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JPS61153844A - 情報記録媒体 - Google Patents

情報記録媒体

Info

Publication number
JPS61153844A
JPS61153844A JP59274000A JP27400084A JPS61153844A JP S61153844 A JPS61153844 A JP S61153844A JP 59274000 A JP59274000 A JP 59274000A JP 27400084 A JP27400084 A JP 27400084A JP S61153844 A JPS61153844 A JP S61153844A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording medium
substrate
protective layer
information recording
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59274000A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeji Ochiai
落合 武次
Kyoichi Naruo
成尾 匡一
Eiichi Hasegawa
栄一 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP59274000A priority Critical patent/JPS61153844A/ja
Publication of JPS61153844A publication Critical patent/JPS61153844A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野J 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび/または読み取りができる情報記
録媒体に関するものである。
[発明の技術的背景および従来技術] 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化゛されてい
る。この情報記録媒体は光”ディスク゛と称され、ビデ
オ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量
静止画像ファイルおよび大容量コンピュ□−タ用デ)ス
フ・メモリーとして使用されうるものである。
光ディスクは、基本構造としてプラスチック、ガラス等
からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられたBi
、Sn、In、Te等の金属または判金属からなる記録
層とを有する。
光ディスクへの情報の書き込みは、たとえばし ゛−ザ
ービームをこの光ディスクに照射することにより行なわ
れ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度
上昇する結果、物理的あるいは゛化学的な変化を生じて
その光学的特性を変えることにより情報が記録される。
光ディスクからの情報の読み取りもまた、レーザービー
ムを光ディスクに照射することなどにより行なわれ、記
録層の光学的特性の変化に応じ゛た反射光または透過光
を検出することなどにより情報が再生される。
最近では記録層を保護するためのディスク構造として、
二枚の円盤状基板から構成し、そのうちの少なくとも一
枚の基板上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が
内側に位置し、かつ閉空間を形成するようにリング状内
側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接合して
なるエアーサンドイッチ構造が提案されている。このよ
うな構造を有する光ディスクでは、記録層は直接外気に
接することなく、情報の記録、再生は基板を透過するレ
ーザー光で行なわれるために、一般に記録層が物理−ま
たは化学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃
が付着して情報の記録、再生の障害となることがないな
どの利点がある。
情報記録媒体は、前述のように種々の分野において非常
に利用価値が高いものであるが、それ自体は変形、変質
などを生じ難く、その保存性が良好であることが望まれ
ている。特に、エアーサンドインチ構造の記録媒体等の
ように情報の書き込みおよび読み取りを基板側から行な
う場合には、記゛録感度および記録精度などの点カニら
、基板が変形、変質しにくいものであることが望轡れる
従来より、記録媒体の基板の変形(耐溶剤性等)および
耐衝撃性(耐スクラッチ性等)などを改良する目的で、
基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面に保護層
を設けることが知られている。すなわち、基板材料とし
てポリメチルメタクリレート等のプラスチック物質を用
いた場合には、基板が大気中の水分等によって変形しや
すく、また機、械的な衝撃によって損傷を受けやすいた
めに、8硬化型樹脂、光硬−化型樹脂または無機物質か
らなる保護層をプラスチック基板表面に付設することに
より、表面硬度を高めて耐衝撃性を。
向上させたり、吸湿による変、形を防止することが提案
されている。
ところで、記録媒体の基板−とじてはプラスチック基板
以外に、強化ガラス等のガラス基板を使用する、ことが
できる、ガラス基板住、アク、リル樹脂等のプラス、チ
ック基板と一比べて吸湿による一変形の程度が小さく1
、表面の硬度が高く、そして形状の経時安定性が高いな
どの大きな利点を有する。
しかしながら、ガラス基板においては、プラスチック基
板の場合とは異なったガラス特有の問題が生じる。すな
わち、ガラス基板中に含まれているNa、”、に+等の
アルカリ金属イオンおよびMg”、C:a′等のアルカ
リ土類金属イオン(以下、これらを総称してアルカリイ
オンという)が温湿度の影響により基板表面に析出する
ために。
時間の経過とともに表面が白濁しがちである。この基板
表面の白濁(いわゆる白ヤケ)は記録感度の低下および
情報の精度の低下を引き起こし、記録媒体自体の経時安
定性を悪化させる傾向にある。
[発明の要旨] 木・発明は、ガラス基板の白ヤケを防止して経時安定性
の向上した情報記録媒体を提供することをその目的とす
るものである。  − 上記の目的は、ガラス基板上にレーザーによる情報の書
き込みおよび/または読み取りが可能な記録層を有する
情報記録媒体において、記録層が設けられている側とは
反対側の基板表面に放射線硬化型樹脂を含有してなる保
護層が設けられていることを特徴とする本発明の情報記
録媒体により達成することができる。
本発明者は、ガラス基板表面に生じる白ヤケの防止につ
いて研究した結果、基板表面に放射線硬化型樹脂を含有
する゛保護層を設けることにより。
基板表面の白ヤケの発生を顕著に低減もしくは防止して
、情報記録媒体の経時安定性の顕著な向上を実現するこ
とができることを見出し1本発明に?1達したものであ
る。
すなわち1本発明によれば、経時によりガラス基板表面
に析出するアルカリイオンを上記放射線硬化型樹脂を含
有する保護層中に効果的に拡散、捕捉させることによっ
て、基板表面の白濁を防ぐことができる。従って、記録
媒体の経時安定性が向上し、特に情報の書き込みおよび
読み取りが基板側から行なわれる場合には、感度低下お
よびS/N比の低下を防ぐことかで″きる。
また、保護層に用いられる放射線硬化型樹脂は高硬度で
あるため、記録媒体の耐衝撃性(耐スクラッチ性)を高
め、破損を防止することができる。さらに1本発明の保
護層の付設により、ガラス基板表面に指紋が付着しやす
いとの問題を解消するととができる。
従って、表面硬度、形状および光学特性が優れたガラス
基板を用い、かつガラス特有の白ヤケに対して防止効果
を有する保護層を設けてなる本発明の記録媒体は基板の
変形、変質を殆ど生じることがなく、高い経時安定性を
示すものである。
[発明の構成] 以上に述べたような好ましい特性を有する本発明の情報
記録媒体は、たとえば1次のような方法により製造する
ことができる。
本発明において使用する基板はソーダ石灰ガラス等から
なるガラス板であり、特に表面強度の大きい強化ガラス
板であることが好ましい。
基板の記録層が設けられる側と反対側の表面には、ガラ
ス基板中に含まれるアルカリイオン(N a ” 、K
 ” 、 M g ”、Ca24等)の析出による表面
の白濁を防止するために、保護層が設けられる。
、本発明の特徴的な要件である保護層は、放射線硬化型
樹脂からなる層゛である。
本発明において放射−−化型樹脂に用いられるモノマー
(またはオリゴマーもしくはプレポリマー)は、アクリ
ル系二重結合、アリル系二重結合等の二重結合であって
、紫外線、電子線照射により硬化反応し得る二重結合を
有するものであればよい、七ツマ−としては、(メタ)
アクリル酸、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メ
タ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、スチレン、メチルスチレン、アクリルアミド
、グリシジル(メタ)アクリレート、無水マレイン酸、
マレイン酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、シクロヘキ
サンアクリレート、ベンジルアクリレート、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−ジアセトンアクリルアミド、
2−ヒ’Vロ革シー3−フェノキシプロピル(メタ)ア
クリレート、カルピトールアクリレート、ビニルアセテ
ート、N−゛ビニルピロリドン、?−エチルへキシルア
クリレート、2−ヒドロキシ呈≠ルアクリレート、?−
ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシエチ
ルアクリロイルホスフェート、1.3−ブタンフォール
ジアクリレート、1.4゛−ブタンジオール゛ジアクリ
レート、l、6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレ
ート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール
400ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステル
ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールへキ
サアクリレート、ブチルセロソルブアクリし一ト、α、
ω−ジアクリルービスエチレングリコールテトラヒドロ
フタレート、およびα、ω−テトラアクリルビストリメ
チロールプロパンテトラヒドロフタレート等を挙げるこ
とができる・ 薫た、オリゴマーもしくはプレポリマーとしては、アジ
ピン酸/l、6−ヘキザンジオール/アク−リル酸、無
水フタル酸/プロピレンオキサイド/アクリル酸、トリ
メリット酸/ジエチレングリコール/アクリル酸のごと
き(不飽和)ポリエステルアクリレート;ビスフェノー
ルA−エピクロルヒドリン型/アクリル酸、フェノール
ノボラック・エピクロルヒドリン型/アクリル酸脂環型
/アクリル酸、 (ただし、Rは炭素数1〜5のアルキレン基である) のごときエポキシアクリレート;トリレンジイソシアネ
ート/ポリエステル/2−ヒドロキシアクリレートのご
ときポリウレタンアクリレート;その他ポリエーテルア
クリレート;ポリオールアクリレート;ポリアセタール
アクリレート等を挙げることができる。
これらの七ツマ−は単独でも、あるいは二種以上の混合
物でも用いることができる。基板表面の白ヤケの防止に
加えて耐衝撃性(耐スクラッチ性)および耐溶剤性など
の点から、上記七ツマ−のうちでも特に好ましいものは
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレートおよびビスフェノールAジアク
リレートである。
本発明の保護層は放射線硬化型樹脂のみからなっていて
もよいが、得られる記録媒体の目的に応じて放射線硬化
型樹脂と公知の熱硬化型樹脂または熱可塑性樹脂などと
の混合物からなっていてもよい、その場合に、放射線硬
化型樹脂は保護層中に50%(体積比)以上含まれてい
るのが好ましい。
保護膜の形成において、放射線重合硬化性七ツマ−は単
独でもよいが、必要があれば重合開始剤を溶解して塗布
液(UVラッカー液)を調製する。
光重合開始剤としては、ベンゾインアルキルエーテル、
ベンジルケタール、アナタール類、アセトフェノン誘導
体、ベンゾフェノン誘導体、キサントン誘導体、チオキ
サントン誘導体、アントラキノン誘導体、ベンズアルデ
ヒド誘導体などを挙げることができる。また増感剤とし
て使用することのできる化合物の具体例としては、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾインインブチルエーテル、ベンゾフェノン、
ベンジル、2.2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフ
ェノン、2.2−ジメトキシ−2−ヒドロキシアセトフ
ェノン、ジフェニルジスルフィド、2−ヒドロキシ−2
−プロピオフェノン。
4.4°−ビスジエチルアミノベンゾフェノン。
ジメチルアミノベンズアルデヒド、エチル−4゜4°−
ビスジメチルアミノベンゾフェノン、エチルアントラキ
ノン、2−クロロチオキサントンなどを挙げることがで
きる。これらの増感剤は単独でも、あるいは適宜組合わ
せても使用することができる。
モノマー溶液中には、シランカップリング剤等の密着改
良剤、酸化防止剤、安定化剤、防水剤。
増量剤、無機物、アンチスタチック剤など各種の添加物
を目的に応じて添加することができる。
次に、この塗布液をスプレー法、スピンナー法、ディラ
フ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロ
ール法、スクリーン印刷法などの塗布方法により基板上
に塗布して塗膜を形成したのち電磁放射線を照射するこ
とにより、塗膜中の七ツマ−は重合硬化し、基板上に保
護層が形成される。
使用される電磁放射線としては、紫外線、電子線などを
挙げることができる。このうち装置の規模、経済性、安
全性などの点から紫外線が好ましい、また、重合反応を
より完全に行なうためには、電磁放射線の照射は真空下
もしくは窒素ガス雰囲気下で行なうのが好ましい。
保護層の層厚は一般に0.Ol乃至1100ILであり
、好ましくは0.5乃至50ILmである。
基板の保AI層とは反対側の表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質防止の目的で、また記
録感度を向上させ、S/N比を高める目的で、下塗層(
および/または中間層)が設けられていてもよい、下塗
Mi(または中間層)の材料としては、たとえば、ポリ
メチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重
合体、スチレン拳無水マレイン酸共重合体、ポリビニル
アルコール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン
・スルホン酸共重合体、クロルスルホン化ボリエチレン
、ポリイミド、酢酸ヒニルe塩化ビニル共重合体、エチ
レン・酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリウレタン、セルロース銹導体(
酢酸セルロース、硝酸セルロース等)、ポリヒドロキシ
スチレン、ポリビニルトルエン、ポリ塩化ビニル、kM
素化ポリオレフィン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
トなどの高分子物質;シランカップリング剤などの有機
物質;および酸化物(Si02、A交203等)、弗化
物(MgFz等)などの無機物質を挙げることができる
基板から遊離するアルカリイオンが他層に拡散するのを
防止するためには、親木性基および/または無水マレイ
ン酸基を有するポリマーからなる下塗層が設けられてい
るのが好ましい、また、2鎧感度およびS/N比を向上
させるためには、ポリメチルメタクリレート、ニトロセ
ルロース、ポリヒドロキシスチレンまたは塩素化ポリオ
レフィンからなる中間層が設けられているのが好ましい
下塗層(または中間層)は、上記高分子物質を適当な溶
剤に溶解または分散した後、この塗布液をスピンコード
、ディップコート、エクストルージョンコート、バーコ
ード、スクリーン印刷などの塗布方法を用いて基板上に
塗布することにより形成する−ことができる。下塗層の
層厚は一般に0、Ol乃至20鉢mであり、好ましくは
o、i乃至10ルmである。
また、中間層の材料としては、レーザービームのトラッ
キング用溝やアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成
を目的として、光硬化型ポリマーを用いることができる
。その場合に使用される材料の代表的な例としては光重
合性モノマー(オリゴマー)と光重合開始剤との混合物
が挙げられる。光重合性モノマー(オリゴマー)として
は。
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、トリメチロールフロパン、ペンタ
エリスリトール等のメタクリル酸エステル、アクリル酸
エステルなど公知の材料を用いることができる。また光
重合開始剤としては。
上述の保護層に用いられる光重合開始剤を用いることが
できる。
中間層の形成は、まず上記光重合性モノマーに重合開始
剤を溶解した後、この溶液を上記と同様の方法により基
板上に塗布して塗膜を形成し、次いで紫外線等の電磁放
射線を照射して七ツマ−を重合硬化させることにより行
なうことができる。
上記塗布液(七ツマー溶液)中には、酸化防止剤、安定
化剤など各種の添加物を目的に応じて添加してもよい、
このようにして形成される中間層の層厚は一般に0.0
1乃至1100pであり。
好ましくは0、乃至50ILmである。
次いで、基板(または下塗層もしくは中間層)の上には
記録層が設けられる。
記録層に用いられ、る材料の例としては、Te、Zn、
In、SnA Zr、AIL、Ti、Cu、Ga、Au
、PL等の金属;Bi、As、Sb等の半金属;Ge、
Si等の半導体;およびこれらの合金またはこれらの組
合せを挙げることができる。また、これらの金属または
半金属の硫化物。
酸化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物および窒化物
等の化合物;およびこれらの化合物と金属との混合物も
記録層に用いることができる。あるいは、色素とポリマ
ーとの組合せを利用することもできる。
本発明においては、記録層の材料がInとGeSとの混
合系であるのが特に好ましい、この場合に、記録層にお
けるInの含有量は33.3〜87.5重量%の範囲に
あるのが好ましい。
記録層は、上記材料を用いて蒸着、スパッタリング、イ
オンブレーティングなどの方法により基板上に形成され
る。記録層は単層または重層でもよいが、その層厚は、
光情報記録に要求される光学濃度の点から、一般に10
0乃至5500人の範囲であり、好ましくは200〜1
000人の範囲である。
記録層上には、a械的強度の向上などの目的で、たとえ
ばゼラチン、ゼラチン誘導体等の天然高分子物質;セル
ロース誘導体、ポリサッカライド、ラテックス状ビニル
ポリマー、ビニルボリマ−等の合成高分子物質などから
なる保護膜が設けられていてもよい。
なお、前述の貼り合わせタイプの記録媒体においては、
上記構成を有する二枚の基板を接着剤等を用いて接合す
ることにより製造することができる;また、″エアーサ
ンドイッチタイプの記録媒体においては、二枚の円盤状
基板のう元の少なくとも一方が上記構成を有する基板を
、リング状の蕗側スペーサと内側スペーサとを介して接
合することにより製造することができる。
次己本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの客−は本発明を制限するものではない
、″゛ これら各側の評゛価は以下の如くに行なった。
(1)耐白ヤケ性: 保護層付設基板(または基板のみ)からなる試料を60
℃、90%RHの恒温恒湿槽に入れ、5日経過後1発生
した析出物の数を測定した。100倍の光学顕゛微鏡を
用いて、K径2.5mm内における析出物の発生個数を
4筒所で測定し、その合計が、 0〜2個のとき :A 3〜4個のとき :B ゛ 3〜4個のとき :C 11個以上のとき:D として、四段階で評価した。
(2)防衝撃性: エアーサンドイッチ型情報記録媒体の保護層面(または
基板面)を上側にし七発泡ポリスチレンシート(厚さ:
6mm)を二枚重ねた上に置き。
垂直1.5mの高さから132gの鋼球を自然落下させ
、落球法にて衝撃強度を測定した。
評価は、破壊が無かった場合  :A 一部にヒビが入った場合:B 破壊した場合     :C として、三段階で行なった。
(3)耐指紋性: 試料の保護層(または基板)表面に右手親指の指紋を付
けた。別に、特級メタ゛ノールおよび超純水で洗浄した
後クリーンルームで乾燥したガーゼを用意し、′このガ
ーゼで指紋を抜き取った。′次いで試料にHe−Neレ
ーザー光を照射してその反射晃を測定し、−− 指紋が完全に消えている場合 :A 指紋がわずかに残っている場合:B 指紋が完全に残っている場合 二〇 として、三段階で評価した。
[実施例1] カリ強化処理(深さ:約309Lm)された円盤状のソ
ーダ石灰ガラス板(外径:300mm、内径:35mm
、厚さ:1.3mm)をアルカリ性溶液およびイソプロ
ピルアルコールで洗浄し、乾燥した。
次に、ペンタエリスリトールトリアクリレート100重
量部中にベンゾインメチルエーテル3重量部を溶解して
塗布液を調整した後、フィルター(ポアサイズ:1g、
m)を用・いて加圧1!過した。
この塗布液をスピンナーを用いて上記ガラス基板上に3
0Orpmの回転数で滴下し、徐々に回転県東 1」ノ
ア 1 ^ ^ ^ −−−舗 リ ^ 捕F!!I烏
五 1 ト得られた塗布基板を窒素ガスで充填・された
透明ボックス内に置いて、4KW超高圧水銀灯を用い、
ランプと基板との距離を60cmに設定して5分間紫外
線露光を行ない、基板上に層厚がfOILmの保護層を
形成した(試料1)。
次いで、ガラス基板の保護層が設けられている側とは反
対側の表面に、塗布法により層厚が0゜2#Lmのポリ
エチルメタアクリレートからなる中間層を形成した後、
真空蒸着法によりI n300人およびGe5100人
を共蒸着させて層厚が400人の記録層を形成した。
このようにして、順に保護層、基板、中間層および記録
層から構′成された基板を二枚製造した。
これら二枚の基板を記録層を内側にして対向させ、スペ
ーサーを査して接着することにより、エアーサンドイッ
チ構造の情報記録媒体を製造した。
[実施例2]  ゛ 実施例1において、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ートの代わりにビスフェノールAジアクリレートを用い
ること以外は、実施例1の方法と同様の操作を行なうこ
とにより保護層付設基板を作成しく試料2)、さらにこ
の試料を用いてエアーサンドイッチ構造の情報記録媒体
を製造した。
[実施例3] 実施例1において、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ートの代わりにα、ω−ジアクリル−ビスエチレングリ
コールテトラヒドロフタレートを用いること以外は、実
施例1の方法と同様の操作を行なうことにより保護層付
設基板を作成しく試料3)、ざらにこの試料を用いてエ
アーサンドイッチ構造の情報記録媒体を製造した。
[実施例4] 実施例1において、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ートの代わりにα、ω−テトラアクリルビストリメチロ
ールプロパンテトラヒドロアクリレートを用いること以
外は、実施例1の方法と同様の操作を行なうことにより
保護層付設基板を作成しく試料4)、さらにこの試料を
用いてエアーサンドイッチ構造の情報記録媒体を製造し
た。
[実施例5〜7] 実施例1において、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ートの代わりに下記組成の混合物をそれぞれ用いること
以外は、実施例1の方法と同様の操作を行なうことによ
り各種の保護層付設基板を作成しく試料5〜7)、さら
にこれらの試料を用いてエアーサンドイッチ構造の情報
記録媒体を製造した。
試料 DPEHA  HPPA  HENA  IJA
  SA  5iNHUV−)16  40  30 
 30   Q  3  1  3使用された各化合物
は以下に示す通りである。
DPEHAニジペンタエリスリトールへキサアクリレー
ト HPPA  :2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピ
ルアクリレート HEMA  :エキサエチルメタアクリレートUA  
  :ウレタンアクリレート SA    :シリコーンアクリレート5iNHニアミ
ノシランカップリング剤UV−H:ベンジル [比較例1] 実施例1において、ガラス基板表面に保護層を設けない
こと以外は実施例1の方法と同様の操作を行なうことに
よりガラス基板を用意しく試料8)、さらにこの試料を
用いてエアーサンドイッチ構造の情報記録媒体を製造し
た。
上記実施例および比較例についての評価結果を第1表に
示す。
Lノ、   T   2?ミ  白 第1表 耐白ヤケ性 耐衝撃性 耐指紋性 実施例I     B      B     82 
   8      B     83     B 
     B     B4     B      
A     A5     CB     A 6     CB     B 7     B      A     B比較例I 
    D      CC以上の結果より1本発明の
放射線硬化型樹脂からなる保護層を設けた試料および情
報記録媒体(実施例1〜8)は、保護層を設けていない
試料および情報記録媒体(比較例1)と比較して、耐白
ヤケ性、耐衝撃性、耐指紋性において優れていることが
明らかであった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ガラス基板上にレーザーによる情報の書き込みおよ
    び/または読み取りが可能な記録層を有する情報記録媒
    体において、記録層が設けられている側とは反対側の基
    板表面に放射線硬化型樹脂を含有してなる保護層が設け
    られていることを特徴とする情報記録媒体。 2、上記放射線硬化型樹脂が紫外線に対して硬化性の樹
    脂であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    情報記録媒体。 3、上記紫外線硬化型樹脂がアクリル系ポリマーである
    ことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の情報記録
    媒体。 4、上記アクリル系ポリマーが、ペンタエリスリトール
    の(メタ)アクリル酸エステルおよびビスフェノールA
    の(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選ばれる
    少なくとも一種の光重合性モノマーの重合物であること
    を特徴とする特許請求の範囲第3項記載の情報記録媒体
    。 5、上記情報記録媒体がエアーサンドイッチ構造を有す
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の情報記
    録媒体。
JP59274000A 1984-12-27 1984-12-27 情報記録媒体 Pending JPS61153844A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59274000A JPS61153844A (ja) 1984-12-27 1984-12-27 情報記録媒体

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JP59274000A JPS61153844A (ja) 1984-12-27 1984-12-27 情報記録媒体

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JPS61153844A true JPS61153844A (ja) 1986-07-12

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JP (1) JPS61153844A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63188837A (ja) * 1987-01-31 1988-08-04 Hitachi Maxell Ltd 光デイスク
JPH02566A (ja) * 1987-12-10 1990-01-05 Ricoh Co Ltd 可逆性感熱記録材料

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63188837A (ja) * 1987-01-31 1988-08-04 Hitachi Maxell Ltd 光デイスク
JPH02566A (ja) * 1987-12-10 1990-01-05 Ricoh Co Ltd 可逆性感熱記録材料

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