KR101943448B1 - Light emitting device package - Google Patents
Light emitting device package Download PDFInfo
- Publication number
- KR101943448B1 KR101943448B1 KR1020120048975A KR20120048975A KR101943448B1 KR 101943448 B1 KR101943448 B1 KR 101943448B1 KR 1020120048975 A KR1020120048975 A KR 1020120048975A KR 20120048975 A KR20120048975 A KR 20120048975A KR 101943448 B1 KR101943448 B1 KR 101943448B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electrode
- region
- light emitting
- lead electrode
- emitting device
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 65
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 27
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 92
- 239000000463 material Substances 0.000 description 29
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 6
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 5
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 4
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L iron(ii) gluconate Chemical compound [Fe+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229910019897 RuOx Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002248 hydride vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZLPZFLXRVRDAE-UHFFFAOYSA-N [O--].[O--].[O--].[O--].[Al+3].[Zn++].[In+3] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[Al+3].[Zn++].[In+3] DZLPZFLXRVRDAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- SBYXRAKIOMOBFF-UHFFFAOYSA-N copper tungsten Chemical compound [Cu].[W] SBYXRAKIOMOBFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRHKULZDDYWVBE-UHFFFAOYSA-N indium;oxozinc;tin Chemical compound [In].[Sn].[Zn]=O HRHKULZDDYWVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N nickel(II) oxide Inorganic materials [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N trimethylindium Chemical compound C[In](C)C IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/62—Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73267—Layer and HDI connectors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Abstract
실시예에 따른 발광소자 패키지는 몸체; 상기 몸체에 배치된 제1 리드전극 및 제2 리드전극; 및 상기 몸체에 배치되고 상기 제1 리드전극 및 제2 리드전극과 전기적으로 연결된 발광소자;를 포함하고, 상기 발광소자는, 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형반 도체층을 포함하는 발광 구조물; 상기 제1 도전형 반도체층 상의 제1 전극; 및 상기 제2 도전형 반도체층 상의 제2 전극을 포함하며, 상기 제2 리드전극은 제1 영역 및 상기 제1 영역의 발광소자가 위치하는 면으로부터 상방향으로 확장하여 형성되는 제2 영역을 포함하고, 상기 제2 영역은 상기 발광소자의 제1 전극과 전기적으로 연결되며, 상기 제1 리드전극은 상기 발광소자의 제2 전극과 전기적으로 연결된다.A light emitting device package according to an embodiment includes a body; A first lead electrode and a second lead electrode disposed on the body; And a light emitting element disposed in the body and electrically connected to the first lead electrode and the second lead electrode, wherein the light emitting element includes a first conductive type semiconductor layer, an active layer, and a second conductive type semiconductor layer A light emitting structure; A first electrode on the first conductive type semiconductor layer; And a second electrode on the second conductive type semiconductor layer, wherein the second lead electrode includes a first region and a second region extending upward from a surface on which the light emitting element of the first region is located The second region is electrically connected to the first electrode of the light emitting device, and the first lead electrode is electrically connected to the second electrode of the light emitting device.
Description
실시예는 발광소자 패키지에 관한 것이다.An embodiment relates to a light emitting device package.
반도체의 3-5족 또는 2-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Ligit Emitting Diode)나 레이저 다이오드와 같은 발광소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 색을 구현할 수 있으며, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광선도 구현이 가능하며, 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경친화성의 장점을 가진다.BACKGROUND ART Light emitting devices such as a light emitting diode (LD) or a laser diode using semiconductor materials of Group 3-5 or 2-6 group semiconductors are widely used for various colors such as red, green, blue, and ultraviolet And it is possible to realize white light rays with high efficiency by using fluorescent materials or colors, and it is possible to realize low energy consumption, semi-permanent life time, quick response speed, safety and environment friendliness compared to conventional light sources such as fluorescent lamps and incandescent lamps .
따라서, 광 통신 수단의 송신 모듈, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트를 구성하는 냉음극관(CCFL: Cold Cathode Fluorescence Lamp)을 대체하는 발광 다이오드 백라이트, 형광등이나 백열 전구를 대체할 수 있는 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 및 신호등에까지 응용이 확대되고 있다.Therefore, a transmission module of the optical communication means, a light emitting diode backlight replacing a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) constituting a backlight of an LCD (Liquid Crystal Display) display device, a white light emitting element capable of replacing a fluorescent lamp or an incandescent lamp Diode lighting, automotive headlights, and traffic lights.
도 1은 와이어 본딩된 일반적인 발광소자 패키지의 이미지를 나타낸 도면이다.1 is a view showing an image of a general light emitting device package which is wire-bonded.
발광소자는 일반적으로 기판 상에 실장되어 패키지 형태로 사용되며, 외부로부터 전류를 공급받기 위하여 와이어를 이용해 기판과 전기적으로 연결된다.The light emitting device is generally mounted on a substrate and used in a package form, and is electrically connected to the substrate using a wire to receive an electric current from the outside.
그러나, 패키지의 제작 공정에서 발광소자와 와이어 간의 부착력이 약화되거나, 패키지의 몰딩 공정에서 사용된 수지의 열적 팽창 또는 수축 등에 의하여 와이어 필링 현상이 빈번하게 발생하는 문제점이 존재하였다.However, there has been a problem that the adhesion between the light emitting device and the wire is weakened in the manufacturing process of the package, or the wire filling phenomenon frequently occurs due to thermal expansion or contraction of the resin used in the molding process of the package.
실시예는 발광소자 패키지의 신뢰성을 향상시키고자 한다.The embodiment intends to improve the reliability of the light emitting device package.
실시예에 따른 발광소자 패키지는 몸체; 상기 몸체에 배치된 제1 리드전극 및 제2 리드전극; 및 상기 몸체에 배치되고 상기 제1 리드전극 및 제2 리드전극과 전기적으로 연결된 발광소자;를 포함하고, 상기 발광소자는, 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형반 도체층을 포함하는 발광 구조물; 상기 제1 도전형 반도체층 상의 제1 전극; 및 상기 제2 도전형 반도체층 상의 제2 전극을 포함하며, 상기 제2 리드전극은 제1 영역 및 상기 제1 영역의 발광소자가 위치하는 면으로부터 상방향으로 확장하여 형성되는 제2 영역을 포함하고, 상기 제2 영역은 상기 발광소자의 제1 전극과 전기적으로 연결되며, 상기 제1 리드전극은 상기 발광소자의 제2 전극과 전기적으로 연결된다.A light emitting device package according to an embodiment includes a body; A first lead electrode and a second lead electrode disposed on the body; And a light emitting element disposed in the body and electrically connected to the first lead electrode and the second lead electrode, wherein the light emitting element includes a first conductive type semiconductor layer, an active layer, and a second conductive type semiconductor layer A light emitting structure; A first electrode on the first conductive type semiconductor layer; And a second electrode on the second conductive type semiconductor layer, wherein the second lead electrode includes a first region and a second region extending upward from a surface on which the light emitting element of the first region is located The second region is electrically connected to the first electrode of the light emitting device, and the first lead electrode is electrically connected to the second electrode of the light emitting device.
상기 발광소자의 제1 전극의 상면의 높이는 상기 제2 리드전극의 제2 영역의 상면의 높이와 대응되거나 상기 제2 리드전극의 제2 영역의 상면의 높이보다 낮을 수 있다.The height of the upper surface of the first electrode of the light emitting device may be equal to the height of the upper surface of the second region of the second lead electrode or be lower than the height of the upper surface of the second region of the second lead electrode.
상기 제2 리드전극의 제2 영역과 상기 발광소자 사이에는 패시베이션층이 위치할 수 있다.A passivation layer may be disposed between the second region of the second lead electrode and the light emitting device.
상기 제2 리드전극은 상기 제1 영역과 상기 제2 영역 사이에 적어도 하나의 절곡부를 포함할 수 있다.The second lead electrode may include at least one bent portion between the first region and the second region.
상기 제1 도전형 반도체층 상에 위치하는 제1 블록킹부를 더 포함할 수 있다.And a first blocking portion positioned on the first conductive semiconductor layer.
상기 제2 리드전극의 제2 영역 상에 위치하는 제2 블록킹부를 더 포함할 수 있다.And a second blocking portion positioned on a second region of the second lead electrode.
상기 제1 전극 및 상기 제2 리드전극의 제2 영역 상에 위치하며, 상기 제1전극 및 상기 제2 리드전극을 전기적으로 연결하는 제1 도전성 부재를 포함할 수 있다.And a first conductive member located on a second region of the first electrode and the second lead electrode and electrically connecting the first electrode and the second lead electrode.
상기 발광소자는 적어도 일부가 선택적으로 식각되어 형성된 노출면을 포함하고, 상기 제1 전극은 상기 발광소자의 측면을 따라 상기 노출면까지 연장되어 위치할 수 있다.The light emitting device may include an exposed surface formed by selectively etching at least a portion of the light emitting device, and the first electrode may extend to the exposed surface along a side surface of the light emitting device.
상기 노출면 상에 위치하는 제1 전극의 상면의 높이는 상기 제2 리드전극의 제2 영역의 상면의 높이와 대응되거나 상기 제2 리드전극의 제2 영역의 상면의 높이보다 낮을 수 있다.The height of the top surface of the first electrode located on the exposed surface may be equal to the height of the top surface of the second region of the second lead electrode or may be lower than the height of the top surface of the second region of the second lead electrode.
상기 제1 리드전극은 제3 영역 및 상기 제3 영역의 일면에서 확장하여 형성되는 제4 영역을 포함하고, 상기 제4 영역은 상기 발광소자의 제2 전극과 전기적으로 연결될 수 있다.The first lead electrode may include a third region and a fourth region extending from one surface of the third region, and the fourth region may be electrically connected to the second electrode of the light emitting device.
상기 발광소자의 제2 전극의 상면의 높이는 상기 제1 리드전극의 제4 영역의 상면의 높이와 대응되거나 상기 제1 리드전극의 제4 영역의 상면의 높이보다 낮을 수 있다.The height of the upper surface of the second electrode of the light emitting device may be equal to the height of the upper surface of the fourth region of the first lead electrode or lower than the height of the upper surface of the fourth region of the first lead electrode.
상기 제1 리드전극의 제4 영역과 상기 발광소자 사이에는 패시베이션층이 위치할 수 있다.A passivation layer may be positioned between the fourth region of the first lead electrode and the light emitting device.
상기 제1 리드전극은 상기 제3 영역과 상기 제4 영역 사이에 적어도 하나의 절곡부를 포함할 수 있다.The first lead electrode may include at least one bent portion between the third region and the fourth region.
상기 제2 도전형 반도체층 상에 위치하는 제1 블록킹부를 더 포함할 수 있다.And a first blocking portion located on the second conductive type semiconductor layer.
상기 제1 리드전극의 제4 영역 상에 위치하는 제2 블록킹부를 더 포함할 수 있다.And a second blocking portion positioned on a fourth region of the first lead electrode.
상기 제2 전극 및 상기 제1 리드전극의 제4 영역 상에 위치하며 상기 제2 전극 및 상기 제1 리드전극을 전기적으로 연결하는 제2 도전성 부재를 포함할 수 있다.And a second conductive member located on the fourth region of the second electrode and the first lead electrode and electrically connecting the second electrode and the first lead electrode.
실시예에 따르면 와이어를 사용하지 않고 발광소자와 전극을 연결하므로, 와이어 필링 현상을 방지하여 발광소자 패키지의 신뢰성이 향상될 수 있다.According to the embodiment, since the light emitting element and the electrode are connected without using a wire, the wire filling phenomenon can be prevented, and the reliability of the light emitting device package can be improved.
도 1은 와이어 본딩된 일반적인 발광소자 패키지의 이미지를 나타낸 도면.
도 2는 일실시예에 따른 발광소자 패키지의 측단면도.
도 3은 제1 실시예에 따른 발광소자 패키지 일부를 확대하여 도시한 상면도.
도 4는 도 3의 발광소자 패키지의 측단면도.
도 5는 제2 실시예에 따른 발광소자 패키지의 일부분을 확대하여 도시한 측단면도.
도 6은 제3 실시예에 따른 발광소자 패키지의 일부분을 확대하여 도시한 측단면도.
도 7은 제4 실시예에 따른 발광소자 패키지의 일부분을 확대하여 도시한 측단면도.
도 8은 실시예에 따른 발광소자 패키지가 배치된 헤드 램프의 일실시예를 도시한 도면.
도 9는 실시예에 따른 발광소자 패키지가 배치된 표시장치의 일실시예를 도시한 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view showing an image of a general light emitting device package wire-bonded. FIG.
2 is a side cross-sectional view of a light emitting device package according to one embodiment.
3 is an enlarged top view of a part of a light emitting device package according to the first embodiment;
4 is a side sectional view of the light emitting device package of Fig.
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional side view of a portion of a light emitting device package according to a second embodiment; FIG.
6 is an enlarged side cross-sectional view of a portion of a light emitting device package according to a third embodiment;
7 is an enlarged side sectional view of a portion of a light emitting device package according to a fourth embodiment;
8 is a view illustrating an embodiment of a headlamp in which a light emitting device package according to an embodiment is disposed.
9 is a view illustrating a display device in which a light emitting device package according to an embodiment is disposed.
이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other objects, features and advantages of the present invention will be more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG.
본 발명에 따른 실시예의 설명에 있어서, 각 element의 " 상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 “상(위) 또는 하(아래)(on or under)”으로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다. 또한 실시예의 설명에 있어서, 제1 리드전극 및 제2 리드전극은 각각 캐소드 및 애노드 전극일 수 있으며, 그 반대로 제1 리드전극 및 제2 리드전극이 각각 애노드 및 캐소드 전극일 수도 있다.In the description of the embodiment according to the present invention, in the case of being described as being formed "on or under" of each element, the upper (upper) or lower (lower) or under are all such that two elements are in direct contact with each other or one or more other elements are indirectly formed between the two elements. Also, when expressed as "on or under", it may include not only an upward direction but also a downward direction with respect to one element. Also, in the description of the embodiment, the first lead electrode and the second lead electrode may be a cathode and an anode, respectively, and conversely, the first lead electrode and the second lead electrode may be an anode and a cathode, respectively.
도면에서 각층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기는 실제크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.The thickness and size of each layer in the drawings are exaggerated, omitted, or schematically shown for convenience and clarity of explanation. Also, the size of each component does not entirely reflect the actual size.
도 2는 일실시예에 따른 발광소자 패키지의 측단면도이다.2 is a side cross-sectional view of a light emitting device package according to one embodiment.
일실시예에 따른 발광소자 패키지는 몸체(200)와, 상기 몸체(200)에 배치된 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400), 및 상기 몸체(200)에 배치되고 상기 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400)과 전기적으로 연결된 발광소자(100)를 포함한다.A light emitting device package according to an embodiment includes a
몸체(200)는 실리콘 재질, 합성수지 재질, 또는 금속 재질을 포함하여 형성될 수 있다. 상기 몸체(200)가 금속 재질 등 도전성 물질로 이루어지면, 도시되지는 않았으나 상기 몸체(200)의 표면에 절연층이 코팅되어 상기 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400) 간의 전기적 단락을 방지할 수 있다.The
상기 몸체(200)에 발광소자(100)가 배치되며, 몸체(200)에 캐비티(210)가 형성되어 상기 캐비티(210) 내에 발광소자(100)가 위치할 수 있다.A
발광소자(100)는 복수의 화합물 반도체층, 예를 들어 3족-5족 원소의 반도체층을 이용한 LED(Light Emitting Diode)를 포함하며, LED는 청색, 녹색 또는 적색 등과 같은 광을 방출하는 유색 LED이거나 UV LED일 수 있다. LED의 방출 광은 다양한 반도체를 이용하여 구현될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The
제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400)은 서로 전기적으로 분리되며, 발광소자(100)에 전류를 공급한다. 또한, 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400)은 발광소자(100)에서 발생된 광을 반사시켜 광 효율을 증가시킬 수도 있으며, 발광소자(100)에서 발생된 열을 외부로 배출시킬 수도 있다.The
실시예에 따르면, 발광소자(100)는 와이어를 사용하지 않고 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400)과 전기적으로 연결되며, 이에 관해서는 후술한다.According to the embodiment, the
발광소자(100)는 몸체(200) 상에 위치하거나, 제1 리드전극(300) 상에 위치하여 제1 리드전극(300)과 직접 통전할 수 있다.The
몸체(200)에는 상기 발광소자(100)를 포위하는 몰딩부(500)가 형성될 수 있다. 몸체(200)에 캐비티(210)가 있는 경우, 캐비티(210)를 채우도록 몰딩부(500)가 형성될 수 있다.The
몰딩부(500)는 발광소자(100)를 보호하며, 형광체를 포함하여 발광소자(100)에서 방출되는 빛의 파장을 변환할 수 있다.The
형광체는 가넷(Garnet)계 형광체, 실리케이트(Silicate)계 형광체, 니트라이드(Nitride)계 형광체, 또는 옥시니트라이드(Oxynitride)계 형광체를 포함할 수 있다.The phosphor may include a garnet-based phosphor, a silicate-based phosphor, a nitride-based phosphor, or an oxynitride-based phosphor.
예를 들어, 상기 가넷계 형광체는 YAG(Y3Al5O12:Ce3 +) 또는 TAG(Tb3Al5O12:Ce3 +)일 수 있고, 상기 실리케이트계 형광체는 (Sr,Ba,Mg,Ca)2SiO4:Eu2 +일 수 있고, 상기 니트라이드계 형광체는 SiN을 포함하는 CaAlSiN3:Eu2 +일 수 있고, 상기 옥시니트라이드계 형광체는 SiON을 포함하는 Si6 - xAlxOxN8 -x:Eu2 +(0<x<6)일 수 있다.For example, the garnet-base phosphor is YAG (Y 3 Al 5 O 12 : Ce 3 +) or TAG: may be a (Tb 3 Al 5 O 12 Ce 3 +), wherein the silicate-based phosphor is (Sr, Ba, Mg, Ca) 2 SiO 4 : Eu 2 + , and the nitride phosphor may be CaAlSiN 3 : Eu 2 + containing SiN, and the oxynitride phosphor may be Si 6 - x Al x O x N 8 -x: Eu 2 + (0 <x <6) can be.
발광소자(100)에서 발생된 제1 파장 영역의 광이 형광체에 의하여 여기되어 제2 파장 영역의 광으로 변환되고, 상기 제2 파장 영역의 광은 렌즈(미도시)를 통과하면서 광경로가 변경될 수 있다.The light of the first wavelength range generated by the
이하에서는 상기 도 2의 A 부분을 확대하여 도시한 도면을 참조하여 실시예 별로 설명한다.Hereinafter, a portion A of FIG. 2 is enlarged and described with reference to the drawings.
도 3은 제1 실시예에 따른 발광소자 패키지 일부를 확대하여 도시한 상면도이고, 도 4는 도 3의 발광소자 패키지의 측단면도이다.FIG. 3 is an enlarged top view illustrating a part of a light emitting device package according to the first embodiment, and FIG. 4 is a side sectional view of the light emitting device package of FIG.
도 3 및 도 4를 참조하면, 제1 실시예에 따른 발광소자 패키지는 몸체(200), 상기 몸체(200)에 배치되는 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400), 및 상기 몸체(200)에 배치되며 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400)과 전기적으로 연결된 발광소자(100)를 포함한다.3 and 4, the light emitting device package according to the first embodiment includes a
발광소자(100)는 제1 도전형 반도체층(112)과 활성층(114) 및 제2 도전형 반도체층(116)을 포함하는 발광 구조물(110)과, 상기 제1 도전형 반도체층(112) 상의 제1 전극(140)과, 상기 제2 도전형 반도체층(116) 상의 제2 전극(120)을 포함한다.The
발광 구조물(110)은 예를 들어, 유기금속 화학 증착법(MOCVD; Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 화학 증착법(CVD; Chemical Vapor Deposition), 플라즈마 화학 증착법(PECVD; Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), 분자선 성장법(MBE; Molecular Beam Epitaxy), 수소화물 기상 성장법(HVPE; Hydride Vapor Phase Epitaxy) 등의 방법을 이용하여 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The light-
제1 도전형 반도체층(112)은 반도체 화합물로 형성될 수 있으며, 예를 들어 3족-5족 또는 2족-6족 등의 화합물 반도체로 형성될 수 있다. 또한 제1 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층(112)이 n형 반도체층인 경우, 상기 제1 도전형 도펀트는 n형 도펀트로서 Si, Ge, Sn, Se, Te 등을 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The first
제1 도전형 반도체층(112)은 예를 들어, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, AlInP, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, InP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.The first
제2 도전형 반도체층(116)은 반도체 화합물로 형성될 수 있으며, 예를 들어 제2 도전형 도펀트가 도핑된 3족-5족 화합물 반도체로 형성될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(126)은 예를 들어, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, AlInP, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, InP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(116)이 p형 반도체층인 경우, 상기 제2 도전형 도펀트는 p형 도펀트로서, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함할 수 있으나 이에 한정하지 않는다.The second
제1 도전형 반도체층(112)과 제2 도전형 반도체층(116) 사이에 활성층(114)이 위치한다.The
활성층(114)은 전자와 정공이 서로 만나서 활성층(발광층) 물질 고유의 에너지 밴드에 의해서 결정되는 에너지를 갖는 빛을 방출하는 층이다. 제1 도전형 반도체층(112)이 n형 반도체층이고 제2 도전형 반도체층(116)이 p형 반도체층인 경우, 상기 제1 도전형 반도체층(112)으로부터 전자가 주입되고 상기 제2 도전형 반도체층(116)으로부터 정공이 주입될 수 있다.The
활성층(114)은 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 양자선(Quantum-Wire) 구조, 또는 양자 점(Quantum Dot) 구조 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 활성층(124)은 트리메틸 갈륨 가스(TMGa), 암모니아 가스(NH3), 질소 가스(N2), 및 트리메틸 인듐 가스(TMIn)가 주입되어 다중 양자 우물 구조가 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The
활성층(114)이 다중 우물 구조로 형성되는 경우, 활성층(114)의 우물층/장벽층은 InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, GaP(InGaP)/AlGaP 중 어느 하나 이상의 페어 구조로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 상기 우물층은 상기 장벽층의 밴드 갭보다 좁은 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.InGaN / InGaN, GaN / AlGaN, InAlGaN / GaN, GaAs (InGaAs) / AlGaAs, GaP (InGaP ) / AlGaP, but the present invention is not limited thereto. The well layer may be formed of a material having a bandgap narrower than the bandgap of the barrier layer.
발광 구조물(110)은 그 하부에 위치하는 지지기판(130)에 의해 지지될 수 있다.The
지지기판(130)은 전기 전도성과 열 전도성이 높은 물질로 형성될 수 있고, 소정의 두께를 갖는 베이스 기판(substrate)일 수 있다.The
지지기판(130)은, 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 실리콘(Si), 텅스텐(W), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al)로 구성되는 군으로부터 선택되는 물질 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있으며, 또한, 금(Au), 구리합금(Cu Alloy), 니켈(Ni), 구리-텅스텐(Cu-W), 캐리어 웨이퍼(예: GaN, Si, Ge, GaAs, ZnO, SiGe, SiC, SiGe, Ga2O3 등) 또는 전도성 시트 등을 선택적으로 포함할 수 있다.The
제2 도전형 반도체층(116) 상의 제2 전극(120)과 도전성 지지기판(130)은 본딩층(132)에 의해 결합될 수 있다.The
본딩층(132)은 예를 들어, Au, Sn, In, Ag, Ni, Nb 및 Cu로 구성되는 군으로부터 선택되는 물질 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The
제2 전극(120)은 투명 전극층(122) 또는 반사층(124) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The
제2 도전형 반도체층(116)은 불순물 도핑 농도가 낮아 접촉 저항이 높으며 그로 인해 금속과의 오믹 특성이 좋지 못할 수 있으므로, 투명 전극층(122)은 이러한 오믹 특성을 개선하기 위한 것으로 반드시 형성되어야 하는 것은 아니다.Since the second
투명 전극층(122)은 투광성 전도층으로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO(In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 또는 Ni/IrOx/Au/ITO 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으나, 이러한 재료에 한정되지는 않는다.The
활성층(114)에서 생성된 빛은 발광소자(100)의 상부로도 진행하지만 발광소자(100)의 하부로도 진행하기 때문에, 발광 구조물(110)의 제2 도전형 반도체층(116) 방향에 반사층(124)이 위치하여 발광소자(100)의 하부로 진행하는 빛을 반사시켜 빛의 진행 경로를 변경할 수 있다.The light generated in the
반사층(124)은 우수한 반사율을 갖는 물질로 형성되며, Ag를 포함하여 이루어질 수 있다.The
제1 전극(140)은 제1 도전형 반도체층(112) 상의 적어도 일부에 위치하며, 다양한 패턴으로 형성될 수 있다.The
제1 전극(140)은 라인 형상, 루프 형상, 고리 형상 또는 프레임 형상 등으로 형성될 수 있으나, 이에 한정하지 않는다.The
제1 전극(140)은 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 구리(Cu) 또는 금(Au) 중 적어도 하나를 포함하여 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다.The
제1 실시예의 발광소자(100)는 수직형 발광소자이므로, 제1 리드전극(300) 상에 발광소자(100)가 실장되어 제1 리드전극(300)과 발광소자(100)의 제2 전극(120)이 직접 통전된다.The
발광소자(100)는 도전성 접착제(302)를 통해 제1 리드전극(300)에 부착되어 제1 리드전극(300)과 전기적으로 연결될 수 있다.The
제2 리드전극(400)은 제1 영역(410) 및 상기 제1 영역(410)과 연결된 제2 영역(420)을 포함하고, 상기 제2 영역(420)은 제1 도전성 부재(440)에 의해 발광소자(100)의 제1 전극(140)과 전기적으로 연결된다. 상기 제2 영역(420)은 상기 제1 영역(410)의 발광소자(100)가 위치하는 면으로부터 상방향으로 확장되어 형성될 수 있다.The second
종래에는 와이어를 이용하여 발광소자와 제2 리드전극을 연결하여 와이어 필링 현상이 종종 발생하였으나, 실시예에 따르면 와이어를 사용하지 않고 제2 리드전극(400)을 발광소자(100)의 제1 전극(140) 높이에 대응되도록 형성하여 도전성 부재(440)를 통해 전기적으로 연결하므로 발광소자 패키지의 신뢰성이 향상될 수 있다.In the related art, a wire filling phenomenon often occurs by connecting a light emitting element and a second lead electrode using a wire. However, according to the embodiment, the second
제2 리드전극(400)의 제1 영역(410)은 외부 전원과 연결되는 전극 역할을 하고, 제2 영역(420)은 발광소자(100)의 제1 전극(140)과 전기적으로 연결되어 발광소자(100)에 직접 전류를 공급하는 역할을 할 수 있다.The
제2 리드전극(400)의 제1 영역(410)과 제2 영역(420)은 일체로서 형성될 수도 있고, 별개의 영역으로 형성된 후 도전성 접착제에 의해 접착될 수도 있다.The
제2 리드전극(400)의 제1 영역(410)은 제1 리드전극(300)과 나란하게 위치하고, 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)은 발광소자(100)와 나란하게 위치하므로, 상기 제1 영역(410)과 제2 영역(420) 사이에 적어도 하나의 절곡부(450)가 존재할 수 있다.The
발광소자(100)의 제1 전극(140)은 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)과 인접한 발광소자(100)의 단부까지 연장되어 형성되고, 상기 제1 전극(140)과 상기 제2 영역(420) 상에 위치하는 제1 도전성 부재(440)에 의해 제1 전극(140)과 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)이 전기적으로 연결된다. 제1 도전성 부재(440)는 제1 전극(140)과 적어도 일부 중첩되어 위치할 수 있다.The
발광소자(100)의 제1 전극(140)의 상면의 높이는 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)의 상면의 높이와 대응되거나, 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)의 상면의 높이보다 낮을 수 있다.The height of the upper surface of the
즉, 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)이 발광소자(100)의 제1 전극(140)의 높이와 동일하거나 이보다 낮게 형성되고, 제1 전극(140)과 제2 영역(420) 상에 제1 도전성 부재(440)가 위치한다.That is, the
제1 도전성 부재(440)는 Ag를 포함할 수 있고, 페이스트 형태로 형성될 수 있다.The first
발광소자(100)의 제1 도전형 반도체층(112) 상에는 제1 도전성 부재(440)의 유동을 방지하는 제1 블록킹부(142)가 형성될 수 있다.A
제1 도전성 부재(440)가 발광소자(100)의 중앙 영역까지 흘러 들어갈 우려가 있으므로, 제1 전극(140)보다 높게 단차를 두어 제1 블록킹부(142)를 형성할 수 있다.Since the first
실시예에 따라, 제1 블록킹부(142)는 제1 전극(140)과 동일한 물질로 형성될 수 있고, 제1 전극(140)과 동시에 형성될 수 있다.The
제2 리드전극(400)의 제2 영역(420) 상에도 제1 도전성 부재(440)의 유동을 방지하는 제2 블록킹부(422)가 형성될 수 있다.A
제2 블록킹부(422)는 제2 영역(420)의 가장자리 둘레에 형성되며, 제2 리드전극(400)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.The
발광소자(100)의 측면 및 상면에는 패시베이션층(150)이 위치할 수 있다.The
도 4에는 외부로 노출된 발광소자(100)의 측면 및 상면 전부에 패시베이션층(150)이 형성된 것으로 도시하였으나, 발광소자(100)의 측면 및 상면의 적어도 일부에만 패시베이션층(150)이 형성될 수도 있다.4 illustrates that the
패시베이션층(150)은 발광소자(100)를 보호하고 층간 전기적 쇼트를 방지하는 역할을 한다. 패시베이션층(150)은 비전도성 산화물이나 질화물로 이루어질 수 있으며, 일 예로서, 실리콘 산화물(SiO2)층, 산화 질화물층, 또는 산화 알루미늄층으로 이루어질 수 있다.The
제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)과 발광소자(100)는 패시베이션층(150)을 사이에 두고 서로 접하여 배치될 수 있다.The
제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)은 발광소자(100)와 이격되어 배치되고 제1 전극(142) 부분에서만 접하여 제1 도전성 부재(440)를 통해 서로 전기적으로 연결될 수도 있으나, 도 4에 도시된 바와 같이, 발광소자(100)의 측면에 위치하는 패시베이션층(150)을 사이에 두고 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)과 발광소자(100)가 접하여 배치될 수도 있다.The
발광소자(100)와 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)이 접하여 배치되는 경우, 제1 도전성 부재(440)를 통한 전기적 연결이 더욱 견고하게 이루어져 발광소자 패키지의 신뢰성이 더욱 향상될 수 있다.In the case where the
도 3을 참조하면, 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)의 상면에, 전극 물질(430)을 얇게 도포한 후 도전성 부재(440)를 형성할 수도 있다. 전극 물질(430)을 도포함으로써 접촉 저항이 낮아져 발광소자(100)로의 전류 주입이 원활해질 수 있다.3, the
전극 물질(430)은 제1 전극(140)으로 사용되는 물질과 동일한 물질일 수 있고, 일반적으로 Au를 포함하여 이루어질 수 있다.The
도 5는 제2 실시예에 따른 발광소자 패키지의 일부분을 확대하여 도시한 측단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다.5 is an enlarged cross-sectional side view of a portion of the light emitting device package according to the second embodiment. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below.
제2 실시예에 따른 발광소자 패키지는 몸체(200), 상기 몸체(200)에 배치되는 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400), 및 상기 몸체(200)에 배치되며 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400)과 전기적으로 연결된 발광소자(100)를 포함한다.The light emitting device package according to the second embodiment includes a
발광소자(100)는 적어도 일부가 선택적으로 메사 식각될 수 있다. 도 5에는 일 예로서, 발광 구조물(110), 제2 전극(120) 및 본딩층(132)의 일부가 메사 식각된 것으로 도시하였으나, 이는 일 예시에 불과하고, 발광 구조물(110)의 일부만이 메사 식각될 수도 있다.At least a part of the
발광소자(100)의 제1 도전형 반도체층(112) 상의 적어도 일부에 제1 전극(140)이 위치하며, 상기 제1 전극(140)은 발광소자(100)의 측면을 따라, 메사 식각에 의하여 형성된 노출면(160)까지 연장되어 형성될 수 있다.The
이때, 제1 전극(140)과 그 외 발광소자(100)의 다른 부분 사이에는 패시베이션층(150)이 위치하여 층간의 전기적 쇼트를 방지할 수 있다.At this time, the
제2 리드전극(400)은 제1 영역(410) 및 상기 제1 영역(410)과 연결된 제2 영역(420)을 포함하고, 상기 제2 영역(420)은 제1 도전성 부재(440)에 의해 발광소자(100)의 제1 전극(140)과 전기적으로 연결된다.The second
제2 리드전극(400)의 제1 영역(410)은 외부 전원과 연결되는 전극 역할을 하고, 제2 영역(420)은 발광소자(100)의 제1 전극(140)과 전기적으로 연결되어 발광소자(100)에 직접 전류를 공급하는 역할을 할 수 있다.The
제2 리드전극(400)의 제1 영역(410)과 제2 영역(420)은 일체로서 형성될 수도 있고, 별개의 영역으로 형성된 후 도전성 접착제에 의해 접착될 수도 있다.The
제2 리드전극(400)의 제1 영역(410)은 제1 리드전극(300)과 나란하게 위치하고, 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)은 발광소자(100)와 나란하게 위치하므로, 상기 제1 영역(410)과 제2 영역(420) 사이에 적어도 하나의 절곡부(450)가 존재할 수 있다.The
메사 식각에 의하여 노출된 발광소자(100)의 노출면 상에 위치한 제1 전극(140)의 상면의 높이는 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)의 상면의 높이와 대응되거나, 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)의 상면의 높이보다 낮을 수 있다.The height of the top surface of the
즉, 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)이 발광소자(100)의 노출면(160) 상의 제1 전극(140)의 높이와 동일하거나 이보다 낮게 형성되고, 제1 전극(140)과 제2 영역(420) 상에 제1 도전성 부재(440)가 위치한다.That is, the
제2 리드전극(400)의 제2 영역(420) 상에 제2 블록킹부(422)가 형성될 수 있다. 제2 블록킹부(422)는 제2 영역(420)의 상면보다 높은 단차를 갖고 제2 영역(420)의 가장자리 둘레에 형성되어 제1 도전성 부재(440)의 유동을 방지할 수 있다.The
제2 블록킹부(422)는 키소드 전극(400) 또는 제1 리드전극(300)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.The
도 6은 제3 실시예에 따른 발광소자 패키지의 일부분을 확대하여 도시한 측단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다.6 is an enlarged cross-sectional side view of a portion of the light emitting device package according to the third embodiment. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below.
제3 실시예에 따른 발광소자 패키지는 몸체(200), 상기 몸체(200)에 배치되는 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400), 및 상기 몸체(200)에 배치되며 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400)과 전기적으로 연결된 발광소자(100)를 포함한다.The light emitting device package according to the third embodiment includes a
발광소자(100)는 적어도 일부가 선택적으로 메사 식각될 수 있다. 도 6에는 일 예로서, 발광 구조물(110) 중에서 제1 도전형 반도체층(112)의 일부만이 메사 식각된 것으로 도시하였으나, 이는 일 예시에 불과하고, 그 이외의 부분도 같이 식각될 수도 있다.At least a part of the
발광소자(100)의 제1 도전형 반도체층(112) 상의 적어도 일부에 제1 전극(140)이 위치하며, 상기 제1 전극(140)은 발광소자(100)의 측면을 따라, 메사 식각에 의하여 형성된 노출면(160)까지 연장되어 형성될 수 있다.The
이때, 제1 전극(140)과 그 외 발광소자(100)의 다른 부분 사이에는 패시베이션층(150)이 위치하여 층간의 전기적 쇼트를 방지할 수 있다.At this time, the
제2 리드전극(400)은 제1 영역(410) 및 상기 제1 영역(410)과 연결된 제2 영역(420)을 포함하고, 상기 제2 영역(420)은 제1 도전성 부재(440)에 의해 발광소자(100)의 제1 전극(140)과 전기적으로 연결된다.The second
제2 리드전극(400)의 제1 영역(410)과 제2 영역(420)은 일체로서 형성되지 않고 별개의 영역으로 형성된 후, 도전성 접착제(402)에 의해 접착될 수 있다.The
제3 실시예가 제2 실시예와 다른 점은, 외부로 노출되는 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)의 상부에 제1 도전성 부재(440)가 위치하는 것이 아니라, 제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)이 상기 발광소자(100)의 노출면(160)의 형상과 부합하도록 "ㄱ"자 단면 형상을 가져서, 상기 노출면(160)과 대응되는 면에 제1 도전성 부재(440)가 위치하여 제1 전극(140)과 제2 리드전극(400)이 전기적으로 연결된다는 점이다.The third embodiment differs from the second embodiment in that the first
제2 리드전극(400)의 제2 영역(420)은 패시베이션층(150)을 사이에 두고 발광소자(100)와 접하여 배치될 수 있다. 실시예에 따라, 제2 리드전극(400)의 제1 영역(410)은 발광소자(100)와 이격되어 위치할 수 있다.The
도 7은 제4 실시예에 따른 발광소자 패키지의 일부분을 확대하여 도시한 측단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다.7 is an enlarged cross-sectional side view of a portion of the light emitting device package according to the fourth embodiment. The contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the differences will be mainly described below.
제4 실시예에 따른 발광소자 패키지는 몸체(200), 상기 몸체(200)에 배치되는 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400), 및 상기 몸체(200)에 배치되며 제1 리드전극(300) 및 제2 리드전극(400)과 전기적으로 연결된 발광소자(100)를 포함한다.The light emitting device package according to the fourth embodiment includes a
제4 실시예에서, 상기 발광소자(100)는 수평형 발광소자이며, 제2 도전형 반도체층(116)과 활성층(114) 및 제1 도전형 반도체층(112)의 적어도 일부를 선택적으로 메사 식각하여 노출된 제1 도전형 반도체층(112) 상에 제1 전극(140)이 위치하여, 식각되지 않은 제2 도전형 반도체층(116) 상에 제2 전극(170)이 위치한다.In the fourth embodiment, the
제1 도전형 반도체층(112)과 활성층(114) 및 제2 도전형 반도체층(116)을 포함한 발광 구조물(110)은 성장기판(510) 상에 위치한다.The
성장기판(510)은 반도체 물질 성장에 적합한 재료, 열전도성이 뛰어난 물질로 형성될 수 있다. 성장기판(510)은 예를 들어, 사파이어(Al2O3), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge, and Ga203 중 적어도 하나를 사용할 수 있다. 성장기판(510)에 대해 습식세척을 하여 표면의 불순물을 제거할 수 있다.The
발광 구조물(100)과 성장기판(510) 사이에는 버퍼층(520)이 위치할 수 있는데, 버퍼층(520)은 재료의 격자 부정합 및 열팽창 계수의 차이를 완화하기 위한 것이다. 버퍼층(520)의 재료는 3족-5족 화합물 반도체, 예컨대, GaN, InN, AlN, InGaN, InAlGaN, AlInN 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.A
제2 리드전극(400)은 제1 영역(410) 및 상기 제1 영역(410)과 연결된 제2 영역(420)을 포함하고, 상기 제2 영역(420)은 제1 도전성 부재(440)에 의해 발광소자(100)의 제1 전극(140)과 전기적으로 연결된다.The second
제2 리드전극(400)과 제1 전극(140)의 연결은 상술한 제1 실시예와 유사하므로 다시 설명하지 않는다.Since the connection between the second
제1 리드전극(300)은 제3 영역(310) 및 상기 제3 영역(310)의 일면에서 확장하여 형성되는 제4 영역(320)을 포함하고, 상기 제4 영역(320)은 제2 도전성 부재(340)에 의해 발광소자(100)의 제2 전극(170)과 전기적으로 연결된다.The first
수평형 발광소자의 경우, 종래에는 두 개의 와이어를 사용하여 발광소자와 제1 리드전극 및 제2 리드전극을 각각 전기적으로 연결하였으나, 패키지 제작 과정 및 사용 과정에서 와이어 필링 현상이 종종 발생하였다.In the case of a horizontal type light emitting device, the light emitting device, the first lead electrode and the second lead electrode are electrically connected to each other by using two wires in the related art, but wire filling phenomenon often occurs during the manufacturing process and use of the package.
실시예에 따르면, 수평형 발광소자의 경우에도 와이어를 사용하지 않고 제1 리드전극(300)과 제2 리드전극(400)의 높이를 제2 전극(170) 및 제1 전극(140)과 각각 대응되도록 형성하여 도전성 부재(440, 340)를 통해 전기적으로 연결하므로 발광소자 패키지의 신뢰성이 향상될 수 있다.The height of the first
제1 리드전극(300)의 제3 영역(310)은 외부 전원과 연결되는 전극 역할을 하고, 제4 영역(320)은 발광소자(100)의 제2 전극(170)과 전기적으로 연결되어 발광소자(100)에 직접 전류를 공급하는 역할을 할 수 있다.The
제1 리드전극(300)의 제3 영역(310)과 제4 영역(320)은 일체로서 형성될 수도 있고, 별개의 영역으로 형성된 후 도전성 접착제에 의해 접착될 수도 있다.The
제1 리드전극(300)의 제3 영역(310)은 제2 리드전극(400)의 제1 영역(410)과 나란하게 위치하고, 제1 리드전극(300)의 제4 영역(320)은 발광소자(100)와 나란하게 위치하므로, 상기 제3 영역(310)과 제4 영역(320) 사이에 적어도 하나의 절곡부(350)가 존재할 수 있다.The
발광소자(100)의 제2 전극(170)은 제1 리드전극(300)의 제4 영역(320)과 인접한 발광소자(100)의 단부까지 연장되어 형성되고, 상기 제2 전극(170)과 상기 제4 영역(320) 상에 위치하는 제2 도전성 부재(340)에 의해 제2 전극(170)과 제1 리드전극(300)의 제4 영역(320)이 전기적으로 연결된다. 제2 도전성 부재(340)는 제2 전극(170)과 적어도 일부 중첩되어 위치할 수 있다.The
발광소자(100)의 제2 전극(170)의 상면의 높이는 제1 리드전극(300)의 제4 영역(320)의 상면의 높이와 대응거나, 제1 리드전극(300)의 제4 영역(320)의 상면의 높이보다 낮을 수 있다.The height of the upper surface of the
즉, 제1 리드전극(300)의 제4 영역(320)이 발광소자(100)의 제2 전극(170)의 높이와 동일하거나 이보다 낮게 형성되고, 제2 전극(170)과 제4 영역(320) 상에 제2 도전성 부재(340)가 위치한다.That is, the
제2 도전성 부재(340)는 상기 제1 도전성 부재(440)와 동일한 물질로 형성될 수 있고, Ag를 포함한 페이스트 형태로 형성될 수 있다.The second
발광소자(100)의 제2 도전형 반도체층(116) 상에는 제2 도전성 부재(340)의 유동을 방지하는 제1 블록킹부(172)가 형성될 수 있다.A
제2 도전성 부재(340)가 발광소자(100)의 중앙 영역까지 흘러 들어갈 우려가 있으므로, 제2 전극(170)보다 높게 단차를 두어 제1 블록킹부(172)를 형성할 수 있다.Since the second
제1 블록킹부(172)는 제1 도전형 반도체층(112) 상의 제1 블록킹부(142)와 동일한 물질로 형성될 수 있고, 제1 전극(140) 또는 제2 전극(170)과 동일한 물질로 형성될 수도 있다. 제1 블록킹부(172)는 제2 전극(170)과 동시에 형성될수 있다.The
제1 리드전극(300)의 제4 영역(320) 상에도 제2 도전성 부재(340)의 유동을 방지하는 제2 블록킹부(322)가 형성될 수 있다.A
제2 블록킹부(322)는 제1 리드전극(300)의 제4 영역(320)의 가장자리 둘레에 형성되며, 제1 리드전극(300) 또는 제2 리드전극(400)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.The
제2 블록킹부(322)는 제2 리드전극(400)의 제2 블록킹부(422)와 동일한 물질로 이루어질 수 있다.The
제1 리드전극(300)의 제4 영역(320)과 발광소자(100)는 패시베이션층(150)을 사이에 두고 서로 접하여 배치될 수 있다.The
제1 리드전극(300)의 제2 영역(320)은 발광소자(100)와 이격되어 배치되고 제2 전극(170) 부분에서만 접하여 제2 도전성 부재(340)를 통해 서로 전기적으로 연결될 수도 있으나, 도 7에 도시된 바와 같이, 발광소자(100)의 측면에 위치하는 패시베이션층(150)을 사이에 두고 제1 리드전극(300)의 제4 영역(320)과 발광소자(100)가 접하여 배치될 수도 있다.The
발광소자(100)와 제1 리드전극(300)의 제4 영역(320)이 접하여 배치되는 경우, 제2 도전성 부재(340)를 통한 전기적 연결이 더욱 견고하게 이루어져 발광소자 패키지의 신뢰성이 더욱 향상될 수 있다.In the case where the
도 3과 관련해 상술한 바와 같이, 제1 리드전극(300)의 제4 영역(320)의 상면에, 전극 물질을 얇게 도포한 후 제2 도전성 부재(340)를 형성할 수도 있다. 전극 물질을 도포함으로써 접촉 저항이 낮아져 발광소자(100)로의 전류 주입이 원활해질 수 있다.3, the electrode material may be thinly coated on the upper surface of the
이하에서는 상술한 발광소자 패키지가 배치된 조명 시스템의 일 실시예로서, 헤드 램프와 백라이트 유닛을 설명한다.Hereinafter, a head lamp and a backlight unit will be described as an embodiment of an illumination system in which the above-described light emitting device package is disposed.
도 8은 실시예에 따른 발광소자 패키지가 배치된 헤드 램프의 일실시예를 도시한 도면이다.8 is a view showing an embodiment of a headlamp in which a light emitting device package according to an embodiment is disposed.
도 8을 참조하면, 실시예에 따른 발광소자 패키지가 배치된 발광 모듈(710)에서 방출된 빛이 리플렉터(720)와 쉐이드(730)에서 반사된 후 렌즈(740)를 투과하여 차체 전방을 향할 수 있다.8, light emitted from the
상기 발광 모듈(710)에는 기판 상에 발광소자가 복수 개로 탑재된 발광소자 패키지를 포함할 수 있고, 상기 기판과 발광소자의 연결은 와이어를 사용하지 않고 상술한 실시예에 따라 이루어질 수 있다.The
도 9는 실시예에 따른 발광소자 패키지가 배치된 표시장치의 일실시예를 도시한 도면이다.FIG. 9 is a diagram illustrating a display device in which a light emitting device package according to an embodiment is disposed.
도 9를 참조하면, 실시예에 따른 표시장치(800)는 발광 모듈(830, 835)과, 바텀 커버(810) 상의 반사판(820)과, 상기 반사판(820)의 전방에 배치되며 상기 발광 모듈에서 방출되는 빛을 표시장치 전방으로 가이드하는 도광판(840)과, 상기 도광판(840)의 전방에 배치되는 제1 프리즘시트(850)와 제2 프리즘시트(860)와, 상기 제2 프리즘시트(860)의 전방에 배치되는 패널(870)과 상기 패널(870)의 전반에 배치되는 컬러필터(880)를 포함하여 이루어진다.9, the
발광 모듈은 회로 기판(830) 상의 상술한 발광소자 패키지(835)를 포함하여 이루어진다. 여기서, 회로 기판(830)은 PCB 등이 사용될 수 있고, 발광소자 패키지(835)는 도 11에서 설명한 바와 같다.The light emitting module includes the above-described light
상기 바텀 커버(810)는 표시 장치(800) 내의 구성 요소들을 수납할 수 있다. 상기 반사판(820)은 본 도면처럼 별도의 구성요소로 마련될 수도 있고, 상기 도광판(840)의 후면이나, 상기 바텀 커버(810)의 전면에 반사도가 높은 물질로 코팅되는 형태로 마련되는 것도 가능하다.The
여기서, 반사판(820)은 반사율이 높고 초박형으로 사용 가능한 소재를 사용할 수 있고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PolyEthylene Terephtalate; PET)를 사용할 수 있다.Here, the
도광판(840)은 발광소자 패키지 모듈에서 방출되는 빛을 산란시켜 그 빛이 액정 표시 장치의 화면 전영역에 걸쳐 균일하게 분포되도록 한다. 따라서, 도광판(830)은 굴절률과 투과율이 좋은 재료로 이루어지는데, 폴리메틸메타크릴레이트(PolyMethylMethAcrylate; PMMA), 폴리카보네이트(PolyCarbonate; PC), 또는 폴리에틸렌(PolyEthylene; PE) 등으로 형성될 수 있다. 그리고, 도광판이 생략되어 반사시트(820) 위의 공간에서 빛이 전달되는 에어 가이드 방식도 가능하다.The
상기 제1 프리즘 시트(850)는 지지필름의 일면에, 투광성이면서 탄성을 갖는 중합체 재료로 형성되는데, 상기 중합체는 복수 개의 입체구조가 반복적으로 형성된 프리즘층을 가질 수 있다. 여기서, 상기 복수 개의 패턴은 도시된 바와 같이 마루와 골이 반복적으로 스트라이프 타입으로 구비될 수 있다.The
상기 제2 프리즘 시트(860)에서 지지필름 일면의 마루와 골의 방향은, 상기 제1 프리즘 시트(850) 내의 지지필름 일면의 마루와 골의 방향과 수직할 수 있다. 이는 발광 모듈과 반사시트로부터 전달된 빛을 상기 패널(870)의 전방향으로 고르게 분산하기 위함이다.In the
본 실시예에서 상기 제1 프리즘시트(850)과 제2 프리즘시트(860)가 광학시트를 이루는데, 상기 광학시트는 다른 조합 예를 들어, 마이크로 렌즈 어레이로 이루어지거나 확산시트와 마이크로 렌즈 어레이의 조합 또는 하나의 프리즘 시트와 마이크로 렌즈 어레이의 조합 등으로 이루어질 수 있다.In the present embodiment, the
상기 패널(870)은 액정 표시 패널(Liquid crystal display)가 배치될 수 있는데, 액정 표시 패널(860) 외에 광원을 필요로 하는 다른 종류의 디스플레이 장치가 구비될 수 있다.A liquid crystal display (LCD) panel may be disposed on the
상기 패널(870)은, 유리 바디 사이에 액정이 위치하고 빛의 편광성을 이용하기 위해 편광판을 양 유리바디에 올린 상태로 되어있다. 여기서, 액정은 액체와 고체의 중간적인 특성을 가지는데, 액체처럼 유동성을 갖는 유기분자인 액정이 결정처럼 규칙적으로 배열된 상태를 갖는 것으로, 상기 분자 배열이 외부 전계에 의해 변화되는 성질을 이용하여 화상을 표시한다.In the
표시장치에 사용되는 액정 표시 패널은, 액티브 매트릭스(Active Matrix) 방식으로서, 각 화소에 공급되는 전압을 조절하는 스위치로서 트랜지스터를 사용한다.A liquid crystal display panel used in a display device is an active matrix type, and a transistor is used as a switch for controlling a voltage supplied to each pixel.
상기 패널(870)의 전면에는 컬러 필터(880)가 구비되어 상기 패널(870)에서 투사된 빛을, 각각의 화소마다 적색과 녹색 및 청색의 빛만을 투과하므로 화상을 표현할 수 있다.A
이상과 같이 실시예는 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, This is possible.
그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be determined by the equivalents of the claims, as well as the claims.
100: 발광소자 200: 몸체
300: 제1 리드전극 310: 제3 영역
210: 제4 영역 400: 제2 리드전극
410: 제1 영역 420: 제2 영역
500: 몰딩부 710: 발광 모듈
720: 리플렉터 730: 쉐이드
800: 표시장치 810: 바텀 커버
820: 반사판 840: 도광판
850: 제1 프리즘시트 860: 제2 프리즘시트
870: 패널 880: 컬러필터100: light emitting device 200: body
300: first lead electrode 310: third region
210: fourth region 400: second lead electrode
410: first region 420: second region
500: molding part 710: light emitting module
720: Reflector 730: Shade
800: Display device 810: Bottom cover
820: reflector 840: light guide plate
850: first prism sheet 860: second prism sheet
870: Panel 880: Color filter
Claims (16)
상기 몸체에 배치되어 제 3영역, 상기 제3 영역의 일면에서 확장하여 형성되는 제4 영역 및 상기 제3 영역과 상기 제4 영역 사이에 형성되는 적어도 하나의 절곡부를 포함하는 제1 리드 전극;
상기 몸체에 배치되어 상기 제1 리드 전극과 이격되고, 제1 영역, 상기 제1 영역의 일면에서 확장하여 형성되는 제2 영역 및 상기 제1 영역과 상기 제2 영역 사이에 형성되는 적어도 하나의 절곡부를 포함하는 제2 리드 전극; 및
상기 제2 리드 전극의 제1 영역의 상에 배치되는 발광소자를 포함하고,
상기 발광소자는,
상기 제2 리드전극 상에 배치되는 성장기판;
상기 성장기판 상에 배치되는 버퍼층;
상기 버퍼층 상에 배치되고, 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형반 도체층을 포함하는 발광 구조물;
상기 제1 도전형 반도체층의 적어도 일부가 선택적으로 식각되어 형성된 노출면 상에 배치되는 제1 전극;
상기 제2 도전형 반도체층 상에 배치되는 제2 전극;
상기 제1 전극 및 상기 제2 리드전극의 제2 영역 상에 위치하며, 상기 제1 전극 및 상기 제2 리드전극을 전기적으로 연결하는 제1 도전성 부재;
상기 제2 전극 및 상기 제1 리드전극의 제4 영역 상에 위치하며, 상기 제2 전극 및 상기 제1 리드전극을 전기적으로 연결하는 제2 도전성 부재; 및
상기 제1 리드전극의 제4 영역과 상기 발광소자 사이에 배치되고, 상기 제2 리드전극의 제2 영역과 상기 발광소자 사이에 배치되는 패시베이션층을 포함하고,
상기 제1,2 전극의 일부분이 각각 돌출되어 제1 블록킹부가 구비되고, 상기 제1,2 전극의 제1 블록킹부는 각각 제1,2 도전성 부재의 일단과 접촉하고,
상기 제1,2 리드 전극의 일부분이 각각 돌출되어 제2 블록킹부가 구비되고, 상기 제1 리드 전극의 제2 블록킹부는 상기 제2 도전성 부재의 일단과 접촉하고, 상기 제2 리드 전극의 제2 블록킹부는 상기 제1 도전성 부재의 일단과 접촉하고,
상기 제1 전극의 제1 블록킹부의 상면의 높이는 상기 제2 리드전극의 제2 영역의 상면의 높이 및 상기 제1 도전성 부재의 상면의 높이와 같고,
상기 제2 전극의 제1 블록킹부의 상면의 높이는 상기 제1 리드전극의 제4 영역의 상면의 높이 및 상기 제2 도전성 부재의 상면의 높이와 같고,
상기 제1 도전성 부재는 상기 제2 도전성 부재의 높이보다 높고,
상기 제1 도전성 부재는 상기 제1 전극과 적어도 일부 중첩되고, 상기 중첩된 제1 도전성 부재는 상기 패시베이션층과 오버랩되도록 위치하고,
상기 제2 도전성 부재는 상기 제2 전극과 적어도 일부 중첩되고, 상기 중첩된 제2 도전성 부재는 상기 패시베이션층과 오버랩되도록 위치하는
발광소자 패키지.Body;
A first lead electrode disposed in the body and including a third region, a fourth region extending from one surface of the third region, and at least one bent portion formed between the third region and the fourth region;
A second region disposed in the body and spaced apart from the first lead electrode, the second region extending from one side of the first region, and at least one bend formed between the first region and the second region, A second lead electrode including a portion; And
And a light emitting element disposed on the first region of the second lead electrode,
The light-
A growth substrate disposed on the second lead electrode;
A buffer layer disposed on the growth substrate;
A light emitting structure disposed on the buffer layer and including a first conductive type semiconductor layer, an active layer, and a second conductive type semiconductive layer;
A first electrode disposed on an exposed surface formed by selectively etching at least a portion of the first conductive semiconductor layer;
A second electrode disposed on the second conductive type semiconductor layer;
A first conductive member located on a second region of the first electrode and the second lead electrode, the first conductive member electrically connecting the first electrode and the second lead electrode;
A second conductive member located on a fourth region of the second electrode and the first lead electrode, the second conductive member electrically connecting the second electrode and the first lead electrode; And
And a passivation layer disposed between the fourth region of the first lead electrode and the light emitting element and disposed between the second region of the second lead electrode and the light emitting element,
Wherein the first and second electrodes have a first protruding portion and a first blocking portion, respectively, the first blocking portions of the first and second electrodes are in contact with one ends of the first and second conductive members,
And a second blocking portion of the first lead electrode is in contact with one end of the second conductive member, and the second blocking portion of the second lead electrode is in contact with one end of the second conductive member, Wherein the first conductive member is in contact with one end of the first conductive member,
The height of the upper surface of the first blocking portion of the first electrode is equal to the height of the upper surface of the second region of the second lead electrode and the height of the upper surface of the first conductive member,
The height of the upper surface of the first blocking portion of the second electrode is equal to the height of the upper surface of the fourth region of the first lead electrode and the height of the upper surface of the second conductive member,
Wherein the first conductive member is higher than the height of the second conductive member,
Wherein the first conductive member is at least partially overlapped with the first electrode, the overlapped first conductive member is positioned to overlap with the passivation layer,
The second conductive member is at least partially overlapped with the second electrode, and the overlapped second conductive member is positioned to overlap with the passivation layer
A light emitting device package.
상기 패시베이션층은
상기 제2 도전형 반도체층 상의 일부에 패터닝되어 배치되는 발광소자 패키지.The method according to claim 1,
The passivation layer
The first conductive semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer.
상기 제2 전극은
상기 패시베이션층의 상부에 배치되고, 상기 제2 도전형 반도체층과 전기적으로 연결되는 발광소자 패키지.
3. The method of claim 2,
The second electrode
And a second conductive semiconductor layer disposed on the passivation layer and electrically connected to the second conductive semiconductor layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120048975A KR101943448B1 (en) | 2012-05-09 | 2012-05-09 | Light emitting device package |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120048975A KR101943448B1 (en) | 2012-05-09 | 2012-05-09 | Light emitting device package |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130125458A KR20130125458A (en) | 2013-11-19 |
KR101943448B1 true KR101943448B1 (en) | 2019-01-29 |
Family
ID=49853842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020120048975A KR101943448B1 (en) | 2012-05-09 | 2012-05-09 | Light emitting device package |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101943448B1 (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010283267A (en) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Sanken Electric Co Ltd | Light emitting device, and method of manufacturing the same |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101138945B1 (en) * | 2005-01-29 | 2012-04-25 | 서울옵토디바이스주식회사 | Light emitting device having a plurality of light emitting cells and package mounting the same |
KR100631898B1 (en) * | 2005-01-19 | 2006-10-11 | 삼성전기주식회사 | Gallium nitride based light emitting device having ESD protection capability and method for manufacturing same |
KR20120043867A (en) * | 2010-10-27 | 2012-05-07 | 하나 마이크론(주) | Semiconductor package and method of manufacturing the same |
-
2012
- 2012-05-09 KR KR1020120048975A patent/KR101943448B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010283267A (en) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Sanken Electric Co Ltd | Light emitting device, and method of manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130125458A (en) | 2013-11-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101941033B1 (en) | Light emitting device | |
KR101827975B1 (en) | Light emitting device | |
US9281449B2 (en) | Light emitting device | |
US9318662B2 (en) | Light emitting device with improved current spreading performance and lighting apparatus including the same | |
KR101908657B1 (en) | Light emitting device | |
KR101915213B1 (en) | Light emitting device | |
KR101974153B1 (en) | Light emitting device and lighting system including the device | |
KR20150011310A (en) | Light emitting device | |
KR101991032B1 (en) | Light emitting device | |
KR101902398B1 (en) | Light emitting device and lighting system including the device | |
KR101929933B1 (en) | Light emitting device and lighting system including the device | |
KR101922529B1 (en) | Light emitting device | |
KR20130138416A (en) | Light emitting device | |
KR20130138483A (en) | Light emitting device and illuminating system including the same | |
KR101883844B1 (en) | Light emitting device | |
KR101911865B1 (en) | Light emitting device | |
KR101943448B1 (en) | Light emitting device package | |
KR20170082872A (en) | Light emitting device | |
KR20140056929A (en) | Light emitting device | |
KR20130101221A (en) | Light emitting device | |
KR20140001352A (en) | Light emitting device | |
KR20130135479A (en) | Light emitting device | |
KR20140046148A (en) | Light emitting device package | |
KR20140052572A (en) | Light emitting device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |