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JPH0495960A - 感光性フレキソ印刷版組成物 - Google Patents

感光性フレキソ印刷版組成物

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Publication number
JPH0495960A
JPH0495960A JP2208131A JP20813190A JPH0495960A JP H0495960 A JPH0495960 A JP H0495960A JP 2208131 A JP2208131 A JP 2208131A JP 20813190 A JP20813190 A JP 20813190A JP H0495960 A JPH0495960 A JP H0495960A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
styrene
acrylate
rubber
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2208131A
Other languages
English (en)
Inventor
Sadayoshi Nakamu
定義 中務
Toshihiro Fujii
藤井 敏寛
Ban Tanaka
田中 蕃
Kosaku Yamada
功作 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hayakawa Rubber Co Ltd
Original Assignee
Hayakawa Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hayakawa Rubber Co Ltd filed Critical Hayakawa Rubber Co Ltd
Priority to JP2208131A priority Critical patent/JPH0495960A/ja
Priority to US07/736,562 priority patent/US5185234A/en
Priority to EP19910307273 priority patent/EP0470834A3/en
Publication of JPH0495960A publication Critical patent/JPH0495960A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/064Polymers containing more than one epoxy group per molecule
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing

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  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ゴム配合感光性樹脂による柔軟な刷版を付与
する感光性フレキソ印刷用刷版組成物に関する。
(従来の技術) 従来フレキソ印刷版としては、主としてゴム版が用いら
れており、かかるゴム版は金属板エツチングによる金属
原版の作成工程、熱硬化性樹脂に金属原版を加熱プレス
することによる母型作成工程、母型にゴムシートを熱プ
レスすることによる加硫ゴムシート作成工程等の複雑な
工程を経て製造されるものである。しかしかかる方法は
、繰返し画像、転写を行なうことによる微細な画像部分
の再現性の悪さ、多くの工程を要することによる費用、
時間の浪費、熟練した技術者の必要性、印刷時に網点が
潰れる等の欠点を有していた。
また、微細な画像印刷が困難であり、得られたゴム版自
体の粘度が低いため、使用に際し裏削りを必要とし、装
置、工程上製造可能な印刷版サイズが制限され、大きい
サイズのものは得られないという欠点も有していた。
上記欠点を解消するために、近年感光性樹脂組成物を用
いて直接印刷版を製造することが主流となってきた。
かかる印刷版組成物としては、重合性二重結合を有する
化合物にポリエーテルやポリエステルを導入して得られ
るウレタン変成アクリレート、スチレンブタジェンブロ
ック共重合体、スチレンイソプレンブロック共重合体、
1.2−ポリブタジェン等が用いられていたが、これら
は通常要求される硬度(Shore  硬度A40〜8
0)を満足する一方、靭性が不十分であるため印刷版及
びそのレリーフ等が欠裂し、またレリーフ深度が浅く成
形可能な硬度範囲が狭かった。
これらのレリーフ版の性能を改良するために、クロロプ
レンゴム、アクリロニトリル−ブタジェンゴム、スチレ
ンブタジェンゴム等のような汎用ゴム、光重合性単量体
及び光重合開始剤を主成分とした感光性樹脂組成物等が
近年開発されている。
(発明が解決しようとする課題) しかし、従来の感光性樹脂を用いた印刷版は、−i的に
高硬度ゴム版となるためゴム弾性に欠け、加硫ゴム印刷
版に比して耐久性、耐溶剤性、耐摩耗性および水性イン
キに対する転移性が劣る。また低硬度ゴム版を使用した
場合においても、ゴム弾性に欠は印刷に対する復元性が
低下する。
更に、溶剤を用いる溶解流延乾燥法の場合、溶剤除去工
程が要され、工程が複雑となり、厚物の製造が難しく、
版に歪が生じやすく、また乾燥時の変質を発生させ易い
等の欠点があった。
特に粗い材質の被印刷体及び不均一な厚さを有する被印
刷体に対するフレキソ印刷においては製版が複雑である
ので、未だ満足できる性能を有する感光性印刷用刷版組
成物が得られてないのが現状である。
従って、本発明の目的は、上記欠点を全て解消し、優れ
た画像形成性、印刷適性、ゴム弾性、耐摩耗性等の性能
に優れた新規な感光性フレキソ印刷版組成物を提供する
ことにある。
(課題を解決するための手段) 本発明者らは上記課題を解決するため鋭意研究した結果
、ゴムを骨格とした特殊な光重合性オリゴマー若しくは
ポリマー、ランダム共重合性スチレンブタジェンゴム、
スチレンゴムブロック共重合体、光重合性単量体、光重
合開始剤を特定な割合で配合することにより優れた特性
を有する感光性印刷版組成物が得られることを見い出し
、本発明を達成するに至った。
即ち、本発明は、(A)次の一般式; 〔但し、式中のRは炭素数2〜8個のアルキレン基若し
くはポリオキシアルキレン基、RoはH又はCH3基、
R2およびR1はジイソシアネート残基、R4は次の一
般式; %式% (但し式中のR3は炭素数2〜8のアルキレン基、R6
及びR7はH,CH,、若しくはアクリロイルオキシ、
メタクロイルオキシ、アルキルオキシ基を示す)で表さ
れる分子量2000以下の2価アルコールの水酸基を有
するジエン系液状ゴムの水酸基を除いた部分、!は1〜
4の整数、mは1<m<4、nは1〜16の整数を示す
〕 で表わされる成分を主としてなる光重合体プレポリマー
5〜50重量%、 (B)スチレン含有量が20〜30重量%のスチレンブ
タジェンゴム35〜65重量%、 (C)スチレン含有量が11〜37重量%のスチレンブ
タジェンブロック共重合体又はスチレンイソプレンブロ
ック共重合体25〜55重量%、(D)分子量1000
〜5500のポリブタジェン、ブタジェン−スチレン共
重合体又はそれらの誘導体から選定される液状プレポリ
マー0〜15重量%、(E)1個又は2個以上の光重合
性エチレン結合をもつ光重合性単量体3〜50重量%、 (F)光重合開始剤0.5〜30重量%から成る感光性
フレキソ印刷版組成物である。
以下、本発明をその構成に基づき説明する。
本発明に用いる光重合性プレポリマー(A)成分は、次
の一般式; 〔但し、式中のRは炭素数2〜8個のアルキレン基若し
くはポリオキシアルキレン基、R,はH又はCH3基、
R2およびR3はジイソシアネート残基、R4は分子量
2000以下の次の一般式; (式中のR6は炭素数2〜8のアルキレン基、R6及び
R7はH,C)+3.アリルオキシ基を示す)で表され
る2価アルコールの水酸基を除いた残基、Xは水酸基を
有するジエン系液状ゴムの水酸基を除いた部分、lは1
〜4の整数、1<m<4、nは1〜16の整数を示す)
で表わされる。
該光重合性プレポリマーは、ジエン系液状ゴムと、エチ
レン性不飽和単量体と、2価アルコールとジイソシアネ
ート化合物とを反応したものを主成分とし、これに付加
重合性単量体、熱量合禁止剤を配合して得られるもので
ある。
ジエン系液状ゴムとしては、例えば分子内に水酸基を有
する1、2−ポリブタジェン、1.4−ポリブタジェン
、1,2−ペンタジェン、スチレン−ブタジェンコポリ
マー、アクリロニトリル−ブタジェンコポリマー等があ
り、これらを単独で若しくは組み合わせて用いることが
できる。前記水酸基の価数mが1<m<4の水酸基を有
するジエン系液状ゴムの重合体の数平均分子量は、10
00〜10000である。また分子内の水酸基価数(m
)は1<m<4である。m≦1では光架橋密度が低くな
り、光硬化物の固型維持性が満足されず、またm≧4で
は、硬(なりすぎ弾性が低下して所望するゴム弾性が得
られず好ましくない。
上記1価の水酸基を有するエチレン性不飽和単量体とし
ては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタアクリレート、2−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタア
クリレート、ポリプロピレングリコール千) (メタ)
アクリレート、グリシトールジ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート等があり、これ
らの一種または二種以上を液状ゴム100重量部に対し
通常2〜25重量部配合する。
上記ジイソシアネート化合物としては、例えばトリレン
ジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、
メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、
トリメチルへキサメチレンジイソシアネート等があり、
一種または二種以上を液状ゴム100重量部に対し、5
〜190重量部配合する。
さらに上記分子量2000以下の2価アルコールは、次
の一般式; Oll −−R9−OH・・・■ R7 (式中のR3は炭素数2〜8のアルキレン基、R6及び
R1はH,C1(3若しくはアリルオキシ基を示す)で
表わされ、上記式■のRを骨格とする2価アルコール及
び光重合可能なエチレン性不飽和基を有する2価アルコ
ールを用いることができる。上記式■のRを骨格とする
2価アルコールとしては、例えばエチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,
2−プロピレングリコール、1.3−プロピレングリコ
ール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオー
ル、1,5−ベンタンジオール、1,6−ヘキサンジオ
ール等があり、また光重合可能なエチレン性不飽和基を
有する2価アルコールとしては、例えばトリメチロール
プロパンモノアクリレート、トリメチロールプロパンモ
ノメタクリレート、グリセロールα−モノアリルエーテ
ル等があり、これらの一種または二種以上を液状ゴム1
00重量部に対し、2〜90重量部配合する。
上記成分の配合割合は、ウレタン結合の繰り返し単位を
nとすると1分子内に水酸基の価数がm(1<m<4)
であるジエン系液状ゴム1モルに対し、分子量2000
以下、好ましくは300以下の2価アルコールをmXn
モル、ジイソシアネート化合物をmX(n+1)モル、
1価の水酸基を有するエチレン性不飽和単量体をmモル
とするものである。
ここでnは、ジイソシアネート化合物と分子量2000
以下の2価アルコールとからなるウレタン結合の繰り返
し単位数で、2〜16の整数を示し、繰り返し単位数が
n〉16又はn<2となると、ゴムライクな性質を失い
好ましくない。nの部分は、ゴム分子鎖(ソフトセグメ
ント)に対し、ハードセグメントを形成する部分の長さ
を意味する。長いハードセグメントは極性及び凝集性の
高いウレタン結合の連続で形成されており、極性及び凝
集性の低いゴム分子鎖(ソフトセグメント)とミクロ的
な相分離を起こさせる。また、ハードセグメントに続く
光重合性のエチレン性不飽和基相互間に、密な架橋を付
与する。従って、本発明に用いる光重合性ポリマー又は
オリゴマーは活性工矛ルギー線の照射により、高強度、
高伸長な光硬化物となる。分子量2000以上のR4を
含む2価アルコールを用いた場合には、ハードセグメン
トとソフトセグメントの相分離が生じにくくなり、所望
の目的が達せられず、従ってR1を含む2価アルコール
の分子量は2000以下、特に300以下が好ましい。
分子量が2000以下のかかる2価アルコールはハード
セグメント成分の骨格に導入される。
該プレポリマー成分は、上記式■のハードセグメントと
、上記式■のX部、即ちジエン系液状ゴムの骨格とから
成るソフトセグメントとの二つのセグメントから構成さ
れる。
付加重合性単量体としては、上記の1価の水酸基を有す
るエチレン性不飽和単量体、メチルメタクリレート、エ
チルメタクリレート、ブチルメタクリレート、グリシジ
ルメタクリレート、1,4−ブチレンジメタクリレート
、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチルアミ
ノエチルメタクリレート等のメタクリレート類、メチル
アクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、ラウリルアクリレート、トリメチロールプロパンジ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−
ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチルアミノエチ
ルアクリレート等のアクリレート類の他にメタクリル酸
、アクリル酸、アクリロニトリル、アクリルアミド、N
−メチロールアクリルアミド、スチレン、ビニルトルエ
ン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン、酢酸ビニ
ル、Nビニル−2−ピロリドン、ジアリルフタレート等
がある。
該光重合性プレポリマーの合成を具体的に説明すると、
適当に選定した溶媒中で、分子量2000以下の2価ア
ルコール(mXn)モルにジブチルスズジラウレート、
オクテン酸スズ、トリエチルアミン、トリエチレンジア
ミン等の触媒の存在下、ジイソシアネートをmX(n+
1)モルの割合で少量づつ添加反応して、両末端にイソ
シアネート基を有する化合物を得る。この場合の反応温
度は10〜120°C1好ましくは40〜80°Cとす
べきである。次いで該化合物に例えば、1価の水酸基を
有するエチレン性不飽和単量体mモルを徐々に加温し反
応させ、一方の末端にイソシアネート基を有する化合物
とした後、これに2価の水酸基を有するジエン系液状ゴ
ム1モルを徐々に加える。又この合成反応には熱重合を
抑制するために必要に応して、ハイドロキノン、t−ブ
チルカテコール、0−ジニトロフェノール、m−二トロ
フェノール、p−二トロフェノール、2,4−ジニトロ
フェノール、2,4.6− トリニトロフェノール、メ
トキノン、p−ベンゾキノン、フェノチアジン、アンス
ラキノン、2.6−ジーL−ブチルヒドロキシトルエン
等の熱重合禁止側の一種若しくは二種以上を、全配合重
量の0.05〜1重量%加えてもよい。これによりゴム
骨格構造を呈し、アクリロイルオキシ基、メタクリロイ
ルオキシ基若しくはこれらの混合物を有する上記式■で
表される光重合性プレポリマーが合成できる。
該プレポリマーの配合量は5〜50重量%が好ましい。
5重量%未満では紫外線による充分な硬化物が得られず
、連続印刷における耐久性も弱くなり、一方50重量%
を超えると紫外線硬化前の強度が弱く、シート成形時の
作業性、固形保持性が悪く、又硬化物の表面硬度が高く
なりフレキシビリティを欠くこととなる。
本発明に用いるスチレンブタジェンゴム((B)成分)
には、スチレン含有量が20〜30重量%であるスチレ
ンとブタジェンのランダム共重合体を用いることができ
る。これは乳化重合法もしくは溶液重合法で製造できる
一般用ゴムであり、35〜65重量%の配合量で単独も
しくは二種以上の混合物として用いることができる。3
5重量%未満では硬化物がゴム弾性を欠くと同時に印刷
時の耐摩耗性が悪く、65重量%を超えるとシート成形
時の作業性(生産性)が悪く、硬化前のシート固形保持
性が悪化し、好ましくない。スチレン含有量が20〜3
0重量%のランダム共重合体は、ゴム弾性、現像液溶解
性、画像形成性、耐摩耗性、シート成型性等の性質に優
れるものである。スチレン含有量が20重量%未満では
、画像形成性、シート成型性に劣り、30重量%を超え
ると、得られる組成物の表面硬度が上昇し、ダンボール
等の表面平滑度の低い被印刷物に対し満足する印刷画像
が得られない。
また、本発明に用いるブロック共重合体((C)成分)
は、2個以上の熱可塑性非エラストマー性成分であるポ
リスチレンブロックと、該ブロックに隙在して結合する
エラストマー成分であるポリブタジェン又はポリイソプ
レンのブロックから成る熱可塑性エラストマー共重合体
であり、スチレン含有量は11〜37重量%であること
が好ましい。スチレン含有量が11〜37重量%である
該共重合体は、ゴム弾性、現像液溶解性、画像形成性、
耐摩耗性、シート成型性等の性質に優れるものである。
スチレン含有量が上記範囲以外となると、上記スチレン
ブタジェンゴムと同様の理由により、フレキソポリマー
成分として満足できる性質を得ることができない。また
、その配合量は25〜55重量%が好ましく、25重量
%未満では印刷現像においてシャープな像を得ることが
できず、55重量%を超えるとゴム弾性、耐印刷耐久性
、現像性を同時に満足する組成物を得ることができない
からである。
更に、本発明に用いる液状プレポリマー((D)成分)
は、平均分子量が1000〜5500のポリブタジェン
、ブタジェン−スチレン共重合体又はそれらの誘導体が
あり、0〜15重量%の配合量で単独若しくは2種以上
を混合して用いることができる。該配合量が15重量%
を超えると硬化前のコンパウンドシートの固形保持性が
悪くなる。この液状ブリポリマーはフレキソ印刷版組成
物の透明性の向上を図る場合、深いレリーフ像を得る場
合、組成物の高温時に適度の粘稠性を付与することによ
るシート成型性の向上を図る場合に有効である。
本発明に用いる光重合性単量体は、1分子当りアクリロ
イル基(CH2・CHCO−)、メタクリロイル基(C
I(2= C(C8:+)Co−) 、ビニル基(CH
2= CH−)を1個又は2個以上有し、フリーラジカ
ル重合ができるものであり、当業者が通常用いる量、3
〜50重量%の配合量で単独で若しくは2種以上の混合
で用いることができる。3重量%未満では、紫外線硬化
密度が低くなるとともに、コンパウンドの物理手性質が
極端に低くなり、一方50重量%を超えると紫外線硬化
物の表面硬度が高くなるとともに印刷特性が悪くなり好
ましくない。光重合性単量体としては、例えばアリルア
クリレート、アリルメタクリレート、ヘンシルアクリレ
ート、ヘンシルメタクリレート、ブトキシエチルアクリ
レート、ブトキシエチルメタクリレート、ブタンジオー
ルモノアクリレート、ブトキシエチレングリコールアク
リレート、エビクロロヒドリン変性ブチルアクリレート
、t−ブチルアミノエチルメタクリレート、カプロラク
トンアクリレート、3−クロロ2−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、2−シアノエチルアクリレート、シク
ロへキシルアクリレート、シクロへキシルメタクリレー
ト、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンタ
ニルメタクリレート、2,3−ジブロモプロピルアクリ
レート、2,3−ジブロモプロピルメタクリレート、ジ
シクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニロキ
シエチルアクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル
メタクリレート、N、N−ジエチルアミノエチルアクリ
レート、N、N−ジエチルアミノエチルメタクリレート
、2−エトキシエチルアクリレート、2−エトキシエチ
ルメタクリレート、エチルカルピトールアクリレート、
2−エチルへキシルアクリレート、2−エチルへキシル
メタクリレート、グリセロールメタクリレート、グリシ
ジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ヘプタ
デカフロロデシルアクリレート、ヘプタデカフロロデシ
ルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート
、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、カプロラクト
ン変性2−ヒドロキシエチルアクリレート、カプロラク
トン変性2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシ−3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメチ
ルアンモニウムクロライド、2−ヒドロキシ−3−(メ
タ)アクリロキシプロピルジメチルアミン、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、イソボニルアクリレート、イソボニルメ
タクリレート、イソデシルアクリレート、イソオクチル
アクリレート、ラウリルアクリレート、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、2−メトキシエチル
アクリレート、メトキシジエチレングリコールメタクリ
レート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート
、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メ
トキシテトラエチレングリコールメタクリレート、メト
キシジプロピレングリコールアクリレート、メトキシ化
シクロデカトリエンアクリレート、モルホリンアクリレ
ート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリ
レート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールア
クリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、オク
タフロロペンチルメタクリレート、オクチルアクリレー
ト、フェノキシヒドロキシプロピルアクリレート、フェ
ノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリ
レート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート
、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、
フェノキシヘキサエチレングリコールアクリレート、エ
チレンオキシド変性フェノキシ化リン酸アクリレート、
エチレンオキシド変性フェノキシ化リン酸メタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、エチレンオキシド変性リ
ン酸アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸メタク
リレート、エチレンオキシド変性ブトキシ化リン酸アク
リレート、エチレンオキシド変性フタル酸アクリレート
、エチレンオキシド変性フタル酸メタクリレート、ステ
アリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、エチ
レンオキシド変性コハク酸アクリレート、スルホン酸ソ
ーダエトキシアクリレート、スルホン酸ソーダエトキシ
メタクリレート、テトラフロロプロピルアクリレート、
テトラフロロプロピルメタクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル
アクリレート、トリクロロエチルアクリレート、トリフ
ロロエチルメタクリレート、ビニルアセテート、N−ビ
ニルカプロラクタム、N−ビニルピロリドン、アリル化
シクロヘキシルジアクリレート、アクリル化イソシアヌ
レート、ビス(アクリロキシネオベンチルグリコール)
アジペート、エチレンオキシド変性ビスフェノールAジ
アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールS
ジアクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート、
エチレンオキシド変性ビスフェノールAジメタクリレー
ト、エチレンオキシド変性ビスフェノールFジアクリレ
ート、1.4−ブタンジオールジアクリレート、1゜3
−ブチレングリコールジアクリレート、1,3−ブチレ
ングリコールジメタクリレート、ジシクロペンタニルジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
ジエチレングリコールジメタクリレート、エビクロロヒ
ドリン変性ジエチレングリコールジメタクリレート、ジ
ペンタエリスリトールへキサアクリレート、ジペンタエ
リスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、アル
キル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、
アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールへキ
サアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアク
リレート、エビクロロヒドリン変性エチレングリコール
ジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート
、グリセロールアクリレート、グリセロールジメタクリ
レート、エビクロロヒドリン変性グリセロールトリアク
リレート、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、
1.6−ヘキサンシオールメタクリレートメトキシ化シ
クロへキシルジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレート、ステアリン酸変
性ペンタエリスリトールジアクリレート、エチレンオキ
シド変性リン酸ジアクリレート、エチレンオキシド変性
リン酸トリアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸
ジメタクリレート、ポリエチレングリコール600ジア
クリレート、ポリエチレングリコール200ジメタクリ
レート、ポリプロピレングリコール400ジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコール400ジメタクリレート
、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、トリエチレングリコールビニルエーテル、
トリグリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシ
ド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロ
ピレンオキシド変性トリメチロ−゛ルプロパントリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート
、エビクロロヒドリン変性トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレー
ト、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、
カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソ
シアヌレート、亜鉛ジアクリレート、亜鉛ジメタクリレ
ート等がある。
本発明に用いる光重合開始剤としては、クロロアセトフ
ェノン1、ジエトキシアモトフェノン、ヒドロキシアセ
トフェノン、α−アミノアセトフェノン、ヘンジインア
ルキルエーテル類、ベンジルジメチルケタール、ヘンシ
フエノン類、メチル−〇ヘンゾイルヘンゾエート、チオ
キサンソン、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシ
エステル、3−ケトクマリン、2−エチルアンスラキノ
ン、カンファーキノン、ベンジル、ミヒラーズケトン、
テトラメチルチウラムモノサルファイド、3.3’、4
.4’テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベン
ゾフェノン等を単独もしくは2種以上混合して用いるこ
とができ、フレキソ組成物全体の0.5〜30重景%、
好ましくは2〜8重量%配合する。0.5重量%未満で
は紫外線硬化密度が低くなるとともに、コンパウンドの
物理的性質が極端に低くなり、30重量%を超えると増
量効果が各性質において観られず、配合単価も高くなり
、経済性に欠けるがらである。
更に、得られる組成物の貯蔵安定性を高め、可使用期間
の長時間確保を目的として、ハイドロキノン、メトキノ
ン、フェノチアジン、モノ−t−ブチルハイドロキノン
、カテコール、p−t−プチルヵテコール、ヘンゾキノ
ン、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、アンスラ
キノン、2,6−ジーt−ブチルヒドロキシトルエン等
の添加剤を、単独で若しくは2種以上を混合して、フレ
キソ組成物全体の50〜3000ppmで用いることが
できる。
上記配合成分をオープンロール、加圧型ニーダ、若しく
は有機溶剤による溶解混合を用いて容易に混合し、次い
でエクストルーダー、プレス等により感光性樹脂層とす
ることができる。なお従来一般に用いられているゴム用
プラスチック用添加剤、例えば軟化剤、可塑剤、ワック
ス、天然樹脂、合成樹脂を物性を損なわない程度に必要
に応じて添加することができる。得られた感光性樹脂層
を、超高圧水銀燭、高圧水銀燭、メタルハライドランプ
、キセノンランプ、ケミカルランプ等により露光架橋し
、次いでアルコール類、炭化水素類を単独若しくは混合
して用いて未露光部分を洗浄することにより、フレキソ
印刷版用レリーフ版を得る。本発明の感光性フレキソ印
刷版組成物は、硬化後、その表面硬度が5hore A
型で70以下となるものである。
本発明を次の合成例、実施例及び比較例により説明する
2.4−トリレンジイソシアネート(以下rTDIJと
略す) 48.4gをジオキサン145.2gに溶解し
た溶液を5001R1の反応器に入れ、窒素雰囲気下で
撹拌しながら、1.4−ブタンジオール16.6g 、
ハイド”ロキノン0.2g及びトリエチレンジアミン0
.2gをジオキサン49.8gに溶解した溶液を滴下し
、その間、反応溶液温度を75〜80°Cに保ち、滴下
終了後も同温度で2時間反応させて反応物Aを得た。
次に2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下r H
EMA Jと略す) 10.8gをジオキサン32.4
gにン容解した溶液を該反応器に加え、窒素雰囲気中で
撹拌しながら75〜80°C12時間反応させた。更に
、液状ゴムrJSR−HTPB (日本合成ゴム■製、
平均分子量2120、水酸基含量0.93) 」100
gをジオキサン300gに溶解した溶液を別の1000
dの反応器に入れ窒素雰囲気下、撹拌しながら反応物A
を滴下して加えた。滴下中、反応溶液を75〜80°C
に保ち、滴下終了後も同温度で6時間反応させ、赤外線
吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収(2250c
m −’ )が消失したことを確認して反応を終了した
。反応液は淡黄色透明でその粘度は450cps (3
0°CBH型粘度計)であった。
n−ヘキサン5400−を入れたビーカーへ、該反応液
を徐々に落下させ、白色の沈澱物を得た。沈澱物は傾斜
法により溶剤層を除去した後に、真空乾燥器で2日間乾
燥させた。乾燥後、固体状のウレタンアクリレートを得
た。重合体の収量は162g(収率92%)であった。
赤外線吸収スペクトルの測定では、3300cm−’、
2920cm−’、1710cm−’、1640Cfl
−’の特定吸収が認められた。又ゲルパーミッションク
ロマトグラフィー(GPC)による分子量測定において
は、数平均分子量(Mn)が3800であった。
次いで重合体の感度をグレースケール法により測定した
。すなわち重合体の10%テトラヒドロフラン溶液を銅
板上に塗布し、室温で2時間乾燥した後に、コグックス
テップタブレ・ノドNo、 2を重ねて、超高圧水銀燭
(3kWx1灯)を500mmの距離から10秒間露光
し、イソホロンで2時間現像して不溶化段数を止めた。
その結果は9段であった。
又、このウレタンアクリレートをテトラヒドロフランに
溶解し、増感剤としてイルガキュア651を5%加えて
溶解させて感光液を製造した。該感光液をガラス板に塗
布してテトラヒドロフランを蒸発乾燥させた。乾燥後の
厚みは100μmであった。
超高圧水銀燭3kW(■オーク製作所型)を用い500
鵬の距離から、2分間露光して硬化膜を得た。
引張り試験機(引張り速度100mm/分)で硬化膜の
引張り強度、伸長度を求め、その結果を第1表に示す。
引張り強度165kg/cm2、伸長度350%であっ
た。
合成例工で使用した液状ゴム及び分子量2000以下の
2価アルコールの種類を代えた以外は、実施例1と同様
に操作してウレタンアクリレートを製造した。配合割合
と得られたウレタンアクリレートの物性を第1表に示す
。更にハードセグメントの繰り返し単位数nを増加させ
た配合例も併せて第1表に記す。ここで使用した液状ゴ
ムの重量は100gである。
ス新l引1 メチルエチルケトン100重量部、トルエン35重量部
から成る混合溶剤135重量部に上記合成例1で得た化
合物25重量部、スチレン含有量が23.5%のスチレ
ンブタジェンゴム45重量部、スチレン含有量が15%
のスチレンイソプレンブロック共重合体30重量部、ト
リメチロールプロパントリメタクリレート6重量部、ポ
リエチレングリコールジアクリレート7重量部、ハイド
ロキノン0.01重量部、イルガキュア651(チバガ
イギー社製)1.6重量部を添加し、撹拌しながら均一
溶解させた。次いで該混合液をプレート上に流し出し、
乾燥機巾約50°Cで約20時間放置して、溶剤を除去
し、厚さ4胴の感光性シートを得た。得られたシートの
片面を超高圧水銀ランプ(オーク製作新製HMW−40
1)を用いて積算光量110mJ/cm2で紫外線照射
し、裏露光とした。次いで逆の片面をネガチブフィルム
を通して積算光量1600mJ/cm2で紫外線照射し
た。
未露光部をLLI−トリクロロエタン4重量部、nブタ
ノール1重量部から成る現像液を用いて洗浄し、乾燥機
中65°Cで10分間乾燥し、ジョブ硬度Aが62度の
レリーフパターンを得た。該組成物は印刷特性、画像成
型性、ゴム弾性等に優れ、コダックステンプタブレント
による不溶化段数は11段であった。
実画l迷え 合成例2で得た化合物15重量部、スチレン含有量が2
5%のスチレンブタジェンゴム50重量部、スチレン含
有量が28%のスチレンブタジェンブロック共重合体3
5重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート5
重量部、フェノキシエチルアクリレート4重量部、トリ
エチレングリコールジアクリレート7重量部、メトキノ
ン0.01重量部、イルガキュア651(チハガイギー
社製)1.5重量部、イルガキュアエ84(チバガイギ
ー社製)0.5重量部を95°Cのオープンロールにて
混練し、ioo ’cのプレスを用いて50kgf/C
m2の圧力で3分間保持し、厚さ3.0鵬の感光性シー
トを得た。得られたシートの片面を超高圧水銀ランプ(
オーク製作新製H?’1W−401)を用いて積算光量
90mJ/ cm2で紫外線照射し、裏露光とした。次
いで逆の片面をネガチブフィルムを通して積算光量10
100O/ cm2で紫外線照射した。未露光部を1.
1.1− )リクロロエタン3重量部、n−ブタノール
1重量部から成る現像液を用いて清浄し、乾燥機中65
°Cで10分間乾燥し、ショア硬度Aが66度のレリー
フパターンを得た。
該組成物は印刷特性、画像成型性、ゴム弾性等に優れ、
コダックステップタブレットによる不溶化段数は12段
であった。
1施班ユ 合成例1で得た化合物40重量部、スチレン含有量が2
3.5%のスチレンブタジェンゴム25重量部、スチレ
ン含有量が15%のスチレンイソプレンブロック共重合
体28重量部、分子量が3000の液状1,2ホリフタ
ジ工ン7重量部、テトラメチロールメタンテトラアクリ
レート5重量部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレ
ート3重量部、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト4重量部、ハイドロキノン0.015重量部、ベンゾ
フェノン3重量部を100°Cの加圧型ニーダ−にて5
分間混練し、100 ”Cのプレスを用いて40 kg
 f / cm ”の圧力で3分間保持し、厚さ2.0
価の感光性シートを得た。得られたシートの片面を超高
圧水銀ランプ(オーク製作新製1(MW−401)を用
いて積算光量90mJ7cm”で紫外線照射し、裏露光
とした。次いで逆の片面を原画を通して積算光量101
00O/cu+2で紫外線照射した。未露光部をLL1
〜トリクロpエタンを現像液として洗浄し、ショア硬度
Aが60度のレリーフパターンを得た。該組成物は印刷
特性、画像成型性、ゴム弾性等に優れ、コダックステッ
プタブレットによる不溶化段数は11段であった。
災薔±↓ 上記合成例3で得た化合物10重量部、スチレン含有量
が23.5%のスチレンブタジェンゴム49重量部、ス
チレン含有量が28%のスチレンブタジェンブロック共
重合体41重量部、トリメチロールプロパントリアクリ
レート6重量部、ステアリルアクリレート2重量部、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート4重量部、ポリエ
チレングリコールジアクリレート3重量部、フェノチア
ジン0.01重量部、ヘンシフエノン1.0重量部を1
00″Cの加圧型ニーダ−にて5分間混練し、100″
Cプレスを用いて40kgf/cm2の圧力で3分間保
持し、厚さ2.5Mの感光性シートを得た。得られたシ
ートの片面を20−のケミカルランプで3分間露光し、
裏露光とした。次いで逆の片面を原画を通して15分間
露光した。未露光部をLLL)リクロロエタンを現像液
として洗浄し、ショア硬度Aが59度のレリーフパター
ンを得た。該組成物は印刷特性、画像成型性、ゴム弾性
等に優れ、コダックステップタブレットによる不溶化段
数は12段であった。
比較±1 上記合成例1で得た化合物4重量部、スチレン含有量が
23.5%のスチレンブタジェンゴム35重量部、スチ
レン含有量が28%のスチレンブタジェンブロック共重
合体61重量部、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート6重量部、テトラメチロールメタンテトラアクリレ
ート3重量部、ネオペンチルグリコールジアクリレート
3重量部、ハイドロキノン0.01重量部、ベンゾフェ
ノン2重量部を100″Cの加圧型ニーダ−で混練し、
95°Cのプレスを用いて45kgf/cm2の圧力で
3分間保持し、厚さ2.5 mmの感光性シートを得た
。得られたシートの片面を超高圧水銀ランプ(オーク製
作新製 1(MW401)を用いて積算光量90mJ/
cm2で紫外線照射し、裏露光とした。次いで逆の片面
を原画を通して積算光量10100O/cm2で紫外線
照射した。未露光部をLLI−トリクロロエタン3重量
部、n−ブタノール1重量部から成る洗浄液で洗浄し、
ショア硬度Aが65度のレリーフパターンを得た。該組
成物は印刷特性、ゴム弾性は良好であったが、画像成型
性は劣っており、コダックステップタブレットによる不
溶化段数は7段であった。
ル較班■ 上記合成例3で得た化合物55重量部、スチレン含有量
が23.5%のスチレンブタジェンゴム10重量部、ス
チレン含有量が28%のスチレンブタジェンブロック共
重合体35重量部、トリメチロールプロパントリメタク
リレート6重量部、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート7重量部、メトキノン0.01重量部、ヘンシフエ
ノン1,5重量部を表面温度90°Cに設定されたオー
プンロールにて混合し、95°Cのプレスを用いて45
kgf/cm2の圧力で3分間保持し、厚さ2.5胴の
感光性シートを得た。得られたシートの片面を超高圧水
銀ランプ(オーク製作断裂 HMW−401)を用いて
積算光量90mJ/cm2で紫外線照射し、裏露光とし
た。次いで逆の片面を原画を通して積算光量10100
O/ am2で紫外線照射した。未露光部をLl、1−
 )リクロロエタン3重量部、n−ブタノール1重量部
から成る洗浄液で洗浄し、ショア硬度Aが72度のレリ
ーフパターンを得た。該組成物はゴム弾性、画像成型性
は良好であったが、非平滑面に対する印刷特性は劣って
おりコダックステップタブレットによる不溶化段数は1
1段であった。
拭筋貫 実施例1〜4及び比較例1,2について各種試験を行い
、その結果を第2表に示す。
まず、試験方法について説明する。
得られた感光性組成物を180μm厚のポリエステルフ
ィルムにはさみ、加熱プレスにより5mm厚のシートと
した。
該シートの片面に高圧水銀灯により100mJ/cm2
の紫外線を照射し、続いてもう一方の片面に画像を有す
るネガフルムを密着させ、かかるフィルムを通して50
0mJ/c+n2の紫外線を照射した。次いで1、LL
−)リクロロエタンを用いてブラシによる未露光部分の
洗い出しを行い、50°Cで1時間乾燥後、室温に冷却
し、高圧水銀灯を用いて10100O/cm2で照射し
、後露光とした。かかる版におけるハイライト形成率(
%)及び白抜き線深度の測定を行った。
第−側一表 第2表より実施例1〜4で得られた組成物を用いて製造
したフレキソ版は、フレキソ版として高い性能を有する
ことが理解できる。
(発明の効果) 以上説明してきたように、本発明の組成物はゴム状骨格
を有する特殊な感光性オリゴマー、ポリマー成分を含有
するため、ゴム弾性、印刷特性、画像成型性に加え、フ
レキソ版材料として必要な諸物性を大幅に向上させる。
更に組成物全体の紫外線透過率を一段と向上させ、深い
シャープなレリーフパターンを形成することができると
いう効果が得られる。また、本発明の組成物を利用する
ことにより、ダンボール、新聞、雑誌等の用途として平
滑面、非平滑面を問わず精度の高い印刷が手軽にかつ特
殊な技術を必要とせずに実施でき、産業上の利用価値は
非常に高いものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(A)次の一般式; ▲数式、化学式、表等があります▼…(1) 〔但し、式中のRは炭素数2〜8個のアルキレン基若し
    くはポリオキシアルキレン基、R_1はH又はCH_3
    基、R_2およびR_3はジイソシアネート残基、R_
    4は次の一般式; ▲数式、化学式、表等があります▼…(2) (但し式中のR_5は炭素数2〜8のアルキレン基、R
    _6及びR_7はH、CH_3、若しくはアクリロイル
    オキシ、メタクロールオキシ、アルキルオキシ基を示す
    )で表される分子量2000以下の2価アルコールの水
    酸基を有するジエン系液状ゴムの水酸基を除いた部分、
    lは1〜4の整数、mは1<m<4、nは1〜16の整
    数を示す〕 で表わされる成分を主としてなる光重合体プレポリマー
    5〜50重量%、 (B)スチレン含有量が20〜30重量%のスチレンブ
    タジエンゴム35〜65重量%、 (C)スチレン含有量が11〜37重量%のスチレンブ
    タジエンブロック共重合体又はスチレ ンイソプレンブロック共重合体25〜55重量%、 (D)分子量1000〜5500のポリブタジエン、ブ
    タジエン−スチレン共重合体及びそれらの 誘導体から選定される液状プレポリマー0 〜15重量%、 (E)1個又は2個以上の光重合性エチレン結合をもつ
    光重合性単量体3〜50重量%、 (F)光重合開始剤0.5〜30重量% から成ることを特徴とする感光性フレキソ印刷版組成物
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