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JPS5934199B2 - ビス−トリメチルシリルセフアマンド−ルおよびその製造方法 - Google Patents

ビス−トリメチルシリルセフアマンド−ルおよびその製造方法

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Publication number
JPS5934199B2
JPS5934199B2 JP52029137A JP2913777A JPS5934199B2 JP S5934199 B2 JPS5934199 B2 JP S5934199B2 JP 52029137 A JP52029137 A JP 52029137A JP 2913777 A JP2913777 A JP 2913777A JP S5934199 B2 JPS5934199 B2 JP S5934199B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
trimethylsilyl
cefamandole
methyl
bis
tetrazol
Prior art date
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Expired
Application number
JP52029137A
Other languages
English (en)
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JPS52113993A (en
Inventor
ウイリアム・ジエイ・フイ−ラ−
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eli Lilly and Co
Original Assignee
Eli Lilly and Co
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Filing date
Publication date
Application filed by Eli Lilly and Co filed Critical Eli Lilly and Co
Publication of JPS52113993A publication Critical patent/JPS52113993A/ja
Publication of JPS5934199B2 publication Critical patent/JPS5934199B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/36Methylene radicals, substituted by sulfur atoms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 セフアマンドールは、米国−特許第3903278号に
開示されているように、エンテロバクタ一などによる感
染症の抑制に有用なセフアロスポリン抗生物質である。
セフアマンドールとは7〜(D−マンデルアミド)−3
−(1−メチル−1・2・3・4−テトラゾール−5−
イル)チオメチル3−セフエム一4−カルボン酸のこと
であつて、ライアン(Ryan)によつて米国特許第3
641021号、実施例5に初めて開示された。
7ーアミノ一3−(1−メチル−1・2・3・4ーテト
ラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−
カルボン酸以下、テトラゾール核あるいは核と呼ぶこと
がある)をアンヒトロー0ーカルボキシ−D−マンデル
酸でアシル化してセフアマンドールを得る方法はグリー
ン(Greene)によつて米国特許第3840531
号に開示されている。
また、セフアロスポリン核のシワル化はジヤツクソン(
JacksOn)によつて米国特許第3671449号
に開示されている。ジャツクソンはさらに、シリル化し
たセフアロスポリン核のアシル化について米国特許第3
694437号に記載している。ドイツの公開特許第2
522997号(Derwent8l95OW/50)
には、α−ヒドロキシルとカルボン酸が保護された7一
(Dα−ヒドロキシフエニルアセトアミド)−3(6−
ヒドロキシピリダジン一3−イルもしくはテトラゾロ〔
4・5−b〕ピリダジン一6−イル)チオメチル−3−
セフエム一4−カルボン酸が開示されている。シリル化
された化合物はただ単に最終生成物に至る副中間体とし
て述べられているだけで、その製法および諸性質は明記
されていないセフアマンドールあるいはそのナトリウム
塩を再結晶によつて精製することは極めて困難であるの
で、医薬用製剤に必要な純度の化合物を得るための実用
的な精製法が必要である。
結晶性のセフアマンドールナトリウムは、純粋な状態で
製造したセフアマンドール酸から得られる。容易に除去
し得る保護基としてシリルを用いることは、この分野で
は公知である。
しかしながら、シリル化したセフアロスポリン化合物は
一般に不安定であるので、これらの化合物の中で確実に
同定されたものは比較的少ない。本発明の目的は、容易
に高純度のセフアマンドール酸に変換し得る、安定な結
晶性セフアマンドールシリル誘導体を得ることである。
本発明の製法においては、粗セフアマンドールをシリル
誘導体に変換することもできれば、セフアロスポリンテ
トラゾール核をシリル化した後にアンヒトロー0−カル
ボキシ−D−マンデル酸でアシル化してシリル誘導体を
直接的に得ることもできる。本発明に用いる試薬は市販
もしくは文献に記載されている。N−トリメチルシリル
アセトアミド(MSA)も、N−0−ビス(トリメチル
シリル)アセトアミド(BSA)も共に市販されている
。化学式で表わされるアシル化剤2アンヒトロー0−カ
ルボキシ−Dニマンデル酸2の製法は、グリーン(Gr
eene)によつて米国特許第3840531号、実施
例Vに詳述されている。
本発明は、実質的に無水の酢酸エチル中で、7ーアミノ
一3−(1−メチル−1・2・3・4ーテトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸
をN−トリメチルシリルアセトアミド、N・0−ビス(
トリメチルシリル)アセトアミド、N−0−ビス(トリ
メチルシリル)トリフルオロアセトアミド、N−トリメ
チルシリル−N−メチルトリフルオロアセトアミド、お
よびN−トリメチルシリルイミダゾールから選んだシリ
ル化剤と反応させ、続いてアンヒトロー0一カルボキシ
一D−マンデル酸でアシル化して、式(1)で表わされ
るビスートリメチルシリルセフアマンドールを直接製造
する方法に関する。
本発明の別な目的は、以下の順序に従つて粗製のセフア
マンドールを精製する点にある。
(A) 7一(D−マンデルアミド)−3−(1−メチ
ル−1・2・3・4−テトラゾール−5−イル)−3−
セフエム一4−カルボン酸を無水酢酸エチル中でN−ト
リメチルシリルアセトアミド、N−0−ビス(トリメチ
ルシリル)アセトアミド、N・0−ビス(トリメチルシ
リル)トリフルオロアセトアミド、N−トリメチルシリ
ル−N−メチルトリフルオロアセトアミドおよびN−ト
リメチルシリルイミダゾールから選んだシリル化剤と反
応させてトリメチルシリルJヨ黶kD−(0−トリメチル
シリル)マンデルアミド〕−3−(1−メチル−1・2
・3・4−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3ー
セフエム一4−カルボキシレートとし;(B) このシ
リル化した化合物を、 (a)エタノールもしくはイソプロパノール中で水と反
応させるか、あるいは (b)メタノール、エタノール、プロパノール、および
ブタノールから選んだ1級アルコール中でイソプロパノ
ールと反応させて7一(D−マンデルアミド)−3−(
1−メチル−1・2・3・4−テトラゾール−5−イル
)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸イソプロ
パノールソルベートとし、次いでこの生成物を水と反応
させてセフアマンドールを水和物として回収する。
ビスートリメチルシリルセフアマンドールの最初の加水
分解生成物は比較的安定な5水和物であり、このものは
もつと安定な3水和物に容易に変換し得る。セフアマン
ドール水和物をナトリウム 2−エチルヘキサノエート
もしくは酢酸ナトリウムと反応させると、容易に極めて
純度の高いセフアマンドールナトリウムに変換し得る。
本発明の製法に従つて粗製のセフアマンドールをシリル
化剤と反応させるとビス−トリメチルシリル・セフアマ
ンドール(式)が得られる。
この生成物は以後BTMS−セフアマンドールと略記す
る。この際、次のシリル化剤を用いることができる。
N−トリメチルシリルアセトアミド(MSA)、N・0
−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(BSA)、
N−0−ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセト
アミド(BSTA):N−トリメチルシリル−N−メチ
ルトリフルオロアセトアミド;またはN−トリメチルシ
リルイミダゾール(TMSI)。
副生成物としてヘキサメチルジシラザンのような塩基を
形成するシリル化剤は、セフアロスポリンの△3二重結
合において望ましくない異性化を生じるので、その使用
を避けるべきである。シリル化したアセトアミド試薬は
中性のアセトアミドを副生するので好ましい。3本発明
工程においては、特にMSAとBSAを用いてセフアマ
ンドールをシリル化するのが好ましい。
セフアマンドールのヒドロキシルとカルボキシルを共に
シリル化するためにはトリメチルシリルを2当量必要と
する。セフアマンドールを完全にシリル化するためには
、純粋な試薬を用いた場合、MSA2当量あるいはBS
Al当量で十分である。しかしながら、試薬の品質が普
通の場合は結晶性BTMS−セフアマンドールを高収率
で得るために過剰のシリル化剤を用いることが好ましい
。従つて、セフアマンドールは2倍過剰量または少なく
とも4モル当量の市販MSAと反応させることが望まし
い。BSAはMSAよりも品質的に勝れているので、シ
リル化には1モル当量またはわずかに過剰量の市販級B
SAで十分である。シリル化は室温において、酢酸エチ
ルのような実質的に無水不活性溶媒中で実施し得る。
I実質的に無水7とは、反応に実質的影響を及ぼさない
程度の水しか含まれていないことを意味し、不活性溶媒
とは本反応を実質的に妨げない溶媒を意味する。BTM
S−セフアマンドールは酢酸エチルにはわずかしか溶け
なくて、結晶性の生成物として沈澱し、F過によつて容
易に回収し得るので溶媒としては酢酸エチルが好ましい
。溶液中には未反応物質とシリル化された不純物が残つ
ている。BTMS−セフアマンドールは特異な疎水性に
よつて水に対して安定であるので、しばしば生成物と共
沈澱するアセトアミド副生成物は、通常の水洗によつて
分離できる。シリル化反応は発熱反応であるので、室温
で実施すると反応混液の温度は約40℃に昇温する。反
応は0〜80−℃において実施し得るが、室温で実施す
るのが好ましい。BTMS−セフアマンドールは室温に
おいて速く形成され、一般には試薬を加えると数分以内
に沈澱し始める。反応は2時間以内に終了させることが
好ましいが、反応時間が長くても収率に影響を及ぼすこ
とはない。上記方法で得たBTMS−セフアマンドール
の品質は、結晶性セフアマンドールへ変換するのに十分
な純度のものである。しかしながら他の有機不純物を分
離する必要がある場合には、BTMS−セフアマンドー
ルを酢酸エチルから再結晶するか、クロロホルムもしく
はメチレンクロリドからヘキサンで沈澱させることによ
つて再結晶することができる。BTMS−セフアマンド
ールは、実質的に無水の酢酸エチル中で、テトラゾール
核をシリル化し、次いでアンヒトロー0−カルボキシ−
D−マンデル酸によつてアシル化することによつて直接
製造し得る。
核をシリル化してトリメチルシリル 7トリメチルシリ
ルアミノ一3−(1−メチル1・2・3・4−テトラゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カル
ボキシレートを直接得るには2当量のトリメチルシリル
を必要とする。核のシリル化には2モル当量のMSAま
たは1モル当量もしくはわずかに過剰量のBSAが好ま
しい。市販級のMSAの場合には4モル当量をシリル化
に用いることが好ましい。シリル化反応は室温において
速く進行し、テトラゾール核は溶解する。溶液が得られ
るとシリル化した核を、好ましくは1モル当量またはわ
ずかに過剰量のアンヒトロー0−カルボキシ−D−マン
デル酸でアシル化する。アシル化は、シリル化した核を
アシル化剤に加えても、アシル化剤をシリル化した核に
加えても実施し得る。アシル化の進行に伴つて沈澱する
BTMS−セフアマンドールは▲過によつて回収し得る
。この反応の独特な効果は、シリル化された生成物が水
分に対して安定な結晶性物質として得られ、しかもセフ
アマンドール・5水和物もしくは3水和物への都合の良
い変換に用いるまで保存し得る点にある。BTMS−セ
フアマンドールの直接製法における反応条件は、前述し
たセフアマンドールからの製法における条件と類似して
いる。
試薬の使用量は、目的、純度および価格に基づいて変え
ることができる。例えば、過剰のシリル化剤を反応溶媒
中の水と反応させてこれを除去することもできる。セフ
アロスポリンは最も高価な反応成分であるので、変換を
より効果的に行なうにはシリル化剤またはアシル化剤の
適当な過剰量を用いることが好ましい。前記いずれかの
方法によつて得られたBTMS一セフアマンドールは加
水分解によつてセフアマンドールに変換し得る。
また、BTMS〜セフアマンドールはイソプロパノール
ソルベートにソルポリシス(SOlvOlysis)し
てから緩和な条件下にセフアマンドールに加水分解し得
る。いずれの場合もセフアマンドール・5水和物が最初
の生成物として回収される。しかしながら、セフアマン
ドール・5水和物は準安定な物質であつて、加熱または
長期乾燥によつてもつと安定な3水和物に容易に変換し
得る。従つて、加水分解生成物を乾燥によつてセフアマ
ンドール・3水和物に変換する方法がより便利である。
BTMS−セフアマンドールは水に難溶であるので加水
分解には水性混合溶媒を用いるのが好ましい。
シリル化合物はエタノールもしくはイソプロパノール中
で水と反応し得る。シリル化合物はこのような混合溶媒
の沸点において加水分解するのが最も良い。加熱によつ
てシリル化合物の溶液が得られると加水分解は急速に起
こり、短時間で、通常は数分以内で完了する。5水和物
は溶媒の減圧留去あるいは冷却による結晶化によつて回
収し得る。
5水和物を乾燥するとより安定なセフアマンドール・3
水和物に変換し得る。
BTMS−セフアマンドールを、メタノール、エタノー
ル、プロパノールおよびブタノールから選んだ1級アル
コール中でイソプロパノールと反応させるとイソプロパ
ノールソルベートを得る。
セフアマンドールイソプロパノールソルベートを冷水と
反応させると容易にセフアマンドールに加水分解する。
加水分解生成物はこの場合もセフアマンドール・5水和
物として回収でき、乾燥して3水和物に変換し得る。以
下の実施例は本発明の中間体、化合物およびその製法を
さらに詳述したものである。
実施例 1 ビスートリメチルシリルセフアマンドール(セフアマン
ドールより)7一(D−マンデルアミド)−3−(1−
メチル−1・2・3・4−テトラゾール−5−イル)チ
オメチル−3−セフエム一4−カルボン酸4.07(8
.6mm01e)、N−トリメチルシリルアセトアミド
5.4y(34、4mm01e)、および酢酸エチル5
07!/を室温において2時間撹拌し、沈澱を沢取して
減圧下に乾燥した。
粗生成物を水洗、乾燥し、クロロホルムとヘキサンとの
混液から再結晶してトリメチルシリル 7一〔D−0−
(トリメチルシリル)マンデルアミド〕−3−(1−メ
チル−1・2・3・4−テトラゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフエム一4−カルボキシレート3.3t
(63.5%)を得た。よ1、 ↓ 1◆ υ ρ
9V11υ.υ υ実施例 2ビスートリメチルシリル
セフアマンドール(テトラゾール核より)この実施例で
は、シリル化したテトラゾール核にアシル化剤を加えた
7ーアミノ一3−(1−メチル−1・2・3・4−テト
ラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−
カルボン酸87(24.4mm01e)、N−トリメチ
ルシリルアセトアミド12.87(97.6mm01e
)、および酢酸エチル100m1を室温において溶液と
なるまで攪拌した。
アンヒトロー0−カルボキシ−D−マンデル4.777
(26.8mm01e)の酢酸エチル溶液を攪拌中の混
液に加えてさらに2時間攪拌し、トリメチルシリルセフ
アマンドール(実施例1)の結晶種を植えて生じた沈澱
を▲取した。粗製生成物を水洗してアセトアミドを除去
し、乾燥後、メチレンクロリドとヘキサンとの混液から
再結晶してトリメチルシリル 7一〔D−(0−トリメ
チルシリル)マンデルアミド〕−3−(1−メチル−1
・2・3・4−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3一セフエム一4−カルボキシレートを得た。実施例
3 セフアマンドールイソプロパノールソルベート沸騰した
エタノール75m1にトリメチルシリルJヨ黶kD−(0
−トリメチルシリル)マンデルアミド〕−3−(1−メ
チル−1・2・3・4−テトラゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフエム一4−カルボキシレート23.2
7を溶解した。
得られた均一溶液をイソプロパノール500m1で稀釈
して冷却し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をイソプロ
パノール250m1に溶解して▲過し、冷却後、再沢過
して7一(D−マンデルアミド)一3−(1−メチル−
1・2・3・4−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−セフエム一4−カルボン酸イソプロパノールソル
ベート14.857を得た。生成物の一部のNMRスペ
クトルはセフアマンドールのイソプロパノールソルベー
トと一致した。実施例 4 セフアマンドール・5水和物 沸騰したエタノール水溶液(水2m1、エタノール25
m0にトリメチルシリル 7一〔D−(0一トリメチル
シリル)マンデルアミド〕−3一(1−メチル−1・2
・3・4−テトラゾール5−イル)チオメチル−3−セ
フエム一4−カルボキシレート17を溶解して10分間
加熱し、水50m1で稀釈して冷却すると7一(D−マ
ンデルアミド)−3−(1−メチル−1・2・3・4−
テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一
4−カルボン酸・5水和物0.9yを得た。
生成物のNMRスペクトル(C3D6O)はセフアマン
ドール・5水和物のスペクトルと一致し、トリメチルシ
リル基の不存在を示した。実施例 5 ビスートリメチルシリルセフアマンドール(BSAによ
る) N・0−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(BS
A)219.79y(1.08m01e)を酢酸エチル
2300m1に溶かした溶液にセフアマンドール酸45
4y(0.98m01e)を加えると2〜3分以内にシ
リル誘導体が結晶化し始めた。
混液を約2時間攪拌し、不溶物を沢取してトリメチルシ
リル 7一〔D−(0−トリメチルシリル)マンデルア
ミド〕−3−(1−メチル−1・2・3・4−テトラゾ
ール−5−イル)チオメチル−3一セフエム一4−カル
ボキシレート412.27(69.4%)を得た。実施
例 6 ビスートリメチルシリルセフアマンドール(シリル化し
たテトラゾール核より)この実施例においては、テトラ
ゾール核をシリル化してからアシル化剤に加えた。
N−トリメチルシリルアセトアミド12.87(97.
6mm01e)を酢酸エチル45m1に溶かした溶液と
テトラゾール核、即ち7ーアミノ一3−(1−メチル−
1・2・3・4−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−セフ土ム一4−カルボン酸8y(24.4mm0
1e)を60℃において溶液が得られるまで反応させ、
次いで室温に冷却した。アンヒトロー0ーカルボキシ−
D−マンデル酸2.827((15.8mm01e)を
酢酸エチル35m1!に溶かした溶液に前記溶液を常温
において加えて2時間攪拌した。不溶物を沢取して減圧
下に乾燥し、水300m1で洗滌してアセトアミドを除
去し、再び乾燥してトリメチルシリル 7一〔D−(0
−トリメチルシリル)マンデルアミド〕−3−(1−メ
チル−1・2・3・4−テトラゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフエム一4−カルボキシレート7.47
を得た。実施例 7 セフアマンドールイソプロパノールソルベートからセフ
アマンドール・3水和物への変換セフアマンドールイソ
プロパノールソルベート(実施例3)3,85yを氷水
300m1と共に1時間攪拌して不溶物を▲取し、減圧
乾燥して生成物3.1yを得た。
生成物の一部を粉末X線解析に付した。このX線パター
ンはセフアマンドール・3水和物のものと一致した。実
施例 8 ビスートリメチルセフアマンドール(N−トリメチルシ
リルイミダゾールによる)酢酸エチル25m1とN−(
トリメチルシリル)イミダゾール4m1(3.0mm0
1)からなる溶液に7一(D−マンデルアミド)−3−
(1−メチル−1・2・3・4−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸4.6
2y(10m′MOle)を加えた。
反応剤の溶解後、生成物が沈澱し始めた。混液を1時間
攪拌し、不溶物を沢取して酢酸エチルおよびエーテルで
洗滌し、減圧乾燥してトリメチルシリル 7一〔D−(
0−トリメチルシリル)マンデルアミド〕−3一(1−
メチル−1・2・3・4−テトラゾール−5−イル)チ
オメチル−3−セフエム一4−カルボキシレート6.0
6y(45%)を得た。この生成物のNMRスペクトル
は、実施例1の記載の方法に従つて製造したBTMS−
セフアマンドールのスペクトルと一致した。実施例 9 ビスートリメチルセフアマンドール(N−0−ビス(ト
リメチルシリル)トリフルオロアセトアミドによる)酢
酸エチル15m1とN−0−ビス(トリメチルシリル)
トリフルオロアセトアミド3.5m1との混液に7一(
D−マンデルアミド)−3−(1−メチル−1・2・3
・4−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
エム一4−カルボン酸2,5y(5.4mm01e)を
加えて2時間撹拌し、沈澱をf取し、減圧下に乾燥して
トリメチルシリル 7〔D−(0−トリメチルシリル)
マンデルアミド〕−3−(1−メチル−1・2・3・4
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム
一4−カルボキシレート2.0y(61%)を得た。
生成物のNMRスペクトルは、実施例1に記載の方法に
従つて製造したBTMS−セフアマンドールのスペクト
ルと一致した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 化学式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるトリメチルシリル7−〔D−(O−トリメ
    チルシリル)マンデルアミド〕−3−(1−メチル−1
    ・2・3・4−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
    3−セフエム−4−カルボキシレート。 2 7−アミノ−3−(1−メチル−1・2・3・4−
    テトラゾール−5−イル)−3−セフエム−4−カルボ
    ン酸を、N−トリメチルシリルアセトアミド、N−O−
    ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、N−O−ビス
    (トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド、N−
    トリメチルシリル−N−メチルトリフルオロアセトアミ
    ドおよびN−トリメチルシリルイミダゾールから選んだ
    シリル化剤と反応させた後、アンヒドロ−O−カルボキ
    シ−D−マンデル酸によつてアシル化することを特徴と
    するトリメチルシリル7−〔D−(O−トリメチルシリ
    ル)マンデルアミド〕−3−(1−メチル−1・2・3
    ・4−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
    エム−4−カルボキシレートの製造方法。 3 実質的に無水の酢酸エチルを反応溶媒として使用す
    る特許請求の範囲2記載の方法。 47−(D−マンデルアミド)−3−(1−メチル−1
    ・2・3・4−テトラゾール−5−イル)−3−セフエ
    ム−4−カルボン酸を、N−トリメチルシリルアセトア
    ミド、N−O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド
    、N−O−ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセ
    トアミド、N−トリメチルシリル−N−メチルトリフル
    オロアセトアミドおよびN−トリメチルシリルイミダゾ
    ールから選んだシリル化剤と反応させることを特徴とす
    るトリメチルシリル7−〔D−(O−トリメチルシリル
    )マンデルアミド〕−3−(1−メチル−1・2・3・
    5−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエ
    ム−4−カルボキシレートの製造方法。 5 実質的に無水の酢酸エチルを反応溶媒として使用す
    る特許請求の範囲4記載の方法。
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