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JPH0590388A - 移替装置 - Google Patents

移替装置

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JPH0590388A
JPH0590388A JP25057991A JP25057991A JPH0590388A JP H0590388 A JPH0590388 A JP H0590388A JP 25057991 A JP25057991 A JP 25057991A JP 25057991 A JP25057991 A JP 25057991A JP H0590388 A JPH0590388 A JP H0590388A
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JP
Japan
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cassette
transfer
stocker
stage
wafers
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JP25057991A
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JP2725496B2 (ja
Inventor
Atsushi Fujisaki
淳 藤崎
Yoichi Mido
洋一 御堂
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 拡散炉の稼動率を大幅に向上させ且つカセッ
トの投入、払い出しの自動化が可能な移替装置を提供す
る。 【構成】 半導体ウエハ2を収納するカセット1を少な
くとも半導体ウエハ2の1回分の処理量が収納可能な個
数だけ載置でき且つ外部搬送機器とカセット1の授受を
行うカセットステージ8と、カセット1を複数個収納可
能なストッカー9と、このストッカー9と1回分の処理
量だけ半導体ウエハ12を収納し拡散炉6内に導く熱処
理用ボート4との間に配設され少なくとも2個のカセッ
ト1が載置可能な移替ステージ11と、カセットステー
ジ8上のカセット1をストッカー9に搬送する第1の搬
送ロボット10と、ストッカー9内のカセット1を移替
ステージ11に搬送する第2の搬送ロボット12と、移
替ステージ11上のカセット1内から熱処理用ボート4
内に半導体ウエハ2を移し替える移替機13とを備え
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、不純物拡散、熱処理
を行う処理炉へ、半導体ウエハを外部搬送機器から自動
的に移し替え搬送する移替装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図4および図5はこの種従来の移替装置
の構成を示す正面図および平面図、図6は半導体ウエハ
を収納するカセットを示す斜視図である。図において、
1は半導体ウエハ2を収納するカセット、3はこのカセ
ット1を複数個収納するストッカー、4は数十枚の半導
体ウエハ2を等間隔、水平状態に保持する保持溝(図示
せず)を有する熱処理用ボート、5はこの熱処理用ボー
ト4を拡散炉6内に送り込むエレベータ、7はストッカ
ー3内に収納されたカセット1内の半導体ウエハ2を熱
処理用ボート4へ移し替える移替機で、真空吸着等の手
段により半導体ウエハ2を一枚ずつハンドリングし、図
中矢印で示すように、走行動作(矢印X)、上昇、下降
動作(矢印Z)、前進、後退動作(矢印Y1、Y2)、旋
回動作(矢印θ)が可能な移替ハンド7aを具備してい
る。
【0003】次に、上記のように構成された従来の移替
装置の動作について説明する。まず、実際に製品となり
うる半導体ウエハが収納された本番カセットが作業者に
よりストッカー3の所定の位置に挿入される。なお、図
に示すように、ストッカー3内には6個のカセット1が
収納されているが、その内4個が本番カセット、また、
1個がプロセス検査用ウエハを収納する検査用カセッ
ト、さらに、残りの1個が処理完了後に検査用ウエハを
回収するための回収カセットである。そして、ストッカ
ー3内でのカセット1の載置姿勢は、半導体ウエハ2が
水平状態で且つカセット1のウエハ取り出し面が内側に
向いた状態になっている。
【0004】この状態でスタートスイッチが押される
と、まず、移替機7は移替ハンド7aが最初に移し替え
られるカセットの前面に位置するように、矢印X方向の
走行運動を行う。次に、カセット1内の半導体ウエハ2
の取り出し順序は、カセット1の下側から順次行われる
のが一般的であるので、移替ハンド7aは矢印Y1方向
に前進動作を行い所望のカセット1の最下部の半導体ウ
エハ2の下方に侵入する。そして、前進動作完了後矢印
Z方向に微量上昇して半導体ウエハ2をカセット1の溝
から浮上させると同時に真空により吸着する。ウエハ2
を吸着すると移替ハンド7aは矢印Y2方向に後退動作
を行って元の位置に復帰し、矢印θ方向に旋回動作を行
って180゜水平反転する。
【0005】次に、移替機7は移替ハンド7aが熱処理
用ボート4の前面に位置するように矢印X方向の走行動
作を行う。半導体ウエハ2の熱処理用ボート4内への挿
入順序は、熱処理用ボート4の上側から順次行われるの
が一般的であるので、移替ハンド7aは半導体ウエハ2
と熱処理用ボート4の溝(図示せず)とが一致するよう
に、矢印Z方向に上昇(下降)動作を行った後矢印Y2
方向に前進する。そして、前進動作完了後真空吸着を解
除して矢印Z方向に微量下降動作を行うことにより、半
導体ウエハ2は熱処理用ボート4の溝に乗り移る。次
に、移替ハンド7aは矢印Y2方向に動作して元の位置
に復帰し、矢印θ方向に旋回運動を行って180゜水平
反転する。以上の動作でカセット1内から熱処理用ボー
ト4への1枚の半導体ウエハ2の移替動作は完了し、以
下、この動作を繰り返すことによりカセット1内の半導
体ウエハ2は全て熱処理用ボート4内へ順次移し替えら
れる。なおこの場合、検査用ウエハについても同様の動
作によって、熱処理用ボート4の所定の位置に複数枚移
し替えられる。
【0006】以上の移替動作が完了すると、エレベータ
5が上昇して熱処理用ボート4は拡散炉6内に挿入され
拡散処理が開始される。そして、拡散炉6内での拡散処
理が終了すると、エレベータ5が下降し熱処理用ボート
4は拡散炉6外に取り出され、上記したカセット1内か
ら熱処理用ボート4への移替動作とは逆に、熱処理用ボ
ート4内からカセット1への半導体ウエハ2の移替動作
が開始される。ここで、半導体ウエハ2はストッカー3
内の元のカセット1の元の溝に戻されるが、検査用ウエ
ハは回収用カセット内に戻される。熱処理用ボート4内
の半導体ウエハ2が全てストッカー3内の所定のカセッ
ト1内に戻されると、作業者によりストッカー3から払
い出され、回収用カセット内の検査用ウエハを抜き取っ
て拡散処理の検証が行われた後、本番カセットは次工程
に送られる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の移替装置は以上
のように構成されているので、ストッカー3の収納能力
が低く拡散炉6の稼動率の低下を招くため、作業者が拡
散炉6の稼動状況を遂次監視しながらカセット1の投
入、払い出しをしなければならないという問題点があっ
た。
【0008】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、拡散炉の稼動率を大幅に向上さ
せ且つカセットの投入、払い出しの自動化が可能な移替
装置を提供することを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明に係る請求項1
の移替装置は、半導体ウエハを収納するカセットを少な
くとも半導体ウエハ1回分の処理量が収納可能な個数だ
け載置でき且つ外部搬送機器とカセットの授受を行うカ
セットステージと、カセットを複数個収納可能なストッ
カーと、このストッカーと1回分の処理量だけ半導体ウ
エハを収納し処理炉内に導く処理用ボートとの間に配設
され少なくとも2個のカセットが載置可能な移替ステー
ジと、カセットステージ上のカセットをストッカーに搬
送する第1のカセット搬送手段と、ストッカー内のカセ
ットを移替ステージに搬送する第2のカセット搬送手段
と、移替ステージ上のカセット内から処理用ボート内に
半導体ウエハを移し替えるウエハ移替手段とを備えたも
のであり、請求項2の移替装置は請求項1において、ス
トッカーには、少なくとも2回分の処理量の半導体ウエ
ハを収納する本番カセットと、この本番カセットの不足
分補充のためのダミーウエハを収納するダミーカセット
と、プロセス検証をするための検査用ウエハを収納する
検査用カセットと、処理後に検査用ウエハを回収するた
めの回収用カセットとを収納するようにしたものであ
る。
【0010】
【作用】この発明における移替装置のカセットステージ
は、外部搬送機器とのカセットの受け渡しを自動的に行
い、又、ストッカーはカセットを複数個収納することに
よって、常に処理前本番カセットの仕掛かりを確保す
る。
【0011】
【実施例】実施例1.以下、この発明の実施例を図につ
いて説明する。図1および図2はこの発明の実施例1に
おける移替装置の構成をそれぞれ示す正面図および平面
図である。図において、カセット1、半導体ウエハ2、
熱処理用ボート4、エレベータ5および拡散炉6は図4
における従来装置のものと同様である。8は外部搬送機
(図示せず)あるいは作業者との間でカセット1の投
入、払い出しの際の受け渡しを行うカセットステージ
で、少なくとも半導体ウエハ2の1回分の処理量が収納
可能なカセット1の個数が載置できるようになってい
る。9はストッカーで、図3に示すように、A部および
B部には拡散処理2回分の本番カセット1a、1bが、
又、C部には本番カセット1a、1bの不足分補充のた
めのダミーカセット1cが、さらに、D部にはプロセス
検証をするための検査用ウエハを収納する検査用カセッ
ト1dが、さらに又、E部には拡散処理完了後に検査用
ウエハを回収する回収用カセット1eがそれぞれ収納さ
れている。
【0012】10はカセットステージ8上のカセット1
をストッカー9に搬送し、図3に示すそれぞれの部分に
収納する第1の搬送ロボット、11は少なくとも2個の
カセット1が載置可能な移替ステージ、12はストッカ
ー9内の各カセット1a〜1eをそれぞれ所定の順序で
移替ステージ11上に搬送する第2の搬送ロボット、1
3は移替ステージ11上のカセット1内の半導体ウエハ
2を熱処理用ボート4内に移し替える移替機で、図4に
おける従来装置の移替機と同様の機能を有している。
【0013】次に、上記のように構成される実施例1に
おける移替装置の動作について説明する。まず、外部搬
送機あるいは作業者によってカセット1がカセットステ
ージ8上に投入される。投入されたカセット1は半導体
ウエハ2が垂直に立った状態に載置されているため、移
替機13による熱処理用ボート4への半導体ウエハ2の
移替動作の際にハンドリングが容易となるように、図中
一点鎖線で示すようにカセット1内で半導体ウエハ2が
水平状態となるように、カセットステージ8を図示しな
い機構により90゜傾ける。
【0014】次に、第1の搬送ロボット10によりこの
カセット1をハンドリングし、ストッカー9の所定の位
置(A部)まで搬送する。今、ここで熱処理用ボート4
が半導体ウエハ2の受け入れ体勢が整った状態にあれ
ば、自動的にウエハ移替動作が開始される。まず第2の
搬送ロボット12により、ストッカー9のA部に収納さ
れた本番カセット1aを1個ハンドリングし図3に示す
移替ステージ11のX部に搬送する。そして、移替機1
3によってこの移替ステージ11上の本番カセット1a
内から熱処理用ボート4へ半導体ウエハ2の移し替え
が、従来装置と同様に、本番カセット1a内の下側の半
導体ウエハ2から順次取り出され、熱処理用ボート4の
上側の溝から順次挿入されて行われる。
【0015】このような移替動作が行われている間、移
替ステージ11上の他方のY部は空部になっているの
で、第2の搬送ロボット12は引き続き次の本番カセッ
ト1aをストッカー9のA部から移替ステージ11のY
部に搬送する。そして、移替ステージ4のX部に置かれ
た最初の本番カセット1a内の半導体ウエハ2の移し替
えが終了すると、移替機13は引き続きY部に置かれた
2番目の本番カセット1a内の半導体ウエハ2の移替動
作を開始する。同時にX部の空になった本番カセット1
aは第2の搬送ロボット12により、ストッカー9のA
部の元の位置に戻され、第2の搬送ロボット12はスト
ッカー9のA部より3番目の本番カセット1aを移替ス
テージ11のX部に搬送する。
【0016】以上の動作が繰り返されることによって、
ストッカー9のA部に収納された本番カセット1aとD
部に収納された検査用カセット1dとに収容された半導
体ウエハ2の移し替えが完了し、熱処理用ボート4はエ
レベータ5により拡散炉6内に導かれ拡散処理が開始さ
れる。なお、本番カセット1a、1b内の半導体ウエハ
12を全数移し替えても拡散処理1回分に満たない場合
には、ダミーカセット1cが使用され本番カセット1
a、1bと同様にして熱処理用ボート4への搬送が行わ
れる。
【0017】拡散炉11内での拡散処理が終了すると、
エレベータ5が下降し熱処理用ボート4内の処理ずみ半
導体ウエハ2は、検査用を除きストッカー9の元のカセ
ットの元の溝に戻す動作が開始される。まず、この戻し
動作は熱処理用ボート4の下側の半導体ウエハから順次
行われるため、第2の搬送ロボット12によりストッカ
ー9内A部の該当する空カセット1aを移替ステージ1
1のX部に搬送し、移替機13によるウエハの戻し動作
が始まる。この動作と並行して第2の搬送ロボット12
はストッカー9内A部の次に該当する空カセット1aを
移替ステージ11のY部に搬送する。
【0018】X部のカセット1aが半導体ウエハ2で満
杯になると、第2の搬送ロボット12はこのカセット1
aをストッカー9のA部に搬送し、次に3番目の空カセ
ット1aを移替ステージ11のX部に搬送する。以上の
動作を繰り返すことにより、本番ウエハは全てストッカ
ー4内の本番カセット1a内に、また、検査用ウエハは
回収用カセット1e内に戻され移替動作が完了する。
【0019】尚、これまでの動作の間に、次に拡散処理
する本番カセット1bをストッカー9のB部に収納して
おけば、連続して熱処理用ボート4への半導体ウエハ2
の移替および拡散炉6の拡散処理が行えるため、拡散炉
6の稼動率が向上する。又、次に収納された本番カセッ
ト1bの移替動作と並行して、第1の搬送ロボット10
によりストッカー9内のE部の検査用ウエハが回収され
た回収用カセット1eを、また、続いてA部の本番カセ
ット1aを払い出すことができるため、検査用ウエハに
よる拡散プロセスの検証、本番カセット1aの次工程へ
の進捗が速やかに図れる。
【0020】実施例2.尚、上記実施例1においては、
カセットステージ8上のカセット1の姿勢は、収納され
る半導体ウエハ2が垂直に立つ状態で載置されている
が、外部搬送機の機能を変えて半導体ウエハ2が水平と
なるような姿勢で載置すれば、カセットステージ8を9
0゜傾ける必要もなくなり、実施例1と同様の効果を奏
することは言うまでもない。
【0021】
【発明の効果】以上のように、この発明の請求項1によ
れば半導体ウエハを収納するカセットを少なくとも半導
体ウエハ1回分の処理量が収納可能な個数だけ載置でき
且つ外部搬送機器とカセットの授受を行うカセットステ
ージと、カセットを複数個収納可能なストッカーと、こ
のストッカーと1回分の処理量だけ半導体ウエハを収納
し処理炉内に導く処理用ボートとの間に配設され少なく
とも2個のカセットが載置可能な移替ステージと、カセ
ットステージ上のカセットをストッカーに搬送する第1
のカセット搬送手段と、ストッカー内のカセットを移替
ステージに搬送する第2のカセット搬送手段と、移替ス
テージ上のカセット内から処理用ボート内に半導体ウエ
ハを移し替えるウエハ移替手段とを備え、又、請求項2
によれば請求項1において、ストッカーには、少なくと
も2回分の処理量の半導体ウエハを収納する本番カセッ
トと、この本番カセットの不足分補充のためのダミーウ
エハを収納するダミーカセットと、プロセス検証をする
ための検査用ウエハを収納する検査用カセットと、処理
後に検査用ウエハを回収するための回収用カセットとを
収納するようにしたので、拡散炉の稼動率を大幅に向上
させ且つカセットの投入、払い出しの自動化が可能な移
替装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1における移替装置の構成を
示す正面図である。
【図2】図1における移替装置の構成を示す平面図であ
る。
【図3】図1における移替装置の要部を構成するストッ
カー内におけるカセットの収納状態を示す図である。
【図4】従来の移替装置の構成を示す正面図である。
【図5】図4における移替装置の構成を示す平面図であ
る。
【図6】移替装置に適用されるカセットの構成を示す斜
視図である。
【符号の説明】
1 カセット 1a、1b 本番カセット 1c ダミーカセット 1d 検査用カセット 1e 回収用カセット 2 半導体ウエハ 4 熱処理用ボート 6 拡散炉(処理炉) 8 カセットステージ 9 ストッカー 10 第1の搬送ロボット(第1のカセット搬送手段) 11 移替ステージ 12 第2の搬送ロボット(第2のカセット搬送手段) 13 移替機(ウエハ移替手段)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハを収納するカセットを少な
    くとも半導体ウエハ1回分の処理量が収納可能な個数だ
    け載置でき且つ外部搬送機器と上記カセットの授受を行
    うカセットステージと、上記カセットを複数個収納可能
    なストッカーと、このストッカーと1回分の処理量だけ
    上記半導体ウエハを収納し処理炉内に導く処理用ボート
    との間に配設され少なくとも2個の上記カセットが載置
    可能な移替ステージと、上記カセットステージ上の上記
    カセットを上記ストッカーに搬送する第1のカセット搬
    送手段と、上記ストッカー内の上記カセットを上記移替
    ステージに搬送する第2のカセット搬送手段と、上記移
    替ステージ上の上記カセット内から上記処理用ボート内
    に上記半導体ウエハを移し替えるウエハ移替手段とを備
    えたことを特徴とする移替装置。
  2. 【請求項2】 ストッカーは、少なくとも2回分の処理
    量の半導体ウエハを収納する本番カセットと、この本番
    カセットの不足分補充のためのダミーウエハを収納する
    ダミーカセットと、プロセス検証をするための検査用ウ
    エハを収納する検査用カセットと、処理後に上記検査用
    ウエハを回収するための回収用カセットとを収納してい
    ることを特徴とする請求項1記載の移替装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08148540A (ja) * 1994-11-18 1996-06-07 M C Electron Kk ウェハー処理装置
JP2012199584A (ja) * 2000-04-17 2012-10-18 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置、基板処理方法、半導体装置の製造方法および基板の搬送方法
CN113548492A (zh) * 2021-06-30 2021-10-26 无锡奥特维科技股份有限公司 一种硅片收片方法
CN114420616A (zh) * 2022-03-28 2022-04-29 西安奕斯伟材料科技有限公司 槽式清洗装置

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