JPH107438A - 防汚処理された物品 - Google Patents
防汚処理された物品Info
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- JPH107438A JPH107438A JP8178460A JP17846096A JPH107438A JP H107438 A JPH107438 A JP H107438A JP 8178460 A JP8178460 A JP 8178460A JP 17846096 A JP17846096 A JP 17846096A JP H107438 A JPH107438 A JP H107438A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 基材表面に下記一般式（１）又は（２）
で表わされる有機ケイ素化合物又はその部分加水分解物
の皮膜が形成されたことを特徴とする防汚処理された物
品。 【化１】 （式中、Ｘはケイ素原子に直結する加水分解性基又は水
酸基、Ｒｆは炭素数１〜２０のパーフロロアルキル基、
Ｒ1は炭素数２〜１０の２価炭化水素基、Ｒ2は置換又は
非置換の炭素数１〜１０の１価炭化水素基、ａは１又は
２である。） 【効果】 本発明にかかる有機ケイ素化合物又はその部
分加水分解物で処理されて表面にその皮膜が形成された
物品は、高撥水性、高撥油性であるばかりでなく、長期
間放置したときのほこりの付着を防止できる。
で表わされる有機ケイ素化合物又はその部分加水分解物
の皮膜が形成されたことを特徴とする防汚処理された物
品。 【化１】 （式中、Ｘはケイ素原子に直結する加水分解性基又は水
酸基、Ｒｆは炭素数１〜２０のパーフロロアルキル基、
Ｒ1は炭素数２〜１０の２価炭化水素基、Ｒ2は置換又は
非置換の炭素数１〜１０の１価炭化水素基、ａは１又は
２である。） 【効果】 本発明にかかる有機ケイ素化合物又はその部
分加水分解物で処理されて表面にその皮膜が形成された
物品は、高撥水性、高撥油性であるばかりでなく、長期
間放置したときのほこりの付着を防止できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス、プラスチ
ック、金属、セラミックス、磁器、陶器等の基材表面
に、粘着感がなく、ほこり等が付着しにくく、撥水性、
撥油性を兼ね備えた防汚性皮膜が形成された物品に関す
る。
ック、金属、セラミックス、磁器、陶器等の基材表面
に、粘着感がなく、ほこり等が付着しにくく、撥水性、
撥油性を兼ね備えた防汚性皮膜が形成された物品に関す
る。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】例え
ば、眼鏡用レンズ、カメラ用レンズ等の光学レンズに防
汚性、撥水性を与えるために、その最表層にシリコーン
系及び／又はフッ素系の重合物からなる硬化物質層を設
けることが知られている。
ば、眼鏡用レンズ、カメラ用レンズ等の光学レンズに防
汚性、撥水性を与えるために、その最表層にシリコーン
系及び／又はフッ素系の重合物からなる硬化物質層を設
けることが知られている。
【０００３】その処理剤としては、例えば、Ｃ8Ｆ17Ｃ2
Ｈ4ＳｉＣｌ3，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＮＨ）3/2のような
３官能性の有機ケイ素化合物、あるいはその部分加水分
解物が用いられていた。
Ｈ4ＳｉＣｌ3，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＮＨ）3/2のような
３官能性の有機ケイ素化合物、あるいはその部分加水分
解物が用いられていた。
【０００４】しかし、このような３官能性のものを処理
したものは、表面が３次元構造をもつ硬化物で覆われる
が、一部が硬化不良を生じたり、また表面にシラノール
基が残存することにより、表面が柔らかくなったり、あ
るいは粘着感が生じ、かえってほこり等が付着しやすく
なってしまうという欠点があった。
したものは、表面が３次元構造をもつ硬化物で覆われる
が、一部が硬化不良を生じたり、また表面にシラノール
基が残存することにより、表面が柔らかくなったり、あ
るいは粘着感が生じ、かえってほこり等が付着しやすく
なってしまうという欠点があった。
【０００５】本発明は、上記欠点を除去したもので、防
汚性、撥水性を与え、かつ、表面に粘着感がなく、ほこ
り等が付着しにくい防汚性皮膜が形成された、防汚処理
された物品を提供することを目的とする。
汚性、撥水性を与え、かつ、表面に粘着感がなく、ほこ
り等が付着しにくい防汚性皮膜が形成された、防汚処理
された物品を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行った
結果、各種基材を下記一般式（１）又は（２）で示され
る有機ケイ素化合物又はその部分加水分解物で処理し、
その皮膜を形成した場合、この皮膜は三次元構造をとら
ず、シラノール基を残存しないため良好な撥水性、撥油
性を示すと共に、粘着感がなく、ほこり等が付着し難い
ものであり、防汚性に優れた物品が得られることを知見
し、本発明をなすに至った。
発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行った
結果、各種基材を下記一般式（１）又は（２）で示され
る有機ケイ素化合物又はその部分加水分解物で処理し、
その皮膜を形成した場合、この皮膜は三次元構造をとら
ず、シラノール基を残存しないため良好な撥水性、撥油
性を示すと共に、粘着感がなく、ほこり等が付着し難い
ものであり、防汚性に優れた物品が得られることを知見
し、本発明をなすに至った。
【０００７】
【化２】 （式中、Ｘはケイ素原子に直結する加水分解性基又は水
酸基、Ｒｆは炭素数１〜２０のパーフロロアルキル基、
Ｒ1は炭素数２〜１０の２価炭化水素基、Ｒ2は置換又は
非置換の炭素数１〜１０の１価炭化水素基、ａは１又は
２である。）
酸基、Ｒｆは炭素数１〜２０のパーフロロアルキル基、
Ｒ1は炭素数２〜１０の２価炭化水素基、Ｒ2は置換又は
非置換の炭素数１〜１０の１価炭化水素基、ａは１又は
２である。）
【０００８】従って、本発明は、基材表面に上記一般式
（１）又は（２）で表わされる有機ケイ素化合物又はそ
の部分加水分解物の皮膜が形成されたことを特徴とする
防汚処理された物品を提供する。
（１）又は（２）で表わされる有機ケイ素化合物又はそ
の部分加水分解物の皮膜が形成されたことを特徴とする
防汚処理された物品を提供する。
【０００９】本発明によれば、上記一般式（１）又は
（２）の有機ケイ素化合物又はその部分加水分解物で基
材表面を処理することにより、３官能性の有機ケイ素化
合物を用いた場合と異なり、皮膜が３次元構造をとるこ
とがなくシラノール基も残存しないため、長期間放置し
てもほこり等が付着しにくい表面が得られるものであ
る。
（２）の有機ケイ素化合物又はその部分加水分解物で基
材表面を処理することにより、３官能性の有機ケイ素化
合物を用いた場合と異なり、皮膜が３次元構造をとるこ
とがなくシラノール基も残存しないため、長期間放置し
てもほこり等が付着しにくい表面が得られるものであ
る。
【００１０】以下、本発明につき更に詳しく説明する
と、本発明の防汚処理された物品は、基材表面に下記一
般式（１）又は（２）の有機ケイ素化合物又はその部分
加水分解物の皮膜を形成したものである。
と、本発明の防汚処理された物品は、基材表面に下記一
般式（１）又は（２）の有機ケイ素化合物又はその部分
加水分解物の皮膜を形成したものである。
【００１１】
【化３】
【００１２】上記式において、Ｒｆは炭素数１〜２０、
好ましくは４〜１０のパーフロロアルキル基であり、こ
れにより撥水性、撥油性、防汚性が得られるものであ
る。Ｒｆは炭素数１〜２０のものであればよく、特に制
限はないが、具体的にはＣＦ3−基，Ｃ4Ｆ9−基，Ｃ8Ｆ
17−基が例示される。
好ましくは４〜１０のパーフロロアルキル基であり、こ
れにより撥水性、撥油性、防汚性が得られるものであ
る。Ｒｆは炭素数１〜２０のものであればよく、特に制
限はないが、具体的にはＣＦ3−基，Ｃ4Ｆ9−基，Ｃ8Ｆ
17−基が例示される。
【００１３】また、一般式（１）において、Ｘはケイ素
原子に直結する加水分解性基又は水酸基であるが、加水
分解性基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のア
ルコキシ基、アルケニロキシ基、アシロキシ基が望まし
い。
原子に直結する加水分解性基又は水酸基であるが、加水
分解性基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のア
ルコキシ基、アルケニロキシ基、アシロキシ基が望まし
い。
【００１４】更に、Ｒ1としては、炭素数２〜１０のア
ルキレン基などが挙げられ、Ｒ2としては、炭素数１〜
１０の１価炭化水素基、具体的には、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル等のアル
キル基、ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル等のア
ルケニル基、フェニル、キシリル等のアリール基、ベン
ジル等のアラルキル基や、これらの炭化水素基の水素原
子の一部を塩素、フッ素等のハロゲン原子などで置換し
た基を例示することができる。ａは１又は２である。
ルキレン基などが挙げられ、Ｒ2としては、炭素数１〜
１０の１価炭化水素基、具体的には、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル等のアル
キル基、ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル等のア
ルケニル基、フェニル、キシリル等のアリール基、ベン
ジル等のアラルキル基や、これらの炭化水素基の水素原
子の一部を塩素、フッ素等のハロゲン原子などで置換し
た基を例示することができる。ａは１又は２である。
【００１５】上記式（１）、（２）の有機ケイ素化合物
を例示すれば、以下の通りである。ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（Ｃ
Ｈ3）2ＳｉＣｌ，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＣｌ，Ｃ
8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＣｌ，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ
3）2ＳｉＣｌ，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣＨ3，Ｃ
4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣＨ3，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（Ｃ
Ｈ3）2ＳｉＯＣＨ3，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3）2ＳｉＯＣ
Ｈ3，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣ（ＣＨ3） ＝Ｃ
Ｈ2，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣ（ＣＨ3） ＝ＣＨ
2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣ（ＣＨ3） ＝Ｃ
Ｈ2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3）2ＳｉＯＣ（ＣＨ3） ＝Ｃ
Ｈ2，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣＯＣＨ3，Ｃ4Ｆ9
Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣＯＣＨ3，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（Ｃ
Ｈ3）2ＳｉＯＣＯＣＨ3，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3）2Ｓｉ
ＯＣＯＣＨ3，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） ＳｉＣｌ2，Ｃ4Ｆ9
Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） ＳｉＣｌ2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓ
ｉＣｌ2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3） ＳｉＣｌ2，ＣＦ3Ｃ2
Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣＨ3）2，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（Ｃ
Ｈ3） Ｓｉ（ＯＣＨ3）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ
（ＯＣＨ3）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）2，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣ（ＣＨ3） ＝
ＣＨ2）2，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣ（ＣＨ3）
＝ＣＨ2）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣ（ＣＨ
3） ＝ＣＨ2）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣ
（ＣＨ3） ＝ＣＨ2）2，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（Ｏ
ＣＯＣＨ3）2，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣＯＣ
Ｈ3）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣＯＣ
Ｈ3）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣＯＣ
Ｈ3）2，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＮＨＳｉ（ＣＨ3）
2Ｃ2Ｈ4ＣＦ3，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＮＨＳｉ
（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4Ｃ4Ｆ9，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2Ｓ
ｉＮＨＳｉ（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4Ｃ8Ｆ17，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ
6（ＣＨ3）2ＳｉＮＨＳｉ（ＣＨ3）2Ｃ3Ｈ6Ｃ8Ｆ17，Ｃ
Ｆ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＮＨ）2/2，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ
4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＮＨ）2/2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）
Ｓｉ（ＮＨ）2/2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3） Ｓｉ（Ｎ
Ｈ）2/2
を例示すれば、以下の通りである。ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（Ｃ
Ｈ3）2ＳｉＣｌ，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＣｌ，Ｃ
8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＣｌ，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ
3）2ＳｉＣｌ，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣＨ3，Ｃ
4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣＨ3，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（Ｃ
Ｈ3）2ＳｉＯＣＨ3，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3）2ＳｉＯＣ
Ｈ3，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣ（ＣＨ3） ＝Ｃ
Ｈ2，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣ（ＣＨ3） ＝ＣＨ
2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣ（ＣＨ3） ＝Ｃ
Ｈ2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3）2ＳｉＯＣ（ＣＨ3） ＝Ｃ
Ｈ2，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣＯＣＨ3，Ｃ4Ｆ9
Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＯＣＯＣＨ3，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（Ｃ
Ｈ3）2ＳｉＯＣＯＣＨ3，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3）2Ｓｉ
ＯＣＯＣＨ3，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） ＳｉＣｌ2，Ｃ4Ｆ9
Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） ＳｉＣｌ2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓ
ｉＣｌ2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3） ＳｉＣｌ2，ＣＦ3Ｃ2
Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣＨ3）2，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（Ｃ
Ｈ3） Ｓｉ（ＯＣＨ3）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ
（ＯＣＨ3）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）2，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣ（ＣＨ3） ＝
ＣＨ2）2，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣ（ＣＨ3）
＝ＣＨ2）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣ（ＣＨ
3） ＝ＣＨ2）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣ
（ＣＨ3） ＝ＣＨ2）2，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（Ｏ
ＣＯＣＨ3）2，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣＯＣ
Ｈ3）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣＯＣ
Ｈ3）2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3） Ｓｉ（ＯＣＯＣ
Ｈ3）2，ＣＦ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＮＨＳｉ（ＣＨ3）
2Ｃ2Ｈ4ＣＦ3，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2ＳｉＮＨＳｉ
（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4Ｃ4Ｆ9，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）2Ｓ
ｉＮＨＳｉ（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4Ｃ8Ｆ17，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ
6（ＣＨ3）2ＳｉＮＨＳｉ（ＣＨ3）2Ｃ3Ｈ6Ｃ8Ｆ17，Ｃ
Ｆ3Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＮＨ）2/2，Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ
4（ＣＨ3） Ｓｉ（ＮＨ）2/2，Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（ＣＨ3）
Ｓｉ（ＮＨ）2/2，Ｃ8Ｆ17Ｃ3Ｈ6（ＣＨ3） Ｓｉ（Ｎ
Ｈ）2/2
【００１６】これらの中で、式（１）におけるＸが塩素
原子であるもの及び式（２）のシラザンが特に好まし
い。
原子であるもの及び式（２）のシラザンが特に好まし
い。
【００１７】なお、これらの化合物の部分加水分解物も
使用でき、これらの化合物及び部分加水分解物は単独で
あるいは２種以上を混合して用いることができる。
使用でき、これらの化合物及び部分加水分解物は単独で
あるいは２種以上を混合して用いることができる。
【００１８】本発明において、上記有機ケイ素化合物又
はその部分加水分解物は、適当な溶剤に任意の割合に溶
解して用いることができる。使用できる溶剤は特に制限
はないが、これらの有機ケイ素化合物又はその部分加水
分解物を安定に溶解できるものが望ましい。そのような
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサ
ン、ペンタン等の炭化水素系溶剤、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル
等のエステル系溶剤、シリコーン系溶剤、フッ素系溶剤
等を用いることができる。
はその部分加水分解物は、適当な溶剤に任意の割合に溶
解して用いることができる。使用できる溶剤は特に制限
はないが、これらの有機ケイ素化合物又はその部分加水
分解物を安定に溶解できるものが望ましい。そのような
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサ
ン、ペンタン等の炭化水素系溶剤、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル
等のエステル系溶剤、シリコーン系溶剤、フッ素系溶剤
等を用いることができる。
【００１９】上記有機ケイ素化合物又はその部分加水分
解物の溶剤中の濃度は特に制限はないが、０．１〜２０
重量％が好ましい。０．１重量％より薄い濃度では十分
な撥水、防汚機能が得られない場合があり、２０重量％
を超える濃度ではあまり経済的でない。
解物の溶剤中の濃度は特に制限はないが、０．１〜２０
重量％が好ましい。０．１重量％より薄い濃度では十分
な撥水、防汚機能が得られない場合があり、２０重量％
を超える濃度ではあまり経済的でない。
【００２０】上記有機ケイ素化合物又はその部分加水分
解物で処理される基材（物品）は特に制限されず、ガラ
スレンズ、プラスチックレンズ、ハードコート膜及び／
又はシリカ蒸着膜を有するプラスチックレンズ、車輌用
ウインドガラス、ミラー、御影石、大理石等の石材、液
晶膜などが挙げられ、またその材質としては、ガラス、
プラスチック、金属、セラミックス、磁器、陶器等、い
ずれのものでもよい。
解物で処理される基材（物品）は特に制限されず、ガラ
スレンズ、プラスチックレンズ、ハードコート膜及び／
又はシリカ蒸着膜を有するプラスチックレンズ、車輌用
ウインドガラス、ミラー、御影石、大理石等の石材、液
晶膜などが挙げられ、またその材質としては、ガラス、
プラスチック、金属、セラミックス、磁器、陶器等、い
ずれのものでもよい。
【００２１】このような基材に上記有機ケイ素化合物又
はその部分加水分解物の皮膜を形成する方法としては、
基材に有機ケイ素化合物又はその部分加水分解物の溶剤
溶液をスピンコートしたり、該溶剤溶液に基材を浸漬す
るなどして、基材表面に上記有機ケイ素化合物又はその
部分加水分解物の皮膜を形成した後、室温〜２００℃、
特に室温〜１００℃で１分〜１日加熱又は放置する方法
が採用し得、また真空蒸着法などの方法も採用できる
が、これらに限定されるものではない。
はその部分加水分解物の皮膜を形成する方法としては、
基材に有機ケイ素化合物又はその部分加水分解物の溶剤
溶液をスピンコートしたり、該溶剤溶液に基材を浸漬す
るなどして、基材表面に上記有機ケイ素化合物又はその
部分加水分解物の皮膜を形成した後、室温〜２００℃、
特に室温〜１００℃で１分〜１日加熱又は放置する方法
が採用し得、また真空蒸着法などの方法も採用できる
が、これらに限定されるものではない。
【００２２】
【実施例】以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。
【００２３】〔実施例〕処理剤 表１に示す有機ケイ素化合物５重量部を同表に示す各溶
剤９５重量部に溶解したものを処理剤として用いた。基材 ガラス：予め、表面をアセトンにて洗浄したフロートガ
ラス プラスチックレンズ：ポリカーボネート製レンズの表面
にハードコートを施し、更に、シリカを蒸着したもの処理方法 有機ケイ素化合物溶液に基材を５分間浸漬し、取り出し
た後、該溶液に用いた溶剤と同じ溶剤に１分間ずつ２回
浸漬することにより洗浄し、１００℃×１０分間乾燥し
た。評価方法 水の接触角度：協和界面科学株式会社製の接触角計ＣＺ
−Ｘ１５０型を用いて測定した。３０日後の表面状態：
室内に放置し、３０日後の表面を観察した。 Ａ：ほどんどほこりが付着しない Ｂ：ほこりが少量付着している Ｃ：ほこりが大量に付着している 以上の結果を表１に示す。
剤９５重量部に溶解したものを処理剤として用いた。基材 ガラス：予め、表面をアセトンにて洗浄したフロートガ
ラス プラスチックレンズ：ポリカーボネート製レンズの表面
にハードコートを施し、更に、シリカを蒸着したもの処理方法 有機ケイ素化合物溶液に基材を５分間浸漬し、取り出し
た後、該溶液に用いた溶剤と同じ溶剤に１分間ずつ２回
浸漬することにより洗浄し、１００℃×１０分間乾燥し
た。評価方法 水の接触角度：協和界面科学株式会社製の接触角計ＣＺ
−Ｘ１５０型を用いて測定した。３０日後の表面状態：
室内に放置し、３０日後の表面を観察した。 Ａ：ほどんどほこりが付着しない Ｂ：ほこりが少量付着している Ｃ：ほこりが大量に付着している 以上の結果を表１に示す。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【発明の効果】本発明にかかる有機ケイ素化合物又はそ
の部分加水分解物で処理されて表面にその皮膜が形成さ
れた物品は、高撥水性、高撥油性であるばかりでなく、
長期間放置したときのほこりの付着を防止できる。
の部分加水分解物で処理されて表面にその皮膜が形成さ
れた物品は、高撥水性、高撥油性であるばかりでなく、
長期間放置したときのほこりの付着を防止できる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｆ 7/18 Ｃ０７Ｆ 7/18 Ｅ Ｃ０９Ｄ 5/16 ＰＱＭ Ｃ０９Ｄ 5/16 ＰＱＭ 183/08 ＰＭＶ 183/08 ＰＭＶ 183/16 ＰＭＭ 183/16 ＰＭＭ
Claims (1)
- 【請求項１】 基材表面に下記一般式（１）又は（２）
で表わされる有機ケイ素化合物又はその部分加水分解物
の皮膜が形成されたことを特徴とする防汚処理された物
品。 【化１】 （式中、Ｘはケイ素原子に直結する加水分解性基又は水
酸基、Ｒｆは炭素数１〜２０のパーフロロアルキル基、
Ｒ1は炭素数２〜１０の２価炭化水素基、Ｒ2は置換又は
非置換の炭素数１〜１０の１価炭化水素基、ａは１又は
２である。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8178460A JPH107438A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | 防汚処理された物品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8178460A JPH107438A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | 防汚処理された物品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH107438A true JPH107438A (ja) | 1998-01-13 |
Family
ID=16048915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8178460A Pending JPH107438A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | 防汚処理された物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH107438A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000037245A (ja) * | 1998-07-21 | 2000-02-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 人工大理石成形体ならびにそれを用いたキッチンカウンター、浴槽とまたは洗い場 |
| WO2001051426A1 (fr) * | 2000-01-14 | 2001-07-19 | Inax Corporation | Produit constitue d'une couche de verre et son procede d'obtention |
| JP2002003260A (ja) * | 2000-06-16 | 2002-01-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 人工大理石とそれを用いたキッチンカウンター、浴槽または洗い場 |
| US7351477B2 (en) | 2004-04-07 | 2008-04-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antifouling coating compositions and coated articles |
| KR101636896B1 (ko) * | 2015-10-14 | 2016-07-06 | 에이케이켐텍 주식회사 | 부착방지 코팅용 조성물 및 이를 이용한 부착방지 코팅층, 부착방지 코팅층을 가지는 부착방지 구조물 |
-
1996
- 1996-06-19 JP JP8178460A patent/JPH107438A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000037245A (ja) * | 1998-07-21 | 2000-02-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 人工大理石成形体ならびにそれを用いたキッチンカウンター、浴槽とまたは洗い場 |
| WO2001051426A1 (fr) * | 2000-01-14 | 2001-07-19 | Inax Corporation | Produit constitue d'une couche de verre et son procede d'obtention |
| JP2002003260A (ja) * | 2000-06-16 | 2002-01-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 人工大理石とそれを用いたキッチンカウンター、浴槽または洗い場 |
| US7351477B2 (en) | 2004-04-07 | 2008-04-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antifouling coating compositions and coated articles |
| KR101636896B1 (ko) * | 2015-10-14 | 2016-07-06 | 에이케이켐텍 주식회사 | 부착방지 코팅용 조성물 및 이를 이용한 부착방지 코팅층, 부착방지 코팅층을 가지는 부착방지 구조물 |
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