JPH06130663A - 非晶質の感放射線性化合物及びそれを用いてなる感放射線性樹脂組成物 - Google Patents
非晶質の感放射線性化合物及びそれを用いてなる感放射線性樹脂組成物Info
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- JPH06130663A JPH06130663A JP27847692A JP27847692A JPH06130663A JP H06130663 A JPH06130663 A JP H06130663A JP 27847692 A JP27847692 A JP 27847692A JP 27847692 A JP27847692 A JP 27847692A JP H06130663 A JPH06130663 A JP H06130663A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 感放射線性樹脂組成物中の非溶解粒子数が少
ない感放射線性化合物、並びに、製造直後及び長期保存
後の非溶解粒子数が少なく、集積回路作製時の歩留りが
良好な感放射線性樹脂組成物を提供する。 【構成】 Ｃu のＫα線をＸ線源とする粉末Ｘ線回折に
おいて、２θ値で５°〜35°の範囲に少なくとも１つの
極大値を含む非晶質ハロー図形を有することを特徴とす
る非晶質の感放射線性化合物、及びそれを用いてなる感
放射線性樹脂組成物。
ない感放射線性化合物、並びに、製造直後及び長期保存
後の非溶解粒子数が少なく、集積回路作製時の歩留りが
良好な感放射線性樹脂組成物を提供する。 【構成】 Ｃu のＫα線をＸ線源とする粉末Ｘ線回折に
おいて、２θ値で５°〜35°の範囲に少なくとも１つの
極大値を含む非晶質ハロー図形を有することを特徴とす
る非晶質の感放射線性化合物、及びそれを用いてなる感
放射線性樹脂組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線、Ｘ線、電子
線、分子線、γ線、シンクロトロン放射線、プロトンビ
ーム等の放射線に感応する感放射線性化合物、及びそれ
を用いてなる感放射線性樹脂組成物に関する。
線、分子線、γ線、シンクロトロン放射線、プロトンビ
ーム等の放射線に感応する感放射線性化合物、及びそれ
を用いてなる感放射線性樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】LSI の高集積化に伴い、集積回路のデザ
インルールも１μｍ付近から0.5 μｍ付近へと微細化し
ている。このような微細加工に用いられる感放射線性樹
脂組成物には解像度、感度、プロファイル、塗布性及び
焦点深度のような基本性能の他に、良好な保存安定性が
要求される。即ち、感放射線性樹脂組成物中に目視では
観察しえない比較的大きい非溶解粒子が多い場合、該組
成物から形成されたレジストパターンを介して基板をエ
ッチングすると、しばしば、レジストパターンにより覆
われた基板部分にピンホールが発生し、集積回路作製時
の歩留りが悪化することが知られている。上記の非溶解
粒子は主として感放射線性化合物に由来するものであ
り、感放射線性樹脂組成物中の非溶解粒子数は該組成物
の調製直後はそれほど問題になるレベルではなくとも、
逐次増加して長期保存後には異常なレベルになる。
インルールも１μｍ付近から0.5 μｍ付近へと微細化し
ている。このような微細加工に用いられる感放射線性樹
脂組成物には解像度、感度、プロファイル、塗布性及び
焦点深度のような基本性能の他に、良好な保存安定性が
要求される。即ち、感放射線性樹脂組成物中に目視では
観察しえない比較的大きい非溶解粒子が多い場合、該組
成物から形成されたレジストパターンを介して基板をエ
ッチングすると、しばしば、レジストパターンにより覆
われた基板部分にピンホールが発生し、集積回路作製時
の歩留りが悪化することが知られている。上記の非溶解
粒子は主として感放射線性化合物に由来するものであ
り、感放射線性樹脂組成物中の非溶解粒子数は該組成物
の調製直後はそれほど問題になるレベルではなくとも、
逐次増加して長期保存後には異常なレベルになる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、感放射線性
樹脂組成物中の非溶解粒子数が少ない感放射線性化合
物、並びに、製造直後及び長期保存後の非溶解粒子数が
少なく、集積回路作製時の歩留りが良好な感放射線性樹
脂組成物を提供する。
樹脂組成物中の非溶解粒子数が少ない感放射線性化合
物、並びに、製造直後及び長期保存後の非溶解粒子数が
少なく、集積回路作製時の歩留りが良好な感放射線性樹
脂組成物を提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｃu のＫα線
をＸ線源とする粉末Ｘ線回折において、２θ値で５°〜
35°の範囲に少なくとも１つの極大値を含む非晶質ハロ
ー図形を有することを特徴とする非晶質の感放射線性化
合物、並びに、該非晶質の感放射線性化合物、アルカリ
可溶性樹脂及び溶剤を混合してなる感放射線性樹脂組成
物である。
をＸ線源とする粉末Ｘ線回折において、２θ値で５°〜
35°の範囲に少なくとも１つの極大値を含む非晶質ハロ
ー図形を有することを特徴とする非晶質の感放射線性化
合物、並びに、該非晶質の感放射線性化合物、アルカリ
可溶性樹脂及び溶剤を混合してなる感放射線性樹脂組成
物である。
【０００５】上記の非晶質の感放射線性化合物として
は、例えば１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホ
ン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホン酸エステルもしくは１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸エステル等が挙げられる。これらの
キノンジアジドスルホン酸エステルは例えば、ヒドロキ
シル基を有する化合物と、１，２−ベンゾキノンジアジ
ド−４−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホン酸クロリドもしくは１，２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド等のキノン
ジアジドスルホン酸ハライドとを、ジオキサン、アセト
ン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドもしく
はジメチルスルホキシド等の親水性有機溶媒中、トリエ
チルアミン等の有機塩基の存在下に反応させることによ
り得られる。反応温度は好ましくは室温付近又はそれ以
上であり、短時間で反応を終了させることが好ましい。
反応終了後、直ちに、塩酸等のハロゲン化水素と有機塩
基との塩及び未反応の有機塩基を反応混合物から除去す
ることが好ましい。除去手段としては例えば、反応混合
物中のハロゲン化水素と有機塩基との塩を濾過し、次い
で、得られた濾液を酢酸等の有機酸水溶液で中和する方
法等が挙げられる。好ましい非晶質の感放射線性化合物
としては、非晶質ハロー図形が２つの極大値を含むもの
が挙げられ、より好ましくは２つの極大値の一方が２θ
値で12°〜18°の範囲にあるものが挙げられる。
は、例えば１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホ
ン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホン酸エステルもしくは１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸エステル等が挙げられる。これらの
キノンジアジドスルホン酸エステルは例えば、ヒドロキ
シル基を有する化合物と、１，２−ベンゾキノンジアジ
ド−４−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホン酸クロリドもしくは１，２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド等のキノン
ジアジドスルホン酸ハライドとを、ジオキサン、アセト
ン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドもしく
はジメチルスルホキシド等の親水性有機溶媒中、トリエ
チルアミン等の有機塩基の存在下に反応させることによ
り得られる。反応温度は好ましくは室温付近又はそれ以
上であり、短時間で反応を終了させることが好ましい。
反応終了後、直ちに、塩酸等のハロゲン化水素と有機塩
基との塩及び未反応の有機塩基を反応混合物から除去す
ることが好ましい。除去手段としては例えば、反応混合
物中のハロゲン化水素と有機塩基との塩を濾過し、次い
で、得られた濾液を酢酸等の有機酸水溶液で中和する方
法等が挙げられる。好ましい非晶質の感放射線性化合物
としては、非晶質ハロー図形が２つの極大値を含むもの
が挙げられ、より好ましくは２つの極大値の一方が２θ
値で12°〜18°の範囲にあるものが挙げられる。
【０００６】ヒドロキシル基を有する化合物としては、
例えばハイドロキノン、レゾルシン、フロログルシン、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、２，２’，４−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、２，２’，５−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、２，３，３’−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，３，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、
２，３’，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，
３’，５−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，
４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４’，５−
トリヒドロキシベンゾフェノン、２’，３，４−トリヒ
ドロキシベンゾフェノン、３，３’，４−トリヒドロキ
シベンゾフェノンもしくは３，４，４’−トリヒドロキ
シベンゾフェノン等のトリヒドロキシベンゾフェノン
類、２，３，３’，４−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，２’，３，４−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，２’，３，４’−テトラヒドロキシベンゾフ
ェノン、２，２’，５，５’−テトラヒドロキシベンゾ
フェノン、２，３’，４’，５−テトラヒドロキシベン
ゾフェノンもしくは２，３’，５，５’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン等のテトラヒドロキシベンゾフェノ
ン類、２，２’，３，４，４’−ペンタヒドロキシベン
ゾフェノン、２，２’，３，４，５’−ペンタヒドロキ
シベンゾフェノン、２，２’，３，３’，４−ペンタヒ
ドロキシベンゾフェノンもしくは２，３，３’，４，
５’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン等のペンタヒド
ロキシベンゾフェノン類、２，３，３’，４，４’，
５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンもしくは２，
２’，３，３’，４，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフ
ェノン等のヘキサヒドロキシベンゾフェノン類、没食子
酸アルキルエステル、特開平２−84650 号公報に一般式
（Ｉ）で記載されているオキシフラバン類、特開平２−
269351号公報に一般式（Ｉ）で記載されているフェノー
ル化合物、特開平３−185447号公報に一般式（Ｉ）で記
載されているフェノール化合物、及び特願平４−134862
号に一般式（ＩＶ）で記載されている化合物等が挙げら
れる。
例えばハイドロキノン、レゾルシン、フロログルシン、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、２，２’，４−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、２，２’，５−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、２，３，３’−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，３，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、
２，３’，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，
３’，５−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，
４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４’，５−
トリヒドロキシベンゾフェノン、２’，３，４−トリヒ
ドロキシベンゾフェノン、３，３’，４−トリヒドロキ
シベンゾフェノンもしくは３，４，４’−トリヒドロキ
シベンゾフェノン等のトリヒドロキシベンゾフェノン
類、２，３，３’，４−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，２’，３，４−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，２’，３，４’−テトラヒドロキシベンゾフ
ェノン、２，２’，５，５’−テトラヒドロキシベンゾ
フェノン、２，３’，４’，５−テトラヒドロキシベン
ゾフェノンもしくは２，３’，５，５’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン等のテトラヒドロキシベンゾフェノ
ン類、２，２’，３，４，４’−ペンタヒドロキシベン
ゾフェノン、２，２’，３，４，５’−ペンタヒドロキ
シベンゾフェノン、２，２’，３，３’，４−ペンタヒ
ドロキシベンゾフェノンもしくは２，３，３’，４，
５’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン等のペンタヒド
ロキシベンゾフェノン類、２，３，３’，４，４’，
５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンもしくは２，
２’，３，３’，４，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフ
ェノン等のヘキサヒドロキシベンゾフェノン類、没食子
酸アルキルエステル、特開平２−84650 号公報に一般式
（Ｉ）で記載されているオキシフラバン類、特開平２−
269351号公報に一般式（Ｉ）で記載されているフェノー
ル化合物、特開平３−185447号公報に一般式（Ｉ）で記
載されているフェノール化合物、及び特願平４−134862
号に一般式（ＩＶ）で記載されている化合物等が挙げら
れる。
【０００７】アルカリ可溶性樹脂としては、例えばポリ
ヒドロキシスチレンもしくはその誘導体、スチレン−無
水マレイン酸共重合体、ポリビニルヒドロキシベンゾエ
ート、カルボキシル基を含有するメタアクリル系樹脂、
もしくはノボラック樹脂等が挙げられる。
ヒドロキシスチレンもしくはその誘導体、スチレン−無
水マレイン酸共重合体、ポリビニルヒドロキシベンゾエ
ート、カルボキシル基を含有するメタアクリル系樹脂、
もしくはノボラック樹脂等が挙げられる。
【０００８】ノボラック樹脂としては、例えばフェノー
ル、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−クレゾール、２，５−キシ
レノール、３，５−キシレノールもしくは３，４−キシ
レノール、２，３，５−トリメチルフェノール、４−ｔ
−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチルフェノールもしく
は３−ｔ−ブチルフェノール、３−エチルフェノール、
２−エチルフェノールもしくは４−エチルフェノール、
３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノールもしくは４−メ
チル−２−ｔ−ブチルフェノール、１，３−ジヒドロキ
シナフタレン、１，７−ジヒドロキシナフタレンもしく
は１，５−ジヒドロキシナフタレン、又は２−ナフトー
ル等のフェノール類を単独で又は２種以上組合わせて、
アルデヒド類と常法により縮合させた樹脂が挙げられ
る。
ル、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−クレゾール、２，５−キシ
レノール、３，５−キシレノールもしくは３，４−キシ
レノール、２，３，５−トリメチルフェノール、４−ｔ
−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチルフェノールもしく
は３−ｔ−ブチルフェノール、３−エチルフェノール、
２−エチルフェノールもしくは４−エチルフェノール、
３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノールもしくは４−メ
チル−２−ｔ−ブチルフェノール、１，３−ジヒドロキ
シナフタレン、１，７−ジヒドロキシナフタレンもしく
は１，５−ジヒドロキシナフタレン、又は２−ナフトー
ル等のフェノール類を単独で又は２種以上組合わせて、
アルデヒド類と常法により縮合させた樹脂が挙げられ
る。
【０００９】アルデヒド類としては、例えばホルムアル
デヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プ
ロピルアルデヒド、ベンズアルデヒド、フェニルアルデ
ヒド、α−フェニルプロピルアルデヒド、β−フェニル
プロピルアルデヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシ
ベンズアルデヒド、グルタルアルデヒド、グリオキサー
ル、ｏ−メチルベンズアルデヒドもしくはｐ−メチルベ
ンズアルデヒド等が挙げられる。
デヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プ
ロピルアルデヒド、ベンズアルデヒド、フェニルアルデ
ヒド、α−フェニルプロピルアルデヒド、β−フェニル
プロピルアルデヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシ
ベンズアルデヒド、グルタルアルデヒド、グリオキサー
ル、ｏ−メチルベンズアルデヒドもしくはｐ−メチルベ
ンズアルデヒド等が挙げられる。
【００１０】アルカリ可溶性樹脂と非晶質の感放射線性
化合物との割合は、アルカリ可溶性樹脂100 重量部に対
して通常、非晶質の感放射線性化合物５〜100 重量部で
あり、好ましくは10〜50重量部である。
化合物との割合は、アルカリ可溶性樹脂100 重量部に対
して通常、非晶質の感放射線性化合物５〜100 重量部で
あり、好ましくは10〜50重量部である。
【００１１】溶剤としては、例えばエチルセロソルブア
セテートもしくはプロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート等のグリコールエーテルエステル類、特
開平２−220056号公報に記載された溶剤、酢酸アミル、
乳酸エチル、ピルビン酸メチル、２−メトキシプロピオ
ン酸メチル、２−ヘプタノン又はγ−ブチロラクトン等
が挙げられる。これらの溶剤は単独で又は２種以上組合
わせて用いられる。溶剤量は通常、感放射線性樹脂組成
物中、50〜97重量％になるように調整される。
セテートもしくはプロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート等のグリコールエーテルエステル類、特
開平２−220056号公報に記載された溶剤、酢酸アミル、
乳酸エチル、ピルビン酸メチル、２−メトキシプロピオ
ン酸メチル、２−ヘプタノン又はγ−ブチロラクトン等
が挙げられる。これらの溶剤は単独で又は２種以上組合
わせて用いられる。溶剤量は通常、感放射線性樹脂組成
物中、50〜97重量％になるように調整される。
【００１２】本発明の感放射線性樹脂組成物には必要に
応じて当該技術分野で慣用されている各種の添加物を加
えることができる。
応じて当該技術分野で慣用されている各種の添加物を加
えることができる。
【００１３】
【発明の効果】本発明の感放射線性樹脂組成物は製造直
後及び長期保存後も非溶解粒子数が少なく、該感放射線
性樹脂組成物を用いると集積回路作製時の歩留りを良好
にすることができる。
後及び長期保存後も非溶解粒子数が少なく、該感放射線
性樹脂組成物を用いると集積回路作製時の歩留りを良好
にすることができる。
【００１４】
【実施例】以下、実施例により、本発明をより詳細に説
明する。文中、部は特に記述しない限り、重量部を示
す。
明する。文中、部は特に記述しない限り、重量部を示
す。
【００１５】実施例１ 500ml の４つ口フラスコに２，３，４，４’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン12.31g、１，２−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸クロリド33.6g 及びジオキサン280g
を仕込み、20〜30℃で約１時間攪拌した。次いで、トリ
エチルアミン13.3g を15〜25℃で約１時間かけて滴下
し、滴下終了後、同温度で１時間攪拌した。反応終了
後、直ちに反応混合物を濾過した。濾過残をジオキサン
34g で洗浄した。濾液と洗液を合わせ、これを30℃で純
水930gと酢酸9.3gとの混合液中に注ぎ、28〜32℃で１時
間攪拌して結晶化させた。濾過後、得られた結晶を純水
で十分に洗浄し、次いで40℃で乾燥して約40g の非晶質
の感放射線性化合物を得た。
ドロキシベンゾフェノン12.31g、１，２−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸クロリド33.6g 及びジオキサン280g
を仕込み、20〜30℃で約１時間攪拌した。次いで、トリ
エチルアミン13.3g を15〜25℃で約１時間かけて滴下
し、滴下終了後、同温度で１時間攪拌した。反応終了
後、直ちに反応混合物を濾過した。濾過残をジオキサン
34g で洗浄した。濾液と洗液を合わせ、これを30℃で純
水930gと酢酸9.3gとの混合液中に注ぎ、28〜32℃で１時
間攪拌して結晶化させた。濾過後、得られた結晶を純水
で十分に洗浄し、次いで40℃で乾燥して約40g の非晶質
の感放射線性化合物を得た。
【００１６】実施例２ 実施例１で得られた非晶質の感放射線性化合物172 部、
クレゾールノボラック樹脂〔ｍ−クレゾール／ｐ−クレ
ゾール＝５／５、クレゾール／ホルマリン＝１／0.75
（いずれもモル比）の条件で蓚酸触媒の存在下に縮合さ
せたポリスチレン換算重量平均分子量8000の樹脂〕800
部及びエチルセロソルブアセテート2652部を遮光条件下
に攪拌・混合した。次いで、孔径0.1 μｍのテフロン製
フィルターで濾過後、清浄なガロン瓶に充填して感放射
線性樹脂組成物を得た。リオン（株）製自動微粒子計測
器（KL-20 型）を用いて製造直後の組成物中の非溶解粒
子数を測定して次の結果を得た。 0.25μｍ以上の粒子数 35個／ml 0.25〜0.3 μｍの粒子数 18個／ml 上記組成物を22〜24℃のクリーンルーム内に１カ月保存
後、非溶解粒子数を測定して次の結果を得た。 0.25μｍ以上の粒子数 47個／ml 0.25〜0.3 μｍの粒子数 24個／ml 以上のように、本実施例で得られた感放射線性樹脂組成
物はその中の非溶解粒子数が少ないので、22〜24℃で１
カ月保存後に集積回路を作製しても、その歩留りは良好
である。
クレゾールノボラック樹脂〔ｍ−クレゾール／ｐ−クレ
ゾール＝５／５、クレゾール／ホルマリン＝１／0.75
（いずれもモル比）の条件で蓚酸触媒の存在下に縮合さ
せたポリスチレン換算重量平均分子量8000の樹脂〕800
部及びエチルセロソルブアセテート2652部を遮光条件下
に攪拌・混合した。次いで、孔径0.1 μｍのテフロン製
フィルターで濾過後、清浄なガロン瓶に充填して感放射
線性樹脂組成物を得た。リオン（株）製自動微粒子計測
器（KL-20 型）を用いて製造直後の組成物中の非溶解粒
子数を測定して次の結果を得た。 0.25μｍ以上の粒子数 35個／ml 0.25〜0.3 μｍの粒子数 18個／ml 上記組成物を22〜24℃のクリーンルーム内に１カ月保存
後、非溶解粒子数を測定して次の結果を得た。 0.25μｍ以上の粒子数 47個／ml 0.25〜0.3 μｍの粒子数 24個／ml 以上のように、本実施例で得られた感放射線性樹脂組成
物はその中の非溶解粒子数が少ないので、22〜24℃で１
カ月保存後に集積回路を作製しても、その歩留りは良好
である。
【図１】実施例１で得られた非晶質の感放射線性化合物
のＸ線回折図である。
のＸ線回折図である。
フロントページの続き (72)発明者 加藤 三典 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住 友化学工業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】Ｃu のＫα線をＸ線源とする粉末Ｘ線回折
において、２θ値で５°〜35°の範囲に少なくとも１つ
の極大値を含む非晶質ハロー図形を有することを特徴と
する非晶質の感放射線性化合物。 - 【請求項２】非晶質ハロー図形が２つの極大値を含む請
求項１に記載の感放射線性化合物。 - 【請求項３】２つの極大値の一方が２θ値で12°〜18°
の範囲にある請求項２に記載の感放射線性化合物。 - 【請求項４】請求項１に記載の感放射線性化合物、アル
カリ可溶性樹脂及び溶剤を混合してなる感放射線性樹脂
組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27847692A JPH06130663A (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 非晶質の感放射線性化合物及びそれを用いてなる感放射線性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27847692A JPH06130663A (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 非晶質の感放射線性化合物及びそれを用いてなる感放射線性樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06130663A true JPH06130663A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=17597862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27847692A Pending JPH06130663A (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 非晶質の感放射線性化合物及びそれを用いてなる感放射線性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06130663A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000081700A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-03-21 | Nippon Zeon Co Ltd | パタ―ン形成方法 |
| DE19757681C2 (de) * | 1996-12-25 | 2003-06-26 | Nat Ind Res I Of Nagoya Nagoya | Auf kubischem Bornitrid basierendes Sintermaterial und Verfahren zu seiner Herstellung |
-
1992
- 1992-10-16 JP JP27847692A patent/JPH06130663A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19757681C2 (de) * | 1996-12-25 | 2003-06-26 | Nat Ind Res I Of Nagoya Nagoya | Auf kubischem Bornitrid basierendes Sintermaterial und Verfahren zu seiner Herstellung |
| JP2000081700A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-03-21 | Nippon Zeon Co Ltd | パタ―ン形成方法 |
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