KR102172459B1

KR102172459B1 - 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기

Info

Publication number: KR102172459B1
Application number: KR1020190021141A
Authority: KR
Inventors: 구동건; 김진곤; 김영석
Original assignee: 엘지전자 주식회사
Priority date: 2019-02-22
Filing date: 2019-02-22
Publication date: 2020-10-30
Also published as: EP3699153A1; EP3699153B1; KR20200102757A; US20240002280A1; US11780766B2; US20200270171A1; US20240002279A1; CN111606569A; CN111606569B

Abstract

본 발명은 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 P₂O₅ 15~50 중량%; SiO₂ 10~20 중량%; B₂O₃ 1~15 중량%;
Li₂O, Na₂O, 및 K₂O 가운데 1종 이상 5~20 중량%; NaF, CaF₂, 및 AlF₃ 가운데 1종 이상 1~5 중량%; MgO, BaO, 및 CaO 가운데 1종 이상 1~35 중량%; 및 TiO₂, CeO₂, MoO₃, Bi₂O₃ 및 CuO 가운데 1종 이상 10~25 중량%를 포함하여, 청소에 필요한 가열 시간을 단축시키고 오일류 오염물질을 완벽히 제거할 수 있는 우수한 효과를 갖는다.

Description

법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기{COMPOSITION FOR ENAMEL, METHOD FOR PREPARATION THEREOF AND COOKING APPLIANCE}

본 발명은 열분해 시간을 단축하여 청소가 가능한 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기에 관한 것이다.

법랑(enamel)은 금속판의 표면에 유리질 유약을 도포시킨 것이다. 일반적인 법랑은 전자레인지와 오븐과 같은 조리기기 등에 사용된다. 전기오븐, 가스 오븐 등의 조리기구는 가열원을 이용하여 음식물을 조리하는 기기이다. 조리과정에서 발생한 오염물질 등이 조리기구의 캐비티(cavity) 내벽에 들러붙게 되므로, 상기 캐비티 내벽을 청소할 필요가 있다. 상기 법랑은 조리기구의 캐비티 내벽 표면 등에 코팅되어 조리기구에 묻은 오염물의 제거를 용이하게끔 한다. 일반적으로, 캐비티 내벽을 쉽게 청소할 수 있는 기술로는 고온에서 오염물을 태워 재로 만드는 pyrolysis(열분해) 방법이 알려져 있고, pyrolysis(열분해) 방법이 적용되는 법랑 조성물로서 P₂O₅, SiO₂, B₂O₃ 등의 성분을 포함하는 법랑 조성물이 알려져 있다.

그러나, 기존에 알려져 있는 법랑 조성물은 450~500 ℃의 pyrolysis(열분해) 고온 조건에서 약 4시간 정도 가열하여야 청소가 가능하기 때문에 에너지 소비가 크다.

또한, 기존의 법랑 조성물은 소, 돼지, 가금류 기름과 같은 오일류 오염물질은 잘 제거되지 않는 문제가 있다.

아울러, 법랑 조성물은 450~500 ℃의 고온에서 변형 및 손상이 없어야 하는데, 기존의 법랑 조성물은 고온에서 내구성이 저하되는 문제가 있다.

본 발명은 청소에 필요한 가열 시간을 단축시킬 수 있는 신규의 법랑 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한 본 발명은 오일류 오염물질을 완벽히 제거할 수 있는 신규의 법랑 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한 본 발명은 우수한 청소 성능과 더불어 내열성 및 내화학성과 같은 내구성이 우수한 신규의 법랑 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

기존의 법랑 조성물에서 필요한 가열 시간을 단축시켜서 청소가 가능하고, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 P₂O₅ 15~50 중량%; SiO₂ 10~20 중량%; B₂O₃ 1~15 중량%; Li₂O, Na₂O, 및 K₂O 가운데 1종 이상 5~20 중량%; NaF, CaF₂, 및 AlF₃ 가운데 1종 이상 1~5 중량%; MgO, BaO, 및 CaO 가운데 1종 이상 1~35 중량%; 및 TiO₂, CeO₂, MoO₃, Bi₂O₃ 및 CuO 가운데 1종 이상 10~25 중량%를 포함한다.

또한, 오일류 오염물을 제거할 수 있는 등 청소 성능이 극대화된 포스페이트계 법랑 조성물을 제공하기 위해, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 상기 MoO₃ 와 상기 Bi₂O₃ 를 모두 포함하는 경우 상기 MoO₃ 와 상기 Bi₂O₃ 가운데 어느 하나를 2중량% 이하로 포함할 수 있다.

아울러, 우수한 청소 성능과 더불어 내열성 및 화학적 내구성이 우수한 신규의 법랑 조성물을 제공하기 위해, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 Al₂O₃ 1~20 중량%; ZrO₂ 1~5 중량%; 및 SnO 및 ZnO 가운데 1종 이상 1~10 중량%;를 더 포함할 수 있고, 또한 상기 MoO₃ 1~10 중량%; 및 상기 CuO 1~5 중량%;를 포함할 수 있다.

본 발명에 따른 법랑 조성물은 기존의 법랑 조성물에서 필요한 가열 시간을 획기적으로 줄일 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 가열 시간이 단축되어 청소 시 사용되는 에너지가 절약되는 효과가 있다.

또한 본 발명에 따른 법랑 조성물은 특히 오일류 오염물을 완벽히 제거할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 조리기기의 위생성을 향상시킬 수 있다.

또한, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 특유의 성분비로 인해 모재 강판과의 밀착 성능이 강화됨과 동시에 우수한 청소 성능을 확보할 수 있다.

더 나아가 본 발명에 따른 법랑 조성물은 최적의 포스페이트계 성분 조성비를 가질 수 있어 우수한 청소 성능과 더불어 내열성 및 화학적 내구성이 모두 우수한 효과가 있다.

뿐만 아니라 본 발명에 따른 법랑 조성물은 모재 강판에 중간 버퍼층이 없이 단일층으로 직접 코팅될 수 있어 간편한 제조가 가능한 효과가 있다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 조리기기를 보인 정면도이다.
도 2는 도 1에 따른 조리기기의 캐비티 내면 일부를 확대한 단면도이다.
도 3은 도 1에 따른 조리기기의 도어 내면 일부를 확대한 단면도이다.

전술한 목적, 특징 및 장점은 상세하게 후술되며, 이에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 상세한 설명을 생략한다. 이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것이다. 이하, 본 발명에 따른 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기에 대해 상세히 설명하기로 한다.

<법랑 조성물>

본 발명에 따른 법랑 조성물은 P₂O₅ 15~50 중량%; SiO₂ 10~20 중량%; B₂O₃ 1~15 중량%; Li₂O, Na₂O, 및 K₂O 가운데 1종 이상 5~20 중량%; NaF, CaF₂, 및 AlF₃ 가운데 1종 이상 1~5 중량%; MgO, BaO, 및 CaO 가운데 1종 이상 1~35 중량%; 및 TiO₂, CeO₂, MoO₃, Bi₂O₃ 및 CuO 가운데 1종 이상 10~25 중량%를 포함한다.

P₂O₅는 알칼리 포스페이트 유리 구조(alkali phosphate glass structure)를 형성하는 기능을 하는 성분이다. 또한 P₂O₅는 법랑 조성물 내 다량의 전이금속산화물의 첨가를 용이하게 하는 글라스 포머(glass former)이고, 법랑표면과 오염물질 사이에 물이 침투하는 것을 도와주어 오염물질을 쉽게 제거하는 기능을 갖는다. 상기 P₂O₅는 15~50 중량%의 범위에서 함유된다. 상기 P₂O₅가 50 중량%를 초과하면 법랑 조성물의 유리화가 어려워질 수 있고 법랑 조성물의 열 물성이 저하될 수 있다. P₂O₅가 15 중량% 미만이면 전이금속산화물의 첨가량이 줄어들어 청소 기능이 저하될 수 있다.

SiO₂는 유리 구조를 형성하는 성분이다. SiO₂는 유리 구조의 골격을 강화시켜 법랑 조성물의 내화학성을 향상시킨다. 상기 SiO₂는 10~20 중량%의 범위에서 함유된다. 상기 SiO₂가 20 중량%를 초과하면 전이금속산화물의 첨가를 방해하여 청소기능이 저하되는 문제가 생길 수 있다. SiO₂가 10 중량% 미만이면 유리 조성이 붕괴되는 문제점이 발생될 수 있다.

B₂O₃은 유리 형성제로서 역할을 하고 법랑 조성물의 각 성분들이 균일하게 녹도록 하는 역할을 한다. 또한, B₂O₃은 상기 법랑 조성물의 열팽창 계수와 융합 흐름(Fusion flow)을 조절하여, 코팅성능을 향상시킨다. 상기 B₂O₃ _-는 1~15 중량%의 범위에서 함유된다. 상기 B₂O₃가 15 중량%를 초과하면 전이금속산화물의 첨가를 방해하여 청소기능이 저하되는 문제가 생길 수 있다. B₂O₃가 1 중량% 미만이면 유리 조성이 붕괴될 수 있고 유리 조성물의 결정화가 발생할 수 있다.

Li₂O, Na₂O, 및 K₂O는 법랑 조성물의 청소 성능을 향상시키는 역할을 한다. 상기 Li₂O, Na₂O 및 K₂O 가운데 1종 이상은 5~20 중량%의 범위에서 법랑 조성물에 함유된다. 상기 Li₂O, Na₂O 및 K₂O 가운데 1종 이상의 함유량이 20 중량%를 초과하면 유리의 열팽창계수를 극단적으로 증가시켜 코팅 성능이 저하되는 문제가 있다. Li₂O, Na₂O 및 K₂O 가운데 1종 이상의 함유량이 5 중량% 미만이면 청소기능이 저하되는 문제가 생길 수 있다.

NaF, CaF₂, 및 AlF₃ 는 법랑 코팅층의 표면 장력을 제어하여 법랑 코팅층의 표면특성을 향상시키는 성분들이다. 상기 NaF, CaF₂, 및 AlF₃ 가운데 1종 이상은 1~5 중량%의 범위에서 법랑 조성물에 함유된다. 상기 NaF, CaF₂, 및 AlF₃ 가운데 1종 이상이 5 중량%를 초과하면 열물성이 저하될 수 있다. NaF, CaF₂, 및 AlF₃ 가운데 1종 이상이 1 중량% 미만이면 법랑 코팅층의 표면 특성이 저하될 수 있다.

MgO, BaO, 및 CaO 은 법랑 코팅층과 모재 강판과의 밀착성을 향상시키는 성분들이다. 상기 MgO, BaO, 및 CaO 가운데 1종 이상은 1~35 중량%의 범위에서 법랑 조성물에 함유된다. 상기 MgO, BaO, 및 CaO 가운데 1종 이상이 35 중량%를 초과하면 청소기능이 저하되는 문제가 생길 수 있다. MgO, BaO, 및 CaO 가운데 1종 이상이 1 중량% 미만이면 법랑 코팅층과 강판과의 밀착성 감소되어 유리의 안정성이 저하될 수 있다.

TiO₂, CeO₂, MoO₃, Bi₂O₃ 및 CuO 는 법랑 코팅층의 표면에서 촉매로서 기능한다. 이에 따라, TiO₂, CeO₂, MoO₃, Bi₂O₃ 및 CuO 는 법랑 코팅층의 표면과 오염물질간의 연결을 쉽게 끊어준다. 상기 TiO₂, CeO₂, MoO₃, Bi₂O₃ 및 CuO 가운데 1종 이상은 10~25 중량%의 범위에서 함유된다. 상기 성분들 가운데 1종 이상이 25 중량%를 초과하면 유리화가 어렵고 열 물성이 저하되는 문제가 생길 수 있다. 반면에 상기 성분들 가운데 1종 이상이 10 중량% 미만이면 법랑 코팅층 표면에서의 촉매반응이 줄어들어 법랑의 청소기능이 저하될 수 있다.

다음으로, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 Al₂O₃ 1~20 중량%; ZrO₂ 1~5 중량%; 및 SnO 및 ZnO 가운데 1종 이상 1~10 중량%;를 더 포함할 수 있다. 상기 Al₂O₃, ZrO₂, SnO 및 ZnO는 알칼리 포스페이트 유리 구조의 약한 내구성을 보완하며, 법랑 표면의 경도를 향상시키는 효과가 있다. 상기 Al₂O₃가 20 중량%를 초과하면 용융온도가 높아지고 융합 흐름(Fusion flow)이 증가하여 법랑 코팅층의 밀착성이 저하될 수 있다. 또한, 상기 ZrO₂가 5 중량%초과하거나, 상기 SnO 및/또는 ZnO가 10 중량%를 초과하면 유리구조가 형성되지 않을 수 있다. 반면에 각 성분들이 최소 함량 미만이면 법랑 코팅층의 내구성이 저하될 수 있다.

또한, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 청소 성능을 극대화하고 또한 법랑 코팅층의 내구성 저하를 방지하기 위해서, 상기 MoO₃ 1~10 중량%; 및 상기 CuO 1~5 중량%;를 포함할 수 있다. 포스페이트계 법랑 조성물은 특히 Mo와 Cu를 동시에 포함할 때 청소 성능이 극대화된다. 상기 MoO₃ 가 10 중량%를 초과하고 상기 CuO가 5 중량%를 초과하면 타 성분의 첨가량이 줄어들어 법랑의 유리화가 어려워지고 내구성이 저하될 수 있다. 반대로, 상기 MoO₃ 가 1 중량% 미만이고 상기 CuO가 1 중량% 미만이면 법랑의 청소 성능이 저하될 수 있다.

아울러, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 상기 MoO₃ 와 상기 Bi₂O₃ 를 모두 포함하는 경우 상기 MoO₃ 와 상기 Bi₂O₃ 가운데 어느 하나는 2중량% 이하로 포함하는 것이 바람직하다. Mo와 Bi는 포스페이트계 법랑 조성물 내에서 서로 충돌할 수 있고, 이에 따라 법랑 코팅층에 금속 결정이 석출될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 법랑 조성물에 Mo와 Bi가 동시에 포함되는 경우에는 각 성분 중 어느 하나가 2 중량% 이하로 포함되는 것이 바람직하다.

앞서 언급한 것처럼, 기존의 법랑 조성물은 450~500 ℃의 pyrolysis(열분해) 고온 조건에서 약 4시간 정도 가열하여야 청소가 가능하기 때문에 에너지 소비가 크다. 그러나, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 이상 언급한 신규의 조성비를 가짐으로써 450~500 ℃의 pyrolysis(열분해) 고온 조건에서 1시간 이내로 가열하더라도 당분이 함유된 당류 오염물의 청소가 가능하다. 이에 따라, 본 발명에 따른 법랑 조성물을 이용하는 경우 에너지 절감의 효과가 있고 청소 시간이 단축되는 효과가 있다. 아울러, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 오일류 오염물에 대한 청소 성능이 뛰어나다. 이에 따라 본 발명에 따른 법랑 조성물을 이용한 조리기기는 위생관리가 용이하다.

<법랑 조성물의 제조방법>

다음으로, 본 발명에 따른 법랑 조성물의 제조방법은 상술한 법랑 조성물 재료를 제공하는 단계; 상기 법랑 조성물 재료를 멜팅하는 단계; 상기 멜팅된 법랑 조성물 재료를 퀀칭하여 법랑 조성물을 형성하는 단계를 포함한다.

상기 법랑 조성물 재료를 충분히 혼합한 후, 상기 법랑 조성물 재료는 멜팅된다. 바람직하게는, 상기 법랑 조성물 재료는 1200~1400℃의 온도범위에서 멜팅 될 수 있다. 또한, 상기 법랑 조성물 재료는 1~2시간 동안 멜팅될 수 있다.

이후, 상기 멜팅 된 법랑 조성물 재료는 칠러 등이 사용되어, 퀀칭 롤러에 의해 급냉시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 법랑 조성물이 형성될 수 있다.

<조리기기>

다음으로, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 상기 법랑 조성물을 코팅하고자 하는 대상 물체의 일 표면에 코팅될 수 있다. 상기 대상 물체는 금속 플레이트, 유리 플레이트, 조리기기의 일부, 또는 전부일 수 있다. 바람직하게는, 조리기기의 캐비티의 내면 또는 조리기기의 도어의 내면에 코팅될 수 있다.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 조리기기(1)는, 조리실이 형성되는 캐비티(11), 상기 조리실을 선택적으로 개폐하는 도어(14), 상기 조리실에서의 조리물의 가열을 위한 열을 제공하는 적어도 1개의 가열원(13, 15, 16) 및 상기 캐비티(11)의 내면 또는 도어(14)의 내면에 코팅되는 본 발명에 따른 법랑 조성물에 의하여 형성되는 코팅층을 포함한다.

상기 캐비티(11)는 전면이 개구되는 육면체 형상으로 형성될 수 있다. 상기 가열원(13,15,16)은 상기 캐비티(11) 내부로 가열된 공기가 토출되도록 하는 컨벡션 어셈블리(13), 상기 캐비티(11)의 상부에 배치되는 상부 히터(15), 및 상기 캐비티(11)의 하부에 배치되는 하부 히터(16)를 포함할 수 있다. 상기 상부 히터(15) 및 상기 하부 히터(16)는 상기 캐비티(11)의 내부 또는 외부에 구비될 수 있다. 물론, 상기 가열원(13, 15,16)이 반드시 상기 컨벡션 어셈블리(13), 상부 히터(15) 및 하부 히터(16)를 포함하여야 하는 것은 아니다. 즉, 상기 가열원(13,15,16)은 상기 컨벡션 셈블리(13), 상부 히터(15) 및 하부 히터(16) 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.

한편, 도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 건식 공정 또는 습식 공정에 의해 상기 조리기기(1)의 상기 캐비티(11)의 내면 또는 상기 도어(14)의 내면에 코팅될 수 있다. 상기 캐비티(11) 및 상기 도어(14)는 금속 플레이트로 형성될 수 있고, 본 발명에 따른 법랑 조성물을 이용한 상기 코팅층(17)(18)은 상기 금속 플레이트에 단일층으로 직접 코팅될 수 있다.

상기 건식 공정에서는 상기 법랑 조성물 재료가 유기 바인더에 분산되고, 혼합된 상기 법랑 조성물 재료와 유기 바인더가 볼 밀에서 밀링되어, 유리 프릿(frit)이 제조될 수 있다. 반면, 상기 습식 공정에서는 상기 법랑 조성물 재료가 물(H₂O)과 안료(Pigment)에 분산되고, 혼합된 상기 법랑 조성물 재료와 물(H₂O), 안료(Pigment)는 볼 밀에서 밀링되어, 유리 프릿(frit)이 제조될 수 있다.

이후, 상기 건식 공정 및 상기 습식 공정에 따른 상기 유리 프릿(frit)은 스프레이 방식에 의해, 상기 조리기기(1)의 상기 캐비티(11)의 내면 또는 상기 도어(14)의 내면에 도포될 수 있다. 상기 도포된 유리 프릿(frit)은 600~900℃의 온도범위에서 100~450초 동안 소성되어, 상기 조리기기(1)의 상기 캐비티(11)의 내면 또는 상기 도어(14)의 내면에 코팅될 수 있다.

이하, 실시예를 통해 본 발명의 구체적인 태양을 살펴보기로 한다.

< 실시예 >

<법랑 조성물의 제조>

하기 표 1에 기재된 조성비를 갖는 법랑 조성물을 제조하였다. 각 성분의 원재료들을 V-혼합기(V-mixer)에서 3시간 동안 충분히 혼합하였다. 여기서, P₂O₅의 원재료는 NH₄H₂PO₄를 사용하였고, Na₂O, K₂O, Li₂O의 원재료는 각각 Na₂CO₃, K₂CO₃, Li₂CO₃를 사용하였다. 혼합된 재료를 1300℃에서 1시간 30분 동안 충분히 용융시키고, 퀀칭 롤러(quenching roller)에서 급냉 시킨 후 유리 컬릿을 수득하였다.

상기 과정으로 수득한 유리 컬릿을 분쇄기(ball mill)로 초기 입도를 제어 후 젯밀을 이용하여 약 5시간 동안 분쇄 후 325 메쉬 시브(ASTM C285-88)에 통과시켜 입경을 45㎛이하로 제어하여, 프릿(frit, powder)을 제조하였다.

[표 1]

<법랑 조성물 시편 제조>

실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 2에 따른 법랑 조성물을 이용하여 제조한 프릿(frit)들을 각각 200×200(mm) 및 두께 1(mm)이하의 저탄소강 시트에 코로나 방전 건(Corona discharge gun)을 이용하여 스프레이 하였다. 방전 건의 전압은 40 kV 내지 100 kV 조건으로 제어하였으며, 저탄소강 시트에 스프레이 되는 프릿(frit)의 양은 300g/㎡ 이었다. 상기 프릿(frit)이 스프레이 된 저탄소강을 830℃ 내지 870 ℃의 온도조건으로 300초 내지 450초 동안 소성하여 저탄소강의 일면 상에 코팅층을 형성하였다. 이때, 상기 코팅층은 약 80㎛ 내지 250㎛의 두께로 형성되었다. 이를 통해, 실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 3에 따른 시편을 제조하였다.

< 실험예 >

상기 실시예 및 비교예에 따른 시편에 대해 하기와 같이 성능 평가를 수행하였고, 그 결과를 표 4에 기재하였다.

1. 닭기름 오염물에 대한 청소성능

금속 기판(100×100(mm))에 법랑 조성물이 코팅된 시편 표면에 오염물질로서 닭 기름 1g을 골고루 얇게 브러쉬(Brush)로 바른 다음, 오염물이 도포된 시편을 항온기 속에 넣고, 250~290℃의 온도범위에서 1시간 동안 오염물을 고착화시켰다. 오염물의 고착화 이후, 시편을 자연 냉각하고 400℃에서 1시간 동안 오염물을 태웠다. 이후 상온수를 적신 후라이팬 전용 수세미로 3kgf 이하의 힘으로 경화된 오염물을 닦았다. 지름 5cm의 바닥이 평탄한 봉을 사용하여 오염된 시편 표면에서 닦아지는 부분을 균일화 하였다.

2. 몬스터 매쉬에 대한 청소성능

또한, 몬스터 매쉬(Monster mash)에 대한 청소성능도 앞선 방법과 동일하게 측정하였다.

상기 시편들에 이때 닦은 왕복 횟수를 측정하여 이를 청소 왕복 횟수로 정의하며, 청소성능평가 지표는 표2에 기재하였다.

[표 2]

3. 내구성 평가

위 2번 항목에 따른 청소 시험을 마친 시편들을 대상으로 내열성 및 내화학성과 같은 내구성을 평가하였다. 각 시편들의 내구성은 stain 현상을 확인하는 방식으로 평가하였다. 상기 시편들이 표면을 살펴보고, 전체 표면 면적 대비 남아 있는 잔여물 또는 흔적의 면적 비율을 수치화하여 stain 현상을 평가하였다. stain 현상의 평가 기준은 표 3에 기재된 바와 같다.

[표 3]

[표 4]

상기 표 4에 기재된 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예들은 청소성능이 우수할 뿐만 아니라 내구성도 우수한 것을 확인할 수 있었다.

상기 비교예들은 실시예와 비교하여 최적의 조성을 갖지 못한 관계로 청소 성능이 저하되고 불안정한 유리 조성에 의해 내구성도 매우 불만족스러운 것으로 확인되었다.

이상과 같이 본 발명에 대해 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 통상의 기술자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 자명하다. 아울러 앞서 본 발명의 실시예를 설명하면서 본 발명의 구성에 따른 작용 효과를 명시적으로 기재하여 설명하지 않았을 지라도, 해당 구성에 의해 예측 가능한 효과 또한 인정되어야 함은 당연하다.

1 : 조리기기
11 : 캐비티
12 : 조리실
13 : 컨벡션 어셈블리
14 : 도어
15 : 상부 히터
16 : 하부 히터
17, 18 : 코팅층

Claims

P₂O₅ 15~50 중량%;
SiO₂ 10~20 중량%;
B₂O₃ 1~15 중량%;
Li₂O, Na₂O, 및 K₂O 가운데 1종 이상 5~20 중량%;
NaF, CaF₂, 및 AlF₃ 가운데 1종 이상 1~5 중량%;
MgO, BaO, 및 CaO 가운데 1종 이상 1~35 중량%; 및
TiO₂, CeO₂, MoO₃, Bi₂O₃ 및 CuO 가운데 1종 이상 10~25 중량%를 포함하고,
상기 MoO₃와 상기 Bi₂O₃ 를 모두 포함하고,
상기 MoO₃와 상기 Bi₂O₃ 가운데 어느 하나는 2중량% 이하로 포함되는
법랑 조성물.
제 1항에 있어서,
Al₂O₃ 1~20 중량%;
ZrO₂ 1~5 중량%; 및
SnO 및 ZnO 가운데 1종 이상 1~10 중량%;를 더 포함하는
법랑 조성물.
제 1항에 있어서
상기 MoO₃ 1~10 중량%; 및
상기 CuO 1~5 중량%;를 포함하는
법랑 조성물.
삭제
P₂O₅ 15~50 중량%;
SiO₂ 10~20 중량%;
B₂O₃ 1~15 중량%;
Li₂O, Na₂O, 및 K₂O 가운데 1종 이상 5~20 중량%;
NaF, CaF₂, 및 AlF₃ 가운데 1종 이상 1~5 중량%;
MgO, BaO, 및 CaO 가운데 1종 이상 1~35 중량%; 및
TiO₂, CeO₂, MoO₃, Bi₂O₃ 및 CuO 가운데 1종 이상 10~25 중량%를 포함하고
상기 MoO₃와 상기 Bi₂O₃ 를 모두 포함하고,
상기 MoO₃와 상기 Bi₂O₃ 가운데 어느 하나는 2중량% 이하로 포함되는 법랑 조성물 재료를 제공하는 단계;
상기 법랑 조성물 재료를 멜팅하는 단계;
상기 멜팅된 법랑 조성물 재료를 퀀칭 롤러에서 냉각하여, 법랑 조성물을 형성하는 단계를 포함하는
법랑 조성물의 제조방법.
제 5항에 있어서,
Al₂O₃ 1~20 중량%;
ZrO₂ 1~5 중량%; 및
SnO 및 ZnO 가운데 1종 이상 1~10 중량%;를 더 포함하는
법랑 조성물의 제조방법.
제 5항에 있어서
상기 MoO₃ 1~10 중량%; 및
상기 CuO 1~5 중량%;를 포함하는
법랑 조성물의 제조방법.
삭제
조리실이 형성되는 캐비티;
상기 조리실을 선택적으로 개폐하는 도어;
상기 조리실에서의 조리물의 가열을 위한 열을 제공하는 적어도 1개의 가열원; 및
상기 캐비티의 내면 또는 상기 도어의 내면에 코팅되는 제1항의 법랑 조성물에 의하여 형성되는 코팅층을 포함하는,
조리기기.