Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JPH01238656A - 高感度光重合性組成物 - Google Patents

高感度光重合性組成物

Info

Publication number
JPH01238656A
JPH01238656A JP6630988A JP6630988A JPH01238656A JP H01238656 A JPH01238656 A JP H01238656A JP 6630988 A JP6630988 A JP 6630988A JP 6630988 A JP6630988 A JP 6630988A JP H01238656 A JPH01238656 A JP H01238656A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
photopolymerizable composition
atom
acid
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6630988A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Tomioka
富岡 秀雄
Masahiko Harada
雅彦 原田
Masami Kawabata
川畑 政巳
Yasuyuki Takimoto
滝本 靖之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Paint Co Ltd
Original Assignee
Nippon Paint Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Paint Co Ltd filed Critical Nippon Paint Co Ltd
Priority to JP6630988A priority Critical patent/JPH01238656A/ja
Priority to DE1989619102 priority patent/DE68919102T2/de
Priority to EP89104844A priority patent/EP0333224B1/en
Publication of JPH01238656A publication Critical patent/JPH01238656A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光重合性組成物、特に厚膜硬化時に表面硬化性
および内部硬化性の両者に優れた光重合性組成物に関す
る。
(従来の技術) 光照射により硬化する光重合性組成物はフ1 トレノス
ト、インキ、塗料、印刷製版材料など利用度か高い。光
重合性組成物は通常光照射によりラノカルを発生し得る
光重合開始剤とラノカル重合性のモノマーとか主成分と
して配合される。
(発明か解決しようとする課題) ところが、ラノカル重合の場合基本的に酸素により重合
が抑制または停止されろという欠へかある。この欠点の
ために、厚膜硬化時に表面の硬化不良、または薄膜硬化
時には硬化速度の低下等の現象が生じる。この現象は従
来から光重合開始剤として用いられているヘンジインエ
ーテル類、ケタール類、アセトフJノン類において顕苫
に現れる。
これに対して、酸素による阻害作用を受けにくい光重合
開始剤としてベノゾフェノンとアミンの組合せ、または
ヂオキサントノとアミンの組合U等の使用が提案されて
いるが、これらを使用した場合逆に硬化速度か不十分と
なり、厚膜硬化時に内部硬化性が悪い欠点を有している
(課題を解決すべき手段) 本発明の目的は硬化速度か充分高く、しかし表面および
内部の両方の硬化性に優れた光重合性組成物を提供する
ことにある。
即ち、本発明はエチレン性不飽和二重結合をTrする付
加重合可能な化合物と光重合開始剤を含む光重合性組成
物において、該光重合開始剤か、(a)  下記一般式
El iで示される化合物「式中、Xは硫黄原子もしく
は−C−を表し、R1、R2、R3およびR4はそれぞ
れ独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基、アルコキン基、カルポギノル基、−C)(2C
OOI−1基、ニトロ基、スルボニル基、ポスボニル基
、ノアノ基、ヒトロキンル基またはハロゲン原子を示す
。](b)  ノアリールヨードニウム塩、および(c
)  窒素原子に結合した炭素のうち少なくとも1つか
メヂレン拮であるアミン の組合わせからなることを特徴とする光重合性組成物を
提供する。
上記一般式[IIで表される化合物(以下、成分(a)
と称することもある。)において、R、、R2、R3ま
たはR4のアルキル基は通常炭素数1〜4を有し、例え
はメヂル基、エチル基、プロピル基、ブヂル基等が挙げ
られる。置換アルキル基の置換基は炭素数l〜4のアル
キル基、炭素数1〜3のアルコキシ基(例えば、メトキ
ン基およびエトキノ基)、フェニル基、ハロゲン原子(
例えは、塩素および臭素)またはアミノ基等であってよ
い。アルコキシ基は上記炭素数1〜3のらのが挙げられ
る。
ハロゲン原子としては塩素臭素等が挙げられる。
」−記ノアリールヨートニウl、塩(以下、成分(b)
と称することもある。)は、一般に下記一般式[LIl
て示される化合物である。
[式中、R5−R8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子(例えば塩素、臭素)、低級アルキル基(例え
ばメチル、エチル、プロピル、t−ブチル)、低級アル
コキノ基(例えばメトギン、エトキノ、プロボギノ)ま
たはニトロ基を表わし、Y−はハロケンイオン(例えば
C(−1Br−1I−)、13F、−1PF6−1Δ5
Pc−または5bFc−を表わす。]一般式[II]で
示される化合物は、例えば[ジャーナル・オフ・ポリマ
ー・サイエンス・ポリマー・ノンボンアl(J 、 P
olym、Sci、Polym、SymP、)56巻3
83〜395頁(1976年)に記載の方法に従って合
成することができ、例えばジフェニルヨードニウム、ビ
ス(p−クロロツボニル)ヨードニウム、ジトリルヨー
ドニウム、ヒス(p−t−ブチルフェニル)ヨードニウ
ム、ビス(m−ニトロフェニル)ヨードニウムなどのヨ
ードニウムのクロリド、フロミド、ホウフン化塩、ヘキ
サフルオロホスフェート塩、ヘギザフルオロアルセネー
ト塩、ヘギサフルオロアンチモネート塩を挙げることが
できる。
上記窒素原子に結合した炭素のうち少なくとも1つがメ
チレン基であるアミン(以下、成分(c)と称すること
らある。)としては、例えばトリエチルアミン、N−メ
チルジエタノールアミン、1−リエタノールアミン、N
−エチル−N−ベンジルアニリン、ノエタノールアミン
、N−フェニルグリノン、ベンジルジメチルアミンなど
を挙げることができ、特にN−メヂルジエタノールアミ
ンが好ましい。
上記エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な
化合物(以下、二重結合含有化合物と称することもある
。)は、光重合開始剤の作用により付加重合して硬化し
、実質的に不溶化をもたらずようなエチレン性不飽和二
重結合を有する単重体または重合体であればよい。その
具体例としては、不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸
と脂肪族ポリヒドロキン化合物とのエステル、不飽和カ
ルボン酸と芳香族ポリヒドロキン化合物とのエステル、
不飽和カルホン酸とエポキシドとの付加反応物などが挙
げられる。
不飽和カルホン酸の具体例としてはアクリル酸、メタク
リル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸などがあ
る。脂肪族ポリヒドロキン化合物としてはエチレンクリ
コール、ジエヂレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、プロピレングリコール、1.2−ブタンジオールな
との二価アルコール類、トリメチロールエタン、トリメ
チロールエタン、グリセロールなどの三価アルコール類
、ペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトールな
どの四価あるいはそれ以上の多価アルコール類、多価ヒ
ドロキンカルホン酸類などが例示される。芳香族ポリヒ
ドロキノ化合物とじてはハイドロキノン、レゾルノン、
カテコール、ピロガロールなどがある。エポキシドとし
てはトリメチロールプロパンポリグリンノルエーテル、
ペンタエリスリトールボリグリンジルエーテル、プロピ
レングリコールジクリシジルエーテル、フタル酸のジグ
リンンルエステル、エピクロルヒドリンと2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとの反応物など
がある。多価カルボン酸としてはフタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、テトラクロルフタル酸、トリメリッ
ト酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンジカルボン酸、
マレイン酸、フマル酸、マロン酸、クルタール酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、テトラヒドロフタル酸などがある
不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキン化合物とのエ
ステル、または不飽和カルボン酸と芳香族ポリヒドロキ
ン化合物とのエステルの代表的な例としては、上記脂肪
族ポリヒドロキノ化合物または芳香族ポリヒドロキソ化
合物のアクリル酸またはメタクリル酸のエステルが挙げ
られる。不飽=8− 和カルボン酸および多価カルボン酸と多価ヒドロキシ化
合物とのエステル化反応により得られるエステルの代表
的な例としては、以下に示すものが挙げられる。(ただ
し、Z′はアクリロイル基またはメタクリロイル基であ
る。) Z′(OC2H4井00C−(−CH2FCOO玉C,
H,O井Z′Z′−(OC21(4丹00C−CH=C
H−Coo(C2H,O汁Z′z′−QC2H,−00
COCOO−C2H4−OHZ′−QC21L−00C
−(CI+2)、−COO−C1+2■ Z’  −0C2114−00C−(CH2)、−CO
O−CH■ Z′QC,lI400C(CI+2)、 C00−C1
+2その低木発明に用いることができる二重結合含有化
合物の例としては、アクリルアミド、ユーヂレンビスア
クリルアミト、ヘキザメチレンビスアクリルアミドなど
のアクリルアミド類、エチレンヒスメタクリルアミド、
ヘキザメチレンヒスメタクリルアミトなどのメタクリル
アミF類、フタル酸ノアリル、マロン酸ジアリル、フマ
ル酸ジアリル、トリアリルイソノアヌレートなとのアリ
ルエステル類などの二重結合含有化合物が挙げられる。
重合体としての二重結合含有化合物にあって、主鎖に二
重結合を有するものの例としては、不飽和二価カルボン
酸(例えばマレイン酸、フマル酸)とジヒドロキン化合
物(例えば上記二価アルコール類)との重縮合反応によ
り得られろポリエステル、上記不飽和二価カルボン酸と
ンアミン(例えばエヂレンジアミン、ヘキザメヂレノン
アミン)との重縮合反応により得られるポリアミドなと
か挙げられる。側鎖に二重結合を有するものの例として
は、側鎖に二重結合をもっ二価カルボン酸(例えはイク
コン酸、α−メヂルイタコン酸、γ−メチルイタコン酸
、プロピリデンコハク酸、α−エヂリデンクルクル酸、
エチリデンマロン酸、プ〔lビリデンマロン酸)と上記
ジヒドロキン化合物との重縮合反応により得られるポリ
ユースチル、あるいは上記ノアミンとの重縮合反応によ
り得られるポリアミドが挙げられろ。また、側鎖にヒト
ロギノ基やハ〔lケン化メチル基の如き官能基をもつ重
合体とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸のような
不飽和カルボン酸との高分子反応により得られろ重合体
も使用できる。なお、側鎖に官能基をもつ重合体として
は、ボリヒニルアルコール、ポリ酢酸ビニルの部分ケン
化物、アクリロニトリルとスチレン、塩化ビニル、塩化
ヒニリデンなととの共重合体、アクリロニトリルと酢酸
ビニルとの共重合体の完全ケン化物、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレートとアクリロニトリル、メチルメタク
リレート、ブチルメタクリレート、スチレン、塩化ビニ
リデン、酢酸ビニルなどとの共重合体、ポリ(4−ヒド
ロギンスチレン)、ポリ(N−メチロールアクリルアミ
ド)なとか挙げられろ。
以上の二重結合含有化合物にあって、アクリル酸エステ
ル類まfこはメタクリル酸エステル類の単量体の使用が
特に好ましい。
本発明組成物7こあって前記光重合開始剤の使用割合は
二重結合含有化合物1gに対し成分(a)を000 ]
−0,1ioC,好ましくは0.01〜0.0511o
Qz成分(b)を0.01−0.]moQ好ましくは0
03−0.05ioρ、成分(C)を0.05−0.5
moC好ましくはOl〜0 、3 moQである。これ
ら3成分のうち成分(a)が下限より少ないと感光性か
低下し、成分(b)か下限より少ないと内部硬化性が低
下し、成分(c)が下限より少ないと表面硬化性か低下
することになる。また成分(a) 、 (b) 、 (
c)かそれぞれ上限よりも多くなると、当該組成物から
形成される皮膜の強度や耐溶媒溶解性などの低下をもた
らし、実用的用途に適さなくなる。
本発明組成物は、上述の二重結合含有化合物と成分(a
) (b)および成分(c)の組合わせからなる光重合
開始剤を必須成分とするが、必要に応じて他のポリマー
成分、例えば部分ケン化ポリ酢酸ヒニルセルロース誘導
体、ポリエチレンオキノド、ポリアクリル酸ナトリウム
、ポリアミドなとを、本発明組成物に加えてもよい。さ
らに、ポリアクリル酸アルキルエステル、アクリル酸ア
ルキルエステルとアクリル酸、メタクリル酸、アクリロ
ニトリル、ブタジェン、スチレン等との共重合体、ポリ
メタクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキル
エステルとアクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリ
ル、ブタジェン、スチレン等との共重合体等を加えても
よい。これらのポリマー成分は上記エヂレン性不飽和モ
ノマー100重最部に対し0−1000!竜部、好まし
くは0〜2゜0重量部である。
さらに、必要に応じ重合禁止剤(例えば2.6一ンーt
−ブヂルーp−クレゾール、ハイドロキノン、p−メト
ギシフェノール)か配合されてもよい。重合禁止剤の配
合量は上記エチレン性不飽和モノマー100重塁部に対
して0〜5重量部、好ましくは0〜2重患部である。
上記必須成分および任意成分を必要に応じ水や有機溶剤
のような適宜の液体を添加して混和し、光重合性組成物
を得る。
本発明組成物は通常の方法で調製されてよい。
例えば上述の必須成分および任意成分をそのままもしく
は必要に応じて溶媒(例えばメヂルエチルケトン、アセ
トン、ノクロヘキザノンなどのケトン系溶媒、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、トルエン、キン
レンなどの芳香族系溶媒、メチルセロソルフ、エチルセ
ロソルブ、ブヂルセロソルフなとのセロソルブ系溶媒、
メタノール、エタノール、プロパツールなどのアルコー
ル系溶媒、テトラヒドロフラン、ノオギザンなどのエー
テル系溶媒)を配合し、冷暗所にて例えばニーダ−ある
いはミキサーを使用して混合することにより調製できる
ここに得られた光重合性組成物はそのまま、または任意
の形状に成形し、UV硬化インキ、UV硬化塗料、印刷
製版材料、ドライフィルムレジスト、マイクロリンクラ
フイー用レジストなどとして使用され得る。
本発明の光重合性組成物に適用できる露光光源としては
、高圧水銀灯、中圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハ
ライドランプ等の汎用の光源を使用し得る。
(発明の効果) 本発明の光重合性組成物は光、特に紫外線に高い感度を
示し、硬化速度が速い。また、厚膜硬化時においても表
面・内部の両方の硬化性が優れている。
(実施例) 本発明を実施例により更に詳細に説明する。本発明はこ
れら実施例に限定されない。
実施例1〜9および比較例1〜3 光重合性組成物の調製 2−ヒドロキシエチルメタクリレート1gに成分(a)
 、 (b)及び(C)(第1表に示ずモル数)を溶解
させ光重合性組成物の溶液(感光液)を得た一0使用し
た成分(a) (b)及び(c)を以下に示す。
a−12,4−ノエチルヂオキザントンa−22,4−
ジメヂルチオキサントンa−32−イソプロビルチオキ
ザントンa−42−クロロチオキサントン a−52−エチルアントラキノン a−6アントラキノン b−i  ジフェニルヨードニウムクロリドb−2ジフ
ェニルヨードニウムテトラフルオロボレート c−IN−メヂルジエタノールアミン c−2N−フェニルグリシン 刷I− 上記感光液を直径5 、5 cm深さ7mmのアルミニ
ウム性の同筒状の缶に液厚1.2mmまたは0 、5 
mmになるように入れ、オーク製作所社製超高圧水銀灯
(3KW)の光を鉛直方向60cm上方より照射し、−
16〜 照射後重さ309先端の直径0 、5 mmの金属針を
鉛直方向1cxより自由落下させ、その先端が硬化膜よ
り針太しなくなるまでの照射時間を測定し、感光性の評
価規準とした。また目視あるいは触覚により表面硬化性
を判断した。内部硬化性は得られた硬化物を半分に切断
し、中央部の硬化状態を目視あるいは触覚により判断し
た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な
    化合物と光重合開始剤を含む光重合性組成物において、
    該光重合開始剤が、 (a)下記一般式[ I ]で示される化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] [式中、Xは硫黄原子もしくは−C−を表し、R_1、
    R_2、R_3およびR_4はそれぞれ独立に水素原子
    、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、アルコキ
    シ基、カルボキシル基、−CH_2COOH基、ニトロ
    基、スルホニル基、ホスホニル基、シアノ基、ヒドロキ
    シル基またはハロゲン原子を示す。] (b)ジアリールヨードニウム塩、および (c)窒素原子に結合した炭素のうち少なくとも1つが
    メチレン基であるアミン の組合わせからなることを特徴とする光重合性組成物。 2、ジアリールヨードニウム塩が一般式[II]▲数式、
    化学式、表等があります▼[II][式中、R_5、R_
    6、R_7およびR_8はそれぞれ独立に水素原子、ハ
    ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはニトロ基
    を示し、Y−はハロゲンイオン、水酸イオン、HSO_
    4^−、BF_4^−、PF_6^−、AsF_6^−
    またはSbF_6^−を示す。]を有する請求項1記載
    の光重合性組成物。 3、窒素原子に結合した炭素のうち少なくとも1つがメ
    チレン基であるアミンがN−メチルジエタノールアミン
    である請求項1記載の光重合性組成物。
JP6630988A 1988-03-18 1988-03-18 高感度光重合性組成物 Pending JPH01238656A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6630988A JPH01238656A (ja) 1988-03-18 1988-03-18 高感度光重合性組成物
DE1989619102 DE68919102T2 (de) 1988-03-18 1989-03-17 Photopolymerisierbare Zusammensetzung.
EP89104844A EP0333224B1 (en) 1988-03-18 1989-03-17 Photopolymerizable composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6630988A JPH01238656A (ja) 1988-03-18 1988-03-18 高感度光重合性組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01238656A true JPH01238656A (ja) 1989-09-22

Family

ID=13312086

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6630988A Pending JPH01238656A (ja) 1988-03-18 1988-03-18 高感度光重合性組成物

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0333224B1 (ja)
JP (1) JPH01238656A (ja)
DE (1) DE68919102T2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006137183A (ja) * 2004-10-13 2006-06-01 Seiko Epson Corp インクジェット記録方法およびインク組成物セット
US8105429B2 (en) 2008-07-08 2012-01-31 Seiko Epson Corporation Ink set, ink jet recording method, recorded matter, and ink jet recording apparatus
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
US9034427B2 (en) 2008-02-29 2015-05-19 Seiko Epson Corporation Method of forming opaque layer, recording process, ink set, ink cartridge, and recording apparatus
US9169410B2 (en) 2006-11-30 2015-10-27 Seiko Epson Corporation Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4027301A1 (de) * 1990-08-29 1992-03-05 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
JPH04113362A (ja) * 1990-09-03 1992-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH04170546A (ja) * 1990-11-01 1992-06-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP4967378B2 (ja) 2005-03-29 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 インク組成物
JP5472670B2 (ja) 2007-01-29 2014-04-16 セイコーエプソン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法及び記録物
JP4766281B2 (ja) 2007-09-18 2011-09-07 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物
JP2011152747A (ja) 2010-01-28 2011-08-11 Seiko Epson Corp 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP5692490B2 (ja) 2010-01-28 2015-04-01 セイコーエプソン株式会社 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5333287A (en) * 1976-09-09 1978-03-29 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPS55154970A (en) * 1979-05-18 1980-12-02 Ciba Geigy Ag Thioxanthonecarboxylic acid ester* thioester and amide
JPS5880301A (ja) * 1981-11-03 1983-05-14 セリコル・グル−プ・リミテツド 水系光重合性組成物
JPS60247639A (ja) * 1984-05-24 1985-12-07 Agency Of Ind Science & Technol 光不溶性感光材料
JPS6343133A (ja) * 1986-08-11 1988-02-24 Nippon Paint Co Ltd 高感度光重合性組成物
JPS63273602A (ja) * 1987-04-02 1988-11-10 ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング カンパニー 三元光開始剤系を含む付加重合性組成物

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3759807A (en) * 1969-01-28 1973-09-18 Union Carbide Corp Photopolymerization process using combination of organic carbonyls and amines
DE2966584D1 (en) * 1978-10-27 1984-03-01 Ici Plc Polymerisable compositions, derived coatings and other polymerised products
DE3069349D1 (en) * 1979-06-18 1984-11-08 Eastman Kodak Co Co-initiator compositions for photopolymerization containing 3-acyl-substituted coumarins, photopolymerizable composition and photographic element
JPS57163377A (en) * 1981-03-16 1982-10-07 Nippon Kayaku Co Ltd Dialkylthioxanthone compound, its preparation, and curing of photopolymerizable resin composition using it

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5333287A (en) * 1976-09-09 1978-03-29 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPS55154970A (en) * 1979-05-18 1980-12-02 Ciba Geigy Ag Thioxanthonecarboxylic acid ester* thioester and amide
JPS5880301A (ja) * 1981-11-03 1983-05-14 セリコル・グル−プ・リミテツド 水系光重合性組成物
JPS60247639A (ja) * 1984-05-24 1985-12-07 Agency Of Ind Science & Technol 光不溶性感光材料
JPS6343133A (ja) * 1986-08-11 1988-02-24 Nippon Paint Co Ltd 高感度光重合性組成物
JPS63273602A (ja) * 1987-04-02 1988-11-10 ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング カンパニー 三元光開始剤系を含む付加重合性組成物

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006137183A (ja) * 2004-10-13 2006-06-01 Seiko Epson Corp インクジェット記録方法およびインク組成物セット
JP4706426B2 (ja) * 2004-10-13 2011-06-22 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録方法およびインク組成物セット
US8142007B2 (en) 2004-10-13 2012-03-27 Seiko Epson Corporation Ink-jet recording method and ink composition set
US9169410B2 (en) 2006-11-30 2015-10-27 Seiko Epson Corporation Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
US9790386B2 (en) 2006-11-30 2017-10-17 Seiko Epson Corporation Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
US9616675B2 (en) 2007-03-01 2017-04-11 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
US9034427B2 (en) 2008-02-29 2015-05-19 Seiko Epson Corporation Method of forming opaque layer, recording process, ink set, ink cartridge, and recording apparatus
US8105429B2 (en) 2008-07-08 2012-01-31 Seiko Epson Corporation Ink set, ink jet recording method, recorded matter, and ink jet recording apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
EP0333224B1 (en) 1994-11-02
EP0333224A3 (en) 1990-03-14
DE68919102T2 (de) 1995-04-20
EP0333224A2 (en) 1989-09-20
DE68919102D1 (de) 1994-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1206031A (en) Use of substituted glyoxalate derivates as photoinitiators
JPH01238656A (ja) 高感度光重合性組成物
SE412396B (sv) Fotopolymeriserbar komposition
JPH05249672A (ja) 光重合性組成物及びそれを用いた印刷版の製造方法
WO1985001947A1 (en) Photocurable (meth)acrylate and cationic monomers or prepolymers
JPS6088005A (ja) 光硬化樹脂組成物
JP2003507758A (ja) 感光性樹脂組成物
US2892716A (en) Photopolymerizable composition comprising an unsaturated vinyl polymer and a sheet support coated therewith
TW200415442A (en) Heat stable photocurable resin composition for dry film resist
EP0434098A2 (en) Photo-curable amine-containing compositions
EP0132869A1 (en) Alpha-halogenated aromatic compounds as photoinitiators
US4187112A (en) Photosensitive plate containing nitrogen containing condensation type polyesters
JPH02212502A (ja) 光硬化性組成物
NZ208673A (en) Photopolymerisation using alpha-halogenated benzene derivatives as photoinitiators
JPH02103205A (ja) 光硬化性組成物
JPS62950A (ja) 感光性樹脂版材
JPS63278909A (ja) 光重合性組成物
JPH09235310A (ja) 光硬化性組成物
JP3983150B2 (ja) 自己光重合開始型感光性樹脂及びそれを用いた感光性樹脂組成物並びにその硬化物
NZ208415A (en) Amine promotion of glyoxylate photopolymerisation initiators
JPH0362163B2 (ja)
JP2784070B2 (ja) 光重合性組成物
JPH05239117A (ja) 重合可能な組成物
JPS63177125A (ja) 感光性樹脂組成物
JPS6096604A (ja) 光不溶性樹脂組成物