JPS61205811A - 欠陥検出方法 - Google Patents
欠陥検出方法Info
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- JPS61205811A JPS61205811A JP60046536A JP4653685A JPS61205811A JP S61205811 A JPS61205811 A JP S61205811A JP 60046536 A JP60046536 A JP 60046536A JP 4653685 A JP4653685 A JP 4653685A JP S61205811 A JPS61205811 A JP S61205811A
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- Japan
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- pattern
- circuit
- patterns
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は牛導体素子及びその製造に用いらｎるマスク等
のパターン検査方法に係り、特に同一のパターンが繰返
されているパターン内の欠陥を検出するのに好適な欠陥
検出方法に関する０〔発明の背景〕 従来、繰返しパターンを検出する方法としては、一定の
繰り返しピッチ離れた２つのパターンヲ直接比較し、そ
の違いのある部分として欠陥を検出する方法が用いられ
ている。ＬかＬながら、この方法では検出された欠陥が
２つのパターンのどちらかにあるのかが判別できないと
いう欠点があり、欠陥の正しい位置を知るためには、比
較に用いた２つのパターンＡ、Ｈの片方（例えばＡ）と
、第３の同一パターンＣとの比較結果を組合せて判定す
ることが必要になる。すなわち、パターンＡ。
のパターン検査方法に係り、特に同一のパターンが繰返
されているパターン内の欠陥を検出するのに好適な欠陥
検出方法に関する０〔発明の背景〕 従来、繰返しパターンを検出する方法としては、一定の
繰り返しピッチ離れた２つのパターンヲ直接比較し、そ
の違いのある部分として欠陥を検出する方法が用いられ
ている。ＬかＬながら、この方法では検出された欠陥が
２つのパターンのどちらかにあるのかが判別できないと
いう欠点があり、欠陥の正しい位置を知るためには、比
較に用いた２つのパターンＡ、Ｈの片方（例えばＡ）と
、第３の同一パターンＣとの比較結果を組合せて判定す
ることが必要になる。すなわち、パターンＡ。
Ｂの比較に・よって得た欠陥の位置を記憶して宥き、Ａ
とＣの比較によって得た欠陥の位置と比較すれば、３つ
のパターンがたまたま同じ位置に欠陥をもつことは稀と
考えられるので、 ■ＡとＢ、ＡとＣの比較結果が同一場所に欠陥をもつと
き、欠陥はＡにある。■ＡとＢ、ＡとＣの比較結果が同
一場所に欠陥をもたないとき、ＡとＢの比較によって得
られた欠陥はＢにあり、ＡとＣの比較によって得られた
欠陥はＣにある。
とＣの比較によって得た欠陥の位置と比較すれば、３つ
のパターンがたまたま同じ位置に欠陥をもつことは稀と
考えられるので、 ■ＡとＢ、ＡとＣの比較結果が同一場所に欠陥をもつと
き、欠陥はＡにある。■ＡとＢ、ＡとＣの比較結果が同
一場所に欠陥をもたないとき、ＡとＢの比較によって得
られた欠陥はＢにあり、ＡとＣの比較によって得られた
欠陥はＣにある。
しかしながら、以上述べた従来方法では、欠陥候補を摘
出していったん座標リストとして記憶し、真の欠陥であ
るか、ゴースト欠陥であるかを逐−座標リスト内のデー
タを比較することになるため、欠陥の数が多くなると処
理がａ＃ｌになるという問題点があった。なお、この徳
の装置に関連するものとして％開昭５９−１９３６６が
ある。
出していったん座標リストとして記憶し、真の欠陥であ
るか、ゴースト欠陥であるかを逐−座標リスト内のデー
タを比較することになるため、欠陥の数が多くなると処
理がａ＃ｌになるという問題点があった。なお、この徳
の装置に関連するものとして％開昭５９−１９３６６が
ある。
本発明の目的（ば、このような従来方式の問題点を克服
して、繰返しパターンに存在する真の欠陥のみを速やか
ｌζ検出する欠陥検出方法を提供することにある。
して、繰返しパターンに存在する真の欠陥のみを速やか
ｌζ検出する欠陥検出方法を提供することにある。
本発明は、基本パターンの繰返しによって構成されてい
るパターン上の欠陥を検査する方法において、該パター
ン内の３つの基本パターンＡ、Ｂ。
るパターン上の欠陥を検査する方法において、該パター
ン内の３つの基本パターンＡ、Ｂ。
Ｃに関して、基本パターン人とＢとの比較、ＡとＣとの
比較を行い、さらに、上記比較で得られた２つの比較結
果パターンＡＢ 、ＡＣを比較することによって、比較
パターン人に存在する欠陥のみを抽出したパターンを得
ることを物像としている。
比較を行い、さらに、上記比較で得られた２つの比較結
果パターンＡＢ 、ＡＣを比較することによって、比較
パターン人に存在する欠陥のみを抽出したパターンを得
ることを物像としている。
以下本発明の一実施例を第１図〜第２図を用いて詐細に
！Ｓ！明する。帛１図は本発明を用いた欠陥検出装置の
全体構成図である。図において、１〜４は被検査バタ・
−ンを撮像して電気信号に変えるための撮像系、５〜１
１は撮像系により得られた映像信号から被検査パターン
上の欠陥を検出するための欠陥検出部、１２は全体回路
の動作タイミングを決定する同期信号発生回路である。
！Ｓ！明する。帛１図は本発明を用いた欠陥検出装置の
全体構成図である。図において、１〜４は被検査バタ・
−ンを撮像して電気信号に変えるための撮像系、５〜１
１は撮像系により得られた映像信号から被検査パターン
上の欠陥を検出するための欠陥検出部、１２は全体回路
の動作タイミングを決定する同期信号発生回路である。
まず撮像系についてＨ５を明する。図において１は被検
査対象物、２は被検査対象物を固定し移動させるための
移動台、３は移動台を等速制御するための移動台制御回
路、４は被検査対象物上のパターンの拡大儂を１次元的
に走査して電気信号に変換する映像入力センサを示す。
査対象物、２は被検査対象物を固定し移動させるための
移動台、３は移動台を等速制御するための移動台制御回
路、４は被検査対象物上のパターンの拡大儂を１次元的
に走査して電気信号に変換する映像入力センサを示す。
被検査対象物１−は移動台制御回路３によって一定方向
に等速移動される。このとき映像人力センサ４上に結像
した被検査対象物表面のパターン像は、同期信号発生回
路１１から発生する同期信号にしたがって映像入力セン
サを繰返して駆動することによって映像信号Ｓ４として
出力されることとなる。さて、いま第２１Ｖ（ａ）に示
したパターンを被検査パターンとする。第２図（ａ）で
は、繰返しピッチをＬとして同一パターンが繰返された
構成になっている。そこでこの繰返しピッチだけステー
ジを移動するごとに、繰返しパターン内の同一位置の映
像信号が繰返して出力されることになる。
に等速移動される。このとき映像人力センサ４上に結像
した被検査対象物表面のパターン像は、同期信号発生回
路１１から発生する同期信号にしたがって映像入力セン
サを繰返して駆動することによって映像信号Ｓ４として
出力されることとなる。さて、いま第２１Ｖ（ａ）に示
したパターンを被検査パターンとする。第２図（ａ）で
は、繰返しピッチをＬとして同一パターンが繰返された
構成になっている。そこでこの繰返しピッチだけステー
ジを移動するごとに、繰返しパターン内の同一位置の映
像信号が繰返して出力されることになる。
次に欠陥検出部について説明する。第１図において、５
はＡ／Ｄ変換器、６及び１０は映像信号をパターン繰返
しピッチに対応した時間だけ電気的に遅らせるための遅
れ回路、７は遅れ回路６を経由した入力映倫信号と経由
しない入力映像信号との差分をとる差分回路、８は絶対
値回路、９は２値化回路、１１は、遅れ回路１０を経由
した２値映倫信号と経由しない２値映儂信号との論理積
をとるＡＮＤ回路である。なお、遅れ回路６゜１０は、
シフトレジスタ回路によって＊Ｓできることは勿論、メ
モリ回路を用いて映像信号を一時的に格納することによ
っても実現できる。
はＡ／Ｄ変換器、６及び１０は映像信号をパターン繰返
しピッチに対応した時間だけ電気的に遅らせるための遅
れ回路、７は遅れ回路６を経由した入力映倫信号と経由
しない入力映像信号との差分をとる差分回路、８は絶対
値回路、９は２値化回路、１１は、遅れ回路１０を経由
した２値映倫信号と経由しない２値映儂信号との論理積
をとるＡＮＤ回路である。なお、遅れ回路６゜１０は、
シフトレジスタ回路によって＊Ｓできることは勿論、メ
モリ回路を用いて映像信号を一時的に格納することによ
っても実現できる。
さて、ます撮像系からの映像信号Ｓ４をＡ／Ｄ変換し１
ディジタル信号Ｓ５に変換する。このディイジタル信号
Ｓ５は前述した遅れ回路６に転送される。ここで被慌査
パターンが第２図（ａ）に示したような繰返し性のある
パターンであるとき、遅れ回路６ではそのパターンの繰
返しピッチＬに対応した時間分遅らせる。このとき遅れ
回路６の出力信号Ｓ６にはＡ／Ｄ変換後の出力信号８５
に対してＩＩａ返しパターン前の映像信号が出力される
。
ディジタル信号Ｓ５に変換する。このディイジタル信号
Ｓ５は前述した遅れ回路６に転送される。ここで被慌査
パターンが第２図（ａ）に示したような繰返し性のある
パターンであるとき、遅れ回路６ではそのパターンの繰
返しピッチＬに対応した時間分遅らせる。このとき遅れ
回路６の出力信号Ｓ６にはＡ／Ｄ変換後の出力信号８５
に対してＩＩａ返しパターン前の映像信号が出力される
。
差分回路７では、これら２つの映像信号Ｓ５、Ｓ６の差
分をとる。さらに絶対値回路８によって差分信号Ｓ７の
絶対値信号Ｓ８をとった後、２値化回路９によって２値
化処理を行い２値化信号Ｓ９を得る。先に述べたように
、映像信号８５，８６は異なる繰返しパターン内の同一
位置を走査して得たものであるため、その差分信号は理
想的には零となる。しかし、比較パターン装置のどうら
かに正常パターンとは異なる部分が存在した場合、その
部分に対応した差分信号に非零の直を示すことになる。
分をとる。さらに絶対値回路８によって差分信号Ｓ７の
絶対値信号Ｓ８をとった後、２値化回路９によって２値
化処理を行い２値化信号Ｓ９を得る。先に述べたように
、映像信号８５，８６は異なる繰返しパターン内の同一
位置を走査して得たものであるため、その差分信号は理
想的には零となる。しかし、比較パターン装置のどうら
かに正常パターンとは異なる部分が存在した場合、その
部分に対応した差分信号に非零の直を示すことになる。
そこで、差分信号を絶対値変換した後適切な閾値で２値
化すわば、欠陥領域のみが“ｌ”となり、他が°０”と
なる欠陥候補信号Ｓ９が得らｎる。以上の一連の処理を
第２図（ａ）の被検査パターンに対して行うと、欠陥候
補信号Ｓ９からは、第２図（ｂ）で示した欠＠候楕饋域
を”１″（図では黒く迩り潰した領域）、それ以外の領
域を”０”とするパターンが得られる。ここで得られた
欠陥候補信号では、第２図の）の例からもわかるように
１つの欠陥に対して２重に欠陥が検出され″る。これは
、被検査パターンの任意の１点において、この点から繰
返しピッチだけ前方の１点との比較、後方の１点との比
較、併せて２回の比較が行われるためであり、同一欠陥
に起因する２つの検出欠陥は繰返しピッチＬだけ隔って
出現する。
化すわば、欠陥領域のみが“ｌ”となり、他が°０”と
なる欠陥候補信号Ｓ９が得らｎる。以上の一連の処理を
第２図（ａ）の被検査パターンに対して行うと、欠陥候
補信号Ｓ９からは、第２図（ｂ）で示した欠＠候楕饋域
を”１″（図では黒く迩り潰した領域）、それ以外の領
域を”０”とするパターンが得られる。ここで得られた
欠陥候補信号では、第２図の）の例からもわかるように
１つの欠陥に対して２重に欠陥が検出され″る。これは
、被検査パターンの任意の１点において、この点から繰
返しピッチだけ前方の１点との比較、後方の１点との比
較、併せて２回の比較が行われるためであり、同一欠陥
に起因する２つの検出欠陥は繰返しピッチＬだけ隔って
出現する。
そこで、欠陥候補信号８９を遅れ回路ＩＯに転送し、繰
返しピッチＬに相当する時間分遅らせた信号８１０を得
る◇さらに該信号８１０と、遅れ回路を経由しない欠陥
候補信号Ｓ９とをＡＮＤ回路１１に転送し、両信号の論
理積をとった信号Ｓ１１を得る。こうすることによって
、繰返しビ。
返しピッチＬに相当する時間分遅らせた信号８１０を得
る◇さらに該信号８１０と、遅れ回路を経由しない欠陥
候補信号Ｓ９とをＡＮＤ回路１１に転送し、両信号の論
理積をとった信号Ｓ１１を得る。こうすることによって
、繰返しビ。
チＬだけ隔って２重に出現した検出欠陥のみを欠陥とし
て出力することになる。第２１１（ｂ）の欠陥候補信号
に対して、上記ＡＮＤ処理を行うと、その出力信号、す
なわち欠陥検出信４８１１からは、第２図（Ｃ）で示し
たように、第２図（ａ）の被検査パターンの中で欠陥領
域だけを”１°、他の領域を”０”とするパターンが得
らｎることになる。
て出力することになる。第２１１（ｂ）の欠陥候補信号
に対して、上記ＡＮＤ処理を行うと、その出力信号、す
なわち欠陥検出信４８１１からは、第２図（Ｃ）で示し
たように、第２図（ａ）の被検査パターンの中で欠陥領
域だけを”１°、他の領域を”０”とするパターンが得
らｎることになる。
以上の一連の処理によって、同一パターンが繰返されて
いるパターンを検査対象とするとき、欠陥領域のみを一
意的に検出することが可能となる。
いるパターンを検査対象とするとき、欠陥領域のみを一
意的に検出することが可能となる。
また、ここで述べた欠陥検出の方法は、互いに比較すべ
き２つの繰返しパターンの位置が正確に一＆しているこ
とが前提となる。すなわち、比較パターン閾で位置ずｎ
があると、その部分で疑似欠陥が発生してしまう。本発
明は、前述したように比較ピッチ間の比較処理を２度行
っているため、ランダムに発生する位置ずれ起因による
疑似欠陥は、第２の比較処理、すなわち欠陥候補信号間
のＡＮＤ処理によって除去することができるという効果
も併せ持つことになる。
き２つの繰返しパターンの位置が正確に一＆しているこ
とが前提となる。すなわち、比較パターン閾で位置ずｎ
があると、その部分で疑似欠陥が発生してしまう。本発
明は、前述したように比較ピッチ間の比較処理を２度行
っているため、ランダムに発生する位置ずれ起因による
疑似欠陥は、第２の比較処理、すなわち欠陥候補信号間
のＡＮＤ処理によって除去することができるという効果
も併せ持つことになる。
なお、本実施例では、互いに比較する２つのパターン信
号を得る方法として１つの映像人力センサと遅れ回路と
を組合せた構成としたが、２つの映像人力センサを繰返
しパターンの比較ビ、チ隔てて設定し、谷映偉人カセン
サか”らの２つのパターン信号を直接比較する場合でも
本発明の方法を用いることができる。またＡ／Ｄ変換後
のディジタル信号が２値の場合でも、本実施例の差分処
理、絶対値変換処理を、ＥＯＲ処理に置換えることによ
り本発明を実施できることは勿論である。
号を得る方法として１つの映像人力センサと遅れ回路と
を組合せた構成としたが、２つの映像人力センサを繰返
しパターンの比較ビ、チ隔てて設定し、谷映偉人カセン
サか”らの２つのパターン信号を直接比較する場合でも
本発明の方法を用いることができる。またＡ／Ｄ変換後
のディジタル信号が２値の場合でも、本実施例の差分処
理、絶対値変換処理を、ＥＯＲ処理に置換えることによ
り本発明を実施できることは勿論である。
本発明によれば、同一パターンが繰返されているパター
ンを検査対象とするとき、欠陥領域が２重に検出される
という原理的問題を派生させることなく、欠陥領域のみ
を一意的に検出することが可能となる上、本欠陥検出を
高速に行うことができる。
ンを検査対象とするとき、欠陥領域が２重に検出される
という原理的問題を派生させることなく、欠陥領域のみ
を一意的に検出することが可能となる上、本欠陥検出を
高速に行うことができる。
Ｍ１図は本発明の実施例を示す全体構成図、第２図（ａ
）は被横査パターン例、第２図（ｂ）は欠陥候補パター
ン例、第２図（Ｃ）は、欠陥検出信号が示す欠陥パター
ン例である。 符号の説明 ｌ・・・被検査対象物、２・・・移動台、３・・・移動
台制御回路、４・・・映像人力センサ、５・・・Ａ／Ｄ
変換器、６、ｌＯ・−・遅れ回路、７・・・差分回路、
８・・・絶対値回路、９・・・２値化回路、１１・・・
ＡＮＤ回路、１２・・・同期信号発生回路 第７目 秒初方阿 第２図 Ｇす （ｂ） （Ｃ）
）は被横査パターン例、第２図（ｂ）は欠陥候補パター
ン例、第２図（Ｃ）は、欠陥検出信号が示す欠陥パター
ン例である。 符号の説明 ｌ・・・被検査対象物、２・・・移動台、３・・・移動
台制御回路、４・・・映像人力センサ、５・・・Ａ／Ｄ
変換器、６、ｌＯ・−・遅れ回路、７・・・差分回路、
８・・・絶対値回路、９・・・２値化回路、１１・・・
ＡＮＤ回路、１２・・・同期信号発生回路 第７目 秒初方阿 第２図 Ｇす （ｂ） （Ｃ）
Claims (1)
- １、基本パターンの繰返しによって構成されているパタ
ーン上の欠陥を検査する方法において、該パターン内に
存在する３つの基本パターンＡ、Ｂ、Ｃについて、１組
の基本パターンＡとＢとの比較を行い、両パターンの相
違部分を抽出した比較結果パターンＡＢを得て、別の１
組の基本パターンＡ、Ｃの比較を行い、比較結果パター
ンＡＣを得て、上記比較で得られた２つの比較結果パタ
ーンＡＢ、ＡＣを比較することによって、基本パターン
Ａに存在する欠陥のみを抽出したパターンを得ることを
特徴とする欠陥検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60046536A JPH0656293B2 (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 欠陥検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60046536A JPH0656293B2 (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 欠陥検出方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61205811A true JPS61205811A (ja) | 1986-09-12 |
| JPH0656293B2 JPH0656293B2 (ja) | 1994-07-27 |
Family
ID=12750006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60046536A Expired - Lifetime JPH0656293B2 (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 欠陥検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0656293B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63249042A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プリント基板配線パタ−ン検査における欠陥の判定方法 |
| JPS6412374A (en) * | 1987-07-06 | 1989-01-17 | Hitachi Electr Eng | System and circuit for deciding defect of printed board wiring pattern |
| JP2006145370A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 周期的なパターンを有する被検査体の欠陥箇所検出装置および欠陥箇所検出方法 |
| JP2007071861A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-03-22 | Micronics Japan Co Ltd | 欠陥検出方法及び欠陥検出装置 |
| US7436993B2 (en) | 2004-04-20 | 2008-10-14 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Apparatus and method for detecting defects in periodic pattern on object |
| WO2013183471A1 (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | 東レエンジニアリング株式会社 | 外観検査装置及び外観検査方法 |
-
1985
- 1985-03-11 JP JP60046536A patent/JPH0656293B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63249042A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プリント基板配線パタ−ン検査における欠陥の判定方法 |
| JPS6412374A (en) * | 1987-07-06 | 1989-01-17 | Hitachi Electr Eng | System and circuit for deciding defect of printed board wiring pattern |
| US7436993B2 (en) | 2004-04-20 | 2008-10-14 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Apparatus and method for detecting defects in periodic pattern on object |
| JP2006145370A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 周期的なパターンを有する被検査体の欠陥箇所検出装置および欠陥箇所検出方法 |
| JP2007071861A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-03-22 | Micronics Japan Co Ltd | 欠陥検出方法及び欠陥検出装置 |
| WO2013183471A1 (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | 東レエンジニアリング株式会社 | 外観検査装置及び外観検査方法 |
| JP2013250225A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Toray Eng Co Ltd | 外観検査装置及び外観検査方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0656293B2 (ja) | 1994-07-27 |
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