and cross-sectional area of the ink channel generated in the structure having a conventional ink channel.
상기한 다공성 매체를 통한 잉크의 유동 특성을 아래의 수학식들과 도 6의 그래프 및 표 1을 통해 보다 상세하게 설명한다.The flow characteristics of the ink through the porous medium will be described in more detail through the following equations and the graph and table 1 of FIG. 6.
다공성 매체를 통한 잉크의 유동 저항은 아래 수학식 1로 표현될 수 있다.The flow resistance of the ink through the porous medium can be expressed by Equation 1 below.
위 수학식 1에서, K는 저항 계수(drag coefficient), u는 잉크의 유동 속도, Re는 레이놀즈 수를 나타내며, A와 B는 다공성 매체의 공극율과 공극의 크기 및 공극의 표면거칠기 등에 의해 정해지는 상수를 나타낸다.In Equation 1 above, K denotes a drag coefficient, u denotes a flow rate of ink, Re denotes Reynolds number, and A and B denote the porosity of the porous medium, the pore size, and the surface roughness of the pores. Represents a constant.
여기에서, 상기 레이놀즈 수(Re)는 아래 수학식 2로 표현되므로, 결국 수학식 1로 표현된 잉크의 유동 저항은 아래 수학식 3으로 표현될 수 있다.Herein, since the Reynolds number Re is represented by Equation 2 below, the flow resistance of the ink represented by Equation 1 may be represented by Equation 3 below.
위 수학식 2에서, ρ는 잉크의 밀도를 나타내고, μ는 잉크의 점도를 나타내며, d는 다공성 매체를 이루는 평균 입자나 파이버의 직경을 나타낸다.In Equation 2, ρ represents the density of the ink, μ represents the viscosity of the ink, d represents the diameter of the average particle or fiber constituting the porous medium.
위 수학식 3을 보면, 다공성 매체를 통한 잉크의 유동 저항은 잉크의 유동 속도 뿐만 아니라 속도의 제곱에도 비례한다는 것을 알 수 있다.Looking at Equation 3, it can be seen that the flow resistance of the ink through the porous medium is proportional to the square of the velocity as well as the flow rate of the ink.
도 6에는 다공성 매체를 통한 잉크 유동 특성을 설명하기 위한 그래프가 도시되어 있다. 이 그래프는 잉크의 유동 속도에 따른 유동 저항의 변화를 상기한 수학식 3을 이용하여 계산한 결과를 나타낸 것이다. 이 때, 공극율은 0.9, d는 1㎛, ρ는 1,000kg/㎡, μ는 2.3X10-3kg/ms로 가정하였다.6 is a graph illustrating the ink flow characteristics through a porous medium. This graph shows the result of calculating the change of the flow resistance according to the flow velocity of the ink using the above equation (3). In this case, the porosity is assumed to be 0.9, d is 1㎛, ρ is 1,000kg / ㎡, μ is 2.3X10 -3 kg / ms.
도 6의 그래프에서, L선은 위 수학식 3에서 잉크의 유동 속도에 비례하는 항을 계산한 결과이고, Q선은 속도의 제곱에 비례하는 항을 계산한 결과이며, T선은 상기 결과들을 합산한 결과이다.In the graph of Figure 6, L line is the result of calculating the terms proportional to the flow rate of the ink in the equation (3), Q line is the result of calculating the terms proportional to the square of the velocity, T line is the result It is the sum result.
전형적인 잉크젯 프린트헤드에서 버블의 팽창에 의한 잉크 액적의 토출 단계에서의 잉크의 유동 속도는 대략 10㎧ 이며, 버블의 수축에 이어지는 잉크의 리필 단계에서의 잉크의 유동 속도는 대략 0.1 ~ 1㎧ 이다. 따라서, 도 6의 그래프로부터 잉크 액적 토출시의 잉크의 역류에 대한 유동 저항은 잉크 리필 단계에서의 잉크의 유입에 대한 유동 저항에 비해 대략 20 내지 200배가 됨을 알 수 있다.In a typical inkjet printhead, the flow rate of the ink in the ejecting step of the ink droplets by the expansion of the bubble is approximately 10 kPa, and the flow rate of the ink in the refilling step of the ink following the shrinkage of the bubble is approximately 0.1-1 kPa. Accordingly, it can be seen from the graph of FIG. 6 that the flow resistance to the reverse flow of ink at the time of ink droplet ejection is approximately 20 to 200 times compared to the flow resistance to the inflow of ink in the ink refilling step.
이와 같이, 본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드에서 버블의 팽창에 의해 발생되는 초기의 큰 속도에서는 상대적으로 유동 저항이 크게 증가하게 되어 매니폴드 방향으로의 잉크가 역류되는 현상을 효과적으로 억제할 수 있고, 버블의 수축과 함께 이어지는 잉크의 리필 단계에서는 잉크의 유동 속도가 작아서 유동 저항 또한 작아지게 되어 잉크의 리필이 원활하게 이루어지게 된다.As described above, at the initial large velocity generated by the expansion of the bubble in the inkjet printhead according to the present invention, the flow resistance is increased relatively to effectively suppress the phenomenon of backflow of ink in the manifold direction, and In the refilling step of the ink which is followed by the shrinkage of the ink, the flow rate of the ink is small, so that the flow resistance is also reduced, so that the refilling of the ink is performed smoothly.
아래 표 1은 다공성 매체의 물성에 따른 잉크의 토출 성능을 수치해석한 결과를 나타낸 것이다.Table 1 below shows the numerical results of the ejection performance of the ink according to the properties of the porous medium.
상기 표 1에 나타내어진 바와 같이, 적절한 물성을 갖는 다공성 매체를 선택하고 다공성 구조물의 배치와 크기 등을 적절히 조절하게 되면, 잉크 액적 토출 단계에서의 역류 현상과 잉크 리필 단계에서의 잉크 유입과 관련된 잉크의 유동 임피던스를 능동적으로 제어할 수 있으며, 결과적으로 원하는 토출 성능을 가진 프린트헤드를 구현할 수 있게 된다.As shown in Table 1 above, selecting a porous medium having appropriate physical properties and appropriately adjusting the arrangement and size of the porous structure, the ink associated with the backflow phenomenon in the ink droplet ejection step and the ink inflow in the ink refill step It is possible to actively control the floating impedance of, resulting in a printhead having the desired discharge performance.
도 7 내지 도 11은 본 발명의 제 2 내지 제 6 실시예들을 도시한 수직 단면도들이다. 여기에서, 도 5에 표시된 참조부호와 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 가리킨다.7 to 11 are vertical cross-sectional views showing second to sixth embodiments of the present invention. Here, the same reference numerals as the reference numerals shown in FIG. 5 indicate the same components.
도 7을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드는, 도 5에 도시된 기본 구조에 금속으로 이루어진 열발산층(228)을 더 구비한 구조를 가진다. 즉, 다공성 기판(110) 상에 형성되는 노즐 플레이트(220)는 제1 및 제2 보호층(121, 122)과, 열전도층(124)과, 제3 보호층(126)과, 금속으로 이루어진 열발산층(228)을 포함한다.Referring to FIG. 7, the inkjet printhead according to the second embodiment of the present invention has a structure further including a heat dissipation layer 228 made of metal in the basic structure shown in FIG. 5. That is, the nozzle plate 220 formed on the porous substrate 110 is formed of the first and second protective layers 121 and 122, the thermal conductive layer 124, the third protective layer 126, and the metal. And a heat dissipation layer 228.
상기 제1, 제2, 제3 보호층(121, 122, 126)과, 열전도층(124) 및 이들 사이에 마련되는 히터(142)와 도체(144)는 전술한 제1 실시예에서와 동일하므로 그 설명은 생략한다. 다만, 상기 열전도층(124)의 상면에는 후술하는 열발산층(228)과의 접촉을 위해 상기 제3 보호층(126)을 가능한 한 형성하지 않는 것이 바람직하다.The first, second, and third protective layers 121, 122, and 126, the thermal conductive layer 124, and the heater 142 and the conductor 144 provided therebetween are the same as in the first embodiment described above. Therefore, the description is omitted. However, it is preferable that the third protective layer 126 is not formed as much as possible on the upper surface of the heat conductive layer 124 for contact with the heat dissipating layer 228 which will be described later.
상기 열발산층(228)은 노즐 플레이트(220)를 이루는 다수의 물질층 중에서 최상부의 물질층이다. 상기 열발산층(228)은 열전도성이 양호한 금속물질, 예컨대 니켈, 구리 또는 금과 같은 금속으로 이루어진다. 열발산층(228)은 제3 보호층(126)과 열전도층(124) 위에 상기 금속물질을 전기도금함으로써 10 ~ 100㎛ 정도의 비교적 두꺼운 두께로 형성된다. 이를 위해, 제3 보호층(126)과 열전도층(124) 위에는 상기 금속물질의 전기도금을 위한 시드층(seed layer, 227)이 마련된다. 상기 시드층(227)은 구리, 크롬, 티타늄, 금 또는 니켈 등의 전기 전도성이 양호한 금속으로 이루어질 수 있다.The heat dissipation layer 228 is a top material layer of the plurality of material layers constituting the nozzle plate 220. The heat dissipation layer 228 is a metal material having good thermal conductivity, such as Made of metals such as nickel, copper or gold. The heat dissipation layer 228 is formed to a relatively thick thickness of about 10 to 100 μm by electroplating the metal material on the third protective layer 126 and the heat conductive layer 124. To this end, a seed layer 227 for electroplating the metal material is provided on the third protective layer 126 and the thermal conductive layer 124. The seed layer 227 may be made of a metal having good electrical conductivity such as copper, chromium, titanium, gold, or nickel.
이와 같이, 금속으로 이루어진 열발산층(228)은 도금 공정에 의해 형성되므로, 잉크젯 프린트헤드의 다른 구성요소들과 일체로 형성될 수 있으며, 또한 비교적 두꺼운 두께로 형성될 수 있으므로 효과적인 방열이 이루어질 수 있다.As such, since the heat dissipation layer 228 made of metal is formed by a plating process, the heat dissipation layer 228 may be formed integrally with other components of the inkjet printhead, and may also be formed with a relatively thick thickness, so that effective heat dissipation may be achieved. have.
이러한 열발산층(228)은 히터(142) 및 그 주변의 열을 외부로 발산하는 기능을 한다. 즉, 잉크가 토출된 후에 히터(142) 및 그 주변에 잔류하는 열은 열전도층(124)을 통해 기판(110) 및 열발산층(228)으로 전도되어 외부로 발산된다. 따라서, 잉크가 토출된 후에 보다 빠른 방열이 이루어지고 노즐(238) 주위의 온도가 낮아지게 되므로, 높은 구동주파수로 안정적인 인쇄가 가능하게 된다.The heat dissipation layer 228 functions to dissipate heat to the outside of the heater 142 and the surroundings thereof. That is, after the ink is discharged, the heat remaining in the heater 142 and its surroundings is conducted to the substrate 110 and the heat dissipating layer 228 through the heat conductive layer 124 and is emitted to the outside. Therefore, since the heat dissipation is faster after the ink is discharged and the temperature around the nozzle 238 is lowered, stable printing is possible at a high driving frequency.
그리고, 노즐 플레이트(220)의 제1, 제2 및 제3 보호층(121, 122, 126)에는 노즐(238)의 하부(238a)가 기둥 형상으로 형성된다. 그리고, 열발산층(228)에는 노즐(238)의 상부(238b)가 형성되는데, 이 상부 노즐(238b)의 형상은 출구쪽으로 갈수록 단면적이 작아지는 테이퍼 형상으로 되어 있다.A lower portion 238a of the nozzle 238 is formed in a columnar shape in the first, second, and third protective layers 121, 122, and 126 of the nozzle plate 220. The upper portion 238b of the nozzle 238 is formed in the heat dissipating layer 228, and the upper nozzle 238b has a tapered shape in which the cross-sectional area decreases toward the outlet side.
상기한 바와 같이, 상부 노즐(238b)의 형상이 테이퍼 형상으로 된 경우에는, 잉크의 토출 후 잉크 표면의 메니스커스가 보다 빨리 안정되는 장점이 있다.As described above, when the shape of the upper nozzle 238b is tapered, there is an advantage that the meniscus on the surface of the ink is stabilized more quickly after the ejection of the ink.
도 8에 도시된 본 발명의 제3 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드는, 도 7에 도시된 구조에 노즐 가이드(229)를 더 구비한 구조를 가진다. 구체적으로, 하부 노즐(238a)의 가장자리에는 잉크 챔버(132) 내부로 소정 길이 연장된 노즐 가이드(229)가 형성된다. 따라서, 하부 노즐(238a)은 노즐 가이드(229)에 의해 그 길이가 보다 길어지게 되어, 이를 통해 토출되는 잉크 액적의 직진성이 보다 향상될 수있다.The inkjet printhead according to the third embodiment of the present invention shown in FIG. 8 has a structure further including a nozzle guide 229 in the structure shown in FIG. Specifically, a nozzle guide 229 extending a predetermined length into the ink chamber 132 is formed at the edge of the lower nozzle 238a. Therefore, the length of the lower nozzle 238a is longer by the nozzle guide 229, so that the straightness of the ink droplets discharged through the nozzle guide 229 can be further improved.
도 9에 도시된 본 발명의 제4 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드는, 도 7에 도시된 구조에서 상부 노즐(338b)의 형상이 테이퍼 형상에서 기둥 형상으로 변경된 구조를 가진다. 구체적으로, 노즐 플레이트(320)에 형성된 노즐(338)은, 제1, 제2및 제3 보호층(121, 122, 126)에 형성된 기둥 형상의 하부 노즐(338a)과, 열발산층(328)에 형성된 기둥 형상의 상부 노즐(338b)로 이루어진다. 그리고, 도 9에 도시된 프린트헤드의 하부 노즐(338a)에도 도 8에 도시된 바와 같이 노즐 가이드가 마련될 수 있다.The inkjet printhead according to the fourth embodiment of the present invention shown in FIG. 9 has a structure in which the shape of the upper nozzle 338b is changed from tapered to columnar in the structure shown in FIG. Specifically, the nozzle 338 formed on the nozzle plate 320 includes a columnar lower nozzle 338a formed on the first, second and third protective layers 121, 122, and 126, and the heat dissipation layer 328. It consists of a columnar upper nozzle (338b) formed in the). In addition, a nozzle guide may be provided in the lower nozzle 338a of the printhead illustrated in FIG. 9 as illustrated in FIG. 8.
도 10에 도시된 본 발명의 제5 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드는, 도 7에 도시된 것과 동일한 노즐 플레이트(220)를 구비한다. 다만, 노즐 플레이트(220) 아래의 기판(510)은 매니폴드(536)가 형성된 제1 기판(511)과 잉크 챔버(532)가 형성된 제2 기판(512)이 적층된 구조를 가진다. 여기에서, 상기 제1 기판(511)은 잉크가 통과할 수 있도록 전술한 실시예들에서와 같이 다공성 매체, 예컨대 다공성 실리콘 기판이나 소결성형된 금속 플레이트로 이루어진다. 반면에, 제2 기판(512)은 다공성이 아닌 실리콘 기판 또는 금속 플레이트 등으로 이루어질 수 있다. 그리고, 상기 잉크 챔버(532)는 제2 기판(512)을 관통하도록 형성되며, 이에 따라 제1 기판(511)이 잉크 챔버(532)의 바닥을 형성하게 된다. 따라서, 다공성 매체로 이루어진 제1 기판(511)을 통해 잉크가 잉크 챔버(532) 내로 공급될 수 있다. 또한, 잉크 챔버(532)는 반구형이 아니라 기둥 형상으로 형성될 수도 있다. 이와 같은 제1 기판(511)과 제2 기판(512)은 그들 사이에 갭이 존재하지 않도록 잘 알려져 있는 SDB(Silicon Direct Bonding)법에 의해 접합될 수 있다.The inkjet printhead according to the fifth embodiment of the present invention shown in FIG. 10 has the same nozzle plate 220 as shown in FIG. However, the substrate 510 under the nozzle plate 220 has a structure in which the first substrate 511 on which the manifold 536 is formed and the second substrate 512 on which the ink chamber 532 is formed are stacked. Here, the first substrate 511 is made of a porous medium, such as a porous silicon substrate or a sintered metal plate, as in the above embodiments so that ink can pass therethrough. On the other hand, the second substrate 512 may be formed of a silicon substrate or a metal plate, which is not porous. The ink chamber 532 is formed to penetrate the second substrate 512, so that the first substrate 511 forms the bottom of the ink chamber 532. Therefore, ink may be supplied into the ink chamber 532 through the first substrate 511 made of a porous medium. In addition, the ink chamber 532 may be formed in a columnar shape instead of a hemispherical shape. The first substrate 511 and the second substrate 512 may be bonded by a well-known silicon direct bonding (SDB) method so that a gap does not exist between them.
한편, 도 11에 도시된 본 발명의 제6 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드는, 도 10에 도시된 구조와 유사하나 노즐 플레이트(220)를 지지하는 기판(610)을 구성하는 제1 기판(611)과 제2 기판(612)이 소정의 갭(G)을 두고 적층되어 있는 점에서차이가 있다. 상기 제1 기판(611)은 전술한 바와 같이 다공성 매체로 이루어지고, 그 저면쪽에는 매니폴드(636)가 형성된다. 상기 제2 기판(612)은 다공성이 아닌 실리콘 기판 또는 금속 플레이트 등으로 이루어지며, 잉크 챔버(632)가 관통되어 형성된다. 또한, 잉크 챔버(632)는 반구형이 아니라 기둥 형상으로 형성될 수도 있다. 이와 같은 제1 기판(611)과 제2 기판(612)은 접착제(613)에 의해 소정의 갭(G)을 두고 접합되며, 상기 접착제(613)는 잉크 챔버(632) 둘레에 다수개가 단속적으로 배치된다. 따라서, 잉크는 제1 기판(611)을 통해서뿐만 아니라 제1 기판(611)과 제2 기판(612) 사이의 갭(G)을 통해서도 잉크 챔버(632) 내로 공급될 수 있다. 따라서, 잉크의 리필 속도가 보다 빨라질 수 있다.Meanwhile, the inkjet printhead according to the sixth embodiment of the present invention shown in FIG. 11 is similar to the structure shown in FIG. 10, but includes a first substrate 611 constituting a substrate 610 supporting the nozzle plate 220. ) And the second substrate 612 differ in that they are stacked with a predetermined gap G. As described above, the first substrate 611 is made of a porous medium, and a manifold 636 is formed at a bottom thereof. The second substrate 612 is formed of a silicon substrate or a metal plate, which is not porous, and is formed through the ink chamber 632. In addition, the ink chamber 632 may be formed in a columnar shape instead of a hemispherical shape. The first and second substrates 611 and 612 are bonded to each other with a predetermined gap G by an adhesive 613, and a plurality of adhesives 613 are intermittently interposed around the ink chamber 632. Is placed. Accordingly, ink may be supplied into the ink chamber 632 not only through the first substrate 611 but also through the gap G between the first substrate 611 and the second substrate 612. Thus, the refilling speed of the ink can be faster.
이하에서는 도 12a 내지 12c를 참조하며 본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드에서 잉크가 토출되는 메카니즘을 설명하기로 한다. 아래에서 잉크 토출 메카니즘은 도 7에 도시된 제2 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드를 기준으로 설명된다.Hereinafter, referring to FIGS. 12A to 12C, a mechanism of discharging ink from an inkjet printhead according to the present invention will be described. The ink ejection mechanism is described below with reference to the inkjet printhead according to the second embodiment shown in FIG.
먼저 도 12a를 참조하면, 잉크 챔버(132)와 노즐(238) 내부에 잉크(150)가 채워진 상태에서, 도체(144)을 통해 히터(142)에 펄스 형태의 전류가 인가되면 히터(142)에서 열이 발생된다. 발생된 열은 히터(142) 아래의 제1 보호층(121)을 통해 잉크 챔버(132) 내부의 잉크(150)로 전달되고, 이에 따라 잉크(150)가 비등하여 버블(160)이 생성된다. 생성된 버블(160)은 계속적인 열의 공급에 따라 팽창하게 되고, 이에 따라 노즐(238) 내부의 잉크(150)는 노즐(238) 밖으로 밀려나가게 된다. 이 때, 버블(160)의 팽창에 의한 고압은 고속의 잉크 유동을 발생시켜 잉크(150)를 노즐(238)쪽 뿐만 아니라 매니폴드(136)쪽으로도 역류시키지만, 전술한 바와 같이 다공성 기판(110) 내에서의 큰 유동 저항으로 인해 이러한 역류 현상은 억제된다.First, referring to FIG. 12A, when the ink 150 is filled in the ink chamber 132 and the nozzle 238, a current in the form of a pulse is applied to the heater 142 through the conductor 144. Heat is generated. The generated heat is transferred to the ink 150 inside the ink chamber 132 through the first protective layer 121 under the heater 142, whereby the ink 150 is boiled to generate bubbles 160. . The generated bubble 160 expands with a continuous supply of heat, so that ink 150 inside the nozzle 238 is pushed out of the nozzle 238. At this time, the high pressure by the expansion of the bubble 160 generates a high-speed ink flow to flow back the ink 150 not only toward the nozzle 238 but also toward the manifold 136, as described above, the porous substrate 110 This backflow phenomenon is suppressed due to the large flow resistance in.
이어서, 도 12b를 참조하면, 버블(160)이 최대로 팽창된 시점에서 인가했던 전류를 차단하면, 버블(160)은 수축하여 소멸된다. 이 때, 잉크 챔버(132) 내에는 부압이 걸리게 되어 노즐(238) 내부의 잉크(150)는 다시 잉크 챔버(132) 쪽으로 되돌아 오게 된다. 이와 동시에 노즐(238) 밖으로 밀려 나갔던 부분은 관성력에 의해 액적(150')의 형태로 노즐(238) 내부의 잉크(150)와 분리되어 토출된다.Subsequently, referring to FIG. 12B, when the current applied at the time when the bubble 160 is inflated is blocked, the bubble 160 contracts and disappears. At this time, negative pressure is applied to the ink chamber 132 so that the ink 150 inside the nozzle 238 is returned to the ink chamber 132 again. At the same time, the portion pushed out of the nozzle 238 is separated from the ink 150 inside the nozzle 238 by the inertia force and is discharged.
잉크 액적(150')이 분리된 후 노즐(238) 내부에 형성되는 잉크(150) 표면의 메니스커스는 잉크 챔버(132)쪽으로 후퇴하게 된다. 이 때, 본 발명에서는 두꺼운 노즐 플레이트(220)에 의해 충분히 긴 노즐(238)이 형성되어 있으므로, 메니스커스의 후퇴는 노즐(238) 내에서만 이루어지게 되고 잉크 챔버(132) 내에까지 후퇴하지 않는다. 따라서, 잉크 챔버(132) 내부로 외기가 유입되는 것이 방지되며, 메니스커스의 초기 상태로의 복귀도 빨라지게 되어 잉크 액적(150')의 고속 토출을 안정적으로 유지할 수 있다. 그리고, 버블(160)의 수축과 함께 다공성 기판(110)을 통해 매니폴드(136)로부터 잉크 챔버(132)쪽으로의 잉크의 유동이 시작되며, 이 때에는 상대적으로 저속의 유동이 되어 다공성 기판(110) 내에서의 유동 저항 또한 작아지게 되고, 이에 따라 잉크의 유입 유동은 원활하게 이루어진다. 또한, 이 과정에서는 잉크 액적(150')의 토출 후 히터(142)와 그 주변에 잔류된 열이 열전도층(124)과 열발산층(228)을 통해 전도되어 기판(110) 또는 외부로 발산되므로, 히터(142)와 노즐(238) 및 그 주변의 온도가 보다 빠르게 낮아지게 된다.After the ink droplets 150 'are separated, the meniscus on the surface of the ink 150 formed inside the nozzle 238 is retracted toward the ink chamber 132. At this time, in the present invention, since the nozzle 238 sufficiently long is formed by the thick nozzle plate 220, the meniscus retreats only in the nozzle 238 and does not retreat into the ink chamber 132. . Therefore, outside air is prevented from entering into the ink chamber 132, and the return to the initial state of the meniscus is also accelerated, so that high-speed discharge of the ink droplet 150 ′ can be stably maintained. Then, with the contraction of the bubble 160, the flow of ink from the manifold 136 toward the ink chamber 132 is started through the porous substrate 110, and at this time, the porous substrate 110 becomes a relatively low-speed flow. The flow resistance in) also becomes small, so that the inflow of ink is smooth. In this process, after the ink droplets 150 'are discharged, the heat remaining in the heater 142 and the periphery thereof is conducted through the heat conducting layer 124 and the heat dissipating layer 228 to dissipate to the substrate 110 or to the outside. Therefore, the temperature of the heater 142 and the nozzle 238 and the surroundings are lowered more quickly.
다음으로 도 12c를 참조하면, 잉크 챔버(132) 내부의 부압이 사라지게 되면, 노즐(238) 내부에 형성되어 있는 메니스커스에 작용하는 표면장력에 의해 잉크(150)는 다시 노즐(238)의 출구 단부쪽으로 상승하게 된다. 이 때, 노즐(238)의 상부(238a)가 테이퍼 형상으로 된 경우에는, 잉크(150)의 상승 속도가 보다 빨라지게 되는 장점이 있다. 이에 따라 잉크 챔버(132) 내부는 다공성 기판(110)을 통해 공급되는 잉크(150)로 다시 채워진다. 이 때에도 상기한 바와 같이 상대적으로 저속 유동이 유지되므로 다공성 기판(110)에서의 유동 저항이 작아서 잉크(150)의 리필이 빠르게 이루어질 수 있다. 잉크(150)의 리필이 완료되어 초기상태로 복귀하게 되면, 상기한 과정이 반복된다. 또한, 이 과정에서도 열전도층(124) 및 열발산층(228)을 통해 방열이 이루어지게 되어 열적으로도 초기상태로의 복귀가 보다 빨리 이루어질 수 있다.Next, referring to FIG. 12C, when the negative pressure inside the ink chamber 132 disappears, the ink 150 may again be discharged by the surface tension acting on the meniscus formed in the nozzle 238. It rises toward the outlet end. At this time, when the upper portion 238a of the nozzle 238 has a tapered shape, there is an advantage that the rising speed of the ink 150 becomes faster. Accordingly, the inside of the ink chamber 132 is filled again with the ink 150 supplied through the porous substrate 110. In this case, since the relatively low-speed flow is maintained as described above, the flow resistance in the porous substrate 110 is small, so that the ink 150 may be refilled quickly. When the refilling of the ink 150 is completed and returned to the initial state, the above process is repeated. In this process, heat dissipation is performed through the heat conduction layer 124 and the heat dissipation layer 228, and thermally, the return to the initial state can be made faster.
이하에서는 상기한 바와 같은 구조를 가진 본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드의 바람직한 제조방법을 설명하기로 한다.Hereinafter, a preferred manufacturing method of the inkjet printhead according to the present invention having the structure as described above will be described.
도 13 내지 도 18은 도 5에 도시된 본 발명의 제1 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드의 바람직한 제조방법을 단계적으로 설명하기 위한 단면도들이다.13 to 18 are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing an inkjet printhead according to a first embodiment of the present invention shown in FIG. 5 step by step.
먼저, 도 13을 참조하면, 본 실시예에서 기판(110)으로는 다공성 매체, 예컨대 다공성 실리콘 기판을 대략 300 ~ 500㎛ 정도의 두께로 가공하여 사용한다.First, referring to FIG. 13, in the present embodiment, the substrate 110 is used by processing a porous medium such as a porous silicon substrate to a thickness of about 300 to 500 μm.
한편, 도 13에 도시된 것은 실리콘 웨이퍼의 극히 일부를 도시한 것으로서, 본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드는 하나의 웨이퍼에서 수십 내지 수백개의 칩 상태로 제조될 수 있다.On the other hand, as shown in Figure 13 shows a very small portion of the silicon wafer, the inkjet printhead according to the present invention can be manufactured in a state of tens to hundreds of chips on one wafer.
그리고, 준비된 다공성 기판(110)의 상면에 제1 보호층(121)을 형성한다. 상기 제1 보호층(121)은 기판(110)의 상면에 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물을 증착함으로써 이루어질 수 있다.Then, the first protective layer 121 is formed on the prepared upper surface of the porous substrate 110. The first protective layer 121 may be formed by depositing silicon oxide or silicon nitride on the upper surface of the substrate 110.
이어서, 기판(110)의 상면에 형성된 제1 보호층(121) 위에 히터(142)를 형성한다. 상기 히터(142)는 제1 보호층(121)의 전표면에 불순물이 도핑된 폴리 실리콘, 탄탈륨-알루미늄 합금, 탄탈륨 질화물(tantalum nitride), 티타늄 질화물(titanium nitride) 또는 텅스텐 실리사이드(tungsten silicide)등의 저항 발열체를 소정 두께로 증착한 다음 이를 패터닝함으로써 형성될 수 있다. 구체적으로, 폴리 실리콘은 불순물로서 예컨대 인(P)의 소스가스와 함께 저압 화학기상증착법(LPCVD; Low pressure chemical vapor deposition)에 의해 대략 0.7 ~ 1㎛ 두께로 증착될 수 있으며, 탄탈륨-알루미늄 합금, 탄탈륨 질화물(tantalum nitride), 티타늄 질화물(titanium nitride) 또는 텅스텐 실리사이드(tungsten silicide)는 스퍼터링(sputtering)이나 화학기상증착법(CVD; Chemical vapor deposition) 등에 의해 대략 0.1 ~ 0.3㎛ 두께로 증착될 수 있다. 이 저항 발열체의 증착 두께는, 히터(142)의 폭과 길이를 고려하여 적정한 저항값을 가지도록 다른 범위로 할 수도 있다. 제1 보호층(121)의 전표면에 증착된 저항 발열체는, 포토마스크와 포토레지스트를 이용한 사진공정과 포토레지스트 패턴을 식각마스크로 하여 식각하는 식각공정에 의해 패터닝될 수 있다.Subsequently, the heater 142 is formed on the first protective layer 121 formed on the upper surface of the substrate 110. The heater 142 may be polysilicon, tantalum-aluminum alloy, tantalum nitride, titanium nitride, tungsten silicide, or the like doped with impurities on the entire surface of the first protective layer 121. It can be formed by depositing a resistance heating element of a predetermined thickness and then patterning it. Specifically, polysilicon may be deposited to a thickness of about 0.7 to 1 μm by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) with a source gas of phosphorus (P) as an impurity, for example, a tantalum-aluminum alloy, Tantalum nitride, titanium nitride, or tungsten silicide may be deposited to a thickness of about 0.1 μm to about 0.3 μm by sputtering, chemical vapor deposition (CVD), or the like. The deposition thickness of the resistance heating element may be set in another range so as to have an appropriate resistance value in consideration of the width and length of the heater 142. The resistive heating element deposited on the entire surface of the first protective layer 121 may be patterned by an etching process of etching using a photomask and a photoresist pattern as an etching mask.
다음으로, 도 14에 도시된 바와 같이, 제1 보호층(121)과 히터(142)의 상면에 제2 보호층(122)을 형성한다. 구체적으로, 제2 보호층(122)은 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물을 대략 0.5 ~ 3㎛ 두께로 증착함으로써 이루어질 수 있다. 이어서, 제2 보호층(122)을 부분적으로 식각하여 히터(142)의 일부분, 즉 도 15의 단계에서 도체(144)와 접속될 부분을 노출시키는 제1 컨택홀(C1)을 형성하고, 제2 보호층(122)과 제1 보호층(121)을 순차적으로 식각하여 기판(110)의 일부분, 즉 도 15의 단계에서 열전도층(124)과 접촉될 부분을 노출시키는 제2 컨택홀(C2)를 형성한다. 상기 제1 및 제2 컨택홀(C1, C2)의 형성은 동시에 이루어질 수 있다.Next, as shown in FIG. 14, the second protective layer 122 is formed on the upper surfaces of the first protective layer 121 and the heater 142. Specifically, the second protective layer 122 may be formed by depositing silicon oxide or silicon nitride to a thickness of about 0.5 to 3 μm. Subsequently, the second protective layer 122 is partially etched to form a first contact hole C 1 exposing a part of the heater 142, that is, a part to be connected to the conductor 144 in the step of FIG. 15, The second contact hole exposing the second protective layer 122 and the first protective layer 121 sequentially to expose a portion of the substrate 110, that is, a portion to be in contact with the thermal conductive layer 124 in the step of FIG. 15. C 2 ). The first and second contact holes C 1 and C 2 may be simultaneously formed.
도 15는 제2 보호층(122)의 상면에 도체(144)와 열전도층(124)을 형성한 상태를 도시한 도면이다. 구체적으로, 도체(144)와 열전도층(124)은 전기 및 열 전도성이 좋은 금속, 예컨대 알루미늄이나 알루미늄 합금 또는 금이나 은을 스퍼터링에 의해 대략 1㎛ 두께로 증착하고 이를 패터닝함으로써 동시에 형성될 수 있다. 이 때, 도체(144)와 열전도층(124)은 서로 절연되도록 형성된다. 그러면, 도체(144)는 제1 컨택홀(C1)을 통해 히터(142)와 접속되며, 열전도층(124)은 제2 컨택홀(C2)을 통해 기판(110)과 접촉된다.FIG. 15 illustrates a state in which the conductor 144 and the thermal conductive layer 124 are formed on the upper surface of the second protective layer 122. Specifically, the conductor 144 and the thermal conductive layer 124 may be formed simultaneously by depositing and patterning a metal having good electrical and thermal conductivity, such as aluminum or an aluminum alloy, or gold or silver, by sputtering to a thickness of about 1 μm. . At this time, the conductor 144 and the thermal conductive layer 124 are formed to be insulated from each other. Then, the conductor 144 is connected to the heater 142 through the first contact hole C 1 , and the thermal conductive layer 124 is in contact with the substrate 110 through the second contact hole C 2 .
한편, 열전도층(124)의 두께를 도체(144)의 두께보다 두껍게 하고자 하거나 열전도층(124)을 이루는 금속물질을 도체(144)와는 다른 금속으로 하고자 하는 경우, 또는 도체(144)와 열전도층(124)을 보다 확실하게 절연시키고자 하는 경우에는, 도체(144)를 먼저 형성한 후에 열전도층(124)을 형성할 수 있다. 보다 상세하게 설명하면, 도 14의 단계에서 제1 컨택홀(C1)만 형성하여 도체(144)만 형성한 후, 도체(144)와 제2 보호층(122) 위에 절연층(미도시)을 형성한다. 절연층도 제2 보호층(122)과 동일한 물질로 동일한 방법에 의해 형성될 수 있다. 이어서, 절연층과 제2 및 제1 보호층(122, 121)을 순차적으로 식각하여 제2 콘택홀(C2)을 형성한다. 그리고, 열전도층(124)을 상기한 방법과 동일한 방법으로 형성한다. 그러면, 도체(144)와 열전도층(124) 사이에 절연층이 개재된다.On the other hand, when the thickness of the heat conductive layer 124 is to be thicker than the thickness of the conductor 144 or the metal material forming the heat conductive layer 124 is to be a different metal from the conductor 144, or the conductor 144 and the heat conductive layer In the case where the 124 is to be insulated more reliably, the conductor 144 can be formed first, and then the heat conductive layer 124 can be formed. In more detail, in the step of FIG. 14, only the first contact hole C 1 is formed to form only the conductor 144, and then an insulating layer (not shown) is formed on the conductor 144 and the second protective layer 122. To form. The insulating layer may also be formed of the same material as the second protective layer 122 by the same method. Subsequently, the insulating layer and the second and first protective layers 122 and 121 are sequentially etched to form a second contact hole C 2 . Then, the thermal conductive layer 124 is formed by the same method as described above. Then, an insulating layer is interposed between the conductor 144 and the heat conductive layer 124.
이어서, 도 16에 도시된 바와 같이, 히터(142)의 안쪽 경계를 벗어나지 않는 단면 형상으로 제2 보호층(122) 및 제1 보호층(121)을 반응성이온식각법(RIE; Reactive ion etching)에 의해 이방성 식각하고, 이어서 기판(110)을 동일한 방법으로 이방성 식각하여 소정 깊이의 홀(129')을 형성한다.Subsequently, as illustrated in FIG. 16, the second protective layer 122 and the first protective layer 121 may be reactive ion etching (RIE) in a cross-sectional shape without departing from the inner boundary of the heater 142. Anisotropic etching is performed, and then the substrate 110 is anisotropically etched in the same manner to form holes 129 'having a predetermined depth.
다음으로, 도 17에 도시된 바와 같이, 도 16의 결과물 전표면에 제3 보호층(126)을 형성한다. 제3 보호층(126)은 예컨대, TEOS 산화물을 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)에 의해 대략 0.7 ~ 3㎛ 정도의 두께로 증착함으로써 이루어질 수 있다. 이 때, 상기 홀(129') 내면에 증착되는 TEOS 산화물은 노즐 가이드(129)를 이루게 된다. 이어서, 홀(129') 바닥 부위의 제3 보호층(126)을 식각하여 기판(110)을 노출시킨다.Next, as shown in FIG. 17, a third protective layer 126 is formed on the entire surface of the resultant product of FIG. 16. The third protective layer 126 may be formed by, for example, depositing TEOS oxide to a thickness of about 0.7 to 3 μm by plasma chemical vapor deposition (PECVD). At this time, the TEOS oxide deposited on the inner surface of the hole 129 'forms the nozzle guide 129. Subsequently, the third protective layer 126 at the bottom of the hole 129 'is etched to expose the substrate 110.
한편, 상기 제3 보호층(126)까지 형성한 후에 상기 홀(129')을 형성할 수도 있다. 이 경우에는, 노즐 가이드(129)를 형성하기 위해 상기 홀(129') 내면과 제3 보호층(126) 위에 또 하나의 물질층을 증착하게 된다.The hole 129 ′ may be formed after the third protective layer 126 is formed. In this case, another material layer is deposited on the inner surface of the hole 129 ′ and the third protective layer 126 to form the nozzle guide 129.
또 한편, 상기 노즐 가이드(129)를 형성하지 않는 경우에는, 도 15의 단계 후에 제3 보호층(126)을 형성한다. 이어서, 제3, 제2 및 제1 보호층(126, 122, 121)을 순차적으로 식각하여 노즐(138)을 형성한 다음 도 18에 도시된 단계를 거치게 된다.In addition, when the nozzle guide 129 is not formed, the third protective layer 126 is formed after the step of FIG. 15. Subsequently, the third, second and first protective layers 126, 122, and 121 are sequentially etched to form the nozzle 138, and then the steps shown in FIG. 18 are performed.
도 18은 기판(110)의 표면쪽에 소정 깊이의 잉크 챔버(132)를 형성하고, 기판(110)의 배면쪽에는 매니폴드(136)를 형성한 상태를 도시한 것이다. 잉크 챔버(132)는 노즐(138)에 의해 노출된 다공성 기판(110)을 등방성 식각함으로써 형성할 수 있다. 구체적으로, XeF2가스 또는 BrF3가스를 식각가스로 사용하여 기판(110)을 소정 시간 동안 건식식각한다. 그러면 도시된 바와 같이, 소정의 깊이와 반경을 가진 잉크 챔버(132)가 형성된다. 그리고, 다공성 기판(110)의 배면을 식각하여 매니폴드(136)를 형성한다. 구체적으로, 기판(110)의 배면에 식각될 영역을 한정하는 식각마스크를 형성한 후, 기판(110)의 배면을 에칭액으로 TMAH(Tetramethyl Ammonium Hydroxide) 또는 수산화칼륨(KOH; potassium hydroxide)을 사용하여 습식식각하면, 도시된 바와 같이 측면이 경사진 매니폴드(136)가 형성된다. 한편, 매니폴드(136)는 기판(110)의 배면을 이방성 건식식각함으로써 형성될 수도 있다.FIG. 18 illustrates a state in which an ink chamber 132 having a predetermined depth is formed on the surface side of the substrate 110, and a manifold 136 is formed on the back side of the substrate 110. The ink chamber 132 may be formed by isotropic etching of the porous substrate 110 exposed by the nozzle 138. Specifically, the substrate 110 is dry-etched for a predetermined time using XeF 2 gas or BrF 3 gas as an etching gas. Then, as shown, an ink chamber 132 having a predetermined depth and radius is formed. The back surface of the porous substrate 110 is etched to form the manifold 136. Specifically, after forming an etching mask defining a region to be etched on the back of the substrate 110, using a tetramethyl Ammonium Hydroxide (TMAH) or potassium hydroxide (KOH) as an etching solution on the back of the substrate 110 When wet etched, a side sloping manifold 136 is formed as shown. Meanwhile, the manifold 136 may be formed by anisotropic dry etching the back surface of the substrate 110.
상기한 단계들을 거치게 되면, 도 18에 도시된 바와 같이 다공성 기판(110) 상에 구현된 본 발명의 제1 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드가 완성된다.After the above steps, the inkjet printhead according to the first embodiment of the present invention implemented on the porous substrate 110 is completed as shown in FIG. 18.
도 19 내지 도 25는 도 7에 도시된 본 발명의 제2 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드의 바람직한 제조방법을 단계적으로 설명하기 위한 단면도들이다. 그리고, 도 8 및 도 9에 도시된 본 발명의 제3 및 제4 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드의 제조방법도 이하에서 설명되는 제조방법과 유사하므로, 차이점에 대해서만 간략하게 설명한다.19 to 25 are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing an inkjet printhead according to a second embodiment of the present invention shown in FIG. In addition, since the manufacturing method of the inkjet printhead according to the third and fourth embodiments of the present invention shown in FIGS. 8 and 9 is similar to the manufacturing method described below, only the differences will be briefly described.
먼저, 도 13 내지 도 15에 도시된 단계를 거친 후, 도 19에 도시된 바와 같이 도 15의 결과물 전표면에 제3 보호층(126)을 형성한다. 이어서, 제3 보호층(126)을 부분적으로 식각하여 열전도층(124)을 노출시킨다.First, after passing through the steps illustrated in FIGS. 13 to 15, a third protective layer 126 is formed on the entire surface of the resultant product of FIG. 15, as shown in FIG. 19. Next, the third protective layer 126 is partially etched to expose the thermal conductive layer 124.
도 20은 하부 노즐(238a)을 형성한 상태를 도시한 것이다. 하부 노즐(238a)은 히터(142) 안쪽의 제3 보호층(126), 제2 보호층(122) 및 제1 보호층(121)을 히터(142)의 안쪽 경계를 벗어나지 않는 단면 형상으로 반응성이온식각법(RIE; Reactive ion etching)에 의해 순차적으로 식각함으로써 형성될 수 있다.20 illustrates a state in which the lower nozzle 238a is formed. The lower nozzle 238a reacts the third protective layer 126, the second protective layer 122, and the first protective layer 121 inside the heater 142 to have a cross-sectional shape without departing from the inner boundary of the heater 142. It may be formed by sequentially etching by reactive ion etching (RIE).
한편, 하부 노즐(238a)을 형성할 때, 도 8에 도시된 노즐 가이드(229)를 전술한 제조방법에서와 같이 형성할 수도 있다.Meanwhile, when the lower nozzle 238a is formed, the nozzle guide 229 shown in FIG. 8 may be formed as in the aforementioned manufacturing method.
다음으로, 도 21에 도시된 바와 같이, 하부 노즐(238a)의 내부에 제1 희생층(PR1)을 형성시킨다. 구체적으로, 도 20의 결과물 전표면에 포토레지스트를 도포한 후 이를 패터닝하여 하부 노즐(238a) 내부에 채워진 포토레지스트만 남긴다. 남겨진 포토레지스트는 제1 희생층(PR1)을 형성하며 이후의 공정에서 하부 노즐(238a)의 형태를 유지시킨다. 이어서, 상기 단계의 결과물 전표면에 전기도금을 위한 시드층(seed layer, 227)을 형성한다. 상기 시드층(227)은 전기도금을 위해 도전성이 양호한 구리(Cu), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 금(Au) 또는 니켈(Ni) 등의 금속을 스퍼터링에 의해 대략 500 ~ 3000Å의 두께로 증착함으로써 이루어질 수 있다. 한편, 상기 시드층(227)은 복수의 금속층으로 이루어질 수도 있으며, 이 경우 상기 복수의 금속층 각각은 구리(Cu), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 금(Au) 또는니켈(Ni) 등의 금속을 증착함으로써 형성될 수 있다.Next, as shown in FIG. 21, the first sacrificial layer PR 1 is formed in the lower nozzle 238a. Specifically, after the photoresist is applied to the entire surface of the resultant of FIG. 20, the photoresist is patterned to leave only the photoresist filled inside the lower nozzle 238a. The remaining photoresist forms the first sacrificial layer PR 1 and maintains the shape of the lower nozzle 238a in a subsequent process. Subsequently, a seed layer 227 for electroplating is formed on the entire surface of the resultant product. The seed layer 227 is formed by sputtering a metal such as copper (Cu), chromium (Cr), titanium (Ti), gold (Au), or nickel (Ni) having good conductivity for electroplating. It can be done by depositing at a thickness. Meanwhile, the seed layer 227 may be formed of a plurality of metal layers, in which case each of the plurality of metal layers is copper (Cu), chromium (Cr), titanium (Ti), gold (Au), nickel (Ni), or the like. It can be formed by depositing a metal of.
도 22은 상부 노즐을 형성하기 위한 제2 희생층(PR2)을 형성한 상태를 도시한 것이다. 구체적으로, 시드층(227)의 전표면에 포토레지스트를 도포한 뒤 이를 패터닝하여 상부 노즐(도 24의 238b)이 형성될 부위에만 포토레지스트를 잔존시킨다. 남겨진 포토레지스트는 위쪽으로 갈수록 그 직경이 점차 작아지는 테이퍼 형상으로 형성되어 이후의 공정에서 상부 노즐(238b)을 형성시키기 위한 제2 희생층(PR2)의 역할을 하게 된다.FIG. 22 illustrates a state in which the second sacrificial layer PR 2 for forming the upper nozzle is formed. Specifically, the photoresist is applied to the entire surface of the seed layer 227 and then patterned so that the photoresist remains only at the portion where the upper nozzle 238b of FIG. 24 is to be formed. The remaining photoresist is formed in a tapered shape whose diameter gradually decreases upwards to serve as the second sacrificial layer PR 2 for forming the upper nozzle 238b in a subsequent process.
한편, 도 9에 도시된 기둥 형상의 상부 노즐(338b)을 형성하고자 하는 경우에는, 상기 제2 희생층(PR2)을 기둥 형상으로 형성하게 된다.Meanwhile, when the upper nozzle 338b having the columnar shape illustrated in FIG. 9 is to be formed, the second sacrificial layer PR 2 is formed in the columnar shape.
그리고. 상기 제1 희생층(PR1)과 제2 희생층(PR2)은 포토레지스트뿐만 아니라 감광성 폴리머로 이루어질 수도 있다.And. The first sacrificial layer PR 1 and the second sacrificial layer PR 2 may be formed of a photosensitive polymer as well as a photoresist.
다음으로, 도 23에 도시된 바와 같이, 시드층(227)의 상면에 소정 두께의 금속물질로 이루어진 열발산층(228)을 형성한다. 열발산층(228)은 열전도성이 양호한 금속, 예컨대 니켈(Ni), 구리(Cu) 또는 금(Au)을 시드층(227) 표면에 전기도금시켜 대략 10 ~ 100㎛ 두께로 형성될 수 있다. 전기도금 공정은 제2 희생층(PR2)의 높이보다 낮고 원하는 상부 노즐(238b)의 출구 단면이 형성되는 높이까지 열발산층(228)이 형성되는 시점에서 종료된다. 이 열발산층(228)의 두께는 상부 노즐(238b)의 단면적과 단면 형상, 기판(110) 및 외부로의 방열 능력 등을 고려하여 적정하게 정해질 수 있다.Next, as shown in FIG. 23, a heat dissipation layer 228 made of a metal material having a predetermined thickness is formed on the seed layer 227. The heat dissipation layer 228 may be formed to a thickness of about 10 to 100 μm by electroplating a metal having good thermal conductivity, such as nickel (Ni), copper (Cu), or gold (Au), on the seed layer 227. . The electroplating process is terminated when the heat dissipation layer 228 is formed to a height lower than the height of the second sacrificial layer PR 2 and the exit cross section of the desired upper nozzle 238b is formed. The thickness of the heat dissipation layer 228 may be appropriately determined in consideration of the cross-sectional area and the cross-sectional shape of the upper nozzle 238b, the heat dissipation ability to the substrate 110 and the outside.
전기도금이 완료된 후의 열발산층(228)의 표면은 그 아래에 형성된 물질층들에 의해 요철을 갖게 된다. 따라서, 화학기계적 연마(CMP; Chemical mechanical polishing)에 의해 열발산층(228)의 표면을 평탄화할 수 있다.After the electroplating is completed, the surface of the heat dissipation layer 228 has irregularities by the material layers formed thereunder. Accordingly, the surface of the heat dissipation layer 228 may be planarized by chemical mechanical polishing (CMP).
이어서, 상부 노즐 형성용 제2 희생층(PR2)과, 제2 희생층(PR2) 아래의 시드층(227)과, 하부 노즐 유지용 제1 희생층(PR1)을 순차적으로 식각한다. 그러면, 도 24에 도시된 바와 같이 하부 노즐(238a)과 상부 노즐(238b)이 연결되어 완전한 노즐(238)이 형성되고, 다수의 물질층이 적층되어 이루어진 노즐 플레이트(220)가 완성된다.Subsequently, the second sacrificial layer PR 2 for forming the upper nozzle, the seed layer 227 under the second sacrificial layer PR 2 , and the first sacrificial layer PR 1 for holding the lower nozzle are sequentially etched. . Then, as shown in FIG. 24, the lower nozzle 238a and the upper nozzle 238b are connected to form a complete nozzle 238, and a nozzle plate 220 formed by stacking a plurality of material layers is completed.
한편, 상기 노즐(238)과 열발산층(228)은 다음과 같은 단계를 거쳐 형성될 수도 있다. 도 21의 단계에서, 하부 노즐(238a)의 유지를 위한 제1 희생층(PR1)을 형성하기 전에, 도 20의 결과물 전표면에 전기도금을 위한 시드층(227)을 형성한다. 이어서, 상기 제1 희생층(PR1)과 상부 노즐(238b)의 형성을 위한 제2 희생층(PR2)을 순차적으로 형성하거나, 또는 일체로 함께 형성한다. 다음에는, 도 23에 도시된 바와 같이 열발산층(228)을 형성시킨 후, 화학기계적연마에 의해 열발산층(228)의 표면을 평탄화시킨다. 이어서, 함께 형성된 제2 희생층(PR2)과 제1 희생층(PR1) 및 제1 희생층(PR1) 아랫 부분의 시드층(227)을 식각하면 도 24에 도시된 바와 같은 노즐(238)과 노즐 플레이트(220)가 형성될 수 있다.On the other hand, the nozzle 238 and the heat dissipation layer 228 may be formed through the following steps. In the step of FIG. 21, before forming the first sacrificial layer PR 1 for maintaining the lower nozzle 238a, the seed layer 227 for electroplating is formed on the entire surface of the resultant product of FIG. 20. Subsequently, the second sacrificial layer PR 2 for forming the first sacrificial layer PR 1 and the upper nozzle 238b is sequentially formed or integrally formed together. Next, after forming the heat dissipation layer 228 as shown in FIG. 23, the surface of the heat dissipation layer 228 is planarized by chemical mechanical polishing. Subsequently, when the second sacrificial layer PR 2 , the first sacrificial layer PR 1 , and the seed layer 227 under the first sacrificial layer PR 1 are etched together, the nozzle ( 238 and the nozzle plate 220 may be formed.
도 25는 기판(110)의 표면쪽에 소정 깊이의 잉크 챔버(132)를 형성하고, 기판(110)의 배면쪽에는 매니폴드(136)를 형성한 상태를 도시한 것이다. 잉크 챔버(132)와 매니폴드(136)의 형성 방법은 전술한 제조방법에서와 동일하므로 그 설명은 생략한다.FIG. 25 illustrates a state in which an ink chamber 132 having a predetermined depth is formed on the surface side of the substrate 110, and a manifold 136 is formed on the back side of the substrate 110. Since the formation method of the ink chamber 132 and the manifold 136 is the same as that of the manufacturing method mentioned above, the description is abbreviate | omitted.
상기한 단계들을 거치게 되면, 도 25에 도시된 바와 같이 다공성 기판(110) 상에 구현된 본 발명의 제2 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드가 완성된다.After the above steps, the inkjet printhead according to the second embodiment of the present invention implemented on the porous substrate 110 is completed as shown in FIG. 25.
도 10에 도시된 본 발명의 제5 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드도 상기한 제조방법과 유사한 방법에 의해 제조될 수 있다. 다만, 제1 기판(511) 위에 제2 기판(512)을 적층하여 접합시킨 후, 상기한 단계들을 수행하게 된다. 이 때, 제1 기판(511)이 다공성 실리콘 기판으로 이루어지고, 제2 기판(512)이 실리콘 기판으로 이루어진 경우에는, 전술한 바와 같이 제1 기판(511)과 제2 기판(512)은 그들 사이에 갭이 존재하지 않도록 잘 알려져 있는 SDB(Silicon Direct Bonding)법에 의해 접합될 수 있다. 그리고, 제2 기판(512)을 식각하여 잉크 챔버(532)를 형성하는 단계에서 잉크 챔버(532)의 바닥에 제1 기판(511)이 노출될 수 있도록 제2 기판(512)의 두께를 정하여야 한다.The inkjet printhead according to the fifth embodiment of the present invention shown in FIG. 10 can also be manufactured by a method similar to the above manufacturing method. However, after the second substrate 512 is laminated and bonded on the first substrate 511, the above-described steps are performed. At this time, when the first substrate 511 is made of a porous silicon substrate and the second substrate 512 is made of a silicon substrate, the first substrate 511 and the second substrate 512 are as described above. It can be bonded by the well-known Silicon Direct Bonding (SDB) method so that there is no gap between them. In addition, in the forming of the ink chamber 532 by etching the second substrate 512, the thickness of the second substrate 512 is determined so that the first substrate 511 may be exposed on the bottom of the ink chamber 532. shall.
한편, 제2 기판(512)은 전술한 바와 같이 금속층으로 이루어질 수 있으며, 이 경우에는 제1 기판(511) 상에 금속 물질을 소정의 두께로 도금함으로써 제2 기판(512)을 형성할 수도 있다. 또한, 잉크 챔버(532)를 기둥 형상으로 형성하는 경우에는, 상기한 열발산층에 상부 노즐을 형성하는 방법과 마찬가지로 잉크 챔버(532)가 형성될 부위에 기둥 형상의 희생층을 형성한 후 금속 물질을 도금한다. 상기 희생층은 노즐 플레이트(220)를 형성한 후에 노즐(238)을 통해 제거한다.As described above, the second substrate 512 may be formed of a metal layer. In this case, the second substrate 512 may be formed by plating a metal material to a predetermined thickness on the first substrate 511. . In addition, in the case of forming the ink chamber 532 in the form of a column, as in the method of forming the upper nozzle in the heat dissipating layer, after forming the sacrificial layer in the form of a column in the region where the ink chamber 532 is to be formed, the metal Plate the material. The sacrificial layer is removed through the nozzle 238 after forming the nozzle plate 220.
도 11에 도시된 본 발명의 제6 실시예에 따른 잉크젯 프린트헤드는, 제1 기판(611) 위에 제2 기판(612)을 소정의 갭(G)을 두고 접착제(613)에 의해 접합시킨 후, 상기한 단계들을 수행함으로써 제조될 수 있다. 이 때, 제2 기판(612)이 실리콘 기판으로 이루어진 경우에는, 노즐 플레이트(220)를 형성한 후 노즐(238)을 통해 제2 기판(612)을 식각하여 잉크 챔버(632)를 형성하게 되며, 이 때 잉크 챔버(632)의 바닥에 제1 기판(611)이 노출될 수 있도록 제2 기판(612)의 두께를 정하여야 한다.In the inkjet printhead according to the sixth embodiment of the present invention shown in FIG. 11, the second substrate 612 is bonded onto the first substrate 611 by an adhesive 613 with a predetermined gap G therebetween. It can be prepared by performing the above steps. At this time, when the second substrate 612 is made of a silicon substrate, after forming the nozzle plate 220, the second substrate 612 is etched through the nozzle 238 to form the ink chamber 632. At this time, the thickness of the second substrate 612 should be determined so that the first substrate 611 is exposed at the bottom of the ink chamber 632.
한편, 제2 기판(612)은 전술한 바와 같이 금속 플레이트로 이루어질 수 있으며, 이 경우에는 제2 기판(612)에 미리 잉크 챔버(632)를 식각 등에 의해 형성한 후, 잉크 챔버(632)에 희생물질을 채우고 노즐 플레이트(220)를 형성하는 단계를 수행할 수 있다. 상기 희생물질은 노즐 플레이트(220)를 형성한 후에 노즐(238)을 통해 제거한다.On the other hand, the second substrate 612 may be made of a metal plate as described above, in this case, after forming the ink chamber 632 on the second substrate 612 by etching or the like in advance, and then to the ink chamber 632 Filling the sacrificial material and forming the nozzle plate 220 may be performed. The sacrificial material is removed through the nozzle 238 after forming the nozzle plate 220.
이상 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명했지만, 본 발명의 범위는 이에 한정되지 않고, 다양한 변형 및 균등한 타실시예가 가능하다. 예컨대, 본 발명에서 프린트헤드의 각 요소를 구성하기 위해 사용되는 물질은 예시되지 않은 물질을 사용할 수도 있다. 또, 각 물질의 적층 및 형성방법도 단지 예시된 것으로서, 다양한 증착방법과 식각방법이 적용될 수 있다. 아울러, 각 단계에서 예시된 구체적인 수치는 제조된 프린트헤드가 정상적으로 작동할 수 있는 범위 내에서 얼마든지 예시된 범위를 벗어나 조정가능하다. 또한, 본 발명의 프린트헤드 제조방법의 각 단계의 순서는 예시된 바와 달리할 수 있다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서 정해져야 할 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and equivalent other embodiments are possible. For example, the materials used to construct each element of the printhead in the present invention may use materials not illustrated. In addition, as a method of laminating and forming each material is merely illustrated, various deposition methods and etching methods may be applied. In addition, the specific values exemplified in each step may be adjusted outside the exemplified ranges as long as the manufactured printhead can operate normally. In addition, the order of each step of the printhead manufacturing method of the present invention may be different from that illustrated. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the appended claims.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드 및 그 제조방법은 다음과 같은 효과를 가진다.As described above, the inkjet printhead and its manufacturing method according to the present invention have the following effects.
첫째, 다공성 매체를 통한 잉크 공급 구조를 가짐으로써 버블의 팽창에 의해 발생되는 초기의 큰 속도에서는 상대적으로 유동 저항이 크게 증가하게 되어 잉크가 역류되는 현상을 효과적으로 억제할 수 있고, 버블의 수축과 함께 이어지는 잉크의 리필 단계에서는 잉크의 유동 속도가 작아서 유동 저항 또한 작아지게 되어 잉크의 리필이 원활하게 이루어지게 된다.First, by having the ink supply structure through the porous medium, the flow resistance increases relatively at the initial large speed caused by the expansion of the bubble, so that the backflow of the ink can be effectively suppressed, and with the shrinkage of the bubble In the subsequent refilling of the ink, the flow velocity of the ink is small so that the flow resistance is also small, so that the ink refilling is performed smoothly.
둘째, 적절한 물성을 갖는 다공성 매체를 선택하고 다공성 구조물의 배치와 크기 등을 적절히 조절함으로써, 잉크 액적 토출 단계에서의 역류 현상과 잉크 리필 단계에서의 잉크 유입과 관련된 잉크의 유동 임피던스를 능동적으로 제어할 수 있으며, 결과적으로 원하는 토출 성능을 가진 프린트헤드를 구현할 수 있게 된다.Second, by selecting a porous medium having appropriate physical properties and appropriately adjusting the placement and size of the porous structure, it is possible to actively control the flow impedance of the ink associated with the backflow phenomenon in the ink droplet ejecting step and the ink inflow in the ink refilling step. As a result, it is possible to realize a printhead having a desired ejection performance.
셋째, 잉크 채널이 형성되지 않으므로 잉크에 포함된 불순물 입자에 의해 잉크 채널이 막히는 종래의 문제점이 근원적으로 해소될 수 있으며, 종래의 잉크 채널을 가진 구조에서 발생되는 잉크 채널의 형상과 단면적에 관련된 제약 등을 근본적으로 피할 수 있다.Third, since the ink channel is not formed, the conventional problem of clogging the ink channel by impurity particles contained in the ink can be fundamentally solved, and the constraints related to the shape and cross-sectional area of the ink channel generated in the structure having the conventional ink channel can be solved. And fundamentally avoid.
넷째, 노즐 플레이트에 금속으로 이루어진 두꺼운 열발산층을 형성하게 되면, 방열 능력이 향상되어 잉크 토출성능과 구동주파수를 향상시킬 수 있다.Fourth, by forming a thick heat dissipating layer made of a metal on the nozzle plate, the heat dissipation ability is improved to improve the ink discharge performance and the driving frequency.
다섯째, 접합 공정이 필요 없거나 최소화되므로, 제조공정이 단순화되고 오정렬의 문제가 최소화될 수 있다.Fifth, since the bonding process is unnecessary or minimized, the manufacturing process can be simplified and the problem of misalignment can be minimized.
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