JPH11149783A - Semiconductor integrated circuit and data processing system - Google Patents
Semiconductor integrated circuit and data processing systemInfo
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- JPH11149783A JPH11149783A JP9313037A JP31303797A JPH11149783A JP H11149783 A JPH11149783 A JP H11149783A JP 9313037 A JP9313037 A JP 9313037A JP 31303797 A JP31303797 A JP 31303797A JP H11149783 A JPH11149783 A JP H11149783A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、センスアンプとそ
のセンスアンプの入力を動作上望ましいレベルにシフト
させて当該センスアンプに供給するレベルシフト回路と
を有する増幅回路、更には当該増幅回路を有する半導体
集積回路に関し、特に増幅回路の動作を安定化及び高速
化する技術に係り、例えばSRAM(Static Random Ac
cess Memory)のセンスアンプ駆動系、或いはマイクロ
コンピュータや通信用半導体集積回路の入力バッファ若
しくはバスレシーバなどに適用して有効な技術に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an amplifier circuit having a sense amplifier, a level shift circuit for shifting an input of the sense amplifier to an operationally desirable level and supplying the same to the sense amplifier, and further has the amplifier circuit. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and particularly to a technique for stabilizing and speeding up the operation of an amplifier circuit.
The present invention relates to a technology that is effective when applied to a sense amplifier drive system of an access memory, or an input buffer or a bus receiver of a microcomputer or a communication semiconductor integrated circuit.
【0002】[0002]
【従来の技術】SRAMにおいてメモリセルからの読み
出し信号はビット線対及びコモンデータ線対を介して差
動増幅型のレベルシフト回路に入力され、レベルシフト
回路は、入力に対して信号増幅と同時に電圧レベルを変
換して出力する。レベルシフト回路の出力は差動増幅型
のセンスアンプで更に増幅される。このセンスアンプの
増幅動作上最も高感度になる動作点は、一般的に電源電
圧の概ね60%のレベルになるから、レベルシフト回路
には、電源電圧レベル近傍の読み出し信号をセンスアン
プの高感度動作する電圧レベルに電圧シフトする機能を
有する。更に、レベルシフト回路は、メモリの大容量化
によるメモリセルからビット線対、コモンデータ線対に
現れる読み出し信号量の減少を補うための信号増幅機能
も要求される。例えば、電流増幅トランジスタとしてn
チャンネル型MOSトランジスタを有し、このトランジ
スタにpチャンネル型負荷MOSトランジスタを直列接
続したCMOS(相補型MOS)形式のレベルシフト回
路の場合、前記増幅機能とレベルシフト機能とを考慮し
てレベルシフト回路を設計するとき、入力MOSトラン
ジスタ及び負荷MOSトランジスタのトランジスタサイ
ズ比、入力MOSトランジスタのゲート幅(トランジス
タサイズ)の調整などによってその機能を実現してい
た。2. Description of the Related Art In an SRAM, a read signal from a memory cell is input to a differential amplification type level shift circuit via a bit line pair and a common data line pair. Convert the voltage level and output. The output of the level shift circuit is further amplified by a differential amplification type sense amplifier. Since the operating point at which the sense amplifier has the highest sensitivity in the amplification operation is generally at a level of approximately 60% of the power supply voltage, the level shift circuit applies a read signal near the power supply voltage level to the high sensitivity of the sense amplifier. It has the function of shifting the voltage to the operating voltage level. Furthermore, the level shift circuit is also required to have a signal amplification function for compensating for a decrease in the amount of read signals appearing on the bit line pair and the common data line pair from the memory cell due to the increase in memory capacity. For example, as a current amplifying transistor, n
In the case of a CMOS (complementary MOS) type level shift circuit having a channel type MOS transistor and a p-channel type load MOS transistor connected in series to this transistor, the level shift circuit takes into account the amplification function and the level shift function. Has been realized by adjusting the transistor size ratio between the input MOS transistor and the load MOS transistor, adjusting the gate width (transistor size) of the input MOS transistor, and the like.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、トラン
ジスタのゲート幅の調整だけで両方の機能を実現しよう
とすると、調整範囲が小さく、また、製造プロセスのば
らつきによっては増幅機能を失うという問題があった。
このため、例えばSRAMにおいて、メモリセルからビ
ット線対に読み出された信号を正しくリードするために
は、メモリセルからの読み出し信号量が、誤動作しない
信号量まで増大するのを待って、レベルシフト回路やセ
ンスアンプを動作させなければならない。上記SRAM
に代表されるように、センスアンプの前段に単にレベル
シフト回路を設けただけでは、データの高速読み出し若
しくは読み出しデータ論理値の高速検出をするにも限界
がある。However, when both functions are realized only by adjusting the gate width of the transistor, there is a problem that the adjustment range is small and the amplification function is lost depending on the variation in the manufacturing process. .
Therefore, for example, in the SRAM, in order to correctly read the signal read from the memory cell to the bit line pair, the level shift is performed until the read signal amount from the memory cell increases to the signal amount that does not malfunction. Circuits and sense amplifiers must be operated. The above SRAM
However, simply providing a level shift circuit in the preceding stage of the sense amplifier has a limit in performing high-speed data reading or high-speed detection of a read data logical value.
【0004】本発明の目的は、入力データの論理値検出
動作の高速化と製造プロセスなどのデバイスばらつきに
対する安定動作とを達成することができる増幅回路を備
えた半導体集積回路を提供することにある。An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit having an amplifier circuit capable of achieving a high-speed operation of detecting a logical value of input data and a stable operation against device variations such as a manufacturing process. .
【0005】本発明の別の目的は、メモリセルからの読
み出しデータに対するセンス増幅動作の高速化並びに安
定化を簡単な構成によって向上させることができる半導
体集積回路を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit capable of improving the speed and stability of a sense amplification operation for data read from a memory cell with a simple configuration.
【0006】本発明の別の目的は、データ処理速度が高
速化されてもデータエラーの低減に寄与できるデータ処
理システムを提供することにある。Another object of the present invention is to provide a data processing system capable of contributing to a reduction in data errors even if the data processing speed is increased.
【0007】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application.
【0009】すなわち、電源電圧(Vdd)近傍の第1
の電圧を基準に信号線対(CDR,CDRb)上で変化
される相補的な信号をセンスアンプ(5)の動作点近傍
のレベルにシフトさせると共に信号増幅して、前記セン
スアンプの入力端子に与えるレベルシフト回路を有する
半導体集積回路において、レベルシフト回路(6)の出
力電圧レベルを安定化する回路を設けたものである。That is, the first voltage near the power supply voltage (Vdd)
, The complementary signal changed on the signal line pair (CDR, CDRb) is shifted to a level near the operating point of the sense amplifier (5), and the signal is amplified and input to the input terminal of the sense amplifier. In a semiconductor integrated circuit having a given level shift circuit, a circuit for stabilizing an output voltage level of the level shift circuit (6) is provided.
【0010】詳しくは、前記レベルシフト回路は前記第
1の電位近傍から始まる相補的な信号変化を前記センス
アンプの動作上高感度となる動作点付近での相補的な信
号変化に変換する回路であり、前記信号線対の信号線に
各々制御端子が結合された電流増幅トランジスタ(Q2
0,Q21)と前記電流増幅トランジスタの電流入力端
子に直列接続された負荷トランジスタ(Q22,Q2
3)とを含み、前記電流増幅トランジスタと前記負荷ト
ランジスタとの結合ノードがレベルシフト信号の出力端
子とされて成り、前記双方の電流増幅トランジスタの電
流出力ノードの電圧を前記レベルシフト回路の出力電圧
(SA1,SA1b)に対して負帰還制御する電流供給
トランジスタ(Q24)を、前記双方の電流増幅トラン
ジスタの前記電流出力ノードに共通接続して成るもので
ある。このレベルシフト回路において、電流増幅トラン
ジスタと電流源としての負荷トランジスタとは、その直
列結合ノードを出力端子として当該出力端子電圧を電流
増幅トランジスタの入力電圧に追従変化させる電流増幅
部を構成する。More specifically, the level shift circuit is a circuit for converting a complementary signal change starting near the first potential into a complementary signal change near an operating point at which the sense amplifier operates with high sensitivity. A current amplifying transistor (Q2) having a control terminal coupled to each signal line of the signal line pair.
0, Q21) and load transistors (Q22, Q2) connected in series to the current input terminals of the current amplifying transistors.
3) wherein a connection node between the current amplifying transistor and the load transistor serves as an output terminal of a level shift signal, and a voltage at a current output node of both the current amplifying transistors is output from the level shift circuit. A current supply transistor (Q24) that performs negative feedback control on (SA1, SA1b) is commonly connected to the current output nodes of the two current amplification transistors. In this level shift circuit, the current amplifying transistor and the load transistor serving as a current source constitute a current amplifying unit that changes the output terminal voltage to follow the input voltage of the current amplifying transistor by using the series connection node as an output terminal.
【0011】上記手段によれば、電流供給トランジスタ
はその負帰還制御により、レベルシフト回路の出力電圧
(レベルシフト信号の電圧)が低過ぎれば電流増幅トラ
ンジスタの電流出力ノードの電位を上昇させ、逆に高過
ぎれば降下させようとする。電流増幅トランジスタと負
荷トランジスタとの直列回路から成る電流増幅器は電流
増幅トランジスタの電流出力ノードの電圧レベルによっ
て動作点及び出力電圧レベルが変化される。したがっ
て、電流供給トランジスタの負帰還制御作用により、プ
ロセスばらつきによりレベルシフト回路の出力レベルが
変動するのを抑えることができ、レベルシフト動作と信
号増幅動作との安定化を得ることができ、データ読み出
し動作や入力データの論理値判定動作の高速化を達成す
ることができる。According to the above means, the current supply transistor increases the potential of the current output node of the current amplification transistor if the output voltage of the level shift circuit (voltage of the level shift signal) is too low by the negative feedback control. If it is too high, try to lower it. An operating point and an output voltage level of a current amplifier including a series circuit of a current amplification transistor and a load transistor are changed according to a voltage level of a current output node of the current amplification transistor. Therefore, the negative feedback control action of the current supply transistor can suppress the output level of the level shift circuit from fluctuating due to process variations, stabilize the level shift operation and the signal amplifying operation, and read data. The operation and the logical value judgment operation of the input data can be speeded up.
【0012】前記レベルシフト回路は、前記双方の電流
増幅トランジスタの前記電流出力端子とパワースイッチ
トランジスタ(Q17)との間に、並列状態で配置され
前記レベルシフト回路の出力信号を各々の制御端子に受
ける第1及び第2の帰還制御トランジスタ(Q18,Q
19)を有し、前記第1及び第2の帰還制御トランジス
タとパワースイッチトランジスタとの結合ノードの電圧
を、前記電流供給トランジスタの制御電圧として採用す
ることができる。The level shift circuit is disposed in parallel between the current output terminals of the two current amplifying transistors and a power switch transistor (Q17), and outputs an output signal of the level shift circuit to each control terminal. Receiving first and second feedback control transistors (Q18, Q18).
19), and a voltage at a coupling node between the first and second feedback control transistors and the power switch transistor can be adopted as a control voltage of the current supply transistor.
【0013】前記電流供給MOSトランジスタ(Q2
4)と一対の帰還制御MOSトランジスタ(Q18,Q
19)は、レベルシフト回路の出力電圧レベル調整部と
して位置付けることができる。The current supply MOS transistor (Q2
4) and a pair of feedback control MOS transistors (Q18, Q18).
19) can be positioned as an output voltage level adjusting unit of the level shift circuit.
【0014】更に具体的は、前記レベルシフト回路は、
前記信号線対の信号線に各々ゲート電極が結合された一
対の電流増幅MOSトランジスタとしてのチャンネル型
入力MOSトランジスタ(Q20,Q21)と、各々の
入力MOSトランジスタのドレインに結合されたpチャ
ンネル型負荷MOSトランジスタ(Q22,Q23)
と、前記一対の入力MOSトランジスタのソース電極と
パワースイッチMOSトランジスタ(Q17)との間に
並列状態で配置され、前記レベルシフト回路の出力信号
を各々のゲート電極に受ける一対のnチャンネル型帰還
制御MOSトランジスタ(Q18,Q19)とを含み、
前記入力MOSトランジスタのドレイン電極がレベルシ
フト信号の出力端子とされる。前記帰還制御MOSトラ
ンジスタとパワースイッチMOSトランジスタとの結合
ノードの電圧をゲート電極に受けるpチャンネル型電流
供給MOSトランジスタ(Q24)のドレインを、前記
双方の入力MOSトランジスタのソース電極に共通接続
して、前記入力MOSトランジスタのソース電位を前記
レベルシフト回路の出力電圧に対して負帰還制御するよ
うに前記電流供給MOSトランジスタの相互コンダクタ
を制御する。More specifically, the level shift circuit comprises:
Channel-type input MOS transistors (Q20, Q21) as a pair of current amplification MOS transistors each having a gate electrode coupled to the signal line of the signal line pair, and a p-channel load coupled to the drain of each input MOS transistor MOS transistors (Q22, Q23)
And a pair of n-channel feedback control arranged in parallel between a source electrode of the pair of input MOS transistors and a power switch MOS transistor (Q17), and receiving output signals of the level shift circuit at respective gate electrodes. MOS transistors (Q18, Q19),
A drain electrode of the input MOS transistor serves as an output terminal for a level shift signal. A drain of a p-channel type current supply MOS transistor (Q24) receiving a voltage of a coupling node between the feedback control MOS transistor and the power switch MOS transistor at a gate electrode is commonly connected to source electrodes of both input MOS transistors. The transconductor of the current supply MOS transistor is controlled such that the source potential of the input MOS transistor is negatively feedback-controlled with respect to the output voltage of the level shift circuit.
【0015】上記手段によれば、レベルシフト回路は、
例えばメモリセルデータの読み出しに際して、ビット線
対、コモンデータ線対のような信号線対におけるプリチ
ャージレベルとされる電源電圧近傍の微少なレベル変化
を、センスアンプの増幅動作上最も高感度となる動作点
である電源電圧の60%付近の電圧レベルにレベル変換
して、これをセンスアンプの入力端子に与える。これに
より、負荷容量の大きなビット線対やコモンデータ線対
自体がセンスアンプの動作点近傍に到達するのを待つこ
となくセンスアンプの増幅動作の確定を得ることがで
き、データ読み出し動作の高速化を達成することができ
る。According to the above means, the level shift circuit comprises:
For example, when reading memory cell data, a slight level change near a power supply voltage which is a precharge level in a signal line pair such as a bit line pair and a common data line pair has the highest sensitivity in the amplification operation of the sense amplifier. The level is converted to a voltage level near 60% of the power supply voltage, which is the operating point, and is supplied to the input terminal of the sense amplifier. As a result, the amplification operation of the sense amplifier can be determined without waiting for the bit line pair or the common data line pair having a large load capacitance to reach the vicinity of the operating point of the sense amplifier, thereby speeding up the data read operation. Can be achieved.
【0016】更に、上記レベルシフト回路の電流増幅M
OSトランジスタと負荷MOSトランジスタとの直列結
合で構成される電流増幅器は、電流増幅MOSトランジ
スタの他方のノードの電位レベルにより動作点及び出力
端子電圧レベルが変動する特性を持っており、前記電流
増幅MOSトランジスタのソース電極に接続される帰還
制御MOSトランジスタと前記電流供給MOSトランジ
スタとによって、前記電流増幅MOSトランジスタのソ
ース電圧を制御することにより、プロセスばらつきによ
りレベルシフト回路がレベル変動するのを抑えることが
できる。Further, the current amplification M of the level shift circuit is
A current amplifier composed of a series combination of an OS transistor and a load MOS transistor has a characteristic that an operating point and an output terminal voltage level fluctuate according to the potential level of the other node of the current amplifying MOS transistor. By controlling the source voltage of the current amplification MOS transistor by the feedback control MOS transistor connected to the source electrode of the transistor and the current supply MOS transistor, it is possible to suppress a level shift of the level shift circuit due to a process variation. it can.
【0017】前記増幅回路をSRAMに適用する場合、
スタティック型メモリ素子を含み、前記メモリ素子のデ
ータ入出力端子が前記信号線対に結合され、メモリセル
からのデータ読み出し動作において前記信号線対はプリ
チャージ素子によって電源電圧近傍の第1の電圧にプリ
チャージされる。このとき、レベルシフト回路は、メモ
リセルのデータ入出力端子に導通され得る信号線対にプ
リチャージ素子を介して供給可能とされる電圧レベルを
センスアンプの動作点近傍にシフトさせる。When the amplifier circuit is applied to an SRAM,
A data input / output terminal of the memory element is coupled to the signal line pair; and in a data read operation from a memory cell, the signal line pair is set to a first voltage near a power supply voltage by a precharge element. Precharged. At this time, the level shift circuit shifts a voltage level that can be supplied via the precharge element to a signal line pair that can be conducted to the data input / output terminal of the memory cell, near the operating point of the sense amplifier.
【0018】前記レベルシフト回路を複数段直列接続し
てセンスアンプの前段に配置し増幅回路を構成すること
も可能である。It is also possible to configure an amplifier circuit by connecting a plurality of the level shift circuits in series and arranging them in front of the sense amplifier.
【0019】前記増幅回路を含む半導体集積回路におい
て、前記増幅回路を第1の回路ブロックと第2の回路ブ
ロックとに配置し、第1の回路ブロックに配置された前
記増幅回路を、第2の回路ブロックから出力される差動
信号を入力する入力バッファとし、第2の回路ブロック
に配置された前記増幅回路を、第1の回路ブロックから
出力される差動信号を入力する入力バッファとすること
ができる。In a semiconductor integrated circuit including the amplifier circuit, the amplifier circuit is disposed in a first circuit block and a second circuit block, and the amplifier circuit disposed in the first circuit block is connected to a second circuit block. An input buffer for inputting a differential signal output from the circuit block, and the amplifying circuit disposed in the second circuit block is an input buffer for inputting a differential signal output from the first circuit block. Can be.
【0020】前記半導体集積回路を適用したデータ処理
システムは、前記半導体集積回路をアクセスするプロセ
ッサとをバスに共通接続して構成することができる。A data processing system to which the semiconductor integrated circuit is applied can be configured by commonly connecting a processor for accessing the semiconductor integrated circuit to a bus.
【0021】[0021]
【発明の実施の形態】図1には本発明の一実施例に係る
SRAMの要部が示され、図2には図1に示されるSR
AMの読み出し動作時の各ノードに現れる電圧変化が示
される。FIG. 1 shows a main part of an SRAM according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows an SR shown in FIG.
A voltage change appearing at each node during the AM read operation is shown.
【0022】図1に示されるSRAMは、特に制限され
ないが、公知のMOS集積回路製造技術によって単結晶
シリコンのような1個の半導体基板に形成されている。Although not particularly limited, the SRAM shown in FIG. 1 is formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known MOS integrated circuit manufacturing technique.
【0023】図1に示されるSRAMはスタティック型
メモリセル1を複数個マトリクス配置して成るメモリセ
ルアレイを有する。メモリセル1は、特に制限されない
が、pチャンネル型MOSトランジスタQ1とnチャン
ネル型MOSトランジスタQ2とによって構成される一
対のCMOS(相補型MOS)インバータ回路1A,1
Bの出力端子を相互に他方の入力端子に交差結合したス
タティックラッチと、前記CMOSインバータ回路1
A,1Bの出力端子にソース電極が結合された一対のn
チャンネル型選択MOSトランジスタQ3,Q4とによ
って構成される。前記選択MOSトランジスタQ3,Q
4のドレイン電極はメモリセルのデータ入出力端子とさ
れ、前記選択MOSトランジスタQ3,Q4のゲート電
極はメモリセル1の選択端子とされる。The SRAM shown in FIG. 1 has a memory cell array in which a plurality of static memory cells 1 are arranged in a matrix. Although not particularly limited, the memory cell 1 includes a pair of CMOS (complementary MOS) inverter circuits 1A and 1 each including a p-channel MOS transistor Q1 and an n-channel MOS transistor Q2.
B, a static latch whose output terminal is cross-coupled to the other input terminal, and the CMOS inverter circuit 1
A and a pair of n having a source electrode coupled to the output terminal of 1B.
It is constituted by channel type select MOS transistors Q3 and Q4. The selection MOS transistors Q3, Q
The drain electrode 4 is a data input / output terminal of the memory cell, and the gate electrodes of the selection MOS transistors Q3 and Q4 are selection terminals of the memory cell 1.
【0024】前記メモリセル1のデータ入出力端子は代
表的に示されたビット線対BL1,BL1b〜BLn,
BLnbに列毎に結合される。メモリセル1の選択端子
は行毎に対応するワード線WL1〜WLmに結合され
る。ワード線WL1〜WLmは、外部から供給されるロ
ウアドレス信号に対応される所定の1本が選択レベルに
駆動される。ワード線の駆動は、前記ロウアドレス信号
をデコードする図示を省略するロウアドレスデコーダ
と、ロウアドレスデコーダから出力されるワード線選択
信号によってワード線を駆動する図示を省略するワード
ドライバとによって行われる。The data input / output terminal of the memory cell 1 has a bit line pair BL1, BL1b-BLn,
It is coupled to BLnb column by column. Select terminals of memory cells 1 are coupled to corresponding word lines WL1 to WLm for each row. One of the word lines WL1 to WLm corresponding to a row address signal supplied from the outside is driven to a selected level. The word lines are driven by a row address decoder (not shown) that decodes the row address signal and a word driver (not shown) that drives the word lines by a word line selection signal output from the row address decoder.
【0025】前記ビット線対BL1,BL1b〜BL
n,BLnbは、pチャンネル型MOSトランジスタQ
5によって構成され、カラム選択信号によってスイッチ
制御されるカラム選択トランスファゲートを介してリー
ドコモンデータ線対CDR,CDRbに共通接続され
る。前記トランスファゲートを構成するMOSトランジ
スタQ5は、外部から供給されるカラムアドレス信号に
対応する所定一対のビット線対を選択的にリードコモン
データ線対CDR,CDRbに導通制御し、そのための
スイッチ制御信号としてのカラム選択信号CSR1〜C
SRnは図示を省略するカラムアドレスデコーダが形成
する。The bit line pair BL1, BL1b-BL
n and BLnb are p-channel MOS transistors Q
5 and is commonly connected to a pair of read common data lines CDR and CDRb via a column selection transfer gate that is switch-controlled by a column selection signal. The MOS transistor Q5 forming the transfer gate selectively controls conduction of a predetermined pair of bit lines corresponding to a column address signal supplied from the outside to the read common data line pair CDR and CDRb, and a switch control signal for that purpose. Column selection signals CSR1 to C as
SRn is formed by a column address decoder not shown.
【0026】前記ビット線対BL1,BL1b〜BL
n,BLnbの他端には、ソース電極に電源電圧Vdd
が供給されるpチャンネル型プリチャージMOSトラン
ジスタQ6のドレイン電極とビット線イコライズMOS
トランジスタQ7が結合され、各プリチャージMOSト
ランジスタQ6及びイコライズMOSトランジスタQ7
はそのゲート電極に供給されるプリチャージ信号φpc
によってスイッチ制御される。プリチャージ信号φpc
は、そのローレベルによって各プリチャージMOSトラ
ンジスタQ6及びイコライズMOSトランジスタQ7を
オン動作し、オン状態を採るプリチャージMOSトラン
ジスタQ6及びイコライズMOSトランジスタQ7は、
ビット線対BL1,BL1b〜BLn,BLnb及びM
OSトランジスタQ5を介してコモンデータ線対CD
R,CDRbを電源電圧Vddに充電し、以前のメモリ
アクセスによってビット線対やコモンデータ線対CD
R,CDRbに生じた電位差を縮めて同電位とする。The bit line pair BL1, BL1b to BL
n and the other end of BLnb, the source electrode is connected to the power supply voltage Vdd.
And the bit line equalizing MOS of the p-channel type precharge MOS transistor Q6
Transistor Q7 is coupled, and each precharge MOS transistor Q6 and equalize MOS transistor Q7
Is the precharge signal φpc supplied to the gate electrode.
Is controlled by the switch. Precharge signal φpc
Turns on the precharge MOS transistor Q6 and the equalize MOS transistor Q7 according to the low level, and the precharge MOS transistor Q6 and the equalize MOS transistor Q7, which take the on state,
Bit line pairs BL1, BL1b to BLn, BLnb and M
Common data line pair CD via OS transistor Q5
R and CDRb are charged to the power supply voltage Vdd, and the bit line pair and the common data line pair CD are charged by the previous memory access.
The potential difference between R and CDRb is reduced to the same potential.
【0027】前記ビット線対BL1,BL1b〜BL
n,BLnbにはまた、nチャンネル型MOSトランジ
スタQ8によって構成され、カラムスイッチ信号を入力
とするトランスファゲートを介してライトコモンデータ
線CDW,CDWbに共通接続される。MOSトランジ
スタQ8によって構成されるトランスファゲートは、外
部から供給されるカラムアドレス信号に対応する所定一
対のビット線対を選択的にライトコモンデータ線対CD
W,CDWbに導通制御し、そのためのスイッチ制御信
号としてカラム選択信号CSW1〜CSWnが図示を省
略するカラムアドレスデコーダで形成される。The bit line pair BL1, BL1b-BL
Also, n and BLnb are configured by an n-channel MOS transistor Q8, and are commonly connected to write common data lines CDW and CDWb via a transfer gate that receives a column switch signal. The transfer gate constituted by the MOS transistor Q8 selectively selects a predetermined pair of bit lines corresponding to a column address signal supplied from the outside to a write common data line pair CD.
Conduction control is performed on W and CDWb, and column selection signals CSW1 to CSWn are formed by a column address decoder (not shown) as a switch control signal therefor.
【0028】上記ライトコモンデータ線対CDW,CD
Wbには、書き込み回路3の出力端子が結合される。前
記書き込み回路3は、図示を省略するデータ入力バッフ
ァから供給される書き込みデータDw従ってライトコモ
ンデータ線対CDw,CDWbを所定の相補レベルに駆
動する。The write common data line pair CDW, CD
The output terminal of the write circuit 3 is coupled to Wb. The write circuit 3 drives the write common data line pair CDw, CDWb to a predetermined complementary level according to write data Dw supplied from a data input buffer not shown.
【0029】前記リードコモンデータ線対CDR,CD
Rbには、読み出し回路4の入力端子が結合される。読
み出し回路4は、メモリセルデータの読み出しによって
リードコモンデータ線対CDR,CDRbに生ずるプリ
チャージレベルとしての電源電圧Vdd近傍の微小なレ
ベル変化である相補的な電位差に基づいてこれを増幅す
る差動増幅型のセンスアンプ5を有する。センスアンプ
5の前段には、メモリセルデータの読み出しによってリ
ードコモンデータ線対CDR,CDRbに生ずる電源電
圧Vdd近傍の前記微小なレベル変化をセンスアンプ5
の増幅動作上最も高感度となる動作点近傍でのレベル変
化に変換して、これをセンスアンプ5の入力端子に与え
るレベルシフト回路6が設けられている。The read common data line pair CDR, CD
The input terminal of the read circuit 4 is coupled to Rb. The readout circuit 4 amplifies the memory cell data based on a complementary potential difference, which is a minute level change near the power supply voltage Vdd as a precharge level generated in the read common data line pair CDR, CDRb due to the readout of the memory cell data. It has an amplification type sense amplifier 5. In the stage preceding the sense amplifier 5, the minute level change near the power supply voltage Vdd generated in the read common data line pair CDR, CDRb due to the reading of the memory cell data is sensed.
A level shift circuit 6 is provided which converts the change into a level change near the operating point where the sensitivity is the highest in the amplifying operation and gives the change to the input terminal of the sense amplifier 5.
【0030】前記センスアンプ5は、特に制限されない
が、ソース電極の共通接続端が電流源としてのnチャン
ネル型パワースイッチMOSトランジスタQ10を介し
て接地電位Vssに接続された差動対を成す一対のnチ
ャンネル型入力MOSトランジスタQ11,Q12を有
し、それら入力MOSトランジスタQ11,Q12のド
レイン電極の各々に、カレントミラー負荷を構成するp
チャンネル型MOSトランジスタQ13,Q14のドレ
イン電極と、nチャンネル型パワースイッチMOSトラ
ンジスタQ10と相補関係で動作されるpチャンネル型
MOSトランジスタQ15,Q16のドレイン電極とを
接続して成る。前記カレントミラー負荷を構成するpチ
ャンネル型MOSトランジスタQ13,Q14と前記p
チャンネル型MOSトランジスタQ15,Q16のソー
ス電極は電源電圧Vddに接続される。センスアンプ5
の一対の入力端子は入力MOSトランジスタQ11,Q
12のゲート電極とされる。センスアンプ5の出力端子
はMOSトランジスタQ12とQ14の結合ドレイン電
極とされ、出力インバータINVの入力端子に結合され
る。センスアンプ5の増幅出力電圧Voutが前記出力
インバータINVで検出可能なレベルに到達することに
より、この出力インバータINVは図示を省略するデー
タ出力バッファに読み出しデータDrを与える。前記パ
ワースイッチMOSトランジスタQ10はそのゲート電
極に供給されるセンスアンプ信号φsaによってスイッ
チ制御される。センスアンプ信号φsaはそのハイレベ
ルによってパワースイッチMOSトランジスタQ10を
オン動作させてセンスアンプを活性化する。尚、パワー
スイッチMOSトランジスタQ10と相補関係で動作さ
れる前記pチャンネル型MOSトランジスタQ15,Q
16はセンスアンプ5の非活性化に呼応してMOSトラ
ンジスタQ11とQ13との結合ドレイン電極とMOS
トランジスタQ12とQ14との結合ドレイン電極を電
源電圧Vddに充電させるようになっている。Although not particularly limited, the sense amplifier 5 has a pair of differential pairs each having a common connection end of a source electrode connected to the ground potential Vss via an n-channel power switch MOS transistor Q10 as a current source. It has n-channel input MOS transistors Q11 and Q12, and each of the drain electrodes of the input MOS transistors Q11 and Q12 has a p
The drain electrodes of the channel type MOS transistors Q13 and Q14 are connected to the drain electrodes of p-channel type MOS transistors Q15 and Q16 which operate in a complementary relationship with the n-channel type power switch MOS transistor Q10. The p-channel MOS transistors Q13 and Q14 forming the current mirror load and the p-type MOS transistors
The source electrodes of the channel type MOS transistors Q15 and Q16 are connected to the power supply voltage Vdd. Sense amplifier 5
Are input MOS transistors Q11, Q11
Twelve gate electrodes. An output terminal of the sense amplifier 5 is a connection drain electrode of the MOS transistors Q12 and Q14, and is connected to an input terminal of the output inverter INV. When the amplified output voltage Vout of the sense amplifier 5 reaches a level detectable by the output inverter INV, the output inverter INV supplies read data Dr to a data output buffer (not shown). The power switch MOS transistor Q10 is switch-controlled by a sense amplifier signal φsa supplied to its gate electrode. The sense amplifier signal φsa turns on the power switch MOS transistor Q10 according to its high level to activate the sense amplifier. The p-channel MOS transistors Q15 and Q15 operated in a complementary relationship with the power switch MOS transistor Q10.
Numeral 16 designates a connection between the drain electrode coupled to the MOS transistors Q11 and Q13 in response to the inactivation of the sense amplifier 5.
The combined drain electrode of the transistors Q12 and Q14 is charged to the power supply voltage Vdd.
【0031】前記レベルシフト回路6は、メモリセルデ
ータの読み出しによってリードコモンデータ線対CD
R,CDRbに生ずるプリチャージレベルとしての電源
電圧Vdd近傍の微小な相補レベル変化を、センスアン
プ5の増幅動作上最も高感度となる動作点付近でのレベ
ル変化に変換する。このレベルシフト回路6は、特に制
限されないが、出力になるドレイン電位を入力電圧に追
従変化させる一対のnチャンネル型MOSトランジスタ
Q20,Q21とドレイン電極への電流源である一対の
pチャンネル型負荷MOSトランジスタQ22,Q23
とから成るインバータ回路を基本回路とする。具体的に
はpチャンネル型負荷MOSトランジスタQ22,Q2
3のソース電極に電源電圧Vddが供給され、そのゲー
ト電極には常時オン状態にする接地電圧Vssが接続さ
れる。MOSトランジスタQ20とQ22及びQ21と
Q23の各々直列接続されたノードがレベルシフト回路
6の差動信号出力端子とされる。このとき、入力信号対
出力信号の増幅度は、pチャンネル型負荷MOSトラン
ジスタQ22,Q23とnチャンネル型入力MOSトラ
ンジスタQ20,Q21との駆動比で決まり、nチャン
ネル型入力MOSトランジスタQ20,Q21の駆動能
力が大きい程、増幅度が大きくなる。The level shift circuit 6 reads out the read common data line pair CD by reading the memory cell data.
A minute complementary level change near the power supply voltage Vdd as a precharge level generated in R and CDRb is converted into a level change near an operating point at which the sense amplifier 5 has the highest sensitivity in the amplifying operation. The level shift circuit 6 includes, but is not limited to, a pair of n-channel MOS transistors Q20 and Q21 for changing a drain potential to be output to follow an input voltage and a pair of p-channel load MOSs serving as a current source to a drain electrode. Transistors Q22, Q23
The basic circuit is an inverter circuit composed of Specifically, p-channel load MOS transistors Q22, Q2
The power supply voltage Vdd is supplied to the source electrode No. 3 and the ground voltage Vss which is always turned on is connected to the gate electrode. Nodes of the MOS transistors Q20 and Q22 and Q21 and Q23 connected in series serve as differential signal output terminals of the level shift circuit 6. At this time, the degree of amplification of the input signal versus the output signal is determined by the drive ratio between the p-channel load MOS transistors Q22 and Q23 and the n-channel input MOS transistors Q20 and Q21, and the drive of the n-channel input MOS transistors Q20 and Q21. The greater the capacity, the greater the amplification.
【0032】図3には前記レベルシフト回路6を構成す
るインバータ回路の基本回路が模式的に示される。図4
には図3の基本回路の入出力特性の一例が示される。図
3に示された回路では、高感度となる入力電圧はnチャ
ンネル型MOSFETQ20(Q21)のソース電極の
電位レベルが接地電圧Vssの場合、概ね電源電圧Vd
dの中間レベルになり、このソース電極の電位レベルを
高くするとnチャンネル型入力MOSトランジスタQ2
0(Q21)のバックバイアス効果により動作点が電源
電圧側にシフトする特性を有する。この様子は、MOS
トランジスタQ20(Q22)のソース電圧をE0<E
1<E2としたときの入力電圧電圧INに対する出力電
圧OUTの特性を示す図4に例示される通りである。FIG. 3 schematically shows a basic circuit of an inverter circuit constituting the level shift circuit 6. FIG.
3 shows an example of the input / output characteristics of the basic circuit of FIG. In the circuit shown in FIG. 3, when the potential level of the source electrode of the n-channel MOSFET Q20 (Q21) is the ground voltage Vss, the input voltage at which the sensitivity becomes high is approximately the power supply voltage Vd.
When the potential level of the source electrode is increased to an intermediate level of the n-type input MOS transistor Q2
The operating point shifts to the power supply voltage side due to the back bias effect of 0 (Q21). This state is MOS
The source voltage of the transistor Q20 (Q22) is set to E0 <E
FIG. 4 illustrates the characteristics of the output voltage OUT with respect to the input voltage voltage IN when 1 <E2.
【0033】図1に示される前記レベルシフト回路6
は、nチャンネル型MOSトランジスタQ20,Q21
のソース電極に、ソース電位を接地電圧Vssより高い
電位レベルで維持するためのnチャンネル型MOSトラ
ンジスタQ18,Q19のドレイン電極と、pチャンネ
ル型MOSトランジスタ(電流供給MOSトランジス
タ)Q24が共通に接続される。MOSトランジスタQ
18,Q19のゲート電極にはレベルシフト回路6の差
動信号出力SA1,SA1が各々接続され、pチャンネ
ル型MOSトランジスタQ24のゲート電極にはMOS
トランジスタQ18,Q19のソース電極が共通に接続
される。前記MOSトランジスタQ18,Q19,Q2
4は、レベルシフト回路6の出力レベルを調整する調整
部を構成する。The level shift circuit 6 shown in FIG.
Are n-channel MOS transistors Q20, Q21
The drain electrodes of n-channel MOS transistors Q18 and Q19 for maintaining the source potential at a potential level higher than the ground voltage Vss and a p-channel MOS transistor (current supply MOS transistor) Q24 are commonly connected to the source electrode of You. MOS transistor Q
The differential signal outputs SA1 and SA1 of the level shift circuit 6 are connected to the gate electrodes of the transistors 18 and Q19, respectively.
Source electrodes of transistors Q18 and Q19 are commonly connected. The MOS transistors Q18, Q19, Q2
Reference numeral 4 denotes an adjusting unit for adjusting the output level of the level shift circuit 6.
【0034】前記nチャンネル型MOSトランジスタQ
18,Q19のソース電極は、電流源としてのnチャン
ネル型パワースイッチMOSトランジスタQ17を介し
て接地電圧Vssに接続される。前記MOSトランジス
タQ17のゲート電極にはセンスアンプ信号φsaが供
給され、センスアンプ5と同期して活性化される。The n-channel MOS transistor Q
Source electrodes of the transistors 18 and Q19 are connected to the ground voltage Vss via an n-channel power switch MOS transistor Q17 as a current source. The sense amplifier signal φsa is supplied to the gate electrode of the MOS transistor Q17, and is activated in synchronization with the sense amplifier 5.
【0035】前記MOSトランジスタQ18及びQ1
9、そして前記MOSトランジスタQ24は夫々、レベ
ルシフト回路6の差動信号出力SA1,SA1電圧に対
して、入力MOSトランジスタQ20,Q21のソース
電圧を負帰還制御する機能を有する。The MOS transistors Q18 and Q1
9. The MOS transistor Q24 has a function of performing negative feedback control on the source voltages of the input MOS transistors Q20 and Q21 with respect to the differential signal outputs SA1 and SA1 of the level shift circuit 6, respectively.
【0036】すなわち、前記MOSトランジスタQ1
8,Q19は、差動信号出力SA1,SA1の電圧が低
下されると、その相互コンダクタンスが小さくされ、こ
れによってMOSトランジスタQ20,Q21のソース
電位を上昇させようとする。逆に、差動信号出力SA
1,SA1の電圧が上昇されると、その相互コンダクタ
ンスが大きくされ、これによってMOSトランジスタQ
20,Q21のソース電位を降下させようとする。但
し、その負帰還制御機能によるMOSトランジスタQ2
0,Q21のソース電圧制御機能は、半導体集積回路の
製造プロセスのばらつきに直接影響される。That is, the MOS transistor Q1
When the voltage of the differential signal outputs SA1 and SA1 is reduced, the mutual conductance of the transistors Q8 and Q19 is reduced, thereby increasing the source potentials of the MOS transistors Q20 and Q21. Conversely, the differential signal output SA
When the voltage of SA1 is increased, the transconductance thereof is increased.
20 and the source potential of Q21 is to be reduced. However, the MOS transistor Q2 due to the negative feedback control function
The source voltage control functions of 0 and Q21 are directly affected by variations in the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit.
【0037】一方、前記MOSトランジスタQ24は、
差動信号出力SA1,SA1の電圧が低下されると、そ
の相互コンダクタンスが小さくされ、これによってMO
SトランジスタQ24のゲート入力電圧が低くなり、M
OSトランジスタQ20,Q21のソース電極に対する
電流供給能力が大きくされ、当該ソース電極のレベルを
上昇させようとする。逆に、差動信号出力SA1,SA
1の電圧が上昇されると、その相互コンダクタンスが大
きくされ、これによってMOSトランジスタQ24のゲ
ート入力電圧が高くなり、MOSトランジスタQ20,
Q21のソース電極に対する電流供給能力が小さくさ
れ、当該ソース電極のレベルを降下させようとする。こ
の負帰還制御によるMOSトランジスタQ20,Q21
のソース電圧制御機能は、半導体集積回路の製造プロセ
スのばらつきに直接影響されない。On the other hand, the MOS transistor Q24
When the voltage of the differential signal outputs SA1 and SA1 is reduced, the transconductance thereof is reduced, whereby the MO
The gate input voltage of the S transistor Q24 decreases,
The current supply capability of the OS transistors Q20 and Q21 to the source electrodes is increased, and an attempt is made to increase the level of the source electrodes. Conversely, differential signal outputs SA1, SA
1 increases the transconductance thereof, thereby increasing the gate input voltage of the MOS transistor Q24, thereby increasing the MOS transistor Q20,
The current supply capability of Q21 to the source electrode is reduced, and an attempt is made to lower the level of the source electrode. MOS transistors Q20, Q21 by this negative feedback control
Is not directly affected by variations in the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit.
【0038】例えば図2に例示されるように、レベルシ
フト回路6による電圧シフトを電源電圧Vddから2/
3・Vddにするものとして回路設計が行なわれたとす
る。このとき、プロセスばらつきによって目的シフト電
圧以下の電圧しか得られないとすると、プリチャージ動
作期間において、差動信号出力SA1,SA1の電圧は
2/3・Vddよりも低くなるから、前記MOSトラン
ジスタQ24の相互コンダクタンスが相対的に大きくさ
れ、MOSトランジスタQ24を介して、入力MOSト
ランジスタQ20,Q21のソース電位が上昇される。
これにより、図3及び図4で説明したレベルシフト回路
6の電流増幅回路の入出力特性に従って、差動信号出力
SA1,SA1の電圧が上昇される。このような負帰還
制御は、MOSトランジスタQ18,Q19による負帰
還制御機能に対してプロセスばらつきの影響を直接受け
難い。したがって、差動信号出力SA1,SA1bの出
力電圧レベルがある設定電位レベルを維持するように、
フィードバックが機能する。したがって、プロセスばら
つきによる駆動力の変動に対して差動信号出力の出力電
位レベルを安定化でき、且つ安定な増幅が得られ、デー
タ読み出し動作の高速化を達成することができる。For example, as shown in FIG. 2, the voltage shift by the level shift circuit 6 is changed from the power supply voltage Vdd by 2 /.
It is assumed that the circuit is designed to be 3 · Vdd. At this time, if only a voltage lower than the target shift voltage can be obtained due to process variation, the voltage of the differential signal outputs SA1 and SA1 becomes lower than / · Vdd during the precharge operation period. Of the input MOS transistors Q20 and Q21 is increased via the MOS transistor Q24.
As a result, the voltages of the differential signal outputs SA1 and SA1 increase according to the input / output characteristics of the current amplifier circuit of the level shift circuit 6 described with reference to FIGS. Such negative feedback control is less likely to be directly affected by process variations on the negative feedback control function of the MOS transistors Q18 and Q19. Therefore, the output voltage levels of the differential signal outputs SA1 and SA1b are maintained at a certain set potential level.
Feedback works. Therefore, the output potential level of the differential signal output can be stabilized with respect to the fluctuation of the driving force due to the process variation, stable amplification can be obtained, and the speed of the data read operation can be increased.
【0039】図5には前記レベルシフト回路を2段直列
接続した構成が示される。図6には図5に示される回路
の入出力信号波形の一例が示される。FIG. 5 shows a configuration in which the level shift circuits are connected in two stages in series. FIG. 6 shows an example of input / output signal waveforms of the circuit shown in FIG.
【0040】図5に示されるレベルシフト回路6Aは、
読み出し信号を入力とするnチャンネル型入力MOSト
ランジスタQ26,Q27のドレイン電極には、負荷ト
ランジスタであるpチャンネル型負荷MOSトランジス
タQ28,Q29を介して電源電圧Vddと接続され
る。また、入力MOSトランジスタQ26,Q27のソ
ース電極には、ソース電位を決めるnチャンネル型MO
SトランジスタQ30,Q31のドレイン電極とpチャ
ンネル型MOSトランジスタQ25のソース電極が接続
され、nチャンネル型MOSトランジスタQ30,Q3
1のゲート電極には1段目のレベルシフト回路6Aの出
力SA1,SA1bが各々接続され、pチャンネル型M
OSトランジスタQ25のゲート電極にはnチャンネル
型MOSトランジスタQ30,Q31のソース電極が接
続されている。MOSトランジスタQ25は、レベルシ
フト回路6Aの出力の電位レベルを安定に保つフィード
バック機能を有している。The level shift circuit 6A shown in FIG.
The drain electrodes of the n-channel input MOS transistors Q26 and Q27 that receive the read signal are connected to the power supply voltage Vdd via p-channel load MOS transistors Q28 and Q29 that are load transistors. The source electrodes of the input MOS transistors Q26 and Q27 have an n-channel type MO for determining the source potential.
The drain electrodes of the S transistors Q30 and Q31 and the source electrode of the p-channel MOS transistor Q25 are connected, and the n-channel MOS transistors Q30 and Q3
The outputs SA1 and SA1b of the first-stage level shift circuit 6A are connected to the first gate electrode, respectively.
The source electrodes of the n-channel MOS transistors Q30 and Q31 are connected to the gate electrode of the OS transistor Q25. MOS transistor Q25 has a feedback function of keeping the potential level of the output of level shift circuit 6A stable.
【0041】2段目のレベルシフト回路6Bは、1段目
のレベルシフト回路6Aと同様の回路をMOSトランジ
スタQ32〜Q35で構成され、nチャンネル型MOS
トランジスタQ30,Q31,Q36,Q37のソース
電極は共通接続され、電流源としてのnチャンネル型パ
ワースイッチMOSトランジスタQ38を介して接地電
圧Vssに接続される。The second-stage level shift circuit 6B is the same as the first-stage level shift circuit 6A, and is constituted by MOS transistors Q32 to Q35.
Source electrodes of the transistors Q30, Q31, Q36, and Q37 are commonly connected, and are connected to the ground voltage Vss via an n-channel type power switch MOS transistor Q38 as a current source.
【0042】図5に示される1段目のレベルシフト回路
6Aの出力SA1,SA1bの電位レベルは2段目のレ
ベルシフト回路6Bの出力SA2,SA2bより高く設
定され、2段目のレベルシフト回路6Bの出力SA2,
SA2bの電位レベルは図示を省略するセンスアンプが
最も高感度に動作する入力電圧レベルである電源電圧V
ddの約60%の電位レベルに設定される。図5の回路
構成によっても上記同様、プロセスばらつきによりレベ
ルシフト回路を構成する電流増幅回路の駆動能力の変動
に対して差動信号出力SA1,SA1b,SA2,SA
2bの出力電位レベルを安定化でき、且つ安定な増幅が
得られ、データ読み出し動作の高速化を達成することが
できる。特に図6の構成は、レベルシフト回路1段では
所要のレベルシフト量を得ることができない場合に有用
である。The potential levels of the outputs SA1 and SA1b of the first-stage level shift circuit 6A shown in FIG. 5 are set higher than the outputs SA2 and SA2b of the second-stage level shift circuit 6B, and 6B output SA2,
The potential level of SA2b is the power supply voltage V which is the input voltage level at which the sense amplifier (not shown) operates with the highest sensitivity.
The potential level is set to about 60% of dd. Similarly to the circuit configuration of FIG. 5, differential signal outputs SA1, SA1b, SA2, and SA are provided in response to fluctuations in the driving capability of the current amplifier circuit forming the level shift circuit due to process variations.
The output potential level of 2b can be stabilized, stable amplification can be obtained, and high-speed data read operation can be achieved. In particular, the configuration shown in FIG. 6 is useful when a required level shift amount cannot be obtained with one level shift circuit.
【0043】第7図には前記SRAMを適用したデータ
処理システムの一例であるコンピュータシステムのブロ
ック図が示される。このコンピュータシステムは、プロ
セッサボード10と周辺回路によって構成される。プロ
セッサボード10は、マイクロプロセッサ11を中心
に、当該マイクロプロセッサ11が結合されたプロセッ
サバス12に、代表的に示されたメモリコントローラ1
3及びPCI(Peripheral Component Interconnect)
バスコントローラ14が結合される。メモリコントロー
ラ14には、マイクロプロセッサ11のワーク領域若し
くは一次記憶領域とされるメインメモリとしてSRAM
15が結合されている。SRAM15は図1等に基づい
て説明したSRAMの構成を有する。PCIバスコント
ローラ14は低速の周辺回路をPCIバス16を介して
プロセッサバス12にインタフェースするブリッジ回路
として機能される。PCIバス16には、特に制限され
ないが、ディスプレイコントローラ17、IDE(Inte
grated Device Electronics)インタフェースコントロ
ーラ18、SCSI(Small Computer System Interfac
e)インタフェースコントローラ19及びその他のイン
タフェースコントローラ20が結合されている。前記デ
ィスプレイコントローラ17にはフレームバッファメモ
リが接続されている。FIG. 7 is a block diagram of a computer system as an example of a data processing system to which the SRAM is applied. This computer system includes a processor board 10 and peripheral circuits. The processor board 10 includes a microprocessor controller 11 and a memory controller 1 which is typically shown on a processor bus 12 to which the microprocessor 11 is connected.
3 and PCI (Peripheral Component Interconnect)
A bus controller 14 is coupled. The memory controller 14 has an SRAM as a main memory which is a work area or a primary storage area of the microprocessor 11.
15 are connected. The SRAM 15 has the configuration of the SRAM described with reference to FIG. The PCI bus controller 14 functions as a bridge circuit that interfaces low-speed peripheral circuits to the processor bus 12 via the PCI bus 16. Although not particularly limited, the PCI bus 16 includes a display controller 17 and an IDE (Inte
grated Device Electronics) interface controller 18, SCSI (Small Computer System Interface)
e) Interface controller 19 and other interface controllers 20 are coupled. The display controller 17 is connected to a frame buffer memory.
【0044】周辺回路として、前記ディスプレイコント
ローラ17に結合されたディスプレイ22、IDEイン
タフェースコントローラ18に結合されたハードディス
クドライブ(HDD)23、SCSIインタフェースコ
ントローラ19に結合されたイメージスキャナ24、そ
して、前記その他のインタフェースコントローラ20に
結合されたキーボード25、マウス26、モデム27及
び文字認識ユニット28等が設けられている。As a peripheral circuit, a display 22 coupled to the display controller 17, a hard disk drive (HDD) 23 coupled to the IDE interface controller 18, an image scanner 24 coupled to the SCSI interface controller 19, and the other components. A keyboard 25, a mouse 26, a modem 27, a character recognition unit 28, and the like connected to the interface controller 20 are provided.
【0045】図7に示されるコンピュータシステムにお
いて、前記HDD23にはマイクロプロセッサ11のオ
ペレーティングシステム(OS)などその他の動作プロ
グラムも格納されている。OSが起動され、前記データ
入力制御プログラムの実行が指示されると、当該プログ
ラムの実行ファイルがSRAM15のロードされ、マイ
クロプロセッサ11がSRAM15にロードされた実行
ファイルに従ってデータ入力制御プログラムなどを実行
する。In the computer system shown in FIG. 7, the HDD 23 also stores other operation programs such as an operating system (OS) of the microprocessor 11. When the OS is started and the execution of the data input control program is instructed, the execution file of the program is loaded into the SRAM 15, and the microprocessor 11 executes the data input control program and the like according to the execution file loaded into the SRAM 15.
【0046】前記SRAM15は、メモリセルからの読
み出しデータに対するセンス増幅動作の高速化並びに安
定化が実現されているから、データ処理システムに前記
SRAM15を採用することにより、データ処理速度が
高速化されてもデータエラーの低減に寄与できる。Since the SRAM 15 realizes a high-speed and stable sense amplification operation for data read from a memory cell, the data processing speed is increased by employing the SRAM 15 in a data processing system. Can also contribute to the reduction of data errors.
【0047】図8には図1などで説明したレベルシフト
回路及びセンスアンプをバスレシーバ若しくは入力バッ
ファに適用した半導体集積回路の一例が示される。FIG. 8 shows an example of a semiconductor integrated circuit in which the level shift circuit and the sense amplifier described in FIG. 1 and the like are applied to a bus receiver or an input buffer.
【0048】図8において半導体集積回路は回路モジュ
ールM1〜Mnを内蔵する。これら回路モジュールM1
〜Mnは、特に制限されないが、内部バスBUS−A,
BUS−Bにより結合され、その出力段には出力バッフ
ァとしてのバスドライバー回路BDが配置され、入力段
には入力バッファとしてのバスレシーバ回路BRが配置
されている。この例において、内部バスBUS−A及び
BUS−Bを介して伝達される信号の振幅は、回路の電
源電圧の絶対値の10分の1あるいは数分の1以下のよ
うな低振幅に制限されている。前記バスレシーバBRは
図1及び図5で説明したレベルシフト回路6(6A,6
B)とセンスアンプ5を有し、バスBUS−A,BUS
−Bから供給される入力信号の論理値を検出して内部に
採り込む。このとき、前記パワースイッチMOSトラン
ジスタQ17,Q38は、ゲート電極をドレイン電極に
結合したnチャンネル型のダイオード接続MOSトラン
ジスタに代えることができる。同図に示された半導体集
積回路は例えばプロセッサ或いはマイクロコンピュータ
とされ、入力バッファのようなバスレシーバBRは、別
の回路モジュールから供給されるデータに対するセンス
増幅動作の高速化並びに安定化を実現できるから、半導
体集積回路のデータ処理速度が高速化されてもデータエ
ラーの低減に寄与できる。In FIG. 8, the semiconductor integrated circuit includes circuit modules M1 to Mn. These circuit modules M1
To Mn are not particularly limited, but the internal buses BUS-A,
The output stage has a bus driver circuit BD as an output buffer, and the input stage has a bus receiver circuit BR as an input buffer. In this example, the amplitude of the signal transmitted via the internal buses BUS-A and BUS-B is limited to a low amplitude such as one-tenth or less than one-tenth of the absolute value of the power supply voltage of the circuit. ing. The bus receiver BR is provided with the level shift circuit 6 (6A, 6A) described with reference to FIGS.
B) and the sense amplifier 5, and the buses BUS-A, BUS
The logic value of the input signal supplied from -B is detected and incorporated therein. At this time, the power switch MOS transistors Q17 and Q38 can be replaced by n-channel diode-connected MOS transistors having a gate electrode coupled to a drain electrode. The semiconductor integrated circuit shown in the figure is, for example, a processor or a microcomputer, and a bus receiver BR such as an input buffer can realize a high-speed and stable sense amplification operation for data supplied from another circuit module. Therefore, even if the data processing speed of the semiconductor integrated circuit is increased, it can contribute to the reduction of data errors.
【0049】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲にお
いて種々変更可能であることは言うまでもない。The invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments. However, it is needless to say that the present invention is not limited to the embodiments and can be variously modified without departing from the gist of the invention. No.
【0050】例えば、レベルシフト回路を構成する電流
増幅回路の基本回路のトランジスタは直列2段に限定さ
れず、1個のトランジスタでは負荷トランジスタのオン
抵抗を十分大きくすることができないようなときに当該
負荷トランジスタを複数個のMOSトランジスタで構成
してもよい。また、レベルシフト回路は1段又は2段に
限定されずそれ以上の直列段数を設けてもよい。For example, the transistors of the basic circuit of the current amplifying circuit constituting the level shift circuit are not limited to two stages in series, and when one transistor cannot sufficiently increase the on-resistance of the load transistor, The load transistor may be composed of a plurality of MOS transistors. Further, the number of the level shift circuits is not limited to one or two and may be more than one.
【0051】また、電流供給MOSトランジスタQ24
の配置構成は図1に限定されない。例えば、ゲート電極
が出力SA1bに、ドレインがMOSトランジスタQ2
0,Q21のソース電極に結合された第1のpチャンネ
ル型電流供給MOSトランジスタと、ゲート電極が出力
SA1に、ドレインがMOSトランジスタQ20,Q2
1のソース電極に結合された第2のpチャンネル型電流
供給MOSトランジスタとに代えることができる。The current supply MOS transistor Q24
Is not limited to FIG. For example, the gate electrode is connected to the output SA1b, and the drain is connected to the MOS transistor Q2.
0, Q21, a first p-channel type current supply MOS transistor coupled to source electrodes, a gate electrode to output SA1, and drains to MOS transistors Q20, Q2.
It can be replaced with a second p-channel current supply MOS transistor coupled to one source electrode.
【0052】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるSRA
M等について説明したが、シンクロナスSRAMに代表
されるクロック同期型SRAMやマイクロコンピュータ
など、その他の半導体集積回路にも広く適用することが
できる。本発明は、少なくともレベルシフト回路とセン
スアンプを有する条件のものに適用することができる。In the above description, the invention made mainly by the present inventor is based on the application field of SRA which is the background of the invention.
Although M has been described, the present invention can be widely applied to other semiconductor integrated circuits such as a clock synchronous SRAM represented by a synchronous SRAM and a microcomputer. The present invention can be applied to a device having at least a level shift circuit and a sense amplifier.
【0053】[0053]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
【0054】すなわち、レベルシフト回路において、動
作点を安定に保つためのトランジスタを設けたことによ
り、プロセスばらつきなどの変動に対して安定な出力電
圧レベルと信号増幅動作が得られる。また、本発明のレ
ベルシフト回路を適用したSRAMやデータ処理用の半
導体集積回路では、上記により、データの読み出し動作
の高速化、若しくは入力データの論理値判定動作の高速
化を達成することができる。更に、データ処理速度が高
速化されてもデータエラーの低減に寄与できる。That is, in the level shift circuit, by providing a transistor for keeping the operating point stable, an output voltage level and a signal amplification operation that are stable against fluctuations such as process fluctuations can be obtained. Further, in the SRAM or the data processing semiconductor integrated circuit to which the level shift circuit of the present invention is applied, the speed of the data read operation or the speed of the logic value determination operation of the input data can be increased. . Further, even if the data processing speed is increased, it can contribute to the reduction of data errors.
【図1】本発明の一実施例に係るSRAMの要部を示す
回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a main part of an SRAM according to one embodiment of the present invention.
【図2】図1に示されるSRAMの読み出し動作時の各
ノードに現れる電圧変化を示す波形図である。FIG. 2 is a waveform chart showing a voltage change appearing at each node during a read operation of the SRAM shown in FIG.
【図3】図1のレベルシフト回路を構成する電流増幅回
路の基本回路を模式的に示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram schematically showing a basic circuit of a current amplifier circuit that forms the level shift circuit of FIG. 1;
【図4】図3の基本回路の入出力特性の一例を示す特性
図である。FIG. 4 is a characteristic diagram illustrating an example of input / output characteristics of the basic circuit of FIG. 3;
【図5】図1に示されるレベルシフト回路を2段直列接
続した構成の一例を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a configuration in which two levels of the level shift circuits shown in FIG. 1 are connected in series;
【図6】図5に示される回路の入出力信号波形の一例を
示す波形図である。6 is a waveform chart showing an example of input / output signal waveforms of the circuit shown in FIG.
【図7】図1のSRAMを適用したデータ処理システム
の一例であるコンピュータシステムのブロック図であ
る。FIG. 7 is a block diagram of a computer system which is an example of a data processing system to which the SRAM of FIG. 1 is applied.
【図8】図1などで説明したレベルシフト回路及びセン
スアンプをバスレシーバ若しくは入力バッファに適用し
た半導体集積回路の一例ブロック図である。FIG. 8 is a block diagram of an example of a semiconductor integrated circuit in which the level shift circuit and the sense amplifier described in FIG. 1 and the like are applied to a bus receiver or an input buffer.
1 スタティック型メモリセル 5 センスアンプ 6,6A,6B レベルシフト回路 Q6 プリチャージMOSトランジスタ Q7 イコライズMOSトランジスタ Q20,Q21 入力MOSトランジスタ(電流増幅M
OSトランジスタ) Q22,Q24 負荷MOSトランジスタ Q24 電流供給MOSトランジスタ Q18,Q19 帰還制御MOSトランジスタ Q17 パワースイッチMOSトランジスタ CDR,CDRb コモンデータ線対 SA1,SA1b レベルシフト回路の出力信号 Q26,Q27 入力MOSトランジスタ(電流増幅M
OSトランジスタ) Q28,Q29 負荷MOSトランジスタ Q32,Q33 入力MOSトランジスタ(電流増幅M
OSトランジスタ) Q34,Q35 負荷MOSトランジスタ Q25 電流供給MOSトランジスタ Q30,Q31,Q36,Q37 帰還制御MOSトラ
ンジスタ Q38 パワースイッチMOSトランジスタReference Signs List 1 static memory cell 5 sense amplifier 6, 6A, 6B level shift circuit Q6 precharge MOS transistor Q7 equalize MOS transistor Q20, Q21 input MOS transistor (current amplification M
OS transistor) Q22, Q24 Load MOS transistor Q24 Current supply MOS transistor Q18, Q19 Feedback control MOS transistor Q17 Power switch MOS transistor CDR, CDRb Common data line pair SA1, SA1b Output signal of level shift circuit Q26, Q27 Input MOS transistor (current Amplification M
OS transistor) Q28, Q29 Load MOS transistor Q32, Q33 Input MOS transistor (current amplification M
OS transistor) Q34, Q35 Load MOS transistor Q25 Current supply MOS transistor Q30, Q31, Q36, Q37 Feedback control MOS transistor Q38 Power switch MOS transistor
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平山 雅行 東京都国分寺市東恋ヶ窪三丁目1番地1 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリン グ株式会社内 (72)発明者 田村 幸歳 東京都国分寺市東恋ヶ窪三丁目1番地1 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリン グ株式会社内 (72)発明者 池脇 隆司 東京都国分寺市東恋ヶ窪三丁目1番地1 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリン グ株式会社内 (72)発明者 佐藤 陽一 東京都国分寺市東恋ヶ窪三丁目1番地1 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリン グ株式会社内 (72)発明者 山田 慎也 東京都国分寺市東恋ヶ窪三丁目1番地1 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリン グ株式会社内 (72)発明者 佐藤 和善 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Masayuki Hirayama 3-1-1 Higashi-Koigabo, Kokubunji-shi, Tokyo Hitachi Ultra LSE Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Yukitoshi Tamura East of Kokubunji-shi, Tokyo Hitachi-LSI Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Ryuji Ikewaki 3-1-1, Higashi-Koigakubo 3-chome, Hitachi-Kokubunji, Tokyo Hitachi-LSI Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Yoichi Sato 3-1-1 Higashi-Koigabo, Kokubunji-shi, Tokyo Hitachi Ultra-LSI Engineering Co., Ltd. (72) Shinya Yamada 3-1-1 Higashi-Koigabo, Kokubunji-shi, Tokyo Hitachi Super LSI Engineering Co., Ltd. (72) Person Kazuyoshi Sato Ome, Tokyo Imai 2326 address Hitachi Seisakusho device within the development center
Claims (7)
与えられる信号線対に入力端子が結合されたレベルシフ
ト回路と、前記レベルシフト回路の出力を入力端子に受
け、入力された相補信号を差動増幅するセンスアンプと
を、増幅回路として含む半導体集積回路であって、 前記レベルシフト回路は前記第1の電位近傍から始まる
相補的な信号変化を前記センスアンプの動作上高感度と
なる動作点付近での相補的な信号変化に変換する回路で
あり、前記信号線対の信号線に各々制御端子が結合され
た電流増幅トランジスタと前記電流増幅トランジスタの
電流入力端子に直列接続された負荷トランジスタとを含
み、前記電流増幅トランジスタと前記負荷トランジスタ
との結合ノードがレベルシフト信号の出力端子とされて
成り、前記双方の電流増幅トランジスタの電流出力ノー
ドの電圧を前記レベルシフト回路の出力電圧に対して負
帰還制御する電流供給トランジスタを、前記双方の電流
増幅トランジスタの前記電流出力ノードに共通接続して
成るものであることを特徴とする半導体集積回路。A level shift circuit having an input terminal coupled to a signal line pair to which a complementary signal change is given with reference to a first potential; an output of the level shift circuit being received at an input terminal; A sense amplifier for differentially amplifying a complementary signal, the semiconductor integrated circuit including, as an amplifying circuit, the level shift circuit detects a complementary signal change starting near the first potential with high sensitivity in operation of the sense amplifier. A circuit for converting into a complementary signal change in the vicinity of an operating point, wherein a current amplifier transistor having a control terminal coupled to each signal line of the signal line pair and a current input terminal of the current amplifier transistor are connected in series. And a coupling node between the current amplification transistor and the load transistor serving as an output terminal of a level shift signal. A current supply transistor for performing negative feedback control on the voltage of the current output node of the transistor with respect to the output voltage of the level shift circuit is commonly connected to the current output nodes of the two current amplification transistors. Semiconductor integrated circuit.
流増幅トランジスタの前記電流出力ノードとパワースイ
ッチトランジスタとの間に、並列状態で配置され前記レ
ベルシフト回路の出力信号を各々の制御端子に受ける第
1及び第2の帰還制御トランジスタを有し、前記第1及び
第2の帰還制御トランジスタとパワースイッチトランジ
スタとの結合ノードの電圧が前記電流供給トランジスタ
の制御電圧とされて成るものであることを特徴とする請
求項1記載の半導体集積回路。2. The level shift circuit is arranged in parallel between the current output nodes of the two current amplifying transistors and a power switch transistor, and receives output signals of the level shift circuit at respective control terminals. No.
It has first and second feedback control transistors, and a voltage at a coupling node between the first and second feedback control transistors and the power switch transistor is a control voltage of the current supply transistor. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein
え、後段のレベルシフト回路の入力端子が前段のレベル
シフト回路の出力に結合されて成るものであることを特
徴とする請求項1又2に記載の半導体集積回路。3. The level shift circuit according to claim 1, further comprising a plurality of level shift circuits connected in series, wherein an input terminal of a subsequent level shift circuit is coupled to an output of the preceding level shift circuit. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
与えられる信号線対に入力端子が結合されたレベルシフ
ト回路と、前記レベルシフト回路の出力を入力端子に受
け、入力された相補信号を差動増幅するセンスアンプと
を、増幅回路として含む半導体集積回路であって、 前記レベルシフト回路は前記第1の電位近傍から始まる
相補的な信号変化を前記センスアンプの動作上高感度と
なる動作点付近での相補的な信号変化に変換する回路で
あり、前記信号線対の信号線に各々ゲート電極が結合さ
れた一対のnチャンネル型入力MOSトランジスタと、
各々の入力MOSトランジスタのドレインに結合された
pチャンネル型負荷MOSトランジスタと、前記一対の
入力MOSトランジスタのソース電極とパワースイッチ
MOSトランジスタとの間に並列状態で配置され、前記
レベルシフト回路の出力信号を各々のゲート電極に受け
る一対のnチャンネル型帰還制御MOSトランジスタと
を含み、前記入力MOSトランジスタのドレイン電極が
レベルシフト信号の出力端子とされ、 前記帰還制御MOSトランジスタとパワースイッチMO
Sトランジスタとの結合ノードの電圧をゲート電極に受
けるpチャンネル型電流供給MOSトランジスタのドレ
インを、前記双方の入力MOSトランジスタのソース電
極に共通接続して、前記入力MOSトランジスタのソー
ス電位を前記レベルシフト回路の出力電圧に対して負帰
還制御するように前記電流供給MOSトランジスタの相
互コンダクタを制御するものであることを特徴とする半
導体集積回路。4. A level shift circuit having an input terminal coupled to a signal line pair to which a complementary signal change is given with reference to a first potential, and an output of the level shift circuit received at an input terminal and input. A sense amplifier for differentially amplifying a complementary signal, the semiconductor integrated circuit including, as an amplifying circuit, the level shift circuit detects a complementary signal change starting near the first potential with high sensitivity in operation of the sense amplifier. A pair of n-channel input MOS transistors each having a gate electrode coupled to a signal line of the signal line pair;
A p-channel load MOS transistor coupled to the drain of each input MOS transistor, and a source signal of the pair of input MOS transistors and a power switch MOS transistor disposed in parallel between the output MOS signal and the output signal of the level shift circuit And a pair of n-channel feedback control MOS transistors receiving each of the gate electrodes, a drain electrode of the input MOS transistor is an output terminal of a level shift signal, and the feedback control MOS transistor and the power switch MO
A drain of a p-channel type current supply MOS transistor receiving a voltage of a coupling node with the S transistor at a gate electrode is commonly connected to source electrodes of the two input MOS transistors to shift the source potential of the input MOS transistor to the level shift. A semiconductor integrated circuit for controlling a transconductor of the current supply MOS transistor so as to perform negative feedback control on an output voltage of the circuit.
メモリ素子のデータ入出力端子が前記信号線対に結合さ
れ、メモリセルからのデータ読み出し動作において前記
信号線対はプリチャージ素子によって電源電圧近傍の第
1の電圧にプリチャージされるものであることを特徴と
する請求項1乃至4の何れか1項に記載の半導体集積回
路。5. A semiconductor memory device comprising: a static memory device, wherein a data input / output terminal of the memory device is coupled to the signal line pair, and in a data read operation from a memory cell, the signal line pair is brought close to a power supply voltage by a precharge element. No.
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is precharged to one voltage.
の回路ブロックとに配置され、第1の回路ブロックに配
置された前記増幅回路は第2の回路ブロックから出力さ
れる差動信号を入力する入力バッファとされ、第2の回
路ブロックに配置された前記増幅回路は第1の回路ブロ
ックから出力される差動信号を入力する入力バッファと
されて成るものであることを特徴とする請求項1乃至4
の何れか1項に記載の半導体集積回路。6. An amplifier circuit comprising a first circuit block and a second circuit block.
The amplifier circuit arranged in the first circuit block is an input buffer for inputting the differential signal output from the second circuit block, and is arranged in the second circuit block. 5. The amplification circuit according to claim 1, wherein the amplification circuit is an input buffer for inputting a differential signal output from the first circuit block.
The semiconductor integrated circuit according to any one of the above.
記半導体集積回路をアクセスするプロセッサとをバスに
共通接続して成るものであることを特徴とするデータ処
理システム。7. A data processing system, comprising: a semiconductor integrated circuit according to claim 5; and a processor that accesses the semiconductor integrated circuit, commonly connected to a bus.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9313037A JPH11149783A (en) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Semiconductor integrated circuit and data processing system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9313037A JPH11149783A (en) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Semiconductor integrated circuit and data processing system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11149783A true JPH11149783A (en) | 1999-06-02 |
Family
ID=18036454
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9313037A Withdrawn JPH11149783A (en) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Semiconductor integrated circuit and data processing system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11149783A (en) |
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-
1997
- 1997-11-14 JP JP9313037A patent/JPH11149783A/en not_active Withdrawn
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