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KR0125857Y1 - Mask phage device of mask cleaning equipment - Google Patents

Mask phage device of mask cleaning equipment

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Publication number
KR0125857Y1
KR0125857Y1 KR2019940028685U KR19940028685U KR0125857Y1 KR 0125857 Y1 KR0125857 Y1 KR 0125857Y1 KR 2019940028685 U KR2019940028685 U KR 2019940028685U KR 19940028685 U KR19940028685 U KR 19940028685U KR 0125857 Y1 KR0125857 Y1 KR 0125857Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
cleaning equipment
arm
gripping
perkin elmer
Prior art date
Application number
KR2019940028685U
Other languages
Korean (ko)
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KR960015605U (en
Inventor
송경섭
Original Assignee
문정환
엘지반도체주식회사
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Filing date
Publication date
Application filed by 문정환, 엘지반도체주식회사 filed Critical 문정환
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Publication of KR960015605U publication Critical patent/KR960015605U/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting

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  • Physics & Mathematics (AREA)
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  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 고안은 마스크 세척장비의 마스크 파지장치에 관한 것으로, 종래의 마스크 세척장비의 아암이 정사각형 마스크만 파지하여 작업할 수 있도록 되어 있어 다른 형태로 된 마스크의 세척을 수작업을 할 수밖에 없는 단점을 개선하기 위한 것이다. 본 고안은 이송용 아암에 형성된 파지홈에 삽입 지지되는 한 쌍의 모서리부와 작업용 아암에 형성된 파지공에 삽입 지지되는 모서리부가 형성되고 마스크의 외주 형상과 일치하는 마스크 장착홈이 형성된 마스크 고정용 지지대를 구비하여 일반적인 마스크의 형태와 다른 형태를 가진 퍼킨 엘머용 마스크와 같은 마스크의 세척을 수작업이 아닌 세척장비에 의한 자동 작업으로 할 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to a mask holding device of the mask cleaning equipment, the arm of the conventional mask cleaning equipment is to be able to work by holding only the square mask to improve the disadvantage that the manual cleaning of the mask of the other form has to be done manually It is for. The present invention has a pair of corner portions inserted into and supported by a gripping groove formed on the transfer arm and a corner portion inserted into and supported by a gripping hole formed on the working arm, and a mask fixing support formed with a mask mounting groove matching the outer circumference of the mask. With such a mask, such as Perkin Elmer mask having a different form and the general mask is to be able to perform the automatic operation by the cleaning equipment rather than manual labor.

Description

마스크 세척장비의 마스크 파지장치Mask Holding Device of Mask Cleaning Equipment

제1도는 일반적인 마스크 세척장비의 이송용 아암을 보인 도면으로서,1 is a view showing a transfer arm of a general mask cleaning equipment,

(a)는 이송용 아암의 단면도.(a) is sectional drawing of the transfer arm.

(b)는 이송용 아암이 마스크를 파지한 상태를 보인 측면도.(b) is a side view showing a state in which the transfer arm grips the mask.

제2도는 일반적인 마스크 세척장비의 작업용 아암을 보인 도면으로서,2 is a view showing the working arm of the general mask cleaning equipment,

(a)는 작업용 아암의 단면도.(a) is sectional drawing of the working arm.

(b)는 작업용 아암의 마스크를 파지한 상태를 보인 측면도.(b) is the side view which showed the state which grasped the mask of the working arm.

제3도는 일반적인 정사가경 마스크를 보인 도면으로서,3 is a view showing a normal orthogonal mask,

(a)는 평면도.(a) is a plan view.

(b)는 단면도.(b) is a cross-sectional view.

제4도는 퍼킨 엘머용 마스크를 보인 평면도.4 is a plan view showing a mask for Perkin Elmer.

제5도는 일반적인 마스크 세척장비의 아암들이 퍼킨 엘머용 마스크를 지지한 상태를 보인 도면으로서,5 is a view showing a state in which the arms of the general mask cleaning equipment supports the mask for Perkin Elmer,

(a)는 이송용 아암이 퍼킨 엘머용 마스크를 파지한 상태를 보인 측면도.(a) is a side view showing a state in which the transfer arm grips the Perkin Elmer mask.

(b)는 작업용 아암이 퍼킨 엘머용 마스크를 파지한 상태를 보인 단면도.(b) is sectional drawing which showed the state in which the working arm held the Perkin Elmer mask.

제6도는 본 고안의 마스크 고정용 지지대를 보인 평면도.6 is a plan view showing a support for fixing the mask of the present invention.

제7도는 본 고안의 마스크 고정용 지지대가 아암에 파지된 상태를 보인 도면으로서,7 is a view showing a state in which the mask fixing support of the present invention is held on the arm,

(a)는 이송용 아암에 파지된 상태를 보인 측면도.(a) is a side view showing the state held by the transfer arm.

(b)는 작업용 아암에 파지된 상태를 보인 측면도.(b) is the side view which showed the state gripped by the working arm.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 이송용 아암 2 : 파지홈1: transfer arm 2: gripping groove

4 : 마스크 5 : 작업용 아암4: mask 5: working arm

6 : 파지공 10 : 마스크 고정용 지지대6: gripping hole 10: support for fixing mask

11 : 마스크 장착홈 F,G,H : 모서리부11: Mask mounting groove F, G, H: Corner part

본 고안은 포토 노광공정에서 사용되는 마스크를 세척하는 장비에 관한 것으로, 특히 마스크의 크기 및 형태에 관계 없이 마스크를 파지하여 세척 작업을 수행하기에 적합한 마스크 세척장비의 마스크 파지장치에 관한 것이다.The present invention relates to a device for cleaning a mask used in the photo-exposure process, and more particularly to a mask holding device of the mask cleaning equipment suitable for carrying out the cleaning operation by holding the mask irrespective of the size and shape of the mask.

일반적으로 마스크를 세척하기 위해서는 마스크를 세척장비에 로딩을 하고 이 로딩된 마스크를 황상 유닛, QDR 유닛, 스크러버(Scrubber) 및 SC-1 유닛 등의 각각의 유닛으로 정해진 순서에 따라 이송하여 세척 작업으로 자동적으로 행하게 된다. 이때 각각의 유닛들 사이에서의 마스크의 이송은 이송용 아암을 이용하여 행하고, 각 유닛내에서의 작업용 아암에 마스크를 파지하여 행하게 된다.In general, in order to clean the mask, the mask is loaded in the cleaning equipment, and the loaded mask is transferred to each unit such as a yellow bed unit, a QDR unit, a scrubber, and an SC-1 unit in a predetermined order to perform a cleaning operation. It will be done automatically. At this time, the transfer of the mask between the respective units is performed by using the transfer arm, and the mask is held on the working arm in each unit.

제1도 및 제2도에 도시된 바와 같이 상기한 바와 같은 종래 기술에 의한 일반적인 마스크 세척장비의 마스크 파지장치는 마스크(4)를 각 작업 유닛 사이에서 이송시키는 이송용 아암(1)과 각 유닛으로 이송된 마스크(4)를 파지하여 작업을 수행하는 작업용 아암(5)에 각각 설치되어 있다.As shown in Figs. 1 and 2, the mask holding apparatus of the conventional mask cleaning equipment according to the prior art as described above has a transfer arm 1 and each unit for transferring the mask 4 between each working unit. It is provided in the working arm 5 which grasps the mask 4 conveyed to the inside, and performs a work | work.

먼저 이송용 아암(1)의 구조를 살펴보면, 정사각형인 마스크(4)의 서로 대향하는 모서리부를 양 쪽에서 파지하도록 서로 마주보는 파지홈(2)들이 형성된 구조이다. 그리고 이 파지홈(2)의 파지면(3)들은 직각으로 형성된 정사각형 마스크(4)의 모서리부를 파지하도록 서로 직각으로 만나게 형성되어 있다. 따라서 파지면(3)들이 서로 만나게 되는 접촉선(도시되지 않음)에 마스크(4)의 모서리부가 위치되어져서 아암(1)에 마스크(4)가 파지된다. 이때 파지홈(2) 입구의 폭(A)은 약 2cm이다.First of all, the structure of the transfer arm 1 is a structure in which gripping grooves 2 facing each other are formed so as to grip opposite sides of the square mask 4 from both sides. The gripping surfaces 3 of the gripping grooves 2 are formed to meet at right angles to each other so as to grip corner portions of the square mask 4 formed at right angles. Accordingly, the edge portion of the mask 4 is positioned at a contact line (not shown) where the gripping surfaces 3 meet each other so that the mask 4 is gripped on the arm 1. At this time, the width (A) of the gripping groove 2 inlet is about 2cm.

그리고 작업용 아암(5)의 구조를 살펴보면 막대 형상이며, 상면에 마스크(4)가 끼워져 파지되는 장방형의 파지공(6)이 형성되어 있다. 이 파지공(6)의 크기는 일반적으로 길이(B)가 10cm이고 깊이(C)가 3cm이다. 이러한 작업용 아암(5)에 마스크(4)가 파지되는 형태는 상기 파지공(6)에 마스크(4)의 한 쪽 모서리부가 끼워져 파지되도록 되어 있다.And when looking at the structure of the working arm 5, it is rod-shaped and the rectangular gripping hole 6 in which the mask 4 is inserted and gripped is formed in the upper surface. The size of this gripping hole 6 is generally 10 cm in length B and 3 cm in depth C. In such a form that the mask 4 is gripped by the working arm 5, one edge of the mask 4 is fitted into the grip hole 6 so as to be gripped.

그러나 상기한 바와 같은 종래의 아암(1,5)들은 다음과 같은 문제점을 가지고 있다.However, the conventional arms 1 and 5 as described above have the following problems.

먼저 일반적으로 사용되는 마스크의 크기를 알아보면 정사각형 마스크(4)는 제3도에 도시한 바와 같이 정사각형의 판상으로 가로, 세로의 길이가 같고, 퍼킨 엘머(Perkin Elmer)용 마스크(7)의 경우는 상기 정사각형 마스크(4)의 네 모서리부를 직경(D')이 7.25인치가 되도록 원형으로 잘라낸 형태이다.First, the size of a mask generally used is a square mask (4) is a square plate shape as shown in Figure 3, the length of the horizontal and vertical are the same, in the case of the mask for Perkin Elmer (7) Is a shape in which the four corner portions of the square mask 4 are cut out in a circle so that the diameter D 'is 7.25 inches.

상기와 같은 규격을 가지는 마스크를 세척하는 경우에 있어서 종래 기술에 의한 세척장비는 정사각형 마스크(4)만을 파지하기에 적합한 아암(1,5)들을 가지고 있다. 따라서 일반적인 마스크(4)와 형태가 다른 퍼킨 엘머용 마스크(7)와 같은 마스크를 세척하기 위해 마스크를 지지하는 경우에는 부적합한 점이 있었다.In the case of cleaning a mask having the above specification, the prior art cleaning equipment has arms (1, 5) suitable for holding only the square mask (4). Therefore, there was an inadequacy when supporting the mask for cleaning the mask, such as the Perkin Elmer mask 7 having a different shape from the general mask 4.

즉 이송용 아암(1)의 경우에 있어서는 마스크 파지부의 형태가 정사각형 마스크(4)의 모서리부를 파지하기에 적합한 형태로 되어 있어 제5도의 (a)에 도시한 바와 같이 퍼킨 엘머용 마스크(7)와 같이 정사각형 모서리부 부분을 원형으로 잘라낸 형태의 마스크를 파지하지 못하게 된다.That is, in the case of the transfer arm 1, the mask gripping portion has a shape suitable for gripping the corners of the square mask 4, and as shown in FIG. 5A, the mask for Perkin Elmer 7 You will not be able to hold the mask in the form of a rounded square corner.

또한 작업용 아암(5)의 경우에 있어서는 파지공(6)에 정사각형의 마스크(4)가 끼워졌을 때 파지공(6)에 끼워진 마스크(4)의 길이(D)는 5cm로서 마스크가 파지공(6)의 아래로 2cm정도 돌출되나, 퍼킨 엘머용 마스크(7)가 끼워졌을 때 파지공(6)에 끼워진 마스크(7)의 길이(E)는 2cm로서 마스크(7)가 파지공(6)내에만 끼워지고 아래로 연장 돌출되지 않아 마스크(7)가 안정되게 파지되지 않고 좌우로 흔들리게 되는 문제점이 있다.In addition, in the case of the working arm 5, when the square mask 4 is fitted to the gripping hole 6, the length D of the mask 4 fitted to the gripping hole 6 is 5 cm, and the mask has a gripping hole ( 6) protrudes below 2 cm, but when the Perkin Elmer mask 7 is fitted, the length E of the mask 7 fitted to the gripping hole 6 is 2 cm, so that the mask 7 holds the gripping hole 6. There is a problem in that the mask 7 does not grip stably and shakes from side to side because it is only inserted inside and does not protrude downward.

따라서 정사각형의 구조가 아닌 퍼킨 엘머용 마스크(7)는 현재 사용중인 일반적인 마스크 세척장비로서는 세척이 불가능하여 수작업으로 세척을 행하여야 한다.Therefore, the Perkin Elmer mask 7, which is not a square structure, cannot be cleaned by the general mask cleaning equipment currently in use, and thus, the mask must be cleaned manually.

그러나 수작업을 세척을 하는 경우 이물이 완전히 제거되지 못하고 마스크(7)에 남아 있어 이러한 마스크(7)를 이용하여 형성된 웨이퍼의 패턴에는 상기 제거되지 않은 이물에 의한 패턴간의 쇼트가 발생될 우려가 있고, 세척이 잘 되지 않아 여러 번의 재 세척 작업을 함으로 인해 마스크(7)의 수명이 짧아지는 문제점이 있었다.However, when hand washing is performed, foreign matters may not be completely removed and remain in the mask 7, so that a short between the patterns due to the foreign matters not removed may occur in the pattern of the wafer formed using the mask 7. There was a problem that the life of the mask (7) is shortened due to the re-cleaning operation is not performed well.

본 고안의 목적은 상기한 바와 같은 종래 기술에 의한 마스크 세척장비의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 일반적인 정사각형 마스크와 다른 형태의 마스크를 파지하여 세척할 수 있는 마스크 파지장치를 제공하여 모든 형태의 마스크의 세척을 자동적으로 수행할 수 있는 마스크 세척장비의 마스크 파지장치를 제공함에 있다.An object of the present invention is to solve the problem of the mask cleaning equipment according to the prior art as described above, by providing a mask holding device that can be cleaned by holding a mask of a different form than a regular square mask of all types of mask The present invention provides a mask holding device for mask cleaning equipment that can automatically perform cleaning.

상기와 같은 본 고안의 목적은 이송용 아암에 형성된 파지홈에 삽입 지지되는 한 쌍의 모서리부와 작업용 아암에 형성된 파지공에 삽입 지지되는 모서리부가 형성되고 마스크의 외주 형상과 일치하는 마스크 장착홈이 형성된 마스크 고정용 지지대를 구비하여서 됨을 특징으로 하는 마스크 세척장비의 마스크 파지장치에 의하여달성된다.The object of the present invention as described above is a pair of corner portions that are inserted and supported in the gripping groove formed in the transfer arm and the edge is inserted into the gripping hole formed in the working arm is formed and the mask mounting groove matching the outer peripheral shape of the mask It is achieved by the mask holding device of the mask cleaning equipment, characterized in that it comprises a support for fixing the formed mask.

상기 마스크 고정용 지지대에 형성된 마스크 장착홈이 퍼킨 엘머용 마스크의 외주형상과 일치하는 형상으로 형성된 것임을 특징으로 하고, 그리고 상기 마스크 고정용 지지대가 호아산, SC-1에 의해 손상되지 않는 재료로 형성됨을 특징으로 한다.The mask mounting groove formed in the mask fixing support is formed in a shape that matches the outer circumferential shape of the Perkin Elmer mask, and the mask fixing support is formed of a material that is not damaged by Hoasan, SC-1 It is characterized by.

이하, 첨부된 도면에 도시된 본 고안의 일 실시예를 참고하여 마스크 세척장비의 마스크 파지장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to an embodiment of the present invention shown in the accompanying drawings will be described in detail the mask holding device of the mask cleaning equipment.

여기서 종래 기술의 것과 구성 및 기능이 같은 것은 동일 부호로 표시한다.Here, the same configurations and functions as those of the prior art are denoted by the same reference numerals.

제6도 및 제7도에 도시한 바와 같이 본 고안에 의한 마스크 파지장치는 마스크 고정용 지지대(10)가 이송용 아암(1)에 형성된 파지홈(2) 및 작업용 아암(5)에 형성된 파지공(6)에 파지되도록 설계된다.As shown in FIG. 6 and FIG. 7, the mask gripping apparatus according to the present invention has a gripping groove 2 formed on the transfer arm 1 and a gripping groove 2 formed on the transfer arm 1. It is designed to be gripped by the ball 6.

상기 마스크 고정용 지지대(10)는 일반적인 정사각형의 마스크(4)와 크기가 같으며 모서리부(F,G,H)를 가지는 정방형의 판에 퍼킨 엘머용 마스크(7)가 장착될 수 있도록 퍼킨 엘머용 마스크(7)의 외주 형상과 일치하는 마스크 장착홈(11)이 형성되어 있다.The mask fixing support 10 is the same size as the general square mask 4, Perkin Elmer so that the Perkin Elmer mask 7 can be mounted on a square plate having corners (F, G, H) The mask mounting groove 11 which matches the outer peripheral shape of the mask 7 for a dragon is formed.

상기 모서리부(F,G,H)중 양측 모서리부(G,H)는 이송용 아암(1)의 파지홈(2)에 삽입 지지되는 부분이며, 하부 모서리부(F)는 작업용 아암(5)의 파지공(6)에 삽입 지지되는 부분이다.Of the corners (F, G, H), both corners (G, H) is a part inserted into and supported by the gripping groove (2) of the transfer arm (1), the lower corner (F) is a working arm (5) It is a part inserted and supported by the gripping hole (6).

이러한 마스크 장착홈(11)은 퍼킨 엘머용 마스크(7) 뿐만 아니라 이와 다른 여러가지 형태의 마스크가 장착될 수 있도록 다양한 형태로 형성될 수 있다.The mask mounting groove 11 may be formed in various forms so that not only the Perkin Elmer mask 7 but also various other types of masks may be mounted.

상기 마스크 고정용 지지대(10)는 황산, SC-1 등에 의해 손상되지 않는 재료로 만들어지며, 일반적으로 아암(5)과 동일한 재질로 만들어질 수 있다.The mask fixing support 10 is made of a material that is not damaged by sulfuric acid, SC-1, etc., and may be generally made of the same material as the arm 5.

이러한 마스크 고정용 지지대(10)는 상기 정사각형 마스크(4)의 크기와 동일한 크기로 형성되어 있으므로 이송용 아암(1)의 파지홈(2)에 정확하게 양측 모서리부(G,H)가 파지되어 상기 정사각형 마스크(4)가 이송용 아암(1)에 파지되는 것과 동일하게 파지된다.Since the mask fixing support 10 is formed to have the same size as that of the square mask 4, the edges G and H of both sides of the gripping groove 2 of the transfer arm 1 are accurately gripped. The square mask 4 is gripped in the same manner as the grip on the transfer arm 1.

그리고 작업용 아암(5)의 파지공(6)에 마스크 고정용 지지대(10)의 하부 모서리부(F)가 끼워지면 상기 정사각형 마스크(4)가 파지공(6)에 끼워졌을 때와 같은 형태로 파지공(6)에 끼워진다.When the lower edge portion F of the mask fixing support 10 is fitted into the gripping hole 6 of the working arm 5, the square mask 4 is inserted into the gripping hole 6. The gripping hole 6 is fitted.

또한 이송용 아암(1)의 경우에 있어서는 이송용 아암(1)이 마스크(4,7)들을 파지하게 될 때 아암(1)의 크기 및 파지 면적은 세척 작업와 아무런 관련이 없다. 다라서 일반적인 정사각형의 마스크(4) 뿐만 아니라 모서리부 부분이 원형으로 된 퍼킨 엘머용 마스크(7)도 파지할 수 있도록 이송용 아암(1)의 파지홈(2) 입구의 폭(A)을 9cm이상으로 만든, 상기와 다른 실시예인 이송용 아암(1)을 사용하여 퍼킨 엘머용 마스크(7)를 자동적으로 이송하도록 할 수 있다.In addition, in the case of the transfer arm 1, when the transfer arm 1 grips the masks 4 and 7, the size and gripping area of the arm 1 have nothing to do with the cleaning operation. Therefore, the width (A) of the opening of the gripping groove (2) of the transfer arm (1) is 9 cm to hold not only the general square mask (4) but also the perkin elmer mask (7) having a rounded corner portion. By using the transfer arm 1 which is another embodiment different from the above, the perkin elmer mask 7 can be automatically transferred.

상기와 같은 구조를 가지는 마스크 파지장치는 다음과 같이 사용된다.The mask holding device having the above structure is used as follows.

먼저, 퍼킨 엘머용 마스크(7)에 있어서는 ㅍ의외주형이 형성된 마스크 장착홈(11)을 가지는 지지대(10)에 퍼킨 엘머용 마스크(7)를 장착한다. 그리고 마스크(7)가 장착된 지지대(10)를 마스크 세척장비에 로딩하여 일반적인 세척 작업 과정을 거치면서 세척을 실시한다.First, in the Perkin Elmer mask 7, the Perkin Elmer mask 7 is attached to the support 10 having the mask mounting groove 11 in which the outer periphery is formed. The mask 10 is loaded with the support 10 mounted on the mask cleaning equipment to perform cleaning while undergoing a general cleaning process.

또한 또 다른 형태의 마스크에 있어서는 그 또 다른 형태의 마스크를 장착하기 위한 마스크 장착홈이 형성되어 있는 지지대에 마스크를 장착시켜 세척장비에 로딩하여 작업을 수행한다.In addition, in another type of mask, the mask is mounted on a support on which a mask mounting groove for mounting the other type of mask is formed, and the mask is loaded and loaded into the cleaning equipment.

상기한 바와 같은 구조를 가지고 사용되는 마스크 파지장치의 효과를 설명하면 다음과 같다.Referring to the effects of the mask holding device used with the above structure is as follows.

즉 지지대의 크기는 일반적인 정사각형 마스크의 크기와 같으므로 종래의 일반적인 세척장비의 이송용 아암 및 작업용 아암으로도 퍼킨 엘머용 마스크 및 또 다른 형태의 마스크를 파지하여 세척 작업을 자동으로 수행할 수 있으므로 수작업에 의한 세척보다 세척상태가 양호하게 되어 웨이퍼의 패턴 형성이 정확하게되고, 또한 세척이 양호하게 되므로 재 세척을 해야하는 회수가 줄게 되어 마스크의수명이 늘어나게 되는 이점이 있다.That is, since the size of the support is the same as that of the general square mask, the cleaning task can be performed automatically by holding the Perkin Elmer mask and another type of mask as the transfer arm and the working arm of the conventional general cleaning equipment. Since the cleaning state is better than the cleaning by the wafer, the pattern formation of the wafer is accurate, and also the cleaning is good, there is an advantage that the life of the mask is reduced to reduce the number of times to be washed again.

Claims (3)

이송용 아암에 형성된 파지홈에 삽입 지지되는 한 쌍의 모서리부와 작업용 아암에 형성된 파지공에 삽입 지지되는 모서리부가 형성되고 마스크의 외주 형성과 일치하는 마스크 장착홈이 형성된 마스크 고정용 지지대를 구비하여서 됨을 특징으로 하는 마스크 세척장비의 마스크 파지장치.A pair of corner portions inserted into and supported by a holding groove formed on the transfer arm and a corner portion inserted and supported by a holding hole formed on the working arm, and having a mask fixing support formed with a mask mounting groove matching the outer periphery of the mask. Mask holding device of the mask cleaning equipment, characterized in that. 제1항에 있어서, 상기 마스크 고정용 지지대에 형성된 마스크 장착홈이 퍼킨 엘머용 마스크의 외주 형상과 일치하는 형상으로 형성된 것임을 특징으로 하는 마스크 세척장비의 마스크 파지장치.The mask holding apparatus of claim 1, wherein the mask mounting groove formed in the mask fixing support is formed in a shape that matches the outer circumferential shape of the Perkin Elmer mask. 제2항에 있어서, 상기 마스크 고정용 지지대가 황산, SC-1에 의해 손상되지 않는 재료로 형성됨을 특징으로 하는 마스크 세척장비의 마스크 파지장치.The mask holding apparatus of claim 2, wherein the support for fixing the mask is made of a material which is not damaged by sulfuric acid or SC-1.
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