JPS5967284A - インドリルカルボン酸ピペリジルエステル誘導体 - Google Patents
インドリルカルボン酸ピペリジルエステル誘導体Info
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- C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D471/08—Bridged systems
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は安息香酸のピペリジルエステル誘導体に関し、
安息香酸類(121体、例えばポリ炭素環式および複索
環式カルボン酸を含む。
安息香酸類(121体、例えばポリ炭素環式および複索
環式カルボン酸を含む。
本発明はジ炭素環式または複素環式カルボン酸のアルキ
レン架橋ピペリジルエステルまたはアミド、または核に
置換基をもつ安息香酸のアルキレン架橋ピペリジルエス
テルまたはアミドを提供する。ただし a)ピペリジン環の2個の炭素原子間はアルキレン架橋
をもつ安息香酸エステルではフェニル環のオルトまたは
メタ位に少なくとも1個の置換基をもつこと、 b)メタ位またはパラ位は水素またはハロゲンのみであ
って、両側のオルト位が置換されないか、または少なく
とも一側のオルト位にハロゲンまたはアルキル基をもつ
安息香酸の、環炭素原子間にアルキレン架橋をもつピペ
リジルエステルではアルキレン架橋に最低3個の炭素原
子をもつこと、C)ピペリジル基の窒素原子と環炭素原
子との間(I8) にアルキレン架橋をもち−1個のオキシ置換基をもつ安
息香酸エステルでは、当該安息香酸核にオキシ置換基以
外に最低1個の置換基をもつか−または単に2個のオキ
シ置換基をもつこと、d)環に窒素原子を含む6員環の
単環式複素環カルボン酸アミドまたはエステル、或いは
2個の酸系原子を含む環式複素環カルボン酸アミドでは
ピペリジル基の窒素原子と環の炭素原子との間にアルキ
レン架橋をもつこと、 e)安息香酸アミドでは一環のピペリジン窒素と環炭素
原子との間を結合するアルキレン架橋をもつこと、 f)安息香酸アミドではいずれのオルト位にもアルキル
またはヒドロキシまたはハロゲン置換基をもたないこと
、 g)チェノイルおよびナフトイル−8−アザ−ビシクロ
(3,2,1〕〕オクトー3−イルエステは除外するこ
と、とする。
レン架橋ピペリジルエステルまたはアミド、または核に
置換基をもつ安息香酸のアルキレン架橋ピペリジルエス
テルまたはアミドを提供する。ただし a)ピペリジン環の2個の炭素原子間はアルキレン架橋
をもつ安息香酸エステルではフェニル環のオルトまたは
メタ位に少なくとも1個の置換基をもつこと、 b)メタ位またはパラ位は水素またはハロゲンのみであ
って、両側のオルト位が置換されないか、または少なく
とも一側のオルト位にハロゲンまたはアルキル基をもつ
安息香酸の、環炭素原子間にアルキレン架橋をもつピペ
リジルエステルではアルキレン架橋に最低3個の炭素原
子をもつこと、C)ピペリジル基の窒素原子と環炭素原
子との間(I8) にアルキレン架橋をもち−1個のオキシ置換基をもつ安
息香酸エステルでは、当該安息香酸核にオキシ置換基以
外に最低1個の置換基をもつか−または単に2個のオキ
シ置換基をもつこと、d)環に窒素原子を含む6員環の
単環式複素環カルボン酸アミドまたはエステル、或いは
2個の酸系原子を含む環式複素環カルボン酸アミドでは
ピペリジル基の窒素原子と環の炭素原子との間にアルキ
レン架橋をもつこと、 e)安息香酸アミドでは一環のピペリジン窒素と環炭素
原子との間を結合するアルキレン架橋をもつこと、 f)安息香酸アミドではいずれのオルト位にもアルキル
またはヒドロキシまたはハロゲン置換基をもたないこと
、 g)チェノイルおよびナフトイル−8−アザ−ビシクロ
(3,2,1〕〕オクトー3−イルエステは除外するこ
と、とする。
以上の化合物およびそれらの塩、即ち、例えばピペリジ
ル基の窒素原子の酸付加塩および第4級アンモニウム塩
。以下、これらの化合物並ひにその塩はすべて本発明の
化合物に属するものとする。
ル基の窒素原子の酸付加塩および第4級アンモニウム塩
。以下、これらの化合物並ひにその塩はすべて本発明の
化合物に属するものとする。
化合物は任意の位置を置換することかできる。
安息香酸エステルおよびアミドの場合、如何なる置換基
も環を形成しない。化合物の] i!Yはジ炭素環核の
酸である。化合物の他の1群は複素環核の酸であり−こ
の場合2環式であることか望ましく、その1個の環に異
項原子を含むものが都合がよい。
も環を形成しない。化合物の] i!Yはジ炭素環核の
酸である。化合物の他の1群は複素環核の酸であり−こ
の場合2環式であることか望ましく、その1個の環に異
項原子を含むものが都合がよい。
アルキレン架橋は最低3個の炭素をもち、或いはまた、
架橋はピペリジン環の窒素原子に直結してもよい。
架橋はピペリジン環の窒素原子に直結してもよい。
本発明はまた下記式■:
A −C0−R−1,) ■〔式中、Aは
下記式11で表わされる基:を示し式■の遊離原子価は
いずれかの環に付属しており−Xは−Cl−12−1−
NR3−−−0−1または−S −; R,および1(
2は独立して水素、ハロゲン、(C,、、)アルコキシ
、ハイドロキシ、アミ八(lンノ (C1−4)アルキルアミノジ(C1−4)アルキルア
ミノ、メルカプト、または(C1−4)アルキルチオ;
1(3は水素、(C1−4)アルキル、(C3−5)ア
ルケニル、アリールまたはアラルキル基を示す。
下記式11で表わされる基:を示し式■の遊離原子価は
いずれかの環に付属しており−Xは−Cl−12−1−
NR3−−−0−1または−S −; R,および1(
2は独立して水素、ハロゲン、(C,、、)アルコキシ
、ハイドロキシ、アミ八(lンノ (C1−4)アルキルアミノジ(C1−4)アルキルア
ミノ、メルカプト、または(C1−4)アルキルチオ;
1(3は水素、(C1−4)アルキル、(C3−5)ア
ルケニル、アリールまたはアラルキル基を示す。
Aはまた下記式■て表わされる基:
に5
を示し、式■においてに4からR7まではそれぞれ独立
して水素、アミ八ニトロ、(CI、’)アルキルアミへ
ジ(C1−4)アルキルアミ八ハロゲン、(C1−4)
アルコキシ、(C1−4)アルキル、(C1−4)アル
カノイルアミノまたはピロリル基を示す。ただし、R4
とに5との少なくとも1個は水素以外の基とする。
して水素、アミ八ニトロ、(CI、’)アルキルアミへ
ジ(C1−4)アルキルアミ八ハロゲン、(C1−4)
アルコキシ、(C1−4)アルキル、(C1−4)アル
カノイルアミノまたはピロリル基を示す。ただし、R4
とに5との少なくとも1個は水素以外の基とする。
Bは−0−または−NH−を示す。
Dは下記式■で表わされる基:
(20)
を示し式■においてnは2,3または4;に8は水素、
(C1−7)アルキル、(C3−5”アルケニルまたは
アラルキル基を示す。
(C1−7)アルキル、(C3−5”アルケニルまたは
アラルキル基を示す。
或いはまた、Dは下記式■で表わされる基:を示す。
ただし、式1において、(1)Aが式■[の基、BがN
H−である時はDは式■の基; (II) Aが式II
Iの基でそのに4が水素、またはR4がハロゲンまたは
アルキルでに5〜に7にハロゲンまたは水素を選び、目
、つBか−0−1Dが式■の基である時はnは3または
4 ; lD Aが式TIT(7)基、R4−R7のい
ずれか1個がアルコキシ基、Dが式■の基である時は、
その他のに4〜に7の1個が水素とアルコキシ以外の基
、またはR4〜I(7の弔に2個だけがアルコキシ基;
(tv) Aが式■の基でそのR4がアルキルまたは
ハロゲンの時は、Bは一〇−である。〕 で示される化合物、およびそれらの酸付加塩およひ第4
級アンモニウム塩を提供する。
H−である時はDは式■の基; (II) Aが式II
Iの基でそのに4が水素、またはR4がハロゲンまたは
アルキルでに5〜に7にハロゲンまたは水素を選び、目
、つBか−0−1Dが式■の基である時はnは3または
4 ; lD Aが式TIT(7)基、R4−R7のい
ずれか1個がアルコキシ基、Dが式■の基である時は、
その他のに4〜に7の1個が水素とアルコキシ以外の基
、またはR4〜I(7の弔に2個だけがアルコキシ基;
(tv) Aが式■の基でそのR4がアルキルまたは
ハロゲンの時は、Bは一〇−である。〕 で示される化合物、およびそれらの酸付加塩およひ第4
級アンモニウム塩を提供する。
アルキルとしてはメチル、エチルまたはプロピル基のい
ずれでも好ましい。アルコキシル基はメトキシまたはエ
トキシ基が望ましく、アラルキル基はアリール(C1−
4)γルキル基が都合よい。アルケニル基は・アリルま
たはメタリル基が好ましい。
ずれでも好ましい。アルコキシル基はメトキシまたはエ
トキシ基が望ましく、アラルキル基はアリール(C1−
4)γルキル基が都合よい。アルケニル基は・アリルま
たはメタリル基が好ましい。
芳香族アリール部分としては未置換のフェニル基、また
は(C1−4)アルキル、例えばメチル基、ノ10ゲン
、例えばフッ素、水酸基、または(C1−4)アルコキ
シ、例えばメトキシ基によって、1または2個の置換基
をもつフェニル基が望ましい。置換芳香族アリール基と
してはモノ置換体の方が好ましい。アラルキルはベンジ
ル基が都合よく。ノ\ロゲンはフッ素、塩素、臭素また
はヨー素である。
は(C1−4)アルキル、例えばメチル基、ノ10ゲン
、例えばフッ素、水酸基、または(C1−4)アルコキ
シ、例えばメトキシ基によって、1または2個の置換基
をもつフェニル基が望ましい。置換芳香族アリール基と
してはモノ置換体の方が好ましい。アラルキルはベンジ
ル基が都合よく。ノ\ロゲンはフッ素、塩素、臭素また
はヨー素である。
Aは式■の基が都合よい。
式■の基において、カルボニル側鎖は核の2゜3.4.
5.6または7位の環炭素原子に付けてよいが、4およ
び5位が好ましい。最も好ましいカルボニル基の位置は
Xを含む環の特に3位である。好ましいAはインドール
基である。
5.6または7位の環炭素原子に付けてよいが、4およ
び5位が好ましい。最も好ましいカルボニル基の位置は
Xを含む環の特に3位である。好ましいAはインドール
基である。
klは核の4.5.6または7位の環炭素原子に付けら
れるが、5位が好ましく−−は核の2または3位の環炭
素原子に伺けられる。例えばI匂が2位にあってハイド
ロキシ基またはメルカプト基である時の互変異性体も式
■に含まれる。
れるが、5位が好ましく−−は核の2または3位の環炭
素原子に伺けられる。例えばI匂が2位にあってハイド
ロキシ基またはメルカプト基である時の互変異性体も式
■に含まれる。
R3は水素またはアルキルが都合よい。nは3または4
がよく−3の方がより望ましい。
がよく−3の方がより望ましい。
式■の基において望ましいのは
1(がハロゲン、(C1−4)アルキルアミノ基タは(
CI−4)アルコキシ; に5がハロゲンまたは水素; R6が水素、アミ八ニトロ、(C1−4)アルキルアミ
ノ、またはジ(C14’)アルキルアミノ−ハロゲンま
たはl−ピロリル; R7が水素またはハロゲン; てあり、R6は水素、ハロゲンまたはピロリル基以外が
都合よい。式■の基において、R7はハロゲン、好まし
くは塩素またはヨー素、特に塩素が好ましい。
CI−4)アルコキシ; に5がハロゲンまたは水素; R6が水素、アミ八ニトロ、(C1−4)アルキルアミ
ノ、またはジ(C14’)アルキルアミノ−ハロゲンま
たはl−ピロリル; R7が水素またはハロゲン; てあり、R6は水素、ハロゲンまたはピロリル基以外が
都合よい。式■の基において、R7はハロゲン、好まし
くは塩素またはヨー素、特に塩素が好ましい。
式■の基の他の例としては、3.5−ジメトキシ(23
) フェニル、3,5−ジメチルフェニルおよび特に3゜5
−ジクロロフェニル基が含まれる。またこれに代えて式
■の基として3−クロロ、3−メチルまたは3,4.5
−トリメトキシフェニル基でもよい。
) フェニル、3,5−ジメチルフェニルおよび特に3゜5
−ジクロロフェニル基が含まれる。またこれに代えて式
■の基として3−クロロ、3−メチルまたは3,4.5
−トリメトキシフェニル基でもよい。
式■の基には異なる配置が存在する。例えば、B部分が
結合する窒素と炭素とを含む6員環(以下ピペリジン環
という)は椅子型または母型の配置または中間型の配置
をとる。
結合する窒素と炭素とを含む6員環(以下ピペリジン環
という)は椅子型または母型の配置または中間型の配置
をとる。
B部分に2個の異なる立体配置がある。ピペリジン環の
炭素原子を通して平面を画き、これを参照して■の基の
配置を考えることにより理解することができる。窒素原
子は平面の上側にあり、アルキレン架橋は平面の下側に
ある。B部分が平面の下方でアルキレン架橋と同側にあ
る時はα−配置をもつ。この配置はエンド配置であり、
またトロピン等の配置に対応する。B部分が平面の上方
で窒素架橋と同側にある時はβ配置をもつ。これはエキ
ソ配置であり、またプソイドトロピン等の配置と対応す
る。以下エキソ/エンドの命名法を用いる。エンド異性
体の方が望ましい。
炭素原子を通して平面を画き、これを参照して■の基の
配置を考えることにより理解することができる。窒素原
子は平面の上側にあり、アルキレン架橋は平面の下側に
ある。B部分が平面の下方でアルキレン架橋と同側にあ
る時はα−配置をもつ。この配置はエンド配置であり、
またトロピン等の配置に対応する。B部分が平面の上方
で窒素架橋と同側にある時はβ配置をもつ。これはエキ
ソ配置であり、またプソイドトロピン等の配置と対応す
る。以下エキソ/エンドの命名法を用いる。エンド異性
体の方が望ましい。
(24)
R8はアルキルであって特にメチル基が好ましい。
式■の基にはまたキヌクリジニル基が知られている。3
−または4−キヌクリジニル基が都合よく、特に3−キ
ヌクリジニル基がよい。
−または4−キヌクリジニル基が都合よく、特に3−キ
ヌクリジニル基がよい。
化合物の1群は式I、a:
に5Pa
〔式中、R4Paはハロゲン、(C1−4)アルキルア
ミンまたは(C,−4)アルコキシ基に5.aは水素 R6Paはアミ/−(C,、)アルキルアミノまたはジ
(C1−4)アルキルアミノ基 に7.aは水素またはフッ素、塩素または臭素に8Pa
は水素−(C0−7)アルキルまたはアラルキル基であ
る。〕 の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
ミンまたは(C,−4)アルコキシ基に5.aは水素 R6Paはアミ/−(C,、)アルキルアミノまたはジ
(C1−4)アルキルアミノ基 に7.aは水素またはフッ素、塩素または臭素に8Pa
は水素−(C0−7)アルキルまたはアラルキル基であ
る。〕 の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
化合物の他の1群は安息香酸のインペレチェリン(ホモ
トロパン)エステル類−特に式■Pl)二に5Pa (式中、R4Pa−R5Pa、に6Pa−R8Pa
は先に定義した通りであり、R7Pbは水素またはハロ
ケンである。) の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
トロパン)エステル類−特に式■Pl)二に5Pa (式中、R4Pa−R5Pa、に6Pa−R8Pa
は先に定義した通りであり、R7Pbは水素またはハロ
ケンである。) の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
瑠
3
(式中、遊離原子価は縮合環のいずれかに付属し、n′
は2または3、kl、R2、R3およびに8は先に定義
した通りである。) の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
は2または3、kl、R2、R3およびに8は先に定義
した通りである。) の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
(27)
化合物の他の1群はインドールカルボン酸のトロピンま
たはイソペレチェリン(ホモトロパン)エステル類、特
に式IQ+)’ ](3q +) 〔式中、遊離原子価は縮合環のいずれかに付属し、k1
□bおよびR,9,)はそれぞれ独立して水素、ハロゲ
ンまたハ(C1−4)アルキル−R3q bは水素また
は(C]−4)アルキル、k8Ql)は水素または(C
1−7)アルキル、n′は先に定義した通りである。〕 の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
たはイソペレチェリン(ホモトロパン)エステル類、特
に式IQ+)’ ](3q +) 〔式中、遊離原子価は縮合環のいずれかに付属し、k1
□bおよびR,9,)はそれぞれ独立して水素、ハロゲ
ンまたハ(C1−4)アルキル−R3q bは水素また
は(C]−4)アルキル、k8Ql)は水素または(C
1−7)アルキル、n′は先に定義した通りである。〕 の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
更に化合物のもう1群はインドールカルホン酸のトロピ
ンおよびイソトロピン(ホモトロパン)アミドであって
、特に式■9c: (28) 3 〔式中、遊離原子価は縮合環のいずれかに付属し、k2
QCは先に定義したR2のうち(C1−4)アルコキシ
およびヒドロキシ以外の基であり、n′、kl、R3、
R8は先に定義した通りである。〕の化合物、およびそ
れらの酸°付加塩および第4級アンモニウム塩を特徴と
する。
ンおよびイソトロピン(ホモトロパン)アミドであって
、特に式■9c: (28) 3 〔式中、遊離原子価は縮合環のいずれかに付属し、k2
QCは先に定義したR2のうち(C1−4)アルコキシ
およびヒドロキシ以外の基であり、n′、kl、R3、
R8は先に定義した通りである。〕の化合物、およびそ
れらの酸°付加塩および第4級アンモニウム塩を特徴と
する。
化合物の他の1群は安息香酸のキヌクリジニルエステル
であって、特に式’sa ’ に5Pa (式中−に4,3、R5,a、に6.aおよびに7Pa
は先に定義した通りである。) の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
であって、特に式’sa ’ に5Pa (式中−に4,3、R5,a、に6.aおよびに7Pa
は先に定義した通りである。) の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
更に化合物のもう1群は安息香酸のキヌクリジニルアミ
ドであって−特に式’sb ’に5pa (式中、R4Pa−R5Pa−R6,aおよび1(7,
l)は先に定義した通りである。) の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
ドであって−特に式’sb ’に5pa (式中、R4Pa−R5Pa−R6,aおよび1(7,
l)は先に定義した通りである。) の化合物、およびそれらの酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩を特徴とする。
本発明は更に、適当なジ炭素環式または複素環式カルボ
ン酸または安息香酸またはそれらの反応性酸誘導体、或
いはまたそれら酸の前駆体または誘導体と、適当なアル
キレン架橋ピペリジルアミンまたはピペリジツールまた
はその前駆体との縮合方法と、または必要に応じ、合成
したピペリジルエステルまたはアミド、またはそれらの
酸付加塩または第4級アンモニウム塩を、所望のピペリ
ジルエステルまたはアミドまたはそれらの酸付加塩また
は第4級アンモニウム塩に転換し、得られたピペリジル
エステル たはそれらの酸付加塩または第4級アンモニウム塩とし
て回収する方法とを含む本発明化合物の製造方法を提供
する。
ン酸または安息香酸またはそれらの反応性酸誘導体、或
いはまたそれら酸の前駆体または誘導体と、適当なアル
キレン架橋ピペリジルアミンまたはピペリジツールまた
はその前駆体との縮合方法と、または必要に応じ、合成
したピペリジルエステルまたはアミド、またはそれらの
酸付加塩または第4級アンモニウム塩を、所望のピペリ
ジルエステルまたはアミドまたはそれらの酸付加塩また
は第4級アンモニウム塩に転換し、得られたピペリジル
エステル たはそれらの酸付加塩または第4級アンモニウム塩とし
て回収する方法とを含む本発明化合物の製造方法を提供
する。
特に本発明は一式丁の化合物並びにそれらの酸イ・1加
塩または第4級アンモニウム塩に関し、下記の手段を含
む製造方法を提供する。即ち21)下記式■: A−GO−01( VI(式中、
Aは先に定義した通りである)の適当な化合物或いは反
応性に富むその誘導体、または酸の前駆物質または誘導
体と、下記式■:I■B − D
VII(式中、BおよびDは
先に定義した通りである)の適当な化合物またはその化
合物の前駆物質とを縮合する手段。または b)第2級アミン基を持つ式■の化合物をアルキル化し
、第4級アミン基を持つ式1の化合物を製造する手段。
塩または第4級アンモニウム塩に関し、下記の手段を含
む製造方法を提供する。即ち21)下記式■: A−GO−01( VI(式中、
Aは先に定義した通りである)の適当な化合物或いは反
応性に富むその誘導体、または酸の前駆物質または誘導
体と、下記式■:I■B − D
VII(式中、BおよびDは
先に定義した通りである)の適当な化合物またはその化
合物の前駆物質とを縮合する手段。または b)第2級アミン基を持つ式■の化合物をアルキル化し
、第4級アミン基を持つ式1の化合物を製造する手段。
または
(31)
C)式■の化合物の保護型を脱保護し、式■の化合物を
得る手段。または d)式■においてーAが式1丁の基でありに2力S水素
である化合物をハロゲン化してーR2が710ゲンであ
る対応する化合物を11fる手段。またはe)式■にお
いて、八か式■の基でありに2カ’+t−ロゲンである
化合物をアルコキシル化して、■(2がアル −コキシ
ル基である対応する化合物を得る手段。および、 生成した式■の化合物それ自体、またはその酸付加塩ま
たは第4級アンモニウム塩として回収する手段を含む。
得る手段。または d)式■においてーAが式1丁の基でありに2力S水素
である化合物をハロゲン化してーR2が710ゲンであ
る対応する化合物を11fる手段。またはe)式■にお
いて、八か式■の基でありに2カ’+t−ロゲンである
化合物をアルコキシル化して、■(2がアル −コキシ
ル基である対応する化合物を得る手段。および、 生成した式■の化合物それ自体、またはその酸付加塩ま
たは第4級アンモニウム塩として回収する手段を含む。
アミドおよびエステルを得る本発明の縮合方法は類似化
合物で行なわれる通常の方法により遂行される。
合物で行なわれる通常の方法により遂行される。
例えば、特にアミド類の製造にはカルホン酸基は反応性
に富んだ酸誘導体の形で活性化される。
に富んだ酸誘導体の形で活性化される。
N,N’−カルボニルイミダゾールとの反応により中間
体カルボン酸イミタゾリドを作ることによって、または
N−ヒドロキシサクシンイミドとの(32) 反応により、適当な反応性に富んだ酸誘導体を作ること
ができる。またその代わりとして、例えばオキサリルク
ロライドとの反応によって作られる酸クロライドを用い
てもよい。
体カルボン酸イミタゾリドを作ることによって、または
N−ヒドロキシサクシンイミドとの(32) 反応により、適当な反応性に富んだ酸誘導体を作ること
ができる。またその代わりとして、例えばオキサリルク
ロライドとの反応によって作られる酸クロライドを用い
てもよい。
エステルの製造にはアルコールを、例えはリチウム塩が
好ましいがアルカリ金属塩の形で使うとよい。このよう
な塩は、例えばテトラヒドロフラン中でn−ブチルリチ
ウムをアルコールと反応させる如く、常法により作るこ
とかできる。必要ならは、特にアミド類の製造の場合、
例えばピリジンまたはトリエチルアミンの如き複素環式
または第3級アミンを存在させてもよい。
好ましいがアルカリ金属塩の形で使うとよい。このよう
な塩は、例えばテトラヒドロフラン中でn−ブチルリチ
ウムをアルコールと反応させる如く、常法により作るこ
とかできる。必要ならは、特にアミド類の製造の場合、
例えばピリジンまたはトリエチルアミンの如き複素環式
または第3級アミンを存在させてもよい。
適当な反応温度は約−10°〜約10°Cである。
BがNl(でDが式■の基の化合物の場合、反応温度は
例えば煮肌メタノールまたはエタノール中で、例えば約
100°Cまて上昇させてもよい。
例えば煮肌メタノールまたはエタノール中で、例えば約
100°Cまて上昇させてもよい。
その他の不活性有機溶媒として適当なものには例えはテ
トラヒドロフランやジメトキシエタンか挙げられる。
トラヒドロフランやジメトキシエタンか挙げられる。
(33)
これらの反応中で、式■の基の置換体をもつBのエンド
またはエキソ配置はそのままに保たれるものと信じられ
る。式■の化合物はもし望むならば、エンドとエキソ異
性体の混合物として反応させ、例えばクロマトグラフィ
ーまたは結晶化によって純粋なエンドまたはエキソ異性
体を分離してもよい。
またはエキソ配置はそのままに保たれるものと信じられ
る。式■の化合物はもし望むならば、エンドとエキソ異
性体の混合物として反応させ、例えばクロマトグラフィ
ーまたは結晶化によって純粋なエンドまたはエキソ異性
体を分離してもよい。
発明化合物は他の発明化合物に、例えば常法により転換
できる。ある種の相互転換はb)、C)、d)およびC
)の工程に例示される。
できる。ある種の相互転換はb)、C)、d)およびC
)の工程に例示される。
b)工程のアルキル化反応は常法により行なわれる。い
ずれの遊離アミノ基もアルキル化され、特に式■のうち
X−NHの化合物類はアルキル化される。アルキル化反
応の好適条件はナトリウムアルコレートの存在でハロゲ
ン化アルキルによる反応で行なわれる。適当な温度は約
−50〜約−30℃である。
ずれの遊離アミノ基もアルキル化され、特に式■のうち
X−NHの化合物類はアルキル化される。アルキル化反
応の好適条件はナトリウムアルコレートの存在でハロゲ
ン化アルキルによる反応で行なわれる。適当な温度は約
−50〜約−30℃である。
C)工程の脱保護反応は、例えば式■の基でR8−Hの
如き第2級アミノ基をもつ化合物またはに6−Nl−1
2の如き第1級アミノ基をもつ化合物(34) の製造に特に適している。
如き第2級アミノ基をもつ化合物またはに6−Nl−1
2の如き第1級アミノ基をもつ化合物(34) の製造に特に適している。
例えば、式■の化合物でに8がベンジルの如き第2級ア
ミン保護基で置換されている保護型を作ってもよい。ベ
ンジル基は水素添加の如き通常の方法により脱離し、R
8が水素である対応する式■の化合物を生成することが
できる。
ミン保護基で置換されている保護型を作ってもよい。ベ
ンジル基は水素添加の如き通常の方法により脱離し、R
8が水素である対応する式■の化合物を生成することが
できる。
適当な水素添加反応は活性炭付パラジウムの存在で室温
または僅かに温度を上昇させて行なわれる。溶媒として
は酢酸、酢酸エチルまたはエタノールが適している。
または僅かに温度を上昇させて行なわれる。溶媒として
は酢酸、酢酸エチルまたはエタノールが適している。
R6の第1級アミン基はN−ベンジルオキシカルボニル
基などにより保護してもよい。この基は上記と同様な水
素添加反応により脱離される。ベンジル基がある場合、
N−ベンジルオキシカルボニル基は通常まず最初に脱離
されるので、この基は選択的脱離反応に適している。
基などにより保護してもよい。この基は上記と同様な水
素添加反応により脱離される。ベンジル基がある場合、
N−ベンジルオキシカルボニル基は通常まず最初に脱離
されるので、この基は選択的脱離反応に適している。
またアミン基はニトロ基の形にしてもよい。これは鉄と
塩酸の如き常法によって選択的に還元することができる
。
塩酸の如き常法によって選択的に還元することができる
。
d)工程によるハロゲン化反応は常法に従って行なわれ
る。例えばN−クロロ−サクシンイミドを用いることに
よりクロール化される。このような反応はクロロホルム
中に懸濁して行なわれる。
る。例えばN−クロロ−サクシンイミドを用いることに
よりクロール化される。このような反応はクロロホルム
中に懸濁して行なわれる。
代わりにN−ヨードーサクシンイミドを用いた反応では
ヨード化が行なわれる。
ヨード化が行なわれる。
e)工程による反応性ハロゲンの置換は、例えば室温で
最低10〜20時間、適当なアルコールと反応させる如
き常法により行なわれる。
最低10〜20時間、適当なアルコールと反応させる如
き常法により行なわれる。
もし望むなら、出発物質の前駆物質を使用してもよい。
そのような前駆物質は常法により出発物質に転換できる
が、その代わりに、本発明方法は前駆物質とその他の出
発物質または複数の物質またはその前駆物質を用いて行
なわれる。生成物質は常法により、例えば前駆物質を出
発物質に転換した条件と同じ反応を用いることにより発
明物質(こ転換される。典型的な前駆物質には例えばア
ミン基が一時的に保護されるような出発物質の保護型式
が含まれる。
が、その代わりに、本発明方法は前駆物質とその他の出
発物質または複数の物質またはその前駆物質を用いて行
なわれる。生成物質は常法により、例えば前駆物質を出
発物質に転換した条件と同じ反応を用いることにより発
明物質(こ転換される。典型的な前駆物質には例えばア
ミン基が一時的に保護されるような出発物質の保護型式
が含まれる。
発明物質は通常の方法で分離し精製することができる〇
(35)
出発物質の製法に関する限り、よく知られているもの、
またはよく知られている化合物と類似の方法、本特許中
例えば実施例に記載した方法と類似の方法、または類似
物質の製法としてよく知られている方法により製造され
るものについては特に記載していない。
またはよく知られている化合物と類似の方法、本特許中
例えば実施例に記載した方法と類似の方法、または類似
物質の製法としてよく知られている方法により製造され
るものについては特に記載していない。
式■の化合物で、そのBが−N)I−1Dが式IVの基
でそのnが4である化合物類は新規であり、本特許の一
部をなしている。これらの化合物は種々の一般的開示の
中に入る(こもかかわらず、今まで個々に示唆されたこ
とが一度もなかった。
でそのnが4である化合物類は新規であり、本特許の一
部をなしている。これらの化合物は種々の一般的開示の
中に入る(こもかかわらず、今まで個々に示唆されたこ
とが一度もなかった。
それらの化合物は、例えば興味ある薬理的性質を有し、
例えはセロトニンM拮抗物質として従来未知であり、ま
た更に後(こ示す如き他の活性を有するアミド類製造の
中間体として有用である。
例えはセロトニンM拮抗物質として従来未知であり、ま
た更に後(こ示す如き他の活性を有するアミド類製造の
中間体として有用である。
これら式■の化合物は、他の式■のBが−NH−である
化合物の如く、例えば対応するオキシムを還元すること
により製造できる。式■のBが→−である化合物は常法
の如く対応するケトンを還元することにより製造できる
。
化合物の如く、例えば対応するオキシムを還元すること
により製造できる。式■のBが→−である化合物は常法
の如く対応するケトンを還元することにより製造できる
。
(36)
上記のすべての還元は、例えば白金による接触水素添加
反応(主としてエンド異性体を生ずると信じられる)、
例えばナトリウム/アミルアルコールまたはブタノール
によるブボー・プラン(Bouveaul t −Bl
anc )反応(主としてエキソ異性体を生ずると信
じられる)、またはアルミニウム・ハイドライド法また
はナトリウムボロハイドライド法(しばしばエンド/エ
キソ異性体混合物を生じる)により行なわれる。
反応(主としてエンド異性体を生ずると信じられる)、
例えばナトリウム/アミルアルコールまたはブタノール
によるブボー・プラン(Bouveaul t −Bl
anc )反応(主としてエキソ異性体を生ずると信
じられる)、またはアルミニウム・ハイドライド法また
はナトリウムボロハイドライド法(しばしばエンド/エ
キソ異性体混合物を生じる)により行なわれる。
エキソおよびエンド異性体混合物はすべてクロマトグラ
フィー法により分離される。
フィー法により分離される。
発明化合物の遊離塩基型は塩の形に変えられる。
例えば酸付加塩は適当な酸と反応せしめ常法により製造
でき、逆もまた同様である。塩を作る酸として適当な酸
は塩酸、マロン酸、臭化水素酸、マレイン酸、リンゴ酸
、フマーレレ酸、メタンスルホン酸、蓚酸および酒石酸
が含まれる。本発明化合物の第4級アンモニウム塩は例
えばヨー化メチルと反応させるように常法により製造さ
れる。
でき、逆もまた同様である。塩を作る酸として適当な酸
は塩酸、マロン酸、臭化水素酸、マレイン酸、リンゴ酸
、フマーレレ酸、メタンスルホン酸、蓚酸および酒石酸
が含まれる。本発明化合物の第4級アンモニウム塩は例
えばヨー化メチルと反応させるように常法により製造さ
れる。
以下の実施例におけるすべての温度は摂氏で表わされ、
未補正である。すべての核磁気共鳴スペクトルの値はP
pmで示す(テトラメチルシラン=Oppm)。
未補正である。すべての核磁気共鳴スペクトルの値はP
pmで示す(テトラメチルシラン=Oppm)。
命名法
エンド−8−メチル−8−アサ−ビシクロ〔3゜2.1
〕オクト−3−イル−トロピルまたはα−トロピル エキソ−8−メチル−8−アザ−ビシクロC3,2゜1
〕オクト−3−イル−プソイド−またはβ−トロピル エンド−9−メチル−9−アザ−ビシクロ[、3,3゜
1〕ノン−3−イルーイソペレチェリニルまたはα−ホ
モトロノぐニル エキソ−9−メチル−9−アザ−ビシクロ〔3,3゜1
〕ノン−3−イルーβ−インペレチェリニルまたはβ−
ホモトロパニルまたはプソイドペレチェリニル 1〜アサ−ビシクロ[2,2,21オクチル−キヌクリ
ジニル 実施例A−2; A−3;およびB−5の標題化の化合
物の立体配置は特に述べない限り純粋なものを用いた式
■の出発物質の立体配置に従うものと信じられた。
〕オクト−3−イル−トロピルまたはα−トロピル エキソ−8−メチル−8−アザ−ビシクロC3,2゜1
〕オクト−3−イル−プソイド−またはβ−トロピル エンド−9−メチル−9−アザ−ビシクロ[、3,3゜
1〕ノン−3−イルーイソペレチェリニルまたはα−ホ
モトロノぐニル エキソ−9−メチル−9−アザ−ビシクロ〔3,3゜1
〕ノン−3−イルーβ−インペレチェリニルまたはβ−
ホモトロパニルまたはプソイドペレチェリニル 1〜アサ−ビシクロ[2,2,21オクチル−キヌクリ
ジニル 実施例A−2; A−3;およびB−5の標題化の化合
物の立体配置は特に述べない限り純粋なものを用いた式
■の出発物質の立体配置に従うものと信じられた。
表中、6立体配置”と題した列は’B−D群の立体配置
をエンドまたはエキソで示したものである。
をエンドまたはエキソで示したものである。
“製法”と題した列は製造方法を記した八−系列の実施
例のナンバーを示した。
例のナンバーを示した。
使用略字:
]II−I −5−クロロ−2−メトキシ−4−メチ
ルアミノフェニル m−II =2−メトキシ−4−ジメチルアミノフェ
ニル III−m =4−アミノ−5−クロロ−2−メトキ
シフェニル M−]V −4−アミノ−2−メトキシフェニルII
I−V =3−ヨード−2−メトキシフェニル−4−
メチルアミノフェニル I[−VI−5−クロロ−2−メトキシ−4−ジメチル
アミノフェニル (6ソノ ■−■ −2−クロロ−4−アミノフェニル■−■ =
3−ヨード−4−アミノ−2−メトキシフェニル JII−IX=2−メトキシ−4−メチルアミノフェニ
ル III−X =2−クロロ−4−ニトロフェニルll
l−Xl−4−ブロモ−2−メトキシフェニル]1[−
XI −3,5−ジクロロフェニル間1■−5−クロロ
−2−メトキシ−4−(1−ピロリル)フェニル IT−XIV=2−メトキシ−4−(1−ピロリル)フ
ェニル ■)酸性マレイン酸塩 2)酸性マレイン酸塩 3)分解 4)ビス〔ベース〕フマレート 5)対応する4−二トロ化合物を還元して得る6)臭化
水素酸塩 7)イミダゾリル中間体を経由して 8)エキソ型はHN、M、R,で約5.15 ppmに
C−(40) 3Hブロードマルチプレツト。エンド型は5゜I PP
mにC−3Hダブルトリプレット。エキソアルコールは
シリカゲル−CI−I261215%C■]30H15
%NlI40I−■ 溶媒によりエンド異性体より前
に溶出される 9)酸性蓚酸塩 10)ピリジンの代わりにトリエチルアミンの存在で 実施例 A−1:N(エンド−9−メチル−9−アザ−
ビシクロ[3,3,1]ノン−3−イル)インドール−
3−イルカルボン酸アミド、別称N−(3α−ホモトロ
パニル)−インドール−3−イルカルボン酸アミド(a
法) (式■の化合物中、A=3位で結合する■;R工=に2
二H; X=NH; TS=NH; D−]V、α配
置; n = 3 ; R,、= CIT3)a)イン
ドール−3−イルカルボン酸クロライド乾燥インドール
−3−イルカルボン酸32.2g(0,2M)を無水メ
チレンクロライド150m1に懸濁する。蓚酸クロライ
ド26+++l(0,3M)をffi拌混合液へ20℃
、30分間で加える。ガスが発生する。混合液は20℃
で31/2時間攪拌する。ヘキサン1.50 mlを加
える。混合液を更に20分間攪拌し、生成した標記化合
物を諷取し、メチレンクロライド/ヘキサン1:1で洗
浄し、減圧下ζこ20℃で乾燥しベージュ色の結晶を得
る。融点135−136°(分解)。氷晶は精製するこ
とな(次の反応に用いる。
ルアミノフェニル m−II =2−メトキシ−4−ジメチルアミノフェ
ニル III−m =4−アミノ−5−クロロ−2−メトキ
シフェニル M−]V −4−アミノ−2−メトキシフェニルII
I−V =3−ヨード−2−メトキシフェニル−4−
メチルアミノフェニル I[−VI−5−クロロ−2−メトキシ−4−ジメチル
アミノフェニル (6ソノ ■−■ −2−クロロ−4−アミノフェニル■−■ =
3−ヨード−4−アミノ−2−メトキシフェニル JII−IX=2−メトキシ−4−メチルアミノフェニ
ル III−X =2−クロロ−4−ニトロフェニルll
l−Xl−4−ブロモ−2−メトキシフェニル]1[−
XI −3,5−ジクロロフェニル間1■−5−クロロ
−2−メトキシ−4−(1−ピロリル)フェニル IT−XIV=2−メトキシ−4−(1−ピロリル)フ
ェニル ■)酸性マレイン酸塩 2)酸性マレイン酸塩 3)分解 4)ビス〔ベース〕フマレート 5)対応する4−二トロ化合物を還元して得る6)臭化
水素酸塩 7)イミダゾリル中間体を経由して 8)エキソ型はHN、M、R,で約5.15 ppmに
C−(40) 3Hブロードマルチプレツト。エンド型は5゜I PP
mにC−3Hダブルトリプレット。エキソアルコールは
シリカゲル−CI−I261215%C■]30H15
%NlI40I−■ 溶媒によりエンド異性体より前
に溶出される 9)酸性蓚酸塩 10)ピリジンの代わりにトリエチルアミンの存在で 実施例 A−1:N(エンド−9−メチル−9−アザ−
ビシクロ[3,3,1]ノン−3−イル)インドール−
3−イルカルボン酸アミド、別称N−(3α−ホモトロ
パニル)−インドール−3−イルカルボン酸アミド(a
法) (式■の化合物中、A=3位で結合する■;R工=に2
二H; X=NH; TS=NH; D−]V、α配
置; n = 3 ; R,、= CIT3)a)イン
ドール−3−イルカルボン酸クロライド乾燥インドール
−3−イルカルボン酸32.2g(0,2M)を無水メ
チレンクロライド150m1に懸濁する。蓚酸クロライ
ド26+++l(0,3M)をffi拌混合液へ20℃
、30分間で加える。ガスが発生する。混合液は20℃
で31/2時間攪拌する。ヘキサン1.50 mlを加
える。混合液を更に20分間攪拌し、生成した標記化合
物を諷取し、メチレンクロライド/ヘキサン1:1で洗
浄し、減圧下ζこ20℃で乾燥しベージュ色の結晶を得
る。融点135−136°(分解)。氷晶は精製するこ
とな(次の反応に用いる。
1))9−メチル−9−アザ−ビシクロ(3,3,1E
ノナン−3−オンオキシム(別称3−ホモトロパノンオ
キシム) 酢酸ナトリウム176g(2,15M)とヒドロキシル
アミン塩酸塩150g(2,1,5M)とを乳鉢中で薄
い糊状になるまでつき砕き、メタノール1リツトルで抽
出し、塩を諷去し、ρ液をエンド−9−メチル−9−ア
ザ−ビシクロ[3,3,1]ノナン−3−オン(3−ホ
モトロパン)99.5g(0,65M)で処理する。オ
キシムが10分後から結晶し始める。混合物を更に4時
間20℃で攪拌する。反応終了後、混合物を減圧下に濃
縮し、残(43) ツブロバノールを含むクロロホルムで抽出する。
ノナン−3−オンオキシム(別称3−ホモトロパノンオ
キシム) 酢酸ナトリウム176g(2,15M)とヒドロキシル
アミン塩酸塩150g(2,1,5M)とを乳鉢中で薄
い糊状になるまでつき砕き、メタノール1リツトルで抽
出し、塩を諷去し、ρ液をエンド−9−メチル−9−ア
ザ−ビシクロ[3,3,1]ノナン−3−オン(3−ホ
モトロパン)99.5g(0,65M)で処理する。オ
キシムが10分後から結晶し始める。混合物を更に4時
間20℃で攪拌する。反応終了後、混合物を減圧下に濃
縮し、残(43) ツブロバノールを含むクロロホルムで抽出する。
有機層を分取し少量の水で洗い、硫酸す1−リウムで乾
燥後濃縮して標記化合物を得る。融点126−127°
(トルエン/ヘキサンから再結晶)。
燥後濃縮して標記化合物を得る。融点126−127°
(トルエン/ヘキサンから再結晶)。
C) エンド−9−メチル−9−アザ−ビシクロ〔3
,3,1〕ノン−3−イルアミン(別称3α−アミノ−
ホモトロパン) 濃硫酸50.5 ml (0,95M )の無水テトラ
ヒドロフラン200m1溶液をリチウムアルミニラムノ
1イドライド73g(1,9M)の無水テトラヒドロフ
ラン900.d冷溶液lこ攪拌しつつ一10℃で2時間
以内に加える。混合液を一夜放置する。エンド−9−メ
チル−9−アザーヒンクロ[3,3,1]ノナン−3−
オンオキシム80g(0,4−75M)の無水テトラヒ
ドロフラン1.4リツトル溶液を混合液に30°で攪拌
しつつ30分間で滴下し、更に40で3時間反応せしめ
る。反応終了後、反応混合液ヲ100に冷却し、水15
0 miのテトラヒドロ7ラン150rnl混合液を注
意深く加える。混合液(44) を30℃で1時間攪拌する。生成した結晶をρ去する。
,3,1〕ノン−3−イルアミン(別称3α−アミノ−
ホモトロパン) 濃硫酸50.5 ml (0,95M )の無水テトラ
ヒドロフラン200m1溶液をリチウムアルミニラムノ
1イドライド73g(1,9M)の無水テトラヒドロフ
ラン900.d冷溶液lこ攪拌しつつ一10℃で2時間
以内に加える。混合液を一夜放置する。エンド−9−メ
チル−9−アザーヒンクロ[3,3,1]ノナン−3−
オンオキシム80g(0,4−75M)の無水テトラヒ
ドロフラン1.4リツトル溶液を混合液に30°で攪拌
しつつ30分間で滴下し、更に40で3時間反応せしめ
る。反応終了後、反応混合液ヲ100に冷却し、水15
0 miのテトラヒドロ7ラン150rnl混合液を注
意深く加える。混合液(44) を30℃で1時間攪拌する。生成した結晶をρ去する。
ρ過残渣はメチレンクロライドおよびエーテルで洗う。
有機層を合わせ蒸留することにより標記化合物(沸点1
.15−119°)を得る。
.15−119°)を得る。
(よく理解されるように、還元により主にエンド体が与
えられる。8−メチル−8−アザ−ビシクロ[3,2,
1:]]オクタンー3−オンオキシの同様の還元反応で
はエキソ体が得られる)。
えられる。8−メチル−8−アザ−ビシクロ[3,2,
1:]]オクタンー3−オンオキシの同様の還元反応で
はエキソ体が得られる)。
rl)N−(エンド−9−メチル−9−アザ−ビシクロ
[3,3,1]ノン−3−イル)インドール−3−イル
カルボン酸アミド エンド−9−メチル−9−アザ−ビシクロ〔3゜3.1
〕ノン−3−イルアミ715.4 g (0,1M)の
無水ピリジン50m1溶液をインドール−3−イルカル
ホン酸りoライ)’14.5g(0,08M)’(工程
aで製造)の無水メチレンクロライド5〇−攪拌懸濁液
へ一り0℃〜O℃で滴下する。
[3,3,1]ノン−3−イル)インドール−3−イル
カルボン酸アミド エンド−9−メチル−9−アザ−ビシクロ〔3゜3.1
〕ノン−3−イルアミ715.4 g (0,1M)の
無水ピリジン50m1溶液をインドール−3−イルカル
ホン酸りoライ)’14.5g(0,08M)’(工程
aで製造)の無水メチレンクロライド5〇−攪拌懸濁液
へ一り0℃〜O℃で滴下する。
得られた黄色の懸濁液を20’Cに加温し、−夜攪拌を
続ける。反応終了後、2N炭酸ナトリウム水溶液を加え
る。混合液をメチレンクロライドで数回抽出し、以下常
法により処理する。標記化合物は3回再結晶して得られ
る。融点24.7−24.9(分解)。
続ける。反応終了後、2N炭酸ナトリウム水溶液を加え
る。混合液をメチレンクロライドで数回抽出し、以下常
法により処理する。標記化合物は3回再結晶して得られ
る。融点24.7−24.9(分解)。
実施例A−2:インドールー3−イルカルボン酸エンド
−8−メチル−8−アザ−ビシクロ[3,2゜1〕オク
ト−3−イルエステル(a法)(式■の化合物中、A=
3位で結合するT[;R1=R2−=H; X=NTT
; n=o ; D:■、α位置;n−2;R8−C
Tl3) エンド−8−メチル−8−アザ−ビシクロ〔3゜2.1
〕オクタン−3−オール(トロピン)6.35g(45
mM)の無水テトラヒドロフラン20.、を溶液をブチ
ルリチウムの2モルヘキサン溶液17−で00〜10°
で処理する。混合液を更に30分間攪拌する。ヘキサン
を減圧下(と留去し、代わりにテトラヒドロフランの対
応量を加えることによりリチウム塩を得る。
−8−メチル−8−アザ−ビシクロ[3,2゜1〕オク
ト−3−イルエステル(a法)(式■の化合物中、A=
3位で結合するT[;R1=R2−=H; X=NTT
; n=o ; D:■、α位置;n−2;R8−C
Tl3) エンド−8−メチル−8−アザ−ビシクロ〔3゜2.1
〕オクタン−3−オール(トロピン)6.35g(45
mM)の無水テトラヒドロフラン20.、を溶液をブチ
ルリチウムの2モルヘキサン溶液17−で00〜10°
で処理する。混合液を更に30分間攪拌する。ヘキサン
を減圧下(と留去し、代わりにテトラヒドロフランの対
応量を加えることによりリチウム塩を得る。
インドール−3−イルカルボン酸クロライド4.8g(
27mM)のテトラヒドロフラン2omz溶液をこの混
合液に加え、ベージュ色の懸濁液を20℃で一夜攪拌を
続ける。混合液を常法通りメチレンクロライドと炭酸ナ
トリウムで分液処理し標記化合物の粗製物を得る。これ
をシリカゲル(250glt−で、10%メタノールと
0.5%アンモニア水を含むメチレンクロライドを溶出
液としてクロマトグラフィーに付す。融点201°〜2
02°(再結晶溶媒、メチレンクロライド/酢酸エチル
)。塩酸塩、融点283°〜285°(分解)。メトヨ
ーダイト、融点285°〜287°(分解)。
27mM)のテトラヒドロフラン2omz溶液をこの混
合液に加え、ベージュ色の懸濁液を20℃で一夜攪拌を
続ける。混合液を常法通りメチレンクロライドと炭酸ナ
トリウムで分液処理し標記化合物の粗製物を得る。これ
をシリカゲル(250glt−で、10%メタノールと
0.5%アンモニア水を含むメチレンクロライドを溶出
液としてクロマトグラフィーに付す。融点201°〜2
02°(再結晶溶媒、メチレンクロライド/酢酸エチル
)。塩酸塩、融点283°〜285°(分解)。メトヨ
ーダイト、融点285°〜287°(分解)。
代わりにインドール−3−イルカルボン酸クロライ);
’ヲN、N’−カルボニルジーイミダゾールと反応させ
ることによりイミダゾリドを生成させ、これを」−記の
リチウム塩とテトラヒドロフラン中で10°〜15°で
反応させることもできる。
’ヲN、N’−カルボニルジーイミダゾールと反応させ
ることによりイミダゾリドを生成させ、これを」−記の
リチウム塩とテトラヒドロフラン中で10°〜15°で
反応させることもできる。
ノ[i(迷−必」二支:1−メチル−N=(エンド−9
−メチル−9−アザ−ビンクロ[3,3,1]ノン−3
−イル)インドール−3−イルカルボン酸アミド、別称
1−メチル−N−(3α−ホモトロパニル)−インドー
ル−3−イルカルボン酸アミドII ; R1=R2−
H、X=NCH3,B=NTT 、 l):=■、α位
置; n = 3 ; Rs”” 、CT(3)乾燥液
体アンモニア17〇−中に一50°でナトリウム0.4
6g(20mM)を溶かし、コit ニ無水エーテルで
希釈した無水エタノール1.3m1(22,5mM)を
滴下処理する」生成したす) IJウムエチラートの無
色懸濁液を一50°で15分間攪拌スル。N−(エンド
−9−メチル−9−アザ−ビシクロ−[3,3,1]−
ノン−3−イルカルボン酸アミド4.46 g (15
mM)をこれに加え透明な液が得られる。混合液を一5
0°で10分間攪拌し、ヨー化メチル1.25ml(2
0mM)の無水エーテル4−溶液を加える。
−メチル−9−アザ−ビンクロ[3,3,1]ノン−3
−イル)インドール−3−イルカルボン酸アミド、別称
1−メチル−N−(3α−ホモトロパニル)−インドー
ル−3−イルカルボン酸アミドII ; R1=R2−
H、X=NCH3,B=NTT 、 l):=■、α位
置; n = 3 ; Rs”” 、CT(3)乾燥液
体アンモニア17〇−中に一50°でナトリウム0.4
6g(20mM)を溶かし、コit ニ無水エーテルで
希釈した無水エタノール1.3m1(22,5mM)を
滴下処理する」生成したす) IJウムエチラートの無
色懸濁液を一50°で15分間攪拌スル。N−(エンド
−9−メチル−9−アザ−ビシクロ−[3,3,1]−
ノン−3−イルカルボン酸アミド4.46 g (15
mM)をこれに加え透明な液が得られる。混合液を一5
0°で10分間攪拌し、ヨー化メチル1.25ml(2
0mM)の無水エーテル4−溶液を加える。
混合液は更に一50°で41./2時間攪拌する。反応
終了後、アンモニアを減圧下で除去する。残渣にメチレ
ンクロライドと水を加えて分液し、常法に従い処理し無
色の泡状物を得る。これを5%メタノール/3%アンモ
ニアを含有するメチレンクロライドの溶出液を用いてシ
リカゲル1.20gJ−で(47) クロマトグラフィーに付し、標記化合物を酸から溶出す
る。融点210°〜212°(再結晶溶媒、酢酸エチル
/メタノール)。塩酸塩、融点295〜297° (分
解)。
終了後、アンモニアを減圧下で除去する。残渣にメチレ
ンクロライドと水を加えて分液し、常法に従い処理し無
色の泡状物を得る。これを5%メタノール/3%アンモ
ニアを含有するメチレンクロライドの溶出液を用いてシ
リカゲル1.20gJ−で(47) クロマトグラフィーに付し、標記化合物を酸から溶出す
る。融点210°〜212°(再結晶溶媒、酢酸エチル
/メタノール)。塩酸塩、融点295〜297° (分
解)。
本化合物はまた1−メチル−インドール−3=イルカル
ボン酸から出発して実施例1と同様の方法で別途製造さ
れる。
ボン酸から出発して実施例1と同様の方法で別途製造さ
れる。
実m例A−4: 5−フルオロ−1−メチル−インドー
ル−3−イルカルボン酸エンド−9−アザ−ビシクロ[
3,3,1]]ノンー3−イルエステル別称(N−デス
メチル−3α−ホモトロパニル)−5−フルオロ−1−
メチル−インドール−3−1ルカルボン酸エステル(C
法)(式Iの化合物中、A−3位で結合するIT; R
,= 5−F ; R2=TI ;X == NCI(
3: R== −〇−; D 二TV、α−配置;n−
3;R8−I() エタノール200 ml中で、5−フルオロ−1−メチ
ル−インドール−3−イルカルボン酸エンド−9−ベン
ジル−9−アザ−ビシクロ[3,3,1]]ノンー3−
イルエステル4.9fを、活性炭付(10%)パラジウ
ム触媒1.5gや千キキ字の存在下に、室温常圧で水素
添加する。45分後、水素約230−の吸収を終え、触
媒を酊去する。溶媒を減圧下に留去して標記化合物の結
晶性残留物を得る。融点130−131°。(エタノー
ル/少量のヘキサンより再結晶) 実施例A−5:2−メトキシーインドリル−3−イルカ
ルボン酸(エンド−8−メチル−8−アザ−ビシクロ〔
3,2,1)オクト−3−イルエステル、別称2−メト
キシ−インドール−3−イルカルボン酸トロピルエステ
ル(d法およびe法)(式Iの化合物中、A−3位で結
合する11.:R1−11;R2工2−OCi(3;X
=NI−I :B工O;DユIV、a位置; n =
2 ; Rs −CH3)N−クロロサクシンイミド4
g(30mM)の無水クロロホルム30rnlの懸濁液
に撹拌シつつ20°でインドール−3−イルカルボン酸
エンド−8−メチル−8−アザ−ビシクロ[3,2,1
1オクト−3−イルエステル5.681 (20mM)
を加える。混合液を3時間20°で撹拌し、2−クロロ
−インドール−3−イルカルボン酸(エンド−8−メチ
ル−8−アザ−ビシクロC3,2,11オクト−3−イ
ル)エステルの黄色透明な溶液を得る。
ル−3−イルカルボン酸エンド−9−アザ−ビシクロ[
3,3,1]]ノンー3−イルエステル別称(N−デス
メチル−3α−ホモトロパニル)−5−フルオロ−1−
メチル−インドール−3−1ルカルボン酸エステル(C
法)(式Iの化合物中、A−3位で結合するIT; R
,= 5−F ; R2=TI ;X == NCI(
3: R== −〇−; D 二TV、α−配置;n−
3;R8−I() エタノール200 ml中で、5−フルオロ−1−メチ
ル−インドール−3−イルカルボン酸エンド−9−ベン
ジル−9−アザ−ビシクロ[3,3,1]]ノンー3−
イルエステル4.9fを、活性炭付(10%)パラジウ
ム触媒1.5gや千キキ字の存在下に、室温常圧で水素
添加する。45分後、水素約230−の吸収を終え、触
媒を酊去する。溶媒を減圧下に留去して標記化合物の結
晶性残留物を得る。融点130−131°。(エタノー
ル/少量のヘキサンより再結晶) 実施例A−5:2−メトキシーインドリル−3−イルカ
ルボン酸(エンド−8−メチル−8−アザ−ビシクロ〔
3,2,1)オクト−3−イルエステル、別称2−メト
キシ−インドール−3−イルカルボン酸トロピルエステ
ル(d法およびe法)(式Iの化合物中、A−3位で結
合する11.:R1−11;R2工2−OCi(3;X
=NI−I :B工O;DユIV、a位置; n =
2 ; Rs −CH3)N−クロロサクシンイミド4
g(30mM)の無水クロロホルム30rnlの懸濁液
に撹拌シつつ20°でインドール−3−イルカルボン酸
エンド−8−メチル−8−アザ−ビシクロ[3,2,1
1オクト−3−イルエステル5.681 (20mM)
を加える。混合液を3時間20°で撹拌し、2−クロロ
−インドール−3−イルカルボン酸(エンド−8−メチ
ル−8−アザ−ビシクロC3,2,11オクト−3−イ
ル)エステルの黄色透明な溶液を得る。
この黄色透明な溶液を無水メタノール1.0.4で処理
し、−夜装置する。常法に従い混合液にIN炭酸ナトリ
ウム水溶液とメチレンクロライドを加えて分液し粗製品
を得る。これをシリカゲル(30rへ1) イ音量)でクロマトグラフィーに利し10係メタノール
および05%アンモニア含有のメチレンクロライドで溶
出することにより標記化合物を得る。
し、−夜装置する。常法に従い混合液にIN炭酸ナトリ
ウム水溶液とメチレンクロライドを加えて分液し粗製品
を得る。これをシリカゲル(30rへ1) イ音量)でクロマトグラフィーに利し10係メタノール
および05%アンモニア含有のメチレンクロライドで溶
出することにより標記化合物を得る。
融点204〜206°(エタノールより再結晶)。
実施例A−6:3−ヨードーインドール−4−イ一
ルカルボン酸エンドー8−メチルーアザ−ピック/\
口[3,2,1’:lオクトー3−イルエステル(式I
の化合物中、A=4位で結合するM : R,= rl
: R2=3−1;X二N II : n =−〇−;
D = iV 、α配置:n==2;R8=Cr13
)(d法〕N−ヨードサクシンイミド2.48 g(1
1mM)を無水クロロホルム200 mlに懸濁せしめ
15°で撹拌シつつ、インドール−4−イルカルボン酸
エンド−8−メチル−8−アザ−ピックロC3,2,1
〕オクト−3−イルエステル2.841の溶液を滴下し
て力旧える。混合液を更に30分間20°で撹拌する。
の化合物中、A=4位で結合するM : R,= rl
: R2=3−1;X二N II : n =−〇−;
D = iV 、α配置:n==2;R8=Cr13
)(d法〕N−ヨードサクシンイミド2.48 g(1
1mM)を無水クロロホルム200 mlに懸濁せしめ
15°で撹拌シつつ、インドール−4−イルカルボン酸
エンド−8−メチル−8−アザ−ピックロC3,2,1
〕オクト−3−イルエステル2.841の溶液を滴下し
て力旧える。混合液を更に30分間20°で撹拌する。
IN炭酸ナトリウム水溶液とメチレンクロライドを加え
て分液し、常法に従い処理することにより標記化合物を
イnる。融点163−165゜(分解)(エタノールよ
り再結晶〕。本化合物はCζすA 3−ヨード−インドール−4−イルカルボン酸力ら実施
例2に示した方法と同守の方法で作ることができる。
て分液し、常法に従い処理することにより標記化合物を
イnる。融点163−165゜(分解)(エタノールよ
り再結晶〕。本化合物はCζすA 3−ヨード−インドール−4−イルカルボン酸力ら実施
例2に示した方法と同守の方法で作ることができる。
実施例A−7:5−クロロー2−メトキシ−4−メチル
アミノ安息香酸】−アザ−ビシクロ[2,2゜2]オク
ト−3−イルエステル、別称5−クロロー2−メトキシ
−4−メチルアミン安息香酸キヌクリジン−3−イルエ
ステル(a法)(式Iの化合物中、A、=I[:R4二
〇Cl−R3;R5:■I;に6.、:NTlCl−R
3:R7=Cに n=−0−; n=3位で結合する■
〕 a) 5−クロロ−4−メチルアミノ−2−メトキシ
安息香酸イミダゾライド N、N’−カルボニル−ジイミダゾール12gを5=ク
ロロ−4−メチルアミン−2−メトキシ安息香酸8gの
乾燥テ!・ラヒドロフラン300 rn1m液中に20
〜25°で撹拌しつつ加える。混合液を無水条件下に約
1時間撹拌し、溶媒を35〜45°で留去する。残7査
をメチレンクロライドにm解する。
アミノ安息香酸】−アザ−ビシクロ[2,2゜2]オク
ト−3−イルエステル、別称5−クロロー2−メトキシ
−4−メチルアミン安息香酸キヌクリジン−3−イルエ
ステル(a法)(式Iの化合物中、A、=I[:R4二
〇Cl−R3;R5:■I;に6.、:NTlCl−R
3:R7=Cに n=−0−; n=3位で結合する■
〕 a) 5−クロロ−4−メチルアミノ−2−メトキシ
安息香酸イミダゾライド N、N’−カルボニル−ジイミダゾール12gを5=ク
ロロ−4−メチルアミン−2−メトキシ安息香酸8gの
乾燥テ!・ラヒドロフラン300 rn1m液中に20
〜25°で撹拌しつつ加える。混合液を無水条件下に約
1時間撹拌し、溶媒を35〜45°で留去する。残7査
をメチレンクロライドにm解する。
混合液を2〜3回水洗し、硫酸マグネシウム上で(:)
lノ 乾燥し、濾過ti縮する。標記化合物はメチレンクロラ
イド/ヘキサンから結晶化する。融点152−154°
。
lノ 乾燥し、濾過ti縮する。標記化合物はメチレンクロラ
イド/ヘキサンから結晶化する。融点152−154°
。
b) 5−クロロ−4−メチルアミノ−2−メトキシ
安息香酸1−アザ−ピックロ[2,2,2]]オクトー
3−イルエステ ■−アサービシクロ〔2,2,2〕オクタン−3−オー
ル(キヌクリジン−3−オール)5.569の無水テト
ラヒドロ7ラン10 o ml溶液に乾燥窒素気流中0
°〜5°で撹拌しつつn−ブチルリチウム27i(1,
6モル)のヘキサン溶液を滴下する。混合液は更に10
〜15分間0〜5°で撹拌し、次いで5−クロロ−4−
メチルアミノ−2−メトキシ安息香酸イミダゾライドの
無水テトラヒドロフラン100 ml溶液を加え、1時
間撹拌する。炭酸水素カリウム飽和水溶液5 mlを加
え、溶液を傾阿する。
安息香酸1−アザ−ピックロ[2,2,2]]オクトー
3−イルエステ ■−アサービシクロ〔2,2,2〕オクタン−3−オー
ル(キヌクリジン−3−オール)5.569の無水テト
ラヒドロ7ラン10 o ml溶液に乾燥窒素気流中0
°〜5°で撹拌しつつn−ブチルリチウム27i(1,
6モル)のヘキサン溶液を滴下する。混合液は更に10
〜15分間0〜5°で撹拌し、次いで5−クロロ−4−
メチルアミノ−2−メトキシ安息香酸イミダゾライドの
無水テトラヒドロフラン100 ml溶液を加え、1時
間撹拌する。炭酸水素カリウム飽和水溶液5 mlを加
え、溶液を傾阿する。
残渣をテトラヒドロフランで2回洗浄する。有機層を合
わせ硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過後、濃縮する。
わせ硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過後、濃縮する。
11製品をマロン酸の当量で処理し、標記化合物のマロ
ン酸塩を得る。融点170〜172゜(アセトンより再
結晶)。
ン酸塩を得る。融点170〜172゜(アセトンより再
結晶)。
実施例A−8:4−アミーノー5−クロロ−2−メ1−
+ シ安息香酸エキンー8−アザービシクロ〔3゜2
.1〕オクト−3−イルエステル、別称4−アミノ−5
−クロロ−2−メトキシ安息香酸8−ベンジルプソイド
−ノル−トロピルエステル(C法)(式Iの化合物中、
A=I[r;R4二〇CTl3;R5−1T : R6
−Nl−I2;B7−Cz ;、B==O: p=■、
β−配置;n−2;Rs−ベンジル〕a)4−(N−ベ
ンジルオキシカルボニル)アミ/−2−メトキシ安息香
酸メチルエステル4−アミノ−2−メトキシ安息香酸メ
チルエステル4219のトルエン600m/l溶液をク
ロロギ酸フェニルエステル60m1と共に還流下に2b
時間υ1コとうせしめる。溶液を冷却し、析出する標記
化合物を戸数する。融点137−138°。
+ シ安息香酸エキンー8−アザービシクロ〔3゜2
.1〕オクト−3−イルエステル、別称4−アミノ−5
−クロロ−2−メトキシ安息香酸8−ベンジルプソイド
−ノル−トロピルエステル(C法)(式Iの化合物中、
A=I[r;R4二〇CTl3;R5−1T : R6
−Nl−I2;B7−Cz ;、B==O: p=■、
β−配置;n−2;Rs−ベンジル〕a)4−(N−ベ
ンジルオキシカルボニル)アミ/−2−メトキシ安息香
酸メチルエステル4−アミノ−2−メトキシ安息香酸メ
チルエステル4219のトルエン600m/l溶液をク
ロロギ酸フェニルエステル60m1と共に還流下に2b
時間υ1コとうせしめる。溶液を冷却し、析出する標記
化合物を戸数する。融点137−138°。
1))4−G’J−ベンジルオキシカルボニルアミノ)
−5−クロロ−2−メトキシ安息香酸メチルエステル 4−(N−ベンジルオキシカルボニルアミノ−(55) 2−メトキシ安息香酸メチルエステル61.4gのクロ
ロホルム1リツトル溶液を20°で撹拌シつつ塩素ガス
(硫酸に通して乾燥918gを20〜25分間で通じる
。反応混合液を減圧下に濃縮し、標記化合物の結晶を得
る。本市はそのまま次の反応に用いる。
−5−クロロ−2−メトキシ安息香酸メチルエステル 4−(N−ベンジルオキシカルボニルアミノ−(55) 2−メトキシ安息香酸メチルエステル61.4gのクロ
ロホルム1リツトル溶液を20°で撹拌シつつ塩素ガス
(硫酸に通して乾燥918gを20〜25分間で通じる
。反応混合液を減圧下に濃縮し、標記化合物の結晶を得
る。本市はそのまま次の反応に用いる。
c)4−(N−ベンジルオキシカルボニルアミノ)−5
−クロロ−2−メトキシ安息香酸2N水酸化ナトリウム
水溶液200 mtをB法で製造した当該安息香酸メチ
ルエステル721gのジオキサン800 mt溶液に撹
拌しつつ滴下して加える。混合液を20時間撹拌し、有
機溶媒を減圧下に留去する。残渣(こ水を加えて溶解し
、3N塩酸でpi−15−6に補正する。標記化合物を
戸数し、水で洗う。融点182−1−83°(メタノー
ルから再結合)。
−クロロ−2−メトキシ安息香酸2N水酸化ナトリウム
水溶液200 mtをB法で製造した当該安息香酸メチ
ルエステル721gのジオキサン800 mt溶液に撹
拌しつつ滴下して加える。混合液を20時間撹拌し、有
機溶媒を減圧下に留去する。残渣(こ水を加えて溶解し
、3N塩酸でpi−15−6に補正する。標記化合物を
戸数し、水で洗う。融点182−1−83°(メタノー
ルから再結合)。
d)4−(N−ベンジルオキシカルボニルアミノ〕−5
−クロロ−2−メトキシ安息香酸イミダゾライド 本化合物は実施例A−7aと類似の方法で製造(56) する。
−クロロ−2−メトキシ安息香酸イミダゾライド 本化合物は実施例A−7aと類似の方法で製造(56) する。
e) 4−(N−ヘア シルオキシカルボニルアミノ
)−5−クロロ−2−メトキシ安息香酸エキソ−8−ベ
ンジル−8−アザ−ビシクロ[3,2,1〕〕オクトー
3−イルエステ ル化合物は実施例A −71)と類似の方法で製造する
。
)−5−クロロ−2−メトキシ安息香酸エキソ−8−ベ
ンジル−8−アザ−ビシクロ[3,2,1〕〕オクトー
3−イルエステ ル化合物は実施例A −71)と類似の方法で製造する
。
「〕 〕4−アミンー5−クロロー2−メトキン安息香
酸エキソ8−アザ−ビシクロ[3,2,1]]オクトー
3−イルエステ ル−(N−ベンジルオキシカルボニルアミノ)−5−ク
ロロ−2−メトキシ安息香酸54gをエタノール100
mt中で活性炭付パラジウム07g(10%)の存在
で、常圧下に50分間(こ水素1当量を吸収せしめて水
素添加を行なう。混合液は濾過助剤(ハイフロス−パー
セル〕を通して濾過し、P液を濃縮する。残留物は5係
メタノール含有メチレンクロライドを溶出液としソリ力
ゲルクロマトグラフイーに付し、標記化合物を遊離塩基
型として得る。融点241−242°(臭化水素酸塩は
エタノール中lT11rから作られる〕。
酸エキソ8−アザ−ビシクロ[3,2,1]]オクトー
3−イルエステ ル−(N−ベンジルオキシカルボニルアミノ)−5−ク
ロロ−2−メトキシ安息香酸54gをエタノール100
mt中で活性炭付パラジウム07g(10%)の存在
で、常圧下に50分間(こ水素1当量を吸収せしめて水
素添加を行なう。混合液は濾過助剤(ハイフロス−パー
セル〕を通して濾過し、P液を濃縮する。残留物は5係
メタノール含有メチレンクロライドを溶出液としソリ力
ゲルクロマトグラフイーに付し、標記化合物を遊離塩基
型として得る。融点241−242°(臭化水素酸塩は
エタノール中lT11rから作られる〕。
実施例A−9:4−アミノー5−クロロ−2−メトキシ
安息香酸エキンー8−アザ−ビシクロ〔3゜2.1]オ
クト−3−イルエステル、別称4−アミノ−5−クロロ
−2−メトキシ安息香酸プソイドツルートロピルエステ
ル(C法) (式Iの化合物中、A=11T;R4二〇Cll3;R
5:H:R= N112; R7ゴCl;B二0ar)
ユTV、β−配置;n−2:Rs = I−I ) 4−(N−ベンジルオキシカルボニルアミン)−5−ク
ロロ−2−メトキン安息香酸エキソ−8−ベンジル−8
−アザ−ビシクロ[3,2,1]]オクトー3−イルエ
ステル8.4を酢酸エチルまたは酢酸250d中で活性
炭付10%パラジウム12gの存在下に常圧20〜25
°で2時間水素添加を行なう。混合物は濾過しく例えば
Hy f l oを通して〕、P液を蒸発乾固し、残留
物をメチレンクロライドに溶解する。
安息香酸エキンー8−アザ−ビシクロ〔3゜2.1]オ
クト−3−イルエステル、別称4−アミノ−5−クロロ
−2−メトキシ安息香酸プソイドツルートロピルエステ
ル(C法) (式Iの化合物中、A=11T;R4二〇Cll3;R
5:H:R= N112; R7ゴCl;B二0ar)
ユTV、β−配置;n−2:Rs = I−I ) 4−(N−ベンジルオキシカルボニルアミン)−5−ク
ロロ−2−メトキン安息香酸エキソ−8−ベンジル−8
−アザ−ビシクロ[3,2,1]]オクトー3−イルエ
ステル8.4を酢酸エチルまたは酢酸250d中で活性
炭付10%パラジウム12gの存在下に常圧20〜25
°で2時間水素添加を行なう。混合物は濾過しく例えば
Hy f l oを通して〕、P液を蒸発乾固し、残留
物をメチレンクロライドに溶解する。
有機層をIN水酸化ナトリウム水溶液、次いて水で洗い
、硫酸マグネシウム上で乾燥後、濃縮する。生成物はメ
チレンクロライド」−5%メタノールおよび゛メチレン
クロロライド+20%メタノールを用いシリカゲルを用
いてクロア1−グラフィーに月す。標記化合物は塩酸塩
として結晶化する。
、硫酸マグネシウム上で乾燥後、濃縮する。生成物はメ
チレンクロライド」−5%メタノールおよび゛メチレン
クロロライド+20%メタノールを用いシリカゲルを用
いてクロア1−グラフィーに月す。標記化合物は塩酸塩
として結晶化する。
融点258−259°(エタノールから再結晶)実施例
A −10:インドールー4−イルカルボン酸エンド−
8−メチル−8−アザ−ビンクロ〔32,1〕オクト−
3−イルエステル、別称インド−△ 4−イルカルボン酸トロピルエステル (式■の化合物中、A=4位で結合した■;に□:=4
2;17 ; R3−NtI : n=o : D、、
、IV、α−配置;11−2;に8−CI−13) エンド−8−メチル−8−アザ−ビシクロ〔321〕オ
クタン−3−オール(トロピン)7g(50mM)の無
水テトラヒドロフラン15mt、m液に2モル濃度のブ
チルリチウムのヘキサン溶液20m/(40mM)を1
0〜15°で滴下処理する。
A −10:インドールー4−イルカルボン酸エンド−
8−メチル−8−アザ−ビンクロ〔32,1〕オクト−
3−イルエステル、別称インド−△ 4−イルカルボン酸トロピルエステル (式■の化合物中、A=4位で結合した■;に□:=4
2;17 ; R3−NtI : n=o : D、、
、IV、α−配置;11−2;に8−CI−13) エンド−8−メチル−8−アザ−ビシクロ〔321〕オ
クタン−3−オール(トロピン)7g(50mM)の無
水テトラヒドロフラン15mt、m液に2モル濃度のブ
チルリチウムのヘキサン溶液20m/(40mM)を1
0〜15°で滴下処理する。
混合液を20°で30分間撹拌し、次いでヘキサンを留
去して全量約10m1になるまで濃縮することによりリ
チウムエルレートが得られる。テトラヒドロフラン10
rn!、を追加する。
去して全量約10m1になるまで濃縮することによりリ
チウムエルレートが得られる。テトラヒドロフラン10
rn!、を追加する。
乾燥インドール−4−イルカルボン酸48g(30mM
)の無水テトラヒドロフラン15m1溶液をN、N’−
カルボニル−ジイミダゾール5.8Fl(36mM)で
少量づつ処理する。混合液を206で90分間放置し、
次いてリチウムエルレートを滴下して加える。生成する
懸濁、夜を20°Cで一夜撹拌し、メチレンクロライド
/少沿のイソプロノぐノールと1N炭酸すl−IJウム
水溶液を加えて分液する。有機層を洗浄し硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、蒸発乾固することにより標記化合物を得
る。融点220−222°(分解)(エタノールより内
−結晶)実施例A−11:インドールー4−イルカルボ
ン酸エンド−9−アザ−ビシクロ[3,3,1]ノン−
3−イルエステル、別称3α−ホモトロパニルインドー
ルー4−イルカルボン酸エステル(式■の化合物中、A
==4位で結合したII;X=NH:R1二R2=H;
Ra二N tT 、 B二〇;D−■、 α配置;n
−==3:に8−CI■3)(a法)3〕 エンド−
9−メチル−9−アザ−ピックロ〔(59) 3.31〕/ナン−3−オール7.65 g(53mM
)の無水テトラヒドロフラン15m1溶液に2モル濃度
のブチルリチウムヘキサンg7(1−20mA (40
m M )を10〜15°で滴下処理する。生成した混
合物を20°で30分間撹拌する。次いでヘキサンを蒸
発せしめ、代わりにテトラヒドロフランを加えてリチウ
ム塩の溶液を作る。
)の無水テトラヒドロフラン15m1溶液をN、N’−
カルボニル−ジイミダゾール5.8Fl(36mM)で
少量づつ処理する。混合液を206で90分間放置し、
次いてリチウムエルレートを滴下して加える。生成する
懸濁、夜を20°Cで一夜撹拌し、メチレンクロライド
/少沿のイソプロノぐノールと1N炭酸すl−IJウム
水溶液を加えて分液する。有機層を洗浄し硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、蒸発乾固することにより標記化合物を得
る。融点220−222°(分解)(エタノールより内
−結晶)実施例A−11:インドールー4−イルカルボ
ン酸エンド−9−アザ−ビシクロ[3,3,1]ノン−
3−イルエステル、別称3α−ホモトロパニルインドー
ルー4−イルカルボン酸エステル(式■の化合物中、A
==4位で結合したII;X=NH:R1二R2=H;
Ra二N tT 、 B二〇;D−■、 α配置;n
−==3:に8−CI■3)(a法)3〕 エンド−
9−メチル−9−アザ−ピックロ〔(59) 3.31〕/ナン−3−オール7.65 g(53mM
)の無水テトラヒドロフラン15m1溶液に2モル濃度
のブチルリチウムヘキサンg7(1−20mA (40
m M )を10〜15°で滴下処理する。生成した混
合物を20°で30分間撹拌する。次いでヘキサンを蒸
発せしめ、代わりにテトラヒドロフランを加えてリチウ
ム塩の溶液を作る。
”) 乾燥インドール−4−イルカルボンM4.ll
(30mM)の無水テトラヒビ0フラン15m/溶1夜
にN、N’−カルボニル−ジイミダゾール5.85g(
36mM)を室温で分割して加え処理する。ガスの発生
終了後、溶液を20°で90分間静置し、次いで」1記
リチウム塩を10〜1!5°で滴下処理する。生成した
懸濁液を200で15時間撹拌せしめた後、メチレンク
ロライド/少量のインプロパツールとIN炭酸ナトリウ
ム水溶液を加えて分液処理する。有機層を水洗後、硫酸
ナトリウム上で乾燥し、蒸発乾固することにより標記化
合物を得る。
(30mM)の無水テトラヒビ0フラン15m/溶1夜
にN、N’−カルボニル−ジイミダゾール5.85g(
36mM)を室温で分割して加え処理する。ガスの発生
終了後、溶液を20°で90分間静置し、次いで」1記
リチウム塩を10〜1!5°で滴下処理する。生成した
懸濁液を200で15時間撹拌せしめた後、メチレンク
ロライド/少量のインプロパツールとIN炭酸ナトリウ
ム水溶液を加えて分液処理する。有機層を水洗後、硫酸
ナトリウム上で乾燥し、蒸発乾固することにより標記化
合物を得る。
mA189−1.90°(エタノールより再結晶)。
(60)
以下、その1)が弐■の化合物である式Iの化合物を製
造した二一 興 州 −−、。 。 、 −8。 −−。
造した二一 興 州 −−、。 。 、 −8。 −−。
部
C囚 へ の ω の の ω の
の ω 寸 寸、乏 ラ 。。。。ラ 架 。駈
架 。
の ω 寸 寸、乏 ラ 。。。。ラ 架 。駈
架 。
甥 111111111111
ば に) co に) ω ω ω ω に) ω
に) ω (1)州 。 。 、D+ + ?−1 都 8 桶 へ の の へ へ へ 仁 田 3 (65) E 0 0 0 0 0 0 0
0 0 0 0 00 + へ 匣 −囚 ω 寸 z (D t−ω
■ −−−習 111111111111 111K に) ω に) ω に) ω ω −に
) の に) に)(66) g 0 0 0 0 0 0 0 架 東 ラ チ
架値 呻 ω に) ω に) に) に) −呻
に) に) 呻D系列の実施例 」二に記した方法と類似方法で以下の、その人が式■[
の基であり、Dが式■の基である化合物を製造したニー 実施例 A B n RB 立体配置 融
点 製法I)1 m−f 0 2 C)I3
エンド 193−19り°1)71)−211I−
If 。2.7ジいエキソ 、□2−114”2)
71)−3lll−1ff 0 2 G(
3エンド、 154−15!5”’ 71)−4
lll−lff O2HI7ト168−169”’
91) −51r −TV 0 2
Hz−71” 184.−185” 9D
−6m−ヤ 。 2 Hエキソ 、66−□67
”” 9D 7 11T−IV O2CH3エ
ンド 245−246°4)7D8 11r−VT
O2CH3エンド 146−14f′2) 7D−9
1L−Vll O2CH3x7ト210−211”
5)7r)−10、’lトVlll 0 2
CH3x7ト216°6)7r)−11m−V O
3CH3エンド 164−166° 7I)−12
MF−■X 03 CH3エンド 163−164
° 7D−13111−X O2CH3エンド
7D −14m −XI
O2G(3エンド91−92° 7D−151f
f−■ 03CH3エンド 7実
施例 A BnRB 立体配置 融点
製υヨD−16@−Xm O2CH3x711.15
8−1.5<f” 7D−47ftJ−XIV 02
Q13 x’A’ 159−16(f” 7r系列
の実施例 以下、そのAが式■1または式■の基で、■)が弐■の
基である式Tの化合物を製造したニー実施例 A
B I)置換位置 融点 製法。4)
3) E−1インドール−3−イル 0 3
219−221 7E−2m−INII 3
145−147’154−156”” 7・ E−3TIT−■ 0 3
7ダ所望によりエタノール中で沸とうする。
に) ω (1)州 。 。 、D+ + ?−1 都 8 桶 へ の の へ へ へ 仁 田 3 (65) E 0 0 0 0 0 0 0
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) の に) に)(66) g 0 0 0 0 0 0 0 架 東 ラ チ
架値 呻 ω に) ω に) に) に) −呻
に) に) 呻D系列の実施例 」二に記した方法と類似方法で以下の、その人が式■[
の基であり、Dが式■の基である化合物を製造したニー 実施例 A B n RB 立体配置 融
点 製法I)1 m−f 0 2 C)I3
エンド 193−19り°1)71)−211I−
If 。2.7ジいエキソ 、□2−114”2)
71)−3lll−1ff 0 2 G(
3エンド、 154−15!5”’ 71)−4
lll−lff O2HI7ト168−169”’
91) −51r −TV 0 2
Hz−71” 184.−185” 9D
−6m−ヤ 。 2 Hエキソ 、66−□67
”” 9D 7 11T−IV O2CH3エ
ンド 245−246°4)7D8 11r−VT
O2CH3エンド 146−14f′2) 7D−9
1L−Vll O2CH3x7ト210−211”
5)7r)−10、’lトVlll 0 2
CH3x7ト216°6)7r)−11m−V O
3CH3エンド 164−166° 7I)−12
MF−■X 03 CH3エンド 163−164
° 7D−13111−X O2CH3エンド
7D −14m −XI
O2G(3エンド91−92° 7D−151f
f−■ 03CH3エンド 7実
施例 A BnRB 立体配置 融点
製υヨD−16@−Xm O2CH3x711.15
8−1.5<f” 7D−47ftJ−XIV 02
Q13 x’A’ 159−16(f” 7r系列
の実施例 以下、そのAが式■1または式■の基で、■)が弐■の
基である式Tの化合物を製造したニー実施例 A
B I)置換位置 融点 製法。4)
3) E−1インドール−3−イル 0 3
219−221 7E−2m−INII 3
145−147’154−156”” 7・ E−3TIT−■ 0 3
7ダ所望によりエタノール中で沸とうする。
式■の代表的な出発物質
カーn RB 立体配置B 特徴 通称a)
2 CH3工yド Om、p、59−6f
)oビンc) 2 CH3エンド N
T−1b、p、 82’/12mm l、05.−ミ
アe) 3 CH3xンド NT(b、p、
utン’17mm(67) 「)3 Cf(3エンド 0r−I 無定形1g
)3ヘンシルエンド OHm、p、 69−70°+h
) 2 n−C3B−17xンド 0I−1油
千十4− Na BT−14によるケトンの還元
により製造し異性体と分離して得られた。
2 CH3工yド Om、p、59−6f
)oビンc) 2 CH3エンド N
T−1b、p、 82’/12mm l、05.−ミ
アe) 3 CH3xンド NT(b、p、
utン’17mm(67) 「)3 Cf(3エンド 0r−I 無定形1g
)3ヘンシルエンド OHm、p、 69−70°+h
) 2 n−C3B−17xンド 0I−1油
千十4− Na BT−14によるケトンの還元
により製造し異性体と分離して得られた。
什 NaBT(4によるケトンの還元により製造した。
主生産物
i) N−メチル−10−アザ−ビシクロ(4,3,
1)チク−8−イルアミン(実施例B−35)すトリウ
ム152を10−メトキシ−10−アザ−ビシクロ[4
,,3,1、]]デカンー8−オンオキシム酢酸塩〔融
点253−253.5℃。実施例A−1bに示した方法
と同様の方法により作る19.6!lと下記実施例j〕
に示した方法と同様の方法により反応せしめ、通常の方
法に従って処理し、沸点1of10.9゜mmの曲状物
質を得る。
1)チク−8−イルアミン(実施例B−35)すトリウ
ム152を10−メトキシ−10−アザ−ビシクロ[4
,,3,1、]]デカンー8−オンオキシム酢酸塩〔融
点253−253.5℃。実施例A−1bに示した方法
と同様の方法により作る19.6!lと下記実施例j〕
に示した方法と同様の方法により反応せしめ、通常の方
法に従って処理し、沸点1of10.9゜mmの曲状物
質を得る。
1tl、 N、 M、 R(2QQMf(z) 3.2
7−3.04 (マルチプレット、2H1r−IC−(
1)およびH−Cte9;2.59(シングレット、3
H,H−C(II)) 、2.01−1..49(マ
ルチプレット、131−I 6 x 2 H−C(68
) およびH、−Cf8+) ; 1.24 (シングレッ
ト、2 H; 2,1−(−N D20可変性) ;
13CN、 M、 lす25.2M Hz) 56.
41 (d)ダブレット)、42.85(クワルテット
C−11)、4]、、44(ダブレット)、37.13
()リプレット、c−7およびC−9)、32.54(
1−リプレット、C−2およびC−5)および24..
88(トリプレットC−3およびC−4)。立体配置は
エキソであると信じられる。
7−3.04 (マルチプレット、2H1r−IC−(
1)およびH−Cte9;2.59(シングレット、3
H,H−C(II)) 、2.01−1..49(マ
ルチプレット、131−I 6 x 2 H−C(68
) およびH、−Cf8+) ; 1.24 (シングレッ
ト、2 H; 2,1−(−N D20可変性) ;
13CN、 M、 lす25.2M Hz) 56.
41 (d)ダブレット)、42.85(クワルテット
C−11)、4]、、44(ダブレット)、37.13
()リプレット、c−7およびC−9)、32.54(
1−リプレット、C−2およびC−5)および24..
88(トリプレットC−3およびC−4)。立体配置は
エキソであると信じられる。
j)N−メチル−10−アザビシクロ[4,3,1]]
デカンー8−オール実施例B−36) 8−メチル−10−アザビシクロ[4,3,’l ]]
デカンー8−オン3.5の乾燥n−ブタノール100r
nl溶液を加熱しこれにナトリウノ・片5gを加える。
デカンー8−オール実施例B−36) 8−メチル−10−アザビシクロ[4,3,’l ]]
デカンー8−オン3.5の乾燥n−ブタノール100r
nl溶液を加熱しこれにナトリウノ・片5gを加える。
混合液を1時間還流せしめ、冷却後、濃塩酸でμI2ま
で酸性にする。混合液を蒸発乾固し、残留物を水酸化す
) IJウムで処理する。混合物をクロロホルムで抽出
し、乾燥し、蒸留する。沸点90−9デ10.025咽
。
で酸性にする。混合液を蒸発乾固し、残留物を水酸化す
) IJウムで処理する。混合物をクロロホルムで抽出
し、乾燥し、蒸留する。沸点90−9デ10.025咽
。
ll−1,N、M、R,(,200MI−TZ) 4.
07−4.23 (マルチプレット、1■I−C−(8
)半分の幅約2QI−Tz);3.63−3.69()
リプレット、 0.331(、j== 7 LTz、
1(Q−、、c−[s) 1個の異性体はD20と可変
性)、2.13−1.38 (マルチプレット、121
−I。
07−4.23 (マルチプレット、1■I−C−(8
)半分の幅約2QI−Tz);3.63−3.69()
リプレット、 0.331(、j== 7 LTz、
1(Q−、、c−[s) 1個の異性体はD20と可変
性)、2.13−1.38 (マルチプレット、121
−I。
6 x CH2)。
13C,N、 M、 iL、(25,2Ml−Iz)6
3.10 (ダブレットC−8)、56.80(ダブレ
ット、C−1およびC−6)、43.13(クワルテッ
ト、NCH3)、36.30()リプレット−c−7お
よびC−9)、34=80(1−リプレット、c−2お
よびC−5)、25.4.0(トリブレットC−3およ
びC−4)。
3.10 (ダブレットC−8)、56.80(ダブレ
ット、C−1およびC−6)、43.13(クワルテッ
ト、NCH3)、36.30()リプレット−c−7お
よびC−9)、34=80(1−リプレット、c−2お
よびC−5)、25.4.0(トリブレットC−3およ
びC−4)。
立体配置はエキソであると信じられる。
本発明化合物は薬理学的活性を示し、それ故に例えは治
療用薬剤として有用である。
療用薬剤として有用である。
特にこれら化合物は標準的試験において示された如くセ
ロトニンM受容体拮抗作用を示す。例えばひとつの試験
で、リツチポ・ネトの原理〔ヨーロピアン・ジャーナル
・オブ・ファーマコロシ−(1978) 49 351
−356)に従い、オークリ−およびシャターが記載し
ている(エクスペリメンタル・ニューロパイオロシ、
ラホラト’J −−マニュ1978、85−96頁)如
き脊髄神経線維(A線維)に発生する活動電位と小さい
無髄神経線維(C線維)に発生する活動電位とを区別で
きる条件下で、家兎の分離した迷走神経から出る活動電
位の振幅を減少させるセロトニンの作用をこれらの化合
物が1(1害することが観察された。セロトニンそのも
のはC線維に対し選択的にその効果を示し、投与量の増
加に伴いこれらの線維の活動電位の振幅を徐々に逓減さ
せる。このセロトニンの作用は、セロトニンのD受容体
は遮断するがM受容体は遮断しないセロトニン拮抗物質
であるrrctitepine、 rre −thys
ergidide、 ROL −148によって遮断さ
れない(ガダムおよびピカレリ、ブリテラシュ・ジャー
ナル・オブ・ファーマコロジー(1957) 、 1
2 。
ロトニンM受容体拮抗作用を示す。例えばひとつの試験
で、リツチポ・ネトの原理〔ヨーロピアン・ジャーナル
・オブ・ファーマコロシ−(1978) 49 351
−356)に従い、オークリ−およびシャターが記載し
ている(エクスペリメンタル・ニューロパイオロシ、
ラホラト’J −−マニュ1978、85−96頁)如
き脊髄神経線維(A線維)に発生する活動電位と小さい
無髄神経線維(C線維)に発生する活動電位とを区別で
きる条件下で、家兎の分離した迷走神経から出る活動電
位の振幅を減少させるセロトニンの作用をこれらの化合
物が1(1害することが観察された。セロトニンそのも
のはC線維に対し選択的にその効果を示し、投与量の増
加に伴いこれらの線維の活動電位の振幅を徐々に逓減さ
せる。このセロトニンの作用は、セロトニンのD受容体
は遮断するがM受容体は遮断しないセロトニン拮抗物質
であるrrctitepine、 rre −thys
ergidide、 ROL −148によって遮断さ
れない(ガダムおよびピカレリ、ブリテラシュ・ジャー
ナル・オブ・ファーマコロジー(1957) 、 1
2 。
323−328参照)。それ故にセロトニンはC線維に
よって運はれる活動電位の振幅を、これらの神経線維り
に局在しているセロトニンM受容体を介する効果によっ
て減少させているものと思われる。
よって運はれる活動電位の振幅を、これらの神経線維り
に局在しているセロトニンM受容体を介する効果によっ
て減少させているものと思われる。
試験は神経を党備し、セロトニンの用附−反応(72)
(ll)
−7−(3
曲線(10〜5X10M)を確立することより行なわれ
る。セロトニンを洗い流L、C線維の活動16 電位かもとの振幅に回復した後、約10 M〜約( 1,0Mの濃度に調製した本発明化合物の液と神経を3
0〜60分間インキュベートする。ブレインキュベート
期間中の濃度の本発明化合物に種々の濃度(10−7〜
10−4M)のセロトニンを適用する。
る。セロトニンを洗い流L、C線維の活動16 電位かもとの振幅に回復した後、約10 M〜約( 1,0Mの濃度に調製した本発明化合物の液と神経を3
0〜60分間インキュベートする。ブレインキュベート
期間中の濃度の本発明化合物に種々の濃度(10−7〜
10−4M)のセロトニンを適用する。
本発明のM受容体拮抗物質はセロトニンの作用を完全に
遮断してしまうか(非競合的拮抗物質)、またはセロト
ニン/用量−反応曲線の右方への平行移動を起こす(即
ち、効果発現に要するセロトニン濃度を増加させる)(
競合的拮抗物質)。
遮断してしまうか(非競合的拮抗物質)、またはセロト
ニン/用量−反応曲線の右方への平行移動を起こす(即
ち、効果発現に要するセロトニン濃度を増加させる)(
競合的拮抗物質)。
1)l)2 値またはpAz値は常法に従い計算され
る。
る。
セロトニンM受容体拮抗作用はまた、J、 Rフオサ゛
−ドおよびへ゛1゛、モポラク・アリ(ヨーロピアン・
ジャーナル・オブ・ファーマコロジー(1,978)4
9巻109−112頁)の方法にしたがって、−■ 本発明化合物を10 ないし10′モル濃度で用いて
行なった、摘出家兎心臓に対するセロトニン作用のβ目
止によっても示される。pD2値またはpA2値は常法
(こしたがって計算される。
−ドおよびへ゛1゛、モポラク・アリ(ヨーロピアン・
ジャーナル・オブ・ファーマコロジー(1,978)4
9巻109−112頁)の方法にしたがって、−■ 本発明化合物を10 ないし10′モル濃度で用いて
行なった、摘出家兎心臓に対するセロトニン作用のβ目
止によっても示される。pD2値またはpA2値は常法
(こしたがって計算される。
鎮痛剤治療に対するセロトニンM受容体拮抗物質として
の化合物の作用は、約01〜1.0(119/に!i’
の皮下性または経口投与による熱板法試験における作用
により確められた。
の化合物の作用は、約01〜1.0(119/に!i’
の皮下性または経口投与による熱板法試験における作用
により確められた。
8
セロトニンM受容体拮抗作用は更に、約10 M濃度
でのカンタリジン発赤基部試験においても示される。ヒ
ト志願者の前腕にカンタリジンを用いると発赤が起こる
。このような発赤の基部にセロトニンを適用すると、セ
ロトニンの適用濃度に比例した強さの測定可能な痛みが
起こる。この方法はC,A、ケールおよびf)、アーム
ストロングにより記述されている(サブスタンシズ・プ
ロデューシング・ペイン・アンド・イツチ、ニドワード
・アーノルド、ロンドン、1964.30−57頁)。
でのカンタリジン発赤基部試験においても示される。ヒ
ト志願者の前腕にカンタリジンを用いると発赤が起こる
。このような発赤の基部にセロトニンを適用すると、セ
ロトニンの適用濃度に比例した強さの測定可能な痛みが
起こる。この方法はC,A、ケールおよびf)、アーム
ストロングにより記述されている(サブスタンシズ・プ
ロデューシング・ペイン・アンド・イツチ、ニドワード
・アーノルド、ロンドン、1964.30−57頁)。
セロトニンのこの痛覚増加作用はリゼルグ酸ジメチルア
ミドやそのブロム誘導体の如きセロトニンD受容体拮抗
物質では印書されない。
ミドやそのブロム誘導体の如きセロトニンD受容体拮抗
物質では印書されない。
志願者によって操作される痛感強度試験装置に連結した
直線積分計により最大振幅の代わりに曲線上面積計算に
よる方法で測定される。セロトニン濃度の増加に伴ない
、セロトニンの素晴用量−反応曲線が得られる。セロト
ニン濃度の増加による反応がもはや起こらなくなったら
、セロトニンを洗い流し、発赤物を生理的緩衝液中で少
なくと−2またはA−3の化合物が好ましいが、本発明
化合物を適用する。試験物質は、種々の濃度のセ=8 0トニンを適用する前に、発赤基部と約10 Mの濃
度で予め30分間予備インキュベートを行なう。
直線積分計により最大振幅の代わりに曲線上面積計算に
よる方法で測定される。セロトニン濃度の増加に伴ない
、セロトニンの素晴用量−反応曲線が得られる。セロト
ニン濃度の増加による反応がもはや起こらなくなったら
、セロトニンを洗い流し、発赤物を生理的緩衝液中で少
なくと−2またはA−3の化合物が好ましいが、本発明
化合物を適用する。試験物質は、種々の濃度のセ=8 0トニンを適用する前に、発赤基部と約10 Mの濃
度で予め30分間予備インキュベートを行なう。
pAz値は常法により計算される。
本発明化合物はこのようにセロトニンM受容体拮抗物質
として、例えば疼痛、特に偏頭痛、血管性および汎発性
の頭痛および三叉神経痛の治療、およびまた突然死の如
き心脈管系の障害の治療、および恐らくは抗精神病薬と
しての使用が指示された。
として、例えば疼痛、特に偏頭痛、血管性および汎発性
の頭痛および三叉神経痛の治療、およびまた突然死の如
き心脈管系の障害の治療、および恐らくは抗精神病薬と
しての使用が指示された。
指示された1日用量としては通常約0.5〜500m7
で、1回置として化合物を約0.2〜約25(III?
の化合物を含有する剤型として1日2〜4回に分(75
) 本発明化合物は更に、それらのセロトニンM受容体拮抗
作用により指示され、目つ1i−lli準的な試験で示
される如く抗不整脈活性を示す。例えは化合物類は麻酔
家兎でノルエピネフリンにより誘発された不整脈を抑制
する。この試験においてノルエピネフリンの注入(3〜
10マイクロクラム/に9動物体重)は、心電計測定に
より10秒以上持続する不整脈相が得られるまで与えら
れる。対照としてノルエピネフリンの3回連続注射後、
本発明化合物ノ約10〜約500マイクログラム/に9
動物体重をノルエピネフリンの注射に引き続き注射する
。
で、1回置として化合物を約0.2〜約25(III?
の化合物を含有する剤型として1日2〜4回に分(75
) 本発明化合物は更に、それらのセロトニンM受容体拮抗
作用により指示され、目つ1i−lli準的な試験で示
される如く抗不整脈活性を示す。例えは化合物類は麻酔
家兎でノルエピネフリンにより誘発された不整脈を抑制
する。この試験においてノルエピネフリンの注入(3〜
10マイクロクラム/に9動物体重)は、心電計測定に
より10秒以上持続する不整脈相が得られるまで与えら
れる。対照としてノルエピネフリンの3回連続注射後、
本発明化合物ノ約10〜約500マイクログラム/に9
動物体重をノルエピネフリンの注射に引き続き注射する
。
試験化合物の投与量により不整詠相は減少するか、また
は消失する。
は消失する。
そのように化合物類は抗不整脈剤としての使用が指示さ
れる。指示される1日用量は約05〜約500”!?で
あって、通常、経口または注射(こより1日2〜4回に
分割して投与するか、約02〜250mgを含有する1
回量剤形または徐放剤形として投与される。
れる。指示される1日用量は約05〜約500”!?で
あって、通常、経口または注射(こより1日2〜4回に
分割して投与するか、約02〜250mgを含有する1
回量剤形または徐放剤形として投与される。
(76)
従って、本発明は発明化合物を例えば遊副塩基の如き薬
剤学的に許容し得る形または薬剤学的に許容し得る酸付
加塩の形または第4級アンモニウム塩の形として、薬剤
としての使用、特にセロトニンM受容体遮断作用が浸れ
た効果を期待される疾患に対し、セロトニンM拮抗剤と
しての使用、例えば鎮痛剤、特に偏頭痛治療剤として、
また抗不整脈剤としての使用のため提供する。
剤学的に許容し得る形または薬剤学的に許容し得る酸付
加塩の形または第4級アンモニウム塩の形として、薬剤
としての使用、特にセロトニンM受容体遮断作用が浸れ
た効果を期待される疾患に対し、セロトニンM拮抗剤と
しての使用、例えば鎮痛剤、特に偏頭痛治療剤として、
また抗不整脈剤としての使用のため提供する。
好ましい適応症は鎮痛作用的適応症である。好ましい化
合物は実施例A2およびA3の標題化合物である。
合物は実施例A2およびA3の標題化合物である。
本発明の化合物は遊離塩基の形、または薬剤学的に許容
し得る塩、例えば適当な酸付加塩および第4級アンモニ
ウム塩の形で投与してよい。かかる塩は遊離塩基と同力
価の活性を示す。従って今回の発明はまた、発明化合物
、特に式■で示される化合物またはその酸付加塩または
その第4級アンモニウム塩を含み、薬剤学的賦形剤また
は希釈剤を伴なうことを特徴とする薬学的組成物を提供
する。かかる組成物は例えば溶液または錠剤の如き通常
の様式で製剤化することができる。
し得る塩、例えば適当な酸付加塩および第4級アンモニ
ウム塩の形で投与してよい。かかる塩は遊離塩基と同力
価の活性を示す。従って今回の発明はまた、発明化合物
、特に式■で示される化合物またはその酸付加塩または
その第4級アンモニウム塩を含み、薬剤学的賦形剤また
は希釈剤を伴なうことを特徴とする薬学的組成物を提供
する。かかる組成物は例えば溶液または錠剤の如き通常
の様式で製剤化することができる。
不発明の化合物に、考慮される用途に対して臨床的に使
用されている薬剤、例えl−t:偏頭痛の場合の7トク
ロブラミド(J、1S、 ヒユーズ、メディカル・ジ
ャーナル・オプ・オース1−ラリア、1977年、第5
80頁、1977年10月22日発行)(この場合、メ
トクロプラミド1omyの静脈71′:射て充分である
)と同様に投−リすることができる。
用されている薬剤、例えl−t:偏頭痛の場合の7トク
ロブラミド(J、1S、 ヒユーズ、メディカル・ジ
ャーナル・オプ・オース1−ラリア、1977年、第5
80頁、1977年10月22日発行)(この場合、メ
トクロプラミド1omyの静脈71′:射て充分である
)と同様に投−リすることができる。
個々の化合物に対する正確な川石は、多数の′V困、特
に相対的活性度により異なる。不発明の好ましい化合物
である実施例/l−2およびA−3の化合物は、それぞ
れ上記家兎心臓試験においてp A 2値■0を示した
のに対して、メトクロプラミドのPA2値に7.1であ
った。したがって、これらの化合物に、メトクロプラミ
ドと同−用量寸たばこれより少ない月俸゛で投与するこ
とができる。
に相対的活性度により異なる。不発明の好ましい化合物
である実施例/l−2およびA−3の化合物は、それぞ
れ上記家兎心臓試験においてp A 2値■0を示した
のに対して、メトクロプラミドのPA2値に7.1であ
った。したがって、これらの化合物に、メトクロプラミ
ドと同−用量寸たばこれより少ない月俸゛で投与するこ
とができる。
。・ −蹄 、−゛−一
本発明の1つの化合物群は、式■において、Aか式11
の基であり、式中R1および艮2が、独立して、水素、
ハロゲン、(cl−4)アルキル、または(C1−4)
アルコキシ、R27J1位または5位に結合し、R3か
水素、または(C1−4)アルキル、遊離原子価が3.
4または5位に結合するか、または式■の基であり、式
中に4が水素、ノ10ゲン、または(C1−4)アルコ
キシ、R5力(水素、またはハロゲン、R6がアミ八ニ
トロ、(CI−4)アルキルアミノ、またはジ(、Cl
−4)アルキルアミン、ハロゲン、または1−ピロリル
、R7が水素、または/Sロゲンであり、Dが式■の基
であり、式中に8が水素、(C1−4)アルキルまたは
ベンジルであるか、または式■の基であり、式中遊離原
子価は3位に結合し、式Tに関する但しP)き規定にし
たがうものである。
の基であり、式中R1および艮2が、独立して、水素、
ハロゲン、(cl−4)アルキル、または(C1−4)
アルコキシ、R27J1位または5位に結合し、R3か
水素、または(C1−4)アルキル、遊離原子価が3.
4または5位に結合するか、または式■の基であり、式
中に4が水素、ノ10ゲン、または(C1−4)アルコ
キシ、R5力(水素、またはハロゲン、R6がアミ八ニ
トロ、(CI−4)アルキルアミノ、またはジ(、Cl
−4)アルキルアミン、ハロゲン、または1−ピロリル
、R7が水素、または/Sロゲンであり、Dが式■の基
であり、式中に8が水素、(C1−4)アルキルまたは
ベンジルであるか、または式■の基であり、式中遊離原
子価は3位に結合し、式Tに関する但しP)き規定にし
たがうものである。
1つの化合物群は、式Iにおいて実施例記載の化合物、
例えば実施例A2またはA3の化合物を除いたものであ
る。
例えば実施例A2またはA3の化合物を除いたものであ
る。
r79)
221100 6675−4
C223100) 71
69−4C優先権主張 [相]1982年11月30日
[相]スイス(CH)@6950/82 [相]1982年11月30日[相]スイス(CH)@
6951/82 [相]1982年12月22日[相]スイス(CH)■
7494/82 ■1982年12月220[相]スイス(CH)■74
95/82 61983年3月9目[相]スイス(CH)[有]12
56/83 @発 明 者 ベーター・ドナチュ スイス国ツエーハーー4123アル シュビル・ヘレンベーク34番 0発 明 者 ギュンター・エンゲル ドイツ連邦共和国デー−7858パ イル・イム・バーセンガルテン 11番 @発 明 者 ブルーノ・ヒユージ スイス国ツエーハーー4148プフ エフインゲン・ハウプトストラ ツヤ86ア一番 @発 明 者 ブライアン・ベーター・リチャードソン スイス国ツエーハー−4312マク デン・イム・ホファツ力−8番 0発 明 者 パウル・スタトラー スイス国ツエーハー−4105ビー ル−ベンケン・ヤコプスベーク 7番 手続補正書(自発) 2、発明の名称 環式カルボン酸ピペリジルエステルおよびアミド誘導体 3、特許出願人 住所 スイス国バーゼル(番地の表示なし)名称 サン
ド・アクチェンデゼルシャフト4、代理人 〒541 住所 大阪府大阪市東区本町2−10 木釘ビル内6
、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 7、補正の内容 明細書第67頁および第68頁を添付別紙のとおり補正
する。
C223100) 71
69−4C優先権主張 [相]1982年11月30日
[相]スイス(CH)@6950/82 [相]1982年11月30日[相]スイス(CH)@
6951/82 [相]1982年12月22日[相]スイス(CH)■
7494/82 ■1982年12月220[相]スイス(CH)■74
95/82 61983年3月9目[相]スイス(CH)[有]12
56/83 @発 明 者 ベーター・ドナチュ スイス国ツエーハーー4123アル シュビル・ヘレンベーク34番 0発 明 者 ギュンター・エンゲル ドイツ連邦共和国デー−7858パ イル・イム・バーセンガルテン 11番 @発 明 者 ブルーノ・ヒユージ スイス国ツエーハーー4148プフ エフインゲン・ハウプトストラ ツヤ86ア一番 @発 明 者 ブライアン・ベーター・リチャードソン スイス国ツエーハー−4312マク デン・イム・ホファツ力−8番 0発 明 者 パウル・スタトラー スイス国ツエーハー−4105ビー ル−ベンケン・ヤコプスベーク 7番 手続補正書(自発) 2、発明の名称 環式カルボン酸ピペリジルエステルおよびアミド誘導体 3、特許出願人 住所 スイス国バーゼル(番地の表示なし)名称 サン
ド・アクチェンデゼルシャフト4、代理人 〒541 住所 大阪府大阪市東区本町2−10 木釘ビル内6
、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 7、補正の内容 明細書第67頁および第68頁を添付別紙のとおり補正
する。
(別 紙)
D系列の実施例
上に記した方法と類似方法で以下の、その人が式Ill
の基であり、Dが式TVの基である化合物を製造したニ
ー 実−IA B n RB 立体醒お 融点
製法D−I l11−1 0 2 CH3x
yY、q3−19f1)7D−211I−□ 。26
7ジウエキツ 、1□−n12′)71、−3□1、−
4I O2QT3エア、□54−□ぜ2)72) 1)−411I−ffl 0 2 Hエンド
168−169° 9.11) 1)−5ntirv O2tl エンド 18
4−185 9D−6■−ヤ 。2 II 岬
ッ166−167−乃。
の基であり、Dが式TVの基である化合物を製造したニ
ー 実−IA B n RB 立体醒お 融点
製法D−I l11−1 0 2 CH3x
yY、q3−19f1)7D−211I−□ 。26
7ジウエキツ 、1□−n12′)71、−3□1、−
4I O2QT3エア、□54−□ぜ2)72) 1)−411I−ffl 0 2 Hエンド
168−169° 9.11) 1)−5ntirv O2tl エンド 18
4−185 9D−6■−ヤ 。2 II 岬
ッ166−167−乃。
D−7III−IV 0 2 CH3m7)’
245−246”) 7D−81l−Vl 02
clI3 x7v 146−147”’ 71)−9
l1l−Vll O2CH3エツト210−211
”” 7D−1On+−m O2CH3エフ)’
21e” 7D 11 III−V
O3Ct13 エンド 164−16− 7
D−12111−■ 0 :(Q(3エンド 16
3−164° 7D−13TI[X O2CH
3エンド ]’52−]、’53’ 7D−1
4■−xx O2CH3エンド 9l−9r
7D 15 ’Wi −Xll O3C
1(3エンド 17°−1−7107(別 紙)−−′ 実施例 A I3 n 即 立師(血 融
点 製法1)−16lll−X1f1. 0
2 CH3’エンド 158−15.f”
71)−17III−XTV 02 G(3xyY
159−16(f” 7I系列の実施例 以下、その人が式1丁または式■の基で、Dが弐■の基
である式■の化合物を製造したニー実施例 A
B l)屓換位t1t 融点 製法E
−1イ、/’f−tv−3−hv 0 3
219−221”)3) 7E−2m−IN)
I 3 145−147″″154−156”
” 7ベ E−3m−■ 03 :’159−]6
007λ所望によりエタノール中で沸とうする。
245−246”) 7D−81l−Vl 02
clI3 x7v 146−147”’ 71)−9
l1l−Vll O2CH3エツト210−211
”” 7D−1On+−m O2CH3エフ)’
21e” 7D 11 III−V
O3Ct13 エンド 164−16− 7
D−12111−■ 0 :(Q(3エンド 16
3−164° 7D−13TI[X O2CH
3エンド ]’52−]、’53’ 7D−1
4■−xx O2CH3エンド 9l−9r
7D 15 ’Wi −Xll O3C
1(3エンド 17°−1−7107(別 紙)−−′ 実施例 A I3 n 即 立師(血 融
点 製法1)−16lll−X1f1. 0
2 CH3’エンド 158−15.f”
71)−17III−XTV 02 G(3xyY
159−16(f” 7I系列の実施例 以下、その人が式1丁または式■の基で、Dが弐■の基
である式■の化合物を製造したニー実施例 A
B l)屓換位t1t 融点 製法E
−1イ、/’f−tv−3−hv 0 3
219−221”)3) 7E−2m−IN)
I 3 145−147″″154−156”
” 7ベ E−3m−■ 03 :’159−]6
007λ所望によりエタノール中で沸とうする。
式VUの代表的な出発物質
カー1nR8光間装置B 特徴 通称a)
2 CJ(3エンド Om、p、59−6f
)ロピンC) 2 C)13
エンド NHb、p、 8ノン’12.、l+
)ヮビナミアd) 2 C(■3 エキソ
” b、p、75’A、05mm プソイドトロピ
ナミン e) 3 CH3エンド Nl(bp、 1
1¥’17mm(67) 手続補正書(自発) 1 事件の表示 昭和58年特許願第 116788 号2発明の
名称 事件との関係 特許出願人 住所 スイス国バーゼル(番地の表示なし)名称 サン
ド・アクチェンゲゼルシャフト4代理人 5補正命令の日付:自発 6補正の対象:明細N)の発明の詳細な説明の欄(68
) °7.袖11′の内容゛ 明細jjf52 +’+頁末行に、r(C,−、)アル
フキシー1とある市に、r(C,、)アルキル、−1を
挿入する。
2 CJ(3エンド Om、p、59−6f
)ロピンC) 2 C)13
エンド NHb、p、 8ノン’12.、l+
)ヮビナミアd) 2 C(■3 エキソ
” b、p、75’A、05mm プソイドトロピ
ナミン e) 3 CH3エンド Nl(bp、 1
1¥’17mm(67) 手続補正書(自発) 1 事件の表示 昭和58年特許願第 116788 号2発明の
名称 事件との関係 特許出願人 住所 スイス国バーゼル(番地の表示なし)名称 サン
ド・アクチェンゲゼルシャフト4代理人 5補正命令の日付:自発 6補正の対象:明細N)の発明の詳細な説明の欄(68
) °7.袖11′の内容゛ 明細jjf52 +’+頁末行に、r(C,−、)アル
フキシー1とある市に、r(C,、)アルキル、−1を
挿入する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)シー炭素環式もしくは複素環式カルボン酸アルキ
レン架橋ピペリジルエステルもしくはアミド、または置
換安息香酸アルキレン架橋ピペリジルエステルもしくは
アミドから選ばれた化合物並ひにその酸付加塩および第
4級アンモニウム塩の製造方法(こおいて、上記化合物
のうち、a)ピペリジン環の2個の炭素原子間lこアル
キレン架橋を有する安息香酸エステルは、ヘンゼン環の
オルト位またはメタ位の少なくとも1つか置換されて8
つ、 b)両側のオルト位か非置換であるか、またはオルト位
の少なくとも一方にハロゲンまたはアルキルを有しメタ
位またはパラ位に水素もしくはハロゲンのみを有し、か
つピペリジン環の2個の炭素原子間にアルキレン架橋を
有する安息香酸エステルは、アルキレン架橋に少なくと
も3個の炭素原子を有し、 C)ピペリジン環の窒素原子と1個の環炭素原子間にア
ルキレン架橋を有し、かつ1個のオキシ置換基を有する
安息香酸エステル(J、ペンセン核に少なくとも1個の
オキシ箭換基以外の置換基を有するか、または2個のオ
キシ置換基のみを有し、 d)複素環か環窒素原子を含む6i環である単環式複素
環式カルボン酸アミドもしくはエステル、または複素環
が2個の酸素原子を含む環式複素環式カルホン酸アミド
は、ピペリジン環の窒素原子と1個の環炭素原子間にア
ルキレン架橋を有し、 e)安息香酸アミドは、ピペリジン環の窒素原子と1個
の環炭素原子間に結合したアルキレン架橋を有し、 f)安息香酸アミドは、何れのオルト位にもアルキルま
たはヒドロキシまたはハロゲン置換を有さす、 g)テノイルおよびナフトイル−8−アザ−ビシクロC
3,2,1)オクト−3−イルエステルは除くものとし
、 −1−記製造方法は、適当なジー炭素環式もしくは複素
環式カルボン酸または安息香酸、またはそれらの反応性
誘導体、または上記酸もしくは反応性誘導体の前駆体と
、適当なアルキレン架橋ピペリジルアミンもしくはピペ
リジツール、またはその前駆体を縮合させる工程を含み
、必要に応じて、得られるピペリジルエステルもしくは
アミドまたはその酸付加塩もしくは第4級アンモニウム
塩を目的とするピペリジルエステルもしくはアミドまた
はその酸付加塩もしくは第4級アンモニウム塩に変換し
、得られるピペリジルエステルもしくはアミドそのもの
またはその酸付加塩もしくは第4級塩を回収することか
らなる方法。 (2)式■ /1−CO−B−D I 〔式中、Aは式■ (式中、遊離原子価は縮合環の何れか(こ結合するもの
とし、Xは−C1−に2−1−N1(3−1−〇−1ま
たは−5−1R1およびに2は、独立して、水素、ノ\
ロゲン、(C1−4’)アルキル、(C1−4)アルコ
キシ、ヒドロキシ、アミン、(C1−4)アルキルアミ
ノ、ジ(C1−4)アルキルアミノ、メルカプト、また
は(C1−4)アルキルチオ、1(3は水素、(CI−
4)アルキル、(C3−5)アルケニル、アリールまた
はアラルキル、または式■ に5 (式中R4ないしに7は、独立して、水素、アミ八ニト
ロ、(C,4)アルキルアミへジ(C;、 4)アルキ
ルアミノ、ハロゲン、(C1−4)アルコキシ、(C1
−4)アルキル、(C1−4)アルカノイルアミノ、ま
たはピロリルを示し、R4およびR5の少なくとも一方
は水素以外のものとする) の基を意味する) で示される基、Bは一〇−または−NH−、また1)は
式I■ (式中、nは2.3または4、R8は水素、(C1−7
)アルキル、(C3−5)アルケニル、またはアラルキ
ルを示す) または式V で示される基を意味し、 (1)Aが式■の基であり、Bか−NH−の場合には、
Dは式■の基であり、(11)Aが式■の基であり、式
中に4が水素であるか、または式中に4がハロゲンもし
くはアルキルでR5ないしに7がハロゲンもしくは水素
から選ばれ、Bが−0−であり、Dが式■の基の場合に
は、nは3または4であり、(111)Aが式■の基で
あり R4ないしI(7の1つがアルコキシであり、D
が式■の基の場合(こは、R4ないしR7の残りのうち
1つが水素もしくはアルキルチオであるか、またはに4
ないしR7のうち2つのみがアルコキシであり、IV)
Aが式■の基であり、式中R4がアルキルもしくはハ
ロゲンの場合には、Bは一〇−であるものとする〕 で示される化合物、並びにその酸付加塩および第4級ア
ンモニウム塩の製造方法において、上記製造方法は、 a)式■ A−Go−OHVT (式中、Aは前と同じ意味) で示される適当な化合物、またはその反応性誘導体、ま
たは上記酸もしくは反応性誘導体の前駆体と、式■ HB−1) ■ (式中、BおよびDは前と同じ意味) で示される適当な化合物、または上記化合物の前駆体を
縮合させるか、または 1))第2級アミノ基を有する式■の化合物をアルキル
化して第3級アミン基を有する式■の化合物を得るか、
または 0保護された形の式■の化合物を脱保護して式■の化合
物を得るか、または d)式■においてAが式■の基でR2が水素の化合物を
ハロゲン化して対応するに2がノ10ゲンの化合物を得
るか、または e)式■においてAが式■の基でR2かノ10ゲンの化
合物をアルコキシ化して対応するに2かアルコキシの化
合物を得る工程を含み、 得られる式■の化合物をそのまままたはその酸付加塩も
しくは第4級アンモニウム塩として回収することからな
る方法。 (3)実施例の何れかに記載された、特許請求の範囲第
1項記載のジー炭素環式もしくは複素環式カルボン酸ま
たは置換安息香酸のエステルまたはアミド、または」二
記エステルもしくはアミドの酸付加塩または第4級アン
モニウム塩の製造方法。 (4)特許請求の範囲第1.2または3項記載の方法で
製造された、ジー炭素環式もしくは複素環式カルボン酸
または置換安息香酸のエステルまたはアミド、または上
記エステルもしくはアミドの酸付加塩または第4級アン
モニウム塩。 (5)ジー炭素環式もしくは複素環式カルボン酸アルキ
レン架橋ピペリジルエステルもしくはアミド、または置
換安息香酸アルキレン架橋ピペリジルエステルもしくは
アミドにおいて、 a)ピペリジン環の2個の炭素原子間にアルキレン架橋
を有する安息香酸エステルは、ベンゼン環のオルト位ま
たはメタ位の少なくとも1つが置換されており、 b)両側のオルト位が非置換であるか、またはオルト位
の少なくとも一方にハロゲンまたはアルキルを有しメタ
位またはパラ位に水素もしくはハロゲンのみを有し、か
つピペリジン環の2個の炭素原子間にアルキレン架橋を
有する安息香酸エステルは、アルキレン架橋に少なくと
も3個の炭素原子を有し、 C)ピペリジン環の窒素原子と1個の環炭素原子間にア
ルキレン架橋を有し、かつ1個のオキシ置換基を有する
安息香酸エステルは、ベンゼン核に少なくとも1個のオ
キシ置換基以外の置換基を有するか、または2個のオキ
シ置換基のみを有し、 d)複素環が環窒素原子を含む6員環である単環式複素
環式カルボン酸アミドもしくはエステル、または複素環
が2個の酸素原子を含む環式複素環式カルボン酸アミド
は、ピペリジン環の窒素原子と1個の環炭素原子間にア
ルキレン架橋を有し、 C)安息香酸アミドは、ピペリジン環の窒素原子と1個
の環炭素原子間に結合したアルキレン架橋を有し、 f)安息香酸アミドは、何れのオルト位にもアルキルま
たはヒドロキシまたはハロゲン置換を有さず、 g)テノイルおよびナフトイル−8−アザ−ビシクロC
3,2,1)オクト−3−イルエステルは除くものとす
る、 化合物並びにその酸付加塩および第4級アンモニウム塩
。 (6)特許請求の範囲第2項記載の式■の化合物、並び
にその酸付加塩および第4級アンモニウム塩。 (7)アリールが非置換フェニル、または(CI−4)
アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、モジくは(C1−4
)アルコキシでモノまたはポリ置換されたフェニルでア
リ、アラルキル力、非置換フェニル、または(C1−4
)アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、もしくは(C1−
4)アルコキシでモノまたはポリ置換されたフェニルで
置換された(CI−4)アルキルである、特許請求の範
囲第6項記載の化合物、並ひにその酸付加塩および第4
級アンモニウム塩。 (式中、k4P3はハロゲン、(CI−4)アルキルア
ミノ、または(CI−4)アルコキシ、R5Paは水素
、R6Pa はアミン、(CI−4)アルキルアミノ、
またはジ(C1−4)アルキルアミノ、R7Paは水素
、またはフッ素、塩素または臭素、R8、aは水素、(
C1−7)アルキルまたはアラルキルを意味する)で示
される化合物である、特許請求の範囲第6項記載の化合
物、並びにその酸付加塩および第4級アンモニウム塩。 (式中、R4Pa 、に5Pa 5k6PaおよびR8
,aは特許請求の範囲第8項記載の意味、R7,bは水
素、またはハロゲンを、線法する) で示される化合物である、特許請求の範囲第6項記載の
化合物、並びにその酸付加塩および第4級アンモニウム
塩。 3 (式中、遊離原子価は縮合環の何れかに結合するものと
し、n′は2または3を意味し、R1、R2、l(3、
およびR8は特許請求の範囲第6項記載の意味)で示さ
れる化合物である、特許請求の範囲第6項記載の化合物
、並びにその酸付加塩および第4級アンモニウム塩。 (式中、遊離原子価は縮合環の何れかに結合するものと
し、k]、qbとR2q bは、独立して、水素、ハロ
ゲン、または(C1−4)アルキル、k3qbは水素、
または(C1−4)アルキル、Rs 9t)は水素、(
C1−7)アルキル、またはアラルキル、n′は2また
は3を意味する) で示される化合物である、特許請求の範囲第6項記載の
化合物、並びにその酸付加塩および第4級アンモニウム
塩。 3 (式中、カルボニル基は縮合環の何れか番こ結合するも
のとし、R29cは特許請求の範囲第2項で定義したR
2のうち(C1,)アルコキシおよびヒドロキシ以外の
基を意味し、n’ 、R1、R3および′R7は特許請
求の範囲第6または11項記載の意味)で示される化合
物である、特許請求の範囲第6項記載の化合物、並びに
その酸付加塩および第4級アンモニウム化合物。 (13)式■sa (式中、R4,a、に5.a、に6.aおよびR7pb
は特許請求の範囲第9項記載の意味) で示される化合物である、特許請求の範囲第6項記載の
化合物、並びにその酸付加塩および第4級アンモニウム
化合物。 (14)式■5b l(5Pa (式中、R4Pa ’ R5Pa 、R6,aおよびR
7p bは特許請求の範囲第9項記載の意味・) で示される化合物である、特許請求の範囲第6項記載の
化合物、並びにその酸付加塩および第4級アンモニウム
化合物。 (15)Aか式■の基であり、式中に1および](2か
、独立して、水素、ハロゲン、(CI−4)アルキル、
または(C1−4)アルコキシ、k2が4位または5位
(こ結合し、1(3が水素、または(CI−4)アルキ
ル、遊離原子価か3.4または5位に結合するか、また
は式■の基であり、式中に4がノリゲン、または(C1
−4)アルコキシRsが水素、またはハロゲン、λ6が
アミン、ニトロ、(C1−4)アルキルアミノ、または
ジ(C1−4)アルキルアミノ、ハロゲン、または1−
ピロリル、k7が水素、またはハロゲンであり、■)が
式■の基であり、式中R8が水素、(C1−4)アルキ
ルまたはベンジルであるか、または式Vの基であり、式
中遊離結合手は3位に結合し、特許請求の範囲第2項に
記載した式1に関する但し書き規定(1)〜(iV)i
こしたかうものである、特許請求の範囲第6項記載の化
合物、並びにその酸付加塩および第4級アンモニウム塩
。 (16)N−(エンド−9−メチル−アザ−ビシクロC
3,3,1)ノン−3−イル)インドール−3−イルカ
ルボン酸アミドである、特許請求の範囲第6項記載の化
合物、並びにその酸付加塩および第4級アンモニウム塩
。 (17)インドール−3−イルカルボン酸−エンド−8
−メチル−8−アザ−ビシクロ(3,2,]、、 )]
オクトー3−イルエステである、特許請求の範囲第6項
記載の化合物、並びにその酸付加塩および第4級アンモ
ニウム塩。 (18)1−メチル−N−(エンド−9−メチル−アザ
−ビシクロC3,3,1)ノン−3−イル)インドール
−3−イルカルボン酸アミドである、特許請求の範囲第
6項記載の化合物、並びにその酸付加塩および第4級ア
ンモニウム塩。 (1,9) l)か式■の基である、特許請求の範囲第
6項記載の化合物、並びにその酸付加塩および第4級ア
ンモニウム塩。 (20)nか3である、特許請求の範囲第19項記載の
化合物、並びにその酸付加塩および第4級アンモニウム
塩。 (21)Dが式■の基である、特許請求の範囲第6項記
載の化合物、並びにその酸付加塩および第4級アンモニ
ウム塩。 (22)Aかインドリルである、特許請求の範囲第6項
記載の化合物、並びにその酸付加塩および第4級アンモ
ニウム化合物。 (23)医薬として使用する、特許請求の範囲第4−2
2項の何れか1つに記載する化合物、並びにその医薬」
−許容される酸付加塩または第4級アンモニウム塩。 (24)セロトニンM拮抗剤、鎮痛剤、抗偏頭痛剤また
は抗不整脈剤として使用する、特許請求の範囲第4−2
2項の何れ力司つに記載する化合物、並びにその医薬上
許容される酸付加塩および第4級アンモニウム塩。 (2、特許請求の範囲P4−22項の何れか1−pに記
載する化合物、またはその医薬上許容される) 酸付加塩もしくは第4級アンモニウム塩と、医薬用担体
または布釈剤からなる、医薬組成物。 (26)BがNH,Dが式■の基であり 式中nが4で
ある、特許請求の範囲第2項記載の式■の化合物。 aカ
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH4267/82 | 1982-07-13 | ||
CH426782 | 1982-07-13 | ||
CH695082 | 1982-11-30 | ||
CH6950/82 | 1982-11-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5967284A true JPS5967284A (ja) | 1984-04-16 |
JPH0570634B2 JPH0570634B2 (ja) | 1993-10-05 |
Family
ID=25695091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58116788A Granted JPS5967284A (ja) | 1982-07-13 | 1983-06-28 | インドリルカルボン酸ピペリジルエステル誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5967284A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61212521A (ja) * | 1985-03-14 | 1986-09-20 | ビーチヤム・グループ・ピーエルシー | 医薬組成物 |
JPH01199969A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-08-11 | Delalande Sa | 不安解消性化合物 |
WO1990014347A1 (en) * | 1989-05-24 | 1990-11-29 | Nippon Shinyaku Co., Ltd. | Indole derivatives and medicine |
JP2002030084A (ja) * | 2000-07-18 | 2002-01-29 | Mitsubishi Pharma Corp | 1−アザビシクロアルカン化合物およびその医薬用途 |
JP2007534692A (ja) * | 2004-04-22 | 2007-11-29 | メモリー・ファーマシューティカルズ・コーポレイション | インドール、1h−インダゾール、1,2−ベンズイソキサゾール、1,2−ベンゾイソチアゾール、ならびにその調製および使用 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58119446A (ja) * | 1982-01-06 | 1983-07-15 | Nippon Steel Corp | 連続鋳造方法 |
-
1983
- 1983-06-28 JP JP58116788A patent/JPS5967284A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58119446A (ja) * | 1982-01-06 | 1983-07-15 | Nippon Steel Corp | 連続鋳造方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0570634B2 (ja) | 1993-10-05 |
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