JPH0246460A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、水、アルカリ水、あるいは界面活性剤等を含
有する水系による現像が可能である感光性樹脂服用組成
物に関し、特に水系現像が可能である感光性フレキソ版
材用の組成物に関するものである。
有する水系による現像が可能である感光性樹脂服用組成
物に関し、特に水系現像が可能である感光性フレキソ版
材用の組成物に関するものである。
(従来の技術)
従来より感光性樹脂版には、現像液として有機溶剤を用
いるタイプと水、アルカリ水、界面活性剤等を含有した
水系現像タイプが知られている。
いるタイプと水、アルカリ水、界面活性剤等を含有した
水系現像タイプが知られている。
しかしながら従来技術のうち有機溶剤現像タイプの場合
、公害対策、作業環境、防火等の点で現像装置の完全密
閉化、空調設備の完備、防爆装置の設置等の処置を講じ
なければいけないという欠点があった。
、公害対策、作業環境、防火等の点で現像装置の完全密
閉化、空調設備の完備、防爆装置の設置等の処置を講じ
なければいけないという欠点があった。
一方、水現像タイプの場合でも、組成物の親水性が高い
ため光重合後、組成物の耐水性が劣るという欠点があっ
た。
ため光重合後、組成物の耐水性が劣るという欠点があっ
た。
また、水系現像フレキソ版に関しては、例えば特開昭5
4−110287号、特開昭58−117537号など
が知られている。しかしながら前者は現像液がいずれも
例えば水酸化ナトリウム/イソプロピルアルコール/水
、炭酸ナトリウム/2−ブトキシェタノール/水、硫酸
ナトリウム/2−ブトキシェタノール/水等のアルコー
ル/アルカリ水系であって、水を単独に現像液として使
用するものではなかった。また後者は、主成分となるポ
リマーがカチオン系ポリエステルアミドであり耐加水分
解性に問題が残るという欠点があった。
4−110287号、特開昭58−117537号など
が知られている。しかしながら前者は現像液がいずれも
例えば水酸化ナトリウム/イソプロピルアルコール/水
、炭酸ナトリウム/2−ブトキシェタノール/水、硫酸
ナトリウム/2−ブトキシェタノール/水等のアルコー
ル/アルカリ水系であって、水を単独に現像液として使
用するものではなかった。また後者は、主成分となるポ
リマーがカチオン系ポリエステルアミドであり耐加水分
解性に問題が残るという欠点があった。
その他ポリエーテル鎖をソフトセグメントとするポリマ
ーを用いたフレギソ版組成物に関しては、例えば特開昭
50−7603号、特開昭50−6403号、特開昭5
1−17285号、特開昭49−109104号、特開
昭4932702号、特開昭49−33702号、特開
昭49−110402号、及び特開昭59413430
号等が知られている。
ーを用いたフレギソ版組成物に関しては、例えば特開昭
50−7603号、特開昭50−6403号、特開昭5
1−17285号、特開昭49−109104号、特開
昭4932702号、特開昭49−33702号、特開
昭49−110402号、及び特開昭59413430
号等が知られている。
しかしながらこれはいずれも液状タイプであり、固体状
の水系現像型のものは報告されていない。
の水系現像型のものは報告されていない。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、水系現像が可能である感光性樹脂板における
前記従来の欠点、即ち光重合物の耐水性の限界、アルコ
ール含有水系現像液の使用、及び光重合前が液状タイプ
等の点を解消し、水単独で現像でき、固形板であり光重
今後十分な耐水性を有しかつ水系フレキソインキに対し
て十分なインキ転移性を有する感光性樹脂板組成物を提
供せんとするものである。
前記従来の欠点、即ち光重合物の耐水性の限界、アルコ
ール含有水系現像液の使用、及び光重合前が液状タイプ
等の点を解消し、水単独で現像でき、固形板であり光重
今後十分な耐水性を有しかつ水系フレキソインキに対し
て十分なインキ転移性を有する感光性樹脂板組成物を提
供せんとするものである。
(課題を解決するための手段)
(B)エチレン性不飽和化合物 3〜50重量%(C
)光重合開始剤 0.1〜2重量%を含有すること
を特徴とする感光性樹脂組成物である。
)光重合開始剤 0.1〜2重量%を含有すること
を特徴とする感光性樹脂組成物である。
本発明において(A)成分は親水性ポリエーテルウレタ
ンと疎水性ポリマーとがI:99〜99:1、好ましく
は10 : 90〜90 : 10の割合(重量比)で
混合されたものであり、この中の親水性ポリエーテルウ
レタンを構成するポリエーテル成分としては、例えば数
平均分子量が200〜10.000であるポリオキシエ
チレンポリオール、ポリオキシプロピレンポリオール及
びポリオキシテトラメチレンポリオール等のポリオキシ
アルキレンポリオールを挙げることが出来る。
ンと疎水性ポリマーとがI:99〜99:1、好ましく
は10 : 90〜90 : 10の割合(重量比)で
混合されたものであり、この中の親水性ポリエーテルウ
レタンを構成するポリエーテル成分としては、例えば数
平均分子量が200〜10.000であるポリオキシエ
チレンポリオール、ポリオキシプロピレンポリオール及
びポリオキシテトラメチレンポリオール等のポリオキシ
アルキレンポリオールを挙げることが出来る。
ポリエーテルウレタンを構成する場合の他の必須成分で
あるポリイソシアナ−1・とじては各種のものが例示さ
れる。例えばジフェニルメタンジイソシアナート(MD
I) 、l−リレンジイソシアナー) (TDI)、キ
シリレンジイソシアナート(XDI )、ヘキザメチレ
ンジイソシアナーl−(+1111)等のジイソシアナ
−1・、トリフェニルメタントリイソシアナート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアナト等のポリイソシアナ
ートを挙げることが出来る。
あるポリイソシアナ−1・とじては各種のものが例示さ
れる。例えばジフェニルメタンジイソシアナート(MD
I) 、l−リレンジイソシアナー) (TDI)、キ
シリレンジイソシアナート(XDI )、ヘキザメチレ
ンジイソシアナーl−(+1111)等のジイソシアナ
−1・、トリフェニルメタントリイソシアナート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアナト等のポリイソシアナ
ートを挙げることが出来る。
また(八)成分である親水性基を有するポリエテルウレ
タンとは親水性基を主鎖または側鎖に含むポリエーテル
ウレタンであり、その親水性基としてポリエチレングリ
コール基、ヒドロキシル基等のノニオン性基、カルボキ
シル基、スルホン酸基、リン酸基、ホスフィン酸基、ホ
スフィン酸基等のアニオン性基、及び第3級窒素原子を
含むアミノ基、第4級アンモニウム基等のカチオン性基
等が挙げられる。これら親水性基をポリマーの主鎖又は
側鎖中に単独もしくは併用して導入することでそのポリ
マーを水又はアルカリ水溶液に対して著しく膨潤させる
ことができる。これらの親水性基を導入する具体的な方
法として、上述した親水性基と同一分子内にイソシアナ
ート基で反応し得る活性水素原子を2個含有する化合物
、例えばポリエチレングリコール、ジメチロールプロピ
オン酸、ジアミノヘンセンスルホン酸ナトリウム、グリ
セリン千ノリン酸エステル2ナトリウム塩、ヒドロキシ
エチル、ヒドロキシエチルホスフォン酸ナトリウム、ジ
メチロールホスフィン酸ナトリウム、Nメチルエタノー
ルアミン、及びN、Nジメチルジェタノールアンモニウ
ムクロライド等をポリマー原料として共重合して容易に
人手することができる。これらの親水性基を導入して得
られる親水性ポリエーテルウレタンとは、20°Cの水
、又はクアルカリ水溶液中に24時間浸漬した場合溶解
又は分散するか、もしくは少なくともポリマーの重量増
加率が200%以上であるような親水性を有するポリマ
ーである。
タンとは親水性基を主鎖または側鎖に含むポリエーテル
ウレタンであり、その親水性基としてポリエチレングリ
コール基、ヒドロキシル基等のノニオン性基、カルボキ
シル基、スルホン酸基、リン酸基、ホスフィン酸基、ホ
スフィン酸基等のアニオン性基、及び第3級窒素原子を
含むアミノ基、第4級アンモニウム基等のカチオン性基
等が挙げられる。これら親水性基をポリマーの主鎖又は
側鎖中に単独もしくは併用して導入することでそのポリ
マーを水又はアルカリ水溶液に対して著しく膨潤させる
ことができる。これらの親水性基を導入する具体的な方
法として、上述した親水性基と同一分子内にイソシアナ
ート基で反応し得る活性水素原子を2個含有する化合物
、例えばポリエチレングリコール、ジメチロールプロピ
オン酸、ジアミノヘンセンスルホン酸ナトリウム、グリ
セリン千ノリン酸エステル2ナトリウム塩、ヒドロキシ
エチル、ヒドロキシエチルホスフォン酸ナトリウム、ジ
メチロールホスフィン酸ナトリウム、Nメチルエタノー
ルアミン、及びN、Nジメチルジェタノールアンモニウ
ムクロライド等をポリマー原料として共重合して容易に
人手することができる。これらの親水性基を導入して得
られる親水性ポリエーテルウレタンとは、20°Cの水
、又はクアルカリ水溶液中に24時間浸漬した場合溶解
又は分散するか、もしくは少なくともポリマーの重量増
加率が200%以上であるような親水性を有するポリマ
ーである。
本発明において疎水性ポリマーとは、疎水性ポリエーテ
ルウレタンに限らず上記に示したような20°Cの水又
はアルカリ水溶液中に24時間浸漬した時にその重量増
加率が100%以下であるようなポリマーであり、かつ
上記した親水性ポリエーテルウレタンと相溶性が良好な
ポリマーである。
ルウレタンに限らず上記に示したような20°Cの水又
はアルカリ水溶液中に24時間浸漬した時にその重量増
加率が100%以下であるようなポリマーであり、かつ
上記した親水性ポリエーテルウレタンと相溶性が良好な
ポリマーである。
なお、本発明における親水性あるいは疎水性ポリエーテ
ルウレタンは前記成分の他に必要に応じて種々のグリコ
ール成分によって鎖延長することが出来る。具体的には
、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、
ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコール等
の炭素数1〜6の脂肪族ジオールジエチレングリコール
、ジプロピレレグリコール等のエーテルグリコール類。
ルウレタンは前記成分の他に必要に応じて種々のグリコ
ール成分によって鎖延長することが出来る。具体的には
、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、
ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコール等
の炭素数1〜6の脂肪族ジオールジエチレングリコール
、ジプロピレレグリコール等のエーテルグリコール類。
等で示される芳香族ジオール、エチレンジアミン、1.
6−ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン等の
脂肪族ジアミン、数平均分子量がlOO〜10,000
の範囲にあるポリエチレングリコールジアミン、ポリプ
ロピレングリコールジアミン等のポリエーテルポリアミ
ンあるいは、数平均分子量が500〜10,000の範
囲にあるブタジェン系ジアミン等を挙げることができる
。
6−ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン等の
脂肪族ジアミン、数平均分子量がlOO〜10,000
の範囲にあるポリエチレングリコールジアミン、ポリプ
ロピレングリコールジアミン等のポリエーテルポリアミ
ンあるいは、数平均分子量が500〜10,000の範
囲にあるブタジェン系ジアミン等を挙げることができる
。
本発明における前記のポリエーテルウレタンは通常の方
法により製造することが出来る。即ちポリエーテルグリ
コール及びポリイソシアネートよりプレポリマーを合成
し、その後、各種成分あるいはジアミン成分により鎖延
長し、溶剤を除去することにより得ることが出来る。
法により製造することが出来る。即ちポリエーテルグリ
コール及びポリイソシアネートよりプレポリマーを合成
し、その後、各種成分あるいはジアミン成分により鎖延
長し、溶剤を除去することにより得ることが出来る。
次に本発明における(B)成分であるエチレン性不飽和
化合物は、少なくとも1個の末端エチレン性基を含有す
る化合物であり、この化合物は遊離ラジカルにより開始
された連鎖生長付加重合により高分子重合体を形成し得
るものである。適当なエチレン性不飽和化合物はポリオ
ール類の不飽和エステル特にアルファメチレンカルボン
酸類とのかかるエステル類、例えば、エチレングリコー
ルジアクリレート、グリセロールジアクリレート、エチ
レングリコールジメタアクリレート、1.3プロパンジ
オールジメタアクリレート、1,2゜4−ブタントリオ
ールトリアクリレート、1.4シクロヘキサンジオール
ジアクリレート、1゜3−プロパンジオールジアクリレ
ート、1. 6ヘキサンジオールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート等が挙げられる。
化合物は、少なくとも1個の末端エチレン性基を含有す
る化合物であり、この化合物は遊離ラジカルにより開始
された連鎖生長付加重合により高分子重合体を形成し得
るものである。適当なエチレン性不飽和化合物はポリオ
ール類の不飽和エステル特にアルファメチレンカルボン
酸類とのかかるエステル類、例えば、エチレングリコー
ルジアクリレート、グリセロールジアクリレート、エチ
レングリコールジメタアクリレート、1.3プロパンジ
オールジメタアクリレート、1,2゜4−ブタントリオ
ールトリアクリレート、1.4シクロヘキサンジオール
ジアクリレート、1゜3−プロパンジオールジアクリレ
ート、1. 6ヘキサンジオールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート等が挙げられる。
本発明における(B)成分の組成物中の含有量は、3〜
50重量%の範囲であるのが好ましく、特に10〜40
重量%の範囲であるのが好ましい。含有量が3重量%未
満の場合には架橋密度が著しく低下し光重合物が十分な
耐水性を示さずさらには現像時満足な画線を得ることが
出来ないという欠点を生じる。又、逆に50重量%を越
える場合には、架橋密度が高くなり、版組成物の硬度が
高くなって、フレキソ印刷版として要求されるゴム弾性
を発現しなくなるので好ましくない。
50重量%の範囲であるのが好ましく、特に10〜40
重量%の範囲であるのが好ましい。含有量が3重量%未
満の場合には架橋密度が著しく低下し光重合物が十分な
耐水性を示さずさらには現像時満足な画線を得ることが
出来ないという欠点を生じる。又、逆に50重量%を越
える場合には、架橋密度が高くなり、版組成物の硬度が
高くなって、フレキソ印刷版として要求されるゴム弾性
を発現しなくなるので好ましくない。
次に本発明において(C)成分である光重合開始溶剤と
は、活性光線により活性種を発生し、光ラジカル重合を
開始し得るものである。有用な光重合開始剤、は公知の
各種化合物を使用することができ、具体的には隣接ポリ
ケトン化合物、例えばジアセチル、ベンジルその他、α
−カルボニルアルコール例えばベンゾイン、ブチロイン
その他、アシロインエーテル、例えば、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−置換アシ
ロイン、例えばα−アルキルベンゾインα−アルコキシ
アシロインその他、及び多核キノンその他等が挙げられ
、これらを単独または併用して使用される。光重合開始
剤は組成物中に0.1〜2重量%、好ましくは0.5〜
1重量%の範囲で含有することが出来る。
は、活性光線により活性種を発生し、光ラジカル重合を
開始し得るものである。有用な光重合開始剤、は公知の
各種化合物を使用することができ、具体的には隣接ポリ
ケトン化合物、例えばジアセチル、ベンジルその他、α
−カルボニルアルコール例えばベンゾイン、ブチロイン
その他、アシロインエーテル、例えば、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−置換アシ
ロイン、例えばα−アルキルベンゾインα−アルコキシ
アシロインその他、及び多核キノンその他等が挙げられ
、これらを単独または併用して使用される。光重合開始
剤は組成物中に0.1〜2重量%、好ましくは0.5〜
1重量%の範囲で含有することが出来る。
なお本発明において、前記成分以外にさらに光架橋反応
を抑制することなく単に熱重合のみを防止するために熱
重合禁止剤を組成物中に0〜1重量%、好ましくは0.
2〜0.7重量%の範囲で含有させてもよい。有用な熱
重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ハイド
ロキノンモノメチルエーテル、カテコール、p−t−ブ
チルカテコール等が挙げられる。
を抑制することなく単に熱重合のみを防止するために熱
重合禁止剤を組成物中に0〜1重量%、好ましくは0.
2〜0.7重量%の範囲で含有させてもよい。有用な熱
重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ハイド
ロキノンモノメチルエーテル、カテコール、p−t−ブ
チルカテコール等が挙げられる。
(作 用)
本発明組成物が水現像性とレリーフの耐水性の両立とい
う二律背反した性能を示す理由としては明らかではない
が、親水性ポリマーが連続相を、疎水性ポリマーが分散
相を形成し、その界面において適度に相溶化が生ずるた
めと類推される。
う二律背反した性能を示す理由としては明らかではない
が、親水性ポリマーが連続相を、疎水性ポリマーが分散
相を形成し、その界面において適度に相溶化が生ずるた
めと類推される。
(実施例)
以下本発明を実施例により具体的に説明するが本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
合成例1
撹拌装置付き反応器に分子量1.100のポリテトラメ
チレングリコール+−50、0g、にヘキサメチレンジ
イソシアナート97.3 gを加えN2雰囲気下110
°Cで6時間反応させプレポリマーを得た。更にヘキサ
メチレングリコール60.0 g、ジ−n−ブチルSn
ジラウレート0.9gをジメチルアセトアミド450g
に溶解し、その溶液を前記のプレポリマーに加えN2雰
囲気下80°Cで4時間反応させ、残存イソシアナート
のIR吸収スペクトル(2215cm−’)が消失する
ことを確認することにより反応を終了した。ジメチルア
セトアミドを減圧除去することによりゴム弾性を有する
疎水性ポリエーテルウレタンを得た。
チレングリコール+−50、0g、にヘキサメチレンジ
イソシアナート97.3 gを加えN2雰囲気下110
°Cで6時間反応させプレポリマーを得た。更にヘキサ
メチレングリコール60.0 g、ジ−n−ブチルSn
ジラウレート0.9gをジメチルアセトアミド450g
に溶解し、その溶液を前記のプレポリマーに加えN2雰
囲気下80°Cで4時間反応させ、残存イソシアナート
のIR吸収スペクトル(2215cm−’)が消失する
ことを確認することにより反応を終了した。ジメチルア
セトアミドを減圧除去することによりゴム弾性を有する
疎水性ポリエーテルウレタンを得た。
(以下ポリマーAという)。
合成例2
分子量1,100のポリテトラメチレングリコール15
0.0gへキザメチレンジイソシアナート(+101)
43.2gを撹拌装置付き反応器に加え合成例と同様に
してプレポリマーを得た。ジメチロールプロピオン酸2
0g1ジーn−ブチルSnジラウレート0.9gをジメ
チルアセトアミド450gに溶解し、tiil記のプレ
ポリマーに加えN2雰囲気下80°Cで4時間反応させ
た。残存イソシアナートのIl?吸収スペクI・ル(2
215cnr’)が消失することを確認することにより
反応を終了した。ジメチルアセトアミドを減圧除去しゴ
ム弾性を有する親水性ポリエーテルウレタンを得た(以
下ポリマーBという)。
0.0gへキザメチレンジイソシアナート(+101)
43.2gを撹拌装置付き反応器に加え合成例と同様に
してプレポリマーを得た。ジメチロールプロピオン酸2
0g1ジーn−ブチルSnジラウレート0.9gをジメ
チルアセトアミド450gに溶解し、tiil記のプレ
ポリマーに加えN2雰囲気下80°Cで4時間反応させ
た。残存イソシアナートのIl?吸収スペクI・ル(2
215cnr’)が消失することを確認することにより
反応を終了した。ジメチルアセトアミドを減圧除去しゴ
ム弾性を有する親水性ポリエーテルウレタンを得た(以
下ポリマーBという)。
合成例3
合成例2において、lID146.5g、ジメチロール
プロピオン酸23.0gとする以外は、合成例2と同様
の操作によりゴム弾性を有する親水性ポリエーテルウレ
タンを得た(以下ポリマーCという)。
プロピオン酸23.0gとする以外は、合成例2と同様
の操作によりゴム弾性を有する親水性ポリエーテルウレ
タンを得た(以下ポリマーCという)。
合成例4
分子ff1l、+00のポリテ1−ラメチレングリ:1
−ル150g、 Hl)141.4gを合成例1と同様
にして反応させプレポリマーを得た。リチウム塩化した
ビスヒドロキシエチルアミノエタンスルホン酸27.0
g及びジ−n−ブチルSnジラウレート0.9gをジ
メチルアセトアミド450gに溶解し、前記したプレポ
リマに加えN2雰囲気下80°Cで4時間反応させ、残
存イソシアナート基のIR吸収スペクトル(V−221
5cm−’)が消失することを確認することにより反応
を終了した。ジメチルアセトアミドを減圧除去すること
によりゴム弾性を有する親水性ポリエーテルウレタンを
得た(以下ポリマーDという)。
−ル150g、 Hl)141.4gを合成例1と同様
にして反応させプレポリマーを得た。リチウム塩化した
ビスヒドロキシエチルアミノエタンスルホン酸27.0
g及びジ−n−ブチルSnジラウレート0.9gをジ
メチルアセトアミド450gに溶解し、前記したプレポ
リマに加えN2雰囲気下80°Cで4時間反応させ、残
存イソシアナート基のIR吸収スペクトル(V−221
5cm−’)が消失することを確認することにより反応
を終了した。ジメチルアセトアミドを減圧除去すること
によりゴム弾性を有する親水性ポリエーテルウレタンを
得た(以下ポリマーDという)。
合成例5
合成例4においてHDI 51.0 gリチウム塩化
したビスヒドロキシエチルエタンスルホン酸40.0
gとする以外は合成例4と同様にして親水性ポリエーテ
ルウレタンを得た(以下ポリマーEという)。
したビスヒドロキシエチルエタンスルホン酸40.0
gとする以外は合成例4と同様にして親水性ポリエーテ
ルウレタンを得た(以下ポリマーEという)。
合成例6
合成例4においてHDI 81.4gリチウム塩化し
たビスヒドロキシエチルエタンスルホン酸80.0gと
した以外は合成例4と同様にして親水性ポリエーテルウ
レタンを得た(以下ポリマーFという)。
たビスヒドロキシエチルエタンスルホン酸80.0gと
した以外は合成例4と同様にして親水性ポリエーテルウ
レタンを得た(以下ポリマーFという)。
合成例7
合成例4において1101 22.5gリチウム塩化し
たビスヒドロキシエチルエタンスルホン酸2.5gとす
る以外は合成例4と同様の操作により疎水性ポリエーテ
ルウレタンを得た(以下ポリマーGという)。
たビスヒドロキシエチルエタンスルホン酸2.5gとす
る以外は合成例4と同様の操作により疎水性ポリエーテ
ルウレタンを得た(以下ポリマーGという)。
合成例8
分子量850のポリテトラメチレングリコール7.6g
、、lID121.8gジメチロールプロピオン酸1
5.4 g及びジn−ブチルSnジラウレート1.0g
をヒI−ラヒド口フラン300gに溶解した溶液を撹拌
機のついた11フラスコにいれ65°Cで3時間反応を
続けた。別の容器で、末端アミン基含有アクリロニトリ
ル・ブタジェンオリゴマー(Ilycav ATBN
1300 X 16宇部興産■製)55.3gをテトラ
ヒドロフラン100gに溶解して調製した溶液を上記の
1!フラスコ内に室温下で撹拌しながら添加した。得ら
れたポリマ−溶液、水酸化リチウム4.8gをメチルア
ルコール100gに溶解した溶液を室温下で撹拌しなが
ら添加しさらに30分間撹拌することによって親水性ポ
リエーテルウレタンを得た(以下ポリマー11という)
。
、、lID121.8gジメチロールプロピオン酸1
5.4 g及びジn−ブチルSnジラウレート1.0g
をヒI−ラヒド口フラン300gに溶解した溶液を撹拌
機のついた11フラスコにいれ65°Cで3時間反応を
続けた。別の容器で、末端アミン基含有アクリロニトリ
ル・ブタジェンオリゴマー(Ilycav ATBN
1300 X 16宇部興産■製)55.3gをテトラ
ヒドロフラン100gに溶解して調製した溶液を上記の
1!フラスコ内に室温下で撹拌しながら添加した。得ら
れたポリマ−溶液、水酸化リチウム4.8gをメチルア
ルコール100gに溶解した溶液を室温下で撹拌しなが
ら添加しさらに30分間撹拌することによって親水性ポ
リエーテルウレタンを得た(以下ポリマー11という)
。
合成例1〜8で得られた各親水性及び疎水性ポリエーテ
ルの親水基含有量を表1に示す。
ルの親水基含有量を表1に示す。
実施例1
ポリマーA I7.5 gポリマー852.5 gへキ
サメチレングリコールジアクリレ−128,5、ベンジ
ルジメチルケクール1g及びハイドロキノンモノメチル
エーテル0.5g加熱ニーダ−を用いて105°Cで混
練し、脱泡後、得られた感光性樹脂組成物をヒートプレ
ス機で105°C、100kg / aftの圧力で、
125 μ+n厚みのポリエステルフィルムと、同じポ
リエステルフィルム上に2μmのポリビニールアルコー
ルを片面にコートしたポリエステルフィルム間で、ポリ
ビニルアルコールコート層が感光性樹脂と接するよう1
分間加熱加圧して厚さ2.8画のシートを作成した。
サメチレングリコールジアクリレ−128,5、ベンジ
ルジメチルケクール1g及びハイドロキノンモノメチル
エーテル0.5g加熱ニーダ−を用いて105°Cで混
練し、脱泡後、得られた感光性樹脂組成物をヒートプレ
ス機で105°C、100kg / aftの圧力で、
125 μ+n厚みのポリエステルフィルムと、同じポ
リエステルフィルム上に2μmのポリビニールアルコー
ルを片面にコートしたポリエステルフィルム間で、ポリ
ビニルアルコールコート層が感光性樹脂と接するよう1
分間加熱加圧して厚さ2.8画のシートを作成した。
最上層のポリエステルフィルムを剥離して感光性樹脂層
上にポリビニルアルコール膜を残し、画像を有するネガ
フィルムをその上に密着して水銀灯(大日本スクリーン
社製)で、照度25W/nf根、5分間露光を行った。
上にポリビニルアルコール膜を残し、画像を有するネガ
フィルムをその上に密着して水銀灯(大日本スクリーン
社製)で、照度25W/nf根、5分間露光を行った。
ネガフィルムを除いた後、アルキルナフタレンスルホン
酸ソーダ2重量%を含有する中性水で40°C15分間
、ブラシによる現像を行ったところ、レリーフの深度1
、2 mmの画像パターンが得られた。この画像パタ
ーンは使用したネガフィルムの画像を忠実に再現してい
た。また得られたレリーフは、インキの受理転移性もよ
く、鮮明な画像を示していた。
酸ソーダ2重量%を含有する中性水で40°C15分間
、ブラシによる現像を行ったところ、レリーフの深度1
、2 mmの画像パターンが得られた。この画像パタ
ーンは使用したネガフィルムの画像を忠実に再現してい
た。また得られたレリーフは、インキの受理転移性もよ
く、鮮明な画像を示していた。
実施例2
実施例1においてポリマーA35g、ポリマーB55g
とした以外全て実施例1と同様にしてレリーフパターン
を得たところがフィルムの画像を忠実に再現し、インキ
の受理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフが得られた。
とした以外全て実施例1と同様にしてレリーフパターン
を得たところがフィルムの画像を忠実に再現し、インキ
の受理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフが得られた。
実施例3
実施例1においてポリマーA17.5g、ポリマーC5
2,5gとした以外全て実施例1と同様にしてしリーフ
パターンを得たところネガフィルムの画像を忠実に再現
し、インキの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフが
得られた。
2,5gとした以外全て実施例1と同様にしてしリーフ
パターンを得たところネガフィルムの画像を忠実に再現
し、インキの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフが
得られた。
実施例4
実施例1においてポリマーA35.0g、ポリマーC3
5,Ogとした以外全て実施例1と同様にしてレリーフ
パターンを得たところネガフィルムの画像を忠実に再現
し、インキの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフが
得られた。
5,Ogとした以外全て実施例1と同様にしてレリーフ
パターンを得たところネガフィルムの画像を忠実に再現
し、インキの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフが
得られた。
実施例5
実施例1においてポリマーA35.0g、ポリマーF
35.0 gとした以外全て実施例1と同様にしてレリ
ーフパターンを得たところネガフィルムの画像を忠実に
再現し、インキの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリー
フが得られた。
35.0 gとした以外全て実施例1と同様にしてレリ
ーフパターンを得たところネガフィルムの画像を忠実に
再現し、インキの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリー
フが得られた。
実施例6
実施例1においてポリマーD 35.0 g、ポリマー
G35.Ogとした以外全て実施例1と同様にしてレリ
ーフパターンを得たところネガフィルムの画像を忠実に
再現し、インキの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリー
フが得られた。
G35.Ogとした以外全て実施例1と同様にしてレリ
ーフパターンを得たところネガフィルムの画像を忠実に
再現し、インキの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリー
フが得られた。
実施例7
実施例1においてポリマーE35.0g、ポリマーG
35.Ogとした以外全て実施例1と同様にしてレリー
フパターンを得たところネガフィルムの画像を忠実に再
現し、インキの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフ
が得られた。
35.Ogとした以外全て実施例1と同様にしてレリー
フパターンを得たところネガフィルムの画像を忠実に再
現し、インキの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフ
が得られた。
実施例8
実施例1においてポリマーH35,Og、ポリエピクロ
ルヒドリン(エビクロマ−H大阪曹達■製)35.0g
とした以外全て実施例1と同様にしてレリーフパターン
を得たところネガフィルムの画像を忠実に再現し、イン
キの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフが得られた
。
ルヒドリン(エビクロマ−H大阪曹達■製)35.0g
とした以外全て実施例1と同様にしてレリーフパターン
を得たところネガフィルムの画像を忠実に再現し、イン
キの受理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフが得られた
。
実施例9
実施例1においてポリマーH35,Og、塩素化ポリエ
チレン(H135大阪曹達■製) 35.0 gとした
以外全て実施例1と同様にしてレリーフパターンを得た
ところネガフィルムの画像を忠実に再現し、インキの受
理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフが得られた。
チレン(H135大阪曹達■製) 35.0 gとした
以外全て実施例1と同様にしてレリーフパターンを得た
ところネガフィルムの画像を忠実に再現し、インキの受
理転移性、耐溶剤性が優れたレリーフが得られた。
比較例工〜牛
合成例で示したポリマーB、C,D、ドの親水性ポリエ
ーテルウレタンのみを用いて実施例1と同様にして版組
成物を作成し評価した、いずれも水現象が可能であるレ
リーフであるレリーフパターンを得たがレリーフ部は、
フレキソ刷版として十分な耐水性を示さながった。
ーテルウレタンのみを用いて実施例1と同様にして版組
成物を作成し評価した、いずれも水現象が可能であるレ
リーフであるレリーフパターンを得たがレリーフ部は、
フレキソ刷版として十分な耐水性を示さながった。
実施例1〜9及び比較層す版性能評価結果を表2に示す
。
。
以下余白
表1
合成ポリマーの親水基含有量
(発明の効果)
以上かかる構成より成る本発明の組成物は、親水性ポリ
エーテルウレタンと疎水性ポリマーとがブレンドされて
いるので水現像性を低下させずにしかも水系フレキソイ
ンキに対して十分耐水性を示すため、特にフレキソ印刷
版用として有用である。
エーテルウレタンと疎水性ポリマーとがブレンドされて
いるので水現像性を低下させずにしかも水系フレキソイ
ンキに対して十分耐水性を示すため、特にフレキソ印刷
版用として有用である。
特許出願人 東洋紡績株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (A)親水性ポリエーテルウレタン及び疎水性ポリマー
50〜97重量% (B)エチレン性不飽和化合物3〜50重量% (C)光重合開始剤0.1〜2重量% を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19733688A JPH0246460A (ja) | 1988-08-08 | 1988-08-08 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19733688A JPH0246460A (ja) | 1988-08-08 | 1988-08-08 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0246460A true JPH0246460A (ja) | 1990-02-15 |
Family
ID=16372777
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19733688A Pending JPH0246460A (ja) | 1988-08-08 | 1988-08-08 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0246460A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5290663A (en) * | 1991-03-01 | 1994-03-01 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Photocurable polyurethane-acrylate ionomer compositions for aqueous developable printing plates |
JPH07219222A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-08-18 | Morton Thiokol Inc | 水性の画像形成性組成物及びその乾燥フィルム |
JPH07234506A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-09-05 | Morton Thiokol Inc | 水性の光画像形成性組成物及びその乾燥フィルム |
JPH07234508A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-09-05 | Morton Thiokol Inc | 水性の光画像形成性組成物及びその乾燥フィルム |
JPH07234507A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-09-05 | Morton Thiokol Inc | 水性の光画像形成性組成物 |
JPH07271033A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-10-20 | Morton Thiokol Inc | 光像形成性組成物 |
US5554712A (en) * | 1992-08-28 | 1996-09-10 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Aqueous developable photosensitive polyurethane-(meth)acrylate |
JP2012194371A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 感光性平版印刷版 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62246047A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Kuraray Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS63186232A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-08-01 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
-
1988
- 1988-08-08 JP JP19733688A patent/JPH0246460A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62246047A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Kuraray Co Ltd | 感光性組成物 |
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JPH07219222A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-08-18 | Morton Thiokol Inc | 水性の画像形成性組成物及びその乾燥フィルム |
JPH07234506A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-09-05 | Morton Thiokol Inc | 水性の光画像形成性組成物及びその乾燥フィルム |
JPH07234508A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-09-05 | Morton Thiokol Inc | 水性の光画像形成性組成物及びその乾燥フィルム |
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JP2012194371A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 感光性平版印刷版 |
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