JPH0259192A - 大出力レーザ装置 - Google Patents
大出力レーザ装置Info
- Publication number
- JPH0259192A JPH0259192A JP63211384A JP21138488A JPH0259192A JP H0259192 A JPH0259192 A JP H0259192A JP 63211384 A JP63211384 A JP 63211384A JP 21138488 A JP21138488 A JP 21138488A JP H0259192 A JPH0259192 A JP H0259192A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- beams
- laser
- wave guide
- laser beam
- oscillators
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000002407 reforming Methods 0.000 abstract 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 101150083238 bsc7 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、大出力レーザ装置に関する。
従来、CO2レーザでは連続発振出力は20 kW程度
が限界であった。また、Nd;YAGレーザでは、YA
Gロッド製作寸法に限界があシ、1本のロッドから取り
出せるレーザ出力は300W程度で、高出力化を図るた
めには第3図に示す如(YAGロッドを直列に接続する
ようにしていた。同図で11はNd ;YAG o y
ド、12はKrランデ、13は全反射ミラー 14は半
透過ミラーである。しかし、ロッド11の本数が増すに
つれ、レーザビームのアライメントが困難となり、実用
上は第4図に発振出力とビーム拡がシ角の関係を示すよ
うに4本ロッドによる1、2 kWが大出力化の限界と
なっていた。
が限界であった。また、Nd;YAGレーザでは、YA
Gロッド製作寸法に限界があシ、1本のロッドから取り
出せるレーザ出力は300W程度で、高出力化を図るた
めには第3図に示す如(YAGロッドを直列に接続する
ようにしていた。同図で11はNd ;YAG o y
ド、12はKrランデ、13は全反射ミラー 14は半
透過ミラーである。しかし、ロッド11の本数が増すに
つれ、レーザビームのアライメントが困難となり、実用
上は第4図に発振出力とビーム拡がシ角の関係を示すよ
うに4本ロッドによる1、2 kWが大出力化の限界と
なっていた。
従来の発振器内での高出力化は、Co2レーザでは光学
部品にZn5e等による透過型のものを用いているため
、ある一定限度を越えると部品に熱歪を生じ、熱レンズ
効果によりビーム発散角が変化し、集光性能が劣化する
という問題を生じている。またさらに高出力化すると、
透明光学部品ではビーム吸収によって破壊が生じること
となる。
部品にZn5e等による透過型のものを用いているため
、ある一定限度を越えると部品に熱歪を生じ、熱レンズ
効果によりビーム発散角が変化し、集光性能が劣化する
という問題を生じている。またさらに高出力化すると、
透明光学部品ではビーム吸収によって破壊が生じること
となる。
これに対しYAGレーザでは、ロンドを複数本直列に接
続することで高出力化を図っているが、レーザ出力の増
加につれてビームの拡がυ角も第4図に示した如く増加
するため、レーザ光のアライメント上、直列に接続でき
るロッド数は4本が限度であり、これにより発振出力が
1.2kW程度と限定されてしまい、さらなる高出力化
に対応することができない。
続することで高出力化を図っているが、レーザ出力の増
加につれてビームの拡がυ角も第4図に示した如く増加
するため、レーザ光のアライメント上、直列に接続でき
るロッド数は4本が限度であり、これにより発振出力が
1.2kW程度と限定されてしまい、さらなる高出力化
に対応することができない。
本発明は、複数の入射孔及び1個の出射孔を有する分岐
Cu導波路を用い、複数の発振器より発振された小出力
ビームを導波路内でたし合せてから取出すことにより高
出力化を行なうか、あるいは1個の発振器から得られる
発振ビームをアクシコンレン−eKよりリング状ビーム
に整形し、中空ミラー、中空レンズにより集光する一方
、他の発振器より得られる発振ビームをそれぞれ集光レ
ンズにより集光するようにして複数の発振器より得られ
たビームを同一光軸上でたし合せ高出力化するようにし
たものである。
Cu導波路を用い、複数の発振器より発振された小出力
ビームを導波路内でたし合せてから取出すことにより高
出力化を行なうか、あるいは1個の発振器から得られる
発振ビームをアクシコンレン−eKよりリング状ビーム
に整形し、中空ミラー、中空レンズにより集光する一方
、他の発振器より得られる発振ビームをそれぞれ集光レ
ンズにより集光するようにして複数の発振器より得られ
たビームを同一光軸上でたし合せ高出力化するようにし
たものである。
上記の如く導波路を用いたものでは複数の発振器より得
られ九ビームは複数の入射孔から金コートされた導波路
内を多重反射しつつ進行し、集合点で加算されて高出力
化され、1個の出射孔から出射されて加工等に供され、
また一方、アクシコンレンズを用いたものでは2枚のア
クシコンレンズを用いて発振ビームを中空化することに
より、中空化部に他の発振器から得られたビームを導び
き、中空ビームは中空集光レンズで集光し、中空部に入
射するビームは通常のレンズを用いて集光し1両者によ
り高出力化を行なう。
られ九ビームは複数の入射孔から金コートされた導波路
内を多重反射しつつ進行し、集合点で加算されて高出力
化され、1個の出射孔から出射されて加工等に供され、
また一方、アクシコンレンズを用いたものでは2枚のア
クシコンレンズを用いて発振ビームを中空化することに
より、中空化部に他の発振器から得られたビームを導び
き、中空ビームは中空集光レンズで集光し、中空部に入
射するビームは通常のレンズを用いて集光し1両者によ
り高出力化を行なう。
以下図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
第1図はその構成を示すもので、21が発振ビーム、2
2が反射ミラー 23が集光レンズ光学系、24がビー
ム入射孔、25が導波路分岐点、26がビーム出射孔、
27が水流入口、28が水流出口、29が金コート面、
30が導波路系である。導波路系31は複数のビーム入
射孔24を有し、このビーム通路は導波路系中央部の導
波路分岐点25で1本に集められ、出射孔26へと通じ
ている。この導波路系30へは、複数の発振器より得ら
れたレーザビーム21が、反射ミラー22により入射孔
24方向に向けて入射される。このレーザー一ム21は
、集光レンズ光学系23により入射孔24へ集光される
。この集光レンズ光学系23はCo2レーザの場合はZ
n5e製単レンズにより構成され、YAGレーザの場合
は、石英系(BSC7)のレンズ複数枚により構成され
る。導波路入射孔24に集光されたビーム21は導波路
30内で多重反射をくシ返しつつ出射孔26側へと進行
する。
2が反射ミラー 23が集光レンズ光学系、24がビー
ム入射孔、25が導波路分岐点、26がビーム出射孔、
27が水流入口、28が水流出口、29が金コート面、
30が導波路系である。導波路系31は複数のビーム入
射孔24を有し、このビーム通路は導波路系中央部の導
波路分岐点25で1本に集められ、出射孔26へと通じ
ている。この導波路系30へは、複数の発振器より得ら
れたレーザビーム21が、反射ミラー22により入射孔
24方向に向けて入射される。このレーザー一ム21は
、集光レンズ光学系23により入射孔24へ集光される
。この集光レンズ光学系23はCo2レーザの場合はZ
n5e製単レンズにより構成され、YAGレーザの場合
は、石英系(BSC7)のレンズ複数枚により構成され
る。導波路入射孔24に集光されたビーム21は導波路
30内で多重反射をくシ返しつつ出射孔26側へと進行
する。
導波路系3Qは銅製であり、導波路3o内面は反射率を
高めるため金によりコーティング(29)されて込る。
高めるため金によりコーティング(29)されて込る。
また導波路3σでのビーム吸収による発熱を抑えるため
、導波路30の外周は水冷構造とし、水の流入口27、
流出口28を持つ。この導波路30系より出射されたビ
ームの導波路30内でのビーム損失は、1本のレーザビ
ームに対し約15係程度である。
、導波路30の外周は水冷構造とし、水の流入口27、
流出口28を持つ。この導波路30系より出射されたビ
ームの導波路30内でのビーム損失は、1本のレーザビ
ームに対し約15係程度である。
第2図は他の構成例としてアクシコンレンズにより、中
空ビームを作り高出力化した例である。
空ビームを作り高出力化した例である。
発振器出力鏡41より得られたレーザビーム31は、凹
型アクシコンレンズ43によりリング状ビーム44に分
割される。この分割されたビーム44は凸型アクシコン
レンズ45によりコリメートされ、拡がりの少ないレー
ザビーム46となる。
型アクシコンレンズ43によりリング状ビーム44に分
割される。この分割されたビーム44は凸型アクシコン
レンズ45によりコリメートされ、拡がりの少ないレー
ザビーム46となる。
このレーザー−ム46は、中空ミラー47により加工面
方向に向けられて中空集光ビーム49となり、中空集光
レンズ48により中空集光ぎ一ム49は加工面20に集
光される。一方し−デピーム31は、通常の反射ミラー
32により加工面方向に向けられ、集光レンズ33によ
り、中空ミラー47、中空集光レンズ48の中空部を通
過しつつ集光されて集光ビーム12として中空集光レン
ズ48の集光点と同一の位置、すなわち加工面50にお
いて集光される。これにより高出力化が得られる。
方向に向けられて中空集光ビーム49となり、中空集光
レンズ48により中空集光ぎ一ム49は加工面20に集
光される。一方し−デピーム31は、通常の反射ミラー
32により加工面方向に向けられ、集光レンズ33によ
り、中空ミラー47、中空集光レンズ48の中空部を通
過しつつ集光されて集光ビーム12として中空集光レン
ズ48の集光点と同一の位置、すなわち加工面50にお
いて集光される。これにより高出力化が得られる。
以上に詳記した如く本発明によれば、発振出力を高める
ことなく高出力を得るために高出力化限界が高く、複数
台の発振器を用いた光学系による33・・・集光レンズ
(光学系)、24・・・ビーム入射孔、25・・・導波
路分岐点、26・・・ビーム出射孔、27・・・水流入
口、28・・・水流出口、29・・・今コート面、30
・・・導波路系、41・・・出力ミラー 42・・・集
光ビーム、43・・・凹型アクシコンレンズ、44.4
6・・・中空ビーム、45・・・凸型アクシコンレンズ
、47・・・中空反射ミラー 48・・・中空集光レン
ズ、49・・・中空集光げ−ム、50・・・加工面。
ことなく高出力を得るために高出力化限界が高く、複数
台の発振器を用いた光学系による33・・・集光レンズ
(光学系)、24・・・ビーム入射孔、25・・・導波
路分岐点、26・・・ビーム出射孔、27・・・水流入
口、28・・・水流出口、29・・・今コート面、30
・・・導波路系、41・・・出力ミラー 42・・・集
光ビーム、43・・・凹型アクシコンレンズ、44.4
6・・・中空ビーム、45・・・凸型アクシコンレンズ
、47・・・中空反射ミラー 48・・・中空集光レン
ズ、49・・・中空集光げ−ム、50・・・加工面。
第1図及び第2図は本発明の一実施例を示すもので、第
1図(a)は構成を示す図、s1図(b)は同図(&)
のA−A線に沿って示す矢視図、第2図は他の構成例を
示す図、第3図は従来のYAGレーザ装置の構成を示す
図、第4図は第3図の発振出力とビーム拡がり角の関係
を示す図である。 11−Nd ;YAG 口yド、12−・Krランデ、
13・・・全反射ミラー 14・・・半透過ミラー 2
1.31・・・発振ビーム、22.32・・・反射ミラ
ー 23゜出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦(
a) (b) 第2図 第1図
1図(a)は構成を示す図、s1図(b)は同図(&)
のA−A線に沿って示す矢視図、第2図は他の構成例を
示す図、第3図は従来のYAGレーザ装置の構成を示す
図、第4図は第3図の発振出力とビーム拡がり角の関係
を示す図である。 11−Nd ;YAG 口yド、12−・Krランデ、
13・・・全反射ミラー 14・・・半透過ミラー 2
1.31・・・発振ビーム、22.32・・・反射ミラ
ー 23゜出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦(
a) (b) 第2図 第1図
Claims (3)
- (1)異なる光軸を有する複数の小出力レーザ発振器と
、 これらレーザ発振器から得られるレーザビームをたし合
せ、同一光軸を持つレーザビームに再編成する光学部と を具備したことを特徴とする大出力レーザ装置。 - (2)上記光学部はレーザビームの入射側に複数のビー
ム入射孔を有し、導波路途中でビームを合成し、一個の
出射孔よりビームを出射することを特徴とした請求項(
1)記載の大出力レーザ装置。 - (3)上記光学部はアクシコンレンズを用い、中空レー
ザビーム強度分布を作って中空部に異なるレーザ発振器
より発振されたレーザビームを導いてビームのたし合せ
を行なうことを特徴とした請求項(1)記載の大出力レ
ーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63211384A JPH0259192A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 大出力レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63211384A JPH0259192A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 大出力レーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0259192A true JPH0259192A (ja) | 1990-02-28 |
Family
ID=16605070
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63211384A Pending JPH0259192A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 大出力レーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0259192A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001260232A (ja) * | 1999-12-23 | 2001-09-25 | Leister Process Technologies | 高エネルギー密度のレーザー光線により少なくとも2個の素子を加熱する方法と装置 |
JP2002059284A (ja) * | 2000-05-31 | 2002-02-26 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工装置及び加工方法 |
JP2003103389A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-08 | Toyoda Mach Works Ltd | 半導体レーザ集光装置 |
CN104692640A (zh) * | 2013-12-10 | 2015-06-10 | Lts有限公司 | 切割基板的方法 |
WO2017115406A1 (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | Dmg森精機株式会社 | 付加加工用ヘッド、加工機械および加工方法 |
-
1988
- 1988-08-25 JP JP63211384A patent/JPH0259192A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001260232A (ja) * | 1999-12-23 | 2001-09-25 | Leister Process Technologies | 高エネルギー密度のレーザー光線により少なくとも2個の素子を加熱する方法と装置 |
JP2002059284A (ja) * | 2000-05-31 | 2002-02-26 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工装置及び加工方法 |
JP4589546B2 (ja) * | 2000-05-31 | 2010-12-01 | 住友重機械工業株式会社 | レーザ加工装置及び加工方法 |
JP2003103389A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-08 | Toyoda Mach Works Ltd | 半導体レーザ集光装置 |
CN104692640A (zh) * | 2013-12-10 | 2015-06-10 | Lts有限公司 | 切割基板的方法 |
JP2015112644A (ja) * | 2013-12-10 | 2015-06-22 | エルティーエス カンパニー,リミテッド | 基板切断方法 |
WO2017115406A1 (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | Dmg森精機株式会社 | 付加加工用ヘッド、加工機械および加工方法 |
JPWO2017115406A1 (ja) * | 2015-12-28 | 2018-03-08 | Dmg森精機株式会社 | 付加加工用ヘッド、加工機械および加工方法 |
US11173662B2 (en) | 2015-12-28 | 2021-11-16 | Dmg Mori Co., Ltd. | Additive-manufacturing head, manufacturing machine, and manufacturing method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3589299B2 (ja) | ビーム整形装置 | |
US5798877A (en) | Optical system for improving the symmetry of the beam emitted from a broad area laser diode | |
US5210643A (en) | Wave combining apparatus for semiconductor lasers | |
US5299222A (en) | Multiple diode laser stack for pumping a solid-state laser | |
JPH0412039B2 (ja) | ||
JP2831960B2 (ja) | レーザダイオードビームのエネルギを集中させる方法および装置 | |
US6873633B2 (en) | Solid-state laser | |
US11287574B2 (en) | Optical fiber bundle with beam overlapping mechanism | |
JPH0259192A (ja) | 大出力レーザ装置 | |
US4947402A (en) | Two-mirror shaping of a non-circular optical pumping beam and lasers using same | |
JP7398649B2 (ja) | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 | |
JPH03261191A (ja) | レーザー増幅システム | |
JPS6281614A (ja) | 光結合器 | |
JP3055312B2 (ja) | レーザビーム均一照射光学系 | |
JPH07287189A (ja) | 光路変換器およびそれを用いたレーザ装置 | |
JPH1177344A (ja) | 光加工装置 | |
CN118472796B (zh) | 一种半导体激光器 | |
JP2877891B2 (ja) | 光化学反応におけるレーザ集光方法 | |
JPH07154018A (ja) | レーザビーム伝送装置 | |
JPH03155518A (ja) | レーザ光源 | |
JPH0241607Y2 (ja) | ||
JPH0483386A (ja) | 固体レーザー発振器 | |
JPH06281877A (ja) | レーザ加工用エネルギー分割装置 | |
JPH06268299A (ja) | レーザ用励起光源 | |
JPS61186187A (ja) | レ−ザビ−ム加工装置 |