JPH09125241A - Magnetron electrode - Google Patents
Magnetron electrodeInfo
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- JPH09125241A JPH09125241A JP30827995A JP30827995A JPH09125241A JP H09125241 A JPH09125241 A JP H09125241A JP 30827995 A JP30827995 A JP 30827995A JP 30827995 A JP30827995 A JP 30827995A JP H09125241 A JPH09125241 A JP H09125241A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜製造用のスパッタ
装置のマグネトロン電極に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetron electrode for a sputtering apparatus for producing a thin film.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のスパッタ装置のマグネトロン電極
には、図2に示すように、円形ヨーク1の中央部に厚み
方向に磁化された円柱状の永久磁石2が接着固定され、
さらにヨーク1の外周部に永久磁石2と反対方向に磁化
された環状の永久磁石3が接着固定されているものや、
図3に示すように、ラジアル方向に磁化された環状の永
久磁石11の外周及び内周にポールピース12a、12
bを配し、これらが非磁性体のベースプレート13に接
着固定されているものがある。2. Description of the Related Art As shown in FIG. 2, a cylindrical permanent magnet 2 magnetized in the thickness direction is adhered and fixed to a central portion of a circular yoke 1 on a magnetron electrode of a conventional sputtering apparatus.
Further, an annular permanent magnet 3 magnetized in the opposite direction to the permanent magnet 2 is fixedly adhered to the outer peripheral portion of the yoke 1,
As shown in FIG. 3, pole pieces 12a, 12 are provided on the outer and inner circumferences of the annular permanent magnet 11 magnetized in the radial direction.
There is a device in which b is arranged and these are bonded and fixed to the non-magnetic base plate 13.
【0003】このような電極に電界をかけると、磁気回
路より発生する磁力線7によりターゲット4の近傍に電
界と磁界が直交する空間ができマグネトロン放電により
スパッタ領域5の部分がスパッタされる。When an electric field is applied to such an electrode, a magnetic field line 7 generated by a magnetic circuit creates a space near the target 4 where the electric field and the magnetic field are orthogonal to each other, and the portion of the sputtering region 5 is sputtered by magnetron discharge.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、この種のマグ
ネトロン電極は、磁気回路による磁界の分布が一定であ
るため、ターゲットのスパッタ領域5が固定され、ター
ゲット利用率が低くなっていた。However, in this type of magnetron electrode, since the distribution of the magnetic field by the magnetic circuit is constant, the sputtering area 5 of the target is fixed and the target utilization rate is low.
【0005】また、この点を改善するため、磁気回路の
形状を図4の様に長円形にして、これを回転させる方法
も提案されているが、磁界のピーク値を均一にすること
は難しく、ターゲットのスパッタ領域もあまり広くする
ことはできないという問題があった。In order to improve this point, a method of making the shape of the magnetic circuit into an elliptical shape as shown in FIG. 4 and rotating it has been proposed, but it is difficult to make the peak value of the magnetic field uniform. However, there is a problem that the sputtering area of the target cannot be made too wide.
【0006】従って、本発明の技術的課題は、上記欠点
を解決し、マグネトロン放電に必要な磁界をターゲット
の広い領域において均一に加えることができ、ターゲッ
トの利用率が大幅に向上されるとともに成膜の膜厚分布
も均一になるマグネトロン電極の提供にある。Therefore, the technical problem of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks, to uniformly apply the magnetic field required for magnetron discharge in a wide area of the target, and to significantly improve the utilization factor of the target. The purpose is to provide a magnetron electrode having a uniform film thickness distribution.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】即ち、本発明によれば、
ヨーク上に永久磁石を固定した磁気回路を有するマグネ
トロン電極において、磁気回路の外径をターゲットの外
径より小さくし、磁気回路がターゲットの径方向に往復
直線運動しながらターゲットの中心軸に対して回転運動
するように構成したことを特徴とするマグネトロン電極
が得られる。That is, according to the present invention,
In a magnetron electrode having a magnetic circuit with a permanent magnet fixed on the yoke, the outer diameter of the magnetic circuit is made smaller than the outer diameter of the target, and the magnetic circuit reciprocates linearly in the radial direction of the target with respect to the center axis of the target. A magnetron electrode is obtained which is characterized by being configured to rotate.
【0008】本発明によれば、磁気回路がターゲットの
径方向に往復運動すると同時にターゲットが回転運動す
るようにしたことを上記マグネトロン電極が得られる。According to the present invention, the magnetron electrode is obtained in which the magnetic circuit reciprocates in the radial direction of the target and at the same time the target rotates.
【0009】(作用)本発明のマグネトロン電極におけ
る磁気回路は、ヨークと、このヨーク上の中央部に接着
された厚み方向に磁化された円柱状の永久磁石と、外周
部に接着された、この永久磁石と反対方向に磁化された
環状の永久磁石とにより構成される。この磁気回路によ
り、同心円上の分布が均一な磁界が得られる。(Operation) The magnetic circuit in the magnetron electrode of the present invention comprises a yoke, a cylindrical permanent magnet magnetized in the thickness direction, which is adhered to the central portion of the yoke, and an outer peripheral portion of which is adhered. It is composed of a permanent magnet and an annular permanent magnet magnetized in the opposite direction. With this magnetic circuit, a magnetic field having a uniform distribution on the concentric circles can be obtained.
【0010】磁気回路の外径を、ターゲットの外径より
小さくし、ターゲットの径方向に往復直線運動させるこ
とができるように構成する。従って、その往復線上で
は、ターゲットに均一な磁界をかけることができる。The outer diameter of the magnetic circuit is smaller than the outer diameter of the target so that the reciprocating linear motion can be performed in the radial direction of the target. Therefore, a uniform magnetic field can be applied to the target on the round trip line.
【0011】さらに、その直線運動系をターゲットの中
心軸に対して回転運動させることにより、ターゲットの
ほぼ全域にわたって均一磁界をかけることができ、それ
により、スパッタ領域が拡大して、ターゲットの利用率
が向上する。Further, by rotating the linear motion system with respect to the center axis of the target, a uniform magnetic field can be applied over almost the entire area of the target, thereby expanding the sputtering area and increasing the utilization rate of the target. Is improved.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】本発明の実施例を図を用いて詳細
に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
【0013】図1は、本発明のマグネトロン電極の断面
図である。図1において、円形ヨーク1の中央部に厚み
方向に磁化された円柱状の永久磁石2が接着固定され、
さらに、ヨーク1の外周部に永久磁石2と反対方向に磁
化された環状の永久磁石3が同心円上に接着固定されて
いる。回転テーブル6上に設けたガイド凹溝8に、ヨー
ク1の凸部9が嵌合されている。FIG. 1 is a sectional view of the magnetron electrode of the present invention. In FIG. 1, a columnar permanent magnet 2 magnetized in the thickness direction is bonded and fixed to the central portion of a circular yoke 1,
Further, an annular permanent magnet 3 magnetized in the opposite direction to the permanent magnet 2 is bonded and fixed on the outer peripheral portion of the yoke 1 in a concentric circle. The convex portion 9 of the yoke 1 is fitted in the guide concave groove 8 provided on the rotary table 6.
【0014】ヨーク1は、外径がターゲット4の外径よ
り小さく、ターゲット4の径方向に往復直線運動できる
ようになっている。又、テーブル6は、ターゲットの中
心軸に対して回転運動できるようになっている。又、永
久磁石2,3は、同心円状に配置されているため、磁界
分布は均一となっている。The outer diameter of the yoke 1 is smaller than that of the target 4, and the yoke 1 can reciprocate linearly in the radial direction of the target 4. Further, the table 6 can be rotated with respect to the center axis of the target. Further, since the permanent magnets 2 and 3 are arranged concentrically, the magnetic field distribution is uniform.
【0015】ここで、ターゲット4に電界をかけると、
磁気回路より発生する磁力線7により、マグネトロン放
電現象でターゲット4のスパッタ領5域がスパッタされ
る。When an electric field is applied to the target 4,
The magnetic field lines 7 generated from the magnetic circuit cause the sputtering region 5 of the target 4 to be sputtered by the magnetron discharge phenomenon.
【0016】この状態でヨークをテーブル6上でターゲ
ット4の径方向に直線運動させると、スパッタ領域5も
径方向に移動する。In this state, when the yoke is linearly moved on the table 6 in the radial direction of the target 4, the sputter region 5 also moves in the radial direction.
【0017】また、ヨークを往復直線運動させ、さら
に、テーブル6をターゲット4の中心軸に対して回転運
動させることにより、ターゲット4のほぼ全域にわたっ
て均一磁界をかけられ、それによりスパッタ領域5が拡
大してターゲット4の利用率が大幅に向上する。Further, the yoke is linearly moved back and forth, and further, the table 6 is rotationally moved with respect to the central axis of the target 4, so that a uniform magnetic field is applied over almost the entire area of the target 4, thereby expanding the sputter region 5. Then, the utilization rate of the target 4 is significantly improved.
【0018】また、回転運動については、テーブル6を
固定し、ターゲット4を回転させても同様な効果が得ら
れるため、実用にあたっては適宜選択できる。With respect to the rotational movement, the same effect can be obtained by fixing the table 6 and rotating the target 4, so that it can be appropriately selected in practical use.
【0019】また、図3に示した磁気回路を前記と同様
の操作を行っても、ターゲット4の利用率が大幅に拡大
する。Even if the magnetic circuit shown in FIG. 3 is operated in the same manner as described above, the utilization rate of the target 4 is greatly expanded.
【0020】[0020]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のマグネト
ロン電極は、磁界のピーク値が均一である磁気回路を構
成するヨークと永久磁石がターゲットの径方向に往復直
線運動しながらターゲットの中心軸に対して回転運動す
るため、マグネトロン放電に必要な磁界をターゲットの
広い領域において均一に加えることができ、ターゲット
利用率が大幅に向上するとともに成膜の膜厚分布もより
均一化できる。As described above, in the magnetron electrode of the present invention, the yoke and the permanent magnet forming the magnetic circuit having a uniform magnetic field peak value reciprocate linearly in the radial direction of the target while the central axis of the target is being moved. Because of the rotational movement, the magnetic field required for magnetron discharge can be uniformly applied in a wide area of the target, the target utilization rate can be greatly improved, and the film thickness distribution of the film can be made more uniform.
【図1】本発明マグネトロン電極の断面図。FIG. 1 is a sectional view of a magnetron electrode of the present invention.
【図2】従来のマグネトロン電極の斜視図。FIG. 2 is a perspective view of a conventional magnetron electrode.
【図3】従来の他の例のマグネトロン電極の斜視図。FIG. 3 is a perspective view of another conventional magnetron electrode.
【図4】従来の長円形のマグネトロン電極の斜視図。FIG. 4 is a perspective view of a conventional elliptical magnetron electrode.
1 (円形)ヨーク 2,3,11 永久磁石 4 ターゲット 5 スパッタ領域 6 (回転)テーブル 7 磁力線 8 凹溝 9 凸部 10 磁気回路 12a,12b ポールピース 13 ベースプレート 1 (Circular) Yoke 2,3,11 Permanent Magnet 4 Target 5 Sputtering Area 6 (Rotation) Table 7 Magnetic Field Line 8 Groove 9 Groove 10 Magnetic Circuit 12a, 12b Pole Piece 13 Base Plate
Claims (2)
を有するマグネトロン電極において、磁気回路の外径を
ターゲットの外径より小さくし、磁気回路がターゲット
の径方向に往復直線運動しながらターゲットの中心軸に
対して回転運動するように構成したことを特徴とするマ
グネトロン電極。1. In a magnetron electrode having a magnetic circuit in which a permanent magnet is fixed on a yoke, the outer diameter of the magnetic circuit is made smaller than the outer diameter of the target so that the magnetic circuit reciprocates linearly in the radial direction of the target. A magnetron electrode characterized by being configured to rotate about a central axis.
動すると同時にターゲットが回転運動するようにしたこ
とを特徴とする第1請求項記載のマグネトロン電極。2. The magnetron electrode according to claim 1, wherein the magnetic circuit reciprocates in the radial direction of the target and at the same time the target rotates.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30827995A JPH09125241A (en) | 1995-10-31 | 1995-10-31 | Magnetron electrode |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30827995A JPH09125241A (en) | 1995-10-31 | 1995-10-31 | Magnetron electrode |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09125241A true JPH09125241A (en) | 1997-05-13 |
Family
ID=17979126
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30827995A Pending JPH09125241A (en) | 1995-10-31 | 1995-10-31 | Magnetron electrode |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09125241A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7119489B2 (en) * | 2002-03-14 | 2006-10-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Rotation-magnetron-in-magnetron (RMIM) electrode, method of manufacturing the RMIM electrode, and sputtering apparatus including the RMIM electrode |
JP2006293367A (en) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Lg Electronics Inc | Variably focusing mirror driven by electromagnetic force and operating method thereof |
-
1995
- 1995-10-31 JP JP30827995A patent/JPH09125241A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7119489B2 (en) * | 2002-03-14 | 2006-10-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Rotation-magnetron-in-magnetron (RMIM) electrode, method of manufacturing the RMIM electrode, and sputtering apparatus including the RMIM electrode |
US7208878B2 (en) | 2002-03-14 | 2007-04-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of manufacturing a rotation-magnetron-in-magnetron (RMIM) electrode |
JP2006293367A (en) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Lg Electronics Inc | Variably focusing mirror driven by electromagnetic force and operating method thereof |
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Effective date: 20050419 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
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