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KR102301294B1 - Process for Preparing Battery Cell Comprising Ablation Step of Burr Using Fiber Pulse Type Laser - Google Patents

Process for Preparing Battery Cell Comprising Ablation Step of Burr Using Fiber Pulse Type Laser Download PDF

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KR102301294B1
KR102301294B1 KR1020160176293A KR20160176293A KR102301294B1 KR 102301294 B1 KR102301294 B1 KR 102301294B1 KR 1020160176293 A KR1020160176293 A KR 1020160176293A KR 20160176293 A KR20160176293 A KR 20160176293A KR 102301294 B1 KR102301294 B1 KR 102301294B1
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KR
South Korea
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laser
battery cell
spot
etching
pulse
Prior art date
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KR1020160176293A
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고명진
박동혁
이중재
박신영
이현진
한형욱
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주식회사 엘지에너지솔루션
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Publication date
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Abstract

본 발명은 전지셀을 제조하는 방법에 있어서, 금속으로 이루어진 캔 본체의 개방 상단부에 탑 캡을 결합시키기 위한 레이저 용접시 용접 부위에 발생한 버(burr) 및 오염을 식각에 의해 제거하는 공정을 포함하고, 상기 제거 공정은 파이버 펄스(fiber pulse)형 레이저에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 전지셀 제조방법 및 상기 제조방법으로 제조된 전지셀을 제공한다.In a method for manufacturing a battery cell, the present invention includes a step of removing burrs and contamination generated in a welding area during laser welding for bonding a top cap to an open upper end of a can body made of metal by etching, , The removal process provides a battery cell manufacturing method, characterized in that performed by a fiber pulse laser, and a battery cell manufactured by the manufacturing method.

Description

파이버 펄스형 레이저를 이용하여 버(Burr)를 제거하는 과정을 포함하는 전지셀 제조방법 {Process for Preparing Battery Cell Comprising Ablation Step of Burr Using Fiber Pulse Type Laser}{Process for Preparing Battery Cell Comprising Ablation Step of Burr Using Fiber Pulse Type Laser}

본 발명은 파이버 펄스형 레이저를 이용하여 버(Burr)를 제거하는 과정을 포함하는 전지셀 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a battery cell comprising a process of removing burrs using a fiber pulse laser.

모바일 기기에 대한 기술 개발과 수요가 증가함에 따라 에너지원으로서의 이차전지의 수요가 급격히 증가하고 있고, 그러한 이차전지 중 높은 에너지 밀도와 방전 전압의 리튬 이차전지에 대해 많은 연구가 행해졌고 또한 상용화되어 널리 사용되고 있다.As technology development and demand for mobile devices increase, the demand for secondary batteries as an energy source is rapidly increasing. is being used

또한, 이차전지는 화석 연료를 사용하는 기존의 가솔린 차량, 디젤 차량 등의 대기오염 등을 해결하기 위한 방안으로 제시되고 있는 전기자동차, 하이브리드 전기자동차 등의 에너지원으로서도 주목받고 있다. 따라서, 이차전지를 사용하는 어플리케이션의 종류는 이차전지의 장점으로 인해 매우 다양화되어 가고 있으며, 향후에는 지금보다 많은 분야와 제품들에 이차전지가 적용될 것으로 예상된다.In addition, secondary batteries are attracting attention as an energy source for electric vehicles, hybrid electric vehicles, etc., which are proposed as a way to solve air pollution such as gasoline and diesel vehicles using fossil fuels. Accordingly, the types of applications using the secondary battery are being diversified due to the advantages of the secondary battery, and it is expected that the secondary battery will be applied to more fields and products in the future than now.

이차전지는 전지케이스의 형상에 따라, 전극조립체가 원통형 또는 각형의 금속 캔에 내장되어 있는 원통형 전지 및 각형 전지와, 전극조립체가 알루미늄 라미네이트 시트의 파우치형 케이스에 내장되어 있는 파우치형 전지로 분류된다. 그 중에서도 높은 집적도로 적층될 수 있고, 길이 대비 작은 폭을 가진 각형 전지와 파우치형 전지가 특히 주목받고 있다.According to the shape of the battery case, the secondary battery is classified into a cylindrical battery and a prismatic battery in which the electrode assembly is embedded in a cylindrical or prismatic metal can, and a pouch-type battery in which the electrode assembly is embedded in a pouch-type case of an aluminum laminate sheet. . Among them, prismatic batteries and pouch-type batteries that can be stacked with high integration and have a small width compared to their length are receiving particular attention.

여기서, 상기 각형 전지셀의 일반적인 구조와 그 간략한 제조방법을 설명하기 위한 모식도가 도 1에 도시되어 있다.Here, a schematic diagram for explaining the general structure of the prismatic battery cell and a simple manufacturing method thereof is shown in FIG. 1 .

도 1을 참조하면, 각형 전지셀(10)은 일반적으로, 전극조립체(11)를 제조하여 이를 캔 본체(12) 내부에 삽입한 후, 전극조립체(11)의 상부에 절연판(14)을 개재하여 전극조립체(11)와 탑 캡(13)의 쇼트를 방지하고, 상기 캔 본체(12)의 상단 개구에 탑 캡(13)을 용접(빨간색으로 표시)에 의해 결합하여 제조한다. 도면에 도시하지 않았으나, 이후, 상기와 같이 용접이 완료되면 탑 캡에 형성된 전해액 주입구를 통해 전해액을 주입한 후 주입구가 밀봉된다.Referring to FIG. 1 , the prismatic battery cell 10 is generally manufactured by manufacturing an electrode assembly 11 and inserting it into the can body 12 , and then an insulating plate 14 is interposed on the top of the electrode assembly 11 . Thus, short circuit between the electrode assembly 11 and the top cap 13 is prevented, and the top cap 13 is connected to the upper opening of the can body 12 by welding (indicated in red). Although not shown in the drawings, after the welding is completed as described above, the electrolyte is injected through the electrolyte injection hole formed in the top cap, and then the injection hole is sealed.

그러나, 이와 같이 용접에 의해 캔 본체와 탑 캡의 밀봉을 행하는 경우에는, 레이저 등의 용접시 경계면에 버(Burr)가 발생하여 두께가 상승하며, 이물이 생성되는 등의 오염이 발생할 수 있고, 이러한 현상 때문에 외관 및 디멘젼(dimension)이 불량하여 수용자의 요구에 불응하는 바, 불량으로 잡혀 생산 효율성이 매우 떨어지는 문제가 있었다.However, in the case of sealing the can body and the top cap by welding in this way, burrs are generated at the interface during welding such as laser, the thickness increases, and contamination such as foreign matter may occur. Due to this phenomenon, there was a problem in that the appearance and the dimension (dimension) were poor, so that the bar did not respond to the demands of the consumer, and the production efficiency was very low because it was caught as defective.

이에, 상기 문제를 해결하고자 외관 불량 전지셀에 대해 수작업으로 연마하는 양품화 과정을 진행하였으나, 이는 작업자 간의 수작업 편차로 2차적인 외관 불균일 현상이 발생하는 등의 문제가 있었을 뿐 아니라, 모든 과정이 수작업으로 진행되어야 하므로 효율성이 매우 저하되는 문제가 있다. Accordingly, in order to solve the above problem, a quality improvement process of manually polishing battery cells with poor appearance was performed, but there was a problem such as secondary appearance non-uniformity due to manual deviation between workers, and all processes were Since it has to be done manually, there is a problem in that efficiency is greatly reduced.

따라서, 이러한 문제를 해결할 수 있는 레이저 용접시 발생하는 외관 불량을 해결할 수 있는 기술에 대한 개발의 필요성이 높은 실정이다.Therefore, there is a high need for development of a technology that can solve the appearance defect that occurs during laser welding that can solve this problem.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점과 과거로부터 요청되어온 기술적 과제를 해결하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the problems of the prior art as described above and the technical problems that have been requested from the past.

본 출원의 발명자들은 심도 있는 연구와 다양한 실험을 거듭한 끝에, 전지셀을 제조하는 방법에 있어서, 금속으로 이루어진 캔 본체의 개방 상단부에 탑 캡을 결합시키기 위한 레이저 용접시 용접 부위에 발생한 버(burr) 및 오염을 파이버 펄스(fiber pulse)형 레이저에 의해 미세하게 제거하는 경우, 용접면의 외관이 균일해지고, 자동화에 의해 제거 공정이 가능한 바, 작업간의 편차가 적을 뿐 아니라 공정 효율성이 높아짐을 확인하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The inventors of the present application, after repeated in-depth research and various experiments, in a method for manufacturing a battery cell, a burr generated at the welding site during laser welding for bonding the top cap to the open upper end of the can body made of metal ) and contamination are finely removed by a fiber pulse laser, the appearance of the welding surface becomes uniform and the removal process is possible by automation, so it is confirmed that the process efficiency is increased as well as the deviation between operations is small and came to complete the present invention.

따라서, 본 발명에 따른 전지셀의 제조방법은, 금속으로 이루어진 캔 본체의 개방 상단부에 탑 캡을 결합시키기 위한 레이저 용접시 용접 부위에 발생한 버(burr) 및 오염을 식각에 의해 제거하는 공정을 포함하고, 상기 제거 공정은 파이버 펄스(fiber pulse)형 레이저에 의해 수행되는 것을 특징으로 한다.Accordingly, the method for manufacturing a battery cell according to the present invention includes a process of removing burrs and contamination generated in the welding area during laser welding for bonding the top cap to the open upper end of the can body made of metal by etching. And, the removal process is characterized in that it is performed by a fiber pulse (fiber pulse) laser.

일반적으로, 금속 소재의 캔 케이스를 사용하여 전지셀을 제조하는 경우, 전극조립체를 수납하는 캔 본체와, 전극조립체의 전극 단자들과 전기적으로 연결되면서 캔 본체를 밀봉하기 위한 탑 캡을 용접함으로써 전지셀을 제조한다. In general, when a battery cell is manufactured using a can case made of a metal material, a can body for accommodating an electrode assembly and a top cap for sealing the can body while being electrically connected to the electrode terminals of the electrode assembly are welded to the battery. manufacture the cell.

이때, 상기 용접에 있어서는 예를 들어, Nd:YAG 레이저, 또는 이산화탄소(CO2) 레이저 등을 사용하고 있다. 그러나, 이러한 레이저 용접 후의 용접 부위에는 용접시 녹았다가 굳어지는 현상에 의해 발생한 금속 돌출형 이물인 버(Burr)나, 높은 온도에 의해 발생하는 그을음과 같은 오염이 발생하고, 이는 외관 불량 등으로, 사용자들로부터의 불만이 높아, 이를 해결하기 위한 연구가 계속되어 왔다.At this time, in the welding, for example, an Nd:YAG laser or a carbon dioxide (CO 2 ) laser is used. However, after such laser welding, contamination such as burrs, which are metal protruding foreign substances caused by melting and hardening during welding, or soot caused by high temperatures, occur in the welding area after such laser welding, which can lead to poor appearance, etc. , the complaints from users are high, and research to solve this problem has been continued.

이에, 본 출원의 발명자들은 수많은 레이저들을 대상으로 다양한 조건 하에서 심도있는 연구를 거듭하였고, 그 결과, 상기 버 등을 제거하기 위해 특정 조건을 만족하는 파이버 펄스형 레이저를 사용하는 경우, 전지셀의 손상을 최소화하면서도 버(burr) 등을 보다 간단한 방법으로 제거할 수 있고, 각각의 전지셀들마다 발생하는 편차를 또한 줄일 수 있음을 밝혀내었다. Accordingly, the inventors of the present application repeated in-depth studies under various conditions for numerous lasers, and as a result, when a fiber pulse laser satisfying specific conditions is used to remove the burr, damage to the battery cell It was found that burrs and the like can be removed in a simpler way while minimizing

일반적으로 파이버 레이저는 CO2 레이저 등에 비해 출력은 작으나 정밀한 가공작업을 수행할 수 있어 본 발명에 적합하다. 이때, 상기 파이버 레이저는 그 발진 방식에 따라 구분되는데, 여기서, 상기 발진방식은 광공진기의 증폭에 의해 직류에너지를 교류에너지로 변환하는 방식을 의미하며, 크게 연속(CW)형 동작 방식과 펄스(pulse)형 동작 방식으로 구분할 수 있다. 연속 동작 방식은 레이저 광이 일정한 세기로 지속적으로 동작하고, 펄스 동작 방식은 순간적으로만 레이저 빛이 발생하며 펄스의 폭과 반복율에 의해 주기적으로 동작한다.In general, a fiber laser has a smaller output than a CO 2 laser, but it is suitable for the present invention because it can perform a precise processing operation. At this time, the fiber laser is classified according to its oscillation method. Here, the oscillation method refers to a method of converting DC energy into AC energy by amplifying an optical resonator, and largely includes a continuous (CW) type operation method and a pulse (CW) type operation method. pulse) type operation method. In the continuous operation method, the laser light continuously operates with a constant intensity, and in the pulse operation method, the laser light is generated only momentarily and operates periodically according to the width and repetition rate of the pulse.

본 발명에서는, 파이버 연속파(CW: Continuous Wave) 발진방식의 레이저와 비교하여, 파이버 펄스 발진방식의 레이저가 레이저에서 출력되는 에너지의 제어가 용이하여 버 등의 제거를 좀더 면밀히 수행할 수 있을 뿐 아니라, 전지셀의 손상도 덜하므로 상기 제거 공정에 가장 바람직하다는 사실을 확인할 수 있다. In the present invention, compared to a continuous wave (CW) oscillation type laser, the fiber pulse oscillation type laser can easily control the energy output from the laser, so that the removal of burrs and the like can be performed more closely. , it can be confirmed that the battery cell is less damaged, so it is most preferable for the removal process.

또한, 상기 파이버 펄스형 레이저에서 출력되는 파장 범위는 상세하게는, 700 내지 1200 nm일 수 있다. In addition, the wavelength range output from the fiber pulse laser may be, in detail, 700 to 1200 nm.

이는 상기 파장범위 내의 레이저가 가공 모재의 열손상을 최소화하고 버 등을 제거 작업에 용이하기 때문이다. 상기 범위를 벗어나 너무 짧은 파장 범위를 가지는 경우, 좀더 정밀한 작업은 가능하나, 고가이므로 비용적인 측면에서 손해가 있어 가성비가 좋지 않으며, 상기 범위를 벗어나 긴 경우에는 본 발명에 소망하는 정도의 정밀성을 얻을 수 없고, 버 등이 제거되지 못하고 남아있을 수 있는 바 바람직하지 않다.This is because the laser within the wavelength range minimizes thermal damage to the processing base material and facilitates the removal of burrs and the like. If the wavelength range is too short out of the above range, more precise work is possible, but since it is expensive, there is a loss in terms of cost, so the cost-effectiveness is not good. It is not preferable because it cannot be removed, and burrs and the like may remain without being removed.

이때, 상기 파이버 펄스형 레이저로 제거되는 용접시 발생하는 버의 두께는 5 내지 40 ㎛, 상세하게는 10 내지 30 ㎛ 일 수 있다.In this case, the thickness of the burr generated during welding removed by the fiber pulse laser may be 5 to 40 μm, specifically, 10 to 30 μm.

상기 범위를 벗어나, 너무 얇게 제거되는 경우에는 버의 크기에 비해 작게 식각되어 완전히 버를 제거할 수 없어, 표면이 불규칙할 수 있으며, 제거되는 두께가 너무 두꺼운 경우에는, 버와 함께 가공 모재 또한 손상될 수 있어, 바람직하지 않다.If it is removed too thinly outside the above range, it is etched smaller than the size of the burr and cannot completely remove the burr, so the surface may be irregular. can be, which is not desirable.

상기 범위의 버를 제거하기 위해 사용되는 파이버 펄스형 레이저는, 제거하고자 하는 버의 상세한 두께에 따라 그 조건이 설정될 수 있다. For the fiber pulse laser used to remove the burrs in the above range, the conditions may be set according to the detailed thickness of the burrs to be removed.

구체적으로, 소망하는 정도의 버의 식각을 위해서는, 레이저의 스폿(Spot) 사이즈, 스폿 중첩률, 펄스 반복율, 스폿 해칭 갭, 속도, 에너지, 출력, 펄스 폭, 등의 정밀한 제어가 필요하다. Specifically, precise control of laser spot size, spot overlap rate, pulse repetition rate, spot hatching gap, speed, energy, power, pulse width, etc. is required for desired degree of burr etching.

먼저, 상기 제거공정에 사용되는 레이저의 스폿 사이즈는, 5 내지 30 ㎛, 상세하게는, 10 내지 30 ㎛, 더욱 상세하게는 10 내지 25 ㎛일 수 있다.First, the spot size of the laser used in the removal process may be 5 to 30 μm, specifically, 10 to 30 μm, and more specifically 10 to 25 μm.

상기 스폿 사이즈는 앞서 설명한 종래의 Nd:YAG 레이저 장치의 최적 스폿 사이즈에 비해 50% 이상 작은 크기이므로, 버 등의 제거 작업의 정밀성을 높일 수 있고, 동일한 작업에 소요되는 장치 전력량을 크게 줄일 수 있다.Since the spot size is 50% or more smaller than the optimal spot size of the conventional Nd:YAG laser device described above, the precision of the removal operation of burrs and the like can be increased, and the amount of device power required for the same operation can be greatly reduced. .

상기 범위를 벗어나, 레이저의 스폿 사이즈가 너무 작은 경우에는, 에너지 밀도가 너무 증가해 소망하지 않은 정도의 식각을 발생시켜 전지셀 모재에 손상을 입힐 수 있고, 사이즈가 너무 큰 경우에는, 출력 밀도가 낮아 식각이 이루어지지 않고, 오히려 용융이 발생하므로, 불규칙한 용융물이 융착되어 더욱 외관을 불량하게 하는 바, 상기 스폿 사이즈로 조절하는 것은 매우 중요하다.Out of the above range, if the laser spot size is too small, the energy density increases too much to cause an undesirable degree of etching to damage the battery cell base material, and if the size is too large, the power density is Since the etching is not made low, rather, the melting occurs, and the irregular melt is fused to further deteriorate the appearance, so it is very important to adjust the spot size.

상기 범위의 스폿 사이즈를 가지는 경우에도, 일정한 범위의 스폿 중첩률을 가질 때, 바람직한 식각이 가능하고, 식각 정도는 스폿 중첩률에 영향을 받는다.Even when the spot size is in the above range, when the spot overlap ratio is in a certain range, a preferable etching is possible, and the etching degree is affected by the spot overlap ratio.

구체적으로, 상기 스폿 중첩률이 증가하는 경우, 식각 정도도 증가한다. 따라서, 상기 범위의 두께를 제거하기 위한 스폿 중첩률은, 하나의 스폿 사이즈를 기준으로 15 내지 85%, 상세하게는 30 내지 70%일 수 있다.Specifically, when the spot overlap rate increases, the degree of etching also increases. Accordingly, the spot overlap ratio for removing the thickness in the above range may be 15 to 85%, specifically 30 to 70%, based on one spot size.

상기 스폿 중첩률은, 레이저의 진행방향에서 인접하는 스폿들 간의 중첩되는 정도를 의미한다.The spot overlap ratio refers to the degree of overlap between adjacent spots in the laser travel direction.

상기 범위를 벗어나, 스폿 중첩률이 15%로 미만인 경우에는 표면 식각이 거의 일어나지 않고, 스폿 중첩률이 85%를 초과하는 경우에는 식각 정도가 너무 커서 모재의 손상이 발생할 수 있는 문제가 있는 바, 바람직하지 않다.Out of the above range, when the spot overlap rate is less than 15%, surface etching hardly occurs, and when the spot overlap rate exceeds 85%, the etching degree is too large to cause damage to the base material. Bar, Not desirable.

한편, 이러한 상기 스폿 중첩률은, 가공시 속도, 펄스 반복율 등에 영향을 받는 바, 이러한 요소들의 조절함으로써 스폿 중첩률을 상기 범위로 만족하게 하면 소망하는 정도의 식각이 가능하다.On the other hand, the spot overlap rate is affected by the processing speed, pulse repetition rate, etc., and if the spot overlap rate is satisfied within the above range by adjusting these factors, a desired degree of etching is possible.

구체적으로, 상기 속도가 증가되는 경우, 스폿 중첩률이 떨어지고, 펄스 반복율이 증가되는 경우, 스폿 중첩률 또한 증가하는 바, 이들을 같이 조절하여, 즉 같이 증가시키거나, 같이 감소시켜 스폿 중첩률을 조절할 수 있다. Specifically, when the speed is increased, the spot overlap rate falls, and when the pulse repetition rate is increased, the spot overlap rate also increases. can

따라서, 상기 요소들이 만족해야 하는 수치 범위가 한정되는 것은 아니다. 다만, 실제 사용되는 레이저의 출력, 가성비 측면 등을 고려하여 바람직한 범위가 정해질 수 있다.Accordingly, the numerical range that the above elements must satisfy is not limited. However, a preferable range may be determined in consideration of the output of the laser actually used, the aspect of cost-effectiveness, and the like.

구체적으로, 상기 레이저의 속도는 500 내지 10000 mm/sec, 상세하게는 1000 내지 10000 mm/sec일 수 있다. Specifically, the speed of the laser may be 500 to 10000 mm/sec, specifically, 1000 to 10000 mm/sec.

상기 레이저 속도는 레이저의 주파수에 의해서 변할 수 있으나, 상기 범위를 벗어나, 너무 속도가 느린 경우에는 동일 중첩률을 기준으로 속도를 높이는 경우에 비해 생산성이 떨어지고, 가공 모재에 열손상의 우려가 있고, 너무 빠른 경우에는 펄스 반복율도 함께 증가시켜야 상기 스폿 중첩율을 가질 수 있는데, 펄스 반복율을 증가시키는 경우, 출력이 떨어지므로, 이러한 출력을 높게 하기 위한 레이저의 가격이 증가하여 가성비 측면에서 좋지 않고, 레이저의 가공 헤드의 정밀한 제어가 어려운 바, 바람직하지 않다.The laser speed may vary depending on the frequency of the laser, but if the speed is too slow outside the above range, the productivity is lowered compared to the case of increasing the speed based on the same overlap ratio, and there is a risk of thermal damage to the processing base material, If it is too fast, the pulse repetition rate must also be increased to have the spot overlap rate. When the pulse repetition rate is increased, the output is lowered, so the price of the laser to increase the output is increased, which is not good in terms of cost-effectiveness, Since it is difficult to precisely control the processing head of the laser, it is not preferable.

또한, 상기에서 설명한 바와 같이 상기 스폿 중첩률은 펄스 반복율에도 영향을 받고, 펄스 반복율이 증가할수록 함께 증가한다. 상기 속도가 일정속도를 만족할 때, 상기 스폿 중첩률을 만족하기 위한 펄스 반복율은, 20 내지 400 KHz, 상세하게는 30 내지 300 KHz일 수 있다.In addition, as described above, the spot overlap rate is also affected by the pulse repetition rate, and increases as the pulse repetition rate increases. When the speed satisfies the constant speed, the pulse repetition rate for satisfying the spot overlap rate may be 20 to 400 KHz, specifically 30 to 300 KHz.

상기 스폿 중첩률과 유사하게, 본원발명 레이저를 사용한 버의 식각 정도는 스폿 해칭 갭(hatching gap)에도 영향을 받는다.Similar to the spot overlap rate, the etching degree of the burr using the laser of the present invention is also affected by the spot hatching gap.

구체적으로, 상기 스폿 해칭 갭은, 상기 스폿 중첩률과 동일하게, 하나의 스폿 사이즈를 기준으로 15 내지 85% 상세하게는 30 내지 70%일 수 있다.Specifically, the spot hatching gap may be 15 to 85%, specifically 30 to 70%, based on one spot size, identical to the spot overlap ratio.

상기 스폿 해칭 갭은 레이저의 진행방향이 변하는 지점에서 제 1 방향의 스폿의 중심과 제 2 방향의 스폿의 중심사이의 거리를 의미한다.The spot hatching gap refers to a distance between the center of the spot in the first direction and the center of the spot in the second direction at a point where the traveling direction of the laser is changed.

상기 범위를 벗어나, 스폿 해칭 갭이 15% 미만인 경우에는 중첩되는 부분이 많아지는 것이므로 식각 두께가 증가하여 금속 캔에 영향을 줄 수 있으며, 식각 표면도 거칠어지는 문제가 있고, 85%를 초과하는 경우, 중첩이 이루어지지 않아 식각이 거의 일어나지 않으며 불규칙한 식각으로 표면에 해칭 갭이 나타나는 바, 바람직하지 않다.Out of the above range, if the spot hatching gap is less than 15%, the overlapping portion increases, so the etching thickness may increase to affect the metal can, and there is a problem in that the etching surface is also rough, and if it exceeds 85% , it is not preferable because etching hardly occurs because the overlap is not made, and a hatching gap appears on the surface due to irregular etching.

한편, 레이저의 조사 에너지는 크면 클수록 제거에는 용이하지만, 열손상과 제거해야 할 버의 두께 등을 고려할 때, 0.2 내지 1.0 mJ, 상세하게는 0.5 내지 0.9mJ일 수 있다. On the other hand, the larger the irradiation energy of the laser, the easier it is to remove, but considering the thermal damage and the thickness of the burr to be removed, it may be 0.2 to 1.0 mJ, specifically 0.5 to 0.9 mJ.

상기 범위를 벗어나 0.2mJ 보다 작은 경우에는 버 등의 제거가 잘 이루어지지 않고, 0.9 mJ를 초과하는 경우에는 식각 두께가 증가하여 금속 캔에 영향을 줄 수 있는 바, 바람직하지 않다.If it is less than 0.2 mJ out of the above range, the removal of burrs and the like is not performed well, and if it exceeds 0.9 mJ, the etched thickness increases, which may affect the metal can, which is not preferable.

이러한 상기 레이저의 조사 에너지는 레이저의 출력과, 펄스 폭에 의해 정해지는 데, 조사 에너지는 출력이 증가할수록, 펄스 폭이 증가할수록 함께 높아진다.The irradiation energy of the laser is determined by the output of the laser and the pulse width, and the irradiation energy increases as the output increases and the pulse width increases.

따라서, 이 역시, 상기 요소들이 만족해야 하는 수치 범위가 한정되는 것은 아니다. 다만, 실제 사용되는 레이저의 출력, 가성비, 식각 정도 등을 고려하여 바람직한 범위가 정해질 수 있다.Accordingly, again, the numerical range that the above elements must satisfy is not limited. However, a preferable range may be determined in consideration of the actually used laser power, cost ratio, etching degree, and the like.

출력을 높이는데는 레이저의 종류에 따라 한계가 있고, 출력이 높아진다하더라도, 동일 중첩률에서는 펄스 폭이 소정 값 이상 나타내지 못하는 경우에는 식각이 이루어지지 않으므로, 상기 범위의 에너지 값을 가지기 위한 펄스 폭의 조절이 중요하다.There is a limit to increasing the output depending on the type of laser, and even if the output is increased, etching is not performed when the pulse width does not represent a predetermined value or more at the same overlap rate. Control is important.

여기서, 상기 바람직한 범위의 레이저의 펄스 폭은, 0.15 ns 내지 200 ns, 상세하게는 10 내지 200 ns일 수 있다. Here, the pulse width of the laser in the preferred range may be 0.15 ns to 200 ns, specifically, 10 to 200 ns.

상기 범위를 벗어나, 펄스 폭이 너무 작은 경우에는 미세한 표면만 가공이 일어나 레이저 조사를 다수회 수행해야 하므로 공정 효율성이 떨어지며, 가성비가 좋지 않고, 상기 범위를 벗어나, 펄스 폭이 너무 큰 경우에는 가공 모재와 주변 부품들의 열손상이 발생할 확률이 높은 바 바람직하지 않다.Out of the above range, if the pulse width is too small, only a fine surface is processed and laser irradiation has to be performed multiple times, so the process efficiency is lowered, the cost-effectiveness is not good, and if the pulse width is too large outside the above range, the processing base material It is undesirable because there is a high probability of thermal damage to and surrounding components.

이상에서 설명한 바와 같이, 상기 파이버 펄스형 레이저가 상기 조건들을 만족하는 경우, 금속으로 이루어진 캔 본체의 개방 상단부에 탑 캡을 결합시키기 위한 레이저 용접시 발생하는 버(burr) 및 오염(fume) 등이 효과적으로 제거하면서도 모재에는 손상을 입히지 않고 외관을 균일하게 만들 수 있으며, 개별 작업자들이 아닌 조건들을 조절하여 레이저로 상기 제거 공정을 수행함으로써 각 전지셀마다의 편차도 줄일 수 있어, 보다 신뢰성 있게 양품의 전지셀을 제조할 수 있다.As described above, when the fiber pulse laser satisfies the above conditions, burrs and fume generated during laser welding for bonding the top cap to the open upper end of the can body made of metal are eliminated. It can be effectively removed without damaging the base material, and the appearance can be made uniform, and by performing the removal process with a laser by controlling the conditions rather than individual workers, the deviation for each battery cell can also be reduced, so that the battery of good quality is more reliable. cells can be made.

본 발명은 또한, 이와 같이 용접시 용접 부위에 발생한 버(burr) 및 오염 등의 이물이 제거되어 용접 부위의 표면이 균일해진 전지셀을 제공한다.The present invention also provides a battery cell in which foreign substances such as burrs and contamination generated at the welding site during welding are removed and the surface of the welding site is made uniform.

상기 전지셀의 구체적인 구성, 예를 들어, 양극/분리막/음극 구조의 전극조립체 및 이에 함침되는 전해액 등의 구성은 종래 개시된 내용을 모두 포함하는 바, 본 명세서에서는 이의 기술을 생략한다.The specific configuration of the battery cell, for example, an electrode assembly having a positive electrode/separator/negative electrode structure, and an electrolyte impregnated therein include all previously disclosed contents, and description thereof will be omitted herein.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 전지셀의 제조방법은 파이버 펄스 레이저를 사용하여, 금속으로 이루어진 캔 본체의 개방 상단부에 탑 캡을 결합시키기 위한 레이저 용접시 용접 부위에 발생한 버(burr) 및 오염을 제거함으로써, 용접면의 외관이 균일해지고, 자동화에 의해 제거 공정이 가능한 바, 작업간의 편차가 적으므로 불량률을 줄일 수 있을 뿐 아니라, 공정 효율성이 높아지는 효과가 있다.As described above, the method for manufacturing a battery cell according to the present invention uses a fiber pulse laser to combine a top cap with an open upper end of a metal can body. By removing the contamination, the appearance of the welded surface becomes uniform, and the removal process is possible by automation, so that the deviation between operations is small, so that the defect rate can be reduced and the process efficiency is increased.

도 1은 종래 각형 전지셀의 제조방법을 나타낸 모식도이다;1 is a schematic diagram showing a conventional method for manufacturing a prismatic battery cell;

이하, 실험예를 통해 본 발명을 더욱 상술하지만, 하기 실험예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범주가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through experimental examples, but the following experimental examples are intended to illustrate the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

<실험예 1><Experimental Example 1>

바람직한 스폿 중첩률과 에너지 조건을 확인하기 위해 Al 플레이트에 IPG 200W 2mJ의 파이버 펄스 레이저(빔 직경 30㎛)의 스폿 중첩률 및 에너지 조건을 달리하여 식각 수준을 측정하였고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.In order to confirm the desired spot overlap rate and energy conditions, the etching level was measured by varying the spot overlap rate and energy conditions of an IPG 200W 2mJ fiber pulse laser (beam diameter 30㎛) on the Al plate, and the results are shown in Table 1 below. indicated.

고정조건fixed condition 주파수 200kHz, 펄스폭 120ns, 해칭 갭 33.3%Frequency 200kHz, pulse width 120ns, hatching gap 33.3% 에너지(mJ)Energy (mJ) 0.50.5 0.70.7 0.90.9 중첩율(%)

Overlap rate (%)

3030 8.78.7 9.89.8 20.820.8
5050 8.88.8 19.719.7 30.830.8 7070 1414 24.224.2 45.345.3

상기 표 1을 참조하면, 상기 범위 내의 에너지와 중첩율을 가질 때, 식각 정도가 40 ㎛ 이하로 수행될 수 있다.Referring to Table 1, when the energy and overlap ratio within the above range are obtained, the etch rate may be 40 μm or less.

구체적으로, 에너지 값이 0.5mJ이하이면서, 중첩율이 30% 이하로 떨어지는 경우에는 식각 정도가 더 떨어진다는 것을 알 수 있고, 에너지 값이 0.9 mJ이고, 중첩율이 70% 이상으로 모두 그 값을 넘는 경우에는 식각 두께가 45 ㎛를 가지는 것을 확인할 수 있는 바, 상기 에너지와 중첩율이 동시에 상기 범위 이상을 가지는 것은 바람직하지 않다.Specifically, when the energy value is 0.5 mJ or less and the overlap rate drops to 30% or less, it can be seen that the etching degree is further reduced, the energy value is 0.9 mJ, and the overlap ratio is 70% or more When it exceeds, it can be confirmed that the etched thickness has a 45 μm, and it is not preferable that the energy and the overlap ratio have more than the above range at the same time.

<실험예 2><Experimental Example 2>

중첩률에 따른 식각 수준을 확인하기 위해, IPG 200W 2mJ의 파이버 펄스 레이저(빔 직경 30㎛)의 가공 속도와 펄스 반복율을 조절하여 중첩률을 변경함으로써 식각 정도를 확인하였고, 이를 하기 표 2에 도시하였다.In order to confirm the etching level according to the overlap rate, the etching level was confirmed by changing the overlap rate by adjusting the processing speed and pulse repetition rate of a fiber pulse laser (beam diameter of 30 μm) of IPG 200W 2mJ, which is shown in Table 2 below. did.

주파수(kHz)Frequency (kHz) 200200 200200 200200 200200 200200 200200 200200 200200 속도(m/s)speed (m/s) 99 88 77 66 55 44 33 22 중첩률(%)Overlap rate (%) 1010 2020 3030 4040 5050 6060 7070 8080 식각두께Etched thickness -- 약 10 ㎛about 10 μm 약 15 ㎛about 15 μm 약 18 ㎛about 18 μm 약 20 ㎛about 20 μm 약 25 ㎛about 25 μm 약 30 ㎛about 30 μm 약 35 ㎛about 35 μm

표 2를 참조하면, 다른 조건을 고정한 가운데서 레이저 속도와 펄스 반복율을 조절하여 중첩률을 변경함에 따른 결과를 볼 수 있다. Referring to Table 2, results of changing the overlap rate by adjusting the laser speed and pulse repetition rate while other conditions are fixed can be seen.

구체적으로 중첩률이 증가할수록 식각 두께도 함께 증가한다. 따라서, 중첩률이 10%, 또는 그 이하로 더 떨어지는 경우, 식각 정도 역시 감소하고, 식각이 거의 일어나지 않음을 확인할 수 있으며, 중첩률이 증가할수록 식각 두께도 증가하기 때문에 상기와 같은 증가율에서 85%를 초과하면 40 ㎛ 이상으로 식각됨을 예상할 수 있다.Specifically, as the overlap rate increases, the etch thickness also increases. Therefore, when the overlap ratio further falls to 10% or less, it can be seen that the etching degree also decreases and etching hardly occurs. If it exceeds, it can be expected to be etched to 40 μm or more.

<실험예 3><Experimental Example 3>

해칭 갭에 따른 식각 수준을 확인하기 위해, IPG 20W 파이버 펄스 레이저(빔 직경 30㎛)를 출력 80%, 펄스 반복율 20kHz, 속도 500mm/s, 펄스폭 200ns의 조건으로 고정하고, 해칭 갭만을 조절하여 식각 정도를 확인하였고, 이를 하기 표 3에 도시하였다.In order to check the etching level according to the hatching gap, IPG 20W fiber pulse laser (beam diameter 30㎛) was fixed to 80% output, pulse repetition rate 20kHz, speed 500mm/s, pulse width 200ns, and only the hatching gap was adjusted. The etching degree was confirmed, and it is shown in Table 3 below.

해칭 갭(%)Hatching Gap (%) 77 1717 2727 3434 5050 6767 8787 식각두께Etched thickness 50 ㎛
이상
50 μm
more
약 40 ㎛about 40 μm 약 30 ㎛about 30 μm 약 20 ㎛about 20 μm 약 15 ㎛about 15 μm 약 10 ㎛about 10 μm --

표 4를 참조하면, 다른 조건을 고정한 가운데서 해칭 갭이 증가할수록 식각 정도가 감소하고, 따라서 해칭 갭이 너무 작으면 식각이 너무 많이 일어나고, 너무 갭이 너무 크면 식각이 거의 일어나지 않음을 확인할 수 있다.Referring to Table 4, it can be seen that the etching degree decreases as the hatching gap increases while other conditions are fixed. Therefore, if the hatching gap is too small, too much etching occurs, and if the gap is too large, it hardly occurs.

이상 본 발명의 실험예를 참조하여 설명하였지만, 본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.Although described above with reference to the experimental examples of the present invention, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above contents.

Claims (12)

전지셀을 제조하는 방법에 있어서, 금속으로 이루어진 캔 본체의 개방 상단부에 탑 캡을 결합시키기 위한 레이저 용접시 용접 부위에 발생한 버(burr) 및 오염을 식각에 의해 제거하는 공정을 포함하고, 상기 제거 공정은 파이버 펄스(fiber pulse)형 레이저에 의해 수행되고,
상기 레이저의 펄스 폭은 0.15 내지 200 ns이고,
상기 레이저의 펄스 반복율은 20 내지 400 kHz 이고,
상기 레이저의 에너지는 0.5 내지 0.9 mJ이고,
상기 레이저의 속도는 500 내지 10000 mm/sec이고,
상기 레이저의 스폿(Spot) 사이즈는 5 내지 30 ㎛이고,
상기 레이저의 스폿 중첩률(%)은 하나의 스폿 사이즈를 기준으로 15 내지 85%이며,
상기 레이저의 스폿 해칭 갭(hatching gap)은 하나의 스폿 사이즈를 기준으로 15 내지 85%인 것을 특징으로 하는 전지셀 제조방법.
A method for manufacturing a battery cell, comprising: removing burrs and contamination generated in a welding area during laser welding for bonding a top cap to an open upper end of a can body made of metal by etching; The process is performed by a fiber pulse laser,
The pulse width of the laser is 0.15 to 200 ns,
The pulse repetition rate of the laser is 20 to 400 kHz,
The energy of the laser is 0.5 to 0.9 mJ,
The speed of the laser is 500 to 10000 mm / sec,
The spot size of the laser is 5 to 30 μm,
The spot overlap rate (%) of the laser is 15 to 85% based on one spot size,
The laser spot hatching gap (hatching gap) is a battery cell manufacturing method, characterized in that 15 to 85% based on one spot size.
삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 레이저의 파장 범위는 700 내지 1200 nm인 것을 특징으로 하는 전지셀 제조방법.The method according to claim 1, wherein the laser has a wavelength range of 700 to 1200 nm. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 레이저에 의해 제거되는 버의 두께는 0.1 내지 40 ㎛인 것을 특징으로 하는 전지셀 제조방법.According to claim 1, wherein the thickness of the burr removed by the laser is a battery cell manufacturing method, characterized in that 0.1 to 40㎛. 삭제delete
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