JPH10106047A - Production of optical recording medium - Google Patents
Production of optical recording mediumInfo
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- JPH10106047A JPH10106047A JP26095196A JP26095196A JPH10106047A JP H10106047 A JPH10106047 A JP H10106047A JP 26095196 A JP26095196 A JP 26095196A JP 26095196 A JP26095196 A JP 26095196A JP H10106047 A JPH10106047 A JP H10106047A
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- recording medium
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- optical recording
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光照射に
より情報の、少なくとも記録、または再生を行う光学記
録媒体、特に高密度記録に好適な光学記録媒体の製造方
法に係わる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical recording medium on which information is recorded or reproduced at least by irradiating a laser beam, particularly an optical recording medium suitable for high density recording.
【0002】[0002]
【従来の技術】オーディオ用、ビデオ用その他の各種情
報を記録する光学記録媒体として、その記録、もしくは
再生を光照射によって行う光ディスク、光カード、光磁
気ディスク、相変化光学記録媒体等の、ROM(Rea
d Only Memory)型、追記型、書換え型等
の光学記録媒体があるが、追記型、書換え型等の光磁気
あるいは相変化等による光磁気媒体においては、トラッ
キングサーボ信号等の記録がなされる位相ピット、プリ
グルーブ等の微細凹凸の形成がなされる。2. Description of the Related Art As an optical recording medium for recording various kinds of information for audio, video, and the like, ROM such as an optical disk, an optical card, a magneto-optical disk, and a phase change optical recording medium for recording or reproducing by light irradiation. (Rea
d Only Memory) type, write-once type, and rewritable type optical recording media are available. In magneto-optical media such as write-once type, rewritable type and magneto-optical or phase change, the phase in which tracking servo signals and the like are recorded Fine irregularities such as pits and pregrooves are formed.
【0003】図20に従来の単層構造の光学記録媒体の
概略断面図を示す。FIG. 20 is a schematic sectional view of a conventional optical recording medium having a single-layer structure.
【0004】この光学記録媒体においては、例えばポリ
カーボネート等の透明な、例えば1.2mm厚や、0.
6mm厚の基板20の作製と同時に微細凹凸22を形成
し、この微細凹凸22に第1の誘電体層、記録層、第2
の誘電体層、反射膜の順に材料膜4を積層して、情報記
録層5を形成する。さらにこの情報記録層5に例えば紫
外線硬化性樹脂を数μm積層し、保護膜6を形成した構
成とする。In this optical recording medium, for example, a transparent material such as polycarbonate or the like having a thickness of, for example, 1.2 mm, a thickness of 0.2 mm or less is used.
At the same time as the production of the substrate 20 having a thickness of 6 mm, the fine unevenness 22 is formed, and the first dielectric layer, the recording layer, and the second
The information recording layer 5 is formed by laminating the material films 4 in this order of the dielectric layer and the reflection film. Further, the information recording layer 5 is formed by laminating, for example, an ultraviolet curable resin to a thickness of several μm to form a protective film 6.
【0005】上述したように、この光学記録媒体に用い
る基板20には、いわゆるトラッキングサーボ用の連続
溝、すなわち微細凹凸22が形成されている。As described above, on the substrate 20 used for this optical recording medium, so-called continuous grooves for tracking servo, that is, fine irregularities 22 are formed.
【0006】この微細凹凸22を形成する方法を以下に
示す。A method for forming the fine irregularities 22 will be described below.
【0007】先ず、図21に示すように、表面を充分平
滑に研磨したガラス原盤10を回転基台80上に載置
し、ガラス原盤10を所定の回転数で回転させた状態
で、ガラス原盤10上に、露光することによってアルカ
リ可溶性となるフォトレジスト、いわゆるポジ型レジス
トを、ノズル81から供給して塗布する。First, as shown in FIG. 21, a glass master 10 whose surface has been sufficiently polished is placed on a rotating base 80, and the glass master 10 is rotated at a predetermined number of revolutions. A photoresist which becomes alkali-soluble by exposure, that is, a so-called positive resist is supplied from a nozzle 81 and coated on the substrate.
【0008】次に、図22に示すように、ガラス原盤1
0を回転させ、フォトレジスト82を延伸し、図23に
示すように、ガラス原盤10上にフォトレジスト82の
層を全面的に塗布した状態とする。[0008] Next, as shown in FIG.
The photoresist 82 is stretched by rotating 0, and the layer of the photoresist 82 is applied to the entire surface of the glass master 10 as shown in FIG.
【0009】次に、図24に示すように、記録用レーザ
ー光によりフォトレジスト82を所定のパターンに露光
する。この露光は、ガラス原盤10を回転させながら記
録用レーザー光をガラス原盤10の半径方向に一回転あ
たり等距離ずつ送ることにより、一定のトラックピッチ
でスパイラル状軌跡に沿って行う。Next, as shown in FIG. 24, the photoresist 82 is exposed to a predetermined pattern by a recording laser beam. This exposure is performed along a spiral trajectory at a constant track pitch by sending a recording laser beam in the radial direction of the glass master 10 at equal distances per rotation while rotating the glass master 10.
【0010】次に、ガラス原盤10をアルカリ性現像液
で現像し、露光部を除去する。このようにすると、図2
5Aに示すように、また、図25Bにその拡大図を示す
ように、ガラス原盤10上のフォトレジスト82に、透
孔が穿設されて形成された微細凹凸122が形成され
る。Next, the glass master 10 is developed with an alkaline developer to remove the exposed portions. In this case, FIG.
As shown in FIG. 5A and as an enlarged view of FIG. 25B, fine irregularities 122 formed by forming through holes are formed in the photoresist 82 on the glass master 10.
【0011】このように、図26に示すように、フォト
レジスト82により所定のパターンの微細凹凸122が
形成された後、ガラス原盤10上に、ニッケルメッキ8
を行い、その後ニッケルメッキ8を剥離して、図27に
示すように、微細凹凸122が転写され、微細凹凸22
2を有するスタンパー18を形成する。As shown in FIG. 26, after the fine irregularities 122 having a predetermined pattern are formed by the photoresist 82, the nickel plating 8 is formed on the glass master 10.
Then, the nickel plating 8 is peeled off, and the fine unevenness 122 is transferred as shown in FIG.
A stamper 18 having 2 is formed.
【0012】このスタンパー18は、光学記録媒体を構
成する基板上に形成する情報記録層を構成する微細凹凸
を転写するためのスタンパーとなる。The stamper 18 is a stamper for transferring fine irregularities constituting an information recording layer formed on a substrate constituting an optical recording medium.
【0013】上述のようにして作製したスタンパー18
を用いて、2P(フォトポリマリゼーション)法あるい
は射出成形法によって、図28に示すように、ポリカー
ボネート等の光透過性樹脂よりなる基板20上に圧着
し、図29に示すように、光学記録媒体の情報記録層を
構成する微細凹凸22を形成する。The stamper 18 manufactured as described above
As shown in FIG. 28, the substrate is pressure-bonded onto a substrate 20 made of a light-transmitting resin such as polycarbonate by 2P (photopolymerization) or injection molding, and optical recording is performed as shown in FIG. The fine irregularities 22 forming the information recording layer of the medium are formed.
【0014】その後、図20に示すように、基板20の
微細凹凸22上にAl等の反射膜、相変化材料、光磁気
材料等の材料膜4を積層して情報記録層5を形成する。Thereafter, as shown in FIG. 20, a reflective film made of Al or the like, a material film 4 made of a phase change material, a magneto-optical material or the like is laminated on the fine unevenness 22 of the substrate 20 to form an information recording layer 5.
【0015】さらにこの情報記録層5上には液状光硬化
性樹脂を塗布し、基板20を高速回転させることにより
液状光硬化性樹脂を延伸させ、その後例えば紫外線照射
を行い、液状光硬化性樹脂を硬化させて保護膜6を形成
し、目的とする例えば書換え可能型の光学記録媒体を作
製することができる。Further, a liquid photo-curable resin is applied on the information recording layer 5, and the liquid photo-curable resin is stretched by rotating the substrate 20 at a high speed. Is cured to form a protective film 6, whereby a target, for example, a rewritable optical recording medium can be manufactured.
【0016】この光学記録媒体に対する情報記録層5に
対する情報の記録、読み出し、書換えは、図20中、基
板20側からのレーザー光Lの照射によって行う。The recording, reading, and rewriting of information on the information recording layer 5 on the optical recording medium are performed by irradiating a laser beam L from the substrate 20 side in FIG.
【0017】この光学記録媒体においては、図26にお
いてフォトレジスト82の露光部分によってスタンパー
18が形成され、その後、基板20に転写された部分
の、すなわち、図20に示す基板20側からみて凸型部
分22aが記録部分となる。In this optical recording medium, the stamper 18 is formed by the exposed portion of the photoresist 82 in FIG. 26, and then the stamper 18 is transferred to the substrate 20, that is, the convex portion as viewed from the substrate 20 side shown in FIG. The part 22a becomes a recording part.
【0018】本明細書においては、基板20の微細凹凸
22において、フォトレジスト82に対する露光部分に
よって最終的に形成された部分を”グルーブ”と命名
し、フォトレジスト82の非露光部分によって最終的に
形成された部分を、”ランド”と命名する。In this specification, in the fine irregularities 22 of the substrate 20, a portion finally formed by an exposed portion of the photoresist 82 is named “groove”, and a portion finally formed by an unexposed portion of the photoresist 82 is referred to as “groove”. The formed part is named "land".
【0019】[0019]
【発明が解決しようとする課題】一方、光学記録媒体の
記録情報量の大容量化に伴い、高記録密度化を図る必要
があり、これによって光ピックアップの対物レンズの開
口数N.Aをできるだけ大きくする必要が生じる。この
ように対物レンズの開口数N.Aを大きくする場合、対
物レンズと情報記録層5との間隔は小さく選定する必要
があり、また、この場合光学記録媒体の傾き許容度が減
少することから、情報記録層5と光入射面との距離、す
なわち光透過層の厚さは充分小に、0.3mm以下にす
る必要があり、例えば0.1mm程度とすることが望ま
しい。On the other hand, with the increase in the amount of information recorded on the optical recording medium, it is necessary to increase the recording density, thereby increasing the numerical aperture of the objective lens of the optical pickup. A needs to be as large as possible. Thus, the numerical aperture of the objective lens, N.P. When A is increased, the distance between the objective lens and the information recording layer 5 needs to be selected to be small. In this case, since the inclination tolerance of the optical recording medium decreases, the distance between the information recording layer 5 and the light incident surface is reduced. , That is, the thickness of the light transmitting layer must be sufficiently small, not more than 0.3 mm, for example, desirably about 0.1 mm.
【0020】上述した従来の光学記録媒体においては、
透明な基板20側から光照射がなされるものである。す
なわち従来構造においては基板20が光透過層となる。
従って、基板20を薄く作製すればよいのであるが、こ
の基板20を薄くすることに関しては限界がある。In the above-mentioned conventional optical recording medium,
Light is emitted from the transparent substrate 20 side. That is, in the conventional structure, the substrate 20 becomes a light transmitting layer.
Therefore, it is only necessary to make the substrate 20 thin, but there is a limit in making the substrate 20 thin.
【0021】すなわち、基板20は、例えばポリカーボ
ネート等の光透過性樹脂により作製するが、その厚さを
小とするとき、基板製造直後においては、樹脂の熱収縮
により基板に反りが発生しやすくなることから、情報記
録層の成膜工程やその後の保護膜を塗布する際に注意が
必要となる。That is, the substrate 20 is made of a light-transmitting resin such as polycarbonate, for example. When the thickness is small, the substrate is likely to be warped due to thermal contraction of the resin immediately after the substrate is manufactured. Therefore, care must be taken in the process of forming the information recording layer and the subsequent application of the protective film.
【0022】そこで、図30に示すように、例えば1.
2mmや0.6mmの基板20を用いて、この基板20
上に、従来の光学記録媒体の情報記録層とは順序を逆
に、反射膜94、第2の誘電体層92、記録層90、第
1の誘電体層91の順に積層して情報記録層を形成し、
この情報記録層上に、光を照射して情報の読み出し、あ
るいは書換えを行う光透過層100を、例えば液状光硬
化性樹脂3を用いて、2P法等の方法で厚さ0.3mm
以下に薄く、均一な厚さで、例えば0.1mm程度に形
成した構造の光学記録媒体が提案されている。Therefore, as shown in FIG.
Using a substrate 20 of 2 mm or 0.6 mm,
On the information recording layer, a reflective film 94, a second dielectric layer 92, a recording layer 90, and a first dielectric layer 91 are laminated in the reverse order of the information recording layer of the conventional optical recording medium. To form
On this information recording layer, a light transmitting layer 100 for reading or rewriting information by irradiating light is formed to a thickness of 0.3 mm using a liquid photocurable resin 3 by a method such as the 2P method.
An optical recording medium having a thin and uniform thickness, for example, formed to a thickness of about 0.1 mm has been proposed below.
【0023】一方、上述した従来の光学記録媒体におい
ては、その記録情報は、図20に示す基板20側からみ
て凸型になっている部分(上記命名によるグルーブに相
当する)に記録されている。On the other hand, in the above-described conventional optical recording medium, the recording information is recorded in a convex portion (corresponding to the groove by the above-mentioned name) as viewed from the substrate 20 side shown in FIG. .
【0024】しかしながら、図30に示すように基板2
0側の反対側に形成した光透過層100側から光を照射
して情報の読み出し、あるいは書換えを行う構成とする
と、その記録情報は,図30に示す光透過層100側か
らみて凹型(この場合も上記命名によるグルーブに相当
する)の部分に記録されることになる。However, as shown in FIG.
If information is read or rewritten by irradiating light from the light transmitting layer 100 formed on the side opposite to the 0 side, the recorded information is concave (see FIG. 30) when viewed from the light transmitting layer 100 side. Also in this case, it is recorded in the portion corresponding to the groove by the above naming).
【0025】この場合、図30中、記録再生および書換
えのための実効的なグルーブ幅d2は、基板20の微細
凹凸のグルーブ幅d1 よりも狭くなる。このようにグル
ーブに記録を行う場合、グルーブの幅が狭くなると、再
生信号のキャリアレベルが低下しRF(高周波)信号が
小さくなるという不都合が生じる。In this case, in FIG. 30, the effective groove width d 2 for recording / reproduction and rewriting is smaller than the groove width d 1 of the fine irregularities on the substrate 20. When recording is performed on a groove as described above, when the width of the groove is reduced, the carrier level of the reproduced signal is reduced, and an RF (high frequency) signal is reduced.
【0026】特に、トラックピッチを小さくして、高記
録密度化を図る場合には、問題が生じる。In particular, a problem arises when the track pitch is reduced to increase the recording density.
【0027】そこで、図31に示すように、光透過層1
00から見て凸の部分を情報記録を行う部分とすること
が考えられる。Therefore, as shown in FIG.
It is conceivable that a convex portion viewed from 00 is a portion for recording information.
【0028】この図31に示すような構成を採る場合、
その記録領域に、光透過層100側から見て凸となる部
分、すなわちこの場合、上記命名によるランドでは、そ
の幅d4 が、基板20の微細凹凸のランド幅d3 よりも
実効的な幅が広くなる。In the case of adopting the configuration as shown in FIG. 31,
In the recording area, the portion which is convex when viewed from the light transmitting layer 100 side, i.e. in this case, in the land by the nomenclature, the width d 4 is the effective width than the land width d 3 of the fine irregularities of the substrate 20 Becomes wider.
【0029】ところが、このランドは、図26中のフォ
トレジスト82の非露光部分の、フォトレジスト82と
Niメッキ8との境界面8Lによって形成された部分が
基板20に転写され、基板20の作製と同時に形成され
るものであることから、この部分の境界面8Lはフォト
レジスト82の表面形状によって形成されて表面性に劣
る面となる。However, in this land, the portion of the unexposed portion of the photoresist 82 in FIG. 26 formed by the boundary surface 8L between the photoresist 82 and the Ni plating 8 is transferred to the substrate 20, and the substrate 20 is manufactured. Since the boundary surface 8L is formed at the same time, the boundary surface 8L of this portion is formed by the surface shape of the photoresist 82 and becomes a surface having poor surface properties.
【0030】従って、ランド部分に記録情報を有する、
例えば反射率再生型の相変化光学記録媒体ではノイズが
多くなり、また、トラックピッチのむらによって幅変動
が生じ、再生信号を劣化させる。また、ランド幅を拡大
したい場合にグルーブの幅を細く形成することは困難な
場合がある等の不都合が生じる。Therefore, the land portion has recorded information.
For example, in a reflectivity reproduction type phase change optical recording medium, noise increases and a fluctuation in track pitch causes a fluctuation in width, thereby deteriorating a reproduction signal. In addition, when it is desired to increase the land width, it is difficult to form the groove with a narrow width.
【0031】これに対し、ガラス原盤10とニッケルメ
ッキ8との境界面8Gによって形成された部分が基板2
0に転写されて形成されたグルーブ表面は、平滑に形成
される。On the other hand, the portion formed by the boundary surface 8G between the glass master 10 and the nickel plating 8 corresponds to the substrate 2
The surface of the groove formed by being transferred to 0 is formed smoothly.
【0032】そこで、本発明は、光学記録媒体の記録情
報量の大容量化に伴い、高記録密度化を図り、光透過層
からみて記録情報を有する部分が凸になるようにする。In view of the above, according to the present invention, as the recording information volume of the optical recording medium is increased, the recording density is increased, and the portion having the recording information becomes convex when viewed from the light transmitting layer.
【0033】[0033]
【課題を解決するための手段】本発明は、ポジ型フォト
レジストをガラス原盤に塗布し、現像処理工程後、金属
メッキによりマスタースタンパーを作製し、マスタース
タンパーに、さらに金属メッキを施し、剥離する工程を
奇数回行って、てマザースタンパーを作製し、このマザ
ースタンパーの転写によって、基板に微細凹凸を形成す
る方法で光学記録媒体を作製する。According to the present invention, a positive photoresist is applied to a glass master, and after a development process, a master stamper is manufactured by metal plating, and the master stamper is further subjected to metal plating and peeled off. The process is performed an odd number of times to produce a mother stamper, and an optical recording medium is produced by a method of forming fine irregularities on a substrate by transferring the mother stamper.
【0034】また、本発明は、ネガ型フォトレジストを
ガラス原盤に塗布し、現像処理工程後、金属メッキを行
い、これを剥離してマスタースタンパーを作製し、マス
タースタンパーを用いて、基板に微細凹凸を形成する方
法で、光学記録媒体を作製する。Further, according to the present invention, a negative type photoresist is applied to a glass master, a metal plating is performed after a developing process, and the resultant is peeled to produce a master stamper. An optical recording medium is manufactured by a method of forming unevenness.
【0035】これにより、光学記録媒体の高記録密度化
を実現でき、光透過層からみて、情報記録層を構成する
微細凹凸の凸の部分に情報の記録を行うことができ、実
効的なグルーブ幅を広くすることができ、これによりト
ラックピッチを狭くした場合においても大きなキャリア
レベルおよびRF信号を得ることができる。As a result, a higher recording density of the optical recording medium can be realized, and information can be recorded on the convex portions of the fine irregularities constituting the information recording layer, as viewed from the light transmitting layer, and an effective groove can be formed. The width can be widened, so that a large carrier level and RF signal can be obtained even when the track pitch is narrowed.
【0036】また、特に、ポジ型のフォトレジストを使
用した場合には、光透過層からみて記録情報を有する部
分の表面が、平滑に形成することができ、大きなキャリ
アレベルおよびRF信号を得ることができる。In particular, when a positive photoresist is used, the surface of the portion having recorded information as viewed from the light transmitting layer can be formed smoothly, and a large carrier level and RF signal can be obtained. Can be.
【0037】[0037]
【発明の実施の形態】以下において、ディスク上、いわ
ゆる円板状の光ディスクに適用する場合について説明す
るが、本発明方法は、このような光ディスクや、形状に
限られるものではなく、光磁気ディスク、相変化ディス
ク、その他カード状、シート状等の微細凹凸を情報記録
層に有する各光学記録媒体に適用することができる。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A case where the present invention is applied to a disk, that is, a so-called disk-shaped optical disk will be described below. However, the method of the present invention is not limited to such an optical disk or a shape. The present invention can be applied to various optical recording media having an information recording layer having fine irregularities such as a phase change disk, a card shape, and a sheet shape.
【0038】本発明方法の実施の形態について説明す
る。An embodiment of the method of the present invention will be described.
【0039】以下の各(実施例1〜3)は、図1に示す
ように、光透過性樹脂よりなる基板30上に、少なくと
も順に反射膜94、記録層90を積層し、さらにこの上
に厚さを0.3mm以下の光透過層100を2P(Phot
o Polymerization)法により形成した構成の光学記録媒
体を得る場合である。In each of the following examples (Examples 1 to 3), as shown in FIG. 1, a reflective film 94 and a recording layer 90 are laminated at least in order on a substrate 30 made of a light-transmitting resin. The light transmission layer 100 having a thickness of 0.3 mm or less is
o Polymerization) method to obtain an optical recording medium having a configuration formed by the method.
【0040】(実施例1)先ず、上述したように、表面
を充分平滑に研磨したガラス原盤10を所定の回転数で
回転させた状態で、ガラス原盤10上に、露光すること
によってアルカリ可溶性となるフォトレジスト82、す
なわちポジ型レジストを塗布する。(Example 1) First, as described above, the glass master 10 whose surface has been sufficiently polished is rotated at a predetermined number of revolutions, and the glass master 10 is exposed to light to make it alkali-soluble. A photoresist 82, that is, a positive resist is applied.
【0041】そして、ガラス原盤10を回転させ、フォ
トレジスト82を延伸させ、ガラス原盤10上にフォト
レジスト82の層を塗布した状態とする。Then, the glass master 10 is rotated, the photoresist 82 is stretched, and a layer of the photoresist 82 is applied on the glass master 10.
【0042】次に、図3に示すように記録用レーザー光
によりフォトレジスト82を所定のパターンに露光す
る。このとき、ガラス原盤10を回転させながら記録用
レーザー光をガラス原盤10の半径方向に一回転あたり
等距離ずつ送ることにより、一定のトラックピッチでス
パイラル状に露光する。Next, as shown in FIG. 3, the photoresist 82 is exposed to a predetermined pattern by a recording laser beam. At this time, the recording laser light is sent in the radial direction of the glass master 10 at an equal distance per rotation while rotating the glass master 10, thereby performing spiral exposure at a constant track pitch.
【0043】次に、ガラス原盤10をアルカリ性現像液
で現像し、露光部を除去し、図4に示すように、ガラス
原盤10に微細凹凸を形成する。Next, the glass master 10 is developed with an alkaline developer to remove the exposed portions, and fine irregularities are formed on the glass master 10, as shown in FIG.
【0044】このとき、フォトレジスト82が露光さ
れ、現像液により除去された部分がグルーブ70であ
り、フォトレジスト82が露光されず残存している部分
がランド71である。At this time, the portion where the photoresist 82 is exposed and removed by the developing solution is the groove 70, and the portion where the photoresist 82 is not exposed and remains is the land 71.
【0045】上述のようにして、フォトレジスト82に
より所定の微細凹凸を形成した後、図5に示すように、
ガラス原盤10上にニッケルメッキ8を行い、その後図
6に示すようにニッケルメッキ8を剥離して、マスター
スタンパー28を作製する。次に、図7に示すようにマ
スタースタンパー28上に、例えば重クロム酸溶液によ
りマスタースタンパー28の表面に酸処理を行い、剥離
被膜50を形成する。After the predetermined fine irregularities are formed by the photoresist 82 as described above, as shown in FIG.
Nickel plating 8 is performed on the glass master 10, and then the nickel plating 8 is peeled off as shown in FIG. 6 to produce a master stamper 28. Next, as shown in FIG. 7, the surface of the master stamper 28 is subjected to an acid treatment with a dichromic acid solution, for example, to form a release coating 50 on the master stamper 28.
【0046】次に、図8に示すように、マスタースタン
パー28上に剥離被膜50を介してニッケルメッキ8を
行い、その後図9に示すようにニッケルを剥離して、マ
ザースタンパー38を作製する。Next, as shown in FIG. 8, nickel plating 8 is performed on the master stamper 28 with a release film 50 interposed therebetween, and then, as shown in FIG. 9, the nickel is peeled off to produce a mother stamper 38.
【0047】上述のようにして作製したマザースタンパ
ー38を、図10に示すように例えば2P法により、ポ
リカーボネート等の光透過性樹脂よりなる基板30上に
圧着し、光学記録媒体の情報記録層を構成する微細凹凸
32を転写する。The mother stamper 38 manufactured as described above is pressed on a substrate 30 made of a light-transmitting resin such as polycarbonate by, for example, the 2P method as shown in FIG. The fine irregularities 32 to be constituted are transferred.
【0048】上述した例においては、図6に示すマスタ
ースタンパー28の凸部28aの面は、平滑面とされた
ガラス原盤10との接触面であるから、平滑であり、こ
のマスタースタンパー28の凸部は図9に示すようにマ
ザースタンパー38の凹部38aとなり、このマザース
タンパー38が基板30上に圧着されるので、基板30
に形成された微細凹凸32の、基板30の反対側からみ
た場合に凸部になる部分は、平滑面となる。In the above-described example, the surface of the convex portion 28a of the master stamper 28 shown in FIG. 6 is a smooth surface because it is a contact surface with the glass master 10 and is smooth. The portion becomes a concave portion 38a of the mother stamper 38 as shown in FIG. 9, and this mother stamper 38 is pressed on the substrate 30.
The portion of the fine irregularities 32 formed on the substrate 30 that becomes a projection when viewed from the opposite side of the substrate 30 becomes a smooth surface.
【0049】このように基板30の反対側からみた場合
に凸部になる部分は、図3において、露光され、除去さ
れた部分、すなわちグルーブの部分に相当し、この部分
に情報記録がなされる。The protruding portion when viewed from the opposite side of the substrate 30 corresponds to the exposed and removed portion in FIG. 3, that is, the groove portion, and information is recorded on this portion. .
【0050】その後、基板30の微細凹凸32上に、材
料膜を形成する場合、その材料膜としては、Alスパッ
タリング等により、反射膜94を厚さ60nm形成し、
この反射膜94上に厚さ18nmのZnSとSiO2 の
混合物よりなる第2の誘電体層92を被着形成し、この
第2の誘電体層92上に記録層として厚さ24nmのG
eSbTe合金からなる相変化材料を被着する。Thereafter, when a material film is formed on the fine irregularities 32 on the substrate 30, a reflective film 94 is formed to a thickness of 60 nm by Al sputtering or the like.
A second dielectric layer 92 of a mixture of ZnS and SiO 2 having a thickness of 18 nm is formed on the reflective film 94, and a G layer having a thickness of 24 nm is formed on the second dielectric layer 92 as a recording layer.
A phase change material consisting of an eSbTe alloy is deposited.
【0051】そして、この上に光硬化性樹脂3を介して
0.1mmの光透過層100を2P法により形成する。Then, a light-transmitting layer 100 having a thickness of 0.1 mm is formed thereon with a light-curing resin 3 interposed therebetween by a 2P method.
【0052】このような構成の光学記録媒体には、記録
層90、反射膜94、第1および第2の誘電体層91お
よび92の多重干渉効果により光学的特性の、例えば反
射率等の設定がなされ、また、特に反射膜94と第2の
誘電体層92により熱的特性が設定できるという特性を
有する。In the optical recording medium having such a configuration, the optical characteristics, such as the reflectance, are set by the multiple interference effect of the recording layer 90, the reflection film 94, and the first and second dielectric layers 91 and 92. In addition, in particular, there is a characteristic that thermal characteristics can be set by the reflection film 94 and the second dielectric layer 92.
【0053】上述のようにして作製した基板30を用い
て、相変化型光学記録媒体を作製したとき、この光学記
録媒体は、記録レーザーパワー6mW、消去レーザーパ
ワー2.7mW、再生レーザーパワー0.5mW、線速
3m/s、マーク長0.33μmの条件でグルーブの部
分に情報信号を記録し、再生を行ったところ、C/N比
は、50dB以上となった。When a phase-change optical recording medium was produced using the substrate 30 produced as described above, this optical recording medium had a recording laser power of 6 mW, an erasing laser power of 2.7 mW, and a reproducing laser power of 0.2 mW. When an information signal was recorded on the groove portion under the conditions of 5 mW, a linear velocity of 3 m / s, and a mark length of 0.33 μm, and reproduction was performed, the C / N ratio became 50 dB or more.
【0054】一方、図30に示す従来の構造の光学記録
媒体を用いて同様の条件でグルーブの部分に情報信号を
記録し、再生を行ったところ、C/N比は、53dBと
なった。すなわち、本発明方法により作製した光学記録
媒体の方が、従来の光学記録媒体に比較して、優れたキ
ャリアレベルを有することがわかる。On the other hand, when an information signal was recorded in the groove portion under the same conditions using the optical recording medium having the conventional structure shown in FIG. 30 and reproduction was performed, the C / N ratio was 53 dB. That is, it is understood that the optical recording medium manufactured by the method of the present invention has an excellent carrier level as compared with the conventional optical recording medium.
【0055】また、図31に示す従来の構造の光学記録
媒体を用いて、ランドの部分(ランド幅0.35μm)
に情報信号を記録し、他の条件を同様とし、再生を行っ
たところ、本発明方法により作製した光学記録媒体に較
べ、ノイズレベルが1.5dB上がり、トラックピッチ
むらが増大した。Using an optical recording medium having the conventional structure shown in FIG. 31, a land portion (land width 0.35 μm) was used.
When an information signal was recorded on the optical recording medium and the reproduction was performed under the same other conditions, the noise level was increased by 1.5 dB and the track pitch unevenness was increased as compared with the optical recording medium manufactured by the method of the present invention.
【0056】すなわち、本発明方法により作製した光学
記録媒体を用いることにより、狭トラックピッチ化した
場合でも、大きなキャリアレベル及びRF信号が得られ
る。また、ノイズレベルが低くすることができ、結果と
して高いC/N比をもって信号再生することができた。That is, by using the optical recording medium manufactured by the method of the present invention, a large carrier level and an RF signal can be obtained even when the track pitch is narrowed. Further, the noise level could be reduced, and as a result, the signal could be reproduced with a high C / N ratio.
【0057】また、上述した実施例1では、マスタース
タンパー28から1回の転写を経て作製されたマザース
タンパー38を用いて光学記録媒体の情報記録層を構成
する微細凹凸の転写を行ったが、マスタースタンパー2
8にNiメッキを施し、剥離する工程を奇数回行って作
製したマザースタンパー38を用いてもよい。In the above-described first embodiment, the transfer of the fine irregularities constituting the information recording layer of the optical recording medium was performed by using the mother stamper 38 which was produced through one transfer from the master stamper 28. Master stamper 2
8 may be subjected to a step of applying an Ni plating and peeling it an odd number of times.
【0058】次に、同様にポジ型のフォトレジストを用
いた場合の、他の例について説明する。Next, another example in which a positive photoresist is used will be described.
【0059】(実施例2)上記(実施例1)と同様の方
法により、図3〜図6に示すように、マスタースタンパ
ー28を作製する。(Example 2) A master stamper 28 is manufactured by the same method as in the above (Example 1), as shown in FIGS.
【0060】次に、図11に示すように、マスタースタ
ンパー28上に液状の光硬化性樹脂3を塗布、延伸し、
ガラス板40を圧着し、マスタースタンパー28に形成
された微細凹凸の転写を行い、紫外線の照射を行い、液
状光硬化性樹脂3の硬化を行い、図12に示すように、
マスタースタンパー28から剥離し、ガラススタンパー
48を作製する。Next, as shown in FIG. 11, the liquid photo-curable resin 3 is applied on the master stamper 28 and stretched.
The glass plate 40 is pressed, the fine irregularities formed on the master stamper 28 are transferred, the ultraviolet light is irradiated, and the liquid photo-curable resin 3 is cured, as shown in FIG.
The glass stamper 48 is manufactured by peeling off the master stamper 28.
【0061】次に、図13に示すように、このガラスス
タンパー38の微細凹凸形成面側に波長200nm程度
の強紫外線を照射する。Next, as shown in FIG. 13, the surface of the glass stamper 38 on which the fine irregularities are formed is irradiated with strong ultraviolet rays having a wavelength of about 200 nm.
【0062】このように紫外線を照射することにより、
ガラススタンパー38の表面性の改善を図ることがで
き、剥離性が向上する。By irradiating ultraviolet rays in this way,
The surface properties of the glass stamper 38 can be improved, and the peelability can be improved.
【0063】上述のようにして作製したガラススタンパ
ー48を、図14に示すように、例えば2P法により、
ポリカーボネート等の光透過性樹脂よりなる基板30上
に圧着し、最終的に光学記録媒体の情報記録層を構成す
る微細凹凸32を転写する。上述した例は、図6に示す
マスタースタンパー28の凸部28aは、ガラス原盤1
0との接触面であるから、平滑であり、このマスタース
タンパー28の凸部は図12に示すように、ガラススタ
ンパー48の凹部48aとなり、このガラススタンパー
48が基板30上に圧着されるので、基板30に形成さ
れた微細凹凸32の、基板30の反対側、すなわち情報
読み出し側からみた場合に凸部になる部分は平滑面とな
る。As shown in FIG. 14, the glass stamper 48 manufactured as described above is
The substrate is pressure-bonded onto a substrate 30 made of a light-transmitting resin such as polycarbonate, and finally the fine irregularities 32 constituting the information recording layer of the optical recording medium are transferred. In the example described above, the convex portion 28a of the master stamper 28 shown in FIG.
Since it is a contact surface with 0, it is smooth, and the convex portion of this master stamper 28 becomes a concave portion 48a of the glass stamper 48 as shown in FIG. The portion of the fine unevenness 32 formed on the substrate 30 that becomes a projection when viewed from the opposite side of the substrate 30, that is, the information reading side, is a smooth surface.
【0064】このように基板30の反対側からみた場合
に凸部になる部分は、図3において、フォトレジストが
露光され、除去された部分、すなわちグルーブの部分に
相当し、この部分に情報記録がなされる。The portion which becomes a projection when viewed from the opposite side of the substrate 30 corresponds to the portion where the photoresist has been exposed and removed in FIG. 3, that is, the groove portion, and information recording is performed on this portion. Is made.
【0065】その後、上述の例と同様の方法により、A
lスパッタリング等により、反射膜94、第2の誘電体
層92、記録層90、第1の誘電体層91、および光透
過層100を形成し、光学記録媒体を作製する。Thereafter, A is set in the same manner as in the above example.
The reflection film 94, the second dielectric layer 92, the recording layer 90, the first dielectric layer 91, and the light transmitting layer 100 are formed by sputtering or the like, and an optical recording medium is manufactured.
【0066】上述のようにして作製した基板30を用い
て、相変化型光学記録媒体を作製したとき、この光学記
録媒体は、記録レーザーパワー6mW、消去レーザーパ
ワー2.7mW、再生レーザーパワー0.5mW、線速
3m/s、マーク長0.33μmの条件でグルーブの部
分に情報信号を記録し、再生を行ったところ、C/N比
は、50dB以上となった。When a phase-change optical recording medium was produced using the substrate 30 produced as described above, this optical recording medium had a recording laser power of 6 mW, an erasing laser power of 2.7 mW, and a reproducing laser power of 0.2 mW. When an information signal was recorded on the groove portion under the conditions of 5 mW, a linear velocity of 3 m / s, and a mark length of 0.33 μm, and reproduction was performed, the C / N ratio became 50 dB or more.
【0067】一方、図30に示す従来の構造の光学記録
媒体を用いて、同様の条件でグルーブの部分に情報信号
を記録し、再生を行ったところ、C/N比は、53dB
となった。すなわち、本発明方法により作製した光学記
録媒体の方が、従来の光学記録媒体に比較して、優れた
キャリアレベルを有することがわかる。On the other hand, using the optical recording medium having the conventional structure shown in FIG. 30 and recording and reproducing information signals in the groove portion under the same conditions, the C / N ratio was 53 dB.
It became. That is, it is understood that the optical recording medium manufactured by the method of the present invention has an excellent carrier level as compared with the conventional optical recording medium.
【0068】また、図31に示す従来の構造の光学記録
媒体を用いてランドの部分(ランド幅0.35μm)に
情報信号を記録し、他の条件を同様とし、再生を行った
ところ、本発明方法により作製した光学記録媒体に較
べ、ノイズレベルが1.5dB上がり、トラックピッチ
むらが増大した。An information signal was recorded on the land (land width 0.35 μm) using the optical recording medium having the conventional structure shown in FIG. 31 and reproduction was performed under the same other conditions. As compared with the optical recording medium manufactured by the method of the present invention, the noise level was increased by 1.5 dB, and the track pitch unevenness was increased.
【0069】すなわち、本発明方法により作製した光学
記録媒体を用いることにより、狭トラックピッチ化した
場合でも、大きなキャリアレベル及びRF信号が得られ
る。また、ノイズレベルが低くすることができ、結果と
して高いC/N比をもって信号再生することができた。That is, by using the optical recording medium manufactured by the method of the present invention, a large carrier level and an RF signal can be obtained even when the track pitch is narrowed. Further, the noise level could be reduced, and as a result, the signal could be reproduced with a high C / N ratio.
【0070】また、上述した(実施例2)では、ガラス
板を用いたが、この他にポリカーボネート、アクリル等
の樹脂を使用することも可能である。Further, in the above (Example 2), a glass plate is used, but other resins such as polycarbonate and acrylic may be used.
【0071】次に、ネガ型のフォトレジストを用いた場
合の例について説明する。Next, an example in which a negative photoresist is used will be described.
【0072】(実施例3)表面を充分平滑に研磨したガ
ラス原盤10を所定の回転数で回転させた状態で、ガラ
ス原盤10上に、露光された部分が現像液に対して不溶
性になるフォトレジスト83、すなわちネガ型レジス
ト、例えば(株)東京応化工業社製「OMR−83」を
塗布する。(Example 3) In a state where the glass master 10 whose surface has been sufficiently polished is rotated at a predetermined number of revolutions, the exposed portion of the glass master 10 becomes insoluble in a developing solution. A resist 83, that is, a negative resist, for example, “OMR-83” manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. is applied.
【0073】そして、ガラス原盤10を回転させ、フォ
トレジスト83を延伸させ、ガラス原盤10上にフォト
レジスト83の層を積層した状態とする。Then, the glass master 10 is rotated, the photoresist 83 is stretched, and a layer of the photoresist 83 is laminated on the glass master 10.
【0074】次に、図15に示すように対物レンズ85
で集光された記録用レーザー光によりネガ型フォトレジ
スト83を所定のパターンに露光する。Next, as shown in FIG.
The negative type photoresist 83 is exposed to a predetermined pattern by the recording laser beam condensed in step (1).
【0075】次に、ガラス原盤10を現像液で現像し、
露光部(グルーブ)83aを残存させる。このようにす
ると図16に示すように、ガラス原盤10に微細凹凸が
形成される。Next, the glass master 10 is developed with a developing solution.
The exposed portion (groove) 83a is left. By doing so, fine irregularities are formed on the glass master 10 as shown in FIG.
【0076】上述のようにして、ネガ型フォトレジスト
83により所定の微細凹凸を形成した後、図17に示す
ように、ガラス原盤10上にニッケルメッキ8を行い、
その後図18に示すようにニッケルを剥離して、マスタ
ースタンパー58を作製する。As described above, after predetermined fine irregularities are formed by the negative photoresist 83, as shown in FIG. 17, nickel plating 8 is performed on the glass master disk 10,
Thereafter, as shown in FIG. 18, the nickel is peeled off, and a master stamper 58 is manufactured.
【0077】上述のようにして作製したマスタースタン
パー58を、図19に示すように、例えば2P法によ
り、ポリカーボネート等の光透過性樹脂よりなる基板3
0上に圧着し、光学記録媒体の情報記録層を構成する微
細凹凸32を転写する。As shown in FIG. 19, the master stamper 58 manufactured as described above is mounted on a substrate 3 made of a light-transmitting resin such as polycarbonate by a 2P method, for example.
Then, the fine irregularities 32 constituting the information recording layer of the optical recording medium are transferred.
【0078】その後、基板30の微細凹凸32上に、A
lスパッタリング等により、反射膜94を厚さ60nm
形成し、この反射膜94上に厚さ18nmのZnSとS
iO2 の混合物よりなる第2の誘電体層92を被着形成
する。Thereafter, the fine irregularities 32 on the substrate 30
l The reflective film 94 is formed to a thickness of 60 nm by sputtering or the like.
18 nm thick ZnS and S are formed on the reflective film 94.
A second dielectric layer 92 of a mixture of iO 2 is deposited.
【0079】この第2の誘電体層92上に記録層として
厚さ24nmのGeSbTe合金からなる相変化材料を
被着し、そして、この上に光硬化性樹脂3を介して0.
1mmの光透過層100を2P法により形成する。On the second dielectric layer 92, a phase change material made of a GeSbTe alloy having a thickness of 24 nm is applied as a recording layer.
A 1 mm light transmitting layer 100 is formed by a 2P method.
【0080】上述のようにして作製した基板30を用い
て、相変化型光学記録媒体を作製した場合において、記
録レーザーパワー6mW、消去レーザーパワー2.7m
W、再生レーザーパワー0.5mW、線速3m/s、マ
ーク長0.33μmの条件でグルーブの部分に情報信号
を記録し、再生を行ったところ、C/N比は、50dB
以上となった。When a phase change type optical recording medium is manufactured using the substrate 30 manufactured as described above, the recording laser power is 6 mW and the erasing laser power is 2.7 m.
When an information signal was recorded in the groove portion under the conditions of W, a reproduction laser power of 0.5 mW, a linear velocity of 3 m / s, and a mark length of 0.33 μm, and reproduction was performed, the C / N ratio was 50 dB.
That's all.
【0081】一方、図30に示す従来の構造の光学記録
媒体を用いて同様の条件でグルーブの部分に情報信号を
記録し、再生を行ったところ、C/N比は、53dBと
なった。すなわち、本発明方法により作製した光学記録
媒体の方が、従来の光学記録媒体に比較して、優れたキ
ャリアレベルを有することがわかる。On the other hand, when an information signal was recorded on the groove portion under the same conditions using the optical recording medium having the conventional structure shown in FIG. 30 and reproduction was performed, the C / N ratio was 53 dB. That is, it is understood that the optical recording medium manufactured by the method of the present invention has an excellent carrier level as compared with the conventional optical recording medium.
【0082】また、図31に示す従来の構造の光学記録
媒体を用いてランドの部分(ランド幅0.35μm)に
情報信号を記録し、他の条件を同様とし、再生を行った
ところ、本発明方法により作製した光学記録媒体に較
べ、ノイズレベルが1.5dB上がり、トラックピッチ
むらが増大した。An information signal was recorded on the land (land width: 0.35 μm) using the optical recording medium having the conventional structure shown in FIG. 31 and reproduction was performed under the same other conditions. As compared with the optical recording medium manufactured by the method of the present invention, the noise level was increased by 1.5 dB, and the track pitch unevenness was increased.
【0083】すなわち、本発明方法により作製した光学
記録媒体を用いることにより、狭トラックピッチ化した
場合でも、大きなキャリアレベル及びRF信号が得られ
る。また、ノイズレベルが低くすることができ、結果と
して高いC/N比をもって信号再生することができた。That is, by using the optical recording medium manufactured by the method of the present invention, a large carrier level and an RF signal can be obtained even when the track pitch is narrowed. Further, the noise level could be reduced, and as a result, the signal could be reproduced with a high C / N ratio.
【0084】上述の(実施例1〜3)においては、光透
過層100からみて、情報記録層を構成する微細凹凸の
凸の部分に情報の記録を行うことができたため、実効的
なグルーブ幅を広くすることができ、これによりトラッ
クピッチを狭くした場合においても大きなキャリアレベ
ルおよびRF信号を得られることがわかった。In the above (Examples 1 to 3), information can be recorded on the convex portions of the fine irregularities constituting the information recording layer, as viewed from the light transmitting layer 100, so that the effective groove width is obtained. It has been found that a large carrier level and a large RF signal can be obtained even when the track pitch is narrowed.
【0085】また、特に、ポジ型のフォトレジストを使
用した場合には、光透過層100からみて記録情報を有
する部分の表面を、平滑に形成することができるため、
ノイズの低減を図ることができ、大きなキャリアレベル
およびRF信号を得ることができた。In particular, when a positive type photoresist is used, the surface of the portion having recorded information as viewed from the light transmitting layer 100 can be formed smoothly.
Noise was reduced, and a large carrier level and RF signal were obtained.
【0086】上述した光学記録媒体は、基板30上に、
順に反射膜94、第2の誘電体層92、記録層90、第
1の誘電体層91を積層した例について説明したが、本
発明はこの例に限定されることなく、図2に示すよう
に、反射膜94の上に記録層90を積層し、記録層90
の上に光透過性樹脂3を介して光透過層100を設けた
構成とすることもできる。The above-described optical recording medium is provided on a substrate 30.
Although an example in which the reflective film 94, the second dielectric layer 92, the recording layer 90, and the first dielectric layer 91 are sequentially stacked has been described, the present invention is not limited to this example, and as shown in FIG. Then, a recording layer 90 is laminated on the reflective film 94, and the recording layer 90
The light transmission layer 100 may be provided on the light transmission layer 100 via the light transmission resin 3.
【0087】上述の例においては、基板30は、ポリカ
ーボネート等の光透過性樹脂を用いたが、この他にガラ
ス、アクリル樹脂、ポリオレフィン系樹脂等の透明材料
を用いることができる。In the above-described example, the substrate 30 is made of a light-transmitting resin such as polycarbonate. Alternatively, a transparent material such as glass, acrylic resin, or polyolefin resin may be used.
【0088】また、基板30上に情報記録層を構成する
微細凹凸32を形成する方法についても、上述した2P
法の他にもスピナー法、射出成形法等が挙げられる。The method for forming the fine irregularities 32 constituting the information recording layer on the substrate 30 is also described in the above 2P.
In addition to the method, a spinner method, an injection molding method and the like can be mentioned.
【0089】また、記録層90は、カルコゲナイトすな
わちカルコゲン化合物あるいば単体のカルコゲンによっ
ても構成することができる。The recording layer 90 can also be composed of chalcogenite, that is, a chalcogen compound or chalcogen alone.
【0090】例えば、Te、Seの各単体、さらにこれ
らのカルコゲナイトのGeSbTe、GeTe、InS
bTeAg、InSeTlCo、InSbSe、Bi2
Te3 、BiSe、Sb2 Se3 、Sb2 Te3 等のカ
ルコゲナイト系材料を用いることができる。For example, each of Te and Se alone, and these chalcogenites such as GeSbTe, GeTe and InS
bTeAg, InSeTlCo, InSbSe, Bi 2
Chalcogenite-based materials such as Te 3 , BiSe, Sb 2 Se 3 , and Sb 2 Te 3 can be used.
【0091】また、第1および第2の誘電体層91およ
び92としては、Al、Si等の金属および半金属元素
の窒化物、酸化物、硫化物である。例えばAlN、Si
3 N4 、SiO2 、Al2 O3 、ZnS、MgF2 等を
用いることができる。The first and second dielectric layers 91 and 92 are nitrides, oxides, and sulfides of metals such as Al and Si and metalloid elements. For example, AlN, Si
3 N 4, SiO 2, Al 2 O 3, ZnS, may be used MgF 2 or the like.
【0092】但し、これらの材料は半導体レーザ領域に
おいて吸収の無いものであることが条件となる。However, the condition is that these materials have no absorption in the semiconductor laser region.
【0093】反射膜94は、熱伝導率が0.0004〜
2.2(J/(cm・K・s))の値を有する金属元
素、半金属元素、半導体元素およびそれらの化合物、あ
るいは混合物を用いることができる。The reflection film 94 has a thermal conductivity of 0.0004 to
A metal element, a metalloid element, a semiconductor element, a compound thereof, or a mixture thereof having a value of 2.2 (J / (cm · K · s)) can be used.
【0094】なお、上述した実施例で用いた光ディスク
ドライブの光学系は、レーザー波長λ=635nm、対
物レンズの開口数NA=0.8とする。The optical system of the optical disk drive used in the above embodiment has a laser wavelength λ = 635 nm and a numerical aperture NA of the objective lens = 0.8.
【0095】本発明は、ポジ型フォトレジストをガラス
原盤に塗布し、現像処理工程後、金属メッキを施し、こ
れを剥離してマスタースタンパーを作製し、マスタース
タンパーに、さらに金属メッキを施し、剥離する工程を
奇数回行ってマザースタンパーを作製し、このマザース
タンパーを用いて、基板に微細凹凸を形成する方法で光
学記録媒体を作製するものである。According to the present invention, a positive type photoresist is applied to a glass master, a metal plate is applied after a development treatment step, and the resultant is peeled to produce a master stamper. This step is performed an odd number of times to produce a mother stamper, and an optical recording medium is produced by using this mother stamper to form fine irregularities on a substrate.
【0096】また、本発明は、ネガ型フォトレジストを
ガラス原盤に塗布し、現像処理工程後、金属メッキを行
い、これを剥離してマスタースタンパーを作製し、マス
タースタンパーを用いて、基板に微細凹凸を形成する方
法で、光学記録媒体を作製するものである。Further, according to the present invention, a negative type photoresist is applied to a glass master, and after a development process, metal plating is performed. The metal plate is peeled off to produce a master stamper. An optical recording medium is manufactured by a method of forming irregularities.
【0097】これにより、光学記録媒体の高記録密度化
を実現でき、光透過層からみて、情報記録層を構成する
微細凹凸の凸の部分に情報の記録を行うことができ、実
効的なグルーブ幅を広くすることができ、これによりト
ラックピッチを狭くした場合においても大きなキャリア
レベルおよびRF信号を得ることができた。As a result, a high recording density of the optical recording medium can be realized, and information can be recorded on the convex portions of the fine irregularities constituting the information recording layer, as viewed from the light transmitting layer, and an effective groove can be formed. The width could be widened, so that a large carrier level and RF signal could be obtained even when the track pitch was narrowed.
【0098】また、特に、ポジ型のフォトレジストを使
用した場合には、光透過層からみて記録情報を有する部
分の表面が、平滑に形成することができ、大きなキャリ
アレベルおよびRF信号を得ることができた。In particular, when a positive photoresist is used, the surface of the portion having recorded information as viewed from the light transmitting layer can be formed smoothly, and a large carrier level and RF signal can be obtained. Was completed.
【0099】[0099]
【発明の効果】本発明によれば、光学記録媒体の高記録
密度化を実現でき、光透過層からみて、情報記録層を構
成する微細凹凸の凸の部分に情報の記録を行うことがで
き、実効的なグルーブ幅を広くすることができ、これに
よりトラックピッチを狭くした場合においても大きなキ
ャリアレベルおよびRF信号を得ることができた。According to the present invention, a high recording density of an optical recording medium can be realized, and information can be recorded on the convex portions of the fine irregularities constituting the information recording layer when viewed from the light transmitting layer. As a result, the effective groove width can be widened, whereby a large carrier level and RF signal can be obtained even when the track pitch is narrowed.
【0100】また、特に、ポジ型のフォトレジストを使
用した場合には、光透過層からみて記録情報を有する部
分の表面が、平滑に形成することができ、大きなキャリ
アレベルおよびRF信号を得ることができた。In particular, when a positive type photoresist is used, the surface of the portion having recorded information as viewed from the light transmitting layer can be formed smoothly, and a large carrier level and RF signal can be obtained. Was completed.
【図1】本発明方法により作製した光学記録媒体の概略
断面図を示す。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical recording medium manufactured by the method of the present invention.
【図2】本発明方法により作製した光学記録媒体の概略
断面図を示す。FIG. 2 is a schematic sectional view of an optical recording medium manufactured by the method of the present invention.
【図3】本発明方法による光学記録媒体の一製造工程図
を示す。FIG. 3 is a view showing a manufacturing process of an optical recording medium according to the method of the present invention.
【図4】本発明方法による光学記録媒体の一製造工程図
を示す。FIG. 4 is a view showing one manufacturing process of an optical recording medium according to the method of the present invention.
【図5】ガラス原盤上にニッケルメッキを行った状態図
を示す。FIG. 5 shows a state diagram in which nickel plating is performed on a glass master.
【図6】ニッケルメッキを剥離し、マスタースタンパー
を作製した状態図を示す。FIG. 6 shows a state diagram in which a nickel stamp is peeled off to produce a master stamper.
【図7】マスタースタンパーに剥離被膜を塗布した状態
図を示す。FIG. 7 shows a state diagram in which a release coating is applied to a master stamper.
【図8】マスタースタンパーにニッケルメッキを施した
状態を示す。FIG. 8 shows a state where a nickel stamp is applied to a master stamper.
【図9】マザースタンパーを剥離した図を示す。FIG. 9 shows a view in which the mother stamper is peeled off.
【図10】光学記録媒体の基板にスタンパーにより微細
凹凸を転写する状態図を示す。FIG. 10 shows a state diagram in which fine irregularities are transferred to a substrate of an optical recording medium by a stamper.
【図11】ガラススタンパーの作製工程図を示す。FIG. 11 shows a manufacturing process diagram of a glass stamper.
【図12】ガラススタンパーの作製工程図を示す。FIG. 12 shows a manufacturing process diagram of a glass stamper.
【図13】ガラススタンパーの作製工程図を示す。FIG. 13 shows a manufacturing process diagram of a glass stamper.
【図14】光学記録媒体の基板にガラススタンパーによ
り微細凹凸を転写する状態図を示す。FIG. 14 is a diagram showing a state in which fine irregularities are transferred to a substrate of an optical recording medium by a glass stamper.
【図15】本発明方法によるネガ型フォトレジストを用
いた場合の光学記録媒体の一製造工程図を示す。FIG. 15 is a manufacturing process diagram of an optical recording medium when a negative photoresist according to the method of the present invention is used.
【図16】ネガ型フォトレジストの現像処理を行った後
のガラス基板を示す。FIG. 16 shows the glass substrate after the development processing of the negative photoresist has been performed.
【図17】ガラス基板上にニッケルメッキを行った状態
を示す。FIG. 17 shows a state where nickel plating is performed on a glass substrate.
【図18】ガラス基板上のニッケルメッキを剥離した状
態を示す。FIG. 18 shows a state where nickel plating on a glass substrate is peeled off.
【図19】光学記録媒体の基板にマスタースタンパーに
より微細凹凸を転写する状態図を示す。FIG. 19 shows a state diagram in which fine irregularities are transferred to a substrate of an optical recording medium by a master stamper.
【図20】従来の単層構造の光学記録媒体の概略断面図
を示す。FIG. 20 is a schematic sectional view of a conventional optical recording medium having a single-layer structure.
【図21】光学記録媒体の原盤の製造工程図を示す。FIG. 21 is a diagram showing a manufacturing process of an optical recording medium master.
【図22】光学記録媒体の原盤の製造工程図を示す。FIG. 22 shows a manufacturing process diagram of an optical recording medium master.
【図23】光学記録媒体の原盤の製造工程図を示す。FIG. 23 shows a manufacturing process diagram of an original master of an optical recording medium.
【図24】光学記録媒体の原盤の製造工程図を示す。FIG. 24 shows a manufacturing process diagram of an optical recording medium master.
【図25】A 露光後の原盤の概略斜視図を示す。 B 露光後の原盤に形成された微細凹凸の拡大図を示
す。FIG. 25 shows a schematic perspective view of a master after exposure. B shows an enlarged view of fine irregularities formed on the master after exposure.
【図26】露光後の原盤にニッケルメッキを施した状態
の概略断面図を示す。FIG. 26 is a schematic cross-sectional view showing a state where nickel plating has been applied to a master after exposure.
【図27】スタンパーの概略断面図を示す。FIG. 27 is a schematic sectional view of a stamper.
【図28】光学記録媒体の基板にスタンパーにより微細
凹凸を転写する状態図を示す。FIG. 28 shows a state diagram in which fine irregularities are transferred to a substrate of an optical recording medium by a stamper.
【図29】スタンパーにより微細凹凸を形成した基板の
概略断面図を示す。FIG. 29 is a schematic sectional view of a substrate on which fine irregularities are formed by a stamper.
【図30】グルーブ部分に情報記録を有し、光透過層側
から情報の読み出しを行う光学記録媒体の概略断面図を
示す。FIG. 30 is a schematic cross-sectional view of an optical recording medium having information recording in a groove portion and reading information from a light transmitting layer side.
【図31】ランド部分に情報記録を有し、光透過層側か
ら情報の読み出しを行う光学記録媒体の概略断面図を示
す。FIG. 31 is a schematic cross-sectional view of an optical recording medium having information recording on a land portion and reading information from a light transmitting layer side.
3 液状光硬化性樹脂、20,30 基板 22,3
2,122,222 微細凹凸、4,94 反射膜、5
情報記録層、6 保護膜、8 ニッケルメッキ、8G
ガラス原盤とNiメッキとの境界面、8L フォトレ
ジストとNiメッキとの境界面、10 ガラス原盤、1
8 スタンパー、22,32 微細凹凸、22a 凸型
部分、28,58 マスタースタンパー、28a マス
タースタンパーの凸部、38 マザースタンパー、38
a 凹部、40 ガラス板、48ガラススタンパー、4
8a ガラススタンパーの凸部、50 剥離被膜、70
グルーブ、71 ランド、80 回転基台、81 ノズ
ル、82 ポジ型フォトレジスト、83 ネガ型フォト
レジスト、83a 露光部分、85 対物レンズ、90
記録層、91 第1の誘電体層、92 第2の誘電体
層、100 光透過層3 Liquid photocurable resin, 20, 30 Substrate 22, 3
2,122,222 Fine irregularities, 4,94 Reflective film, 5
Information recording layer, 6 protective film, 8 nickel plating, 8G
Interface between glass master and Ni plating, interface between 8L photoresist and Ni plating, 10 glass master, 1
8 stamper, 22, 32 fine irregularities, 22a convex portion, 28, 58 master stamper, 28a convex portion of master stamper, 38 mother stamper, 38
a recess, 40 glass plate, 48 glass stamper, 4
8a convex part of glass stamper, 50 release coating, 70
Groove, 71 land, 80 rotating base, 81 nozzle, 82 positive photoresist, 83 negative photoresist, 83a exposed part, 85 objective lens, 90
Recording layer, 91 first dielectric layer, 92 second dielectric layer, 100 light transmitting layer
Claims (3)
布し、現像処理工程後、金属メッキを行い、これを剥離
してマスタースタンパーを作製し、 該マスタースタンパーに、さらに金属メッキを施し、剥
離する工程を奇数回行ってマザースタンパーを作製し、 該マザースタンパーの転写によって、基板に微細凹凸を
形成したことを特徴とする光学記録媒体の製造方法。1. A positive photoresist is applied to a glass master, and after a development process, metal plating is performed. The metal plate is peeled off to produce a master stamper. The master stamper is further plated with metal and peeled. A method for producing an optical recording medium, comprising performing a step an odd number of times to produce a mother stamper, and forming fine irregularities on a substrate by transferring the mother stamper.
フォトポリマリゼーション法によりガラススタンパーを
作製し、 該ガラススタンパーに表面処理を施し、 該ガラススタンパー転写によって、基板に微細凹凸を形
成したことを特徴とする請求項1に記載の光学記録媒体
の製造方法。2. The transfer of the master stamper,
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein a glass stamper is produced by a photopolymerization method, a surface treatment is performed on the glass stamper, and fine irregularities are formed on the substrate by the glass stamper transfer. Method.
布し、現像処理工程後、金属メッキを行い、これを剥離
してマスタースタンパーを作製し、 該マスタースタンパーを用いて、基板に微細凹凸を形成
したことを特徴とする光学記録媒体の製造方法。3. A negative type photoresist is coated on a glass master, and after a development process, metal plating is performed. The metal plate is peeled off to form a master stamper, and fine irregularities are formed on the substrate using the master stamper. A method for manufacturing an optical recording medium, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26095196A JPH10106047A (en) | 1996-10-01 | 1996-10-01 | Production of optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP26095196A JPH10106047A (en) | 1996-10-01 | 1996-10-01 | Production of optical recording medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10106047A true JPH10106047A (en) | 1998-04-24 |
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JP26095196A Pending JPH10106047A (en) | 1996-10-01 | 1996-10-01 | Production of optical recording medium |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH10106047A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1996
- 1996-10-01 JP JP26095196A patent/JPH10106047A/en active Pending
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