KR102546435B1 - Pigment dispersion, photosensitive resin composition therewith, and dispersion aids - Google Patents
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Abstract
[과제]분산제의 함유량을 줄여도 착색제의 분산 안정성이 양호하고, 저노광량에서도 고밀착성인 미소 패턴을 형성 가능한 감광성 수지 조성물을 부여할 수 있는 착색제 분산액, 그것을 포함하는 감광성 수지 조성물, 및 분산 조제를 제공한다.
[해결 수단]본 발명에 관한 착색제 분산액은 착색제와, 분산제와, 식(1)로 나타내는 옥심 화합물과, 용제를 함유한다. 식 중, R1은 수소 원자, 니트로기 또는 1가의 유기기, R2 및 R3은 각각 쇄상 알킬기, 환상 탄화수소기 또는 헤테로아릴기이며, R2와 R3은 서로 결합해 스피로환을 형성해도 되고, R4는 1가의 유기기, R5는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~11의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기, m은 0 또는 1이다. 본 발명에 관한 감광성 수지 조성물은 기재 수지와, 광중합 개시제와, 상기 착색제 분산액을 포함한다. 본 발명에 관한 분산 조제는 상기 옥심 화합물로 이루어진다.
[Problem] To provide a colorant dispersion capable of providing a photosensitive resin composition capable of forming a highly adherent micropattern even at a low exposure amount, with good dispersion stability of the colorant even when the content of the dispersant is reduced, a photosensitive resin composition containing the same, and a dispersion aid do.
[Solution] The colorant dispersion according to the present invention contains a colorant, a dispersant, an oxime compound represented by Formula (1), and a solvent. In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group, R 2 and R 3 are each a chain alkyl group, a cyclic hydrocarbon group or a heteroaryl group, and R 2 and R 3 may combine with each other to form a spiro ring. R 4 is a monovalent organic group, R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and m is 0 or 1. The photosensitive resin composition according to the present invention contains a base resin, a photopolymerization initiator, and the colorant dispersion. The dispersion aid according to the present invention consists of the above oxime compound.
Description
본 발명은 착색제 분산액, 그것을 포함하는 감광성 수지 조성물, 및 분산 조제에 관한 것이다.The present invention relates to a colorant dispersion, a photosensitive resin composition containing the same, and a dispersion aid.
액정 패널은 화상의 콘트라스트를 강조하기 위한 블랙 매트릭스나, 일반적으로 적(R), 녹(G), 및 청(B)의 각 색으로 이루어지는 RGB 착색층이 형성된 컬러 필터를 구비하고 있다. 이들 블랙 매트릭스나 컬러 필터는 흑색 또는 각 색 착색제가 분산된 감광성 수지 조성물을 기판에 도포하고, 건조한 후, 얻어진 도막을 노광, 현상하고, 원하는 패턴을 형성하는 것의 반복에 의해 형성된다. 이와 같은 감광성 수지 조성물을 제조하기 위해서는 착색제를 분산시킨 착색제 분산액이 이용된다. 예를 들면, 특허문헌 1에는 안료와, 용제와, 분산제와, 아조기, 아미드기, 및 카르보닐기를 가지는 특정한 첨가제를 함유하는 안료 분산액이 개시되어 있다.The liquid crystal panel includes a black matrix for enhancing the contrast of an image and a color filter on which an RGB color layer generally composed of red (R), green (G), and blue (B) is formed. These black matrices and color filters are formed by repeatedly applying a photosensitive resin composition in which a black or colorant of each color is dispersed to a substrate, drying, exposing and developing the obtained coating film, and forming a desired pattern. In order to prepare such a photosensitive resin composition, a colorant dispersion in which a colorant is dispersed is used. For example, Patent Document 1 discloses a pigment dispersion containing a pigment, a solvent, a dispersant, and a specific additive having an azo group, an amide group, and a carbonyl group.
최근 액정 패널의 고해상도화에 있어서 기술 혁신이 진행되어, RGB 착색층의 발색성의 향상이 요구되고 있다. RGB 착색층을 부여하는 감광성 수지 조성물에서 착색제의 농도를 높게 함으로써, 상기 발색성의 향상을 도모할 수 있다. 그러나, 착색제의 고농도화는 상기 감광성 수지 조성물의 광에 대한 감도의 저하를 가져오기 때문에, 예를 들면 저노광량으로 양호한 형상의 패턴을 형성하는 것이 어려워져 노광 공정에서의 생산성이 저하되기 쉽다.In recent years, technological innovation has progressed in higher resolution of liquid crystal panels, and improvement in color development of RGB colored layers has been required. By increasing the concentration of the coloring agent in the photosensitive resin composition for providing the RGB colored layer, the color developing property can be improved. However, since a high concentration of the coloring agent causes a decrease in the sensitivity of the photosensitive resin composition to light, it is difficult to form a pattern of a good shape with a low exposure amount, and productivity in the exposure step tends to decrease.
또, 착색제 분산액에서의 분산제의 양을 저감할 수 있으면, 착색제 분산액으로부터 얻어진 감광성 수지 조성물에서, 분산제의 양이 줄어든 만큼, 광중합 개시제의 양이나 광중합성 모노머 등의 광중합성 화합물의 양을 늘릴 수 있어 감광성 수지 조성물의 광에 대한 감도를 올릴 수 있다. 그러기 위해서는 분산제의 함유량을 줄여도 착색제의 분산 안정성이 양호하다는 것이 요구된다.In addition, if the amount of the dispersant in the colorant dispersion can be reduced, in the photosensitive resin composition obtained from the colorant dispersion, the amount of the photopolymerization initiator and the amount of the photopolymerizable compound such as the photopolymerizable monomer can be increased by the amount of the dispersant reduced. The sensitivity of the photosensitive resin composition to light can be increased. For that purpose, even if the content of the dispersant is reduced, it is required that the dispersion stability of the colorant is good.
본 발명은 이와 같은 종래의 실정을 감안하여 이루어진 것으로, 분산제의 함유량을 줄여도 착색제의 분산 안정성이 양호하고, 저노광량에서도 고밀착성의 미소 패턴을 형성 가능한 감광성 수지 조성물을 부여할 수 있는 착색제 분산액, 그것을 포함하는 감광성 수지 조성물, 및 분산 조제를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of such a conventional situation, and a colorant dispersion solution capable of providing a photosensitive resin composition capable of forming a highly adherent micropattern even at a low light exposure amount and having good dispersion stability of the colorant even when the content of the dispersant is reduced. It aims at providing the containing photosensitive resin composition, and a dispersing aid.
본 발명자들은 예의 검토한 결과, 착색제 분산액에 특정한 옥심 화합물을 첨가함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 구체적으로는 본 발명은 이하의 것을 제공한다.As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have found that the above problems can be solved by adding a specific oxime compound to a colorant dispersion liquid, and have completed the present invention. Specifically, the present invention provides the following.
본 발명의 제1 양태는 착색제와 분산제와 하기 식(1)로 나타내는 옥심 화합물과 용제를 함유하는 착색제 분산액이다.The first aspect of the present invention is a colorant dispersion containing a colorant, a dispersant, an oxime compound represented by the following formula (1), and a solvent.
[화 1][Tue 1]
(R1은 수소 원자, 니트로기 또는 1가의 유기기이며, R2 및 R3은 각각 쇄상 알킬기, 환상 탄화수소기, 또는 헤테로아릴기이며, R2와 R3은 서로 결합해 스피로환을 형성해도 되고, R4는 1가의 유기기이며, R5는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~11의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이며, m은 0 또는 1이다.)(R 1 is a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group, R 2 and R 3 are each a chain alkyl group, a cyclic hydrocarbon group, or a heteroaryl group, and R 2 and R 3 may combine with each other to form a spiro ring. R 4 is a monovalent organic group, R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and m is 0 or 1.)
본 발명의 제2 양태는 기재 수지와, 광중합 개시제와, 상기 착색제 분산액을 포함하는 감광성 수지 조성물이다.A second aspect of the present invention is a photosensitive resin composition comprising a base resin, a photopolymerization initiator, and the colorant dispersion.
본 발명의 제3 양태는 상기 식(1)로 나타내는 옥심 화합물로 이루어지는 분산 조제이다.A third aspect of the present invention is a dispersion aid comprising the oxime compound represented by the formula (1).
본 발명에 의하면, 분산제의 함유량을 줄여도 착색제의 분산 안정성이 양호하고, 저노광량에서도 고밀착성의 미소 패턴을 형성 가능한 감광성 수지 조성물을 부여할 수 있는 착색제 분산액, 그것을 포함하는 감광성 수지 조성물, 및 분산 조제를 제공할 수 있다.According to the present invention, even if the content of the dispersant is reduced, the dispersion stability of the colorant is good, and a colorant dispersion capable of providing a photosensitive resin composition capable of forming a highly adherent micropattern even at a low exposure amount, a photosensitive resin composition containing the same, and a dispersion aid can provide.
<착색제 분산액> 본 발명에 관한 착색제 분산액은 착색제와 분산제와 상기 식(1)로 나타내는 옥심 화합물과 용제를 함유한다. 또한 본 발명에 관한 착색제 분산액은 광중합성 모노머 등의 광중합성 화합물이나 광중합 개시제를 함유하지 않는다.<Colorant dispersion liquid> The colorant dispersion liquid according to the present invention contains a colorant, a dispersant, an oxime compound represented by the formula (1), and a solvent. In addition, the colorant dispersion according to the present invention does not contain a photopolymerizable compound such as a photopolymerizable monomer or a photopolymerization initiator.
[착색제] [coloring agent]
본 발명에 관한 착색제 분산액은 착색제를 함유한다. 본 발명에 관한 착색제 분산액은 이와 같은 착색제를 함유함으로써, 예를 들면 액정 표시 디스플레이의 컬러 필터, 도료, 솔더 레지스트, 잉크젯용 잉크 등의 형성에 바람직하게 사용된다. 또, 본 발명에 관한 착색제 분산액은 착색제로서 차광제를 포함함으로써, 예를 들면 표시 장치의 컬러 필터에서의 블랙 매트릭스 형성 용도로서 바람직하게 사용된다. 상기 착색제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.The colorant dispersion liquid according to the present invention contains a colorant. By containing such a colorant, the colorant dispersion liquid according to the present invention is suitably used for formation of, for example, color filters, paints, solder resists, and inkjet inks for liquid crystal displays. In addition, the colorant dispersion according to the present invention contains a light-shielding agent as a colorant, and is therefore preferably used for forming a black matrix in a color filter of a display device, for example. The above colorants can be used alone or in combination of two or more.
본 발명에 관한 착색제 분산액에 함유되는 착색제로서는 특별히 한정되지 않지만, 안료 또는 염료를 사용할 수 있고, 예를 들면 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에서, 안료(Pigment)로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 첨부되어 있는 것을 이용하는 것이 바람직하다.The colorant contained in the colorant dispersion according to the present invention is not particularly limited, but a pigment or dye can be used. For example, it is classified as a pigment in the color index (C.I.; published by The Society of Dyers and Colourists). It is preferable to use a compound with a color index (C.I.) number as shown below.
적합하게 사용할 수 있는 황색 안료의 예로서는 C.I.안료 옐로우 1(이하, 「C.I. 안료 옐로우」는 동일하며 번호만을 기재함), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31,53, 55, 60, 61,65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180, 및 185를 들 수 있다.Examples of yellow pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, “C.I. 31,53, 55, 60, 61,65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 1 68, 175, 180, and 185.
적합하게 사용할 수 있는 오렌지색 안료의 예로서는 C.I. 안료 오렌지 1(이하, 「C.I. 안료 오렌지」는 동일하며 번호만을 기재함), 2, 5, 13, 14, 16, 17, 19, 20, 21,22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 40, 43, 46, 48, 49, 51,55, 59, 61,62, 63, 64,65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 및 79를 들 수 있다.Examples of orange pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Orange 1 (hereinafter "C.I. Pigment Orange" is the same and only numbers are given), 2, 5, 13, 14, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 40, 43, 46, 48, 49, 51,55, 59, 61,62, 63, 64,65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, and 79.
적합하게 사용할 수 있는 보라색 안료의 예로서는 C.I. 안료 바이올렛 1(이하, 「C.I. 안료 바이올렛」은 동일하며 번호만을 기재함), 1:1,2, 2:2, 3, 3:1, 3:3, 5, 5:1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, 42, 44, 47, 49, 및 50, 및 C.I. 흡수제 바이올렛(Solvent Violet) 13, C.I. 흡수제 바이올렛 36을 들 수 있다.Examples of purple pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Violet 1 (hereinafter "C.I. Pigment Violet" is the same and only numbers are written), 1:1,2, 2:2, 3, 3:1, 3:3, 5, 5:1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, 42, 44, 47, 49, and 50, and C.I. Solvent Violet 13, C.I. absorbent violet 36.
적합하게 사용할 수 있는 적색 안료의 예로서는 C.I. 안료 레드 1(이하, 「C.I. 안료 레드」는 동일하며 번호만을 기재함)2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21,22, 23, 30, 31,32, 37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1,52:1,53:1,57, 57:1,57:2, 58:2, 58:4,60:1,63:1,63:2, 64:1, 81:1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 265, 270, 및 272를 들 수 있다.Examples of red pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Red 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Red" is the same and only numbers are written) 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18 , 19, 21,22, 23, 30, 31,32, 37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50 :1,52:1,53:1,57, 57:1,57:2, 58:2, 58:4,60:1,63:1,63:2, 64:1, 81:1, 83 , 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171 ; 223 , 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 265, 270, and 272.
적합하게 사용할 수 있는 청색 안료의 예로서는 C.I. 안료 블루 1(이하, 「C.I. 안료 블루」는 동일하며 번호만을 기재함), 2, 15(15:1에서 15:6 등을 포함하고, 특히 15:3, 15:4, 15:6을 포함함), 16, 22, 60, 64,66, 및 75를 들 수 있다.Examples of blue pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Blue 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Blue" is the same and only numbers are written), 2, 15 (including 15:1 to 15:6, etc., especially 15:3, 15:4, 15:6) ), 16, 22, 60, 64, 66, and 75.
적합하게 사용할 수 있는, 상기의 다른 색상의 안료의 예로서는 C.I. 안료 그린 7, C.I. 안료 그린 36, C.I. 안료 그린 37, C.I. 안료 그린 58 등의 녹색 안료, C.I. 안료 브라운 23, C.I. 안료 브라운 25, C.I. 안료 브라운 26, C.I. 안료 브라운 28 등의 갈색 안료, C.I. 안료 블랙 1(이하, 「C.I. 안료 블랙」은 동일하며 번호만을 기재함), 7, 30, 31,32, 33, 34 등의 흑색 안료를 들 수 있다.Examples of pigments of other colors described above that can be suitably used include C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 37, C.I. Green pigments such as Pigment Green 58, C.I. Pigment Brown 23, C.I. Pigment Brown 25, C.I. Pigment Brown 26, C.I. Brown pigments such as Pigment Brown 28, C.I. Black pigments, such as pigment black 1 (hereinafter "C.I. pigment black" is the same and only a number is described), 7, 30, 31, 32, 33, 34, etc. are mentioned.
또, 착색제를 차광제로 하는 경우, 차광제로서는 흑색 안료를 이용하는 것이 바람직하다. 흑색 안료로서는 카본 블랙, 티탄 블랙, 구리, 철, 망간, 코발트, 크롬, 니켈, 아연, 칼슘, 은 등의 금속 산화물, 복합 산화물, 금속 황화물, 금속 황산염 또는 금속 탄산염 등, 유기물, 무기물을 불문하고 각종 안료를 들 수 있다. 이들 중에서도, 높은 차광성을 가지는 카본 블랙을 이용하는 것이 바람직하다.Moreover, when using a colorant as a light-shielding agent, it is preferable to use a black pigment as a light-shielding agent. As the black pigment, carbon black, titanium black, copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, zinc, calcium, metal oxides, composite oxides, metal sulfides, metal sulfates, or metal carbonates such as silver, organic substances and inorganic substances, etc. Various pigments are mentioned. Among these, it is preferable to use carbon black having high light-shielding properties.
카본 블랙으로서는 채널 블랙, 퍼니스 블랙, 서멀 블랙, 램프 블랙 등의 공지된 카본 블랙을 이용할 수 있지만, 차광성이 뛰어난 채널 블랙을 이용하는 것이 바람직하다. 또, 수지 피복 카본 블랙을 사용해도 된다.As the carbon black, known carbon black such as channel black, furnace black, thermal black, and lamp black can be used, but it is preferable to use a channel black having excellent light-shielding properties. Moreover, you may use resin-coated carbon black.
수지 피복 카본 블랙은 수지 피복이 없는 카본 블랙에 비해 도전성이 낮은 점에서, 액정 표시 디스플레이와 같은 액정 표시 소자의 블랙 매트릭스로서 사용했을 경우에 전류의 누출이 적고, 신뢰성이 높은 저소비 전력의 디스플레이를 제조할 수 있다.Since resin-coated carbon black has lower conductivity than carbon black without resin coating, when used as a black matrix for a liquid crystal display element such as a liquid crystal display, leakage of current is small and a highly reliable display with low power consumption can be produced. can do.
또, 카본 블랙의 색조를 조정하기 위해서, 보조 안료로서 상기의 유기 안료를 적절히 첨가해도 된다.Moreover, in order to adjust the color tone of carbon black, you may add the said organic pigment suitably as an auxiliary pigment.
무기 안료와 유기 안료는 각각 단독 또는 2종 이상 병용해도 되지만, 병용하는 경우에는 무기 안료와 유기 안료의 총량 100중량부에 대해서, 유기 안료를 10~80중량부의 범위에서 이용하는 것이 바람직하고, 20~40중량부의 범위에서 이용하는 것이 보다 바람직하다.The inorganic pigment and the organic pigment may be used individually or in combination of two or more, respectively, but when used together, it is preferable to use the organic pigment in the range of 10 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the inorganic pigment and the organic pigment. It is more preferable to use in the range of 40 parts by weight.
또, 본 발명에 관한 착색제 분산액에 함유되는 착색제는 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료여도 된다. 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 디케토피로로피롤계 안료, 프탈로시아닌계 안료, 페릴렌계 안료, 아조계 안료, 퀴나크리돈계 안료, 벤즈이미다졸론계 안료, 이소인돌리논계 안료, 디옥사진계 안료, 인단트렌계 안료 등을 들 수 있고, 디케토피로로피롤계 안료, 프탈로시아닌계 안료, 및/또는 페릴렌계 안료를 이용하는 것이 바람직하다.In addition, the colorant contained in the colorant dispersion according to the present invention may be a pigment composed of a nitrogen-containing aromatic ring compound. Although it does not specifically limit as a pigment which consists of a nitrogen-containing aromatic ring compound, For example, diketopyrroropyrrole pigment, phthalocyanine pigment, perylene pigment, azo pigment, quinacridone pigment, benzimidazolone pigment, iso Indolinone-based pigments, dioxazine-based pigments, indanthrene-based pigments, and the like are exemplified, and diketopyrrolopyrrole-based pigments, phthalocyanine-based pigments, and/or perylene-based pigments are preferably used.
디케토피로로피롤계 안료로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 하기 식(b-1)으로 나타내는 화합물을 들 수 있다.It does not specifically limit as a diketopyrrolopyrrole pigment, For example, the compound represented by the following formula (b-1) is mentioned.
[화 2][Tue 2]
식(b-1) 중, A3 및 A4는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 페닐기, N,N-디메틸아미노기, 트리플루오로메틸기, 시아노기를 나타내고, k 및 k'는 각각 독립적으로 0~5의 정수를 나타내며, k 및 k'가 각각 2이상의 정수인 경우, 복수의 A3 및 A4는 각각 동일해도 상이해도 된다.)In formula (b-1), A3 and A4 each independently represent a halogen atom, a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group, a phenyl group, a N,N-dimethylamino group, a trifluoromethyl group, and a cyano group, and k and k' Each independently represents an integer from 0 to 5, and when k and k' are each an integer of 2 or more, a plurality of A3 and A4 may be the same or different, respectively.)
식(b-1)에서, k 및 k'는 각각 독립적으로 0~5의 정수이다. 그 중에서도, 고(高)콘트라스트를 달성해, 컬러 필터 등에 적절한 적색을 조정하기 쉬운 점에서, k 및 k'는 각각 독립적으로 0~3의 정수인 것이 바람직하고, k 및 k'는 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수인 것이 보다 바람직하다.In Formula (b-1), k and k' are each independently an integer of 0 to 5. Among them, it is preferable that k and k' are each independently an integer of 0 to 3, and k and k' are each independently 0 from the viewpoint of achieving high contrast and making it easy to adjust red suitable for a color filter or the like. Or it is more preferably an integer of 1.
디케토피로로피롤계 안료로서는 그 중에서도, 고휘도 및 고콘트라스트인 컬러 필터 등이 형성 가능한 점에서, C.I. 안료 레드 254, C.I. 안료 레드 255, C.I. 안료 레드 264, C.I. 안료 레드 270, C.I. 안료 레드 272, C.I. 안료 오렌지 71, C.I. 안료 오렌지 73이 바람직하고, 색상 및 착색력의 점에서, C.I. 안료 레드 254, C.I. 안료 레드 255인 것이 보다 바람직하다. 디케토피로로피롤계 안료는 1종 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.As diketopyrrolopyrrole pigments, among others, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 255, C.I. Pigment Red 264, C.I. Pigment Red 270, C.I. Pigment Red 272, C.I. Pigment Orange 71, C.I. Pigment Orange 73 is preferred, and in terms of color and tinting power, C.I. Pigment Red 254, C.I. It is more preferable that it is Pigment Red 255. Diketopyrroropyrrole pigments can be used alone or in combination of two or more.
본 발명에 이용되는 디케토피로로피롤계 안료의 평균 1차 입경으로서는 원하는 발색이 가능한 것이면 되고, 특별히 한정되지 않는다. 콘트라스트를 향상시키는 점에서, 10~50nm의 범위 내인 것이 바람직하고, 10~30nm의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 안료의 평균 1차 입경이 상기 범위로 함으로써, 예를 들면 컬러 필터를 고콘트라스트로, 또한 고품질인 것으로 할 수 있다. 또한 상기 안료의 평균 입경은 전자현미경 사진으로부터 1차 입자의 크기를 직접 계측하는 방법으로 구할 수 있다. 구체적으로는 개개의 1차 입자의 단축 지름과 장축 지름을 계측하고, 그 평균을 그 입자의 입경으로 한다. 다음에, 100개 이상의 입자에 대해서, 각각의 입자의 부피(질량)를, 구한 입경의 직육면체로 근사해 구해 체적 평균 입경을 구하고 그것을 평균 입경으로 한다. 또한 전자현미경으로서는 투과형(TEM) 및 주사형(SEM) 중 어느 하나를 이용해도 동일한 결과를 얻을 수 있다.The average primary particle diameter of the diketopyrrolopyrrole pigment used in the present invention is not particularly limited as long as it is possible to develop a desired color. From the point of improving contrast, it is preferable that it exists in the range of 10-50 nm, and it is more preferable that it exists in the range of 10-30 nm. By setting the average primary particle size of the pigment within the above range, for example, a color filter with high contrast and high quality can be obtained. In addition, the average particle diameter of the pigment can be obtained by directly measuring the size of primary particles from electron micrographs. Specifically, the minor axis diameter and the major axis diameter of each primary particle are measured, and the average is taken as the particle diameter of the particle. Next, for 100 or more particles, the volume (mass) of each particle is approximated with a rectangular parallelepiped of the obtained particle diameter to obtain a volume average particle diameter, which is taken as the average particle diameter. In addition, the same result can be obtained even if either a transmission type (TEM) or a scanning type (SEM) is used as an electron microscope.
본 발명에 이용되는 디케토피로로피롤계 안료는 재결정법, 솔벤트 솔트 밀링법 등의 공지된 방법으로 제조할 수 있다. 또, 시판되는 디케토피로로피롤계 안료를 이용해도 된다.The diketopyrroropyrrole pigment used in the present invention can be prepared by a known method such as a recrystallization method or a solvent salt milling method. Moreover, you may use a commercially available diketopyrrolopyrrole pigment.
프탈로시아닌계 안료로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 하기 식(b-2)으로 나타내는 화합물을 들 수 있다.It does not specifically limit as a phthalocyanine type pigment, For example, the compound represented by the following formula (b-2) is mentioned.
[화 3][Tue 3]
[식 중, X1~X4는 각각 독립적으로 치환기를 가져도 되는 알킬기, 치환기를 가져도 되는 아릴기, 치환기를 가져도 되는 시클로알킬기, 치환기를 가져도 되는 복소환식기, 치환기를 가져도 되는 알콕실기, 치환기를 가져도 되는 아릴옥시기, 치환기를 가져도 되는 알킬티오기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴티오기를 나타낸다. Y1~Y4는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 니트로기, 치환기를 가져도 되는 프탈이미드메틸기, 또는 치환기를 가져도 되는 설파모일기를 나타낸다. M은 구리 원자, 아연 원자 등의 금속 원자를 나타낸다. m1, m2, m3, m4, n1, n2, n3, 및 n4는 각각 독립적으로 0~4의 정수를 나타내고, m1+n1, m2+n2, m3+n3, m4+n4는 각각 0~4의 정수이며, 동일해도 상이해도 된다.][In the formula, X 1 to X 4 are each independently an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, a substituent which may have An alkoxyl group, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylthio group which may have a substituent, or an arylthio group which may have a substituent are shown. Y 1 to Y 4 each independently represent a halogen atom, a nitro group, a phthalimidemethyl group which may have a substituent, or a sulfamoyl group which may have a substituent. M represents a metal atom such as a copper atom or a zinc atom. m1, m2, m3, m4, n1, n2, n3, and n4 each independently represent an integer from 0 to 4, and m1+n1, m2+n2, m3+n3, and m4+n4 each represent an integer from 0 to 4. , and may be the same or different.]
일반식(b-2) 중, X1~X4는 동일해도 상이해도 되고, 그 구체예로서는 치환기를 가져도 되는 알킬기, 치환기를 가져도 되는 아릴기, 치환기를 가져도 되는 시클로알킬기, 치환기를 가져도 되는 복소환식기, 치환기를 가져도 되는 알콕실기, 치환기를 가져도 되는 아릴옥시기, 치환기를 가져도 되는 알킬티오기, 치환기를 가져도 되는 아릴티오기를 들 수 있다. 상기 X1~X4가 치환기를 가지는 경우, 치환기는 동일해도 상이해도 되고, 그 구체예로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자, 아미노기, 수산기, 니트로기 등의 특성기의 외에, 알킬기, 아릴기, 시클로알킬기, 알콕실기, 아릴옥시기, 알킬티오기, 아릴티오기 등을 들 수 있다. 또, 이들 치환기는 다수 있어도 된다.In the general formula (b-2), X 1 to X 4 may be the same or different, and specific examples include an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, and a substituent. A heterocyclic group which may have a substituent, an alkoxyl group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylthio group which may have a substituent, and an arylthio group which may have a substituent are exemplified. When the above X 1 to X 4 have a substituent, the substituent may be the same or different, and specific examples include halogen atoms such as fluorine atoms, chlorine atoms, and bromine atoms, characteristic groups such as amino groups, hydroxyl groups, and nitro groups, as well as alkyl groups , an aryl group, a cycloalkyl group, an alkoxyl group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, and the like. Moreover, there may be many of these substituents.
치환기를 가져도 되는 알킬기의 「알킬기」로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 네오펜틸기, n-헥실기, n-옥틸기, 스테아릴기, 2-에틸헥실기 등의 직쇄 또는 분기 알킬기를 들 수 있고, 「치환기를 가지는 알킬기」로서는 트리클로로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 2,2-디브로모에틸기, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필기, 2-에톡시에틸기, 2-부톡시에틸기, 2-니트로프로필기, 벤질기, 4-메틸벤질기, 4-tert-부틸벤질기, 4-메톡시벤질기, 4-니트로벤질기, 2,4-디클로로벤질기 등을 들 수 있다.As the "alkyl group" of the alkyl group which may have a substituent, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, neopentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, stearyl group, straight-chain or branched alkyl groups such as 2-ethylhexyl group, and examples of the "alkyl group having a substituent" include trichloromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2-di Bromoethyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-butoxyethyl group, 2-nitropropyl group, benzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-tert-butyl Benzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-nitrobenzyl group, 2,4-dichlorobenzyl group, etc. are mentioned.
치환기를 가져도 되는 아릴기의 「아릴기」로서는 페닐기, 나프틸기, 안트릴기 등을 들 수 있고, 「치환기를 가지는 아릴기」로서는 p-메틸페닐기, p-브로모페닐기, p-니트로페닐기, p-메톡시페닐기, 2,4-디클로로페닐기, 펜타플루오로페닐기, 2-아미노페닐기, 2-메틸-4-클로로페닐기, 4-히드록시-1-나프틸기, 6-메틸-2-나프틸기, 4,5,8-트리클로로-2-나프틸기, 안트라퀴노닐기, 2-아미노안트라퀴노닐기 등을 들 수 있다.Examples of the "aryl group" of the aryl group which may have a substituent include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, and the like, and examples of the "aryl group having a substituent" include p-methylphenyl group, p-bromophenyl group, and p-nitrophenyl group , p-methoxyphenyl group, 2,4-dichlorophenyl group, pentafluorophenyl group, 2-aminophenyl group, 2-methyl-4-chlorophenyl group, 4-hydroxy-1-naphthyl group, 6-methyl-2-naphthyl group A tyl group, a 4,5,8-trichloro-2-naphthyl group, an anthraquinonyl group, a 2-amino anthraquinonyl group, etc. are mentioned.
치환기를 가져도 되는 시클로알킬기의 「시클로알킬기」로서는 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 아다만틸기 등을 들 수 있고, 「치환기를 가지는 시클로알킬기」로서는 2,5-디메틸시클로펜틸기, 4-tert-부틸시클로헥실기 등을 들 수 있다.Examples of the “cycloalkyl group” of the cycloalkyl group which may have a substituent include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and an adamantyl group, and examples of the “cycloalkyl group having a substituent” include a 2,5-dimethylcyclopentyl group, 4-tert - A butylcyclohexyl group etc. are mentioned.
치환기를 가져도 되는 복소환식기의 「복소환식기」로서는 피리딜기, 피라질기, 피페리디노기, 피라닐기, 모르폴리노기, 아크리디닐기 등을 들 수 있고, 「치환기를 가지는 복소환식기」로서는 3-메틸피리딜기, N-메틸피페리딜기, N-메틸피롤릴기 등을 들 수 있다.Examples of the "heterocyclic group" of the heterocyclic group which may have a substituent include a pyridyl group, a pyrazyl group, a piperidino group, a pyranyl group, a morpholino group, and an acridinyl group, and the "heterocyclic group having a substituent" 3-methylpyridyl group, N-methylpiperidyl group, N-methylpyrrolyl group, etc. are mentioned.
치환기를 가져도 되는 알콕실기의 「알콕실기」로서는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기, 네오펜틸옥시기, 2,3-디메틸-3-펜틸옥시, n-헥실옥시기, n-옥틸옥시기, 스테아릴옥시기, 2-에틸헥실옥시기 등의 직쇄 또는 분기 알콕실기를 들 수 있고, 「치환기를 가지는 알콕실기」로서는 트리클로로메톡시기, 트리플루오로메톡시기, 2,2,2-트리플루오로에톡시기, 2,2,3,3-테트라플루오로프로폭시기, 2,2-디트리플루오로메틸프로폭시기, 2-에톡시에톡시기, 2-부톡시에톡시기, 2-니트로프로폭시기, 벤질옥시기 등을 들 수 있다.As the "alkoxyl group" of the alkoxyl group which may have a substituent, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, neopentyloxy group, 2,3 -Dimethyl-3-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-octyloxy group, stearyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, etc. straight-chain or branched alkoxyl groups are exemplified, and "alkoxyl group having a substituent" As trichloromethoxy group, trifluoromethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, 2,2,3,3-tetrafluoropropoxyl group, 2,2-ditrifluoromethylpropoxyl group A oxy group, 2-ethoxyethoxy group, 2-butoxyethoxy group, 2-nitropropoxy group, benzyloxy group, etc. are mentioned.
치환기를 가져도 되는 아릴옥시기의 「아릴옥시기」로서는 페녹시기, 나프톡시기, 안트릴옥시기 등을 들 수 있고, 「치환기를 가지는 아릴옥시기」로서는 p-메틸페녹시기, p-니트로페녹시기, p-메톡시페녹시기, 2,4-디클로로페녹시기, 펜타플루오로페녹시기, 2-메틸-4-클로로페녹시기 등을 들 수 있다.Examples of the "aryloxy group" of the aryloxy group which may have a substituent include a phenoxy group, a naphthoxy group, and anthryloxy group, and examples of the "aryloxy group having a substituent" include p-methylphenoxy group and p-nitro A phenoxy group, p-methoxyphenoxy group, 2,4-dichlorophenoxy group, pentafluorophenoxy group, 2-methyl-4-chlorophenoxy group, etc. are mentioned.
치환기를 가져도 되는 알킬티오기의 「알킬티오기」로서는 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 부틸티오기, 펜틸티오기, 헥실티오기, 옥틸티오기, 데실티오기, 도데실티오기, 옥타데실티오기 등을 들 수 있고, 「치환기를 가지는 알킬티오기」로서는 메톡시에틸티오기, 아미노에틸티오기, 벤질아미노에틸티오기, 메틸카르보닐아미노에틸티오기, 페닐카르보닐아미노에틸티오기 등을 들 수 있다.As the "alkylthio group" of the alkylthio group which may have a substituent, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, decylthio group, dodecylthio group , octadecylthio group, etc., and "alkylthio group having a substituent" include methoxyethylthio group, aminoethylthio group, benzylaminoethylthio group, methylcarbonylaminoethylthio group, phenylcarbonylaminoethyl Thioggi etc. are mentioned.
치환기를 가져도 되는 아릴티오기의 「아릴티오기」로서는 페닐티오기, 1-나프틸티오기, 2-나프틸티오기, 9-안트릴티오기 등을 들 수 있고, 「치환기를 가지는 아릴티오기」로서는 클로로페닐티오기, 트리플루오로메틸페닐티오기, 시아노페닐티오기, 니트로페닐티오기, 2-아미노페닐티오기, 2-히드록시페닐티오기 등을 들 수 있다.Examples of the “arylthio group” of the arylthio group which may have a substituent include phenylthio group, 1-naphthylthio group, 2-naphthylthio group, and 9-anthrylthio group, and “arylthio group having a substituent” Examples of "" include a chlorophenylthio group, a trifluoromethylphenylthio group, a cyanophenylthio group, a nitrophenylthio group, a 2-aminophenylthio group, and a 2-hydroxyphenylthio group.
다음에, Y1~Y4의 구체예로서는 할로겐 원자, 니트로기, 치환기를 가져도 되는 프탈이미드메틸기(C6H4(CO)2N-CH2-), 설파모일기(H2NSO2-)를 들 수 있다. 또, 치환기를 가지는 프탈이미드메틸기란, 프탈이미드메틸기 중의 수소 원자가 치환기에 의해 치환된 구조를 나타내고, 치환기를 가지는 설파모일기란, 설파모일기 중의 수소 원자가 치환기에 의해 치환된 구조를 나타낸다. 바람직한 Y1~Y4는 할로겐 원자 및 설파모일기이다. m1~m4가 0인(즉, Y1~Y4가 없음) 프탈로시아닌 화합물도 적합하게 사용할 수 있다. 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 옥소 원자를 들 수 있다. 치환기를 가져도 되는 프탈이미드메틸기, 및 치환기를 가져도 되는 설파모일기의 「치환기」로서는 X1~X4의 치환기와 동의이다.Next, as specific examples of Y 1 to Y 4 , a halogen atom, a nitro group, a phthalimidemethyl group which may have a substituent (C 6 H 4 (CO) 2 N-CH 2 -), a sulfamoyl group (H 2 NSO 2 -) can be heard. A phthalimidemethyl group having a substituent represents a structure in which hydrogen atoms in a phthalimidemethyl group are substituted by a substituent, and a sulfamoyl group having a substituent represents a structure in which hydrogen atoms in a sulfamoyl group are substituted by a substituent. Preferred Y 1 to Y 4 are a halogen atom and a sulfamoyl group. A phthalocyanine compound in which m1 to m4 is 0 (ie, Y 1 to Y 4 is absent) can also be suitably used. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned. The “substituent” of the phthalimidemethyl group which may have a substituent and the sulfamoyl group which may have a substituent is synonymous with the substituents of X 1 to X 4 .
프탈로시아닌계 안료로서는 C.I. 안료 그린 7, C.I. 안료 그린 36, C.I. 안료 그린 37, C.I. 안료 그린 58, C.I. 안료 블루 16, C.I. 안료 블루 75, 및 C.I. 안료 블루 15(15:1에서 15:6 등을 포함함) 등이 바람직하고, C.I. 안료 그린 7, C.I. 안료 그린 36, C.I. 안료 그린 58, C.I. 안료 블루 15:1~15:6이 보다 바람직하다. 프탈로시아닌계 안료는 1종 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.As a phthalocyanine pigment, C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 37, C.I. Pigment Green 58, C.I. Pigment Blue 16, C.I. Pigment Blue 75, and C.I. Pigment Blue 15 (including 15:1 to 15:6, etc.) is preferred, and C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 58, C.I. Pigment Blue 15:1 to 15:6 are more preferred. A phthalocyanine-type pigment can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
본 발명에 이용되는 프탈로시아닌계 안료는 공지된 방법으로 제조할 수 있다. 또, 시판되는 프탈로시아닌계 안료를 이용해도 된다.The phthalocyanine-based pigment used in the present invention can be prepared by a known method. Moreover, you may use a commercially available phthalocyanine type pigment.
페릴렌계 안료로서는 하기 식(e-1)으로 나타내는 페릴렌계 안료, 하기 식(e-2)으로 나타내는 페릴렌계 안료, 및 하기 식(e-3)으로 나타내는 페릴렌계 안료를 들 수 있다. 시판품으로는 BASF사 제의 제품명 K0084, 및 K0086나, C.I. 안료 블랙 21(이하, 「C.I. 안료 블랙」은 동일하며 번호만을 기재함), 30, 31,32, 33, 및 34 등을 페릴렌계 안료로서 바람직하게 이용할 수 있다.Examples of the perylene pigment include a perylene pigment represented by the following formula (e-1), a perylene pigment represented by the following formula (e-2), and a perylene pigment represented by the following formula (e-3). Commercially available products include BASF's product names K0084 and K0086, and C.I. Pigment Black 21 (hereinafter "C.I. Pigment Black" is the same and only numbers are described), 30, 31, 32, 33, 34, etc. can be preferably used as the perylene pigment.
[화 4][Tuesday 4]
식(e-1) 중, Re1 및 Re2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~3의 알킬렌기를 나타내고, Re3 및 Re4는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 메톡시기, 또는 아세틸기를 나타낸다.In formula (e-1), R e1 and R e2 each independently represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and R e3 and R e4 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, or an acetyl group. .
[화 5][Tuesday 5]
식(e-2) 중, Re5 및 Re6은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~7의 알킬렌기를 나타낸다.In formula (e-2), R e5 and R e6 each independently represent an alkylene group having 1 to 7 carbon atoms.
[화 6][Tue 6]
식(e-3) 중, Re7 및 Re8은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~22의 알킬기이며, N, O, S, 또는 P의 헤테로 원자를 포함하고 있어도 된다. Re7 및 Re8이 알킬기인 경우, 상기 알킬기는 직쇄상이어도, 분기쇄상이어도 된다.In formula (e-3), R e7 and R e8 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, and may contain N, O, S, or P hetero atoms. When Re7 and Re8 are alkyl groups, the alkyl group may be linear or branched.
상기 식(e-1)으로 나타내는 화합물, 식(e-2)으로 나타내는 화합물, 및 식(e-3)으로 나타내는 화합물은, 예를 들면 일본 특개 소62-1753호 공보, 일본 특공 소63-26784호 공보 등에 기재의 방법을 이용해 합성할 수 있다. 즉, 페릴렌-3,5,9,10-테트라카르복시산 또는 그의 2무수물과 아민류를 원료로 해, 물 또는 유기용매 중에서 가열 반응을 실시한다. 그리고, 얻어진 조제물을 황산 중에서 재침전시키거나, 또는 물, 유기용매 혹은 이들 혼합 용매 중에서 재결정시킴으로써 목적물을 얻을 수 있다.The compound represented by the formula (e-1), the compound represented by the formula (e-2), and the compound represented by the formula (e-3) are, for example, Japanese Patent Application Publication No. 62-1753, Japanese Patent Publication No. 63- It can be synthesized using a method described in Publication No. 26784 or the like. That is, perylene-3,5,9,10-tetracarboxylic acid or its dianhydride and amines are used as raw materials, and a heating reaction is performed in water or an organic solvent. Then, the desired product can be obtained by reprecipitating the obtained preparation in sulfuric acid or by recrystallizing it in water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof.
페릴렌계 안료를 양호하게 분산시키기 위해서는 페릴렌계 안료의 평균 입자 지름은 10~1000nm인 것이 바람직하다.In order to favorably disperse the perylene-based pigment, it is preferable that the average particle diameter of the perylene-based pigment is 10 to 1000 nm.
착색제의 함유량은 본 발명에 관한 착색제 분산액의 고형분에 대해서, 5~95중량%가 바람직하고, 25~90중량%가 보다 바람직하다.The content of the colorant is preferably 5 to 95% by weight, more preferably 25 to 90% by weight, based on the solid content of the colorant dispersion according to the present invention.
[분산제] [Dispersant]
본 발명에 관한 착색제 분산액은 분산제를 함유한다. 상기 착색제 분산액이 분산제를 함유하면, 상기 착색제 분산액에서, 착색제가 균일하게 분산하기 쉬워진다. 분산제는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The colorant dispersion according to the present invention contains a dispersant. When the colorant dispersion liquid contains a dispersant, the colorant is easily dispersed uniformly in the colorant dispersion liquid. A dispersing agent may be used independently and may use 2 or more types together.
분산제로서는 공지된 것을 들 수 있고, 폴리에틸렌이민계 고분자 분산제, 우레탄 수지계 고분자 분산제, 아크릴 수지계 고분자 분산제를 이용하는 것이 바람직하다.As the dispersing agent, known ones can be mentioned, and it is preferable to use a polyethyleneimine-based polymer dispersing agent, a urethane resin-based polymer dispersing agent, or an acrylic resin-based polymer dispersing agent.
본 발명에 관한 착색제 분산액에서, 분산제의 함유량은 착색제 100중량부에 대해서, 1~50중량부인 것이 바람직하고, 1~20중량부인 것이 보다 바람직하며, 1~15중량부인 것이 더욱 바람직하다. 분산제의 함유량이 상기의 범위이면, 본 발명에 관한 착색제 분산액에서의 착색제의 균일한 분산이 더욱 용이하게 된다. 또, 상한이 작을수록, 후술하는 감광성 수지 조성물에서, 각 성분의 밸런스가 양호해지기 쉽고, 상기 감광성 수지 조성물에서의 다른 성분의 배합량을 상대적으로 증가시킬 수 있기 때문에, 감도 등의 다른 특성을 향상시키기 쉬워진다. 감도 특성에 대해서, 특히 감광 파장을 흡수해 버리는 청색계의 안료를 이용했을 때의 효과가 양호해진다.In the colorant dispersion according to the present invention, the content of the dispersant is preferably 1 to 50 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight, and still more preferably 1 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the colorant. When the content of the dispersant is within the above range, uniform dispersion of the colorant in the colorant dispersion liquid according to the present invention becomes easier. In addition, since the smaller the upper limit is, the balance of each component tends to be better in the photosensitive resin composition described later, and the compounding amount of other components in the photosensitive resin composition can be relatively increased, so other characteristics such as sensitivity are improved. it becomes easier to do Regarding the sensitivity characteristic, the effect at the time of using the blue-type pigment which absorbs the photosensitive wavelength especially becomes favorable.
[옥심 화합물] [oxime compound]
본 발명에 관한 착색제 분산액은 하기 식(1)로 나타내는 옥심 화합물을 함유한다. 이 옥심 화합물은 광중합 개시제로서의 기능과 분산 조제로서의 기능을 겸비한다. 그 때문에, 착색제를 함유하는 착색제 분산액은 상기 옥심 화합물을 함유하면, 분산제의 함유량을 줄여도 착색제의 분산 안정성이 양호해지기 쉽다. 즉, 상기 옥심 화합물을 이용함으로써, 착색제의 분산 안정성을 해치지 않고, 착색제 분산액 중의 분산제의 함유량을 줄이는 것이 용이해진다. 결과적으로, 분산제의 일부를 상기 옥심 화합물로 치환하게 된다. 상기 옥심 화합물은 광중합 개시제로서도 기능하기 때문에, 상기의 치환은 분산제의 함유량을 줄여, 광중합 개시제의 함유량을 늘렸던 것에 해당한다. 따라서, 상기 옥심 화합물을 함유하는 착색제 분산액으로부터 얻어진 감광성 수지 조성물에서, 광중합 개시제의 함유량을 늘릴 수 있고 이 감광성 수지 조성물로부터 저노광량으로 고밀착성인 미소 패턴을 형성하는 것이 용이해진다. 상기 옥심 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.The colorant dispersion liquid according to the present invention contains an oxime compound represented by the following formula (1). This oxime compound has both a function as a photoinitiator and a function as a dispersing aid. Therefore, when the colorant dispersion containing the colorant contains the oxime compound, the dispersion stability of the colorant tends to be improved even if the content of the dispersant is reduced. That is, by using the oxime compound, it becomes easy to reduce the content of the dispersant in the colorant dispersion without impairing the dispersion stability of the colorant. As a result, a part of the dispersant is substituted with the oxime compound. Since the said oxime compound functions also as a photoinitiator, said substitution corresponds to reducing content of a dispersing agent and increasing content of a photoinitiator. Therefore, in the photosensitive resin composition obtained from the colorant dispersion containing the oxime compound, the content of the photopolymerization initiator can be increased, and it is easy to form a highly adherent micropattern with a low exposure amount from this photosensitive resin composition. The said oxime compound can be used individually or in combination of 2 or more types.
[화 7][Tue 7]
(R1은 수소 원자, 니트로기 또는 1가의 유기기이며, R2 및 R3은 각각 쇄상 알킬기, 환상 탄화수소기, 또는 헤테로아릴기이며, R2와 R3은 서로 결합해 스피로환을 형성해도 되고, R4는 1가의 유기기이며, R5는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~11의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이며, m은 0 또는 1이다.)(R 1 is a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group, R 2 and R 3 are each a chain alkyl group, a cyclic hydrocarbon group, or a heteroaryl group, and R 2 and R 3 may combine with each other to form a spiro ring. R 4 is a monovalent organic group, R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and m is 0 or 1.)
상기 옥심 화합물과 착색제 사이에 상호작용이 생기고, 상기 옥심 화합물은 착색제의 분산 안정성을 향상시킬 수 있는 것으로 생각된다. 특히, 착색제가 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료인 경우에는 이하와 같이 생각된다. 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료에서, π전자계는 분자 중에 포함되는 질소 원자의 영향에 의해, 질소 원자를 포함하지 않는 경우와 비교하여 불안정한 상태가 되어 있다. 그 때문에, 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료는 분산 안정성이 양호해지기 어렵다. 본 발명에 관한 안료 분산액으로 이용되는 상기 옥심 화합물은 옥심기 및 카르보닐기를 포함하고, 또한 이들 기에 방향환이 결합하고 있기 때문에, 안정한 π전자계를 형성하고 있다. 상기 옥심 화합물과 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료 사이에는 π-π 상호작용이 생겨 서로의 분자가 스태킹하고, 상기 안료의 π전자계는 안정화된다고 추측된다. 그 결과적으로, 상기 옥심 화합물은 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료의 분산 안정성을 향상시킬 수 있는 것으로 생각된다.It is thought that an interaction occurs between the oxime compound and the colorant, and the oxime compound can improve the dispersion stability of the colorant. In particular, when the colorant is a pigment composed of a nitrogen-containing aromatic ring compound, it is considered as follows. In a pigment composed of a nitrogen-containing aromatic ring compound, the π electron system is in an unstable state due to the influence of the nitrogen atom contained in the molecule compared to the case where the nitrogen atom is not included. Therefore, it is difficult for the pigment which consists of a nitrogen-containing aromatic ring compound to have good dispersion stability. The oxime compound used in the pigment dispersion according to the present invention contains an oxime group and a carbonyl group, and since an aromatic ring is bonded to these groups, a stable π electron system is formed. It is presumed that a π-π interaction occurs between the pigment composed of the oxime compound and the nitrogen-containing aromatic ring compound, and the molecules of each other stack, thereby stabilizing the π electronic system of the pigment. As a result, it is thought that the said oxime compound can improve the dispersion stability of the pigment which consists of a nitrogen-containing aromatic ring compound.
상기 옥심 화합물은 분산 조제로서, 특히 착색제를 분산하기 위해서 분산 조제로서 적합하게 이용할 수 있다.The oxime compound can be suitably used as a dispersing aid, particularly for dispersing a colorant.
식(1) 중, R1은 수소 원자, 니트로기 또는 1가의 유기기이다. R1은 식(1) 중의 플루오렌환상에서, -(CO)m-로 나타내는 기에 결합하는 6원 방향환과는, 상이한 6원 방향환에 결합한다. 식(1) 중, R1의 플루오렌환에 대한 결합 위치는 특별히 한정되지 않는다. R1의 플루오렌환에 대한 결합 위치는 식(1)로 나타내는 화합물의 합성이 용이한 점 등에서, 플루오렌환 중의 2위치인 것이 바람직하다.In formula (1), R 1 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group. R 1 bonds to a 6-membered aromatic ring different from the 6-membered aromatic ring bonded to the group represented by -(CO) m - on the fluorene ring in formula (1). In formula (1), the bonding position of R 1 to the fluorene ring is not particularly limited. The bonding position of R 1 to the fluorene ring is preferably the 2nd position in the fluorene ring in terms of easy synthesis of the compound represented by formula (1).
R1이 유기기인 경우, R1은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지 유기기로부터 적절히 선택된다. R1이 유기기인 경우의 바람직한 예로서는 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기 등을 들 수 있다.When R 1 is an organic group, R 1 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various organic groups. Preferred examples when R 1 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, Benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, benzoyloxy group which may have a substituent, phenylalkyl group which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naphthoxy group which may have a substituent , a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, a substituent a heterocyclylcarbonyl group that may be used, an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group.
R1이 알킬기인 경우, 알킬기의 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다. 또, R1이 알킬기인 경우, 직쇄여도 분기쇄여도 된다. R1이 알킬기인 경우의 구체예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, R1이 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알킬기의 예로서는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.As for the number of carbon atoms of an alkyl group, when R <1> is an alkyl group, 1-20 are preferable and 1-6 are more preferable. Moreover, when R <1> is an alkyl group, it may be straight-chain or branched-chain. Specific examples when R 1 is an alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n-decyl group A real group, an isodecyl group, etc. are mentioned. Moreover, when R <1> is an alkyl group, the alkyl group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethyl group, ethoxyethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propyloxyethoxyethyl group, and methoxypropyl group.
R1이 알콕시기인 경우, 알콕시기의 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다. 또, R1이 알콕시기인 경우, 직쇄여도 분기쇄여도 된다. R1이 알콕시기인 경우의 구체예로서는 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, sec-부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, sec-옥틸옥시기, tert-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, n-데실옥시기, 및 이소데실옥시기 등을 들 수 있다. 또, R1이 알콕시기인 경우, 알콕시기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알콕시기의 예로서는 메톡시에톡시기, 에톡시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기, 프로필옥시에톡시에톡시기, 및 메톡시프로필옥시기 등을 들 수 있다.As for the number of carbon atoms of an alkoxy group, when R <1> is an alkoxy group, 1-20 are preferable and 1-6 are more preferable. Moreover, when R <1> is an alkoxy group, it may be straight chain or branched chain. Specific examples in case R 1 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group, tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group, etc. are mentioned. Moreover, when R <1> is an alkoxy group, the alkoxy group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxy group. A propyloxy group etc. are mentioned.
R1이 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기인 경우, 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기의 탄소 원자수는 3~10이 바람직하고, 3~6이 보다 바람직하다. R1이 시클로알킬기인 경우의 구체예로서는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 및 시클로옥틸기 등을 들 수 있다. R1이 시클로알콕시기인 경우의 구체예로서는 시클로프로필옥시기, 시클로부틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기, 시클로헵틸옥시기, 및 시클로옥틸옥시기 등을 들 수 있다.As for the carbon atom number of a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, when R <1> is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3-10 are preferable and 3-6 are more preferable. A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group etc. are mentioned as a specific example in case R <1> is a cycloalkyl group. Specific examples in case R 1 is a cycloalkoxy group include cyclopropyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, cycloheptyloxy group, and cyclooctyloxy group.
R1이 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기인 경우, 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기의 탄소 원자수는 2~21이 바람직하고, 2~7이 보다 바람직하다. R1이 포화 지방족 아실기인 경우의 구체예로서는 아세틸기, 프로파노일기, n-부타노일기, 2-메틸프로파노일기, n-펜타노일기, 2,2-디메틸프로파노일기, n-헥사노일기, n-헵타노일기, n-옥타노일기, n-노나노일기, n-데카노일기, n-운데카노일기, n-도데카노일기, n-트리데카노일기, n-테트라데카노일기, n-펜타데카노일기, 및 n-헥사데카노일기 등을 들 수 있다. R1이 포화 지방족 아실옥시기인 경우의 구체예로서는 아세틸옥시기, 프로파노일옥시기, n-부타노일옥시기, 2-메틸프로파노일옥시기, n-펜타노일옥시기, 2,2-디메틸프로파노일옥시기, n-헥사노일옥시기, n-헵타노일옥시기, n-옥타노일옥시기, n-노나노일옥시기, n-데카노일옥시기, n-운데카노일옥시기, n-도데카노일옥시기, n-트리데카노일옥시기, n-테트라데카노일옥시기, n-펜타데카노일옥시기, 및 n-헥사데카노일옥시기 등을 들 수 있다.As for the carbon atom number of a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, when R <1> is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, 2-21 are preferable and 2-7 are more preferable. Specific examples of when R 1 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n-hexanoyl group, n -Heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentanoyl group A decanoyl group, and an n-hexadecanoyl group, etc. are mentioned. Specific examples in case R 1 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, and 2,2-dimethylpropanoyloxy group. , n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n-dodecanoyloxy group, n- Tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group, etc. are mentioned.
R1이 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기의 탄소 원자수는 2~20이 바람직하고, 2~7이 보다 바람직하다. R1이 알콕시카르보닐기인 경우의 구체예로서는 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, 이소프로필옥시카르보닐기, n-부틸옥시카르보닐기, 이소부틸옥시카르보닐기, sec-부틸옥시카르보닐기, tert-부틸옥시카르보닐기, n-펜틸옥시카르보닐기, 이소펜틸옥시카르보닐기, sec-펜틸옥시카르보닐기, tert-펜틸옥시카르보닐기, n-헥실옥시카르보닐기, n-헵틸옥시카르보닐기, n-옥틸옥시카르보닐기, 이소옥틸옥시카르보닐기, sec-옥틸옥시카르보닐기, tert-옥틸옥시카르보닐기, n-노닐옥시카르보닐기, 이소노닐옥시카르보닐기, n-데실옥시카르보닐기, 및 이소데실옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.As for the carbon atom number of an alkoxycarbonyl group, when R <1> is an alkoxycarbonyl group, 2-20 are preferable and 2-7 are more preferable. Specific examples in case R 1 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, tert-butyloxy group. carbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec- Octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, isodecyloxycarbonyl group, etc. are mentioned.
R1이 페닐알킬기인 경우, 페닐알킬기의 탄소 원자수는 7~20이 바람직하고, 7~10이 보다 바람직하다. 또, R1이 나프틸알킬기인 경우, 나프틸알킬기의 탄소 원자수는 11~20이 바람직하고, 11~14가 보다 바람직하다. R1이 페닐알킬기인 경우의 구체예로서는 벤질기, 2-페닐에틸기, 3-페닐프로필기, 및 4-페닐부틸기를 들 수 있다. R1이 나프틸알킬기인 경우의 구체예로서는, α-나프틸메틸기, β-나프틸메틸기, 2-(α-나프틸)에틸기, 및 2-(β-나프틸)에틸기를 들 수 있다. R1이 페닐알킬기, 또는 나프틸알킬기인 경우, R1은 페닐기, 또는 나프틸기상에 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R 1 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms in the phenylalkyl group is preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 10. Moreover, as for the number of carbon atoms of a naphthylalkyl group, when R <1> is a naphthylalkyl group, 11-20 are preferable and 11-14 are more preferable. Specific examples in case R 1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in case R 1 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2-(α-naphthyl)ethyl group, and a 2-(β-naphthyl)ethyl group. When R 1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R 1 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.
R1이 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시클릴기이다. 헤테로시클릴기가 축합환인 경우에는 환 수 3까지인 것으로 한다. 헤테로시클릴기는 방향족기(헤테로아릴기)이어도, 비방향족기여도 된다. 이러한 헤테로시클릴기를 구성하는 복소환으로서는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 시놀린, 및 퀴녹살린 등을 들 수 있다. R1이 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more of N, S, and O, or a heterocyclyl group formed by condensation of such monocycles or a benzene ring. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of rings is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, and pyrimidine. , pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthala gin, cinoline, and quinoxaline; and the like. When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.
R1이 헤테로시클릴카르보닐기인 경우, 헤테로시클릴카르보닐기에 포함되는 헤테로시클릴기는 R1이 헤테로시클릴기인 경우와 동일하다.When R 1 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl groups included in the heterocyclylcarbonyl group are the same as those in the case where R 1 is a heterocyclyl group.
R1이 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기인 경우, 유기기의 바람직한 예는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 탄소 원자수 3~10의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2~21의 포화 지방족 아실기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7~20의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11~20의 나프틸알킬기, 및 헤테로시클릴기 등을 들 수 있다. 이들의 바람직한 유기기의 구체예는 R1과 동일하다. 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기의 구체예로서는 메틸아미노기, 에틸아미노기, 디에틸아미노기, n-프로필아미노기, 디-n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 디-n-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, n-헥실아미노기, n-헵틸아미노기, n-옥틸아미노기, n-노닐아미노기, n-데실아미노기, 페닐아미노기, 나프틸아미노기, 아세틸아미노기, 프로파노일아미노기, n-부타노일아미노기, n-펜타노일아미노기, n-헥사노일아미노기, n-헵타노일아미노기, n-옥타노일아미노기, n-데카노일아미노기, 벤조일아미노기, α-나프토일아미노기, 및 β-나프토일아미노기 등을 들 수 있다.When R 1 is an amino group substituted with an organic group of 1 or 2, preferred examples of the organic group include an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 10 carbon atoms, and a saturated aliphatic group of 2 to 21 carbon atoms. A phenyl group which may have a real group, a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a substituent A naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, and a heterocyclyl group, which may have . Specific examples of these preferred organic groups are the same as those for R 1 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group , n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-decanoylamino group, benzoylamino group, α-naphthoylamino group, and β-naphthoylamino group, etc. there is.
R1에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우의 치환기로서는 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 탄소 원자수 1~6의 알콕시기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2~7의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. R1에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1~4가 바람직하다. R1에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 차이가 나도 된다.Examples of the substituent in case the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R 1 further have a substituent include an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom group of 2 to 7 carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Dialkylamino group, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen, nitro group, and cyano group having When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R 1 further have substituents, the number of substituents is not limited to the range not impairing the object of the present invention, but is preferably 1 to 4. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
이상 설명한 기 중에서도, R1로서는 니트로기, 또는 R6-CO-로 나타내는 기이면, 감도가 향상되는 경향이 있어 바람직하다. R6은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지 유기기로부터 선택할 수 있다. R6로서 바람직한 기의 예로서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기를 들 수 있다. R6로서 이들 기 중에서는 2-메틸페닐기, 티오펜-2-일기, 및 α-나프틸기가 특히 바람직하다.Among the groups described above, a nitro group or a group represented by R 6 -CO- as R 1 is preferable because the sensitivity tends to improve. R 6 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Examples of groups suitable for R 6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a heterocyclyl group which may have a substituent. Among these groups as R 6 , a 2-methylphenyl group, a thiophen-2-yl group, and an α-naphthyl group are particularly preferred.
또, R1이 수소 원자이면, 투명성이 양호해지는 경향이 있어 바람직하다. 또한 R1이 수소 원자이며, 또한 R4가 후술하는 (R4-2)이면 투명성은 보다 양호해지는 경향이 있다.In addition, when R 1 is a hydrogen atom, transparency tends to be improved and is preferable. Transparency tends to be better when R 1 is a hydrogen atom and R 4 is (R4-2 described later).
식(1) 중, R2 및 R3은 각각 쇄상 알킬기, 환상 탄화수소기, 또는 헤테로아릴기이다. 이들 기 중에서는 R2 및 R3로서 쇄상 알킬기가 바람직하다.In Formula (1), R 2 and R 3 are each a chain alkyl group, a cyclic hydrocarbon group, or a heteroaryl group. Among these groups, chain-like alkyl groups are preferred as R 2 and R 3 .
R2 및 R3이 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기는 직쇄 알킬기여도 분기쇄 알킬기여도 된다. R2 및 R3이 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기의 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다. 또, R1이 알킬기인 경우, 직쇄여도 분기쇄여도 된다. R1이 알킬기인 경우의 구체예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, R1이 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알킬기의 예로서는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When R 2 and R 3 are chain alkyl groups, the chain alkyl group may be either a straight chain alkyl group or a branched chain alkyl group. When R 2 and R 3 are chain alkyl groups, the number of carbon atoms in the chain alkyl group is preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 6. Moreover, when R <1> is an alkyl group, it may be straight-chain or branched-chain. Specific examples when R 1 is an alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n-decyl group A real group, an isodecyl group, etc. are mentioned. Moreover, when R <1> is an alkyl group, the alkyl group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethyl group, ethoxyethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propyloxyethoxyethyl group, and methoxypropyl group.
R2 및 R3이 환상 탄화수소기인 경우, 환상 탄화수소기는 지방족 환상 탄화수소기여도, 방향족 환상 탄화수소기여도 된다.When R 2 and R 3 are cyclic hydrocarbon groups, the cyclic hydrocarbon group may be an aliphatic cyclic hydrocarbon group or an aromatic cyclic hydrocarbon group.
R2 및 R3이 방향족 환상 탄화수소기인 경우, 방향족 환상 탄화수소기는 페닐기이거나, 복수의 벤젠환이 탄소-탄소 결합을 통해서 결합해 형성되는 기이거나, 복수의 벤젠환이 축합해 형성되는 기인 것이 바람직하다. 방향족 환상 탄화수소기가 페닐기이거나, 복수의 벤젠환이 결합 또는 축합해 형성되는 기인 경우, 방향족 환상 탄화수소기에 포함되는 벤젠환의 환 수는 특별히 한정되지 않고, 3 이하가 바람직하며, 2 이하가 보다 바람직하며, 1이 특히 바람직하다. 방향족 환상 탄화수소기의 바람직한 구체예로서는 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 안트릴기, 및 페난트릴기 등을 들 수 있다.When R 2 and R 3 are aromatic cyclic hydrocarbon groups, the aromatic cyclic hydrocarbon group is preferably a phenyl group, a group formed by bonding of a plurality of benzene rings via a carbon-carbon bond, or a group formed by condensation of a plurality of benzene rings. When the aromatic cyclic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding or condensation of a plurality of benzene rings, the number of rings of benzene rings contained in the aromatic cyclic hydrocarbon group is not particularly limited, preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and 1 This is particularly preferred. Preferred specific examples of the aromatic cyclic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.
R2 및 R3이 지방족 환상 탄화수소기인 경우, 지방족 환상 탄화수소기는 단환식여도 다환식여도 된다. 지방족 환상 탄화수소기의 탄소 원자수는 특별히 한정되지 않지만, 3~20이 바람직하고, 3~10이 보다 바람직하다. 단환식의 환상 탄화수소기의 예로서는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 노르보닐기, 이소보닐기, 트리시클로노닐기, 트리시클로데실기, 테트라시클로도데실기, 및 아다만틸기 등을 들 수 있다.When R 2 and R 3 are an aliphatic cyclic hydrocarbon group, the aliphatic cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. The number of carbon atoms in the aliphatic cyclic hydrocarbon group is not particularly limited, but is preferably 3 to 20 and more preferably 3 to 10. Examples of the monocyclic cyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, A tetracyclododecyl group, an adamantyl group, etc. are mentioned.
R2 및 R3이 헤테로아릴기인 경우, 헤테로아릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로아릴기이다. 헤테로아릴기가 축합환인 경우에는 환 수 3까지인 것으로 한다. 이러한 헤테로아릴기를 구성하는 복소환으로서는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 시놀린, 및 퀴녹살린 등을 들 수 있다.When R 2 and R 3 are heteroaryl groups, the heteroaryl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more of N, S, and O, or a heteroaryl group formed by condensation of such monocycles or a benzene ring. When the heteroaryl group is a condensed ring, the number of rings is up to 3. Examples of the heterocycle constituting the heteroaryl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, Pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine , cinoline, and quinoxaline; and the like.
R2와 R3은 서로 결합해 스피로환을 형성해도 된다. R2와 R3이 형성하는 스피로환으로 이루어지는 기는 시클로알킬리덴기인 것이 바람직하다. R2와 R3이 결합해 시클로알킬리덴기를 형성하는 경우, 시클로알킬리덴기를 구성하는 스피로환은 5원환~6원환인 것이 바람직하고, 5원환인 것이 보다 바람직하다.R 2 and R 3 may combine with each other to form a spiro ring. It is preferable that the group which consists of a spiro ring formed by R2 and R3 is a cycloalkylidene group. When R 2 and R 3 combine to form a cycloalkylidene group, the spiro ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered to 6-membered ring, more preferably a 5-membered ring.
R2와 R3이 결합해 형성하는 기가 시클로알킬리덴기인 경우, 시클로알킬리덴기는 1 이상의 다른 환과 축합하고 있어도 된다. 시클로알킬리덴기와 축합하고 있어도 되는 환의 예로서는 벤젠환, 나프탈렌환, 시클로부탄환, 시클로펜탄환, 시클로헥산환, 시클로헵탄환, 시클로옥탄환, 푸란환, 티오펜환, 피롤환, 피리딘환, 피라진환, 및 피리미딘환 등을 들 수 있다.When the group formed by combining R 2 and R 3 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of rings that may be condensed with a cycloalkylidene group include a benzene ring, a naphthalene ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclooctane ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, a pyridine ring, and a pyraline ring. A true ring, and a pyrimidine ring, etc. are mentioned.
R4의 바람직한 유기기의 예로서는 R1과 동일하게, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기 등을 들 수 있다. 이들 기의 구체예는 R1에 대해 설명한 것과 동일하다. 또, R4로서는 시클로알킬알킬기, 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페녹시알킬기, 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기도 바람직하다. 페녹시알킬기, 및 페닐티오알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기는 R1에 포함되는 페닐기가 가지고 있어도 되는 치환기와 동일하다.Examples of preferred organic groups for R 4 include, as in R 1 , an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenyl group which may have a substituent, or a substituent; A phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a substituent A naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocycle which may have a substituent A lyl group, a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group. Specific examples of these groups are the same as those described for R 1 . Moreover, as R <4> , a cycloalkylalkyl group, the phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, and the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring are preferable. The substituents that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have are the same as the substituents that the phenyl group contained in R 1 may have.
유기기 중에서도, R4로서는 알킬기, 시클로알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기, 또는 시클로알킬알킬기, 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기가 바람직하다. 알킬기로서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자수 1~8의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소 원자수 1~4의 알킬기가 특히 바람직하고, 메틸기가 가장 바람직하다. 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기 중에서는 메틸페닐기가 바람직하고, 2-메틸페닐기가 보다 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 시클로알킬기의 탄소 원자수는 5~10이 바람직하고, 5~8이 보다 바람직하며, 5 또는 6이 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자수는 1~8이 바람직하고, 1~4가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기 중에서는 시클로펜틸에틸기가 바람직하다. 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자수는 1~8이 바람직하고, 1~4가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기 중에서는 2-(4-클로로페닐티오)에틸기가 바람직하다.Among the organic groups, R 4 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, a cycloalkylalkyl group, or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring. The alkyl group is preferably an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group of 1 to 4 carbon atoms, and most preferably a methyl group. Among the phenyl groups which may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. 5-10 are preferable, as for the number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in a cycloalkylalkyl group, 5-8 are more preferable, and 5 or 6 are especially preferable. The number of carbon atoms in the alkylene group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 2. Among the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferred. As for the carbon atom number of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, 1-8 are preferable, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, a 2-(4-chlorophenylthio)ethyl group is preferable.
이상, R4에 대해 설명했지만, R4로서는 하기 식(R4-1) 또는 (R4-2)으로 나타내는 기가 바람직하다.As mentioned above, although R <4> was demonstrated, as R <4> , the group represented by the following formula (R4-1) or (R4-2) is preferable.
[화 8][Tue 8]
(식(R4-1) 및 (R4-2) 중, R6 및 R7은 각각 유기기이며, p는 0~4의 정수이며, R6 및 R7이 벤젠환 상의 인접하는 위치에 존재하는 경우, R6과 R7이 서로 결합해 환을 형성해도 되고, q는 1~8의 정수이며, r은 1~5의 정수이며, s는 0~(r+3)의 정수이고, R8은 알킬기이다.)(In formulas (R4-1) and (R4-2), R 6 and R 7 are each an organic group, p is an integer of 0 to 4, and R 6 and R 7 are present at adjacent positions on the benzene ring. In this case, R 6 and R 7 may combine with each other to form a ring, q is an integer from 1 to 8, r is an integer from 1 to 5, s is an integer from 0 to (r + 3), R 8 is an alkyl group.)
식(R4-1) 중의 R6 및 R7에 대한 유기기의 예는 R1과 동일하다. R6로서는 알킬기 또는 페닐기가 바람직하다. R6가 알킬기인 경우, 그 탄소 원자수는 1~10이 바람직하고, 1~5가 보다 바람직하며, 1~3이 특히 바람직하고, 1이 가장 바람직하다. 즉, R6은 메틸기인 것이 가장 바람직하다. R6과 R7이 결합해 환을 형성하는 경우, 상기 환은 방향족환이어도 되고, 지방족환이어도 된다. 식(R4-1)으로 나타내는 기로서, R6과 R7이 환을 형성하고 있는 기의 바람직한 예로서는 나프탈렌-1-일기나, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-5-일기 등을 들 수 있다. 상기 식(R4-1) 중, p는 0~4의 정수이며, 0 또는 1인 것이 바람직하고, 0인 것이 보다 바람직하다.Examples of organic groups for R 6 and R 7 in formula (R4-1) are the same as for R 1 . As R 6 , an alkyl group or a phenyl group is preferable. As for the number of carbon atoms, when R <6> is an alkyl group, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, 1-3 are especially preferable, and 1 is the most preferable. That is, R 6 is most preferably a methyl group. When R 6 and R 7 combine to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Preferable examples of the group represented by formula (R4-1) in which R 6 and R 7 form a ring include a naphthalen-1-yl group, a 1,2,3,4-tetrahydronaphthalen-5-yl group, and the like. can be heard In the formula (R4-1), p is an integer of 0 to 4, preferably 0 or 1, and more preferably 0.
상기 식(R4-2) 중, R8은 알킬기이다. 알킬기의 탄소 원자수는 1~10이 바람직하고, 1~5가 보다 바람직하며, 1~3이 특히 바람직하다. R8로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기 등이 바람직하게 예시되고, 이들 중에서도, 메틸기인 것이 보다 바람직하다.In the formula (R4-2), R 8 is an alkyl group. 1-10 are preferable, as for the number of carbon atoms of an alkyl group, 1-5 are more preferable, and 1-3 are especially preferable. As R <8> , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, etc. are illustrated preferably, and among these, a methyl group is more preferable.
상기 식(R4-2) 중, r은 1~5의 정수이며, 1~3의 정수가 바람직하고, 1 또는 2가 보다 바람직하다. 상기 식(R4-2) 중, s는 0~(r+3)이고, 0~3의 정수가 바람직하며, 0~2의 정수가 보다 바람직하며, 0이 특히 바람직하다. 상기 식(R4-2) 중, q는 1~8의 정수이며, 1~5의 정수가 바람직하고, 1~3의 정수가 보다 바람직하며, 1 또는 2가 특히 바람직하다.In the formula (R4-2), r is an integer of 1 to 5, preferably an integer of 1 to 3, and more preferably 1 or 2. In the formula (R4-2), s is 0 to (r+3), preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, particularly preferably 0. In the formula (R4-2), q is an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 3, and particularly preferably 1 or 2.
식(1) 중, R5는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~11의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이다. R5가 알킬기인 경우에 가져도 되는 치환기로서는 페닐기, 나프틸기 등이 바람직하게 예시된다. 또, R1이 아릴기인 경우에 가져도 되는 치환기로서는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 등이 바람직하게 예시된다.In formula (1), R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. As a substituent which may have when R <5> is an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are illustrated preferably. Moreover, as a substituent which may have when R <1> is an aryl group, a C1-C5 alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, etc. are illustrated preferably.
식(1) 중, R5로서는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 페닐기, 벤질기, 메틸페닐기, 나프틸기 등이 바람직하게 예시되고, 이들 중에서도, 메틸기 또는 페닐기가 보다 바람직하다.In formula (1), preferred examples of R 5 include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylphenyl group, and a naphthyl group. Among these, A methyl group or a phenyl group is more preferred.
일반식(1)로 나타내는 화합물은 m이 0인 경우, 예를 들면 하기 스킴 1에 따라 합성할 수 있다. 스킴 1에서는 하기 식(1-1)으로 나타내는 플루오렌 유도체를 원료로서 이용한다. R1이 니트로기 또는 1가의 유기기인 경우, 식(1-1)으로 나타내는 플루오렌 유도체는 9위치가 R2 및 R3로 치환된 플루오렌 유도체에 주지의 방법에 의해서, 치환기 R1를 도입해 얻을 수 있다. 9위치가 R2 및 R3로 치환된 플루오렌 유도체는, 예를 들면 R2 및 R3이 알킬기인 경우, 일본 특개 평06-234668호 공보에 기재된 바와 같이, 알칼리 금속 수산화물의 존재 하에, 비프로톤성 극성 유기용매 중에서, 플루오렌과 알킬화제를 반응시켜 얻을 수 있다. 또, 플루오렌의 유기용매 용액 중에, 할로겐화 알킬과 같은 알킬화제와, 알칼리 금속 수산화물의 수용액과, 요오드화 테트라부틸암모늄이나 칼륨 tert-부톡시드와 같은 상간(相間) 이동 촉매를 첨가해 알킬화 반응을 실시함으로써, 9,9-알킬 치환 플루오렌을 얻을 수 있다.When m is 0, the compound represented by Formula (1) can be synthesized, for example, according to Scheme 1 below. In Scheme 1, a fluorene derivative represented by the following formula (1-1) is used as a raw material. When R 1 is a nitro group or a monovalent organic group, the fluorene derivative represented by formula (1-1) is a fluorene derivative in which the 9th position is substituted with R 2 and R 3 by introducing substituent R 1 by a known method. can get it A fluorene derivative in which the 9-position is substituted with R 2 and R 3 , for example, when R 2 and R 3 are alkyl groups, as described in Japanese Patent Laid-Open No. 06-234668, in the presence of an alkali metal hydroxide, It can be obtained by reacting fluorene with an alkylating agent in a protic polar organic solvent. In addition, an alkylating agent such as an alkyl halide, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide, and a phase transfer catalyst such as tetrabutylammonium iodide or potassium tert-butoxide are added to an organic solvent solution of fluorene to carry out an alkylation reaction. , 9,9-alkyl substituted fluorenes can be obtained.
식(1-1)으로 나타내는 플루오렌 유도체를 식(1-2)으로 나타내는 할로카르보닐 화합물을 이용하고, 플리델 크래프트 반응에 의해 아실화하며, 식(1-3)으로 나타내는 플루오렌 유도체가 얻어진다. 식(1-2) 중, Hal은 할로겐 원자이다. 플루오렌환상의 식(1-2)으로 나타내는 화합물에 의해 아실화되는 위치는 플리델 크래프트 반응의 조건을 적절히 변경하거나 플루오렌환상의 식(1-2)으로 나타내는 화합물에 의해 아실화되는 위치의 다른 위치에 보호 및 탈보호를 실시하거나 하는 방법으로 선택할 수 있다.The fluorene derivative represented by formula (1-1) is acylated by the Friedel Crafts reaction using the halocarbonyl compound represented by formula (1-2), and the fluorene derivative represented by formula (1-3) is is obtained In Formula (1-2), Hal is a halogen atom. The position to be acylated by the compound represented by formula (1-2) on the fluorene ring is changed appropriately in the conditions of the Friedel Crafts reaction, or the position to be acylated by the compound represented by formula (1-2) on the fluorene ring It can be selected by a method of carrying out protection and deprotection at different positions.
그 다음에, 얻어지는 식(1-3)으로 나타내는 플루오렌 유도체를 히드록실아민에 의해 옥심화해 하기 식(1-4)으로 나타내는 옥심 화합물을 얻는다. 식(1-4)의 옥심 화합물과, 하기 식(1-5)으로 나타내는 산무수물((R5CO)2O), 또는 하기 일반식(1-6)으로 나타내는 산할라이드(R5COHal, Hal은 할로겐 원자)를 반응시켜 하기 식(1-7)으로 나타내는 화합물을 얻을 수 있다.Next, the fluorene derivative represented by the obtained formula (1-3) is oxime-treated with hydroxylamine to obtain an oxime compound represented by the following formula (1-4). An oxime compound of formula (1-4), an acid anhydride ((R 5 CO) 2 O) represented by formula (1-5) below, or an acid halide represented by formula (1-6) below (R 5 COHal, Hal is a halogen atom) to react to obtain a compound represented by the following formula (1-7).
또한 식(1-1), (1-2), (1-3), (1-4), (1-5), (1-6), 및 (1-7)에서, R1, R2, R3, R4, 및 R5는 식(1)과 동일하다.Also in formulas (1-1), (1-2), (1-3), (1-4), (1-5), (1-6), and (1-7), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 are the same as in formula (1).
<스킴 1> <Scheme 1>
[화 9][Tue 9]
식(1)로 나타내는 화합물은 m이 1인 경우, 예를 들면 하기 스킴 2에 따라 합성할 수 있다. 스킴 2에서는 하기 식(2-1)으로 나타내는 플루오렌 유도체를 원료로서 이용한다. 식(2-1)으로 나타내는 플루오렌 유도체는 스킴 1과 동일한 방법에 의해서, 식(1-1)으로 나타내는 화합물을 플리델 크래프트 반응에 의해서 아실화해 얻어진다. 식(2-1)으로 나타내는 플루오렌 유도체에 염산의 존재 하에 하기 일반식(2-2)으로 나타내는 아질산에스테르(RONO, R은 탄소수 1~6의 알킬기)를 반응시켜 하기 식(2-3)으로 나타내는 케토옥심 화합물을 얻는다. 그 다음에, 하기 식(2-3)으로 나타내는 케토옥심 화합물과, 하기 식(2-4)으로 나타내는 산무수물((R5CO)2O), 또는 하기 일반식(2-5)으로 나타내는 산할라이드(R5COHal, Hal은 할로겐 원자)를 반응시켜 하기 식(2-6)으로 나타내는 화합물을 얻을 수 있다. 또한 하기 식(2-1), (2-3), (2-4), (2-5), 및 (2-6)에서, R1, R2, R3, R4, 및 R5는 일반식(1)과 동일하다. When m is 1, the compound represented by Formula (1) can be synthesize|combined according to the following scheme 2, for example. In Scheme 2, a fluorene derivative represented by the following formula (2-1) is used as a raw material. The fluorene derivative represented by Formula (2-1) is obtained by acylating the compound represented by Formula (1-1) by a Friedel Crafts reaction in the same manner as in Scheme 1. The fluorene derivative represented by formula (2-1) is reacted with a nitrite ester (RONO, R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) represented by the following general formula (2-2) in the presence of hydrochloric acid to obtain the following formula (2-3) A ketoxime compound represented by is obtained. Next, a ketoxime compound represented by the following formula (2-3) and an acid anhydride ((R 5 CO) 2 O) represented by the following formula (2-4) or the following general formula (2-5) A compound represented by the following formula (2-6) can be obtained by reacting an acid halide (R 5 COHal, Hal is a halogen atom). Further, in the following formulas (2-1), (2-3), (2-4), (2-5), and (2-6), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 is the same as in formula (1).
m이 1인 경우, 식(1)로 나타내는 화합물을 함유하는 감광성 조성물을 이용해 형성되는 패턴 중에서의 이물의 발생을 보다 저감할 수 있는 경향이 있다.When m is 1, there exists a tendency that the generation|occurrence|production of a foreign material in the pattern formed using the photosensitive composition containing the compound represented by Formula (1) can be reduced more.
<스킴 2> <Scheme 2>
[화 10][Tue 10]
식(1)로 나타내는 화합물의 바람직한 구체예로서는 이하의 화합물을 들 수 있다.The following compounds are mentioned as a preferable specific example of the compound represented by Formula (1).
[화 11][Tue 11]
본 발명에 관한 착색제 분산액에서, 상기 옥심 화합물의 함유량은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 상기 옥심 화합물의 함유량은 전형적으로는 착색제 100중량부에 대해서, 1~50중량부인 것이 바람직하고, 1~10중량부인 것이 보다 바람직하다. 상기 옥심 화합물의 함유량을 이러한 범위로 함으로써, 얻어지는 착색제 분산액에서, 착색제의 분산 안정성이 양호해지기 쉽다. 또, 상기 옥심 화합물의 함유량이 상기의 범위인 착색제 분산액은 저노광량으로 고밀착성의 미소 패턴을 형성할 수 있는 감광성 수지 조성물을 조제하는데 적합하게 이용할 수 있다.In the colorant dispersion according to the present invention, the content of the oxime compound is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. The content of the oxime compound is preferably 1 to 50 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the coloring agent. By making content of the said oxime compound into this range, the dispersion stability of a colorant tends to become favorable in the colorant dispersion liquid obtained. In addition, a colorant dispersion in which the content of the oxime compound is within the above range can be suitably used for preparing a photosensitive resin composition capable of forming highly adherent micropatterns with a low exposure amount.
또, 본 발명에 관한 착색제 분산액에서, 분산제와 상기 옥심 화합물의 합계의 함유량이 착색제 100중량부에 대해서, 1~60중량부인 것이 바람직하고, 1~55중량부인 것이 보다 바람직하며, 1~20중량부인 것이 더욱 바람직하다. 상기 합계의 함유량이 상기의 범위이면, 본 발명에 관한 착색제 분산액에서의 착색제의 균일한 분산이나 상기 옥심 화합물에 의한 효과를 확보하면서, 상기 착색제 분산액 및 이 착색제 분산액으로부터 얻어진 감광성 수지 조성물에서, 각 성분의 밸런스가 양호해지기 쉽다. 또 상한이 작을수록, 상기 감광성 수지 조성물에서의 다른 성분의 배합량을 상대적으로 증가시킬 수 있기 때문에, 감도 등의 다른 특성을 향상시키기 쉬워진다.Further, in the colorant dispersion according to the present invention, the total content of the dispersant and the oxime compound is preferably 1 to 60 parts by weight, more preferably 1 to 55 parts by weight, and 1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the colorant. Denial is more preferable. When the total content is in the above range, each component in the colorant dispersion liquid and the photosensitive resin composition obtained from the colorant dispersion liquid while ensuring uniform dispersion of the colorant in the colorant dispersion liquid according to the present invention and the effect of the oxime compound. The balance of is likely to be good. Moreover, since the compounding quantity of the other component in the said photosensitive resin composition can be relatively increased, so that an upper limit is small, it becomes easy to improve other characteristics, such as a sensitivity.
[용제][solvent]
본 발명에 관한 착색제 분산액에서의 용제로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르류; 에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르아세테이트류; 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 다른 에테르류; 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵탄온, 3-헵탄온 등의 케톤류; 2-히드록시프로피온산메틸, 2-히드록시프로피온산에틸 등의 락트산알킬에스테르류; 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시 아세트산에틸, 히드록시 아세트산에틸, 2-히드록시-3-메틸 부 탄산메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산n-펜틸, 아세트산이소펜틸, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산n-프로필, 부티르산이소프로필, 부티르산n-부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산n-프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산에틸 등의 다른 에스테르류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 용제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the solvent in the colorant dispersion according to the present invention include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono Ethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono- (poly)alkylene glycol monoalkyl ethers such as n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, and tripropylene glycol monoethyl ether; (Poly)alkylenes such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate glycol monoalkyl ether acetates; other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and tetrahydrofuran; Ketones, such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone; lactate alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; 2-Hydroxy-2-methylethylpropionate, 3-methoxymethylpropionate, 3-methoxyethylpropionate, 3-ethoxymethylpropionate, 3-ethoxyethylpropionate, ethoxyethylacetate, hydroxyethylacetate, 2 -Hydroxy-3-methyl methyl butocarbonate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-acetic acid Butyl, isobutyl acetate, n-pentyl formate, isopentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, acetoacetic acid other esters such as methyl, ethyl acetoacetate, and ethyl 2-oxobutanoate; Aromatic hydrocarbons, such as toluene and xylene; and amides such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, and N,N-dimethylacetamide. A solvent can be used individually or in combination of 2 or more types.
상기 용제 중에서도, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 3-메톡시부틸아세테이트는 후술하는 알칼리 가용성 수지, 광중합성 모노머, 및 광중합 개시제, 및 상기 식(1)로 나타내는 화합물에 대해서 뛰어난 용해성을 나타내면서, 상기 착색제의 분산성을 양호하게 할 수 있기 때문에 바람직하고, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트를 이용하는 것이 특히 바람직하다.Among the above solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 3- Methoxybutyl acetate is preferable because it can improve the dispersibility of the colorant while exhibiting excellent solubility for an alkali-soluble resin, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator described later, and a compound represented by the formula (1), It is particularly preferable to use propylene glycol monomethyl ether acetate and 3-methoxybutyl acetate.
용제의 함유량은 본 발명에 관한 착색제 분산액의 고형분 농도가 1~50중량%가 되는 양이 바람직하고, 5~30중량%가 되는 양이 보다 바람직하다.The content of the solvent is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, and more preferably 1 to 50% by weight of the solid content of the colorant dispersion according to the present invention.
[옥심 화합물 이외의 분산 조제] [Dispersion aids other than oxime compounds]
본 발명에 관한 착색제 분산액은 임의 성분으로서 상기 옥심 화합물 이외의 분산 조제를 포함하고 있어도 된다. 상기 옥심 화합물 이외의 분산 조제는 스태킹성의 점에서 함질소 방향환을 가지는 분산 조제인 것이 바람직하고, 예를 들면 후술하는 감광성 수지 조성물을 이용하고, 기판에 대한 밀착성과 내수성이 양호한 패턴을 형성할 수 있는 점에서, 함질소 방향환을 가지는 실란 커플링제인 것이 바람직하다. 함질소 방향환을 가지는 실란 커플링제로서, 구체적으로는 하기 식(11)으로 나타내는 것이 바람직하다.The colorant dispersion liquid according to the present invention may contain a dispersing aid other than the above oxime compound as an optional component. Dispersion aids other than the above oxime compounds are preferably dispersion aids having a nitrogen-containing aromatic ring in view of stacking properties. Since there is, it is preferable that it is a silane coupling agent which has a nitrogen-containing aromatic ring. As a silane coupling agent which has a nitrogen-containing aromatic ring, what is specifically represented by following formula (11) is preferable.
R11 pR12 (3-p) Si-R13-NH-C(O)-Y-R14-X···(11) R 11 p R 12 (3-p) Si-R 13 -NH-C(O)-YR 14 -X...(11)
(식(11) 중, R11은 알콕시기이며, R12는 알킬기이고, p는 1~3의 정수이며, R13은 알킬렌기이며, Y는 -NH-, -O-, 또는 -S-이고, R14는 단결합, 또는 알킬렌기이며, X는 치환기를 가지고 있어도 되고, 단환이어도 다환이어도 되는 함질소 헤테로아릴기이며, X 중의 -Y-R14-와 결합하는 환은 함질소 6원 방향환이며, -Y-R14-는 상기 함질소 6원 방향환중의 탄소 원자와 결합한다.)(In Formula (11), R 11 is an alkoxy group, R 12 is an alkyl group, p is an integer of 1 to 3, R 13 is an alkylene group, and Y is -NH-, -O-, or -S- , R 14 is a single bond or an alkylene group, X is a nitrogen-containing heteroaryl group which may have a substituent and may be monocyclic or polycyclic, and the ring bonded to -YR 14 - in X is a nitrogen-containing 6-membered aromatic ring. , -YR 14 - bonds to a carbon atom in the nitrogen-containing six-membered aromatic ring.)
식(11) 중, R11은 알콕시기이다. R11에 대해서, 알콕시기의 탄소 원자수는 1~6이 바람직하고, 1~4가 보다 바람직하며, 실란 커플링제의 반응성의 관점에서 1 또는 2가 특히 바람직하다. R11의 바람직한 구체예로서는 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, 및 n-헥실옥시기를 들 수 있다. 이들 알콕시기 중에서는 메톡시기, 및 에톡시기가 바람직하다.In Formula (11), R 11 is an alkoxy group. Regarding R 11 , the number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 or 2 from the viewpoint of the reactivity of the silane coupling agent. Preferred specific examples of R 11 include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentyloxy group, and n -Hexyloxy group is mentioned. Among these alkoxy groups, a methoxy group and an ethoxy group are preferable.
알콕시기인 R11이 가수분해되어 생성하는 실라놀기가 기판의 표면 등과 반응함으로써, 후술하는 감광성 수지 조성물을 이용해 형성되는 패턴의 기판 표면에 대한 밀착성이 향상된다. 이때문에, 패턴의 기판 표면에 대한 밀착성을 향상시키기 쉬운 점에서, p는 3인 것이 바람직하다.A silanol group formed by hydrolysis of an alkoxy group, R 11 , reacts with the surface of the substrate and the like, thereby improving adhesion of a pattern formed using the photosensitive resin composition described later to the surface of the substrate. For this reason, it is preferable that p is 3 from the viewpoint of easily improving the adhesion of the pattern to the substrate surface.
식(11) 중, R12는 알킬기이다. R12에 대해서, 알킬기의 탄소 원자수는 1~12가 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 실란 커플링제의 반응성의 관점에서 1 또는 2가 특히 바람직하다. R12의 바람직한 구체예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, 및 n-도데실기를 들 수 있다.In Formula (11), R 12 is an alkyl group. Regarding R 12 , the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 12, more preferably 1 to 6, and particularly preferably 1 or 2 from the viewpoint of the reactivity of the silane coupling agent. Preferred specific examples of R 12 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n- A heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, and n-dodecyl group are mentioned.
식(11) 중, R13은 알킬렌기이다. R13에 대해서, 알킬렌기의 탄소 원자수는 1~12가 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 2~4가 특히 바람직하다. R13의 바람직한 구체예로서는 메틸렌기, 1,2-에틸렌기, 1,1-에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-1,1-디일기, 프로판-2,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 부탄-1,3-디일기, 부탄-1,2-디일기, 부탄-1,1-디일기, 부탄-2,2-디일기, 부탄-2,3-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 펜탄-1,4-디일기, 및 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기, 및 도데칸-1,12-디일기를 들 수 있다. 이들 알킬렌기 중에서는 1,2-에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 및 부탄-1,4-디일기가 바람직하다.In Formula (11), R 13 is an alkylene group. Regarding R 13 , the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 to 12, more preferably 1 to 6, and particularly preferably 2 to 4. Preferred specific examples of R 13 include a methylene group, a 1,2-ethylene group, a 1,1-ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a propane-1,1-diyl group, Propane-2,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, butane-1,3-diyl group, butane-1,2-diyl group, butane-1,1-diyl group, butane-2,2 -diyl group, butane-2,3-diyl group, pentane-1,5-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, and dodecane-1,12-diyl group. there is. Among these alkylene groups, a 1,2-ethylene group, a propane-1,3-diyl group, and a butane-1,4-diyl group are preferable.
Y는 -NH-, -O-, 또는 -S-이며, -NH-인 것이 바람직하다. -CO-O-, 또는 -CO-S-로 나타내는 결합보다도, -CO-NH-로 나타내는 결합 쪽이 가수분해를 받기 어렵기 때문에, 후술하는 감광성 수지 조성물에서 Y가 -NH-인 실란 커플링제를 이용하면, 내수성이 뛰어난 패턴을 형성하기 쉽다.Y is -NH-, -O-, or -S-, preferably -NH-. Since the bond represented by -CO-NH- is less likely to undergo hydrolysis than the bond represented by -CO-O- or -CO-S-, a silane coupling agent in which Y is -NH- in the photosensitive resin composition described later When using, it is easy to form a pattern with excellent water resistance.
R14는 단결합, 또는 알킬렌기이며, 단결합인 것이 바람직하다. R14가 알킬렌기인 경우의 바람직한 예는 R13과 동일하다.R 14 is a single bond or an alkylene group, preferably a single bond. Preferred examples in the case where R 14 is an alkylene group are the same as those for R 13 .
X는 치환기를 가지고 있어도 되고, 단환이어도 다환이어도 되는 함질소 헤테로아릴기이며, X 중의 -Y-R14-와 결합하는 환은 함질소 6원 방향환이며, -Y-R14-는 상기 함질소 6원 방향환중의 탄소 원자와 결합한다. 이유는 불명하지만, 후술하는 감광성 수지 조성물에서 이와 같은 X를 가지는 실란 커플링제를 이용하면, 기판에 대한 밀착성과 내수성이 뛰어난 패턴을 형성할 수 있다.X is a nitrogen-containing heteroaryl group that may have a substituent and may be monocyclic or polycyclic, the ring bonded to -YR 14 - in X is a nitrogen-containing 6-membered aromatic ring, and -YR 14 - is a nitrogen-containing 6-membered aromatic ring binds to the carbon atom of Although the reason is unknown, if a silane coupling agent having such X is used in the photosensitive resin composition described later, a pattern having excellent adhesion to a substrate and excellent water resistance can be formed.
X가 다환 헤테로아릴기인 경우, 헤테로아릴기는 복수의 단환이 축합한 기여도 되고, 복수의 단환이 단결합을 통해서 결합한 기여도 된다. X가 다환 헤테로아릴기인 경우, 다환 헤테로아릴기에 포함되는 환 수는 1~3이 바람직하다. X가 다환 헤테로아릴기인 경우, X 중의 함질소 6원 방향환에 축합 또는 결합하는 환은 헤테로 원자를 포함하고 있어도 포함하지 않아도 되며, 방향환이어도 방향환이 아니어도 된다.When X is a polycyclic heteroaryl group, the heteroaryl group may be a group formed by condensation of a plurality of monocycles or a group in which a plurality of monocycles are bonded through single bonds. When X is a polycyclic heteroaryl group, the number of rings contained in the polycyclic heteroaryl group is preferably 1 to 3. When X is a polycyclic heteroaryl group, the ring condensed or bonded to the nitrogen-containing 6-membered aromatic ring in X may or may not contain a hetero atom, and may or may not be an aromatic ring.
함질소 헤테로아릴기인 X가 가지고 있어도 되는 치환기로서는 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 탄소 원자수 1~6의 알콕시기, 탄소 원자수 2~6의 알케닐기, 탄소 원자수 2~6의 알케닐옥시기, 탄소 원자수 2~6의 지방족 아실기, 벤조일기, 니트로기, 니트로소기, 아미노기, 히드록시기, 머캅토기, 시아노기, 설폰산기, 카르복실기, 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다. X가 가지는 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. X가 가지는 치환기의 수는 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. X가 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도, 상이해도 된다.Examples of substituents that X, which is a nitrogen-containing heteroaryl group, may have include an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group of 2 to 6 carbon atoms, and an alkenyl group of 2 to 6 carbon atoms. group, an aliphatic acyl group having 2 to 6 carbon atoms, a benzoyl group, a nitro group, a nitroso group, an amino group, a hydroxyl group, a mercapto group, a cyano group, a sulfonic acid group, a carboxyl group, and a halogen atom. The number of substituents of X is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Five or less are preferable and, as for the number of substituents which X has, 3 or less are more preferable. When X has a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
X의 바람직한 예로서는 하기 식의 기를 들 수 있다.Preferred examples of X include groups of the following formula.
[화 12][Tue 12]
상기의 기 중에서도, 하기 식의 기가 X로서 보다 바람직하다.Among the above groups, a group of the following formula is more preferable as X.
[화 13][Tue 13]
이상 설명한, 식(11)으로 나타내는 화합물의 바람직한 구체예로서는 이하의 화합물을 들 수 있다.Preferable specific examples of the compound represented by formula (11) described above include the following compounds.
[화 14][Tue 14]
상기 옥심 화합물 이외의 분산 조제의 함유량은 본 발명에 관한 착색제 분산액에 대하고, 0.1~10중량%가 바람직하고, 0.5~5중량%가 보다 바람직하다.The content of the dispersing aid other than the oxime compound is preferably 0.1 to 10% by weight, and more preferably 0.5 to 5% by weight relative to the colorant dispersion according to the present invention.
[착색제 분산액의 조제 방법] [Method for preparing colorant dispersion]
본 발명에 관한 착색제 분산액은 착색제와, 분산제와, 상기 옥심 화합물과, 용제를 3롤 밀, 볼 밀, 샌드 밀 등의 교반기로 혼합(분산·혼련)하고, 필요에 따라 5㎛ 멤브레인 필터 등의 필터로 여과해 조제할 수 있다. 착색제 분산액의 조제로, 착색제와(분산 조제로서의) 상기 옥심 화합물을 함께 교반기로 혼합(분산·혼련)해 둠으로써, 착색제와 상기 옥심 화합물 사이에 상호작용이 생겨 본 발명의 효과가 얻어지는 것으로 생각된다. 특히, 착색제가 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료인 경우에는 착색제 분산액의 조제로, 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료와(분산 조제로서의) 상기 옥심 화합물을 함께 교반기로 혼합(분산·혼련)해 둠으로써, 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료와 상기 옥심 화합물 사이에, π-π 상호작용이 생겨 본 발명의 효과가 얻어지는 것으로 생각된다.In the colorant dispersion according to the present invention, the colorant, the dispersant, the oxime compound, and the solvent are mixed (dispersed/kneaded) with an agitator such as a 3-roll mill, a ball mill, or a sand mill, and, if necessary, a 5 μm membrane filter or the like It can be prepared by filtering through a filter. It is thought that by mixing (dispersing/kneading) the coloring agent and the oxime compound (as a dispersing aid) together with a stirrer in preparation of a colorant dispersion, an interaction occurs between the colorant and the oxime compound to obtain the effect of the present invention. . In particular, when the colorant is a pigment made of a nitrogen-containing aromatic ring compound, the pigment made of a nitrogen-containing aromatic ring compound and the oxime compound (as a dispersing aid) are mixed (dispersed/kneaded) together with a stirrer as a preparation of a colorant dispersion liquid By this, it is thought that the effect of this invention is acquired because the π-π interaction arises between the pigment which consists of a nitrogen-containing aromatic ring compound, and the said oxime compound.
<감광성 수지 조성물> <Photosensitive resin composition>
본 발명에 관한 감광성 수지 조성물은 기재 수지와, 광중합 개시제와, 본 발명에 관한 착색제 분산액을 적어도 함유한다.The photosensitive resin composition according to the present invention contains at least a base resin, a photopolymerization initiator, and a colorant dispersion according to the present invention.
[기재 수지] [base resin]
기재 수지로서는 특별히 한정되지 않고, 감광성 수지 조성물에서 일반적으로 이용되고 있는 공지된 수지를 들 수 있다. 기재 수지는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.It does not specifically limit as base resin, Well-known resin generally used for the photosensitive resin composition is mentioned. Base resin can be used individually or in combination of 2 or more types.
기재 수지로서는, 예를 들면 중합성기 함유 수지 등의 중합성 수지를 들 수 있다. 이와 같은 중합성 수지로서는 후술하는 알칼리 가용성 수지 중, 에틸렌성 불포화기를 가지는 것을 들 수 있다.As base resin, polymerizable resins, such as polymerizable group containing resin, are mentioned, for example. Examples of such polymerizable resins include those having an ethylenically unsaturated group among alkali-soluble resins described later.
또, 기재 수지로서는 알칼리 가용성 수지를 들 수 있다. 알칼리 가용성 수지란, 수지 농도 20중량%의 수지 용액(용매: 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트)에 의해, 막 두께 1㎛인 수지막을 기판 위에 형성하고, 농도 0.05중량%의 KOH 수용액에 1분간 침지했을 때에, 막 두께 0.01㎛ 이상 용해하는 것을 말한다.Moreover, alkali-soluble resin is mentioned as base material resin. Alkali-soluble resin is a resin film having a film thickness of 1 µm formed on a substrate by a resin solution (solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate) having a resin concentration of 20% by weight, and immersed in a KOH aqueous solution having a concentration of 0.05% by weight for 1 minute. It refers to dissolving with a film thickness of 0.01 µm or more at the time of application.
알칼리 가용성 수지로서는 상술한 알칼리 가용성을 나타내는 수지이면 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 알칼리 가용성 수지를 이용할 수 있다. 알칼리 가용성 수지는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.The alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it is a resin exhibiting alkali-solubility as described above, and conventionally known alkali-soluble resins can be used. Alkali-soluble resin can be used individually or in combination of 2 or more types.
바람직한 알칼리 가용성 수지의 일례로서는 (A1) 카르도 구조를 가지는 수지를 들 수 있다. (A1) 카르도 구조를 가지는 수지로서는 특별히 한정되는 것이 아니고, 종래 공지된 수지를 이용할 수 있다. 그 중에서도, 하기 식(a-1)으로 나타내는 수지가 바람직하다.As an example of a preferable alkali-soluble resin, resin which has a cardo structure (A1) is mentioned. (A1) The resin having a cardo structure is not particularly limited, and conventionally known resins can be used. Especially, resin represented by the following formula (a-1) is preferable.
[화 15][Tuesday 15]
상기 식(a-1) 중, Xa는 하기 식(a-2)으로 나타내는 기를 나타낸다.In the above formula (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2).
[화 16][Tue 16]
상기 식(a-2) 중, Ra1는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 탄화수소기, 또는 할로겐 원자를 나타내고, Ra2는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, Wa는 단결합 또는 하기 식(a-3)으로 나타내는 기를 나타낸다.In the formula (a-2), R a1 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, R a2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and W a represents a single bond Or a group represented by the following formula (a-3) is shown.
[화 17][Tue 17]
또, 상기 식(a-1) 중, Ya는 디카르복시산 무수물로부터 산무수물기(-CO-O-CO-)를 제외한 잔기를 나타낸다. 디카르복시산 무수물의 예로서는 무수 말레산, 무수 숙신산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 무수 테트라히드로프탈산, 무수 헥사히드로프탈산, 무수 메틸-endo-메틸렌테트라히드로프탈산, 무수 클로렌드산, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 무수 글루타르산 등을 들 수 있다.In the above formula (a-1), Y a represents a residue obtained by removing an acid anhydride group (-CO-O-CO-) from a dicarboxylic acid anhydride. Examples of dicarboxylic acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyl-endo-methylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, Anhydrous glutaric acid etc. are mentioned.
또, 상기 식(a-1) 중, Za는 테트라카르복시산 2무수물에서 2개의 산무수물기를 제외한 잔기를 나타낸다. 테트라카르복시산 2무수물의 예로서는 피로멜리트산 2무수물, 벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 비페닐테트라카르복시산 2무수물, 비페닐에테르테트라카르복시산 2무수물 등을 들 수 있다. Moreover, in said formula (a-1), Z <a> represents the residue obtained by removing two acid anhydride groups from tetracarboxylic dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, and biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride.
또, 상기 식(a-1) 중, m은 0~20의 정수를 나타낸다.Moreover, in said formula (a-1), m represents the integer of 0-20.
(A1) 카르도 구조를 가지는 수지의 질량 평균 분자량은 1000~40000인 것이 바람직하고, 2000~30000인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 양호한 현상성을 얻으면서, 충분한 내열성, 막강도를 얻을 수 있다.(A1) It is preferable that it is 1000-40000, and, as for the mass average molecular weight of resin which has a cardo structure, it is more preferable that it is 2000-30000. By setting it as said range, sufficient heat resistance and film strength can be obtained, obtaining favorable developability.
또, 바람직한 알칼리 가용성 수지의 다른 예로서는 (A2) 에폭시 수지를 들 수 있다. (A2) 에폭시 수지로서는 특별히 한정되는 것이 아니고, 종래 공지된 에폭시 수지를 이용할 수 있고 에틸렌성 불포화기를 갖지 않는 것이어도, 에틸렌성 불포화기를 가지는 것이어도 된다.Moreover, as another example of a preferable alkali-soluble resin, (A2) epoxy resin is mentioned. (A2) It does not specifically limit as an epoxy resin, A conventionally well-known epoxy resin can be used, The thing which does not have an ethylenically unsaturated group or the thing which has an ethylenically unsaturated group may be sufficient.
에틸렌성 불포화기를 갖지 않는 에폭시 수지로서는, 예를 들면 불포화 카르복시산과 에폭시기 함유 불포화 화합물을 적어도 공중합시켜 얻어지는 수지(A2-1)를 이용할 수 있다.As an epoxy resin which does not have an ethylenically unsaturated group, resin (A2-1) obtained by copolymerizing at least an unsaturated carboxylic acid and an epoxy group-containing unsaturated compound can be used, for example.
불포화 카르복시산으로서는 (메타)아크릴산, 크로톤산 등의 모노카르복시산; 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복시산; 이들 디카르복시산의 무수물; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 공중합 반응성, 얻어지는 수지의 알칼리 용해성, 입수의 용이성 등의 점에서, (메타)아크릴산 및 무수 말레산이 바람직하다. 이들 불포화 카르복시산은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Examples of unsaturated carboxylic acids include monocarboxylic acids such as (meth)acrylic acid and crotonic acid; dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, and itaconic acid; anhydrides of these dicarboxylic acids; etc. can be mentioned. Among these, (meth)acrylic acid and maleic anhydride are preferable from the viewpoints of the copolymerization reactivity, the alkali solubility of the resulting resin, and the ease of availability. These unsaturated carboxylic acids can be used individually or in combination of 2 or more types.
또한 본 명세서에서, 「(메타)아크릴산」은 아크릴산과 메타크릴산 모두를 의미한다.In addition, in this specification, "(meth)acrylic acid" means both acrylic acid and methacrylic acid.
상기 수지(A2-1)에서 차지하는 불포화 카르복시산 유래의 구성 단위(카르복실기를 가지는 구성 단위)의 비율은 5~29중량%인 것이 바람직하고, 10~25중량%인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위로 함으로써, 감광성 수지 조성물의 현상성을 적당한 것으로 할 수 있다.It is preferable that it is 5 to 29 weight%, and, as for the ratio of the structural unit (structural unit which has a carboxyl group) derived from the unsaturated carboxylic acid which occupies in the said resin (A2-1), it is more preferable that it is 10 to 25 weight%. By setting it as the said range, the developability of the photosensitive resin composition can be made suitable.
에폭시기 함유 불포화 화합물은 지환식 에폭시기를 갖지 않는 것이어도, 지환식 에폭시기를 가지는 것이어도 되지만, 지환식 에폭시기를 가지는 것이 보다 바람직하다.The epoxy group-containing unsaturated compound may not have an alicyclic epoxy group or may have an alicyclic epoxy group, but it is more preferable to have an alicyclic epoxy group.
지환식 에폭시기를 갖지 않는 에폭시기 함유 불포화 화합물로서는 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2-메틸글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸(메타)아크릴레이트, 6,7-에폭시헵틸(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산에폭시알킬에스테르류; α-에틸아크릴산글리시딜, α-n-프로필아크릴산글리시딜, α-n-부틸아크릴산글리시딜, α-에틸아크릴산6,7-에폭시헵틸 등의 α-알킬아크릴산에폭시알킬에스테르류; o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 글리시딜에테르류; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 공중합 반응성, 경화 후의 수지의 강도 등의 점에서, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2-메틸글리시딜(메타)아크릴레이트, 6,7-에폭시헵틸(메타)아크릴레이트, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, 및 p-비닐벤질글리시딜에테르가 바람직하다.Examples of the epoxy group-containing unsaturated compound having no alicyclic epoxy group include glycidyl (meth)acrylate, 2-methylglycidyl (meth)acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth)acrylate, and 6,7-epoxyheptyl. (meth)acrylic acid epoxyalkyl esters such as (meth)acrylate and 3,4-epoxycyclohexyl (meth)acrylate; α-alkyl acrylic acid epoxyalkyl esters such as α-ethyl glycidyl acrylate, α-n-propyl glycidyl acrylate, α-n-butyl glycidyl acrylate, and α-ethyl 6,7-epoxyheptyl acrylate; glycidyl ethers such as o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, and p-vinylbenzyl glycidyl ether; etc. can be mentioned. Among these, glycidyl (meth)acrylate, 2-methylglycidyl (meth)acrylate, 6,7-epoxyheptyl (meth)acrylate, o - Vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, and p-vinylbenzyl glycidyl ether are preferred.
지환식 에폭시기를 가지는 에폭시기 함유 불포화 화합물의 지환식기는 단환이어도 다환이어도 된다. 단환의 지환식기로서는 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. 또, 다환의 지환식기로서는 노르보닐기, 이소보닐기, 트리시클로노닐기, 트리시클로데실기, 테트라시클로도데실기 등을 들 수 있다.The alicyclic group of the epoxy group-containing unsaturated compound having an alicyclic epoxy group may be monocyclic or polycyclic. A cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc. are mentioned as a monocyclic alicyclic group. Moreover, as a polycyclic alicyclic group, a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, a tetracyclododecyl group, etc. are mentioned.
구체적으로, 지환식 에폭시기를 가지는 에폭시기 함유 불포화 화합물로서는, 예를 들면 하기 식(a4-1)~(a4-16)로 나타내는 화합물을 들 수 있다. 이들 중에서도, 감광성 수지 조성물의 현상성을 적당한 것으로 하기 위해서는 하기 식(a4-1)~(a4-6)로 나타내는 화합물이 바람직하고, 하기 식(a4-1)~(a4-4)로 나타내는 화합물이 보다 바람직하다.Specifically, examples of the epoxy group-containing unsaturated compound having an alicyclic epoxy group include compounds represented by the following formulas (a4-1) to (a4-16). Among these, in order to make the developability of the photosensitive resin composition suitable, compounds represented by the following formulas (a4-1) to (a4-6) are preferred, and compounds represented by the following formulas (a4-1) to (a4-4) more preferable than this
[화 18][Tue 18]
[화 19][Tue 19]
[화 20][Tue 20]
상기 식 중, Ra3은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, Ra4는 탄소수 1~6의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타내고, Ra5는 탄소수 1~10의 2가의 탄화수소기를 나타내고, n은 0~10의 정수를 나타낸다. Ra4로서는 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬렌기, 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 에틸에틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기가 바람직하다. Ra5로서는, 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 에틸에틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기, 페닐렌기, 시클로헥실렌기, -CH2-Ph-CH2-(Ph는 페닐렌기를 나타냄)가 바람직하다.In the above formula, R a3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R a4 represents a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R a5 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n is 0 to 10 represents an integer. As R a4 , a linear or branched chain alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group is preferable. Examples of R a5 include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a phenylene group, a cyclohexylene group, -CH 2 -Ph-CH 2 -( Ph represents a phenylene group) is preferred.
이들 에폭시기 함유 불포화 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.These epoxy group-containing unsaturated compounds can be used individually or in combination of 2 or more types.
상기 수지(A2-1)에서 차지하는 에폭시기 함유 불포화 화합물 유래의 구성 단위(에폭시기를 가지는 구성 단위)의 비율은 5~90중량%인 것이 바람직하고, 15~75중량%인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위로 함으로써, 양호한 형상의 컬러 필터 등을 형성하기 쉬워진다.The ratio of the structural unit (constitutive unit having an epoxy group) derived from an epoxy group-containing unsaturated compound in the resin (A2-1) is preferably 5 to 90% by weight, more preferably 15 to 75% by weight. By setting it as the said range, it becomes easy to form a color filter etc. of a favorable shape.
상기 수지(A2-1)는 지환식기 함유 불포화 화합물을 추가로 공중합시킨 것인 것이 바람직하다.It is preferable that the resin (A2-1) is further copolymerized with an alicyclic group-containing unsaturated compound.
지환식기 함유 불포화 화합물의 지환식기는 단환이어도 다환이어도 된다. 단환의 지환식기로서는 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. 또, 다환의 지환식기로서는 아다만틸기, 노르보닐기, 이소보닐기, 트리시클로노닐기, 트리시클로데실기, 테트라시클로도데실기 등을 들 수 있다.The alicyclic group of the alicyclic group-containing unsaturated compound may be monocyclic or polycyclic. A cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc. are mentioned as a monocyclic alicyclic group. Moreover, as a polycyclic alicyclic group, an adamantyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, a tetracyclododecyl group, etc. are mentioned.
구체적으로, 지환식기 함유 불포화 화합물로서는, 예를 들면 하기 식(a5-1)~(a5-8)로 나타내는 화합물을 들 수 있다. 이들 중에서도, 감광성 수지 조성물의 현상성을 적당한 것으로 하기 위해서는 하기 식(a5-3)~(a5-8)로 나타내는 화합물이 바람직하고, 하기 식(a5-3), (a5-4)로 나타내는 화합물이 보다 바람직하다.Specifically, examples of the alicyclic group-containing unsaturated compound include compounds represented by the following formulas (a5-1) to (a5-8). Among these, in order to make the developability of the photosensitive resin composition suitable, compounds represented by the following formulas (a5-3) to (a5-8) are preferred, and compounds represented by the following formulas (a5-3) and (a5-4) more preferable than this
[화 21][Tue 21]
[화 22][Tue 22]
상기 식 중, Ra6은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, Ra7은 단결합 또는 탄소수 1~6의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타내고, Ra8은 수소 원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를 나타낸다. Ra7로서는 단결합, 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬렌기, 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 에틸에틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기가 바람직하다. Ra8로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기가 바람직하다.In the above formula, R a6 represents a hydrogen atom or a methyl group, R a7 represents a single bond or a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R a8 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. As R a7 , a single bond, linear or branched alkylene group such as a methylene group, ethylene group, propylene group, tetramethylene group, ethylethylene group, pentamethylene group, or hexamethylene group is preferable. As R a8 , a methyl group and an ethyl group are preferable, for example.
상기 수지(A2-1)에서 차지하는 지환식기 함유 불포화 화합물 유래의 구성 단위의 비율은 1~40중량%인 것이 바람직하고, 5~30중량%인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 1 to 40 weight%, and, as for the ratio of the structural unit derived from the alicyclic group containing unsaturated compound which occupies in the said resin (A2-1), it is more preferable that it is 5 to 30 weight%.
또, 상기 수지(A2-1)는 상기 이외의 다른 화합물을 추가로 공중합시킨 것이어도 된다. 이와 같은 다른 화합물로서는 (메타)아크릴산에스테르류, (메타)아크릴아미드류, 아릴 화합물, 비닐에테르류, 비닐에스테르류, 스티렌류 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.In addition, the resin (A2-1) may be further copolymerized with other compounds other than those described above. Examples of such other compounds include (meth)acrylic acid esters, (meth)acrylamides, aryl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, and styrenes. These compounds can be used individually or in combination of 2 or more types.
(메타)아크릴산에스테르류로서는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 아밀(메타)아크릴레이트, t-옥틸(메타)아크릴레이트 등의 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬(메타)아크릴레이트; 클로로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2-디메틸히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판모노(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 푸르푸릴(메타)아크릴레이트; 등을 들 수 있다.Examples of (meth)acrylic acid esters include linear or branched chains such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, amyl (meth)acrylate, and t-octyl (meth)acrylate. Of alkyl (meth) acrylate; Chloroethyl (meth)acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, trimethylolpropane mono(meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, furfuryl (meth)acrylate; etc. can be mentioned.
(메타)아크릴아미드류로서는 (메타)아크릴아미드, N-알킬(메타)아크릴아미드, N-아릴(메타)아크릴아미드, N,N-디알킬(메타)아크릴아미드, N,N-아릴(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-페닐(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸-N-메틸(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다.As (meth)acrylamides, (meth)acrylamide, N-alkyl (meth)acrylamide, N-aryl (meth)acrylamide, N,N-dialkyl (meth)acrylamide, N,N-aryl (meth)acrylamide ) Acrylamide, N-methyl-N-phenyl (meth)acrylamide, N-hydroxyethyl-N-methyl (meth)acrylamide, etc. are mentioned.
알릴 화합물로서는 아세트산알릴, 카프로산알릴, 카프릴산알릴, 라우르산알릴, 팔미트산알릴, 스테아르산알릴, 벤조산알릴, 아세토아세트산알릴, 락트산알릴 등의 알릴에스테르류; 알릴옥시에탄올; 등을 들 수 있다.Examples of the allyl compound include allyl esters such as allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, and allyl lactate; allyloxyethanol; etc. can be mentioned.
비닐에테르류로서는 헥실비닐에테르, 옥틸비닐에테르, 데실비닐에테르, 에틸헥실비닐에테르, 메톡시에틸비닐에테르, 에톡시에틸비닐에테르, 클로로에틸비닐에테르, 1-메틸-2,2-디메틸프로필비닐에테르, 2-에틸부틸비닐에테르, 히드록시에틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜 비닐에테르, 디메틸아미노에틸비닐에테르, 디에틸아미노에틸비닐에테르, 부틸아미노에틸비닐에테르, 벤질비닐에테르, 테트라히드로푸르푸릴비닐에테르 등의 알킬비닐에테르; 비닐페닐에테르, 비닐톨릴에테르, 비닐클로로페닐에테르, 비닐-2,4-디클로로페닐에테르, 비닐나프틸에테르, 비닐안트라닐에테르 등의 비닐아릴에테르; 등을 들 수 있다.As vinyl ethers, hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethylhexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether , 2-ethylbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, etc. Alkyl vinyl ether of; vinyl aryl ethers such as vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichlorophenyl ether, vinyl naphthyl ether, and vinyl anthranyl ether; etc. can be mentioned.
비닐에스테르류로서는 비닐부틸레이트, 비닐이소부틸레이트, 비닐트리메틸아세테이트, 비닐디에틸아세테이트, 비닐발레이트, 비닐카프로에이트, 비닐클로로아세테이트, 비닐디클로로아세테이트, 비닐메톡시아세테이트, 비닐부톡시아세테이트, 비닐페닐아세테이트, 비닐아세토아세테이트, 비닐락테이트, 비닐-β-페닐부틸레이트, 벤조산비닐, 살리실산비닐, 클로로벤조산비닐, 테트라클로로벤조산비닐, 나프토산비닐 등을 들 수 있다.Vinyl esters include vinyl butylate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl butoxyacetate, and vinylphenyl. Acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenyl butyrate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, vinyl naphthoate and the like.
스티렌류로서는 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 이소프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 시클로헥실스티렌, 데실스티렌, 벤질스티렌, 클로로메틸스티렌, 트리플루오로메틸스티렌, 에톡시메틸스티렌, 아세톡시메틸스티렌 등의 알킬스티렌; 메톡시스티렌, 4-메톡시-3-메틸스티렌, 디메톡시스티렌 등의 알콕시스티렌; 클로로스티렌, 디클로로스티렌, 트리클로로스티렌, 테트라클로로스티렌, 펜타클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌, 플루오로스티렌, 트리플루오로스티렌, 2-브로모-4-트리플루오로메틸스티렌, 4-플루오로-3-트리플루오로메틸스티렌 등의 할로스티렌; 등을 들 수 있다.Examples of styrene include styrene; Methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene Alkyl styrene, such as acetoxymethyl styrene; Alkoxy styrene, such as methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene, and dimethoxy styrene; Chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethyl Halo styrene, such as styrene and 4-fluoro-3-trifluoromethyl styrene; etc. can be mentioned.
수지(A2-1)의 질량 평균 분자량은 2000~50000인 것이 바람직하고, 5000~30000인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 감광성 수지 조성물의 막형성능, 현상성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있다.It is preferable that it is 2000-50000, and, as for the mass average molecular weight of Resin (A2-1), it is more preferable that it is 5000-30000. By setting it as the said range, there exists a tendency to balance the film-forming ability and developability of the photosensitive resin composition easily.
한편, 에틸렌성 불포화기를 가지는 에폭시 수지로서는, 예를 들면 불포화 카르복시산과 에폭시기 함유 불포화 화합물을 적어도 중합시켜 얻어지는 수지의 카르복실기와 에폭시기 함유 불포화 화합물의 에폭시기를 반응시켜 얻어지는 수지(A2-2), 혹은 불포화 카르복시산과 에폭시기 함유 불포화 화합물을 적어도 중합시켜 얻어지는 수지의 에폭시기와 불포화 카르복시산의 카르복실기를 반응시켜 얻어지는 수지(A2-3)를 이용할 수 있다.On the other hand, as an epoxy resin having an ethylenically unsaturated group, for example, a resin (A2-2) obtained by reacting the carboxyl group of a resin obtained by polymerizing at least an unsaturated carboxylic acid and an epoxy group-containing unsaturated compound with an epoxy group of an epoxy group-containing unsaturated compound, or an unsaturated carboxylic acid Resin (A2-3) obtained by reacting the epoxy group of a resin obtained by polymerizing at least an unsaturated compound containing an epoxy group with the carboxyl group of an unsaturated carboxylic acid can be used.
불포화 카르복시산, 에폭시기 함유 불포화 화합물로서는 상기 수지(A2-1)로 예시한 화합물을 들 수 있다. 따라서, 불포화 카르복시산과 에폭시기 함유 불포화 화합물을 적어도 중합시켜 얻어지는 수지로서는 상기 수지(A2-1)가 예시된다.Examples of the unsaturated carboxylic acid and the unsaturated compound containing an epoxy group include the compounds exemplified as the resin (A2-1). Therefore, as a resin obtained by polymerizing at least an unsaturated carboxylic acid and an epoxy group-containing unsaturated compound, the above resin (A2-1) is exemplified.
상기 수지(A2-2), (A2-3)에서 차지하는 불포화 카르복시산 유래의 구성 단위(카르복실기를 가지는 구성 단위)의 비율은 5~60중량%인 것이 바람직하고, 10~40중량%인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위로 함으로써, 감광성 수지 조성물의 현상성을 적당한 것으로 할 수 있다.It is preferable that the ratio of the structural unit (constitutive unit having a carboxyl group) derived from an unsaturated carboxylic acid in the resins (A2-2) and (A2-3) is 5 to 60% by weight, more preferably 10 to 40% by weight. do. By setting it as the said range, the developability of the photosensitive resin composition can be made suitable.
또, 상기 수지(A2-2), (A2-3)에서 차지하는 에폭시기 함유 불포화 화합물 유래의 구성 단위(에폭시기를 가지는 구성 단위)의 비율은 5~90중량%인 것이 바람직하고, 15~75중량%인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위로 함으로써, 양호한 형상의 컬러 필터 등을 형성하기 쉬워진다.Further, the ratio of the constituent units derived from the epoxy group-containing unsaturated compound (constitutive units having an epoxy group) in the resins (A2-2) and (A2-3) is preferably 5 to 90% by weight, and preferably 15 to 75% by weight. is more preferable. By setting it as the said range, it becomes easy to form a color filter etc. of a favorable shape.
수지(A2-2), (A2-3)의 질량 평균 분자량은 2000~50000인 것이 바람직하고, 5000~30000인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 감광성 수지 조성물의 막형성능, 현상성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있다.It is preferable that it is 2000-50000, and, as for the mass average molecular weight of resin (A2-2) and (A2-3), it is more preferable that it is 5000-30000. By setting it as the said range, there exists a tendency to balance the film-forming ability and developability of the photosensitive resin composition easily.
상기 외에, (A2) 에폭시 수지로서는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 페놀 또는 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 레졸형 에폭시 수지, 트리페놀메탄형 에폭시 수지, 폴리카르복시산폴리글리시딜에스테르, 폴리올폴리글리시딜에스테르, 아민에폭시 수지, 디히드록시벤젠형 에폭시 수지 등의 에폭시 수지의 에폭시기와 (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 에폭시(메타)아크릴레이트 수지 등을 이용할 수도 있다.In addition to the above, as the (A2) epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol or cresol novolak type epoxy resin, resol type epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, polycarboxylic acid An epoxy (meth)acrylate resin obtained by reacting (meth)acrylic acid with an epoxy group of an epoxy resin such as polyglycidyl ester, polyol polyglycidyl ester, amine epoxy resin, and dihydroxybenzene type epoxy resin may also be used. there is.
기재 수지의 함유량은 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 40~85중량%인 것이 바람직하고, 45~75중량%인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 현상성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있다.It is preferable that it is 40 to 85 weight% with respect to solid content of the photosensitive resin composition, and, as for content of base resin, it is more preferable that it is 45 to 75 weight%. By setting it as said range, there exists a tendency for easy balance of developability.
[광중합 개시제] [Photoinitiator]
광중합 개시제로서는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 광중합 개시제를 이용할 수 있다. 광중합 개시제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.The photopolymerization initiator is not particularly limited, and conventionally known photopolymerization initiators can be used. A photoinitiator can be used individually or in combination of 2 or more types.
광중합 개시제로서 구체적으로는 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 1-(4-이소프로필 페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 비스(4-디메틸아미노페닐)케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 4-벤조일-4'-메틸디메틸설피드, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산부틸, 4-디메틸아미노-2-에틸헥실 벤조산, 4-디메틸아미노-2-이소아밀벤조산, 벤질-β-메톡시에틸아세탈, 벤질디메틸케탈, 1-페닐-1,2-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)옥심, o-벤조일벤조산메틸, 2,4-디에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤, 티옥산텐, 2-클로로티옥산텐, 2,4-디에틸티옥산텐, 2-메틸티옥산텐, 2-이소프로필티옥산텐, 2-에틸안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1,2-벤즈안트라퀴논, 2,3-디페닐안트라퀴논, 아조비스이소부티로니트릴, 벤조일퍼옥시드, 쿠멘퍼옥시드, 2-머캅토벤조이미달, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(메톡시페닐)이미다졸 2량체, 2-(o-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2-(o-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2-(p-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2,4,5-트리아릴이미다졸 2량체, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, 4,4'-비스디메틸아미노벤조페논(즉, 미힐러케톤), 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논(즉, 에틸미힐러케톤), 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 벤질, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인부틸에테르, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 디클로로아세토페논, 트리클로로아세토페논, p-tert-부틸아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, p-tert-부틸트리클로로아세토페논, p-tert-부틸디클로로아세토페논, α,α-디클로로-4-페녹시아세토페논, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 디벤조스베론, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스-(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스-(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스-(9-아크리디닐)프로판, p-메톡시트리아진, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진, 에탄온, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심), 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-, 2-(O-벤조일옥심)], 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1,2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 「NCI-831」(상품명: ADEKA제) 등을 들 수 있다. 또, 본 발명으로 이용되는 옥심 화합물도 광중합 개시제로서 이용할 수 있다. 즉, 본 발명에 관한 감광성 수지 조성물에서, 상기 옥심 화합물은 분산 조제로서 포함되지만(상기 착색제 분산액 중에 분산 조제로서 포함됨), 또한 광중합 개시제로서 포함되어 있어도 된다. 이 경우, 광중합 개시제로서의 옥심 화합물은 착색제와의 사이에 상호작용이 생기지 않다고 생각된다. 특히, 착색제가 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료인 경우, 광중합 개시제로서의 옥심 화합물은 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료와의 사이에 π-π 상호작용이 생기지 않는다고 생각된다. 광중합 개시제로서의 옥심 화합물에 대해서는 상기와 동일하고, 상기 식(1)로 나타내는 화합물이 바람직하다.Specifically as the photopolymerization initiator, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2 -Hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1-(4-isopropyl phenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-(4-dodecylphenyl)- 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, bis(4-dimethylaminophenyl)ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-benzoyl-4'-methyldimethylsulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzoic acid methyl, 4-dimethylaminobenzoic acid ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid butyl, 4-dimethylamino-2-ethylhexyl benzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid, benzyl -β-methoxyethyl acetal, benzyldimethyl ketal, 1-phenyl-1,2-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl)oxime, o-benzoylmethylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone , 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, Benzoyl peroxide, cumene peroxide, 2-mercaptobenzoimidal, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-(o-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazole 2 monomer, 2-(o-chlorophenyl)-4,5-di(methoxyphenyl)imidazole dimer, 2-(o-fluorophenyl)-4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazole dimer, 2-(p-methoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazole dimer, 2,4,5-triaryl Imidazole dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4'-bisdimethylaminobenzophenone (i.e. Michler's ketone), 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone (i.e. ethyl Michler's ketone) ketone), 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n -Butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, α,α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, thioxanthone , 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosberone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 1,7-bis-(9-acridinyl) Heptane, 1,5-bis-(9-acridinyl)pentane, 1,3-bis-(9-acridinyl)propane, p-methoxytriazine, 2,4,6-tris(trichloromethyl ) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6- Bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-( 4-diethylamino-2-methylphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4, 6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-ethoxystyryl) -4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-n-butoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-bis -Trichloromethyl-6-(3-bromo-4-methoxy)phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(2-bromo-4-methoxy)phenyl- s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(3-bromo-4-methoxy)styrylphenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-( 2-Bromo-4-methoxy)styrylphenyl-s-triazine, ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-, 1 -(O-acetyloxime), 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-, 2-(O-benzoyloxime)], 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4- Morpholinophenyl)-butanone-1,2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropane -1-one, "NCI-831" (brand name: made by ADEKA), etc. are mentioned. Moreover, the oxime compound used by this invention can also be used as a photoinitiator. That is, in the photosensitive resin composition according to the present invention, the oxime compound is contained as a dispersion aid (included as a dispersion aid in the colorant dispersion), but may also be contained as a photopolymerization initiator. In this case, it is thought that interaction does not arise between the oxime compound as a photoinitiator and a coloring agent. In particular, when the colorant is a pigment composed of a nitrogen-containing aromatic ring compound, it is considered that π-π interaction does not occur between the oxime compound as a photopolymerization initiator and the pigment composed of a nitrogen-containing aromatic ring compound. About the oxime compound as a photoinitiator, it is the same as the above, and the compound represented by said Formula (1) is preferable.
광중합 개시제의 함유량은 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 0.5~20중량%인 것이 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 충분한 내열성, 내약품성을 얻을 수 있고, 또 도막 형성능을 향상시켜, 경화 불량을 억제할 수 있다.It is preferable that content of a photoinitiator is 0.5 to 20 weight% with respect to solid content of the photosensitive resin composition. By setting it as the said range, sufficient heat resistance and chemical-resistance can be obtained, and also the ability to form a coating film can be improved and curing failure can be suppressed.
또, 감광성 수지 조성물이 광중합 개시제로서 상기 옥심 화합물을 포함하는 경우, 상기 옥심 화합물의 비율은 광중합 개시제의 총량에 대해, 1~100중량%인 것이 바람직하고, 20~100중량%인 것이 보다 바람직하며, 50~100중량%인 것이 더욱 바람직하고, 80~100중량%인 것이 특히 바람직하다. 상기 범위로 함으로써, 감광성 수지 조성물의 감도나 세선(細線) 밀착성을 향상시킬 수 있다.In addition, when the photosensitive resin composition contains the oxime compound as a photopolymerization initiator, the ratio of the oxime compound is preferably 1 to 100% by weight, more preferably 20 to 100% by weight, based on the total amount of the photopolymerization initiator. , It is more preferably 50 to 100% by weight, and particularly preferably 80 to 100% by weight. By setting it as the said range, the sensitivity of the photosensitive resin composition and thin wire adhesiveness can be improved.
[착색제 분산액] [colorant dispersion]
본 발명에 관한 착색제 분산액의 함유량은 감광성 수지 조성물의 용도에 따라 적절히 결정하면 되지만, 일례로서 감광성 수지 조성물에서의 착색제의 함유량이 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서, 5~70중량%가 되는 양이 바람직하고, 25~60중량%가 되는 양이 보다 바람직하다.The content of the colorant dispersion according to the present invention may be appropriately determined depending on the use of the photosensitive resin composition. As an example, the content of the colorant in the photosensitive resin composition is preferably 5 to 70% by weight with respect to the solid content of the photosensitive resin composition. And, the amount to be 25 to 60% by weight is more preferable.
또한, 후술하는 광중합성 모노머를 이용하는 경우, 본 발명에 관한 착색제 분산액의 함유량은 감광성 수지 조성물에서의 상기 옥심 화합물의 함유량이, 기재 수지와 광중합성 모노머의 합계량 100중량부에 대해서, 0.01~2.5중량부가 되는 양이 바람직하고, 0.01~0.5중량부가 되는 양이 보다 바람직하다. 감광성 수지 조성물에서의 상기 옥심 화합물의 함유량이 이러한 범위가 되도록, 본 발명에 관한 착색제 분산액의 함유량을 조정함으로써, 기판에 대한 밀착성이 뛰어난 미소 패턴을 형성하기 쉬워진다.In the case of using the photopolymerizable monomer described later, the content of the colorant dispersion according to the present invention is 0.01 to 2.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the base resin and the photopolymerizable monomer. The amount to be added is preferable, and the amount to be 0.01 to 0.5 parts by weight is more preferable. By adjusting the content of the colorant dispersion according to the present invention so that the content of the oxime compound in the photosensitive resin composition falls within this range, it is easy to form a fine pattern having excellent adhesion to a substrate.
[광중합성 모노머] [Photopolymerizable monomer]
본 발명에 관한 감광성 수지 조성물은 광중합성 모노머를 함유해도 된다. 광중합성 모노머로서는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 단관능 모노머, 다관능 모노머를 이용할 수 있다. 광중합성 모노머는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.The photosensitive resin composition according to the present invention may contain a photopolymerizable monomer. It does not specifically limit as a photopolymerizable monomer, Conventionally well-known monofunctional monomers and polyfunctional monomers can be used. A photopolymerizable monomer can be used individually or in combination of 2 or more types.
단관능 모노머로서는 (메타)아크릴아미드, 메틸올(메타)아크릴아미드, 메톡시메틸(메타)아크릴아미드, 에톡시메틸(메타)아크릴아미드, 프로폭시메틸(메타)아크릴아미드, 부톡시메톡시메틸(메타)아크릴아미드, N-메틸올(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴산, 푸마르산, 말레산, 무수 말레산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 크로톤산, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산, tert-부틸아크릴아미드설폰산, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-페녹시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시-2-히드록시프로필 프탈레이트, 글리세린모노(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 프탈산유도체의 하프(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 단관능 모노머는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Monofunctional monomers include (meth)acrylamide, methylol (meth)acrylamide, methoxymethyl (meth)acrylamide, ethoxymethyl (meth)acrylamide, propoxymethyl (meth)acrylamide, and butoxymethoxymethyl. (meth)acrylamide, N-methylol(meth)acrylamide, N-hydroxymethyl(meth)acrylamide, (meth)acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citracone acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, tert-butylacrylamidesulfonic acid, methyl(meth)acrylate, ethyl(meth)acrylate, butyl(meth)acrylate , 2-ethylhexyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate Late, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, glycerin mono(meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) Acrylate, dimethylamino (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) ) acrylates, half (meth)acrylates of phthalic acid derivatives, and the like. These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.
한편, 다관능 모노머로서는 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시폴리에톡시페닐)프로판, 2-히드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 프탈산디글리시딜에스테르디(메타)아크릴레이트, 글리세린트리아크릴레이트, 글리세린폴리글리시딜에테르폴리(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트(즉, 톨릴렌디이소시아네이트), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트와 헥사메틸렌디이소시아네이트와 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 반응물, 메틸렌비스(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드메틸렌에테르, 다가 알코올과 N-메틸올(메타)아크릴아미드의 축합물 등의 다관능 모노머나, 트리아크릴포르말 등을 들 수 있다. 이들 다관능 모노머는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.On the other hand, as the multifunctional monomer, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate ) Acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di ( meth)acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri( meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 2,2-bis(4-(meth)acryloxy Diethoxyphenyl) propane, 2,2-bis(4-(meth)acryloxypolyethoxyphenyl)propane, 2-hydroxy-3-(meth)acryloyloxypropyl (meth)acrylate, ethylene glycol di Glycidyl ether di(meth)acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di(meth)acrylate, phthalic acid diglycidyl ester di(meth)acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether Poly(meth)acrylate, urethane(meth)acrylate (i.e., tolylene diisocyanate), reaction product of trimethylhexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl(meth)acrylate, methylenebis(meth) polyfunctional monomers such as acrylamide, (meth)acrylamide methylene ether, and condensates of polyhydric alcohols and N-methylol (meth)acrylamide; triacryl formal; and the like. These polyfunctional monomers can be used individually or in combination of 2 or more types.
광중합성 모노머의 함유량은 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 1~30중량%인 것이 바람직하고, 5~20중량%인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 감도, 현상성, 해상성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있다.It is preferable that it is 1 to 30 weight% with respect to the solid content of the photosensitive resin composition, and, as for content of a photopolymerizable monomer, it is more preferable that it is 5 to 20 weight%. By setting it as the said range, there exists a tendency to balance sensitivity, developability, and resolution easily.
[그 밖의 성분] [Other Ingredients]
상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 각종 첨가제를 함유하고 있어도 된다. 첨가제로서는 증감제, 경화촉진제, 충전제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 응집 방지제, 열중합 금지제, 소포제, 계면활성제 등을 들 수 있다.The said photosensitive resin composition may contain various additives as needed. Examples of the additive include a sensitizer, a curing accelerator, a filler, an adhesion promoter, an antioxidant, an aggregation inhibitor, a thermal polymerization inhibitor, an antifoaming agent, and a surfactant.
<감광성 수지 조성물의 제조 방법> <Method for producing photosensitive resin composition>
본 발명에 관한 감광성 수지 조성물의 제조 방법은 기재 수지와 광중합 개시제와 본 발명에 이러한 착색제 분산액을 혼합하는 공정을 적어도 포함한다. 이 공정에서, 상기 성분에 더하여, 광중합성 모노머 및/또는 그 밖의 성분을 혼합해도 된다. 이들 성분은, 예를 들면 3롤 밀, 볼 밀, 샌드 밀 등의 교반기로 혼합할 수 있다. 또한 제조된 감광성 수지 조성물이 균일한 것이 되도록, 5㎛ 멤브레인 필터 등의 필터를 이용해 여과해도 된다.The method for producing the photosensitive resin composition according to the present invention includes at least a step of mixing a base resin, a photopolymerization initiator, and the present invention with such a colorant dispersion. In this step, in addition to the above components, a photopolymerizable monomer and/or other components may be mixed. These components can be mixed with an agitator such as a three-roll mill, a ball mill, or a sand mill, for example. Moreover, you may filter using a filter, such as a 5 micrometer membrane filter, so that the manufactured photosensitive resin composition may become uniform.
본 발명에 관한 감광성 수지 조성물의 제조 방법에서는 착색제와, 분산제와, 상기 옥심 화합물과, 용제를 미리 혼합해 착색제 분산액을 조제하고, 이 착색제 분산액을 기재 수지 등의 다른 성분과 혼합한다. 이와 같은 공정을 거침으로써, 저노광량에서도 고밀착성인 미소 패턴을 형성할 수 있는 감광성 수지 조성물이 얻어진다.In the method for producing a photosensitive resin composition according to the present invention, a colorant dispersion is prepared by mixing a colorant, a dispersant, the oxime compound, and a solvent in advance, and the colorant dispersion is mixed with other components such as a base resin. By passing through such a process, the photosensitive resin composition which can form a highly adhesive micropattern even with a low exposure amount is obtained.
[[ 실시예Example ]]
이하, 실시예를 나타내 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.
이하의 실시예 및 비교예에서는 하기의 화합물 1~3 및 비교 화합물 1및 2를 옥심 화합물로서 이용했다.In the following Examples and Comparative Examples, the following Compounds 1 to 3 and Comparative Compounds 1 and 2 were used as oxime compounds.
[화 23][Tue 23]
<옥심 화합물의 합성> <Synthesis of oxime compound>
이하, 화합물 1~3의 합성에 대해서, 합성예 1~4에 의해 설명한다.Hereinafter, synthesis examples 1-4 demonstrate the synthesis of compounds 1-3.
[합성예 1] [Synthesis Example 1]
(9,9-디-n-프로필플루오렌의 합성) (Synthesis of 9,9-di-n-propylfluorene)
플루오렌 6.64g(40mmol)를 27㎖의 THF에 용해시켰다. 얻어진 용액에 칼륨 tert-부톡시드 0.12g(1.1mmol), 1-브로모프로판 12.30g(100mmol), 및 농도 50중량%의 수산화나트륨 수용액 27㎖을 질소 분위기 하에서 서서히 첨가했다. 얻어진 혼합물을 80℃에서 3시간 교반하여 반응을 실시했다. 반응 후의 혼합물에 아세트산에틸 33g 및 물 33g를 가한 후, 유기층과 수층으로 분액했다. 얻어진 유기층을 무수 황산나트륨으로 탈수한 후, 로터리 증발기를 이용해 유기층으로부터 용매를 제거하여 9,9-디-n-프로필플루오렌 8.32g(수율 83%)를 얻었다.6.64 g (40 mmol) of fluorene was dissolved in 27 ml of THF. To the obtained solution, 0.12 g (1.1 mmol) of potassium tert-butoxide, 12.30 g (100 mmol) of 1-bromopropane, and 27 ml of an aqueous sodium hydroxide solution having a concentration of 50% by weight were gradually added under a nitrogen atmosphere. The resulting mixture was stirred at 80°C for 3 hours to react. After adding 33 g of ethyl acetate and 33 g of water to the mixture after reaction, it separated into an organic layer and an aqueous layer. After the obtained organic layer was dehydrated with anhydrous sodium sulfate, the solvent was removed from the organic layer using a rotary evaporator to obtain 8.32 g of 9,9-di-n-propylfluorene (yield: 83%).
[합성예 2] [Synthesis Example 2]
(2-니트로-9,9-디-n-프로필니트로플루오렌의 합성) (Synthesis of 2-nitro-9,9-di-n-propylnitrofluorene)
아세트산 131㎖와 무수 아세트산 262㎖로 이루어지는 혼합 용매에 2아세트산구리(II) 3수화물 9.18g(40mmol)를 가한 후, 혼합 용매를 10분간 교반했다. 그 후, 합성예 1의 방법에서 얻은 9,9-디-n-프로필플루오렌 10.02g(40mmol)를 아세트산 131㎖에 용해시킨 용액을 혼합 용매 중에 복수 회로 나누어 천천히 첨가했다. 그 다음에, 9,9-디-n-프로필플루오렌을 포함하는 혼합 용매를 3시간 교반해 니트로화 반응을 실시했다. 반응 후, 반응 혼합물을 빙수가 들어간 비커에 따랐다. 석출한 침전물을 여과해 회수한 후, 침전물을 세면 및 건조하여 2-니트로-9,9-디-n-프로필플루오렌 10.76g(수율 91%)를 얻었다.After adding 9.18 g (40 mmol) of copper diacetate trihydrate to a mixed solvent composed of 131 ml of acetic acid and 262 ml of acetic anhydride, the mixed solvent was stirred for 10 minutes. Thereafter, a solution in which 10.02 g (40 mmol) of 9,9-di-n-propylfluorene obtained by the method of Synthesis Example 1 was dissolved in 131 ml of acetic acid was slowly added in multiple portions to the mixed solvent. Next, a nitration reaction was performed by stirring a mixed solvent containing 9,9-di-n-propylfluorene for 3 hours. After the reaction, the reaction mixture was poured into a beaker containing ice water. After collecting the precipitate by filtration, the precipitate was washed and dried to obtain 10.76 g of 2-nitro-9,9-di-n-propylfluorene (yield: 91%).
[합성예 3] [Synthesis Example 3]
(화합물 1의 합성) (Synthesis of Compound 1)
9,9-디-n-프로필플루오렌 4.10g(16.37mmol)와 (2-메틸페닐)아세트산염화물 3.04g(18.00mmol)를 염화알루미늄 2.62g의 존재 하에, 디클로로메탄 용매, 50㎖ 중에서, 빙냉(氷冷) 하에서 1시간 반응시켰다. 반응 혼합물을 빙수에 열어 유기층을 분액했다. 회수한 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조 후, 증발시켰다. 잔사를 아세트산에틸/헥산 = 1/2의 용리액으로 실리카겔 컬럼 정제하여 2-(2-메틸페닐)아세틸-9,9-디-n-프로필카르바졸 5.95g(15.55mmol)를 얻었다. 2-(2-메틸페닐)아세틸- 9,9-디-n-프로필카르바졸 5.95g(15.55mmol)와 진한 염산 1.60g(15.55mmol)을 아질산이소부틸 2.42g(23.33mmol)의 존재 하에, 디메틸포름아미드 용매 25㎖ 중에서, 빙냉 하에서 3시간 반응시켰다. 반응액을 증발시켜, 잔사에 아세트산에틸을 가하고 포화 식염수로 세정해, 무수 황산마그네슘으로 건조 후, 증발시켜 2-[2-메틸페닐(히드록시이미노)아세틸]-9,9-디-n-프로필카르바졸 4.80g(11.67mmol)를 얻었다. 2-[2-메틸페닐(히드록시이미노)아세틸]-9,9-디-n-프로필카르바졸 4.80g(11.67mmol)와 무수 아세트산 1.43g(13.42mmol)와 트리에틸아민 1.36g(13.42mmol)와 디메틸포름아미드 용매 45.00㎖을 혼합해 35℃로 3시간 교반했다. 실온까지 냉각 후, 반응액에 아세트산에틸을 가하고 물로 세정하고, 무수 황산마그네슘으로 건조 후, 증발시켰다. 잔사를 아세트산에틸/헥산 = 2/1의 용리액으로 실리카겔 컬럼 정제하여 화합물 1, 4.76g(10.50mmol, 수율 72%)를 얻었다. 화합물 1의 1H-NMR의 측정 결과는 이하와 같았다.4.10 g (16.37 mmol) of 9,9-di-n-propylfluorene and 3.04 g (18.00 mmol) of (2-methylphenyl)acetic acid chloride were cooled on ice in a dichloromethane solvent, 50 ml, in the presence of 2.62 g of aluminum chloride ( It was reacted for 1 hour under cold and cold. The reaction mixture was opened in ice water, and the organic layer was separated. The recovered organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and then evaporated. The residue was purified on a silica gel column with ethyl acetate/hexane = 1/2 as the eluent to obtain 5.95 g (15.55 mmol) of 2-(2-methylphenyl)acetyl-9,9-di-n-propylcarbazole. 5.95 g (15.55 mmol) of 2-(2-methylphenyl)acetyl-9,9-di-n-propylcarbazole and 1.60 g (15.55 mmol) of concentrated hydrochloric acid were mixed with 2.42 g (23.33 mmol) of isobutyl nitrite in the presence of dimethyl In 25 ml of formamide solvent, it was made to react under ice-cooling for 3 hours. The reaction solution was evaporated, ethyl acetate was added to the residue, washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then evaporated to obtain 2-[2-methylphenyl(hydroxyimino)acetyl]-9,9-di-n-propyl 4.80 g (11.67 mmol) of carbazole was obtained. 4.80 g (11.67 mmol) of 2-[2-methylphenyl(hydroxyimino)acetyl]-9,9-di-n-propylcarbazole and 1.43 g (13.42 mmol) of acetic anhydride and 1.36 g (13.42 mmol) of triethylamine and 45.00 ml of a dimethylformamide solvent were mixed and stirred at 35°C for 3 hours. After cooling to room temperature, ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then evaporated. The residue was purified on a silica gel column with ethyl acetate/hexane = 2/1 as the eluent to obtain 4.76 g (10.50 mmol, yield 72%) of compound 1. The measurement results of 1 H-NMR of Compound 1 were as follows.
1H-NMR(600MHz, CDCl3, ppm): 8.25(d, 1H), 8.22(s, 1H), 7.83(d, 1H), 7.81(dd, 1H), 7.33-7.40(m, 3H), 7.26-7.33(m, 4H), 2.35(s, 3H), 2.14(s, 3H), 1.95-2.07(m, 4H), 0.63-0.66(m, 10H). 1 H-NMR (600 MHz, CDCl 3 , ppm): 8.25 (d, 1H), 8.22 (s, 1H), 7.83 (d, 1H), 7.81 (dd, 1H), 7.33-7.40 (m, 3H), 7.26-7.33 (m, 4H), 2.35 (s, 3H), 2.14 (s, 3H), 1.95-2.07 (m, 4H), 0.63-0.66 (m, 10H).
[합성예 4] [Synthesis Example 4]
(화합물 2의 합성) (Synthesis of Compound 2)
합성예 2의 방법으로 얻은 2-니트로-9,9-디프로필플루오렌 11.82g(40mmol), 및 염화 알루미늄 5.8g(44mmol)를 디클로로메탄 40㎖에 용해시켰다. 디클로로메탄 용액을 빙욕으로 냉각하면서, 5℃ 이하의 온도에서 아세틸클로라이드 3.45g(44mmol)를 디클로로메탄 용액 중에 적하했다. 적하 후, 반응액을 교반하면서, 반응액의 온도를 1시간 걸쳐 실온까지 올리고, 그 다음에 실온 하에서 3시간 반응을 계속했다. 얻어진 반응액을 빙수 300㎖가 들어간 비커에 적하했다. 비커 중의 혼합물을 분액 로트로 옮긴 후, 분액 로트에 아세트산에틸 200㎖을 가해 생성물을 유기층으로 추출했다. 유기층을 분리한 후, 추가로 수층 중의 생성물을 아세트산에틸 100㎖로 추출했다. 2회의 추출로 얻어진 유기층을 10% 탄산나트륨 수용액 300㎖로 세정한 후, 물 300㎖로 세정했다. 세정 후의 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 로터리 증발기를 이용해 유기층으로부터 용매를 류거해 오일상 물질을 얻었다. 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(전개 용매, 아세트산에틸:n-헥산=1:1(중량비))에서 오일상 물질을 정제하여 담황색 고체(2-(2-메틸벤조일)-7-니트로-9,9-디-n-프로필플루오렌) 16.11g(수율 94%)를 얻었다.11.82 g (40 mmol) of 2-nitro-9,9-dipropylfluorene obtained by the method of Synthesis Example 2 and 5.8 g (44 mmol) of aluminum chloride were dissolved in 40 ml of dichloromethane. While cooling the dichloromethane solution in an ice bath, 3.45 g (44 mmol) of acetyl chloride was added dropwise into the dichloromethane solution at a temperature of 5°C or lower. After the dropwise addition, the temperature of the reaction solution was raised to room temperature over 1 hour while stirring the reaction solution, and then the reaction was continued at room temperature for 3 hours. The obtained reaction liquid was added dropwise to a beaker containing 300 ml of ice water. After the mixture in the beaker was transferred to a separation funnel, 200 ml of ethyl acetate was added to the separation funnel, and the product was extracted into the organic layer. After separating the organic layer, the product in the aqueous layer was further extracted with 100 ml of ethyl acetate. The organic layer obtained by the two extractions was washed with 300 ml of a 10% sodium carbonate aqueous solution and then washed with 300 ml of water. After drying the organic layer after washing with anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off from the organic layer using a rotary evaporator to obtain an oily substance. The oily material was purified by silica gel column chromatography (developing solvent, ethyl acetate:n-hexane = 1:1 (weight ratio)) to yield a pale yellow solid (2-(2-methylbenzoyl)-7-nitro-9,9-di -n-propylfluorene) 16.11 g (yield 94%) was obtained.
얻어진 담황색 고체 8.56g(20mmol)와 염산히드록실아민 1.5g(21mmol)를 에탄올 100㎖에 용해 후, 에탄올 용액을 2시간 환류시켰다. 환류 후의 반응액으로부터 에탄올을 류거한 후, 잔사를 세면했다. 세정된 잔사를 아세트산에틸에 용해시킨 후, 아세트산에틸 용액을 황산마그네슘으로 건조시켰다. 건조 후의 아세트산에틸 용액으로부터, 로터리 증발기를 이용해 아세트산에틸을 제거하여 옥심체(2-메틸페닐(7-니트로-9,9-디-n-프로필플루오렌 2-일)케톤옥심)을 잔사로서 얻었다. 얻어진 옥심체를 THF 60㎖에 용해시킨 후, THF 중에 아세틸클로라이드(3.45g, 44mmol)를 가해 교반 하에 반응을 실시했다. 반응 후, 트리에틸아민(4.7g, 46mmol)를 반응액에 실온에서 적하했다. 적하와 함께 염의 침강이 확인되었다. 트리에틸아민이 가해진 반응액을 2시간 교반한 후, 반응액에 물 40㎖을 첨가했다. 그 다음에, 반응액 중의 생성물을 아세트산에틸 40㎖로 추출했다. 유기층을 물 40㎖로 2회 세정하고, 이어서 포화 탄산칼륨 수용액 40㎖로 2회 세정했다. 세정 후의 유기층을 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 로터리 증발기를 이용해 유기층으로부터 용매를 제거하고 잔사를 얻었다. 잔사를 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(전개 용매, 아세트산에틸:n-헥산=1:1(중량비))에서 정제하여 화합물 2, 6.63g(16.81mmol, 수율 84%)를 얻었다. 화합물 2의 1H-NMR의 측정 결과는 이하와 같았다.After dissolving 8.56 g (20 mmol) of the obtained pale yellow solid and 1.5 g (21 mmol) of hydroxylamine hydrochloride in 100 ml of ethanol, the ethanol solution was refluxed for 2 hours. After ethanol was distilled off from the reaction liquid after refluxing, the residue was washed off. After the washed residue was dissolved in ethyl acetate, the ethyl acetate solution was dried over magnesium sulfate. From the ethyl acetate solution after drying, ethyl acetate was removed using a rotary evaporator to obtain an oxime compound (2-methylphenyl(7-nitro-9,9-di-n-propylfluorene 2-yl)ketone oxime) as a residue. After dissolving the obtained oxime body in 60 ml of THF, acetyl chloride (3.45 g, 44 mmol) was added in THF and reaction was carried out while stirring. After the reaction, triethylamine (4.7 g, 46 mmol) was added dropwise to the reaction solution at room temperature. Precipitation of the salt was confirmed with dripping. After stirring the reaction solution to which triethylamine was added for 2 hours, 40 ml of water was added to the reaction solution. Then, the product in the reaction solution was extracted with 40 ml of ethyl acetate. The organic layer was washed twice with 40 ml of water, and then washed twice with 40 ml of a saturated aqueous solution of potassium carbonate. After drying the washed organic layer with magnesium sulfate, the solvent was removed from the organic layer using a rotary evaporator to obtain a residue. The residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent, ethyl acetate:n-hexane = 1:1 (weight ratio)) to obtain 6.63 g (16.81 mmol, yield 84%) of compound 2. The measurement results of 1 H-NMR of Compound 2 were as follows.
1H-NMR(600MHz, CDCl3, ppm): 8.2(d, 1H), 8.23(s, 1H), 7.79-7.83(m, 4H), 2.48(s, 3H), 2.27(s, 3H), 2.06-2.12(m, 4H), 0.51-0.68(m, 10H). 1 H-NMR (600 MHz, CDCl 3 , ppm): 8.2 (d, 1H), 8.23 (s, 1H), 7.79-7.83 (m, 4H), 2.48 (s, 3H), 2.27 (s, 3H), 2.06-2.12 (m, 4H), 0.51-0.68 (m, 10H).
[합성예 5] [Synthesis Example 5]
(화합물 3의 합성) (Synthesis of Compound 3)
(2-메틸페닐)아세트산 염화물 3.04g(18.00mmol)를 3-시클로펜틸프로피온산 염화물 2.89g(18.00mmol)에 바꾸는 것 외에는 합성예 3과 동일하게 하여, 화합물 3, 4.46g(10.02mmol, 수율 72%)를 얻었다. 화합물 3의 1H-NMR의 측정 결과는 이하와 같았다.(2-methylphenyl) acetic acid chloride 3.04g (18.00mmol) was replaced with 3-cyclopentylpropionic acid chloride 2.89g (18.00mmol) in the same manner as in Synthesis Example 3, Compound 3, 4.46g (10.02mmol, yield 72%) ) was obtained. The measurement results of 1 H-NMR of Compound 3 were as follows.
1H-NMR(600MHz, CDCl3, ppm): 8.06-8.12(m, 2H), 7.71-7.78(m, 2H), 7.31-7.40(m, 3H), 2.52(d, 2H), 2.27(s, 3H), 1.89-2.19(m, 5H), 1.48-1.80(m, 6H), 1.19-1.26(m, 2H), 0.61-0.77(m, 10H). 1 H-NMR (600 MHz, CDCl 3 , ppm): 8.06-8.12 (m, 2H), 7.71-7.78 (m, 2H), 7.31-7.40 (m, 3H), 2.52 (d, 2H), 2.27 (s) , 3H), 1.89-2.19 (m, 5H), 1.48-1.80 (m, 6H), 1.19-1.26 (m, 2H), 0.61-0.77 (m, 10H).
<착색제 분산액의 조제> <Preparation of colorant dispersion>
[실시예 1~30, 비교예 1~8] [Examples 1 to 30, Comparative Examples 1 to 8]
표 1에 나타내는 착색제, 분산제, 및 옥심 화합물을 혼합하고, 표 1에 나타내는 용제에 용해하여, 고형분 농도 17~23중량%의 착색제 분산액을 조제했다. 또한 각 성분의 사용량은 표 1에 나타내는 것과 같다. 또, 착색제, 분산제, 및 용제의 상세한 것은 하기와 같다. 실시예 10의 혼합물 1은 상기에서 합성한 화합물 1(옥심 화합물)과 하기 식으로 나타내는 함질소 방향환을 가지는 실란 커플링제의 혼합물(중량비 1:1)이다. 또, 실시예 20의 혼합물 2는 상기에서 합성한 화합물 2(옥심 화합물)로 하기 식으로 나타내는 함질소 방향환을 가지는 실란 커플링제의 혼합물(중량비 1:1)이다. 또한, 실시예 30의 혼합물 3은 상기에서 합성한 화합물 3(옥심 화합물)으로 하기 식으로 나타내는 함질소 방향환을 가지는 실란 커플링제의 혼합물(중량비 1:1)이다.The colorant shown in Table 1, the dispersant, and the oxime compound were mixed and dissolved in the solvent shown in Table 1 to prepare a colorant dispersion liquid having a solid content concentration of 17 to 23% by weight. In addition, the amount of use of each component is as shown in Table 1. In addition, the detail of a coloring agent, a dispersing agent, and a solvent is as follows. Mixture 1 of Example 10 is a mixture (weight ratio 1:1) of Compound 1 (oxime compound) synthesized above and a silane coupling agent having a nitrogen-containing aromatic ring represented by the following formula. In addition, mixture 2 of Example 20 is a mixture of compound 2 (oxime compound) synthesized above and a silane coupling agent having a nitrogen-containing aromatic ring represented by the following formula (weight ratio 1:1). In addition, mixture 3 of Example 30 is a mixture of compound 3 (oxime compound) synthesized above and a silane coupling agent having a nitrogen-containing aromatic ring represented by the following formula (weight ratio: 1:1).
[화 24][Tue 24]
·착색제·coloring agent
R254(C.I. 안료 레드 254, 하기의 제일 왼쪽의 식으로 나타내는 디케토피로로피롤계 안료) R254 (C.I. Pigment Red 254, a diketopyrroropyrrole pigment represented by the formula on the far left below)
B15:6(C.I. 안료 블루 15:6, 하기의 한가운데의 식으로 나타내는 프탈로시아닌계 안료)B15:6 (C.I. Pigment Blue 15:6, a phthalocyanine-based pigment represented by the formula in the middle below)
G58(C.I. 안료 그린 58, 하기의 제일 오른쪽의 식으로 나타내는 프탈로시아닌계 안료) G58 (C.I. Pigment Green 58, a phthalocyanine-based pigment represented by the formula on the rightmost side below)
Perylene(3,4,9,10-페릴렌테트라카르복시디아미드: 상기 식(e-3)에서, Re7 및 Re8이 수소 원자인 것) Perylene (3,4,9,10-perylenetetracarboxydiamide: in the above formula (e-3), Re7 and Re8 are hydrogen atoms)
[화 25][Tue 25]
·분산제・Dispersing agent
아크릴 수지계 고분자 분산제(상품명: Disper BYK 2001, 빅케미사 제)Acrylic resin polymer dispersant (trade name: Disper BYK 2001, manufactured by Big Chemie)
·용제·solvent
3-메톡시부틸아세테이트/프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트=60/40(중량비)의 혼합 용제 Mixed solvent of 3-methoxybutyl acetate/propylene glycol monomethyl ether acetate = 60/40 (weight ratio)
[점도의 평가] [Evaluation of viscosity]
E형 점토계(도쿄계기 제)를 이용하여 조제 직후의 착색제 분산액의 점도를 측정했다. 또, 착색제 분산액을 차광 유리 용기에 충전하고, 밀폐 상태로 40℃에서 7일간 정치한 후, E형 점토계를 이용하여 재차 착색제 분산액의 점도를 측정했다. 조제 직후의 점도 값과 40℃에서 7일간 정치한 후의 점도 값의 차이가 0.3 mPa·s 이하였을 경우, 착색제 분산액의 분산 안정성이 양호(○)라고 판정하고, 상기 차이가 0.3 mPa·s 초과한 경우, 착색제 분산액의 분산 안정성이 불량(×)이라고 판정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.The viscosity of the colorant dispersion immediately after preparation was measured using an E-type clay meter (manufactured by Tokyo Keiki). In addition, the colorant dispersion liquid was filled in a light-shielding glass container and allowed to stand at 40°C for 7 days in an airtight state, and then the viscosity of the colorant dispersion liquid was measured again using an E-type clay meter. When the difference between the viscosity value immediately after preparation and the viscosity value after standing at 40 ° C. for 7 days is 0.3 mPa s or less, the dispersion stability of the colorant dispersion is judged to be good (○), and the difference exceeds 0.3 mPa s In this case, the dispersion stability of the colorant dispersion was judged to be poor (×). The results are shown in Table 1.
표 1에 나타내는 바와 같이, 실시예 1, 2, 4~10, 11, 12, 14~20, 21, 22, 및 24~30에서는 화합물 1, 2 또는 3을 첨가함으로써, 분산제의 함유량을 줄여도 착색제의 분산 안정성이 양호했다. 한편, 화합물 1~3의 모두 이용하지 않았던 비교예 1~8에서는 실시예 1,2, 4~10, 11, 12, 14~20, 21, 22, 및 24~30보다도 많은 양의 분산제를 이용한 경우에, 착색제의 분산 안정성이 양호해지거나, 또는 실시예 1, 2, 4~10, 11, 12, 14~20, 21, 22, 및 24~30보다도 많은 양의 분산제를 이용해도 착색제의 분산 안정성이 불량이었다. 이상으로부터, 본 발명에 관한 착색제 분산액은 분산제의 함유량을 줄여도 착색제의 분산 안정성이 양호하다는 것이 알 수 있다.As shown in Table 1, in Examples 1, 2, 4 to 10, 11, 12, 14 to 20, 21, 22, and 24 to 30, by adding compounds 1, 2 or 3, even if the content of the dispersant is reduced, the colorant The dispersion stability of was good. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 8 in which all of Compounds 1 to 3 were not used, Examples 1, 2, 4 to 10, 11, 12, 14 to 20, 21, 22, and 24 to 30 used a larger amount of dispersant than In this case, the dispersion stability of the colorant becomes good, or even if a larger amount of the dispersant is used than in Examples 1, 2, 4 to 10, 11, 12, 14 to 20, 21, 22, and 24 to 30, the colorant is dispersed. Stability was poor. From the above, it can be seen that the colorant dispersion according to the present invention has good dispersion stability of the colorant even when the content of the dispersant is reduced.
<감광성 수지 조성물의 조제> <Preparation of photosensitive resin composition>
[실시예 31~66 및 비교예 9~19] [Examples 31 to 66 and Comparative Examples 9 to 19]
표 2 또는 3에 기재의 광중합 개시제 20중량부, 수지 A(고형분 55중량%, 용제:3-메톡시부틸아세테이트) 30중량부, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 30중량부, 및 표 2 또는 3에 기재의 착색제 분산액(각 착색제 분산액의 고형분 농도는 17~23중량%이며, 착색제의 함유량은 15중량%이다.) 100중량부와 3-메톡시부틸아세테이트(60중량%)와 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(40중량%)로 이루어지는 혼합 용제를 혼합한 후, 구멍 지름 5㎛인 멤브레인 필터에 의해 여과하여 감광성 수지 조성물을 조제했다. 또한 혼합 용제의 양을 조정하고, 감광성 수지 조성물 중의 고형분 농도를 15중량%로 조정했다.20 parts by weight of the photopolymerization initiator described in Table 2 or 3, 30 parts by weight of resin A (solid content 55% by weight, solvent: 3-methoxybutyl acetate), 30 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, and Table 2 or 3 100 parts by weight, 3-methoxybutyl acetate (60% by weight) and propylene glycol monomethyl After mixing a mixed solvent composed of ether acetate (40% by weight), it was filtered through a membrane filter having a pore diameter of 5 µm to prepare a photosensitive resin composition. Moreover, the quantity of the mixed solvent was adjusted and the solid content concentration in the photosensitive resin composition was adjusted to 15 weight%.
또, 표 2 또는 3에 나타내는 광중합 개시제 중, 「OXE01」, 「화합물 1+OXE01」, 및 「화합물 2+OXE01」의 상세한 것은 하기와 같다.Moreover, among the photoinitiators shown in Table 2 or 3, details of "OXE01", "Compound 1+OXE01", and "Compound 2+OXE01" are as follows.
OXE01: BASF사 제의 광중합 개시제(상품명: IRGACURE OXE01: 1.2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-, 2-(O-벤조일옥심)]) OXE01: BASF photopolymerization initiator (trade name: IRGACURE OXE01: 1.2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-, 2-(O-benzoyloxime)])
화합물 1+OXE01: 화합물 1과 OXE01의 혼합물(중량비 1:1) Compound 1+OXE01: A mixture of Compound 1 and OXE01 (weight ratio 1:1)
화합물 2+OXE01: 화합물 2과 OXE01의 혼합물(중량비 1:1) Compound 2+OXE01: A mixture of Compound 2 and OXE01 (weight ratio 1:1)
또, 감광성 수지 조성물의 조제로 사용한 수지 A는 이하의 처방에 따라 합성한 것을 이용했다.Moreover, what was synthesize|combined according to the following prescription was used for resin A used as preparation of the photosensitive resin composition.
우선, 500㎖ 4구 플라스크 중에, 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지(에폭시 당량 235)235g, 테트라메틸암모늄클로라이드 110mg, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 100mg, 및 아크릴산 72.0g를 투입하고, 이것에 25㎖/분의 속도로 공기를 불어넣으면서 90~100℃에서 가열 용해했다. 다음에, 용액이 백탁한 상태인 채 서서히 승온해, 120℃에 가열해 완전 용해시켰다. 이때, 용액은 점차 투명 점조가 되었지만, 그대로 교반을 계속했다. 그동안, 산가를 측정해 1.0mgKOH/g 미만이 될 때까지 가열교반을 계속했다. 산가가 목표값에 이를 때까지 12시간을 필요로 했다. 그리고 실온까지 냉각해, 무색 투명하고 고체상의 하기 구조식(a-4)으로 나타내는 비스페놀플루오렌형 에폭시아크릴레이트를 얻었다.First, in a 500 ml four-necked flask, 235 g of bisphenol fluorene type epoxy resin (epoxy equivalent 235), 110 mg of tetramethylammonium chloride, 100 mg of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, and 72.0 g of acrylic acid were added. and dissolved by heating at 90 to 100°C while blowing air into it at a rate of 25 mL/min. Next, while the solution was in a cloudy state, the temperature was gradually raised and heated to 120°C to completely dissolve the solution. At this time, the solution gradually became transparent and viscous, but stirring was continued as it was. In the meantime, heat stirring was continued until the acid value was measured and it became less than 1.0 mgKOH/g. Twelve hours were required until the acid value reached the target value. And it cooled to room temperature, and the bisphenol fluorene type|mold epoxy acrylate represented by the following structural formula (a-4) of a colorless and transparent solid state was obtained.
[화 26][Tue 26]
그 다음에, 이와 같이 하여 얻어진 상기의 비스페놀플루오렌형 에폭시 아크릴레이트 307.0g에 3-메톡시부틸아세테이트 600g를 가해 용해한 후, 벤조페논테트라카르복시산 2무수물 80.5g 및 브롬화테트라에틸암모늄 1g를 혼합하고, 서서히 승온해 110~115℃에서 4시간 반응시켰다. 산무수물기의 소실을 확인한 후, 1,2,3,6-테트라히드로무수프탈산 38.0g를 혼합하고, 90℃에서 6시간 반응시켜 수지 A를 얻었다. 산무수물기의 소실은 IR 스펙트럼으로 확인했다. 이 수지 A는 전술의 일반식(a-1)으로 나타내는 화합물에 상당한다.Next, 600 g of 3-methoxybutyl acetate was added to and dissolved in 307.0 g of the bisphenol fluorene type epoxy acrylate obtained in this way, and then 80.5 g of benzophenone tetracarboxylic dianhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide were mixed, The temperature was gradually raised and reacted at 110 to 115°C for 4 hours. After confirming disappearance of the acid anhydride group, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed, and it was made to react at 90 degreeC for 6 hours, and resin A was obtained. Disappearance of the acid anhydride group was confirmed by IR spectrum. This resin A corresponds to the compound represented by the above general formula (a-1).
실시예 31~66 및 비교예 9~19의 감광성 수지 조성물의 각각에 대해서, 이하의 방법에 따라 포스트베이크에 의한 착색의 평가, 및 세선 밀착성의 평가를 실시했다. 결과를 표 2및 3에 기재한다.About each of the photosensitive resin compositions of Examples 31-66 and Comparative Examples 9-19, evaluation of the coloring by post-baking and evaluation of thin wire adhesiveness were performed according to the following method. Results are shown in Tables 2 and 3.
[착색 평가] [Evaluation of coloring]
실시예 31~66 및 비교예 9~19의 감광성 수지 조성물의 각각에 대해서, 이하의 순서로 착색 평가를 실시했다.About each of the photosensitive resin compositions of Examples 31-66 and Comparative Examples 9-19, coloring evaluation was performed in the following procedure.
우선, 감광성 수지 조성물을 유리 기판(10cm×10cm)에 스핀 도포하고, 90℃에서 120초간 가열함으로써, 유리 기판의 표면에 1.0㎛의 도포막을 형성시켰다. 그 후, 미러 프로젝션 얼라이너(제품명: TME-150 RTO, 주식회사 탑콘 제)를 사용해, 노광량을 20, 50, 100, 또는 200mJ/cm2로 하고, 노광 갭을 200㎛로 하여 도막을 노광했다. 노광 후의 막을 26℃의 0.04중량% KOH 수용액으로 30~50초간 현상 후, 230℃에서 30분간, 포스트베이크를 실시했다. 포스트베이크 전후의 도포막에 대해서, 순간 멀티 측광 시스템(MCPD-3000: 오오츠카 전자주식회사 제)를 이용하여, 380nm~780nm 파장역의 투과율 차이를 ΔY로서 측정했다. ΔY의 값을 표 2 및 3에 기재한다. ΔY의 절대값이 작을수록 착색되어 있지 않은 것을 의미한다.First, a photosensitive resin composition was spin-coated on a glass substrate (10 cm × 10 cm) and heated at 90° C. for 120 seconds to form a coating film of 1.0 μm on the surface of the glass substrate. Thereafter, the coating film was exposed using a mirror projection aligner (product name: TME-150 RTO, manufactured by Topcon Co., Ltd.) at an exposure amount of 20, 50, 100, or 200 mJ/cm 2 and an exposure gap of 200 μm. The film after exposure was developed with a 0.04% by weight KOH aqueous solution at 26°C for 30 to 50 seconds, and then post-baked at 230°C for 30 minutes. For the coated film before and after post-baking, the transmittance difference in the wavelength range of 380 nm to 780 nm was measured as ΔY using an instantaneous multi-photometry system (MCPD-3000: manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). The values of ΔY are listed in Tables 2 and 3. It means that it is not colored, so that the absolute value of (DELTA)Y is small.
[세선 밀착성의 평가] [Evaluation of fine wire adhesion]
실시예 31~66 및 비교예 9~19의 감광성 수지 조성물을 유리 기판(100mm×100mm) 위에 스핀 코터를 이용해 도포하고, 90℃에서 120초간 프리베이크를 실시해, 막 두께 1.0㎛인 도막을 형성했다. 그 다음에, 미러 프로젝션 얼라이너(제품명: TME-150RTO, 주식회사 탑콘 제)를 사용해, 노광 갭을 50㎛로 하고 5㎛인 라인 패턴이 형성된 네거티브 마스크를 통해서, 도막에 자외선을 조사했다. 노광량은 20, 50, 100, 및 200mJ/cm2의 4단계로 했다. 노광 후의 도막을 26℃의 0.04중량% KOH 수용액으로 40초간 현상 후, 230℃에서 30분간 포스트베이크를 실시함으로써, 라인 패턴을 형성했다.The photosensitive resin compositions of Examples 31 to 66 and Comparative Examples 9 to 19 were applied on a glass substrate (100 mm × 100 mm) using a spin coater, and prebaked at 90 ° C. for 120 seconds to form a coating film having a thickness of 1.0 μm. . Next, using a mirror projection aligner (product name: TME-150RTO, manufactured by Topcon Co., Ltd.), the coating film was irradiated with ultraviolet rays through a negative mask having an exposure gap of 50 µm and a line pattern of 5 µm. The exposure amount was 20, 50, 100, and 200 mJ/cm 2 in four stages. A line pattern was formed by performing post-bake at 230 degreeC for 30 minutes after image development for 40 second for the coating film after exposure with 0.04 weight% KOH aqueous solution at 26 degreeC.
형성된 라인 패턴을 광학 현미경에 의해 관찰해, 세선 밀착성을 평가했다. 세선 밀착성은 기판으로부터 벗겨지지 않고 라인 패턴이 형성된 것을 「양호」, 기판으로부터 벗겨져 라인 패턴이 형성되지 않았던 것을 「불량」으로서 평가했다. 결과를 표 2 및 3에 나타낸다.The formed line pattern was observed with an optical microscope to evaluate thin wire adhesion. Thin wire adhesion was evaluated as "good" when a line pattern was formed without peeling off from the substrate, and "poor" when the line pattern was not peeled off from the substrate. Results are shown in Tables 2 and 3.
표 2 및 3으로부터 알 수 있듯이, 실시예 31~66에서는 포스트베이크시의 가열에 의한 착색을 억제할 수 있고, 또, 50mJ/cm2라는 노광량으로, 5㎛인 라인 패턴이 기판에 밀착했다. 특히, 실시예 32~66에서는 20mJ/cm2라는 저노광량이어도, 5㎛인 라인 패턴이 기판에 밀착했다.As can be seen from Tables 2 and 3, in Examples 31 to 66, coloring due to heating during post-baking can be suppressed, and a 5 μm line pattern adheres to the substrate at an exposure amount of 50 mJ/cm 2 . In particular, in Examples 32 to 66, line patterns of 5 μm adhered to the substrate even at a low exposure amount of 20 mJ/cm 2 .
이것에 비해서, 비교예 9, 14, 15, 및 17에서는 포스트베이크시의 가열에 의한 착색을 억제할 수 있었지만, 50mJ/cm2라는 노광량에서는 5㎛인 라인 패턴이 기판에 밀착하지 않고, 실시예 31~66과 비교하여 세선 밀착성이 뒤떨어지고 있었다.In contrast, in Comparative Examples 9, 14, 15, and 17, coloring due to heating during post-baking could be suppressed, but at an exposure amount of 50 mJ/cm 2 , the line pattern of 5 μm did not adhere to the substrate, and the examples Compared with 31-66, the thin wire adhesiveness was inferior.
또, 비교예 10~13, 18, 및 19에서는 50mJ/cm2라는 노광량으로, 5㎛인 라인 패턴이 기판에 밀착하고, 특히 비교예 10, 18, 및 19에서는 20mJ/cm2라는 저노광량이어도, 5㎛인 라인 패턴이 기판에 밀착했다. 그러나, 비교예 10~13, 18, 및 19에서는 포스트베이크시의 가열에 의한 착색을 억제할 수 없었다. 비교예 11이나 13의 감광성 수지 조성물은 광중합 개시제로서의 화합물 1을 포함하지만, 착색을 억제할 수 없는 점에서, 화합물 1과 착색제 사이에 상호작용이 생기지 않은 것으로 생각되고, 보다 구체적으로는 상기 착색제가 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료인 점을 고려하면, 화합물 1과 함질소 방향환 화합물로 이루어지는 안료 사이에 π-π 상호작용이 생기지 않은 것으로 생각된다.Further, in Comparative Examples 10 to 13, 18, and 19, a line pattern of 5 μm adheres to the substrate at an exposure amount of 50 mJ/cm 2 , and especially in Comparative Examples 10, 18, and 19, a low exposure amount of 20 mJ/cm 2 is sufficient. , a line pattern of 5 μm adhered to the substrate. However, in Comparative Examples 10 to 13, 18, and 19, coloring due to heating at the time of post-baking could not be suppressed. Although the photosensitive resin compositions of Comparative Examples 11 and 13 contain Compound 1 as a photopolymerization initiator, it is considered that no interaction has occurred between Compound 1 and the colorant because coloring cannot be suppressed, and more specifically, the colorant Considering that it is a pigment composed of a nitrogen-containing aromatic ring compound, it is considered that a π-π interaction did not occur between Compound 1 and the pigment composed of a nitrogen-containing aromatic ring compound.
또한, 비교예 16에서는 포스트베이크시의 가열에 의한 착색을 억제하지 못하고, 또 50mJ/cm2라는 노광량에서는 5㎛인 라인 패턴이 기판에 밀착하지 않으며, 실시예 31~66과 비교하여 세선 밀착성이 뒤떨어지고 있었다.Further, in Comparative Example 16, coloration due to heating during post-baking could not be suppressed, and at an exposure amount of 50 mJ/cm 2 , the 5 μm line pattern did not adhere to the substrate, and the thin wire adhesion was higher than in Examples 31 to 66. was falling behind
Claims (6)
(R1은 수소 원자, 니트로기 또는 R6-CO-로 표시되는 기이며 R6는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 또는 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기이고, R2 및 R3은 각각 쇄상 알킬기, 환상 탄화수소기, 또는 헤테로아릴기이며, R2와 R3은 서로 결합해 스피로환을 형성해도 되고, R4는 하기 식(R4-2)로 표시되는 기이며, R5는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~11의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이며, m은 0 또는 1이다.)
(식(R4-2) 중, q는 1~8의 정수이며, r은 1~5의 정수이고, s는 0~(r+3)의 정수이며, R8은 알킬기이다.)A colorant dispersion containing a colorant, a dispersant, an oxime compound represented by the following formula (1), and a solvent.
(R 1 is a hydrogen atom, a nitro group, or a group represented by R 6 -CO-, and R 6 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, or a substituent It is a heterocyclyl group which may have, R 2 and R 3 are each a chain alkyl group, a cyclic hydrocarbon group, or a heteroaryl group, R 2 and R 3 may combine with each other to form a spiro ring, and R 4 is represented by the following formula ( R4-2), R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and m is 0 or 1.)
(In formula (R4-2), q is an integer of 1 to 8, r is an integer of 1 to 5, s is an integer of 0 to (r+3), and R 8 is an alkyl group.)
상기 m이 1인 착색제 분산액.The method of claim 1,
A colorant dispersion in which m is 1.
상기 R1이 수소 원자인 착색제 분산액.The method of claim 1,
The colorant dispersion liquid in which R 1 is a hydrogen atom.
[화 3]
(R1은 수소 원자, 니트로기 또는 R6-CO-로 표시되는 기이며 R6는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 또는 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기이고, R2 및 R3은 각각 쇄상 알킬기, 환상 탄화수소기, 또는 헤테로아릴기이며, R2와 R3은 서로 결합해 스피로환을 형성해도 되고, R4는 하기 식(R4-2)로 표시되는 기이며, R5는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~11의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이며, m은 0 또는 1이다.)
(식(R4-2) 중, q는 1~8의 정수이며, r은 1~5의 정수이고, s는 0~(r+3)의 정수이며, R8은 알킬기이다.)Dispersion aid which consists of an oxime compound represented by following formula (1).
[Tue 3]
(R 1 is a hydrogen atom, a nitro group, or a group represented by R 6 -CO-, and R 6 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, or a substituent It is a heterocyclyl group which may have, R 2 and R 3 are each a chain alkyl group, a cyclic hydrocarbon group, or a heteroaryl group, R 2 and R 3 may combine with each other to form a spiro ring, and R 4 is represented by the following formula ( R4-2), R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and m is 0 or 1.)
(In formula (R4-2), q is an integer of 1 to 8, r is an integer of 1 to 5, s is an integer of 0 to (r+3), and R 8 is an alkyl group.)
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KR102121424B1 (en) * | 2016-12-02 | 2020-06-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device |
JP7209471B2 (en) * | 2018-03-28 | 2023-01-20 | 株式会社Dnpファインケミカル | PHOTOSENSITIVE COLOR RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE |
KR20220034031A (en) | 2019-07-10 | 2022-03-17 | 도레이 카부시키가이샤 | Negative photosensitive resin composition, cured film, organic EL display and manufacturing method of cured film |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014050738A1 (en) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | ダイトーケミックス株式会社 | Fluorene-type compound, photopolymerization initiator comprising said fluorene-type compound, and photosensitive composition containing said photopolymerization initiator |
JP2014137466A (en) * | 2013-01-16 | 2014-07-28 | Jsr Corp | Radiation-sensitive coloring composition, colored cured film and display element |
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RU2005122903A (en) * | 2002-12-20 | 2006-08-10 | Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. (Ch) | METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL COATINGS |
US7544723B2 (en) * | 2005-07-15 | 2009-06-09 | Applied Materials, Inc. | Blue printing ink for color filter applications |
DE102006026761A1 (en) * | 2006-06-09 | 2008-01-10 | Evonik Degussa Gmbh | Universal pigment preparations |
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KR102006751B1 (en) * | 2012-12-11 | 2019-08-02 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | Radiation-sensitive resin composition, cured film for display device, method for forming the cured film for display device, and display device |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014050738A1 (en) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | ダイトーケミックス株式会社 | Fluorene-type compound, photopolymerization initiator comprising said fluorene-type compound, and photosensitive composition containing said photopolymerization initiator |
JP2014137466A (en) * | 2013-01-16 | 2014-07-28 | Jsr Corp | Radiation-sensitive coloring composition, colored cured film and display element |
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