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KR102282218B1 - Imaging Optical System for 3D Image Acquisition Apparatus, and 3D Image Acquisition Apparatus Including the Imaging Optical system - Google Patents

Imaging Optical System for 3D Image Acquisition Apparatus, and 3D Image Acquisition Apparatus Including the Imaging Optical system Download PDF

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KR102282218B1
KR102282218B1 KR1020150015218A KR20150015218A KR102282218B1 KR 102282218 B1 KR102282218 B1 KR 102282218B1 KR 1020150015218 A KR1020150015218 A KR 1020150015218A KR 20150015218 A KR20150015218 A KR 20150015218A KR 102282218 B1 KR102282218 B1 KR 102282218B1
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박용화
류이치 사토
유장우
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삼성전자주식회사
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Abstract

하나의 공통 대물렌즈, 상기 대물렌즈에 의해 포커싱되는 광 중 가시광 대역의 광을 감지하는 제1 이미지 센서, 및 상기 제1 이미지 센서를 투과한 광 중 적외선 대역의 광을 감지하는 제2 이미지 센서를 포함하는 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계, 및 상기 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계를 포함하는 3차원 영상 획득 장치를 제공한다.One common objective lens, a first image sensor for detecting light in a visible light band among the lights focused by the objective lens, and a second image sensor for detecting light in an infrared band among the light transmitted through the first image sensor Provided is an imaging optical system for a three-dimensional image acquisition device comprising: and a three-dimensional image acquisition device including an imaging optical system for the three-dimensional image acquisition device.

Description

3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계 및 이를 포함하는 3 차원 영상 획득 장치{Imaging Optical System for 3D Image Acquisition Apparatus, and 3D Image Acquisition Apparatus Including the Imaging Optical system}Imaging Optical System for 3D Image Acquisition Apparatus, and 3D Image Acquisition Apparatus Including the Imaging Optical system

3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계 및 이를 포함하는 3 차원 영상 획득 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an imaging optical system for a 3D image acquisition device and a 3D image acquisition device including the same.

최근 깊이감 있는 영상을 표시할 수 있는 3D 디스플레이 장치의 발전 및 수요 증가와 함께 3D 컨텐츠의 중요성이 부각되고 있다. 이에 따라, 일반 사용자가 3D 컨텐츠를 직접 제작할 수 있는 3D 카메라와 같은 3차원 영상 획득 장치가 연구되고 있다. 이러한 3D 카메라는 한번의 촬영으로 기존의 2차원 컬러 영상 정보와 함께 깊이(depth) 정보도 얻을 수 있어야 한다.Recently, the importance of 3D content has been highlighted with the development and demand increase of 3D display devices capable of displaying images with a sense of depth. Accordingly, a 3D image acquisition device, such as a 3D camera, through which a general user can directly produce 3D content is being studied. Such a 3D camera should be able to obtain depth information along with the existing two-dimensional color image information with one shot.

피사체의 표면과 3D 카메라 사이의 거리에 관한 깊이 정보는 두 대의 카메라를 이용한 양안 입체시(Stereo Vision) 방법이나 구조광(Structured Light)과 카메라를 이용한 삼각 측량법(Triangulation)을 이용하여 얻을 수 있다. 그러나 이러한 방법은 피사체의 거리가 멀어질수록 깊이 정보에 대한 정확도가 급격히 저하되고 피사체의 표면 상태에 의존적이어서 정밀한 깊이 정보를 얻기 어렵다.Depth information about the distance between the surface of the subject and the 3D camera can be obtained using the stereo vision method using two cameras or the triangulation method using structured light and a camera. However, in this method, as the distance of the subject increases, the accuracy of the depth information rapidly decreases, and it is difficult to obtain precise depth information because it is dependent on the surface state of the subject.

이러한 문제를 개선하기 위하여 광시간비행법(Time-of-Flight; TOF)이 도입되었다. TOF 기술은 조명광을 피사체에 조사한 후, 피사체로부터 반사되는 광이 수광부에서 수광되기까지의 광 비행시간을 측정하는 방법이다. TOF 기술에 따르면, 발광 다이오드(LED) 또는 레이저 다이오드(LD)를 포함하는 조명 광학계를 이용하여 특정 파장의 빛(예컨대, 850nm의 근적외선)을 피사체에 투사하고, 피사체로부터 반사된 동일한 파장의 빛을 수광부에서 수광한 후, 기지의 이득 파형을 갖는 변조기로 상기 수광된 빛을 변조하는 등 깊이 정보를 추출하기 위한 일련의 처리 과정을 거치게 된다. 이러한 일련의 광 처리 과정에 따라 다양한 TOF 기술이 소개되어 있다.To improve this problem, the Time-of-Flight (TOF) method was introduced. TOF technology is a method of measuring the light flight time until the light reflected from the subject is received by the light receiving unit after irradiating the illumination light to the subject. According to the TOF technology, light of a specific wavelength (for example, near infrared rays of 850 nm) is projected onto a subject using an illumination optical system including a light emitting diode (LED) or a laser diode (LD), and light of the same wavelength reflected from the subject is emitted. After light is received by the light receiving unit, a series of processing steps are performed to extract depth information, such as modulating the received light with a modulator having a known gain waveform. Various TOF technologies have been introduced according to this series of light processing processes.

TOF 기술을 채용한 3D 카메라는 통상 깊이 정보를 얻기 위한 조명광을 방출하는 조명 광학계와 피사체의 영상을 획득하기 위한 결상 광학계를 구비한다. 결상 광학계는 피사체로부터 반사된 가시광선을 감지하여 일반적인 컬러 영상을 생성하는 동시에, 피사체로부터 반사된 조명광을 감지하여 깊이 정보만을 갖는 깊이 영상을 생성한다. 이를 위하여, 결상 광학계는 가시광선용 대물렌즈와 이미지 센서 및 조명광용 대물렌즈와 이미지 센서를 각각 따로 구비할 수 있다(즉, 2-렌즈 2-센서 구조). 그러나, 2-렌즈 2-센서 구조는 컬러 영상과 깊이 영상의 시야각이 상이하므로 두 영상을 정확하게 정합시키기 위한 별도의 절차가 필요하며, 3D 카메라의 크기가 커지고 제조 비용이 증가할 수 있다.A 3D camera employing the TOF technology generally includes an illumination optical system that emits illumination light to obtain depth information, and an imaging optical system that acquires an image of a subject. The imaging optical system generates a general color image by detecting visible light reflected from the subject, and generates a depth image having only depth information by detecting illumination light reflected from the subject. To this end, the imaging optical system may separately include an objective lens and an image sensor for visible light, and an objective lens and an image sensor for illumination light (ie, a 2-lens 2-sensor structure). However, since the two-lens two-sensor structure has different viewing angles of the color image and the depth image, a separate procedure for accurately matching the two images is required, and the size of the 3D camera may increase and manufacturing cost may increase.

이에 따라, 하나의 공통 대물렌즈와 2개의 이미지 센서를 갖는 3D 카메라가 제안되고 있다(즉, 1-렌즈 2-센서 구조). 이러한 1-렌즈 2-센서 구조에서도, 결상 광학계 및 3D 카메라의 부피와 무게의 증가 및 이로 인한 제조 비용의 상승을 억제하는 것이 중요한 관건 중 하나이다.Accordingly, a 3D camera having one common objective lens and two image sensors has been proposed (ie, 1-lens 2-sensor structure). Even in such a 1-lens 2-sensor structure, it is one of the important factors to suppress an increase in the volume and weight of an imaging optical system and a 3D camera, and an increase in manufacturing cost due to this.

일 구현예는 하나의 공통 대물렌즈 및 2 개의 이미지 센서를 갖는 3차원 영상 획득 장치를 보다 작고 간단하게 제작할 수 있는 결상 광학계를 제공한다.One embodiment provides an imaging optical system capable of manufacturing a smaller and simpler three-dimensional image acquisition device having one common objective lens and two image sensors.

또한, 상기 결상 광학계를 포함하는 3차원 영상 획득 장치를 제공한다.In addition, there is provided a three-dimensional image acquisition device including the imaging optical system.

일 구현예에 따르면, 하나의 공통 대물렌즈; 상기 대물렌즈에 의해 포커싱되는 광 중 가시광 대역의 광을 감지하는 제1 이미지 센서; 및 상기 제1 이미지 센서를 투과한 광 중 적외선 대역의 광을 감지하는 제2 이미지 센서를 포함하는 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계를 제공한다.According to one embodiment, one common objective; a first image sensor for detecting light in a visible light band among the light focused by the objective lens; and a second image sensor that detects light in an infrared band among the light transmitted through the first image sensor.

상기 제1 이미지 센서는 복수의 화소부를 포함하는 유기 이미지 센서로서, 상기 복수의 화소부 각각에 대응하여 서로 이격되어 배열된 복수의 제2 화소 전극, 상기 제2 화소 전극들 사이 및 그 위에서 연속적인 필름 형태로 배치되고 복수의 화소부에 공통으로 포함되는 가시광선 전 영역의 광을 감지하는 유기 흡광 물질을 포함하는 광 활성층, 상기 광 활성층 상부에 연속적인 필름 형태로 배치되고 복수의 화소부에 공통으로 적용되며 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 화소 전극, 및 상기 제1 화소 전극 상부에 상기 복수의 화소부 각각에 대응하여 배치되고 각각의 화소부가 감지하는 특정 파장 영역의 광을 투과하는 복수의 컬러필터들을 포함할 수 있다. The first image sensor is an organic image sensor including a plurality of pixel units, and a plurality of second pixel electrodes arranged to be spaced apart from each other corresponding to each of the plurality of pixel units, and a plurality of second pixel electrodes arranged continuously between and above the second pixel electrodes. A photoactive layer disposed in the form of a film and including an organic light absorbing material for sensing light in the entire visible ray region commonly included in the plurality of pixel units, disposed in the form of a continuous film on the photoactive layer and common to the plurality of pixel units a first pixel electrode disposed on the light incident side, and a plurality of pixels disposed on the first pixel electrode to correspond to each of the plurality of pixel units and transmit light in a specific wavelength region sensed by each pixel unit of color filters.

상기 복수의 컬러필터들은 400nm 이상 500nm 미만의 광을 선택적으로 투과시키는 1 이상의 제 1 컬러필터와, 500nm 내지 580nm의 광을 선택적으로 투과시키는 1 이상의 제2 컬러필터와, 580nm 초과 700nm의 광을 선택적으로 투과시키는 1 이상의 제3 컬러필터들을 포함할 수 있다. The plurality of color filters include at least one first color filter selectively transmitting light of 400 nm to less than 500 nm, at least one second color filter selectively transmitting light of 500 nm to 580 nm, and selectively transmitting light of more than 580 nm to 700 nm It may include one or more third color filters that transmit the light.

상기 제1 이미지 센서는 1 이상의 청색 화소, 1 이상의 녹색 화소, 및 1 이상의 적색 화소를 포함하고, the first image sensor includes one or more blue pixels, one or more green pixels, and one or more red pixels;

상기 1 이상의 청색 화소는, 각각 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극, 상기 제1 투광 전극과 마주보는 제2 투광 전극, 및 상기 제1 투광 전극과 제2 투광 전극 사이에 위치하며 청색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함하고,Each of the one or more blue pixels includes a first light-transmitting electrode positioned on a side where light is incident, a second light-transmitting electrode facing the first light-transmitting electrode, and between the first light-transmitting electrode and the second light-transmitting electrode. A photoactive layer comprising an organic material that absorbs light in a wavelength region,

상기 1 이상의 녹색 화소는, 각각 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극, 상기 제1 투광 전극과 마주보는 제2 투광 전극, 및 상기 제1 투광 전극과 제2 투광 전극 사이에 위치하며 녹색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함하고,The one or more green pixels may include a first light-transmitting electrode positioned on a side on which light is incident, a second light-transmitting electrode facing the first light-transmitting electrode, and a green color positioned between the first light-transmitting electrode and the second light-transmitting electrode, respectively. A photoactive layer comprising an organic material that absorbs light in a wavelength region,

상기 1 이상의 적색 화소는, 각각 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극, 상기 제1 투광 전극과 마주보는 제2 투광 전극, 및 상기 제1 투광 전극과 제2 투광 전극 사이에 위치하며 적색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함할 수 있다. Each of the one or more red pixels includes a first light-transmitting electrode positioned on a side to which light is incident, a second light-transmitting electrode facing the first light-transmitting electrode, and between the first light-transmitting electrode and the second light-transmitting electrode. It may include a photoactive layer including an organic material that absorbs light in a wavelength region.

상기 1 이상의 청색 화소, 상기 1 이상의 녹색 화소, 및 상기 1 이상의 적색 화소는 모두 수평으로 인접하여 배열될 수 있다. The one or more blue pixels, the one or more green pixels, and the one or more red pixels may be horizontally adjacent to each other.

상기 1 이상의 청색 화소, 상기 1 이상의 녹색 화소, 및 상기 1 이상의 적색 화소 중 2 가지 색 화소는 서로 수평으로 인접하여 배열되고, 나머지 1 가지 색 화소는 상기 2 가지 색 화소가 서로 수평으로 인접하여 배열된 층 위에 수직으로 적층되는 배열될 수 있다. Among the one or more blue pixels, the one or more green pixels, and the one or more red pixels, two color pixels are arranged horizontally adjacent to each other, and the remaining one color pixels are arranged such that the two color pixels are horizontally adjacent to each other It can be arranged to be stacked vertically on top of the stacked layers.

상기 1 이상의 청색 화소 및 상기 1 이상의 적색 화소는 수평으로 인접하여 배열되고, 상기 1 이상의 녹색 화소는 상기 1 이상의 청색 화소와 1 이상의 적색 화소가 수평으로 인접하여 배열된 층 위에 수직으로 적층되어 배열될 수 있다. wherein the one or more blue pixels and the one or more red pixels are arranged adjacent to each other in a horizontal manner, and the one or more green pixels are vertically stacked on a layer in which the one or more blue pixels and one or more red pixels are horizontally adjacently arranged. can

상기 1 이상의 청색 화소, 상기 1 이상의 녹색 화소, 및 상기 1 이상의 적색 화소는 수직으로 적층되어 배열될 수 있다.The one or more blue pixels, the one or more green pixels, and the one or more red pixels may be vertically stacked and arranged.

상기 1 이상의 청색 화소, 상기 1 이상의 녹색 화소, 및 상기 1 이상의 적색 화소는 상기 대물렌즈 측으로부터 차례로 수직으로 적층하여 배열될 수 있다.The one or more blue pixels, the one or more green pixels, and the one or more red pixels may be vertically stacked in order from the objective lens side and may be arranged.

상기 청색 화소는 400nm 이상 500nm 미만에서 최대 흡수 파장(λmax)을 나타내는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함하고,The blue pixel includes a photoactive layer including an organic material exhibiting a maximum absorption wavelength (λmax) at 400 nm or more and less than 500 nm,

상기 녹색 화소는 500nm 내지 580nm에서 최대 흡수 파장(λmax)을 나타내는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함하고, 그리고The green pixel includes a photoactive layer including an organic material exhibiting a maximum absorption wavelength (λmax) in 500 nm to 580 nm, and

상기 적색 화소는 580nm 초과 700nm 이하에서 최대 흡수 파장(λmax)을 나타내는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함할 수 있다.The red pixel may include a photoactive layer including an organic material exhibiting a maximum absorption wavelength (λmax) in a range greater than 580 nm and less than or equal to 700 nm.

상기 제2 이미지 센서는 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극, 상기 제1 투광 전극과 마주보는 제2 투광 전극, 및 상기 제1 투광 전극과 제2 투광 전극 사이에 위치하며 적외선 대역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함할 수 있다.The second image sensor includes a first light-transmitting electrode positioned on the side on which light is incident, a second light-transmitting electrode facing the first light-transmitting electrode, and positioned between the first light-transmitting electrode and the second light-transmitting electrode, in an infrared band. and a photoactive layer comprising an organic material that absorbs light.

상기 제2 이미지 센서는 적외선 대역의 광을 감지하는 실리콘 포토다이오드를 포함하는 것일 수 있다.The second image sensor may include a silicon photodiode that detects light in an infrared band.

다른 구현예에서, 상기 결상 광학계는 상기 제1 이미지 센서와 상기 제2 이미지 센서 사이에 상기 제1 이미지 센서를 투과한 광 중 적외선 대역의 광을 투과시키는 광 셔터 모듈을 더 포함할 수 있다. In another embodiment, the imaging optical system may further include, between the first image sensor and the second image sensor, an optical shutter module that transmits light in an infrared band among the light transmitted through the first image sensor.

상기 광 셔터 모듈은 소정의 이득 파형으로 상기 적외선 대역의 광을 변조하는 광 셔터를 포함할 수 있다. The optical shutter module may include an optical shutter that modulates light in the infrared band with a predetermined gain waveform.

상기 광 셔터 모듈은 상기 광 셔터 위에 가시광 대역의 광을 반사하고 적외선 대역의 광을 투과하는 파장 선택성 미러를 더 포함할 수 있다.The optical shutter module may further include a wavelength-selective mirror that reflects light of a visible light band and transmits light of an infrared band on the optical shutter.

상기 제1 이미지 센서, 상기 광 셔터 모듈, 및 상기 제2 이미지 센서는 차례로 광축을 따라 광축에 수직으로 배열되어 있을 수 있다.The first image sensor, the optical shutter module, and the second image sensor may be sequentially arranged along the optical axis and perpendicular to the optical axis.

다른 일 구현예에서는, 상기 구현예에 따른 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계; 적외선 대역의 광을 발생시켜 피사체에 조사하는 광원; 상기 결상 광학계의 제1 이미지 센서 및 제2 이미지 센서로부터 출력되는 제1 및 제2 영상 신호를 이용하여 3 차원 영상을 생성하는 영상 신호 처리부; 및 상기 광원과 상기 영상 신호 처리부의 동작을 제어하는 제어부를 포함하는 3차원 영상 획득 장치를 제공한다.In another embodiment, the imaging optical system for the three-dimensional image acquisition device according to the embodiment; a light source irradiating the subject by generating light in the infrared band; an image signal processor configured to generate a three-dimensional image using first and second image signals output from the first image sensor and the second image sensor of the imaging optical system; and a controller for controlling operations of the light source and the image signal processor.

또 다른 일 구현예에서는, 상기 3 차원 영상 획득 장치를 포함하는 3D 카메라를 제공한다.In another embodiment, a 3D camera including the 3D image acquisition device is provided.

또 다른 일 구현예에서는, 상기 3 차원 영상 획득 장치를 포함하는 거리측정기를 제공한다. In another embodiment, a range finder including the 3D image acquisition device is provided.

또 다른 일 구현예에서는, 상기 3 차원 영상 획득 장치를 포함하는 동작인식기를 제공한다.In another embodiment, there is provided a motion recognizer including the three-dimensional image acquisition device.

또 다른 일 구현예에서는, 상기 3 차원 영상 획득 장치를 포함하는 게임기를 제공한다. In another embodiment, there is provided a game machine including the 3D image acquisition device.

하나의 공통 대물렌즈 및 2 개의 이미지 센서를 갖는 3 차원 영상 획득 장치를 작고, 보다 간단하게 제작할 수 있는 결상 광학계, 및 이를 포함하는 3 차원 영상 획득 장치를 제공할 수 있다.It is possible to provide an imaging optical system capable of manufacturing a small and simpler three-dimensional image acquisition device having one common objective lens and two image sensors, and a three-dimensional image acquisition device including the same.

도 1은 일 구현예에 따른 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계 및 이를 포함하는 3차원 영상 획득 장치를 예시적으로 보여주는 개념도이다.
도 2는 일 실시예에 따른 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계에 포함되는 제1 이미지 센서를 개략적으로 나타낸 모식도이다.
도 3은 다른 일 실시예에 따른 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계에 포함되는 제1 이미지 센서를 개략적으로 나타낸 모식도이다.
도 4는 도 2 및 도 3에 나타낸 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계에 포함되는 제1 이미지 센서의 개략적인 평면도이다.
도 5는 다른 일 실시예에 따른 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계에 포함되는 제1 이미지 센서를 개략적으로 나타낸 모식도이다.
도 6은 또 다른 일 실시예에 따른 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계에 포함되는 제1 이미지 센서를 개략적으로 나타낸 모식도이다.
도 7은 일 실시예에 따른 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계에 포함되는 제2 이미지 센서를 개략적으로 나타낸 모식도이다.
도 8은 다른 일 구현예에 따른 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계 및 이를 포함하는 3차원 영상 획득 장치를 예시적으로 보여주는 개념도이다.
도 9는 일 실시예에 따른 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계에 포함되는 광 셔터 모듈을 개략적으로 나타낸 모식도이다.
1 is a conceptual diagram exemplarily illustrating an imaging optical system for a 3D image acquisition device and a 3D image acquisition device including the same according to an embodiment.
2 is a schematic diagram schematically illustrating a first image sensor included in an imaging optical system for a 3D image acquisition apparatus according to an exemplary embodiment.
3 is a schematic diagram schematically illustrating a first image sensor included in an imaging optical system for a 3D image acquisition apparatus according to another exemplary embodiment.
4 is a schematic plan view of a first image sensor included in the imaging optical system for the 3D image acquisition device shown in FIGS. 2 and 3 .
5 is a schematic diagram schematically illustrating a first image sensor included in an imaging optical system for a 3D image acquisition apparatus according to another exemplary embodiment.
6 is a schematic diagram schematically illustrating a first image sensor included in an imaging optical system for a 3D image acquisition apparatus according to another exemplary embodiment.
7 is a schematic diagram schematically illustrating a second image sensor included in an imaging optical system for a 3D image acquisition device according to an exemplary embodiment.
8 is a conceptual diagram exemplarily illustrating an imaging optical system for a 3D image acquisition device and a 3D image acquisition device including the same according to another embodiment.
9 is a schematic diagram schematically illustrating an optical shutter module included in an imaging optical system for a 3D image acquisition device according to an exemplary embodiment.

이하, 본 발명의 구현예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 구현예에 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement them. However, the present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

이하, 도면을 참조하여 일 구현예에 따른 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계 및 이를 포함하는 3차원 영상 획득 장치, 그리고 상기 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계에 포함되는 제1 이미지 센서, 제2 이미지 센서, 및 광 셔터 모듈에 대해 설명한다. Hereinafter, with reference to the drawings, an imaging optical system for a 3D image acquisition device according to an embodiment, a 3D image acquisition device including the same, and a first image sensor and a second image included in the imaging optical system for the 3D image acquisition device A sensor and an optical shutter module will be described.

이하의 도면에서 동일한 참조 부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 도면 상에서 각 구성요소의 크기는 설명의 명료성과 편의상 과장되어 있을 수 있다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.In the following drawings, the same reference numerals refer to the same components, and the size of each component in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of description. When a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be “on” another part, it includes not only cases where it is “directly on” another part, but also cases where there is another part in between. Conversely, when we say that a part is "just above" another part, we mean that there is no other part in the middle.

도 1은 일 구현예에 따른 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계 및 이를 포함하는 3 차원 영상 획득 장치의 구조를 예시적으로 보여주는 개념도이다. 1 is a conceptual diagram exemplarily illustrating a structure of an imaging optical system for a 3D image acquisition device and a 3D image acquisition device including the same according to an embodiment.

도 1을 참조하면, 일 실시예에 따른 3 차원 영상 획득 장치(700)는 소정의 파장을 갖는 조명광을 발생시키는 광원(710), 외부의 피사체(도시되지 않음)로부터 반사된 가시광과 조명광을 포커싱하는 대물렌즈(720), 상기 대물렌즈(720)에 의해 포커싱되는 가시광을 감지하여 컬러 영상을 생성하는 제 1 이미지 센서(730), 및 제1 이미지 센서(730)를 투과한 조명광을 감지하여 깊이 영상을 생성하는 제2 이미지 센서(750), 컬러 영상과 깊이 영상을 이용하여 3D 영상을 생성하는 영상 신호 처리부(770), 및 상기 광원(710), 제 1 이미지 센서(730), 제2 이미지 센서(750), 및 영상 신호 처리부(770)들의 동작을 제어하는 제어부(780)를 포함할 수 있다. 또한, 3차원 영상 획득 장치(700)는 최종적인 3D 영상을 저장하기 위한 메모리(790)와 3D 영상을 디스플레이 하기 위한 디스플레이 패널(800)을 더 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1 , a 3D image acquisition apparatus 700 according to an embodiment focuses a light source 710 for generating illumination light having a predetermined wavelength, visible light reflected from an external subject (not shown), and illumination light. , a first image sensor 730 that detects visible light focused by the objective lens 720 to generate a color image, and a depth by detecting the illumination light passing through the first image sensor 730 . A second image sensor 750 generating an image, an image signal processing unit 770 generating a 3D image using a color image and a depth image, and the light source 710 , the first image sensor 730 , and the second image The sensor 750 and the control unit 780 for controlling the operation of the image signal processing unit 770 may be included. Also, the 3D image acquisition apparatus 700 may further include a memory 790 for storing the final 3D image and a display panel 800 for displaying the 3D image.

광원(710)은, 예를 들어, 안전을 위해 인간의 눈에는 보이지 않는 약 850nm의 근적외선(NIR) 파장을 갖는 조명광을 방출시킬 수 있는 발광 다이오드(LED) 또는 레이저 다이오드(LD)를 사용할 수 있다. 그러나, 이는 단지 예시적인 것이며, 설계에 따라서는 적절한 다른 파장 대역의 조명광과 다른 종류의 광원을 사용할 수도 있다. 광원(710)은 제어부(780)로부터 수신된 제어 신호에 따라, 예를 들어, 사인파, 램프파(ramp wave), 사각파 등과 같이 특수하게 정의된 파형을 갖는 조명광을 방출할 수 있다.Light source 710 may use, for example, a light emitting diode (LED) or laser diode (LD) capable of emitting illuminating light having a near infrared (NIR) wavelength of about 850 nm, which is invisible to the human eye for safety reasons. . However, this is only an example, and depending on the design, an illumination light having a different wavelength band and a light source different from the appropriate type may be used. The light source 710 may emit illumination light having a specially defined waveform, such as a sine wave, a ramp wave, or a square wave, according to a control signal received from the controller 780 .

도 1에 도시된 예에서 점선으로 묶어서 표시한 바와 같이, 대물렌즈(720), 제 1 이미지 센서(730), 및 제 2 이미지 센서(750)는 3 차원 영상 획득 장치(700)의 결상 광학계(500)를 구성한다. 도 1에는 편의상 간단히 도시되어 있지만, 대물렌즈(720)는 다수의 렌즈군을 포함하는 줌 렌즈일 수 있다.As indicated by grouped with dotted lines in the example shown in FIG. 1, the objective lens 720, the first image sensor 730, and the second image sensor 750 are the imaging optical system ( 500) is formed. Although illustrated in FIG. 1 for convenience, the objective lens 720 may be a zoom lens including a plurality of lens groups.

상기한 바와 같이, 대물렌즈(720)에 의해 포커싱되는 광 중 가시광 영역의 광은 제1 이미지 센서(730)에서 감지되어 컬러 영상을 생성한다. 도 2 내지 도 6을 참조하여 자세히 설명하는 바와 같이, 제1 이미지 센서(730)는 1 이상의 화소부, 특히 가시광 영역의 광을 감지하는 물질을 포함하는 유기 광전 소자를 포함하는 컬러 화소들을 포함할 수 있다. 따라서, 대물렌즈(720)를 통해 포커싱된 광 중 가시광 영역의 광은 가시광 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 물질을 포함하는 제1 이미지 센서(730)의 유기 광전 소자들에 의해 대부분 흡수되고, 가시광을 제외한 나머지 광 중 적외선 영역의 광, 예를 들어, 근적외선 영역인 700 nm 내지 1,100 nm 파장 범위의 광, 또는 800 nm 내지 1,100 nm 파장 범위의 광은 적외선 영역의 광을 감지하는 제2 이미지 센서(750)에서 흡수, 감지되어 깊이 영상을 생성하게 된다.As described above, among the light focused by the objective lens 720 , the light in the visible region is detected by the first image sensor 730 to generate a color image. As will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 6 , the first image sensor 730 may include one or more pixel portions, in particular, color pixels including an organic photoelectric device including a material for sensing light in a visible light region. can Accordingly, most of the light in the visible region among the light focused through the objective lens 720 is absorbed by the organic photoelectric elements of the first image sensor 730 including a material that selectively absorbs the light in the visible region, and the visible light Light in the infrared region among the remaining lights except for, for example, light in a wavelength range of 700 nm to 1,100 nm, which is a near-infrared region, or light in a wavelength range of 800 nm to 1,100 nm, is a second image sensor that detects light in the infrared region ( 750) is absorbed and sensed to generate a depth image.

이와 같이, 본 구현예에 따른 3 차원 영상 획득 장치(700)용 결상 광학계(500)는 대물렌즈(720)의 후방에 바로 가시광 영역의 광을 감지하는 제1 이미지 센서(730)가 위치하고, 그 뒤에 적외선 대역의 광을 감지하는 제2 이미지 센서(750)가 존재하므로, 가시광과 적외선 광을 분리하기 위한 별도의 복잡한 구성을 필요로 하지 않는다. 즉, 제1 이미지 센서(730)는 가시광을 선택적으로 흡수, 감지하는 물질을 포함함으로써 제1 이미지 센서(730)를 통과한 광에서 가시광은 대부분 제거되고, 적외선 광을 포함한 나머지 광만 제2 이미지 센서(750)로 입사한다. 여기서, 제2 이미지 센서(750) 또한 적외선 광만 선택적으로 감지함에 따라, 본 구현예에 따른 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계(500)에서는 입사광으로부터 가시광과 적외선 광을 분리하는 별도의 구성을 필요로 하지 않고, 이로 인해 전체 결상 광학계(500) 및 이를 포함하는 3 차원 영상 획득 장치를 보다 얇고 작게 제작할 수 있다. 또한, 이로 인해 제조 비용을 절감할 수 있고 광 효율 또한 증대시킬 수 있다. As described above, in the imaging optical system 500 for the three-dimensional image acquisition device 700 according to the present embodiment, the first image sensor 730 for detecting light in the visible region is located directly behind the objective lens 720, and the Since the second image sensor 750 for detecting light in the infrared band exists behind it, a separate complicated configuration for separating visible light and infrared light is not required. That is, since the first image sensor 730 includes a material that selectively absorbs and detects visible light, most of the visible light is removed from the light that has passed through the first image sensor 730 , and only the remaining light including infrared light is included in the second image sensor. Enter (750). Here, as the second image sensor 750 also selectively detects only infrared light, the imaging optical system 500 for a 3D image acquisition device according to the present embodiment requires a separate configuration for separating visible light and infrared light from incident light. Instead, the entire imaging optical system 500 and the three-dimensional image acquisition device including the same can be made thinner and smaller. In addition, this may reduce the manufacturing cost and increase the light efficiency.

이하, 도 2 내지 도 6을 참조하여, 도 1에 나타낸 3 차원 영상 획득 장치(700)의 결상 광학계(500)를 구성하는 제1 이미지 센서(730)의 구체적인 실시예들을 설명한다.Hereinafter, specific embodiments of the first image sensor 730 constituting the imaging optical system 500 of the 3D image acquisition apparatus 700 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIGS. 2 to 6 .

상술한 바와 같이, 상기 결상 광학계(500)에 포함되는 제1 이미지 센서(730)는 가시광 대역의 광을 감지하는 다수의 화소부를 포함하며, 상기 다수의 화소부는 각각 특정 가시광 영역의 광을 감지하는 유기 물질을 포함하는 광전 소자들을 포함한다.As described above, the first image sensor 730 included in the imaging optical system 500 includes a plurality of pixel units that detect light in a visible light band, and the plurality of pixel units each detect light in a specific visible light region. Optoelectronic devices including organic materials are included.

예를 들어, 도 2는 일 실시예에 따른 제1 이미지 센서(730) 내 화소의 배치를 개략적으로 나타낸 단면도로서, 광이 입사되는 측에 위치하고 연속된 필름 형태로 존재하는 제1 화소 전극(120), 제1 화소 전극과 마주보되 각 화소별로 각각 분리되어 배치되는 제2 화소 전극들(110B, 110R, 110G), 제1 화소 전극(120)과 제2 화소 전극들(110B, 110R, 110G) 사이에서 연속된 필름 형태로 존재하며 가시광 대역 전 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층(130W), 및 상기 제1 화소 전극(120) 상부에서 각각의 화소에 대응하여 배치되는 복수의 컬러필터(170B, 170R, 170G)를 포함한다.For example, FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating the arrangement of pixels in the first image sensor 730 according to an exemplary embodiment, wherein the first pixel electrode 120 is located on a side where light is incident and is in the form of a continuous film. ), the second pixel electrodes 110B, 110R, and 110G facing the first pixel electrode and disposed separately for each pixel, the first pixel electrode 120 and the second pixel electrodes 110B, 110R, and 110G The photoactive layer 130W which exists in the form of a continuous film therebetween and includes an organic material that absorbs light in the entire visible light band, and a plurality of pixels disposed on the first pixel electrode 120 to correspond to each pixel of color filters 170B, 170R, and 170G.

이하에서 도면부호에 'B'가 포함되어 있는 구성요소는 청색 화소에 포함되어 있는 구성 요소이고, 도면부호에 'G'가 포함되어 있는 구성요소는 녹색 화소에 포함되어 있는 구성 요소이며, 도면부호에 'R'이 포함되어 있는 구성요소는 적색 화소에 포함되어 있는 구성 요소를 가리킨다.Hereinafter, a component including 'B' in a reference number is a component included in a blue pixel, a component including a 'G' in a reference number is a component included in a green pixel, and a reference numeral A component including 'R' indicates a component included in the red pixel.

즉, 도 2의 170B는 청색 컬러필터로서 400nm 이상 500nm 미만의 광을 선택적으로 투과시킬 수 있고, 170G는 녹색 컬러필터로서 500nm 내지 580nm의 광을 선택적으로 투과시킬 수 있고, 170R은 적색 컬러필터로서 580nm 초과 700nm의 광을 선택적으로 투과시킬 수 있다. That is, 170B of FIG. 2 is a blue color filter that can selectively transmit light of 400 nm to less than 500 nm, 170G is a green color filter that can selectively transmit light of 500 nm to 580 nm, and 170R is a red color filter. Light of more than 580 nm and 700 nm can be selectively transmitted.

상기 제1 화소 전극(120) 및 상기 제2 화소 전극들(110B, 110G, 11R)은 모두 투명 전극이며, 따라서, 제1 이미지 센서(203)는 각 화소별로 가시광 대역의 특정 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하고, 적외선 광을 포함한 나머지 광을 투과할 수 있다. The first pixel electrode 120 and the second pixel electrodes 110B, 110G, and 11R are all transparent electrodes, and thus, the first image sensor 203 receives light in a specific wavelength region of the visible light band for each pixel. It can selectively absorb and transmit the remaining light including infrared light.

상기 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극들(110B, 110G, 11R)은 이미지 센서 제조에 사용되는 유기 광전 소자용 투광 전극이라면 어떤 것이라도 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 화소 전극(20) 및 제2 화소 전극들(110B, 110G, 11R)은, 예컨대, 인듐 틴 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO), 아연 산화물(ZnO), 주석 산화물(SnO), 알루미늄 주석 산화물(AlTO) 및 불소 도핑된 주석 산화물(FTO)와 같은 투명 도전체로 만들어지거나, 수 나노미터 내지 수십 나노미터 두께의 얇은 두께로 형성된 금속 박막, 또는 금속 산화물이 도핑된 수 나노미터 내지 수십 나노미터 두께의 얇은 두께로 형성된 금속 박막, 전도성 고분자 전극, 또는 이들의 조합 일 수 있다.As the first pixel electrode 120 and the second pixel electrodes 110B, 110G, and 11R, any light-transmitting electrode for an organic photoelectric device used for manufacturing an image sensor may be used. For example, the first pixel electrode 20 and the second pixel electrodes 110B, 110G, and 11R may include, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), or tin. A metal thin film made of a transparent conductor such as oxide (SnO), aluminum tin oxide (AlTO), and fluorine-doped tin oxide (FTO), or formed to a thin thickness of several nanometers to several tens of nanometers, or a metal oxide doped It may be a metal thin film formed to a thin thickness of several nanometers to several tens of nanometers, a conductive polymer electrode, or a combination thereof.

상기 가시광 대역 전 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층(130W)은 약 400 nm 내지 약 700 nm의 가시광선 전 영역의 광을 흡수할 수 있다. 상기 광 활성층(130W)은 p형 반도체 물질과 n형 반도체 물질을 포함할 수 있으며, 예컨대, 상기 p형 반도체 물질과 상기 n형 반도체 물질 중 적어도 하나는 가시광선 전 영역의 광을 흡수할 수 있다.The photoactive layer 130W including an organic material absorbing light in the entire wavelength region of the visible light band may absorb light in the entire visible ray region of about 400 nm to about 700 nm. The photoactive layer 130W may include a p-type semiconductor material and an n-type semiconductor material. For example, at least one of the p-type semiconductor material and the n-type semiconductor material may absorb light in the entire visible light region. .

상기 광 활성층(130W)은, 예컨대, 폴리아닐린; 폴리피롤; 폴리티오펜; 폴리(p-페닐렌비닐렌); 벤조디티오펜(benzodithiophene); 티에노티오펜(thienothiophene); MEH-PPV(poly[2-methoxy-5-(2'-ethyl-hexyloxy)-1,4-phenylene vinylene); MDMO-PPV(poly(2-methoxy-5-(3,7-dimethyloctyloxy)-1,4-phenylene-vinylene); 펜타센; 페릴렌(perylene); 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT), 폴리(3-알킬티오펜); 폴리((4,8-비스(옥틸옥시)벤조[1,2-b:4,5-b']디티오펜)-2,6-디일-알트-(2-((도데실옥시)카르보닐)티에노[3,4-b]티오펜)-3,6-디일)(poly((4,8-bis(octyloxy)benzo(1,2-b:4,5-b')dithiophene)-2,6-diyl-alt-(2-((dodecyloxy)carbonyl)thieno(3,4-b)thiophenediyl)-3,6-diyl), PTB1); 폴리((4,8-비스(2-에틸헥실옥시)벤조[1,2-b:4,5-b']디티오펜)-2,6-디일-알트-(2-((2-에틸헥실옥시)카르보닐)-3-플루오로티에노[3,4-b]티오펜)-3,6-디일)(poly((4,8-bis(2-ethylhexyloxy)benzo[1,2-b:4,5-b']dithiophene)-2,6-diyl-alt-(2-((2-ethylhexyloxy)carbonyl)-3-fluorothieno[3,4-b]thiophenediyl)-3,6-diyl)), PTB7); 프탈로시아닌(phthalocyanine); 틴(Ⅱ) 프탈로시아닌(tin (Ⅱ) phthalocyanine, SnPc); 구리 프탈로시아닌(copper phthalocyanine); 트리아릴아민(triarylamine); 벤지딘(bezidine); 피라졸린(pyrazoline); 스티릴아민(styrylamine); 하이드라존(hydrazone); 카바졸(carbazole); 티오펜(thiophene); 3,4-에틸렌디옥시티오펜(3,4-ethylenedioxythiophene, EDOT); 피롤(pyrrole); 페난트렌(phenanthrene); 테트라센(tetracence); 나프탈렌(naphthalene); 루브렌(rubrene); 1,4,5,8-나프탈렌-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(1,4,5,8-naphthalene-tetracarboxylic dianhydride, NTCDA); Alq3; 플러렌(C60, C70, C74, C76, C78, C82, C84, C720, C860 등); 1-(3-메톡시-카르보닐)프로필-1-페닐(6,6)C61(1-(3-methoxy-carbonyl)propyl-1-phenyl(6,6)C61: PCBM), C71-PCBM, C84-PCBM, bis-PCBM과 같은 플러렌 유도체들; CdS, CdTe, CdSe, ZnO 등과 같은 무기 반도체; 이들의 유도체 및 이들의 공중합체에서 선택되는 적어도 2종을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The photoactive layer 130W may include, for example, polyaniline; polypyrrole; polythiophene; poly(p-phenylenevinylene); benzodithiophene; thienothiophene; MEH-PPV(poly[2-methoxy-5-(2'-ethyl-hexyloxy)-1,4-phenylene vinylene); MDMO-PPV(poly(2-methoxy-5-(3,7-dimethyloctyloxy)-1,4-phenylene-vinylene); pentacene; perylene; poly(3,4-ethylenedioxythiophene)( PEDOT), poly(3-alkylthiophene);poly((4,8-bis(octyloxy)benzo[1,2-b:4,5-b′]dithiophene)-2,6-diyl-alt -(2-((dodecyloxy)carbonyl)thieno[3,4-b]thiophene)-3,6-diyl)(poly((4,8-bis(octyloxy)benzo(1,2-) b:4,5-b')dithiophene)-2,6-diyl-alt-(2-((dodecyloxy)carbonyl)thieno(3,4-b)thiophenediyl)-3,6-diyl), PTB1); poly((4,8-bis(2-ethylhexyloxy)benzo[1,2-b:4,5-b']dithiophene)-2,6-diyl-alt-(2-((2- ethylhexyloxy)carbonyl)-3-fluorothieno[3,4-b]thiophene)-3,6-diyl)(poly((4,8-bis(2-ethylhexyloxy)benzo[1, 2-b:4,5-b']dithiophene)-2,6-diyl-alt-(2-((2-ethylhexyloxy)carbonyl)-3-fluorothieno[3,4-b]thiophenediyl)-3,6 -diyl)), PTB7); phthalocyanine; tin(II) phthalocyanine (SnPc); copper phthalocyanine; triarylamine; bezidine; pyrazoline; styrylamine; hydrazone; carbazole; thiophene; 3,4-ethylenedioxythiophene (EDOT); pyrrole; phenanthrene; tetracene; naphthalene; rubrene; 1,4,5,8-naphthalene-tetracarboxylic dianhydride (1,4,5,8-naphthalene-tetracarboxylic dianhydride, NTCDA); Alq3; fullerenes (C60, C70, C74, C76, C78, C82, C84, C720, C860, etc.); 1-(3-methoxy-carbonyl)propyl-1-phenyl(6,6)C61(1-(3-methoxy-carbonyl)propyl-1-phenyl(6,6)C61: PCBM), C71-PCBM , C84-PCBM, fullerene derivatives such as bis-PCBM; inorganic semiconductors such as CdS, CdTe, CdSe, ZnO and the like; It may include at least two types selected from derivatives thereof and copolymers thereof, but is not limited thereto.

상기 컬러필터(170B, 170R, 170G)들은 제1 화소 전극(120) 위에서 대물렌즈(720)를 통해 포커싱되는 광 중 각각 특정 파장 영역의 광을 투과시킴으로써, 각 컬러필터(170B, 170R, 170G)의 하부에 존재하는 가시광 전 파장 영역의 광을 흡수하는 광활성층(130W)이 각 컬러필터가 투과시킨 광을 선택적으로 흡수하여 감지하고, 이를 해당 광활성층(130W) 하부에 존재하는 제1 화소 전극((110B, 110G, 11R)을 통해 전기적 신호로 변환함으로써, 화소별로 각각 특정 파장 영역의 광을 감지하여 출력한다. 제1 이미지 센서(730)의 투명성을 위해 전기적 신호의 출력은 투명 박막 트랜지스터(TFT: Thin Film Transistor)를 이용하여 처리될 수 있고, 출력된 전기적 신호는 도 1에 나타낸 3차원 영상 획득 장치(700) 내 영상 신호 처리부(760)로 전달될 수 있다. The color filters 170B, 170R, and 170G transmit light of a specific wavelength region from among the light focused through the objective lens 720 on the first pixel electrode 120, respectively, so that each of the color filters 170B, 170R, and 170G The photoactive layer 130W, which absorbs light in the entire visible light wavelength region, selectively absorbs and senses the light transmitted by each color filter, and the first pixel electrode that exists under the corresponding photoactive layer 130W. By converting into electrical signals through (110B, 110G, 11R), each pixel detects and outputs light in a specific wavelength region. For transparency of the first image sensor 730 , the output of the electrical signal is a transparent thin film transistor ( It may be processed using a TFT: Thin Film Transistor, and the output electrical signal may be transmitted to the image signal processing unit 760 in the 3D image acquisition apparatus 700 illustrated in FIG. 1 .

다음으로, 도 3을 참조하여, 도 1에 나타낸 3차원 영상 획득 장치(700)의 결상 광학계(500)를 구성하는 제1 이미지 센서(730)의 다른 일 실시예를 설명한다.Next, another embodiment of the first image sensor 730 constituting the imaging optical system 500 of the 3D image acquisition apparatus 700 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. 3 .

상술한 바와 같이, 결상 광학계(500)에 포함되는 제1 이미지 센서(730)는 가시광 대역의 광을 감지하는 다수의 화소들을 포함하며, 상기 다수의 화소들은 각각 특정 가시광 영역의 광을 감지하는 유기 물질을 포함하는 광전 소자들을 포함한다.As described above, the first image sensor 730 included in the imaging optical system 500 includes a plurality of pixels that detect light in a visible light band, and the plurality of pixels each detect light in a specific visible light region. Optoelectronic devices comprising a material are included.

도 3에 나타낸 제1 이미지 센서는, 도 2에 나타낸 제1 이미지 센서와 달리, 청색 화소(100B), 녹색 화소(100G), 및 적색 화소(100G) 각각이, 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극(20B, 20G, 20R), 제1 투광 전극과 마주보는 제2 투광 전극(10B, 10G, 10R), 및 제1 투광 전극(20B, 20G, 20R)과 제2 투광 전극(10B, 10G, 10R) 사이에 위치하며 특정 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층(30B, 30G, 30R)을 포함하고, 이러한 화소들이 동일 기판 상에 수평으로 배열되어 있는 것을 특징으로 한다. The first image sensor shown in FIG. 3 is different from the first image sensor shown in FIG. 2 , wherein each of the blue pixel 100B, the green pixel 100G, and the red pixel 100G is located on the side where the light is incident. The first light-transmitting electrodes 20B, 20G, and 20R, the second light-transmitting electrodes 10B, 10G, and 10R facing the first light-transmitting electrode, and the first light-transmitting electrodes 20B, 20G, and 20R and the second light-transmitting electrode 10B , 10G, 10R) and comprising a photoactive layer (30B, 30G, 30R) comprising an organic material that absorbs light in a specific wavelength region, characterized in that these pixels are horizontally arranged on the same substrate do.

또한, 도 3에 나타낸 제1 이미지 센는, 도 2에 나타낸 제1 이미지 센서와 달리, 제1 투광 전극(20B, 20G, 20R) 위에 컬러필터를 포함하지 않는다. 도 2에 따른 제1 이미지 센서의 경우, 광 활성층(130W)이 가시광선 전파장 영역의 광을 흡수하는 물질로 구성됨에 따라 각 화소별로 특정 파장 영역의 광을 흡수하기 위해 특정 파장 영역의 광을 투과하는 컬러필터가 광이 입사하는 제1 투광 전극 위에 배치되어야 한다. 그러나, 도 3에 나타낸 제1 이미지 센서는 각각의 화소가 각각 상이한 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 물질을 포함하는 광 활성층(30B, 30G, 30R)을 포함함에 따라, 도 2에 나타낸 제1 이미지 센서에서와 같은 컬러필터를 포함하지 않을 수 있다. Also, unlike the first image sensor illustrated in FIG. 2 , the first image sensor illustrated in FIG. 3 does not include a color filter on the first light-transmitting electrodes 20B, 20G, and 20R. In the case of the first image sensor according to FIG. 2 , since the photoactive layer 130W is made of a material that absorbs light in a visible light wavelength region, each pixel emits light in a specific wavelength region to absorb light in a specific wavelength region. The transmitting color filter should be disposed on the first light transmitting electrode on which light is incident. However, as the first image sensor shown in FIG. 3 includes the photoactive layers 30B, 30G, and 30R including a material for selectively absorbing light in a different wavelength region, each pixel includes the first image sensor shown in FIG. 2 . It may not include a color filter as in the image sensor.

상기 청색 화소(100B)의 광 활성층(30B)은 청색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 p형 반도체 물질과 청색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 n형 반도체 물질을 포함할 수 있고, 상기 녹색 화소(100G)의 광 활성층(30G)은 녹색 영역 파장의 광을 선택적으로 흡수하는 p형 반도체 물질과 녹색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 n형 반도체 물질을 포함할 수 있고, 상기 적색 화소(100R)의 광 활성층(30R)은 적색 영역 파장의 광을 선택적으로 흡수하는 p형 반도체 물질과 적색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 n형 반도체 물질을 포함할 수 있다. The photoactive layer 30B of the blue pixel 100B may include a p-type semiconductor material that selectively absorbs light in a blue wavelength region and an n-type semiconductor material that selectively absorbs light in a blue wavelength region, and the green The photoactive layer 30G of the pixel 100G may include a p-type semiconductor material that selectively absorbs light of a green wavelength region and an n-type semiconductor material that selectively absorbs light of a green wavelength region, and the red pixel ( The photoactive layer 30R of 100R) may include a p-type semiconductor material that selectively absorbs light of a red wavelength region and an n-type semiconductor material that selectively absorbs light of a red wavelength region.

도 3에 나타낸 제1 이미지 센서의 제1 투광 전극(20B, 20G, 20R) 및 제2 투광 전극(10B, 10G, 10R)은, 도 2를 참조하여 설명한 제1 이미지 센서의 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(110B, 110R, 110G)과 각각 동일한 물질로 구성될 수 있고, 따라서 이들 제1 투광 전극 및 제2 투광 전극에 대한 자세한 설명은 생략한다.The first light-transmitting electrodes 20B, 20G, and 20R and the second light-transmitting electrodes 10B, 10G, and 10R of the first image sensor shown in FIG. 3 are the first pixel electrodes ( 120) and the second pixel electrodes 110B, 110R, and 110G, respectively, may be made of the same material, and therefore, detailed descriptions of these first and second light transmitting electrodes will be omitted.

한편, 도 4는 도 2와 도 3에 나타낸 제1 이미지 센서 내 화소의 배치를 개략적적으로 나타낸 평면도로서, 도2 와 도 3에 나타낸 제1 이미지 센서를 평면 상에서 볼 때는 동일한 형태로 나타날 수 있다. 다만, 도 2에 도시한 제1 이미지 센서의 경우, 각 화소는 각 화소가 감지하는 특정 파장 영역의 광을 투과하는 컬러 필러들(170B, 170R, 170G)에 의해 구획될 수 있는 반면, 도 3에 도시한 제1 이미지 센서는 각 화소 자체(100B, 100G, 100R), 또는 각 화소의 제1 투광 전극들(20B, 20G, 20R)에 의해 구획될 수 있다.Meanwhile, FIG. 4 is a plan view schematically illustrating the arrangement of pixels in the first image sensor shown in FIGS. 2 and 3 , and the first image sensor shown in FIGS. 2 and 3 may have the same shape when viewed on a plane. . However, in the case of the first image sensor shown in FIG. 2 , each pixel may be partitioned by color pillars 170B, 170R, and 170G that transmit light in a specific wavelength region sensed by each pixel, whereas FIG. 3 . The first image sensor shown in FIG. 1 may be partitioned by each pixel itself 100B, 100G, 100R, or by the first light-transmitting electrodes 20B, 20G, and 20R of each pixel.

도 5는 도 1에 나타낸 3차원 영상 획득 장치(700) 내 광학 결상계(500)를다른 구성하는 제1 이미지 센서(730)의 다른 일 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다. FIG. 5 is a diagram schematically illustrating another embodiment of the first image sensor 730 that is another component of the optical imaging system 500 in the 3D image acquisition apparatus 700 shown in FIG. 1 .

도 5에 나타낸 제1 이미지 센서는 1 이상의 청색 화소(100B), 1 이상의 적색 화소(100R), 및 1 이상의 녹색 화소(100G)를 포함하고, 상기 청색 화소(100B)와 적색 화소(100R)가 서로 수평으로 배열되고, 이들 수평으로 배열된 청색 화소(100B) 및 적색 화소(100R) 위로 수직으로 녹색 화소(100G)가 적층되어 있는 구조를 가진다. 상기 청색 화소(100B), 적색 화소(100R), 및 녹색 화소(100G)는 각각 유기 광전 소자이다. The first image sensor shown in FIG. 5 includes one or more blue pixels 100B, one or more red pixels 100R, and one or more green pixels 100G, wherein the blue pixel 100B and the red pixel 100R are It has a structure in which the green pixels 100G are vertically arranged on each other and vertically arranged on the horizontally arranged blue pixels 100B and red pixels 100R. Each of the blue pixel 100B, the red pixel 100R, and the green pixel 100G is an organic photoelectric device.

즉, 상기 1 이상의 청색 화소(100B)는 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극(120), 제1 투광 전극(120)과 마주보는 제2 투광 전극(110), 및 제1 투광 전극(120)과 제2 투광 전극(110) 사이에 위치하며 청색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층(130B)을 포함할 수 있고, 상기 1 이상의 적색 화소(100R)는 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극(120), 제1 투광 전극(120)과 마주보는 제2 투광 전극(110), 및 제1 투광 전극(120)과 제2 투광 전극(110) 사이에 위치하며 적색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층(130R)을 포함할 수 있고, 상기 1 이상의 녹색 화소(100G)는 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극(120), 제1 투광 전극(120)과 마주보는 제2 투광 전극(110), 및 제1 투광 전극(120)과 제2 투광 전극(110) 사이에 위치하며 녹색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층(130G)을 포함할 수 있다.That is, the one or more blue pixels 100B include a first light-transmitting electrode 120 positioned on a side where light is incident, a second light-transmitting electrode 110 facing the first light-transmitting electrode 120 , and a first light-transmitting electrode. It may include a photoactive layer 130B positioned between 120 and the second light-transmitting electrode 110 and including an organic material absorbing light in a blue wavelength region, wherein the one or more red pixels 100R emit light. Between the first light-transmitting electrode 120 positioned on the incident side, the second light-transmitting electrode 110 facing the first light-transmitting electrode 120 , and between the first light-transmitting electrode 120 and the second light-transmitting electrode 110 . and may include a photoactive layer 130R including an organic material that absorbs light in a red wavelength region, and the one or more green pixels 100G is a first light-transmitting electrode 120 positioned on a side to which light is incident. , the second light-transmitting electrode 110 facing the first light-transmitting electrode 120, and an organic material positioned between the first light-transmitting electrode 120 and the second light-transmitting electrode 110 and absorbing light in the green wavelength region. The photoactive layer 130G may be included.

상기 청색 화소의 광 활성층(130B)은 청색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 p형 반도체 물질과 청색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 n형 반도체 물질을 포함할 수 있고, 상기 적색 화소의 광 활성층(130R)은 적색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 p형 반도체 물질과 적색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 n형 반도체 물질을 포함할 수 있고, 상기 녹색 화소의 광 활성층(130G)은 녹색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 p형 반도체 물질과 녹색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 n형 반도체 물질을 포함할 수 있다.The photoactive layer 130B of the blue pixel may include a p-type semiconductor material that selectively absorbs light of a blue wavelength region and an n-type semiconductor material that selectively absorbs light of a blue wavelength region, and the light of the red pixel The active layer 130R may include a p-type semiconductor material that selectively absorbs light in a red wavelength region and an n-type semiconductor material that selectively absorbs light in a red wavelength region, and the photoactive layer 130G of the green pixel includes: It may include a p-type semiconductor material that selectively absorbs light in a green wavelength region and an n-type semiconductor material that selectively absorbs light in a green wavelength region.

도 5에 나타낸 제1 이미지 센서 내 각 화소의 제1 투광 전극(120) 및 제2 투광 전극(110)은 도 2를 참조하여 설명한 제1 이미지 센서의 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(110B, 110R, 110G)과 각각 동일한 구성을 가지며, 따라서 이들 제1 투광 전극 및 제2 투광 전극에 대한 자세한 설명은 생략한다.The first light transmitting electrode 120 and the second light transmitting electrode 110 of each pixel in the first image sensor shown in FIG. 5 are the first pixel electrode 120 and the second pixel of the first image sensor described with reference to FIG. 2 . Each of the electrodes 110B, 110R, and 110G has the same configuration, and therefore, detailed descriptions of these first and second light transmitting electrodes will be omitted.

한편, 도 5에서는 청색 화소(100B) 및 적색 화소(100R)가 수평으로 배치되고, 그 위에 녹색 화소(100G)가 수직으로 적층된 구조를 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 청색 화소(100B), 적색 화소(100R), 및 녹색 화소(100G) 중 임의의 2 개 화소가 나란히 배열되고, 그 위에 나머지 한 화소가 수직으로 배치되는 구조를 가질 수 있다. Meanwhile, although FIG. 5 illustrates a structure in which the blue pixel 100B and the red pixel 100R are horizontally arranged and the green pixel 100G is vertically stacked thereon, the present invention is not limited thereto, and the blue pixel 100B, Any two pixels among the red pixel 100R and the green pixel 100G may be arranged side by side, and the other pixel may be vertically arranged thereon.

도 6은 도 1에 나타낸 3차원 영상 획득 장치(700)의 결상 광학계(500)을 구성하는 제1 이미지 센서(730)의 다른 일 실시예를 설명한다.6 illustrates another embodiment of the first image sensor 730 constituting the imaging optical system 500 of the 3D image acquisition apparatus 700 shown in FIG. 1 .

도 3과 도 5를 참조하여 설명한 것과 같이, 도 6에 따른 제1 이미지 센서 역시 1 이상의 화소가 각각 상이한 파장 영역의 광을 흡수하여 감지하는 광 활성층을 포함하는 유기 광전 소자를 포함한다. 이들 광전 소자에서 감지된 각 파장 영역의 광은 각 소자 내 제1 투광 전극을 통해 전기적 신호로 변환됨으로써, 화소별로 각각 특정 파장 영역의 광을 감지하여 출력할 수 있다. 상기 출력된 전기적 신호는 도 1에 나타낸 3 차원 영상 획득 장치(700) 내 영상 신호 처리부(760)로 전달되어 컬러 영상을 생성할 수 있다.As described with reference to FIGS. 3 and 5 , the first image sensor according to FIG. 6 also includes an organic photoelectric device including a photoactive layer in which one or more pixels absorb and sense light of a different wavelength region, respectively. Light of each wavelength region sensed by these photoelectric devices is converted into an electrical signal through the first light-transmitting electrode in each device, so that light in a specific wavelength region can be detected and output for each pixel. The output electrical signal may be transmitted to the image signal processing unit 760 in the 3D image acquisition apparatus 700 shown in FIG. 1 to generate a color image.

도 6을 참조하면, 일 실시예에 따른 제1 이미지 센서는 1 이상의 청색 화소(100B), 1 이상의 녹색 화소(100G), 및 1 이상의 적색 화소(100R)를 포함하고, 이들 청색 화소(100B), 녹색 화소(100G), 및 적색 화소(100R)가 차례로 수직으로 적층되어 있는 구조를 가진다. 상기 청색 화소(100B), 녹색 화소(100G), 및 적색 화소(100R)는 각각 유기 광전 소자이다.Referring to FIG. 6 , a first image sensor according to an exemplary embodiment includes one or more blue pixels 100B, one or more green pixels 100G, and one or more red pixels 100R, and these blue pixels 100B. , a green pixel 100G, and a red pixel 100R are vertically stacked in order. Each of the blue pixel 100B, the green pixel 100G, and the red pixel 100R is an organic photoelectric device.

즉, 상기 1 이상의 청색 화소(100B)는, 각각 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극(120), 제1 투광 전극과 마주보는 제2 투광 전극(110), 및 제1 투광 전극(120)과 제2 투광 전극(110) 사이에 위치하며 청색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층(130B)을 포함할 수 있고, 상기 1 이상의 녹색 화소(100G)는, 각각 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극(120), 제1 투광 전극(120)과 마주보는 제2 투광 전극(110), 및 제1 투광 전극(120)과 제2 투광 전극(110) 사이에 위치하며 녹색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층(130G)을 포함할 수 있고, 상기 1 이상의 적색 화소(100R)는, 각각 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극(120), 제1 투광 전극(120)과 마주보는 제2 투광 전극(110), 및 제1 투광 전극(120)과 제2 투광 전극(110) 사이에 위치하며 적색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층(130R)을 포함할 수 있다.That is, each of the one or more blue pixels 100B includes a first light-transmitting electrode 120 positioned on a side where light is incident, a second light-transmitting electrode 110 facing the first light-transmitting electrode, and a first light-transmitting electrode ( 120 and the second light-transmitting electrode 110 and may include a photoactive layer 130B including an organic material absorbing light in a blue wavelength region, and the one or more green pixels 100G may each The first light-transmitting electrode 120 positioned on the incident side, the second light-transmitting electrode 110 facing the first light-transmitting electrode 120 , and between the first light-transmitting electrode 120 and the second light transmitting electrode 110 . and a photoactive layer 130G including an organic material for absorbing light in a green wavelength region, and the one or more red pixels 100R are, respectively, a first light-transmitting electrode positioned on a side to which light is incident. 120, the second light-transmitting electrode 110 facing the first light-transmitting electrode 120, and positioned between the first light-transmitting electrode 120 and the second light-transmitting electrode 110 and absorbing light in the red wavelength region The photoactive layer 130R including an organic material may be included.

상기 청색 화소(100B)의 광 활성층(130B)은 청색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 p형 반도체 물질과 청색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 n형 반도체 물질을 포함할 수 있고, 상기 녹색 화소(100G)의 광 활성층(130G)은 녹색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 p형 반도체 물질과 녹색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 n형 반도체 물질을 포함할 수 있고, 상기 적색 화소(100R)의 광 활성층(130R)은 적색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 p형 반도체 물질과 적색 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 n형 반도체 물질을 포함할 수 있다.The photoactive layer 130B of the blue pixel 100B may include a p-type semiconductor material that selectively absorbs light in a blue wavelength region and an n-type semiconductor material that selectively absorbs light in a blue wavelength region, and the green The photoactive layer 130G of the pixel 100G may include a p-type semiconductor material that selectively absorbs light in a green wavelength region and an n-type semiconductor material that selectively absorbs light in a green wavelength region, and the red pixel ( The photoactive layer 130R of 100R) may include a p-type semiconductor material that selectively absorbs light in a red wavelength region and an n-type semiconductor material that selectively absorbs light in a red wavelength region.

한편, 도 6에서는 일 예로서 적색 화소(100R), 녹색 화소(100G), 및 청색 화소(100B)가 아래에서 위로 차례로 수직으로 적층된 제1 이미지 센서를 도시하였으나, 이에 제한되지 않고, 각 이미지 센서의 구성에 따라, 청색 화소, 녹색 화소, 및 적색 화소의 적층 순서는 달라질 수 있다.Meanwhile, although FIG. 6 illustrates a first image sensor in which a red pixel 100R, a green pixel 100G, and a blue pixel 100B are vertically stacked in order from bottom to top as an example, the present invention is not limited thereto, and each image Depending on the configuration of the sensor, the stacking order of the blue pixel, the green pixel, and the red pixel may vary.

도 6에 나타낸 제1 이미지 센서의 제1 투광 전극(120) 및 제2 투광 전극(110)은, 도 2을 참조하여 설명한 제1 이미지 센서의 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(110B, 110R, 110G)과 각각 동일한 구성을 가지며, 따라서 이들 제1 투광 전극 및 제2 투광 전극에 대한 자세한 설명은 생략한다.The first light-transmitting electrode 120 and the second light-transmitting electrode 110 of the first image sensor shown in FIG. 6 are the first pixel electrode 120 and the second light transmitting electrode 110 of the first image sensor described with reference to FIG. 2 . 110B, 110R, and 110G), respectively, and thus, detailed descriptions of these first and second light transmitting electrodes will be omitted.

한편, 도 1에 나타낸 3 차원 영상 획득 장치(700)의 결상 광학계(500)를 구성하는 제2 이미지 센서(750)는, 도 7에 나타낸 바와 같이, 제1 이미지 센서(730)와 유사하게, 광이 입사하는 쪽에 위치하는 제1 투광 전극(20IR), 상기 제1 투광 전극과 마주보는 위치에 배치되는 제2 투광 전극(10IR), 및 상기 제1 투광 전극과 제2 투광 전극 사이에 위치하며 적외선 영역의 광을 선택적으로 감지하는 물질을 포함하는 광활성층(30IR)을 포함하는 유기 광전 소자로 구성될 수 있다.On the other hand, as shown in FIG. 7, the second image sensor 750 constituting the imaging optical system 500 of the 3D image acquisition device 700 shown in FIG. 1 is similar to the first image sensor 730, The first light-transmitting electrode 20IR is positioned on the side where light is incident, the second light-transmitting electrode 10IR is positioned opposite the first light-transmitting electrode, and is positioned between the first light-transmitting electrode and the second light-transmitting electrode. It may be composed of an organic photoelectric device including a photoactive layer 30IR including a material that selectively detects light in the infrared region.

상기 적외선 영역의 광을 선택적으로 감지하는 물질을 포함하는 광 활성층(30IR)은 적외선 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 p형 반도체 물질을 포함할 수 있고, 상기 p형 반도체 물질과 PN 접합을 형성하는 n형 반도체 물질을 더 포함할 수 있다.The photoactive layer 30IR including a material that selectively detects light in the infrared region may include a p-type semiconductor material that selectively absorbs light in the infrared region, and forms a PN junction with the p-type semiconductor material. It may further include an n-type semiconductor material.

상기 적외선 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 p형 반도체 물질은 정공이 다수의 캐리어가 되는 반도체 물질로서, 예를 들어, 700 nm 이상의 파장 대역의 광을 흡수할 수 있는 프탈로시아닌계 화합물을 들 수 있다. 상기 프탈로시아닌계 화합물의 예로는, 주석계, 알루미늄계, 나트륨계, 세슘계, 망간계 프탈로시아닌(phthalocyanine) 화합물, 옥시 티타늄 프탈로시아닌(oxy titanium phthalocyanine) 등을 들 수 있다. 이 중 주석계 프탈로시아닌 화합물인 SnPC의 경우 600 nm 내지 900 nm 파장 대역의 광흡수 특성을 나타낸다. The p-type semiconductor material that selectively absorbs light in the infrared region is a semiconductor material in which holes become a plurality of carriers, and may include, for example, a phthalocyanine-based compound capable of absorbing light in a wavelength band of 700 nm or more. Examples of the phthalocyanine-based compound include tin-based, aluminum-based, sodium-based, cesium-based, manganese-based phthalocyanine compounds, and oxy titanium phthalocyanine. Among them, SnPC, which is a tin-based phthalocyanine compound, exhibits light absorption characteristics in a wavelength band of 600 nm to 900 nm.

상기 n형 반도체 물질은 전자가 다수의 캐리어가 되는 반도체성 유기물질로서, 예를 들어 C60 또는 C70 등의 플러렌(Fullerene)류를 들 수 있다. 또는, 나프탈렌 테트라카르복실릭 안하이드라이드(NTCDA), Alq3 (tris-(8-hydroxyquinoline)aluminium), Bebq2(bis(benzoquinoline)berellium) 등을 사용할 수 있다. The n-type semiconductor material is a semiconducting organic material in which electrons are a plurality of carriers, for example, C 60 or C 70 Fullerenes, such as these are mentioned. Alternatively, naphthalene tetracarboxylic anhydride (NTCDA), Alq3 (tris-(8-hydroxyquinoline)aluminium), Bebq2(bis(benzoquinoline)berellium), etc. may be used.

제2 이미지 센서의 제1 투광 전극(20IR) 및 제2 투광 전극(10IR)은, 도 2을 참조하여 설명한 제1 이미지 센서의 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(110B, 110R, 110G)과 각각 동일한 구성을 가질 수 있고, 따라서 이들 제1 투광 전극 및 제2 투광 전극에 대한 자세한 설명은 생략한다.The first light-transmitting electrode 20IR and the second light-transmitting electrode 10IR of the second image sensor include the first pixel electrode 120 and the second pixel electrodes 110B and 110R of the first image sensor described with reference to FIG. 2 ; 110G), respectively, and thus, detailed descriptions of the first light-transmitting electrode and the second light-transmitting electrode will be omitted.

도 7에는 나타내지 않았으나, 상기 제2 이미지 센서(750)의 제1 투광 전극(20IR) 상부에는 가시광선 파장 영역의 광을 흡수하는 물질을 포함하는 가시광선 흡수층이 더 형성될 수도 있다. 제1 이미지 센서(730)에서 흡수되지 않고 제2 이미지 센서(750)에 도달하는 가시광 영역 파장의 광은 미미할 것이나, 필요에 따라, 제2 이미지 센서(750)의 제1 투광 전극(20IR) 상부에 가시광 영역 파장의 광이 투과하지 않도록 가시광선 흡수층을 더 형성할 수 있다. 또는, 상기 제2 이미지 센서(750)의 상부에 TOF (Time-of-Flight) 센서를 추가 형성하여 제2 이미지 센서(750)로 입사하는 조명광 또는 적외선 광을 변조하도록 할 수 있다.Although not shown in FIG. 7 , a visible ray absorbing layer including a material absorbing light in a visible ray wavelength region may be further formed on the first light transmitting electrode 20IR of the second image sensor 750 . Light of a wavelength of visible light reaching the second image sensor 750 without being absorbed by the first image sensor 730 may be insignificant, but if necessary, the upper portion of the first light transmitting electrode 20IR of the second image sensor 750 is A visible light absorbing layer may be further formed so that light having a wavelength in the visible light region does not transmit therethrough. Alternatively, a time-of-flight (TOF) sensor may be additionally formed on the second image sensor 750 to modulate illumination light or infrared light incident to the second image sensor 750 .

한편, 본 구현예에 따른 3차원 영상 획득 장치용 광학 결상계(500)의 제 1 이미지 센서(730)는 특정 가시광 영역의 광을 흡수, 감지하는 물질을 포함하는 유기 광전 소자로 이루어질 수 있으나, 제 2 이미지 센서(750)는 제1 이미지 센서(730)와 달리 반드시 유기 광전 소자로 이루어지지 않아도 된다. 즉, 제2 이미지 센서(750)의 앞 부분에 위치하여 가시광 영역의 광을 흡수하고 나머지 광을 제2 이미지 센서(750)로 전달하여야 하는 제1 이미지 센서(730)와 달리, 제1 이미지 센서(730) 뒤쪽에 위치하는 제2 이미지 센서(750)는 무기 광전 소자, 예를 들어 CCD(charge-coupled device)나 CMOS(complementary metal oxide semiconductor)와 같은 반도체 촬상 소자로 이루어질 수도 있다.On the other hand, the first image sensor 730 of the optical imaging system 500 for a 3D image acquisition device according to the present embodiment may be made of an organic photoelectric device including a material for absorbing and sensing light in a specific visible light region, Unlike the first image sensor 730 , the second image sensor 750 does not necessarily include an organic photoelectric device. That is, unlike the first image sensor 730 that is positioned in front of the second image sensor 750 to absorb light in the visible light region and transmit the remaining light to the second image sensor 750 , the first image sensor The second image sensor 750 positioned behind the 730 may be formed of an inorganic photoelectric device, for example, a semiconductor imaging device such as a charge-coupled device (CCD) or a complementary metal oxide semiconductor (CMOS).

또한, 제 1 이미지 센서(730)는 가시광 영역의 광을 감지하여 컬러 영상을 생성하므로 일반적으로 청색, 녹색, 및 적색 영역의 광을 감지하는 화소를 포함하는 다수의 화소들을 포함하며, 각 화소별로 입사광의 광량을 전기적 신호로 변환하여 출력한다. 일반적인 컬러 영상을 생성하기 위한 제 1 이미지 센서(730)는 깊이 정보만 갖는 깊이 영상을 생성하기 위한 제 2 이미지 센서(750)보다 높은 해상도를 가질 수 있다. 따라서, 제 2 이미지 센서(750)는 제 1 이미지 센서(730)에 비해 작은 크기를 가질 수 있다. 제 1 이미지 센서(730)와 제 2 이미지 센서(750)의 크기가 다를 경우, 제 1 이미지 센서(730)에 의해 생성되는 컬러 영상과 제 2 이미지 센서(750)에 의해 생성되는 깊이 영상 사이에 시야각(field of view)의 불일치가 발생할 수 있다. 즉, 크기가 큰 제 1 이미지 센서(730)는 넓은 시야각을 갖는 컬러 영상을 생성하지만, 제 2 이미지 센서(750)는 상대적으로 좁은 시야각을 갖는 깊이 영상을 생성할 수 있다. 따라서, 도 1에 도시하지는 않았으나, 제 1 이미지 센서(730)와 제 2 이미지 센서(750) 사이에 시야각을 일치시키기 위하여 영상을 축소하는 기능을 갖는(즉, 배율이 1보다 작은) 축소 광학계를 제1 이미지 센서(730)와 제2 이미지 센서(750) 사이에 더 배치할 수 있다. 그러면 제 2 이미지 센서(750)에는 축소 광학계에 의해 축소된 영상이 입사하기 때문에 제 2 이미지 센서(750)에 의해 생성되는 깊이 영상의 시야각이 그만큼 넓어질 수 있다. In addition, since the first image sensor 730 generates a color image by sensing light in the visible light region, it generally includes a plurality of pixels including pixels that detect light in the blue, green, and red regions, and each pixel The amount of incident light is converted into an electrical signal and output. The first image sensor 730 for generating a general color image may have a higher resolution than the second image sensor 750 for generating a depth image having only depth information. Accordingly, the second image sensor 750 may have a smaller size than the first image sensor 730 . When the sizes of the first image sensor 730 and the second image sensor 750 are different, between the color image generated by the first image sensor 730 and the depth image generated by the second image sensor 750 is Inconsistencies in the field of view may occur. That is, the first image sensor 730 having a large size may generate a color image having a wide viewing angle, but the second image sensor 750 may generate a depth image having a relatively narrow viewing angle. Therefore, although not shown in FIG. 1, a reduction optical system having a function of reducing an image (ie, a magnification less than 1) in order to match the viewing angle between the first image sensor 730 and the second image sensor 750 is provided. It may be further disposed between the first image sensor 730 and the second image sensor 750 . Then, since the image reduced by the reduction optical system is incident on the second image sensor 750 , the viewing angle of the depth image generated by the second image sensor 750 may be widened by that much.

이상 설명한 것과 같은 다양한 실시예에 따른 유기 광전 소자를 포함하여 컬러 영상을 생성하는 제1 이미지 센서(730), 및 제1 이미지 센서(730)에서 가시광 영역의 광이 흡수되고 나머지 피사체로부터 반사된 조명광을 감지하여 입체 영상을 생성하는 제2 이미지 센서(750)를 포함하는 상기 구현예에 따른 결상 광학계(500)는 다양한 3차원 영상 획득 장치에서 유용하게 사용될 수 있다. 3 차원 영상 획득 장치의 예로는 3D 카메라, 거리 측정기, 동작 인식기, 게임기 등을 들 수 있으며, 이들에 제한되는 것은 아니다.As described above, the first image sensor 730 including the organic photoelectric device according to various embodiments to generate a color image, and the illumination light reflected from the remaining subject after light in the visible light region is absorbed by the first image sensor 730 . The imaging optical system 500 according to the embodiment including the second image sensor 750 for detecting and generating a three-dimensional image may be usefully used in various three-dimensional image acquisition devices. Examples of the 3D image acquisition device include, but are not limited to, a 3D camera, a range finder, a motion recognizer, and a game machine.

한편, 도 1에 나타낸 일 구현예에 따른 3차원 영상 획득 장치(700) 내 결상 광학계(500)는 대물렌즈(720)와 제1 이미지 센서(730), 및 제2 이미지 센서(750)를 포함하는 예를 설명하였으나, 다른 구현예에 따른 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계는 제1 이미지 센서(730)와 제2 이미지 센서(750) 사이에 제1 이미지 센서(730)로부터 투과된 광 중 조명광, 예를 들어 적외선 영역의 광을 투과시키는 광 셔터 모듈(740)을 더 포함할 수 있다.Meanwhile, the imaging optical system 500 in the 3D image acquisition apparatus 700 according to the embodiment shown in FIG. 1 includes an objective lens 720 , a first image sensor 730 , and a second image sensor 750 . Although an example has been described, the imaging optical system for a 3D image acquisition device according to another embodiment includes illumination light among the light transmitted from the first image sensor 730 between the first image sensor 730 and the second image sensor 750 . , for example, may further include an optical shutter module 740 that transmits light in the infrared region.

도 8은 다른 구현예에 따른 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계(600) 및 이를 포함하는 3 차원 영상 획득 장치(900)의 구조를 예시적으로 보여주는 개념도이다. 8 is a conceptual diagram exemplarily illustrating a structure of an imaging optical system 600 for a 3D image acquisition apparatus and a 3D image acquisition apparatus 900 including the same according to another embodiment.

도 8을 참조하면, 일 실시예에 따른 3 차원 영상 획득 장치(900)는 소정의 파장을 갖는 조명광을 발생시키는 광원(710), 외부의 피사체(도시되지 않음)로부터 반사된 가시광과 조명광을 포커싱하는 대물렌즈(720), 상기 대물렌즈(720)에 의해 포커싱되는 가시광을 감지하여 컬러 영상을 생성하는 제 1 이미지 센서(730), 제1 이미지 센서(730)를 투과한 광 중 조명광을 투과시키는 광 셔터 모듈(740), 및 광 셔터 모듈(740)로부터 출사한 조명광을 감지하여 깊이 영상을 생성하는 제2 이미지 센서(750), 컬러 영상과 깊이 영상을 이용하여 3D 영상을 생성하는 영상 신호 처리부(770), 및 상기 광원(710), 상기 제 1 이미지 센서(730), 상기 광 셔터 모듈(740), 상기 제2 이미지 센서(750), 및 상기 영상 신호 처리부(770)들의 동작을 제어하는 제어부(780)를 포함할 수 있다. 또한, 3차원 영상 획득 장치(800)는 최종적인 3D 영상을 저장하기 위한 메모리(790)와 3D 영상을 디스플레이 하기 위한 디스플레이 패널(800)을 더 포함할 수 있다. Referring to FIG. 8 , the 3D image acquisition apparatus 900 according to an embodiment focuses the light source 710 for generating illumination light having a predetermined wavelength, visible light reflected from an external subject (not shown) and the illumination light. a first image sensor 730 that detects visible light focused by the objective lens 720 to generate a color image, and a first image sensor 730 that transmits illumination light among the light transmitted through the first image sensor 730 The optical shutter module 740, the second image sensor 750 for generating a depth image by sensing the illumination light emitted from the optical shutter module 740, and an image signal processing unit for generating a 3D image using the color image and the depth image 770 , and the light source 710 , the first image sensor 730 , the optical shutter module 740 , the second image sensor 750 , and the image signal processing unit 770 for controlling operations A control unit 780 may be included. Also, the 3D image acquisition apparatus 800 may further include a memory 790 for storing the final 3D image and a display panel 800 for displaying the 3D image.

도 8에 도시된 예에서 점선으로 묶어서 표시한 바와 같이, 대물렌즈(720), 제 1 이미지 센서(730), 광 셔터 모듈(740), 및 제 2 이미지 센서(750)는 3 차원 영상 획득 장치(900)의 결상 광학계(600)를 구성한다. 광 셔터 모듈(740)은 가시광 대역의 광을 감지하는 제1 이미지 센서(730)의 후방에 위치하여 제1 이미지 센서(730)를 투과한 광 중 조명광, 예를 들어, 적외선 대역의 광을 제2 이미지 센서(750)로 투과시킬 수 있다.In the example shown in FIG. 8 , as indicated by a dotted line, the objective lens 720 , the first image sensor 730 , the optical shutter module 740 , and the second image sensor 750 are a three-dimensional image acquisition device. (900) constitutes the imaging optical system (600). The optical shutter module 740 is located behind the first image sensor 730 that detects light in the visible light band and emits illumination light, for example, light in the infrared band, among the light transmitted through the first image sensor 730 . 2 may be transmitted through the image sensor 750 .

도 8에 나타낸 3차원 영상 획득 장치(900)에서, 대물렌즈(720)에 의해 포커싱되는 광 중 가시광 영역의 광은 제1 이미지 센서(730)에서 감지되어 컬러 영상을 생성한다. 도 2 내지 도 6을 참조하여 설명한 바와 같이, 제1 이미지 센서(730)는 1 이상의 화소부, 특히 가시광 영역의 광을 감지하는 물질을 포함하는 유기 광전 소자를 포함하는 컬러 화소들을 포함할 수 있다. 따라서, 대물렌즈(720)를 통해 포커싱된 광 중 가시광 영역의 광은 가시광 영역의 광을 선택적으로 흡수하는 물질을 포함하는 제1 이미지 센서(730)의 유기 광전 소자들에 의해 대부분 흡수되고, 가시광을 제외한 나머지 광이 제1 이미지 센서(730)를 투과하여 광 셔터 모듈(740)로 전달된다. 광 셔터 모듈(740)은 상기 나머지 광 중 조명광, 예를 들어, 적외선 영역의 광, 예를 들어, 근적외선 영역인 700 nm 내지 1,100 nm 파장 범위의 광, 또는 800 nm 내지 1,100 nm 파장 범위의 광을 투과시킬 수 있고, 따라서, 광 셔터 모듈(740)을 투과한 적외선 영역의 광만 제2 이미지 센서(750)에 도달하여 제2 이미지 센서(750)에서 깊이 영상을 생성할 수 있다.In the 3D image acquisition apparatus 900 shown in FIG. 8 , among the lights focused by the objective lens 720 , light in the visible region is detected by the first image sensor 730 to generate a color image. As described with reference to FIGS. 2 to 6 , the first image sensor 730 may include one or more pixel units, in particular, color pixels including an organic photoelectric device including a material for sensing light in a visible light region. . Accordingly, most of the light in the visible region among the light focused through the objective lens 720 is absorbed by the organic photoelectric elements of the first image sensor 730 including a material that selectively absorbs the light in the visible region, and the visible light The remaining light, except for , passes through the first image sensor 730 and is transmitted to the optical shutter module 740 . The optical shutter module 740 receives illumination light among the remaining lights, for example, light in an infrared region, for example, light in a wavelength range of 700 nm to 1,100 nm, which is a near-infrared region, or light in a wavelength range of 800 nm to 1,100 nm. Therefore, only light in the infrared region that has passed through the optical shutter module 740 may reach the second image sensor 750 to generate a depth image in the second image sensor 750 .

상기와 같이, 상기 구현예에 따른 3 차원 영상 획득 장치(900)용 결상 광학계(600)는 대물렌즈(720)의 후방에 바로 가시광 영역의 광을 감지하는 제1 이미지 센서(730)가 위치하고, 제1 이미지 센서(730)의 후방에 적외선 대역의 광을 투과시키는 광 셔터 모듈(740)을 포함하며, 그 뒤에 적외선 대역의 광을 감지하는 제2 이미지 센서(750)가 존재함에 따라, 광 셔터 모듈(740)은 가시광과 조명광, 즉 가시광과 적외선 광을 분리하기 위한 별도의 복잡한 구성을 필요로 하지 않는다. 즉, 제1 이미지 센서(730)는 가시광을 선택적으로 흡수, 감지하는 물질을 포함함으로써 제1 이미지 센서(730)를 통과한 광에서 가시광은 대부분 제거되고, 적외선 광을 포함한 나머지 광만 광 셔터 모듈(740)을 통과함에 따라, 광 셔터 모듈(740)은 입사광으로부터 가시광을 분리하는 별도의 구성 없이 적외선 광만 투과시켜 제2 이미지 센서(750)로 전달한다. 또한, 제2 이미지 센서(750)는 적외선 광만 선택적으로 흡수하여 감지함에 따라, 본 구현예에 따른 3 차원 영상 획득 장치(900)용 결상 광학계(600)에서 상기 광 셔터 모듈(740)은 입사광으로부터 가시광과 적외선 광을 분리하는 별도의 구성을 필요로 하지 않으므로 보다 얇고 작게 제작될 수 있고, 이로 인해 전체 결상 광학계(600) 및 이를 포함하는 3 차원 영상 획득 장치(900) 또한 보다 작고 얇게 제작될 수 있다. 이로 인해 3 차원 영상 획득 장치(900)의 제조 비용을 절감할 수 있고 광 효율 또한 증대시킬 수 있다. As described above, in the imaging optical system 600 for the three-dimensional image acquisition device 900 according to the embodiment, the first image sensor 730 for detecting light in the visible light region is located directly behind the objective lens 720, It includes an optical shutter module 740 that transmits light in an infrared band behind the first image sensor 730 , and thereafter, a second image sensor 750 that detects light in the infrared band exists behind the optical shutter. The module 740 does not require a separate complicated configuration for separating visible light and illumination light, that is, visible light and infrared light. That is, since the first image sensor 730 includes a material that selectively absorbs and detects visible light, most of the visible light from the light passing through the first image sensor 730 is removed, and only the remaining light including infrared light is included in the optical shutter module ( As it passes through 740 , the optical shutter module 740 transmits only infrared light to the second image sensor 750 without a separate configuration for separating visible light from incident light. In addition, as the second image sensor 750 selectively absorbs and detects only infrared light, in the imaging optical system 600 for the 3D image acquisition apparatus 900 according to the present embodiment, the optical shutter module 740 receives light from the incident light. Since it does not require a separate configuration for separating visible light and infrared light, it can be made thinner and smaller, and thus the entire imaging optical system 600 and the 3D image acquisition device 900 including the same can also be made smaller and thinner. there is. As a result, the manufacturing cost of the 3D image acquisition apparatus 900 may be reduced and light efficiency may also be increased.

광 셔터 모듈(740)은 제 1 이미지 센서(730)를 통과한 광 중 조명광, 즉 적외선 영역의 광을 투과시킬 수 있는 것이라면 어떤 재료로 제작되어도 좋고, 가시광이나 기타 영역의 광으로부터 조명광, 또는 적외선 영역의 광을 분리하여 투과시키기 위한 추가의 구성을 필요로 하지 않는다. The optical shutter module 740 may be made of any material as long as it can transmit illumination light among the light passing through the first image sensor 730, that is, light in the infrared region, and may be made of any material from visible light or light in other regions, such as illumination light, or infrared light. No additional configuration is required to separate and transmit light in the area.

그러나, 일 실시예에서, 광 셔터 모듈(740)은 제1 이미지 센서(730)에서 흡수되지 않은 일부 가시광 영역의 광을 제거하여 적외선 영역의 광을 더욱 효율적으로 투과하기 위해 광 셔터 모듈(740)의 일면 또는 양면 모두, 특히 제1 이미지 센서(730)를 향하는 표면 상에 파장 선택성 미러, 즉 가시광을 반사시키는 가시광 반사층을 더 구비할 수도 있다. 이 때, 제1 이미지 센서(730)에서 흡수되지 못하고 투과한 일부 가시광은 상기 파장 선택성 미러로부터 반사되어 제거될 수 있고, 적외선 파장 영역의 광은 파장 선택성 미러를 통과하여 그 아래 위치한 적외선 대역의 광을 변조하는 광 셔터를 거쳐 제2 이미지 센서(750)에서 감지될 수 있다. 상기 광 셔터는 피사체에 대한 깊이 정보를 얻기 위해 일반적인 광시간비행법(TOF)에 따라 제1 이미지 센서로부터 투과된 조명광, 예를 들어, 적외선 광을 소정의 이득 파형으로 변조할 수 있다. 예를 들어, 상기 광 셔터는 수십 내지 수백 MHz의 초고속 구동이 가능한 GaAs 기반의 반도체 변조기일 수 있다.However, in one embodiment, the optical shutter module 740 removes light in the visible light region that is not absorbed by the first image sensor 730 to more efficiently transmit the light in the infrared region. A wavelength selective mirror, that is, a visible light reflecting layer for reflecting visible light, may be further provided on one or both sides of the , in particular on the surface facing the first image sensor 730 . In this case, some visible light that has not been absorbed by the first image sensor 730 and transmitted may be reflected and removed from the wavelength-selective mirror, and light of an infrared wavelength region passes through the wavelength-selective mirror and is located below the wavelength-selective mirror. may be detected by the second image sensor 750 through an optical shutter that modulates The optical shutter may modulate illumination light, for example, infrared light transmitted from the first image sensor, into a predetermined gain waveform according to a general time-of-flight method (TOF) in order to obtain depth information about the subject. For example, the optical shutter may be a GaAs-based semiconductor modulator capable of high-speed driving of tens to hundreds of MHz.

도 8에 나타낸 3차원 영상 획득 장치(900) 내 광원(710), 대물렌즈(720), 제1 이미지 센서(730), 제2 이미지 센서(750), 영상 신호 처리부(770), 제어부(780), 메모리(790), 및 3D 영상을 디스플레이 하기 위한 디스플레이 패널(800) 등의 구성은 상기 도 1 내지 도 7을 참조하여 설명한 바와 동일하므로, 이들에 대한 자세한 설명은 생략한다. The light source 710 , the objective lens 720 , the first image sensor 730 , the second image sensor 750 , the image signal processing unit 770 , and the control unit 780 in the 3D image acquisition apparatus 900 shown in FIG. 8 . ), the memory 790, and the configuration of the display panel 800 for displaying a 3D image are the same as those described with reference to FIGS. 1 to 7, and thus detailed descriptions thereof will be omitted.

도 9는 일 실시예에 따른 광 셔터 모듈(740)의 구조를 개략적으로 나타내는 도면이다.9 is a diagram schematically illustrating a structure of an optical shutter module 740 according to an exemplary embodiment.

도 9를 참조하면, 광 셔터 모듈(740)은 기판(10) 위에 배치되며 특정 파장 대역의 광, 예를 들어 가시광 영역의 광을 반사하는 제1 및 제2 반사층(11, 16), 제1 및 제2 반사층(11, 16) 사이에 배치되며 전기장에 따라 굴절률이 변하는 결정질의 전광 박막층(14), 전광 박막층(14)을 중심으로 제1 및 제2 반사층(11, 16) 사이에 이격 배치되어 전광 박막층(14)에 전기장을 인가하는 제1 및 제2 전극(12, 15), 그리고 제1 전극(12)과 전광 박막층(14) 사이 및 제2 전극(15)과 전광 박막층(14) 사이 중 적어도 하나의 영역에 배치되어 전광 박막층(14)으로의 전류 유입을 방지하는 통전 방지층(13)을 포함한다. Referring to FIG. 9 , the optical shutter module 740 is disposed on the substrate 10 and includes first and second reflective layers 11 and 16 that reflect light of a specific wavelength band, for example, light of a visible light region; and the crystalline electro-optic thin film layer 14, which is disposed between the second reflective layers 11 and 16 and whose refractive index changes according to an electric field, and the first and second reflective layers 11 and 16 are spaced apart from each other with the electro-optic thin film layer 14 as the center. first and second electrodes 12 and 15 for applying an electric field to the electro-optic thin film layer 14, and between the first electrode 12 and the electro-optic thin film layer 14, and between the second electrode 15 and the electro-optic thin film layer 14 and a conduction prevention layer 13 disposed in at least one region between the two regions to prevent current inflow into the electro-optical thin film layer 14 .

상기 기판(10)은 광이 투과할 수 있도록 투명한 비정질 물질, 예를 들어 유리, 사파이어, 실리콘, III-V 족 GaAs 등으로 이루어질 수 있다. 기판(10)의 재질은 변조하고자 하는 광의 파장 대역이나 반사형 또는 투과형 여하에 따라 선택될 수 있다. The substrate 10 may be made of a transparent amorphous material, for example, glass, sapphire, silicon, group III-V GaAs, or the like so that light can pass therethrough. The material of the substrate 10 may be selected according to a wavelength band of light to be modulated or whether it is a reflection type or a transmission type.

제1 및 제2 반사층(11, 16)은 굴절률이 서로 다른 두 종류 이상의 투명한 유전체 박막을 번갈아 적층하여 특정 파장 대역의 광에 대해 높은 반사도를 갖도록 형성될 수 있다. 또한, 유전체 박막 대신 얇은 금속 등과 같이 빛의 투과 및 반사 특성을 동시에 갖는 층을 제1 및 제2 반사층(11, 16)으로서 사용할 수 있다. 제1 반사층(11)과 제2 반사층(16)은 동일한 물질로, 동일한 구조로 형성될 수 있고, 이들 중 하나 이상이 생략될 수도 있다.The first and second reflective layers 11 and 16 may be formed to have high reflectivity with respect to light of a specific wavelength band by alternately stacking two or more types of transparent dielectric thin films having different refractive indices. In addition, instead of the dielectric thin film, a layer having both light transmission and reflection characteristics, such as a thin metal, may be used as the first and second reflective layers 11 and 16 . The first reflective layer 11 and the second reflective layer 16 may be formed of the same material and have the same structure, and at least one of them may be omitted.

제1 반사층(11)과 제2 반사층(16)의 반사율은 동일할 수 있으며, 각각 97% 이상일 수 있다. 그러면 입사광은 전광 박막층(14)을 가운데 두고 제1 반사층(11)과 제2 반사층(16) 사이에서 공진하며, 공진 모드에 해당하는 좁은 파장 대역의 광만 투과할 수 있다. 따라서, 제1 반사층(11), 전광 박막층(14), 및 제2 반사층(16)을 포함하는 구조는 제어 가능한 단파장 투과 특성을 갖는 패브리-페로 필터(Fabry-Perot Filter)의 역할을 한다. 투과되는 광의 파장 대역은 전광 박막층(14)의 굴절률과 두께에 따라 제어될 수 있다. The reflectivity of the first reflective layer 11 and the second reflective layer 16 may be the same, and each may be 97% or more. Then, the incident light resonates between the first reflective layer 11 and the second reflective layer 16 with the all-optical thin film layer 14 in the middle, and only light of a narrow wavelength band corresponding to the resonance mode can be transmitted. Accordingly, the structure including the first reflective layer 11 , the electro-optical thin film layer 14 , and the second reflective layer 16 serves as a Fabry-Perot filter having controllable short-wavelength transmission characteristics. The wavelength band of the transmitted light may be controlled according to the refractive index and thickness of the electro-optic thin film layer 14 .

전광 박막층(14)은 전기장이 인가되면 굴절률이 변하는 물질, 즉, EO(electro-optic) 효과를 나타내는 재료로 이루어질 수 있는데, 이러한 재질은 전기장의 크기에 따라 공지되는 빛의 파장을 변화시키는 성질을 갖는다. 이러한 물질로서, 예를 들어, KTN, LiNbO3, PZT, PLZT, 액정(Liquid Crystal) 중 어느 하나를 포함할 수 있다. The electro-optic thin film layer 14 may be made of a material whose refractive index changes when an electric field is applied, that is, a material exhibiting an EO (electro-optic) effect. This material has a property of changing a known wavelength of light according to the size of the electric field. have The material may include, for example, any one of KTN, LiNbO 3 , PZT, PLZT, and liquid crystal.

전광 박막층(14)은 또한 전기장이 인가되면 광 흡수율이 변하는 물질, 즉, EA(electro-absoption) 효과를 나타내는 재료로 이루어질 수 있다. 예를 들어, III-V 족 반도체를 이용한 다중양자우물(multiple quantum well: MQW) 구조를 포함하여 이루어질 수 있으며, 전기장 인가에 따라 MQW 내의 흡수 파장이 이동(shift)되는 성질이 이용된다. The electro-optical thin film layer 14 may also be made of a material whose light absorption rate changes when an electric field is applied, that is, a material exhibiting an electro-absoption (EA) effect. For example, it may include a structure of a multiple quantum well (MQW) using a group III-V semiconductor, and the property of shifting the absorption wavelength in MQW according to the application of an electric field is used.

제1 전극(12)과 제2 전극(15)은 전광 박막층(14)에 전기장이 형성되도록 전압을 인가하기 위해 마련된 것으로, 투명 전도성 재질로 이루어질 수 있다.The first electrode 12 and the second electrode 15 are provided to apply a voltage to form an electric field in the electro-optical thin film layer 14 and may be made of a transparent conductive material.

통전 방지층(13)은 제1 및 제2 전극(12, 15) 중 적어도 하나와 전광 박막층(14) 간의 전기적 통전을 방지한다. 통전 방지층(13)은 ZrO2, TiO2, MgO, CeO2, Al2Oe, HfO2, NbO, SiO2, Si3N4 중 어느 하나 이상을 포함하는 절연 물질로 형성될 수 있다. 그리고, 통전 방지층(13)의 절연 물질은 전광 박막층(14)의 물질 특성에 따라 그 종류가 달라질 수 있다. The conduction prevention layer 13 prevents electrical conduction between at least one of the first and second electrodes 12 and 15 and the electro-optic thin film layer 14 . The conduction blocking layer 13 may be formed of an insulating material including at least one of ZrO 2 , TiO 2 , MgO, CeO 2 , Al 2 Oe, HfO 2 , NbO, SiO 2 , and Si 3 N 4 . In addition, the type of the insulating material of the current prevention layer 13 may vary depending on the material properties of the electro-optical thin film layer 14 .

통전 방지층(13)은 도 9에 도시한 바와 같이 제1 및 전극(12)과 전광 박막층(14) 사이에 배치될 수도 있고, 전광 박막층(14)과 제2 전극(15) 사이에 배치될 수도 있다. 또는, 제1 전극(12)과 전광 박막층(14) 사이 및 제2 전극(15)과 전광 박막층(14) 사이 모두에 배치될 수도 있다. The conduction prevention layer 13 may be disposed between the first and electrode 12 and the electro-optic thin film layer 14 as shown in FIG. 9 , or between the electro-optic thin film layer 14 and the second electrode 15 . there is. Alternatively, it may be disposed both between the first electrode 12 and the electro-optic thin film layer 14 and between the second electrode 15 and the electro-optic thin film layer 14 .

이상에서 바람직한 실시예들에 대해 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리 범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 다음의 청구 범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리 범위에 속하는 것이다.Although preferred embodiments have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improved forms of the present invention are also provided by those skilled in the art using the basic concept of the present invention as defined in the following claims. is within the scope of the right.

Claims (20)

하나의 공통 대물렌즈;
상기 대물렌즈에 의해 포커싱되는 광 중 가시광 대역의 광을 감지하는 제1 이미지 센서;
상기 제1 이미지 센서를 투과한 광 중 적외선 대역의 광을 감지하는 제2 이미지 센서; 및
상기 제1 이미지 센서와 상기 제2 이미지 센서 사이에 상기 제1 이미지 센서를 투과한 광 중 적외선 대역의 광을 투과시키는 광 셔터 모듈을 포함하고,
상기 제1 이미지 센서는 행렬로 배열되어 있는 복수의 화소부를 포함하는 유기 이미지 센서로서,
상기 복수의 화소부에 각각 대응하여 서로 이격되어 배열된 복수의 제2 화소 전극,
상기 제2 화소 전극들 사이 및 그 위에서 연속적인 필름 형태로 배치되고, 상기 제2 화소 전극들 모두와 중첩하며, 가시광선 전 영역의 광을 감지하는 유기 흡광 물질을 포함하는 광 활성층,
상기 광 활성층 상부에 연속적인 필름 형태로 배치되고, 상기 제2 화소 전극들 모두와 중첩하며, 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 화소 전극, 및
상기 제1 화소 전극 상부에 상기 복수의 화소부 각각에 대응하여 배치되며 각각의 화소부가 감지하는 특정 파장 영역의 광을 투과시키는 복수의 컬러필터를 포함하고,
상기 대물렌즈는 상기 복수의 화소부와 일 대 복수로 대응하며,
상기 광 셔터 모듈은, 가시광 대역의 광을 반사하고 적외선 대역의 광을 투과시키는 파장 선택성 미러 및 소정의 이득 파형으로 상기 적외선 대역의 광을 변조하는 광 셔터
를 포함하는 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.
one common objective;
a first image sensor for detecting light in a visible light band among the light focused by the objective lens;
a second image sensor sensing light in an infrared band among the light transmitted through the first image sensor; and
and an optical shutter module for transmitting light in an infrared band among the light transmitted through the first image sensor between the first image sensor and the second image sensor,
The first image sensor is an organic image sensor including a plurality of pixel units arranged in a matrix,
a plurality of second pixel electrodes arranged to be spaced apart from each other corresponding to the plurality of pixel portions, respectively;
a photoactive layer disposed in a continuous film form between and on the second pixel electrodes, overlapping all of the second pixel electrodes, and including an organic light absorbing material that detects light in the entire visible light region;
a first pixel electrode disposed in the form of a continuous film on the photoactive layer, overlapping all of the second pixel electrodes, and positioned on a side on which light is incident; and
a plurality of color filters disposed on the first pixel electrode corresponding to each of the plurality of pixel units and transmitting light of a specific wavelength region sensed by each pixel unit;
The objective lens corresponds to the plurality of pixel units in one to a plurality,
The optical shutter module includes a wavelength-selective mirror that reflects light of a visible light band and transmits light of an infrared band, and an optical shutter that modulates light of the infrared band with a predetermined gain waveform.
An imaging optical system for a three-dimensional image acquisition device comprising a.
삭제delete 제1항에서,
상기 복수의 컬러필터들은 제1 컬러필터, 제2 컬러필터, 및 제3 컬러필터를 포함하고,
상기 제1 컬러필터는 400nm 이상 500nm 미만의 광을 선택적으로 투과시키고,
상기 제2 컬러필터는 500nm 내지 580nm의 광을 선택적으로 투과시키고, 그리고
상기 제3 컬러필터는 580nm 초과 700nm의 광을 선택적으로 투과시키는 것인,
3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.
In claim 1,
The plurality of color filters includes a first color filter, a second color filter, and a third color filter,
The first color filter selectively transmits light of 400 nm or more and less than 500 nm,
The second color filter selectively transmits light of 500 nm to 580 nm, and
The third color filter is to selectively transmit light of more than 580 nm and 700 nm,
Imaging optical system for 3D image acquisition device.
제1항에서,
상기 제1 이미지 센서는 1 이상의 청색 화소, 1 이상의 녹색 화소, 및 1 이상의 적색 화소를 포함하고,
상기 1 이상의 청색 화소는 각각, 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극, 상기 제1 투광 전극과 마주보는 제2 투광 전극, 및 상기 제1 투광 전극과 제2 투광 전극 사이에 위치하며 청색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함하고,
상기 1 이상의 녹색 화소는 각각, 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극, 상기 제1 투광 전극과 마주보는 제2 투광 전극, 및 상기 제1 투광 전극과 제2 투광 전극 사이에 위치하며 녹색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함하고,
상기 1 이상의 적색 화소는 각각, 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극, 상기 제1 투광 전극과 마주보는 제2 투광 전극, 및 상기 제1 투광 전극과 제2 투광 전극 사이에 위치하며 적색 파장 영역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함하는,
3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.
In claim 1,
the first image sensor includes one or more blue pixels, one or more green pixels, and one or more red pixels;
Each of the one or more blue pixels includes a first light-transmitting electrode positioned on a side where light is incident, a second light-transmitting electrode facing the first light-transmitting electrode, and between the first light-transmitting electrode and the second light-transmitting electrode. A photoactive layer comprising an organic material that absorbs light in a wavelength region,
Each of the one or more green pixels includes a first light-transmitting electrode positioned on a side where light is incident, a second light-transmitting electrode facing the first light-transmitting electrode, and between the first light-transmitting electrode and the second light-transmitting electrode. A photoactive layer comprising an organic material that absorbs light in a wavelength region,
Each of the one or more red pixels includes a first light-transmitting electrode positioned on a side where light is incident, a second light-transmitting electrode facing the first light-transmitting electrode, and between the first light-transmitting electrode and the second light-transmitting electrode. A photoactive layer comprising an organic material that absorbs light in a wavelength region,
Imaging optical system for 3D image acquisition device.
제4항에서,
상기 1 이상의 청색 화소, 상기 1 이상의 녹색 화소, 및 상기 1 이상의 적색 화소가 모두 수평으로 인접하여 배열되는 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.
In claim 4,
An imaging optical system for a three-dimensional image acquisition device, wherein the one or more blue pixels, the one or more green pixels, and the one or more red pixels are all arranged horizontally adjacent to each other.
제4항에서,
상기 1 이상의 청색 화소, 상기 1 이상의 녹색 화소, 및 상기 1 이상의 적색 화소 중 2 가지 색 화소는 서로 수평으로 인접하여 배열되고, 나머지 1 가지 색 화소는 상기 2 가지 색 화소가 서로 수평으로 인접하여 배열된 층 위에 수직으로 적층되는 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.
In claim 4,
Among the one or more blue pixels, the one or more green pixels, and the one or more red pixels, two color pixels are arranged horizontally adjacent to each other, and the remaining one color pixels are arranged such that the two color pixels are horizontally adjacent to each other. An imaging optical system for a three-dimensional image acquisition device that is vertically stacked on a layer
제6항에서,
상기 1 이상의 청색 화소 및 상기 1 이상의 적색 화소는 수평으로 인접하여 배열되고, 상기 1 이상의 녹색 화소는 상기 1 이상의 청색 화소와 1 이상의 적색 화소가 수평으로 인접하여 배열된 층 위에 수직으로 적층되는 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.
In claim 6,
The one or more blue pixels and the one or more red pixels are arranged adjacently horizontally, and the one or more green pixels are vertically stacked on a layer in which the one or more blue pixels and the one or more red pixels are horizontally adjacently arranged. Imaging optics for image acquisition devices.
제4항에서,
상기 1 이상의 청색 화소, 상기 1 이상의 녹색 화소, 및 상기 1 이상의 적색 화소가 수직으로 적층된 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.
In claim 4,
An imaging optical system for a three-dimensional image acquisition device in which the one or more blue pixels, the one or more green pixels, and the one or more red pixels are vertically stacked.
제8항에서, 상기 1 이상의 청색 화소, 상기 1 이상의 녹색 화소, 및 상기 1 이상의 적색 화소가 상기 대물렌즈 측으로부터 차례로 적층되어 있는 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.The imaging optical system of claim 8, wherein the one or more blue pixels, the one or more green pixels, and the one or more red pixels are sequentially stacked from the side of the objective lens. 제4항 내지 제9항 중 어느 한 항에서,
상기 청색 화소는 400nm 이상 500nm 미만에서 최대 흡수 파장(λmax)을 나타내는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함하고,
상기 녹색 화소는 500nm 내지 580nm에서 최대 흡수 파장(λmax)을 나타내는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함하고, 그리고
상기 적색 화소는 580nm 초과 700nm 이하에서 최대 흡수 파장(λmax)을 나타내는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함하는 것인,
3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.
10. In any one of claims 4 to 9,
The blue pixel includes a photoactive layer including an organic material exhibiting a maximum absorption wavelength (λmax) at 400 nm or more and less than 500 nm,
The green pixel includes a photoactive layer including an organic material exhibiting a maximum absorption wavelength (λmax) in 500 nm to 580 nm, and
Wherein the red pixel comprises a photoactive layer comprising an organic material exhibiting a maximum absorption wavelength (λmax) in a range greater than 580 nm and less than or equal to 700 nm,
Imaging optical system for 3D image acquisition device.
제1항에서,
상기 제2 이미지 센서는 광이 입사되는 측에 위치하는 제1 투광 전극, 상기 제1 투광 전극과 마주보는 제2 투광 전극, 및 상기 제1 투광 전극과 제2 투광 전극 사이에 위치하며 적외선 대역의 광을 흡수하는 유기 물질을 포함하는 광 활성층을 포함하는 것인 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.
In claim 1,
The second image sensor includes a first light-transmitting electrode positioned on the side on which light is incident, a second light-transmitting electrode facing the first light-transmitting electrode, and positioned between the first light-transmitting electrode and the second light-transmitting electrode in the infrared band. An imaging optical system for a three-dimensional image acquisition device comprising a photoactive layer comprising an organic material that absorbs light.
제1항에서, 상기 제2 이미지 센서는 적외선 대역의 광을 감지하는 실리콘 포토다이오드를 포함하는 것인 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.The imaging optical system of claim 1 , wherein the second image sensor includes a silicon photodiode that detects light in an infrared band. 삭제delete 삭제delete 제1항에서, 상기 제1 이미지 센서, 상기 광 셔터 모듈, 및 상기 제2 이미지 센서는 모두 광축을 따라 차례로 광축에 수직으로 배열되어 있는 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계.The imaging optical system of claim 1 , wherein the first image sensor, the optical shutter module, and the second image sensor are all sequentially arranged along an optical axis and perpendicular to the optical axis. 제1항, 제3항 내지 제9항 및 제11항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 3 차원 영상 획득 장치용 결상 광학계,
적외선 대역의 광을 발생시켜 피사체에 조사하는 광원,
상기 결상 광학계의 제1 이미지 센서 및 제2 이미지 센서로부터 출력되는 제1 및 제2 영상 신호를 이용하여 3차원 영상을 생성하는 영상 신호 처리부, 및
상기 광원과 상기 영상 신호 처리부의 동작을 제어하는 제어부
를 포함하는 3차원 영상 획득 장치.
An imaging optical system for a three-dimensional image acquisition device according to any one of claims 1, 3 to 9 and 11 to 12,
A light source that emits light in the infrared band and irradiates the subject;
an image signal processor configured to generate a three-dimensional image using first and second image signals output from the first image sensor and the second image sensor of the imaging optical system; and
A control unit for controlling operations of the light source and the image signal processing unit
A three-dimensional image acquisition device comprising a.
제16항에 따른 3차원 영상 획득 장치를 포함하는 3D 카메라.A 3D camera comprising the 3D image acquisition device according to claim 16 . 제16항에 따른 3차원 영상 획득 장치를 포함하는 거리측정기.A distance measuring device comprising the three-dimensional image acquisition device according to claim 16 . 제16항에 따른 3차원 영상 획득 장치를 포함하는 동작인식기.A motion recognizer comprising the three-dimensional image acquisition device according to claim 16 . 제16항에 따른 3차원 영상 획득 장치를 포함하는 게임기.A game machine comprising the three-dimensional image acquisition device according to claim 16.
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