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JPH0454676B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0454676B2
JPH0454676B2 JP58067871A JP6787183A JPH0454676B2 JP H0454676 B2 JPH0454676 B2 JP H0454676B2 JP 58067871 A JP58067871 A JP 58067871A JP 6787183 A JP6787183 A JP 6787183A JP H0454676 B2 JPH0454676 B2 JP H0454676B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
group
salts
acid
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58067871A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS59193893A (en
Inventor
Hiroshi Sadaki
Hiroyuki Imaizumi
Takashi Nagai
Kenji Takeda
Isao Myokan
Takihiro Inaba
Yasuo Watanabe
Yoshikazu Fukuoka
Shinzaburo Minami
Isamu Saikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyama Chemical Co Ltd
Original Assignee
Toyama Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyama Chemical Co Ltd filed Critical Toyama Chemical Co Ltd
Priority to JP58067871A priority Critical patent/JPS59193893A/en
Priority to FI834183A priority patent/FI75827C/en
Priority to DK521883A priority patent/DK521883A/en
Priority to US06/552,468 priority patent/US4618606A/en
Priority to CH1315/86A priority patent/CH660010A5/en
Priority to GB08330599A priority patent/GB2131800B/en
Priority to CH6165/83A priority patent/CH657135A5/en
Priority to GB08603333A priority patent/GB2171697B/en
Priority to KR1019830005429A priority patent/KR870000611B1/en
Priority to AU21429/83A priority patent/AU549861B2/en
Priority to ES527333A priority patent/ES527333A0/en
Priority to CA000441286A priority patent/CA1253486A/en
Priority to DE19833341591 priority patent/DE3341591A1/en
Priority to DE3347928A priority patent/DE3347928C2/de
Priority to NL8303955A priority patent/NL192792C/en
Priority to FR8318293A priority patent/FR2536074B1/en
Priority to BE0/211891A priority patent/BE898249A/en
Publication of JPS59193893A publication Critical patent/JPS59193893A/en
Priority to ES544724A priority patent/ES8607321A1/en
Priority to ES544723A priority patent/ES8607320A1/en
Priority to AU47421/85A priority patent/AU565648B2/en
Priority to CA000504319A priority patent/CA1276139C/en
Priority to US06/860,317 priority patent/US4717767A/en
Publication of JPH0454676B2 publication Critical patent/JPH0454676B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、新規なセフアロスポリン類、具体的
には、 一般式 「式中、R1は、水素原子またはカルボキシル保
護基を、R2は、式
The present invention provides novel cephalosporins, specifically, the general formula "In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, R 2 is a formula

【式】【formula】

【式】または[expression] or

【式】(式 中、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およ
びR14は、同一または異なつて、水素原子、ハロ
ゲン原子またはアルキル基を示す。)で表わされ
る基を、R3は、水素原子を、R4は、水素原子を、
R5は保護されていてもよいアミノ基を、Aは、
式−CH2−または式
[Formula] (In the formula, R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group. ), R 3 is a hydrogen atom, R 4 is a hydrogen atom,
R 5 is an optionally protected amino group, A is
Formula −CH 2 − or Formula

【式】(式中、R15 は、保護されていてもよいカルボキシル基で置換
されていてもよいアルキル基を示し、〜は、シン
もしくはアンチ異性体またはそれらの混合物でも
よいことを示す。)で表わされる基を各々示す。」 で表わされるセフアロスポリンおよびその塩類に
関する。 而して、本発明の目的とするところは、広範囲
な抗菌スペクトルを有し、グラム陽性菌、グラム
陰性菌に対し優れた抗菌活性を示し、かつバクテ
リアが産生するβ−ラクタマーゼに対しても安定
な性質を有し、人ならびに動物の疾病に対し優れ
た治療効果を発揮する新規なセフアロスポリン類
を提供することにある。 本発明のセフアロスポリン類は、セフエム環の
3位エキソメチレン基に、式
[Formula] (In the formula, R 15 represents an alkyl group which may be substituted with an optionally protected carboxyl group, and ~ represents a syn or anti isomer or a mixture thereof.) The groups represented by are shown below. ” Concerning cephalosporin and its salts. Therefore, the object of the present invention is to have a broad antibacterial spectrum, exhibit excellent antibacterial activity against Gram-positive bacteria and Gram-negative bacteria, and be stable against β-lactamases produced by bacteria. The object of the present invention is to provide novel cephalosporins that have unique properties and exhibit excellent therapeutic effects on diseases of humans and animals. The cephalosporins of the present invention have the formula

【式】 (式中、R6、R7およびR8は前記した意味を有す
る。)で表わされる3,6−ジオキソ−1,2,
3,6−テトラヒドロピリダジニル基または式
[Formula] 3,6 - dioxo - 1,2 , represented by
3,6-tetrahydropyridazinyl group or formula

【式】(式中、R9、R10およびR11は前 記した意味を有する。)で表わされる6−オキソ
−1,6−ジヒドロピリダジニル基もしくは
6 - oxo- 1,6 - dihydropyridazinyl group or

【式】(式中、R12、R13およびR14 は前記した意味を有する。)で表わされる2−オ
キソ−1,2−ジヒドロピラジニル基が結合して
いるところにその特徴がある。 以下、さらに本発明を詳細に説明する。 本明細書において、特にことわらない限り、ア
ルキルとは、C1〜14アルキル、たとえば、メチル、
エチル、n−プロピル、iso.−プロピル、n−ブ
チル、iso.−ブチル、sec.−ブチル、tert.−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、
ドデシルまたはラウリルなどを、アルコキシと
は、上で定義したアルキル基を有する−O−アル
キルを、低級アルキルとは、C1〜5アルキル、たと
えば、メチル、エチル、n−プロピル、iso.−プ
ロピル、n−ブチル、iso.−ブチル、sec.−ブチ
ル、tert.−ブチルまたはペンチルなどを、また、
低級アルコキシとは、上で定義した低級アルキル
基を有する−O−低級アルキルを、アシルとは、
C1〜12アシル、たとえば、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、ベンゾイル、ナフトイル、ペンタ
ンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル、フロ
イルまたはテノイルなどを、さらに、アシルオキ
シとは、上で定義したアシル基を有する−O−ア
シルを、また、アルキルチオとは、上で定義した
アルキル基を有する−S−アルキルを、アルケニ
ルとは、C2〜10アルケニル、たとえば、ビニル、
アリル、iso.−プロペニル、2−ペンテニルまた
はブテニルなどを、つぎに、アルキニルとは、
C2〜10アルキニル、たとえば、エチニルまたは2
−プロピニルなどを、シクロアルキルとは、C3〜7
シクロアルキル、たとえば、シクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルま
たはシクロヘプチルなどを、また、アリールと
は、たとえば、フエニル、ナフチルまたはインダ
ニルなどを、アルアルキルとは、たとえば、ベン
ジル、フエネチル、4−メチルベンジルまたはハ
フチルメチルなどを、また、複素環式基とは、酸
素、窒素および硫黄から選択された少なくとも1
個の複素原子を含む複素環式基、たとえば、フリ
ル、チエニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾ
リル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリ
ル、イソオキサゾリル、チアゾアゾリル、オキサ
ジアゾリル、チアトリアゾリル、オキサトリアゾ
リル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、
4−(5−メチル−2−ピロリニル)、4−(2−
ピロリニル)、N−メチルピペリジニル、キノリ
ル、フエナジニル、1,3−ベンゾジオキソラニ
ル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾオキ
サゾリル、ベンゾチアゾリルまたはクラリニルな
どを、さらに、複素環アルキルとは、上で定義し
た複素環式基およびアルキル基から成る基を、ま
た、ハロゲン原子とは、たとえば、フツ素、塩
素、臭素またはヨウ素原子をそれぞれ意味する。 本明細書中の各一般式におけるR1は、水素原
子またはカルボキシル保護基であり、カルボキシ
ル保護基としては、従来ペニシリンおよびセフア
ロスポリン系化合物の分野で通常使用されている
ものが挙げられる。これらのカルボキシル保護基
としては接触還元、化学的還元またはその他の緩
和な条件下で処理すれば脱離する性質を有するエ
ステル形成基、または生体内において容易に脱離
するエステル形成基、または水もしくはアルコー
ルで処理すれば容易に脱離する性質を有する有機
シリル基、有機リン基もしくは有機スズ基など、
その多の種々の公知のエステル形成基が挙げられ
る。 この種の保護基のうち好適な保護基としては、
具体的に次のものが挙げられる。 (イ) アルキル基。 (ロ) 置換基の少なくとも1つがハロゲン、ニト
ロ、アシル、アルコキシオキソ、シアノ、シク
ロアルキル、アリール、アルキルチオ、アルキ
ルスルフイニル、アルキルスルホニル、アルコ
キシカルボニル、5−アルキル−2−オキソ−
1,3−ジオキソ−ル−4−イル、1−インダ
ニル、2−インダニル、フリル、ピリジル、4
−イミダゾリル、フタルイミド、スクシンイミ
ド、アゼチジノ、アジリジノ、ピロリジノ、ピ
ペリジノ、モルホリノ、チオモリホリノ、N−
低級アルキルピペラジノ、ピロリル、ピラゾリ
ル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリ
ル、イソオキサゾリル、チアジアゾリル、オキ
サジアゾリル、チアトリアゾリル、オキサトリ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、キノ
リル、フエナジニル、ベンゾフリル、ベンゾチ
エニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、クマリニル、2,5−ジメチルピロリジ
ノ、1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニ
ル、4−メチルピペリジノ、2,6−ジメチル
ピペリジフ、4−(5−メチル−2−プロリニ
ル)、4−(2−ピロリニル)、N−メチルピペ
リジニル、1,3−ベンゾジオキソラニル、ア
ルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシルオキ
シ、アシルチオ、アシルアミノ、ジアルキルア
ミノカルボニル、アルコキシカルボニルアミ
ノ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、アル
アルキルオキシ、シクロアルキルオキシ、シク
ロアルケニルオキシ、複素環オキシ、アルコキ
シカルボニルオキシ、アルケニルオキシカルボ
ニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキ
シ、アルアルキルオキシカルボニルオキシ、複
素環オキシカルボニルオキシ、アルケニルオキ
シカルボニル、アリールオキシカルボニル、ア
ルアルキルオキシカルボニル、シクロアルキル
オキシカルボニル、シロアラルケニルオキシカ
ルボニル、複素環オキシカルボニル、アルキル
アニリノまたはハロゲン、低級アルキルもしく
は低級アルコキシで置換されたアルキルアニリ
ノである置換低級アルキル基。 (ハ) シクロアルキル基;低級アルキル置換シクロ
アルキルまたは〔2,2−ジ低級アルキル−
1,3−ジオキソール−4−イル〕メチル基。 (ニ) アルケニル基。 (ホ) アルキニル基。 (ヘ) フエニル基または置換基が少なくとも1つの
前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置
換基である置換フエニル、または式 〔式中、−Y1−は−CH=CH−O−、−CH=
CH−S−、−CH2CH2S−、−CH=N−CH=
N−、−CH=CH−CH=CH−、−CO−CH=
CH−CO−もしくは−CO−CO−CH=CH−で
ある。〕 で示される基もしくはその置換誘導体(置換基
は前記(ロ)で例示したものより任意に選ばれる)、
または式 〔式中、−Y2−は−(CH23−、−(CH24−のよ
うな低級アルキレン基である。〕 で示される基もしくはその置換誘導体(置換基
は前記(ロ)で例示したものより任意に選ばれる)
のようなアリール基。 (ト) ベンジルまたは置換基が少なくとも1つの前
記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置換
基である置換ベンジルのようなアルアルキル
基。 (チ) 複素環式基または置換基が少なくとも1つの
前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置
換基である置換された複素環式基。 (リ) 脂環インダニルまたはフタリジルおよび置換
基がメチルもしくはハロゲンであるそれらの置
換誘導体、脂環テトラヒドロナフチルおよび置
換基がメチルもしくはハロゲンであるその置換
誘導体、トリチル、コレステリル、ビシクロ・
〔4.4.0〕デシルなど。 (ヌ) 脂環フタリジリデン低級アルキル基または置
換基がハロゲンもしくは低級アルキル基である
それらの置換誘導体。 上で例示したカルボキシル保護基は代表例であ
り、これら以外にも、つぎの文献に記載されてい
る保護基を任意に選択することができる。 米国特許3499909号、3573296号および3641018
号;西独特許公開公報2301104号、2253287号およ
び2337105号。 これらの中で好ましいカルボキシル保護基とし
ては、たとえば、5−低級アルキル−2−オキソ
−1,3−ジオキソール−4−イル−低級アルキ
ル基、アシルオキシアルキル基、アシルチオアル
キル基、フタリジル基、インダニル基、フエニル
基、置換基を有するかもしくは有しないフタリジ
リデン低級アルキル基または次の式で表わされる
基のように生体内で容易に脱離する基が挙げられ
る。
It is characterized by the bonding of the 2-oxo - 1,2 -dihydropyrazinyl group represented by the formula . Hereinafter, the present invention will be explained in further detail. In this specification, unless otherwise specified, alkyl refers to C 1-14 alkyl, such as methyl,
Ethyl, n-propyl, iso.-propyl, n-butyl, iso.-butyl, sec.-butyl, tert.-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl,
dodecyl or lauryl, etc.; alkoxy refers to -O-alkyl having an alkyl group as defined above; lower alkyl refers to C1-5 alkyl, such as methyl, ethyl, n-propyl, iso.-propyl, n-butyl, iso-butyl, sec.-butyl, tert.-butyl or pentyl, etc.
Lower alkoxy refers to -O-lower alkyl having a lower alkyl group as defined above; acyl refers to -O-lower alkyl having a lower alkyl group as defined above;
C1-12 acyl, such as acetyl, propionyl, butyryl, benzoyl, naphthoyl, pentanecarbonyl, cyclohexanecarbonyl, furoyl or thenoyl; furthermore, acyloxy refers to -O-acyl having an acyl group as defined above; In addition, alkylthio refers to -S-alkyl having an alkyl group as defined above, and alkenyl refers to C2-10 alkenyl, such as vinyl,
Allyl, iso-propenyl, 2-pentenyl or butenyl, etc., and then alkynyl,
C2-10 alkynyl, such as ethynyl or 2
- Propynyl etc., cycloalkyl is C 3-7
Cycloalkyl such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl or cycloheptyl; aryl such as phenyl, naphthyl or indanyl; aralkyl such as benzyl, phenethyl, 4-methylbenzyl or haftylmethyl, etc., and the heterocyclic group refers to at least one group selected from oxygen, nitrogen and sulfur.
Heterocyclic groups containing 6 heteroatoms, such as furyl, thienyl, pyrrolyl, pyrazolyl, imidazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiazazolyl, oxadiazolyl, thiatriazolyl, oxatriazolyl, triazolyl, tetrazolyl, pyridyl,
4-(5-methyl-2-pyrrolinyl), 4-(2-
pyrrolinyl), N-methylpiperidinyl, quinolyl, phenazinyl, 1,3-benzodioxolanyl, benzofuryl, benzothienyl, benzoxazolyl, benzothiazolyl or clarinyl, and further heterocyclic alkyl as defined above A group consisting of a heterocyclic group and an alkyl group, and a halogen atom means, for example, a fluorine, chlorine, bromine or iodine atom, respectively. R 1 in each general formula herein is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, and examples of the carboxyl protecting group include those conventionally used in the field of penicillin and cephalosporin compounds. These carboxyl-protecting groups include ester-forming groups that have the property of being eliminated by treatment under catalytic reduction, chemical reduction, or other mild conditions, or ester-forming groups that are easily eliminated in vivo, or water or Organic silyl groups, organic phosphorous groups, or organic tin groups, etc., which have the property of being easily eliminated by treatment with alcohol,
A wide variety of known ester-forming groups are mentioned. Among these types of protecting groups, suitable protecting groups include:
Specifically, the following can be mentioned. (a) Alkyl group. (b) At least one of the substituents is halogen, nitro, acyl, alkoxyoxo, cyano, cycloalkyl, aryl, alkylthio, alkylsulfinyl, alkylsulfonyl, alkoxycarbonyl, 5-alkyl-2-oxo-
1,3-dioxol-4-yl, 1-indanyl, 2-indanyl, furyl, pyridyl, 4
-imidazolyl, phthalimide, succinimide, azetidino, aziridino, pyrrolidino, piperidino, morpholino, thiomorpholino, N-
Lower alkylpiperazino, pyrrolyl, pyrazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiadiazolyl, oxadiazolyl, thiatriazolyl, oxatriazolyl, triazolyl, tetrazolyl, quinolyl, phenazinyl, benzofuryl, benzothienyl, benzoxazolyl, benzothiazolyl, coumarinyl , 2,5-dimethylpyrrolidino, 1,4,5,6-tetrahydropyrimidinyl, 4-methylpiperidino, 2,6-dimethylpiperidif, 4-(5-methyl-2-prolinyl), 4-(2- pyrrolinyl), N-methylpiperidinyl, 1,3-benzodioxolanyl, alkylamino, dialkylamino, acyloxy, acylthio, acylamino, dialkylaminocarbonyl, alkoxycarbonylamino, alkenyloxy, aryloxy, aralkyloxy, cyclo Alkyloxy, cycloalkenyloxy, heterocyclicoxy, alkoxycarbonyloxy, alkenyloxycarbonyloxy, aryloxycarbonyloxy, aralkyloxycarbonyloxy, heterocyclicoxycarbonyloxy, alkenyloxycarbonyl, aryloxycarbonyl, aralkyloxycarbonyl, Substituted lower alkyl groups which are cycloalkyloxycarbonyl, cyloaralkenyloxycarbonyl, heterocyclic oxycarbonyl, alkylanilino or alkylanilino substituted with halogen, lower alkyl or lower alkoxy. (c) Cycloalkyl group; lower alkyl-substituted cycloalkyl or [2,2-di-lower alkyl-
1,3-dioxol-4-yl]methyl group. (d) Alkenyl group. (e) Alkynyl group. (f) A substituted phenyl group or a substituent in which the phenyl group or substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above, or a substituted phenyl group of the formula [In the formula, -Y 1 - is -CH=CH-O-, -CH=
CH−S−, −CH 2 CH 2 S−, −CH=N−CH=
N-, -CH=CH-CH=CH-, -CO-CH=
CH-CO- or -CO-CO-CH=CH-. ] A group represented by or a substituted derivative thereof (the substituents are arbitrarily selected from those exemplified in (b) above),
or expression [In the formula, -Y 2 - is a lower alkylene group such as -(CH 2 ) 3 - or -(CH 2 ) 4 -. ] A group represented by or a substituted derivative thereof (the substituents are arbitrarily selected from those exemplified in (b) above)
Aryl groups such as. (g) An aralkyl group such as benzyl or a substituted benzyl in which the substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above. (h) A substituted heterocyclic group in which the heterocyclic group or substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above. (li) Alicyclic indanyl or phthalidyl and their substituted derivatives in which the substituent is methyl or halogen, alicyclic tetrahydronaphthyl and its substituted derivatives in which the substituent is methyl or halogen, trityl, cholesteryl, bicyclo-
[4.4.0] Decyl etc. (v) Alicyclic phthalidylidene lower alkyl group or substituted derivatives thereof whose substituent is a halogen or lower alkyl group. The carboxyl protecting groups exemplified above are representative examples, and in addition to these, protecting groups described in the following documents can be arbitrarily selected. U.S. Patents 3499909, 3573296 and 3641018
No.: West German Patent Publication Nos. 2301104, 2253287 and 2337105. Among these, preferred carboxyl protecting groups include, for example, 5-lower alkyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-lower alkyl group, acyloxyalkyl group, acylthioalkyl group, phthalidyl group, and indanyl group. , a phenyl group, a phthalidylidene lower alkyl group with or without a substituent, or a group that is easily eliminated in vivo, such as a group represented by the following formula.

【式】【formula】

【式】【formula】

〔式中、R18は公知の置換基を有するかもしくは有しないアルキル、アルケニル、アリール、アルアルキル、脂環式または複素環式基を、R19は水素原子または公知の置換基を有するかもしくは有しないアルキル、アルケニル、アリール、アルアルキル、脂環式もしくは複素環式基を、R20は水素原子、ハロゲン原子または公知の置換基を有するかもしくは有しないアルキル、シクロアルキル、アリールまたは複素環式基または−(CH2oCOOR19を(ただし、R19は前記した意味を有し、nは0、1または2を示す。)、mは0、1または2を示す。〕[In the formula, R 18 is an alkyl, alkenyl, aryl, aralkyl, alicyclic or heterocyclic group with or without a known substituent, and R 19 is a hydrogen atom or a known substituent or R 20 is an alkyl, alkenyl, aryl, aralkyl, alicyclic or heterocyclic group with or without a hydrogen atom, a halogen atom or a known substituent; group or -(CH 2 ) o COOR 19 (wherein R 19 has the above-mentioned meaning, n represents 0, 1 or 2), m represents 0, 1 or 2; ]

さらに、具体的には、たとえば、5−メチル−
2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル−
メチル、5−エチル−2−オキソ−1,3−ジオ
キソール−4−イル−メチル、5−プロピル−2
−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル−メ
チル基などの5−低級アルキル−2−オキソ−
1,3−ジオキソール−4−イル−メチル基;ア
セトキシメチル、ピバロイルオキシメチル、プロ
ピオニルオキシメチル、ブチリルオシメチル、イ
ソブチリルオキシメチル、バレリルオキシメチ
ル、1−アセトキシエチル、1−アセトキシ−n
−プロピル、1−ピバロイルオキシエチル、1−
ピバロイルオキシ−n−プロピル基などのアシル
オキシアルキル基;アセチルチオメチル、ピバロ
イルチオメチル、ベンゾイルチオメチル、p−ク
ロロベンゾイルチオメチル、1−アセチルチオエ
チル、1−ピバロイルチオエチル、1−ベンゾイ
ルチオエチル、1−(p−クロロベンゾイルチオ)
エチル基などのアシルチオアルキル基;メトキシ
メチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イ
ソプロポキシメチル、n−ブチルオキシメチル基
などのアルコキシメチル基;メトキシカルボニル
オキシメチル、エトキシカルボニルオキシメチ
ル、プロポキシカルボニルオキシメチル、イソプ
ロポキシカルボニルオキシメチル、n−ブチルオ
キシカルボニルオキシ、tert.−ブチルオキシカル
ボニルオキシメチル、1−メトキシカルボニルオ
キシ−エチル、1−エトキシカルボニルオキシ−
エチル、1−プロポキシカルボニルオキシ−エチ
ル、1−イソプロポキシカルボニルオキシ−エチ
ル、1−ブチルオキシカルボニルオキシ−エチル
基などのアルコキシカルボニルオキシ−アルキル
基;メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボ
ニルメチル基などのアルコキシカルボニルメチル
基;フタリジル基;インダニル基;フエニル基;
2−(フタリジリデン)−エチル、2−(5−フル
オロフタリジリデン)−エチル、2−(6−クロロ
フタリジリデン)−エチル、2−(6−メトキシフ
タリジリデン)−エチル基などのフタリジリデン
アルキル基などが挙げられる。 また、R5の保護されていてもよいアミノ基の
保護基としては、従来、ペニシリンおよびセフア
ロスポリン系化合物の分野で通常使用されている
多くの基が挙げられ、たとえば、トリクロロエト
キシカルボニル、トリブロモエトキシカルボニ
ル、ベンジルオキシカルボニル、p−トルエンス
ルホニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、o−ブロモベンジルオキシカルボニル、(モ
ノ−、ジ−、トリ−)クロロアセチル、トリフル
オロセチル、ホルミル、tert.−アミルオキシカル
ボニル、tert.−ブトキシカルボニル、p−メトキ
シベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキ
シベンジルオキシカルボニル、4−(フエニルア
ゾ)ベンジルオキシカルボニル、4−(4−メト
キシフエニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、
ピリジン−1−オキサイド−2−イル−メトキシ
カルボニル、2−フルフリルオキシカルボニル、
ジフエニルメトキシカルボニル、1,1−ジメチ
ルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、1−シクロプロピルエトキシカルボニル、
フタロイル、スクシニル、1−アダマンチルオキ
シカルボニル、8−キノリルオキシカルボニルな
どの脱離しやすいアシル基が挙げられ、さらに、
トリチル、2−ニトロフエニルチオ、2,4−ジ
ニトロフエニルチオ、2−ヒドロキシベンジリデ
ン、2−ヒドロキシ−5−クロロベンジリデン、
2−ヒドロキシ−1−ナフチルメチレン、3−ヒ
ドロキシ−4−ピリジルメチレン、1−メトキシ
カルボニル−2−プロピリデン、1−エトキシカ
ルボニル−2−プロピリデン、3−エトキシカル
ボニル−2−ブチリデン、1−アセチル−2−プ
ロピリデン、1−ベンゾイル−2−プロピリデ
ン、1−〔N−(2−メトキシフエニル)カルバモ
イル〕−2−プロピリデン、1−〔N−(4−メト
キシフエニル)カルバモイル〕−2−プロピリデ
ン、2−エトキシカルボニルシクロヘキシリデ
ン、2−エトキシカルボニルシクロペンチリデ
ン、2−アセチルシクロヘキシリデン、3,3−
ジメチル−5−オキソシクロヘキシリデンなどの
脱離しやすい基またはジ−、もしくはトリ−アル
キルシリルなどのアミノ基の保護基が挙げられ
る。また、−A−は、式−CH2−または式
Furthermore, specifically, for example, 5-methyl-
2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-
Methyl, 5-ethyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-methyl, 5-propyl-2
-5-lower alkyl-2-oxo- such as -oxo-1,3-dioxol-4-yl-methyl group
1,3-dioxol-4-yl-methyl group; acetoxymethyl, pivaloyloxymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl, isobutyryloxymethyl, valeryloxymethyl, 1-acetoxyethyl, 1-acetoxy -n
-propyl, 1-pivaloyloxyethyl, 1-
Acyloxyalkyl groups such as pivaloyloxy-n-propyl group; acetylthiomethyl, pivaloylthiomethyl, benzoylthiomethyl, p-chlorobenzoylthiomethyl, 1-acetylthioethyl, 1-pivaloylthioethyl, 1-benzoylthioethyl , 1-(p-chlorobenzoylthio)
Acylthioalkyl groups such as ethyl group; alkoxymethyl groups such as methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, isopropoxymethyl, n-butyloxymethyl group; methoxycarbonyloxymethyl, ethoxycarbonyloxymethyl, propoxycarbonyloxymethyl, iso Propoxycarbonyloxymethyl, n-butyloxycarbonyloxy, tert.-butyloxycarbonyloxymethyl, 1-methoxycarbonyloxy-ethyl, 1-ethoxycarbonyloxy-
Alkoxycarbonyloxy-alkyl groups such as ethyl, 1-propoxycarbonyloxy-ethyl, 1-isopropoxycarbonyloxy-ethyl, 1-butyloxycarbonyloxy-ethyl groups; alkoxycarbonylmethyl groups such as methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylmethyl groups group; phthalidyl group; indanyl group; phenyl group;
Phthalides such as 2-(phthalidylidene)-ethyl, 2-(5-fluorophthalidylidene)-ethyl, 2-(6-chlorophthalidylidene)-ethyl, 2-(6-methoxyphthalidylidene)-ethyl group Examples include zylidene alkyl group. In addition, as the protecting group for the optionally protected amino group of R5 , there are many groups conventionally used in the field of penicillin and cephalosporin compounds, such as trichloroethoxycarbonyl, tribromoethoxycarbonyl, and tribromoethoxycarbonyl. Carbonyl, benzyloxycarbonyl, p-toluenesulfonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, o-bromobenzyloxycarbonyl, (mono-, di-, tri-)chloroacetyl, trifluorocetyl, formyl, tert.-amyloxycarbonyl , tert.-butoxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 4-(phenylazo)benzyloxycarbonyl, 4-(4-methoxyphenylazo)benzyloxycarbonyl,
Pyridin-1-oxide-2-yl-methoxycarbonyl, 2-furfuryloxycarbonyl,
diphenylmethoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl,
Examples include acyl groups that are easily eliminated such as phthaloyl, succinyl, 1-adamantyloxycarbonyl, and 8-quinolyloxycarbonyl;
trityl, 2-nitrophenylthio, 2,4-dinitrophenylthio, 2-hydroxybenzylidene, 2-hydroxy-5-chlorobenzylidene,
2-hydroxy-1-naphthylmethylene, 3-hydroxy-4-pyridylmethylene, 1-methoxycarbonyl-2-propylidene, 1-ethoxycarbonyl-2-propylidene, 3-ethoxycarbonyl-2-butylidene, 1-acetyl-2 -Propylidene, 1-benzoyl-2-propylidene, 1-[N-(2-methoxyphenyl)carbamoyl]-2-propylidene, 1-[N-(4-methoxyphenyl)carbamoyl]-2-propylidene, 2 -Ethoxycarbonylcyclohexylidene, 2-ethoxycarbonylcyclopentylidene, 2-acetylcyclohexylidene, 3,3-
Examples thereof include groups that are easily eliminated such as dimethyl-5-oxocyclohexylidene, and protecting groups for amino groups such as di- or tri-alkylsilyl. -A- is the formula -CH 2 - or the formula

【式】 (式中、R15は、保護されていてもよいカルボキ
シル基で置換されていてもよいアルキル基を示
し、〜は、シンもしくはアンチ異性体またはそれ
らの混合物でもよいことを示す。)で表わされる
基を意味する。 R15における保護されていてもよいカルボキシ
ル基の保護基としては、R1で説明したと同様の
カルボキシ基の保護基が挙げられる。 つぎに、
[Formula] (In the formula, R 15 represents an alkyl group which may be substituted with an optionally protected carboxyl group, and ~ represents a syn or anti isomer or a mixture thereof.) means a group represented by Examples of the optionally protected carboxyl group-protecting group for R 15 include the same carboxyl group-protecting groups as explained for R 1 . next,

【式】で表わされるオキシム体に は、シンおよびアンチ異性体、並びにそれらの混
合物が包含される。 本発明の各一般式の
The oxime represented by the formula includes syn and anti isomers and mixtures thereof. Each general formula of the present invention

【式】基におい ては、つぎの平衡式で示すように互変異性体が存
在するが、その互変異性体も包含される。 〔上記平衡式中、R4およびR5は前記の意味を有
し、R5′は保護されていてもよいイミノ基を示
す。〕 そして、上の式におけるR5′のイミノ基の保護
基としては、従来、ペニシリンおよびセフアロス
ポリン系化合物の分野で通常使用されている基が
挙げられ、具体的には、R5について説明したア
ミノ基の保護基のうち1価基と同様の基が挙げら
れる。 また、一般式〔〕の式−CH2R2が、式
In the group [Formula], tautomers exist as shown in the following balanced formula, and these tautomers are also included. [In the above balanced formula, R 4 and R 5 have the above-mentioned meanings, and R 5 ' represents an optionally protected imino group. ] In the above formula, as the protecting group for the imino group of R 5 ′, groups conventionally used in the field of penicillin and cephalosporin compounds can be mentioned, and specifically, the amino group described for R 5 Among the protective groups for groups, the same groups as monovalent groups can be mentioned. Also, the formula −CH 2 R 2 of the general formula [] is the formula

【式】(式中、R6、R7およびR8 は前記した意味を有する。)で表わされる基のう
ちR6が水素原子の場合は、下の平衡式で示され
るような互変異性体が存在し、そしてその互変異
性体も包含される。 一般式〔〕の化合物の塩類としては、従来、
ペニシリンおよびセフアロスポリン系化合物の分
野で周知の塩基性基または酸性基における塩を挙
げることができる。そのような塩基性基における
塩としては、たとえば、塩酸、硝酸または硫酸な
どの鉱酸との塩;シユウ酸、コハク酸、ギ酸、ト
リクロロ酢酸またはトリフルオロ酢酸などの有機
カルボン酸との塩;メタンスルホン酸、エタンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン−2−
スルホン酸、トルエン−4−スルホン酸、メシチ
レンスルホン酸(2,4,6−トリメチルベンゼ
ンスルホン酸)、ナフタレン−1−スルホン酸、
ナフタリン−2−スルホン酸、フエニルメタンス
ルホン酸、ベンゼン−1,3−ジスルホン酸、ト
ルエン−3,5−ジスルホン酸、ナフタレン−
1,5−ジスルホン酸、ナフタレン−2,6−ジ
スルホン酸、ナフタレン−2,7−ジスルホン
酸、ベンゼン−1,3,5−トリスルホン酸、ベ
ンゼン−1,2,4−トリスルホン酸、ナフタレ
ン−1,3,5−トリスルホン酸などのスルホン
酸との塩を、また酸性基における塩としては、た
とえば、ナトリウムまたはカリウムなどのアルカ
リ金属との塩;カルシムウまたはマグネシウムな
どのアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;
ブロカイン、ジベンジルアミン、N−ベンジル−
β−フエネチルアミン、1−エフエナミン、N,
N−ジベンジルエチレンジアミン、トリエチルア
ミン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、ピ
リジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチル
ピペリジン、N−メチルモルホリン、ジエチルア
ミン、ジシクロヘキシルアミンなどの含窒素有機
塩基との塩を挙げることができる。 また、本発明は、一般式〔〕のセフアロスポ
リン、その塩類のすべての光学異性体、およびラ
セミ体ならびにすべての結晶形および水和物を包
含するものである。さらに具体的に述べれば、一
般式〔〕で表わされる化合物中、好ましい例と
しては、Aが式
If R 6 of the group represented by [Formula] (in which R 6 , R 7 and R 8 have the meanings described above) is a hydrogen atom, tautomerism as shown in the balanced formula below tautomers exist, and their tautomers are also included. As salts of the compound of general formula [], conventionally,
Mention may be made of the salts with basic or acidic groups well known in the field of penicillin and cephalosporin compounds. Salts on such basic groups include, for example, salts with mineral acids such as hydrochloric acid, nitric acid or sulfuric acid; salts with organic carboxylic acids such as oxalic acid, succinic acid, formic acid, trichloroacetic acid or trifluoroacetic acid; methane; Sulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluene-2-
Sulfonic acid, toluene-4-sulfonic acid, mesitylenesulfonic acid (2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid), naphthalene-1-sulfonic acid,
Naphthalene-2-sulfonic acid, phenylmethanesulfonic acid, benzene-1,3-disulfonic acid, toluene-3,5-disulfonic acid, naphthalene-
1,5-disulfonic acid, naphthalene-2,6-disulfonic acid, naphthalene-2,7-disulfonic acid, benzene-1,3,5-trisulfonic acid, benzene-1,2,4-trisulfonic acid, naphthalene - Salts with sulfonic acids such as 1,3,5-trisulfonic acid, and as salts with acidic groups, for example salts with alkali metals such as sodium or potassium; salts with alkaline earth metals such as calcium or magnesium; salt; ammonium salt;
Brocaine, dibenzylamine, N-benzyl-
β-phenethylamine, 1-phenamine, N,
Salts with nitrogen-containing organic bases such as N-dibenzylethylenediamine, triethylamine, trimethylamine, tributylamine, pyridine, N,N-dimethylaniline, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, diethylamine, and dicyclohexylamine can be mentioned. . The present invention also encompasses all optical isomers and racemates of cephalosporin of the general formula [ ] and its salts, as well as all crystal forms and hydrates. More specifically, in the compound represented by the general formula [], as a preferable example, A is the formula

【式】で表わされるオキシム 体が、その中でも、シン異性体が、さらには、
R15がアルキル基、特に、メチル基、エチル基も
しくは式−CH2COOR1(式中、R1は前記した意味
を有する。)で表わされる各々の基である化合物
が挙げられる。 つぎに、R2の好ましいものの例としては、式
Among the oximes represented by the formula, the syn isomer is further
Mention may be made of compounds in which R 15 is an alkyl group, in particular a methyl group, an ethyl group or each group of the formula -CH 2 COOR 1 , in which R 1 has the meaning given above. Next, as a preferable example of R 2 , the formula

【式】で表わされる基の場合、R6、 R7およびR8は同一または異なつて、水素原子、
ハロゲン原子または低級アルキル基が、また、式
In the case of the group represented by [Formula], R 6 , R 7 and R 8 are the same or different, a hydrogen atom,
A halogen atom or a lower alkyl group also has the formula

【式】で表わされる基の場合、R9は低 級アルキル基で、R10およびR11は同一または異
なつて、水素原子または低級アルキル基が、さら
に、式
In the case of the group represented by the formula, R 9 is a lower alkyl group, R 10 and R 11 are the same or different, and a hydrogen atom or a lower alkyl group is further added to the formula

【式】で表わされる基の場 合、R12、R13およびR14は同一または異なつて、
水素原子または低級アルキル基が挙げられる。 次に一般式〔〕で表わされる化合物の中か
ら、いくつかの代表的化合物について得られた薬
理作用を示す。 (1) 抗菌作用(表−1) 日本化学療法学会標準法
〔(CHEMOTHERAPY)第23巻第1〜2頁
(1975年)〕に従い、Heart Infusion broth(栄
研化学社製)で37℃、20時間培養した菌液を薬
剤を含むHeart Infusion agar培地(栄研化学
社製)に接種し、37℃、20時間培養後、菌の発
育の有無を観察し、菌の発育が阻止された最小
濃度をもつてMIC(μg/ml)とした。ただ
し、接種菌量は104個/プレート(106個/ml)
とした。 試験化合物は以下のとおりである。 (A) 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−{〔1−(3,6−ジオキソ−1,
2,3,6−テトラヒドロピリダジニル)〕
メチル}−△3−セフエム−4−カルボン酸の
トリフルオロ酢酸塩 (B) 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−{〔1−(3−メチル−6−オキソ
−1,6−ジヒドロピリダジニル)〕メチル}
−△3−セフエム−4−カルボン酸のトリフ
ルオロ酢酸塩 (C) 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−{〔1−(2−オキソ−1,2−ジ
ヒドロピラジニル)〕メチル}−△3−セフエ
ム−4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩 (D) 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミ
ノアセトアミド〕−3−{〔1−(3,6−ジオ
キソ−1,2,3,6−テトラヒドロピリダ
ジニル)〕メチル}−Δ3−セフエム−4−カ
ルボン酸のギ酸塩 (E) 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミ
ノアセトアミド〕−3−{〔1−(3−メチル−
6−オキソ−1,6−ジヒドロピリダジニ
ル)〕メチル}−Δ3−セフエム−4−カルボ
ン酸のギ酸
In the case of the group represented by [Formula], R 12 , R 13 and R 14 are the same or different,
Examples include a hydrogen atom or a lower alkyl group. Next, the pharmacological effects obtained for some representative compounds among the compounds represented by the general formula [] will be shown. (1) Antibacterial action (Table 1) According to the standard method of the Japanese Society of Chemotherapy [(CHEMOTHERAPY) Vol. 23, pages 1-2 (1975)], in Heart Infusion broth (manufactured by Eiken Kagaku Co., Ltd.) at 37°C and 20 The cultured bacterial solution was inoculated into Heart Infusion agar medium (manufactured by Eiken Kagaku Co., Ltd.) containing the drug, and after culturing at 37℃ for 20 hours, the presence or absence of bacterial growth was observed, and the minimum concentration that inhibited bacterial growth was determined. was defined as MIC (μg/ml). However, the amount of inoculated bacteria is 10 4 cells/plate (10 6 cells/ml)
And so. The test compounds are as follows. (A) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-{[1-(3,6-dioxo-1,
2,3,6-tetrahydropyridazinyl)]
methyl}-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid trifluoroacetate (B) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-{ [1-(3-methyl-6-oxo-1,6-dihydropyridazinyl)]methyl}
-△ 3 -Trifluoroacetate of cefem-4-carboxylic acid (C) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-{[1 -(2-oxo-1,2-dihydropyrazinyl)]methyl}-△ 3 -Cephem -4-carboxylic acid trifluoroacetate (D) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl )-2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-{[1-(3,6-dioxo-1,2,3,6-tetrahydropyridazinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem- Formate of 4-carboxylic acid (E) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-{[1-(3-methyl-
Formic acid of 6-oxo-1,6-dihydropyridazinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid

【表】 注 * ペニシリネース産生菌
** セフアロスポリネース産性菌
2 尿中回収率 供試化合物をマウス(ICR、♂、4週令)1
匹当り、1mg、経口投与し、尿中回収率を求
め、その結果を表−2に示す。 なお、供試化合物はいずれも吸収後生体内で
エステル基が容易に脱離し、対応する遊離のカ
ルボン酸となるので、尿中に排泄される遊離の
カルボン酸を定量し、尿中回収率とした。 投与方法 供試化合物を0.5%CMCに懸濁した後、経口
投与した。 定量方法 表−2に記載の検定菌にて、ペーパーデイス
ク法で定量した*
[Table] Note * Penicillinase-producing bacteria
** Cephalosporinas-producing bacteria 2 Urinary recovery rate Test compound was administered to mice (ICR, male, 4 weeks old) 1
1 mg per animal was orally administered, and the urinary recovery rate was determined. The results are shown in Table 2. In addition, the ester groups of all test compounds are easily eliminated in vivo after absorption, resulting in the corresponding free carboxylic acid, so the free carboxylic acid excreted in the urine was quantified and calculated as the urinary recovery rate. . Administration method The test compound was suspended in 0.5% CMC and then administered orally. Quantification method Quantification was carried out using the paper disc method using the test bacteria listed in Table 2 * .

【表】【table】

【表】 * 0〜6時間、5例平均
3 急性毒性試験 下の試験化合物のマウス(ICR、♂、体重20
〜24g)静脈内投与におけるLD50値は3g/
Kg以上であつた。 試験化合物は以下のとおりである。 Γ7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−{〔1−(3,6−ジオキソ−1,
2,3,6−テトラヒドロピリダジニル)〕
メチル}−△3−セフエム−4−カルボン酸の
ナトリウム塩。 Γ7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−{〔1−(3−メチル−6−オキソ
−1,6−ジヒドロピリダジニル)〕メチル}
−△3−セフエム−4−カルボン酸のナトリ
ウム塩。 つぎに、製造法について説明する。 本発明の化合物は、たとえば、下に示す方法に
よつて製造することができる。 〔上記式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7
R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、Aお
よび〜は前記した意味を有し、R26はアミノ基、 式
[Table] * 0 to 6 hours, average of 3 in 5 cases Acute toxicity test Test compound mice below (ICR, male, body weight 20
~24g) LD50 value for intravenous administration is 3g/
It was over Kg. The test compounds are as follows. Γ7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-{[1-(3,6-dioxo-1,
2,3,6-tetrahydropyridazinyl)]
Sodium salt of methyl}-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid. Γ7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-{[1-(3-methyl-6-oxo-1,6-dihydropyridazine) 〕Methyl〕
-Δ3 -Cefem-4-carboxylic acid sodium salt. Next, the manufacturing method will be explained. The compound of the present invention can be produced, for example, by the method shown below. [In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 ,
R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , A and ~ have the above-mentioned meanings, R 26 is an amino group, Formula

【式】(式中、R26、R27およ びR28は同一または異なつて、水素原子または反
応に関与しない有機残基を示す。) または式
[Formula] (In the formula, R 26 , R 27 and R 28 are the same or different and represent a hydrogen atom or an organic residue that does not participate in the reaction.) or Formula

【式】(式中、R29およびR30 は同一または異なつて、水素原子または反応に関
与しない有機残基を示す。)で示される基を、ま
た、R25は置換基を有するかもしくは有しないア
シルオキシ基またはカルバモイルオキシ基を、X
はハロゲン原子を、ZはSまたはS→O
を、および環中の点線は2〜3または3〜4位間
が二重結合であることを各々意味する。〕 以下、詳細に説明すると、R24はアミノ基また
は式
[Formula] (wherein R 29 and R 30 are the same or different and represent a hydrogen atom or an organic residue that does not participate in the reaction), and R 25 has a substituent or An acyloxy group or a carbamoyloxy group that is not
is a halogen atom, Z is S or S→O
and the dotted line in the ring mean that the 2nd to 3rd or 3rd to 4th positions are double bonds, respectively. ] Below, to explain in detail, R 24 is an amino group or a formula

【式】または式R29 R30C=N −で表わされる基を示すが、式
[Formula] or a group represented by the formula R 29 R 30 C=N -, but the formula

【式】で示される基には、その異 性体である式The group represented by [Formula] Expressions that are gender bodies

【式】で表わされ る基も包含される。そしてR26、R27、R28、R29
およびR30における反応に関与しない有機残基と
しては、当該分野で知られている有機残基、具体
的には、置換基を有するかもしくは有しない脂肪
族残基、脂環式残基、芳香族残基、芳香脂肪族残
基、複素環残基、アシル基などが挙げられ、具体
的には次のような基が例示できる。 (1) 脂肪族残基:たとえば、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、イソブチル、ペンチルなどの
アルキル基;ビニル、プロペニル、ブテニルな
どのアルケニル基。 (2) 脂環式残基:たとえば、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチルなどのシクロア
ルキル基;シクロペンテニル、シクロヘキセニ
ルなどのクロロアルケニル基。 (3) 芳香族残基:たとえば、フエニル、ナフチル
などのアリール基。 (4) 芳香脂肪族残基:たとえば、ベンジル、フエ
ネチルなどのアルアルキル基。 (5) 複素環残基:たとえば、ピロリジニル、ピペ
ラジニル、フリル、チエニル、ピロリル、ピラ
ゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピリジ
ル、イミダゾリル、キノリル、ベンゾチアゾリ
ル、オキサジアゾリル、チアゾアゾリル、トリ
アゾリル、テトラゾリルなどの分子中にヘテロ
原子(酸素、窒素または硫黄原子)を任意に含
有する複素環式基。 (6) アシル基:有機カルボン酸から誘導され得る
アシル基であり、このような有機カルボン酸と
しては、たとえば、脂肪族カルボン酸、脂環式
カルボン酸、または脂環脂肪族カルボン酸ある
いは脂肪族カルボン酸に酸素または硫黄原子を
介してまたは介さずに芳香族残基、もしくは複
素環式基が結合した芳香置換脂肪族カルボン
酸、芳香族オキシ脂肪族カルボン酸、芳香族チ
オ脂肪族カルボン酸、複素環置換脂肪族カルボ
ン酸、複素環オキシ脂肪族カルボン酸、複素環
チオ脂肪族カルボン酸あるいはカルボニル基に
酸素、窒素または硫黄原子を介して芳香環、脂
肪族基、脂環式基が結合した有機カルボン酸類
あるいは芳香族カルボン酸および複素環カルボ
ン酸などの有機カルボン酸が挙げられる。 ここで脂肪族カルボン酸としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、ブタン酸、イソブタン酸、ペ
ンタン酸、メトキシ酢酸、メチルチオ酢酸、アク
リル酸、クロトン酸などが挙げられ、また脂環式
カルボン酸としては、シクロヘキサン酸などが挙
げられ、脂環式脂肪族カルボン酸としては、シク
ロペンタン酢酸、シクロヘキサン酢酸、シクロヘ
キサンプロピオン酸、シクロヘキサジエン酢酸な
どが挙げられる。 また、上述の有機カルボン酸における芳香族残
基としては、フエニル、ナフチルなどが挙げら
れ、さらに上述の複素環式基としては、フラン、
チオフエン、ピロール、ピラゾール、イミダゾー
ル、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾー
ル、オキサゾール、イソオキサゾール、チアジア
ゾール、オキサジアゾール、チアトリアゾール、
オキサトリアゾール、テトラゾール、ベンゾオキ
サゾール、ベンゾフランなどのヘテロ原子を環中
に1個以上含む複素環化合物の残基が挙げられ
る。 そして、これらの有機カルボン酸を構成する各
基は、たとえば、ハロゲン原子、ヒドロキシル
基、保護されたヒドロキシル基、アルキル基、ア
ルコキシ基、アシル基、ニトロ基、アミノ基、保
護されたアミノ基、カルボキシ基、保護されたカ
ルボキシル基などの置換基でさらに置換されてい
てもよい。 また、R25のアシルオキシおよびカルバモイル
オキシ基としては、たとえば、アセトキシ、プロ
ピオニルオキシまたはブチリルオキシなどのアル
カノイルオキシ基;アクリロイルオキシなどのア
ルケノイルオキシ基;ベンゾイルオキシまたはナ
フトイルオキシなどのアロイルオキシ基;および
カルバモイルオキシ基が挙げられ、これらはハロ
ゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アシルオキシ基、アシルア
ミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スル
フアモイル基、カルバモイル基、カルボアルコキ
シカルバモイル基、アロイルカルバモイル基、カ
ルボアルコキシスルフアモイル基、アリール基、
カルバモイルオキシ基などの一種以上の置換基で
置換されてもよい。 上述したR25の置換基において、ヒドロキシル
基、アミノ基およびカルボキシル基などは通常用
いられる保護基で保護されていてもよい。 (イ) 三位変換反応 一般式〔〕のセフアロスポラン酸類または
その塩類に、酸または酸の錯化合物の存在下、
一般式〔−a〕の3,6−ジオキソ−1,
2,3,6−テトラヒドロピリダジン類、一般
式〔−b〕の6−オキソ−1,6−ジヒドロ
ピリダジン類または一般式〔−c〕の2−オ
キソ−1,2−ジヒドラピロジン類もしくはそ
れらの塩類を反応させ、所望によりついで保護
基の脱離またはカルボキシル基を保護または塩
とすることにより一般式〔〕の7−置換また
は非置換アミノ−3−置換メチルセフエムカル
ボン酸類またはその塩類を工業的に容易な操作
で、高収率かつ高純度に製造することができ
る。 さらに、所望により、7位アミノ基の置換基
は常法により除去し、7−非置換アミノ体とす
ることができる。この方法によれば、△3−セ
フエム化合物のみならず△2−セフエム化合物
も用いることができ、△2−セフエム化合物を
用いた場合、反応後得られた△2−セフエム化
合物を△3−セフエム化合物に変換することが
できる。 またZがSである化合物のみならず、
ZがS→Oである化合物も出発原料として用
いることができ、その場合、反応中または後処
理の段階でS→OをSとすることができ
る。 また、この反応における反応試薬として用い
る一般式〔−a〕の3,6−ジオキソ−1,
2,3,6−テトラヒドロピリダジン類、一般
式〔−b〕の6−オキソ−1,6−ジヒドロ
ピリダジン類および一般式〔−c〕の2−オ
キソ−1,2−ジヒドロピラジン類において、
それらの置換基に塩基製基または酸性基を有す
る場合は、必要に応じ、それぞれの塩の形で反
応に供してもよく、その場合の塩基性基におけ
る塩および酸性基における塩としては、一般式
〔〕のセフアロスポリンの塩類のところで説
明した塩基性基および酸性基における塩と同様
のものが挙げられる。 また、一般式〔〕および〔〕の化合物の
塩類としては、塩基性基または酸性基における
塩が挙げられ、それらの塩類は一般式〔〕の
化合物の塩類について説明したのと同様のもの
が挙げられる。なお、一般式〔〕の化合物の
塩類は予め単離して用いてもよく、あるいは系
内で調製してもよい。 この反応において使用される酸または酸の錯
化合物としては、たとえば、プロトン酸、ルイ
ス酸またはルイス酸の錯化合物が挙げられる。
プロトン酸としては、たとえば、硫酸類、スル
ホン酸類または超強酸類(超強酸とは100%硫
酸より強い酸を意味し、前述の硫酸類およびス
ルホン酸類の一部も含まれる)が挙げられ、さ
らに具体的には、硫酸、クロロ硫酸またはフル
オロ硫酸などの硫酸類;メタンスルホン酸また
はトリフルオロメタンスルホン酸などのアルキ
ル(モノ−またはジ−)スルホン酸、またはp
−トルエンスルホン酸などのアリール(モノ
−、ジ−またはトリ−)スルホン酸などのスル
ホン酸類;過塩素酸、マジツク酸(FSO2H−
SbF5)、FSO2H−AsF5、CF2SO2H−SbF5
HF−BF2、H2SO4−SO2などの超強酸が挙げ
られる。 また、ルイス酸としては、たとえば、三弗化
硼素などが挙げられる。また、ルイス酸の錯化
合物としては、たとえば、三弗化硼素とジエチ
ルエーテル、ジ−n−プロピルエーテル、ジ−
n−ブチルエーテルなどとのジアルキルエーテ
ル錯塩;エチルアミン、n−プロピルアミン、
n−ブチルアミン、トリエタノールアミンなど
とのアミン錯塩;ギ酸エチル、酢酸エチルなど
とのカルボン酸エステル錯塩;酢酸、プロピオ
ン酸などとの脂肪酸錯塩;またはアセトニトリ
ル、プロピオニトリルなどとのニトリル錯塩な
どが挙げられる。 また、この反応においては有機溶媒を用いた
場合が好ましく、用いられる有機溶媒として
は、反応に不活性な全ての有機溶媒、たとえ
ば、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パンなどのニトロアルカン類;ギ酸、酢酸、ト
リフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、プロピオン酸
などの有機カルボン酸類;アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケ
トン類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、アニソー
ル、ジメチルセロソルブなどのエーテル類;ギ
酸エチル、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エ
チル、クロロ酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエ
ステル類;アセトニトリル、ブチロニトリルな
どのニトリル類;またはスルホランなどのスル
ホラン類が挙げられ、これらの溶媒を二種以上
混合して用いてもよい。また、これらの有機溶
媒とルイス酸とで形成される錯化合物を溶媒と
いて使用することもできる。酸または酸の錯化
合物の使用量は、一般式〔〕の化合物または
その塩類に対し当モル以上であればよく、個々
の場合に応じ適宜増減させることができる。特
に、2〜10倍モル量の使用が好ましい。酸の錯
化合物を用いる場合には、それ自体を溶媒とし
て用いることができ、二種以上の錯化合物を混
合して用いてもよい。 また、この反応の反応試薬として用いる一般
式〔−a〕の3,6−ジオキソ−1,2,
3,6−テトラヒドロピリダジン類、一般式
〔−b〕の6−オキソ−1,6−ジヒドロピ
リダジン類および一般式〔−c〕の2−オキ
ソ−1,2−ジヒドロピラジン類もしくはそれ
らの塩類の使用量は、一般式〔〕の化合物ま
たはその塩類に対し、当モル以上であればよい
が、特に1.0〜5.0倍モル量の使用が好ましい。 この反応は、通常0〜80℃で行われ、数分〜
数十時間で完了する。この反応の系内に水分が
あると原料または生成物のラクトン化およびβ
−ラクタム環の開裂など好ましくない副反応を
惹起することがあるので、反応系内を無水の状
態に保つことが望ましい。この条件を満たすた
めに、反応系内に適当な脱水剤、たとえば、五
酸化リン、ポリリン酸、五塩化リン、三塩化リ
ン、オキシ塩化リンなどのリン化合物;N,O
−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、ト
リメチルシリルアセトアミ、トリメチルクロロ
シラン、ジメチルジクロロシランなどの有機シ
リル化剤;アセチルクロリド、p−トルエンス
ルホニルクロリドなどの有機酸クロリド;無水
酢酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物;
無水硫酸マグネシウム、無水塩化カルシウム、
モレキユラーシーブ、カルシウムカーバイドな
どの無機乾燥剤などを添加してもよい。 R1がカルボキシル保護基を示す一般式〔〕
の化合物を原料として使用した場合、反応後の
処理によりR1が水素原子である対応する一般
式〔〕の化合物が得られることもあるが、所
望により保護基を常法で脱離させ、R1が水素
原子である一般式〔〕の化合物を得ることが
できる。 この反応における反応試薬として用いる一般
式〔−a〕の3,6−ジオキソ−1,2,
3,6−テトラヒドロピリダジン類、一般式
〔−b〕の6−オキソ−1,6−ジヒドロピ
リダジン類および一般式〔−c〕の2−オキ
ソ−1,2−ジヒドロピラジン類もしくはそれ
らの塩類において、それらの置換基がヒドロキ
シル基、アミノ基、カルボキシル基などで置換
されている場合、この反応を実施する前に、こ
れらの基を前述の保護基で保護し、反応終了
後、従来の脱離反応に付すことにより、所望の
化合物を得ることができる。 また、一般式〔〕の化合物は、所望によ
り、常法に従つてカルボキシル基を保護または
塩とすることができ、目的の化合物を得ること
もできる。また、R24がアミノ基である一般式
〔〕の化合物は、常法により、後述のような
アミノ基における反応性誘導体とすることがで
きる。 (ロ) アシル化反応 叙上の方法で得られた一般式〔〕の化合物
またはその塩類もしくはそれらのアミノ基にお
ける反応性誘導体に、一般式〔〕、〔〕、
〔〕、〔〕または〔〕の化合物またはそ
の塩類もしくはその反応性誘導体を反応させれ
ば、一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔XI〕または
〔〕の化合物またはその塩類が得らえる。 また、一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔〕また
は〔〕の化合物の塩類としては、塩基性基
または酸性基における塩が挙げられ、それらの
塩類は一般式〔〕の化合物の塩類について説
明したと同様のものが挙げられる。 一般式〔〕の化合物のアミノ基における反
応性誘導体としては、たとえば、イソシアネー
ト、一般式〔〕の化合物またはその塩類とア
ルデヒド、ケトンなどのカルボニル化合物との
反応により生成するシツフの塩基(イミノ型も
しくはそのエナミン型の異性体)、一般式〔〕
の化合物またはその塩類とN,O−ビス(トリ
メチシリル)アセトアミド、トリメチルシリル
アセトアミド、トリメチルシリルクロライドな
どのシリル化合物、三塩化燐、
A group represented by the formula is also included. and R 26 , R 27 , R 28 , R 29
The organic residues that do not participate in the reaction in R 30 include organic residues known in the art, specifically aliphatic residues with or without substituents, alicyclic residues, aromatic residues, etc. Examples include group residues, aromatic aliphatic residues, heterocyclic residues, and acyl groups, and specific examples include the following groups. (1) Aliphatic residues: for example, alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, isobutyl, pentyl; alkenyl groups such as vinyl, propenyl, butenyl. (2) Alicyclic residues: For example, cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, and cycloheptyl; chloroalkenyl groups such as cyclopentenyl and cyclohexenyl. (3) Aromatic residues: for example, aryl groups such as phenyl and naphthyl. (4) Aroaliphatic residues: for example, aralkyl groups such as benzyl and phenethyl. (5) Heterocyclic residues: For example, heteroatoms (oxygen , nitrogen or sulfur atoms). (6) Acyl group: An acyl group that can be derived from an organic carboxylic acid, such as an aliphatic carboxylic acid, an alicyclic carboxylic acid, an alicyclic aliphatic carboxylic acid, or an aliphatic carboxylic acid. Aromatic substituted aliphatic carboxylic acids, aromatic oxyaliphatic carboxylic acids, aromatic thioaliphatic carboxylic acids, in which aromatic residues or heterocyclic groups are bonded to carboxylic acids with or without oxygen or sulfur atoms; An aromatic ring, aliphatic group, or alicyclic group is bonded to a heterocyclic-substituted aliphatic carboxylic acid, a heterocyclic oxyaliphatic carboxylic acid, a heterocyclic thioaliphatic carboxylic acid, or a carbonyl group via an oxygen, nitrogen, or sulfur atom. Examples include organic carboxylic acids and organic carboxylic acids such as aromatic carboxylic acids and heterocyclic carboxylic acids. Here, examples of aliphatic carboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, isobutanoic acid, pentanoic acid, methoxyacetic acid, methylthioacetic acid, acrylic acid, crotonic acid, etc., and examples of alicyclic carboxylic acids include: Examples of the alicyclic aliphatic carboxylic acids include cyclohexanoic acid, cyclopentaneacetic acid, cyclohexaneacetic acid, cyclohexanepropionic acid, and cyclohexadieneacetic acid. Further, aromatic residues in the above-mentioned organic carboxylic acids include phenyl, naphthyl, etc., and further examples of the above-mentioned heterocyclic groups include furan,
Thiophene, pyrrole, pyrazole, imidazole, triazole, thiazole, isothiazole, oxazole, isoxazole, thiadiazole, oxadiazole, thiatriazole,
Examples include residues of heterocyclic compounds containing one or more heteroatoms in the ring, such as oxatriazole, tetrazole, benzoxazole, and benzofuran. Each group constituting these organic carboxylic acids includes, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, a nitro group, an amino group, a protected amino group, and a carboxy group. It may be further substituted with a substituent such as a group or a protected carboxyl group. Examples of the acyloxy and carbamoyloxy groups for R25 include alkanoyloxy groups such as acetoxy, propionyloxy, or butyryloxy; alkenoyloxy groups such as acryloyloxy; aroyloxy groups such as benzoyloxy or naphthoyloxy; and carbamoyloxy These groups include halogen atoms, nitro groups, alkyl groups, alkoxy groups, alkylthio groups, acyloxy groups, acylamino groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, sulfamoyl groups, carbamoyl groups, carboalkoxycarbamoyl groups, aroylcarbamoyl groups, and carboalkoxycarbamoyl groups. Alkoxysulfamoyl group, aryl group,
It may be substituted with one or more substituents such as a carbamoyloxy group. Among the substituents for R 25 described above, the hydroxyl group, amino group, carboxyl group, etc. may be protected with a commonly used protecting group. (a) Three-position conversion reaction A cephalosporanic acid of the general formula [] or a salt thereof in the presence of an acid or a complex compound of an acid,
3,6-dioxo-1 of general formula [-a],
2,3,6-tetrahydropyridazines, 6-oxo-1,6-dihydropyridazines of general formula [-b] or 2-oxo-1,2-dihydrapyridazines of general formula [-c] or salts thereof 7-substituted or unsubstituted amino-3-substituted methylcefemcarboxylic acids or salts thereof of the general formula [] can be produced industrially by removing the protecting group or protecting or converting the carboxyl group into a salt, if desired. It can be produced with high yield and high purity through easy operations. Furthermore, if desired, the substituent on the 7-position amino group can be removed by a conventional method to obtain a 7-unsubstituted amino compound. According to this method, not only the △ 3 -cephem compound but also the △ 2 -cepheme compound can be used, and when the △ 2 -cepheme compound is used, the △ 2 -cepheme compound obtained after the reaction is converted into △ 3 -cepheme compound. can be converted into compounds. In addition to compounds where Z is S,
Compounds in which Z is S→O can also be used as starting materials, in which case S→O can be converted to S during the reaction or in the work-up step. In addition, 3,6-dioxo-1 of the general formula [-a] used as a reaction reagent in this reaction,
2,3,6-tetrahydropyridazines, 6-oxo-1,6-dihydropyridazines of general formula [-b] and 2-oxo-1,2-dihydropyrazines of general formula [-c],
When these substituents have a basic group or an acidic group, they may be subjected to the reaction in the form of their respective salts, if necessary. In this case, the salts for the basic group and the salts for the acidic group are generally Examples include the same salts with basic groups and acidic groups as explained in the salts of cephalosporin of formula []. In addition, examples of the salts of the compounds of general formulas [] and [] include salts with basic groups or acidic groups, and the same salts as those explained for the salts of the compounds of general formulas [] are mentioned. It will be done. Note that the salts of the compound of general formula [] may be used after being isolated in advance, or may be prepared in-system. The acid or acid complex used in this reaction includes, for example, a protonic acid, a Lewis acid, or a Lewis acid complex.
Protonic acids include, for example, sulfuric acids, sulfonic acids, or super strong acids (super strong acids mean acids stronger than 100% sulfuric acid, and also include some of the aforementioned sulfuric acids and sulfonic acids); Specifically, sulfuric acids such as sulfuric acid, chlorosulfuric acid or fluorosulfuric acid; alkyl (mono- or di-)sulfonic acids such as methanesulfonic acid or trifluoromethanesulfonic acid, or p
- Sulfonic acids such as aryl (mono-, di- or tri-)sulfonic acids such as toluenesulfonic acid; perchloric acid, magicic acid (FSO 2 H-
SbF 5 ), FSO 2 H−AsF 5 , CF 2 SO 2 H−SbF 5 ,
Examples include super strong acids such as HF- BF2 and H2SO4 -SO2 . Furthermore, examples of the Lewis acid include boron trifluoride. In addition, examples of complex compounds of Lewis acids include boron trifluoride and diethyl ether, di-n-propyl ether, di-
Dialkyl ether complex salts with n-butyl ether, etc.; ethylamine, n-propylamine,
Examples include amine complex salts with n-butylamine, triethanolamine, etc.; carboxylic acid ester complex salts with ethyl formate, ethyl acetate, etc.; fatty acid complex salts with acetic acid, propionic acid, etc.; or nitrile complex salts with acetonitrile, propionitrile, etc. It will be done. In addition, it is preferable to use an organic solvent in this reaction, and examples of organic solvents that can be used include all organic solvents that are inert to the reaction, such as nitroalkanes such as nitromethane, nitroethane, and nitropropane; formic acid, acetic acid, Organic carboxylic acids such as trifluoroacetic acid, dichloroacetic acid, and propionic acid; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, anisole, and dimethyl cellosolve; Examples include esters such as ethyl formate, diethyl carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl chloroacetate, and butyl acetate; nitriles such as acetonitrile and butyronitrile; and sulfolanes such as sulfolane; two or more of these solvents may be mixed. It may also be used. Moreover, a complex compound formed by these organic solvents and a Lewis acid can also be used as a solvent. The amount of the acid or acid complex compound to be used may be at least the equivalent molar amount of the compound of general formula [] or its salt, and can be increased or decreased as appropriate depending on the individual case. In particular, it is preferable to use 2 to 10 times the molar amount. When using an acid complex compound, it can be used itself as a solvent, or a mixture of two or more kinds of complex compounds may be used. In addition, 3,6-dioxo-1,2, of the general formula [-a] used as a reaction reagent for this reaction,
3,6-tetrahydropyridazines, 6-oxo-1,6-dihydropyridazines of general formula [-b] and 2-oxo-1,2-dihydropyrazines of general formula [-c] or their salts. The amount used may be at least the equivalent molar amount of the compound of general formula [] or its salt, but it is particularly preferred to use 1.0 to 5.0 times the molar amount. This reaction is usually carried out at 0 to 80°C for several minutes to
It can be completed in a few dozen hours. If there is water in the reaction system, lactonization of the raw materials or products and β
- Since undesirable side reactions such as cleavage of the lactam ring may occur, it is desirable to maintain the reaction system in an anhydrous state. In order to satisfy this condition, a suitable dehydrating agent is added to the reaction system, such as a phosphorus compound such as phosphorus pentoxide, polyphosphoric acid, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride, or phosphorus oxychloride;
-Organic silylating agents such as bis(trimethylsilyl)acetamide, trimethylsilylacetamide, trimethylchlorosilane, and dimethyldichlorosilane; Organic acid chlorides such as acetyl chloride and p-toluenesulfonyl chloride; Acid anhydrides such as acetic anhydride and trifluoroacetic anhydride ;
Anhydrous magnesium sulfate, anhydrous calcium chloride,
An inorganic desiccant such as a molecular sieve or calcium carbide may be added. General formula in which R 1 represents a carboxyl protecting group []
When a compound of the formula [] is used as a raw material, the corresponding compound of the general formula [] in which R 1 is a hydrogen atom may be obtained by post-reaction treatment, but if desired, the protecting group can be removed by a conventional method, and R A compound of the general formula [] where 1 is a hydrogen atom can be obtained. 3,6-dioxo-1,2, of the general formula [-a] used as a reaction reagent in this reaction,
In 3,6-tetrahydropyridazines, 6-oxo-1,6-dihydropyridazines of general formula [-b] and 2-oxo-1,2-dihydropyrazines of general formula [-c] or their salts , if those substituents are substituted with hydroxyl groups, amino groups, carboxyl groups, etc., these groups are protected with the aforementioned protecting groups before carrying out this reaction, and after the reaction is completed, conventional elimination A desired compound can be obtained by subjecting it to the reaction. Further, in the compound of general formula [], the carboxyl group can be protected or converted into a salt according to a conventional method, if desired, and the desired compound can also be obtained. Further, the compound of the general formula [] in which R 24 is an amino group can be converted into a reactive derivative at the amino group as described below by a conventional method. (b) Acylation reaction The compound of the general formula [] obtained by the above method or its salt or its reactive derivative at the amino group is treated with the compound of the general formula [], [],
By reacting a compound of [], [] or [], or a salt thereof, or a reactive derivative thereof, a compound of general formula [], [], [], [XI] or [] or a salt thereof can be obtained. . In addition, salts of the compound of the general formula [], [], [], [] or [] include salts in a basic group or an acidic group; The same ones as those described are mentioned. Examples of reactive derivatives at the amino group of the compound of general formula [] include Schiff's bases (imino type or Its enamine type isomer), general formula []
or its salts, silyl compounds such as N,O-bis(trimethysilyl)acetamide, trimethylsilylacetamide, trimethylsilyl chloride, phosphorus trichloride,

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】 (CH3CH2O)2PCl、(CH3CH22PClなどのリン
化合物、または(C4H93SnClなどのスズ化合
物との反応により生成するシリル誘導体、リン
誘導体またはスズ誘導体などのアシル化反応に
おいて繁用されるものはすべて包含される。 一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔〕または〔
〕の化合物の反応性誘導体としては、具体的
には、酸ハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水
物、活性酸アミド、活性エステルならびに一般
式〔〕、〔〕、〔〕、〔〕または〔〕の
化合物のビルスマイヤー試薬との反応性誘導体
などが挙げられる。その混合酸無水物として
は、たとえば、炭酸モノエチルエステル、炭酸
モノイソブチルエステルなどの炭酸モノアルキ
ルエステルとの混合酸無水物、ピバリン酸やト
リクロロ酢酸などのハロゲンで置換されていて
もよい低級アルカン酸との混合物酸水物などが
用いられる。活性酸アミドとしては、たとえ
ば、N−アシルサツカリン、N−アシルイミダ
ゾール、N−アシルベンゾイルアミド、N,
N′−ジシクロヘキシル−N−アシル尿素、N
−アシルスルホンアミドなどが用いられる。つ
ぎに活性エステルとしては、たとえば、シアノ
メチルエステル、置換フエニルエステル、置換
ベンジルエステル、置換チエエルエステルなど
が用いられる。 また、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体
としては、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミドなどの酸アミド
に、ホスゲン、塩化チオニル、三塩化リン、三
臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン、トリ
クロロメチル=クロロホルメート、塩化オキサ
リルなどのハロゲン化剤を作用させて得られる
ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙
げられる。 一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔〕または〔
〕の各々の化合物を遊離酸または塩の状態で
使用する場合は、適当な縮合剤を用いる。この
ような縮合剤としては、たとえば、N,N′−
ジシクロロヘキシルカルボジイミドようなN,
N′−ジ置換カルボイミド、N,N′−チオニル
ジイミダゾールのようなアゾライド化合物、N
−エトキシカルボニル−2−エトキシ−1,2
−ジヒドロキシキノリン、オキシ塩化燐、酸ア
ルコキシアセチレンなどの脱水剤、2−ハロゲ
ノピリジニウム塩(たとえば、2−クロロピリ
ジニウムメチルヨージド、2−フルオロピリジ
ニウムメチルヨージド)などが用いられる。 このアシル化反応、一般に適当な溶媒中、塩
基の存在または不存在下で実施される。溶媒と
しては、たとえば、クロロホルム、塩化メチレ
ンなどのハロゲン化炭化水素テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどのエーテル類、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、アセトン、水またはこれらの混合物な
どが使用できる。ここで用いられる塩基として
は、水酸化アルカリ、炭酸水素アルカリ、炭酸
アルカリまたは酢酸アルカリなどの無機塩基ま
たはトリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、ピリジン、N−メチルピペリ
ジン、N−メチルモルホリン、ルチジン、コリ
ジンなどの第3級アミンあるいはジシクロヘキ
シルアミン、ジエチルアミンなどの第2級アミ
ンが挙げられる。 なお、本発明の一般式〔a〕および〔
b〕の化合物およびそれらの塩類に誘導するこ
とができる一般式〔〕の化合物およびその塩
類は、次のようにして製造することもできる。 一般式〔〕の化合物またはその塩類を使つ
て一般式〔〕の化合物またはその塩類を得る
には、ジケテンと塩素、もしくは臭素などのハ
ロゲンとの反応〔ジヤーナル・オブ・ザ・ケミ
カル・ソサイエテイ、97、1987(1910)〕により
得られる4−ハロゲノ−3−オキソ−ブチリル
ハライドと、一般式〔〕の化合物またはその
塩類とを常法に従つて反応させればよい。この
反応条件及び操作は、当該分野で知られた条件
および操作が適用できる。また、一般式〔〕
の化合物の塩類は、常法に従つて容易に得るこ
とができ、その塩類としては、前述の一般式
〔〕の化合物の塩のところで説明したと同様
のものが挙げられる。得られる一般式〔〕の
化合物およびその塩類は、常法によつて単離精
製してもよいが、単離することなく、次の反応
に用いることもできる。 なお、一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔〕また
は〔〕の化合物もしくはその反応性誘導体
の使用量は一般式〔〕の化合物またはその塩
類もしくはそれらのアミノ基における反応性誘
導体1モルに対し、それぞれ通常約1〜数モル
程度が好ましい。反応温度は、通常−50〜40℃
の範囲で行われる。反応時間は、通常10分〜48
時間である。 さらに、R1がカルボキシル保護基である一
般式〔〕、〔〕、〔〕、〔XI〕および〔〕
の化合物の場合は、R1が水素原子である一般
式〔〕、〔〕、〔〕、〔XI〕および〔〕の
化合物またはそれらの塩類に;R1が水素原子
である一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔XI〕および
〔〕の化合物の場合は、R1がカルボキシル
保護基である一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔XI〕
および〔〕の化合物またはそれらの塩類
に;また一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔XI〕およ
び〔〕の化合物の塩類である場合には、対
応する遊離の化合物にそれぞれ常法に従つて変
換することができる。 また、このアシル化反応において、R1、R2
R3の基中に反応に活性な基が存在するときは、
反応に際し、通常の保護基で任意に保護してお
くこともでき、反応後常法によりその保護基を
脱離させることもできる。 以上のようにして得られた本発明の一般式
〔〕の化合物、ならびにその塩類は、常法に
よつて単離することができる。 (ニ) ニトロソ化反応 つぎに一般式〔〕の化合物またはその塩類
から一般式〔〕の化合物またはその塩類を得
るには、一般式〔〕の化合物またはその塩類
に、ニトロソ化剤を反応させる。 この反応は、通常溶媒中で行われ、溶媒とし
ては、水、酢酸、ベンゼン、メタノール、エタ
ノール、テトラヒドロフラン、その他の反応に
不活性な溶媒が使用できる。ニトロソ化剤の好
ましい例としては、硝酸およびその誘導体、た
とえば、塩化ニトロシル、臭化ニトロシルなど
のハロゲン化ニトロシル、亜硝酸ナトリウム、
亜硝酸カリウムなどの亜硝酸アルカリ金属塩、
亜硝酸ブチルエステル、亜硝酸ペンチルエステ
ルなどの亜硝酸アルキルエステルなどが挙げら
れる。ニトロソ化剤として亜硝酸の塩を使用す
るときには、塩酸、硫酸、ギ酸、酢酸などの無
機もしくは有機の酸の存在下に反応を行うのが
好ましい。亜硝酸エステルをニトロソ化剤とし
て使用する場合には、アルカリ金属アルコキシ
ドのような強塩基の存在下に行うのが好まし
い。反応は一般に−15〜30℃の範囲で行われ、
反応時間は通常10分から10時間である。また、
一般式〔〕の化合物の塩類は常法に従つて容
易に得ることができ、その塩類としては、一般
式〔〕の化合物の塩のところで説明したと同
様のものが挙げられる。このようにして得られ
る一般式〔〕の化合物およびその塩類は、公
知の手段により単離精製できるが、単離するこ
となく次の反応の原料として用いることもでき
る。 (ニ) アルキル化反応 つぎに、一般式〔〕の化合物またはその塩
類から一般式〔XI〕の化合物またはその塩類を
得るには、一般式〔〕の化合物またはその塩
類をアルキル化反応に付す。このアルキル化反
応は常法に従つて行うことができる。反応は一
般に−20〜60℃の範囲で行われ、反応時間は、
通常5分から10時間である。溶媒としては本反
応を阻害しない限りいかなるものでもよく、た
とえば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メ
タノール、エタノール、クロロホルム、塩化メ
チレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、水などまたはこれらの混合物などが用
いられる。 アルキル化剤としては、たとえば、ヨウ化メ
チル、臭化メチル、ヨウ化メチル、臭化エチル
などのハロゲン化低級アルキル、硫酸ジメチ
ル、硫酸ジエチル、ジアゾメタン、ジアゾエタ
ンまたはp−トルエンスルホン酸メチルなどが
用いられる。ジアゾメタン、ジアゾエタンの場
合以外のアルキル化剤を用いるときは、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の
炭酸塩、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウ
ムなどのアルカリ金属の水酸化物、トリエチル
アミン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン
などの塩基の存在下に一般に行う。 また、一般式〔XI〕の化合物の塩類は常法に
従つて容易に得ることができ、その塩類として
は、一般式〔〕の化合物の塩のところで説明
したと同様のものが挙げられる。このようにし
て得られる一般式〔XI〕の化合物およびその塩
類は、公知の手段により単離精製することもで
きるが、することなく次の反応の原料として用
いることもできる。 (ホ) 閉環反応 つぎに一般式〔〕、〔〕または〔XI〕の各
化合物またはその塩類に、一般式〔XII〕のチオ
ホルムアミドまたはチオ尿素類を反応させれ
ば、本発明の一般式〔a〕または〔b〕の
化合物もしくはそれらの塩類が得られる。この
反応は、通常、溶媒中で行われる。溶媒として
は、本反応を阻害しない限りいかなるものでも
よいが、たとえば、水、メタノール、エタノー
ル、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、N−メチルピリドンの
ような一種または二種以上の混合溶媒が用いら
れる。脱酸剤の添加は、特に必要としないが、
セフアロスポリン骨格に変化を与えない範囲で
脱酸剤を添加すると円滑に反応が進行すること
もある。この反応に用いられるものとしては、
水酸化アルカリ金属塩、炭酸水素アルカリ金属
塩、トリエチルアミン、ピリジンおよびN,N
−ジメチルアニリンなどの無機または有機塩基
が挙げられる。反応は一般に0〜100℃の範囲
で行われる。通常一般式〔〕、〔〕または
〔XI〕の化合物もしくはそれらの塩類1当量に
対しそれぞれ1〜数当量のチオホルムアミドま
たはチオ尿素類が用いられる。反応時間は、1
〜48時間、好ましくは1〜10時間である。さら
に、一般式〔a〕または〔b〕の各化合物
においても、カルボキシル基の保護、保護基の
脱離、さらには塩類への変換は常法に従つて行
い、対応する目的化合物に変換できる。また、
式中のR1、R2、R3の基に本反応に活性な基が
存在するときは、反応に際し、通常の保護基で
任意に保護しておいて、反応後、常法によりそ
の保護基を脱離させることもできる。以上のよ
うにして得られた本発明の一般式〔a〕また
は〔b〕の目的化合物またはその塩類は、常
法によつて単離することができる。 (ヘ) オキシム化反応 一般式〔〕の化合物またはその塩類に、
一般式〔〕またはその塩類を反応させるこ
とによつて、一般式〔b〕の化合物またはそ
の塩類が得られる。一般式〔〕の化合物の
塩類としては、たとえば、塩酸塩、臭化水素酸
塩、硫酸塩などが挙げられる。そして、この反
応は、通常、水、アルコールおよびN,N−ジ
メチルアセトアミドなどの溶媒の外に、反応に
不活性な溶媒、またはこれらの混合溶媒中で行
われ、反応は0〜100℃、好ましくは10〜50℃
の範囲で行われる。反応時間は通常10分〜48時
間である。一般式〔〕の化合物またはその
塩類1当量に対して1〜数当量の一般式〔
〕の化合物またはその塩類が用いられる。
尚、一般式〔〕の化合物の塩類はそのまま
本反応に用いることができるが、たとえば水酸
化アルカリ金属(たとえば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなど)、水酸化アルカリ土
類金属(たとえば、水酸化マグネシウム、水酸
化カルシウムなど)、炭酸アルカリ金属(たと
えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど)、
炭酸アルカリ土類金属(たとえば、炭酸マグネ
シウム、炭酸カルシウムなど)、炭酸水素アル
カリ金属(たとえば、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウムなど)、燐酸アルカリ土類金属
(たとえば、燐酸マグネシウム、燐酸カルシウ
ムなど)、燐酸水素アルカリ金属(たとえば、
燐酸水素二ナトリウム、燐酸水素二カリウムな
ど)の無機塩基または酢酸アルカリ金属(たと
えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなど)、
トリアルキルアミン(たとえば、トリメチルア
ミン、トリエチルアミンなど)、ピコリン、N
−メチルピロリジン、N−メチルモルホリン、
1,5−ジアザビシクロ〔4、3、0〕−5−
ノネン、1,4−ジアザビシクロ〔2、2、
2〕オクタン、1,5−ジアザビシクロ〔5、
4、0〕−7−ウンデセンなどの有機塩基など
の塩基の存在下に反応をさせることもできる。
このようにして得られた本発明の一般式〔
b〕の化合物またはその塩類は、閉環反応のと
ころで説明した如く、R1を変換することがで
き、また常法によつても単離することができ
る。 以上のようにして得られた一般式〔〕の化
合物およびその塩類は、遊離酸の形、非毒性塩
もしくは生理的に許容されるエステルの形で細
菌感染症の治療および予防のために人および動
物に投与することができ、遊離酸の形または非
毒性塩の形で非経口的投与方法、または生理的
に許容されるエステルの形で経口的投与方法を
適用することが好ましい。その場合、通常セフ
アロスポリン系薬剤に適用されている剤形、た
とえば、錠剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤、細
粒剤、シロツプ剤、注射剤(点滴剤も含む)、
坐剤などの形に調製すればよい。上の薬剤を調
製する際、必要に応じ、たとえば、デンプン、
乳糖、砂糖、リン酸カルシウム、炭酸カルシウ
ムなどの賦形剤;アラビアゴム、デンプン、結
晶セルロース、カルボキシメチルセルロース、
ヒドロキシプロピルセルロースなどの結合剤;
タルク、ステアリン酸マグネシウムなどの滑沢
剤、およびカルボキシメチルカルシウム、タル
クなどの崩壊剤などの希釈剤および/または添
加剤を用いてもよい。 また、一般式〔〕の化合物あるいはその塩
類を投与する場合、症状によつて投与量および
投与回数ならびに投与方法は適宜選択できる
が、一般に成人1人当り、1回量約50〜5000mg
を1日1〜4回程度経口または非経口投与すれ
ばよい。 つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げ
て説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。 参考例 1 (1) 三弗化硼素27.13gを含む酢酸エチル溶液
100mlに、7−アミノセフアロスポラン酸(以
下、7−ACAと略記する。)27.2gおよびマレ
インヒドラジド12.32gを加え、室温で16時間
反応させる。反応終了後、反応液を氷水150ml
中に投与し、氷冷下、28%アンモニア水でPH
3.5に調整する。析出晶を取し、水100ml、お
よびアセトン100mlで順次洗浄した後、乾燥す
れば、融点200℃以上を示す7−アミノ−3−
{〔1−(3,6−ジオキソ−1,2,3,6−
テトラヒドロピリダジニル)〕メチル}−△3
セフエム−4−カルボン酸28.75g(収率88.7
%)を得る。 IR(KBr)cm-1:νC=O 1790、1655、1630、
1600 NMR(CF2COOD)δ値: 3.72(2H、bs、C2−H)、 5.41、5.72(2H、ABq、J=15Hz、
[Formula] Silyl derivatives and phosphorus derivatives produced by reaction with phosphorus compounds such as (CH 3 CH 2 O) 2 PCl, (CH 3 CH 2 ) 2 PCl, or tin compounds such as (C 4 H 9 ) 3 SnCl. Also included are all those frequently used in acylation reactions, such as tin derivatives. General formula [], [], [], [] or [
Specifically, reactive derivatives of compounds of formulas [], [], [], [] or [] include acid halides, acid anhydrides, mixed acid anhydrides, active acid amides, active esters, and ) Reactive derivatives of the compound with Vilsmeier's reagent, etc. The mixed acid anhydride includes, for example, a mixed acid anhydride with a carbonic acid monoalkyl ester such as carbonic acid monoethyl ester and carbonic acid monoisobutyl ester, and a lower alkanoic acid which may be substituted with a halogen such as pivalic acid and trichloroacetic acid. Mixtures of acid hydrides and the like are used. Examples of the active acid amide include N-acyl saccharin, N-acylimidazole, N-acylbenzoylamide, N,
N'-dicyclohexyl-N-acylurea, N
-Acylsulfonamide etc. are used. Next, as the active ester, for example, cyanomethyl ester, substituted phenyl ester, substituted benzyl ester, substituted thier ester, etc. are used. In addition, examples of derivatives reactive with the Vilsmeier reagent include N,N-dimethylformamide,
Acid amides such as N,N-dimethylacetamide are treated with halogenating agents such as phosgene, thionyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, trichloromethyl chloroformate, and oxalyl chloride. Examples include derivatives reactive with Vilsmeier's reagent obtained by General formula [], [], [], [] or [
] When using each compound in the form of a free acid or salt, a suitable condensing agent is used. Such condensing agents include, for example, N,N'-
N such as dicyclohexylcarbodiimide,
N′-disubstituted carbimides, azolide compounds such as N,N′-thionyldiimidazole, N
-ethoxycarbonyl-2-ethoxy-1,2
Dehydrating agents such as -dihydroxyquinoline, phosphorus oxychloride, and acid alkoxyacetylene, 2-halogenopyridinium salts (eg, 2-chloropyridinium methyliodide, 2-fluoropyridinium methyliodide), and the like are used. This acylation reaction is generally carried out in a suitable solvent with or without a base. Examples of solvents that can be used include chloroform, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, tetrahydrofuran, ethers such as dioxane, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, acetone, water, and mixtures thereof. The bases used here include inorganic bases such as alkali hydroxide, alkali hydrogen carbonate, alkali carbonate or alkali acetate, or trimethylamine, triethylamine, tributylamine, pyridine, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, lutidine, collidine, etc. Examples include tertiary amines and secondary amines such as dicyclohexylamine and diethylamine. In addition, general formula [a] and [
The compound of the general formula [] and its salts which can be derived from the compound of b] and its salts can also be produced as follows. In order to obtain the compound of the general formula [] or its salts using the compound of the general formula [] or its salts, the reaction of diketene with a halogen such as chlorine or bromine [Journal of the Chemical Society, 97] , 1987 (1910)] and a compound of the general formula [] or a salt thereof may be reacted according to a conventional method. Conditions and operations known in the art can be applied to this reaction condition and operation. Also, general formula []
The salts of the compound can be easily obtained according to conventional methods, and the salts include the same salts as explained above for the salts of the compound of the general formula []. The resulting compound of general formula [] and its salts may be isolated and purified by conventional methods, but may also be used in the next reaction without isolation. The amount of the compound of the general formula [], [], [], [] or [] or its reactive derivative to be used is per mole of the compound of the general formula [], its salt or its reactive derivative in the amino group. On the other hand, it is usually preferable to use about 1 to several moles each. Reaction temperature is usually -50 to 40℃
It is carried out within the range of Reaction time is usually 10 minutes to 48
It's time. Furthermore, general formulas [], [], [], [XI] and [] in which R 1 is a carboxyl protecting group
In the case of compounds of the general formula [], [], [], [XI] and [], where R 1 is a hydrogen atom, or their salts; General formula [], where R 1 is a hydrogen atom, In the case of compounds of [], [], [XI] and [], the general formula [], [], [], [XI] where R 1 is a carboxyl protecting group
and [ ] or their salts; and in the case of salts of compounds of the general formulas [ ], [ ], [ ], [ can be converted. In addition, in this acylation reaction, R 1 , R 2 ,
When there is a reactive group in the R 3 group,
During the reaction, it can be optionally protected with a conventional protecting group, and after the reaction, the protective group can be removed by a conventional method. The compound of the general formula [] of the present invention obtained as described above and its salts can be isolated by a conventional method. (d) Nitrosation reaction Next, to obtain a compound of general formula [] or a salt thereof from a compound of general formula [] or a salt thereof, the compound of general formula [] or a salt thereof is reacted with a nitrosation agent. This reaction is usually carried out in a solvent, and examples of the solvent that can be used include water, acetic acid, benzene, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, and other solvents that are inert to the reaction. Preferred examples of nitrosating agents include nitric acid and its derivatives, such as nitrosyl halides such as nitrosyl chloride and nitrosyl bromide, sodium nitrite,
alkali metal salts of nitrite, such as potassium nitrite;
Examples include alkyl nitrites such as butyl nitrite and pentyl nitrite. When using a salt of nitrous acid as a nitrosating agent, the reaction is preferably carried out in the presence of an inorganic or organic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid, or acetic acid. When a nitrite is used as a nitrosating agent, it is preferably carried out in the presence of a strong base such as an alkali metal alkoxide. The reaction is generally carried out in the range of -15 to 30°C,
The reaction time is usually 10 minutes to 10 hours. Also,
Salts of the compound of general formula [] can be easily obtained according to conventional methods, and examples of the salts include the same salts as explained for the salts of the compound of general formula []. The compound of general formula [] and its salts thus obtained can be isolated and purified by known means, but can also be used as a raw material for the next reaction without being isolated. (d) Alkylation reaction Next, in order to obtain the compound of general formula [XI] or its salts from the compound of general formula [] or its salts, the compound of general formula [] or its salts is subjected to an alkylation reaction. This alkylation reaction can be carried out according to a conventional method. The reaction is generally carried out in the range of -20 to 60°C, and the reaction time is
Usually it takes 5 minutes to 10 hours. Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, such as tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, chloroform, methylene chloride, ethyl acetate, butyl acetate, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and water. etc. or a mixture thereof can be used. As the alkylating agent, for example, lower alkyl halides such as methyl iodide, methyl bromide, methyl iodide, and ethyl bromide, dimethyl sulfate, diethyl sulfate, diazomethane, diazoethane, or methyl p-toluenesulfonate are used. . When using an alkylating agent other than diazomethane or diazoethane, alkali metal carbonates such as sodium carbonate or potassium carbonate, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, triethylamine, pyridine, N, It is generally carried out in the presence of a base such as N-dimethylaniline. Further, salts of the compound of general formula [XI] can be easily obtained according to conventional methods, and examples of the salts include the same salts as explained in connection with the salts of the compound of general formula []. The compound of general formula [XI] and its salts thus obtained can be isolated and purified by known means, or can be used as a raw material for the next reaction without further purification. (e) Ring-closing reaction Next, by reacting each compound of the general formula [], [] or [XI] or a salt thereof with the thioformamide or thiourea of the general formula [XII], the compound of the general formula [] of the present invention can be obtained. A] or [b] compounds or salts thereof are obtained. This reaction is usually carried out in a solvent. Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, but examples include water, methanol, ethanol, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, N,N-dimethylformamide, N,N-
One or more mixed solvents such as dimethylacetamide and N-methylpyridone are used. Addition of deoxidizing agent is not particularly necessary, but
The reaction may proceed smoothly if a deoxidizing agent is added within a range that does not change the cephalosporin skeleton. The materials used in this reaction are:
Alkali metal hydroxide, alkali metal hydrogencarbonate, triethylamine, pyridine and N,N
- Inorganic or organic bases such as dimethylaniline. The reaction is generally carried out at a temperature in the range of 0 to 100°C. Generally, one to several equivalents of thioformamide or thioureas are used per equivalent of the compound of general formula [], [] or [XI] or a salt thereof. The reaction time is 1
~48 hours, preferably 1 to 10 hours. Furthermore, in each compound of general formula [a] or [b], protection of the carboxyl group, removal of the protecting group, and further conversion into salts can be carried out according to conventional methods to convert them into the corresponding target compounds. Also,
When R 1 , R 2 , and R 3 in the formula have a group active in this reaction, they are optionally protected with a conventional protecting group during the reaction, and after the reaction, the protection can be carried out by a conventional method. Groups can also be eliminated. The target compound of the general formula [a] or [b] of the present invention obtained as described above or its salts can be isolated by a conventional method. (f) Oxime formation reaction The compound of the general formula [] or its salts,
A compound of general formula [b] or a salt thereof can be obtained by reacting general formula [] or a salt thereof. Examples of the salts of the compound of general formula [] include hydrochloride, hydrobromide, and sulfate. This reaction is usually carried out in a solvent such as water, alcohol, and N,N-dimethylacetamide, a solvent inert to the reaction, or a mixed solvent thereof, and the reaction is carried out at 0 to 100°C, preferably. is 10~50℃
It is carried out within the range of. The reaction time is usually 10 minutes to 48 hours. 1 to several equivalents of the compound of the general formula [] or a salt thereof per equivalent of the compound of the general formula []
] or its salts are used.
Note that salts of the compound of general formula [] can be used as they are in this reaction, but for example, alkali metal hydroxides (e.g., sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.), alkaline earth metal hydroxides (e.g., hydroxide, etc.) magnesium, calcium hydroxide, etc.), alkali metal carbonates (e.g., sodium carbonate, potassium carbonate, etc.),
Alkaline earth metal carbonates (e.g., magnesium carbonate, calcium carbonate, etc.), alkali metal bicarbonates (e.g., sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, etc.), alkaline earth metal phosphates (e.g., magnesium phosphate, calcium phosphate, etc.), phosphoric acid Hydrogen alkali metals (e.g.
inorganic bases such as disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, etc.) or alkali metal acetates (such as sodium acetate, potassium acetate, etc.),
Trialkylamines (e.g. trimethylamine, triethylamine, etc.), picoline, N
-Methylpyrrolidine, N-methylmorpholine,
1,5-diazabicyclo[4,3,0]-5-
nonene, 1,4-diazabicyclo[2,2,
2] Octane, 1,5-diazabicyclo[5,
The reaction can also be carried out in the presence of a base such as an organic base such as 4,0]-7-undecene.
The general formula of the present invention thus obtained [
In the compound b] or a salt thereof, R 1 can be converted as explained in the ring-closing reaction, and it can also be isolated by a conventional method. The compound of the general formula [] and its salts obtained as above can be used in the treatment and prevention of bacterial infections in humans and in the form of free acids, non-toxic salts or physiologically acceptable esters. Preference is given to applying parenteral administration methods, in the form of free acids or non-toxic salts, or oral administration methods, which can be administered to animals, in the form of physiologically acceptable esters. In that case, the dosage form usually applied to cephalosporin drugs, such as tablets, capsules, powders, granules, fine granules, syrups, injections (including drips),
It may be prepared in the form of a suppository or the like. When preparing the above drug, if necessary, for example, starch,
Excipients such as lactose, sugar, calcium phosphate, calcium carbonate; gum arabic, starch, crystalline cellulose, carboxymethyl cellulose,
a binder such as hydroxypropyl cellulose;
Diluents and/or additives such as lubricants such as talc, magnesium stearate, and disintegrants such as carboxymethylcalcium, talc may be used. In addition, when administering the compound of general formula [] or its salts, the dosage, frequency of administration, and administration method can be selected as appropriate depending on the symptoms, but in general, a single dose of about 50 to 5000 mg per adult is used.
may be administered orally or parenterally about 1 to 4 times a day. Next, the present invention will be explained with reference to Reference Examples and Examples, but the present invention is not limited thereto. Reference example 1 (1) Ethyl acetate solution containing 27.13g of boron trifluoride
27.2 g of 7-aminocephalosporanic acid (hereinafter abbreviated as 7-ACA) and 12.32 g of maleic hydrazide were added to 100 ml and reacted at room temperature for 16 hours. After the reaction is complete, add the reaction solution to 150ml of ice water.
PH with 28% ammonia water under ice-cooling.
Adjust to 3.5. The precipitated crystals are collected, washed with 100 ml of water and 100 ml of acetone, and dried to produce 7-amino-3-, which has a melting point of 200°C or higher.
{[1-(3,6-dioxo-1,2,3,6-
Tetrahydropyridazinyl)]methyl}-△ 3-
28.75 g of cefem-4-carboxylic acid (yield 88.7
%). IR (KBr) cm -1 : νC=O 1790, 1655, 1630,
1600 NMR (CF 2 COOD) δ value: 3.72 (2H, bs, C 2 -H), 5.41, 5.72 (2H, ABq, J = 15Hz,

【式】)、 5.47(2H、a、C6−H、C7−H)、 7.58(2H、s、[Formula]), 5.47 (2H, a, C 6 -H, C 7 -H), 7.58 (2H, s,

【式】)、 (2) (1)の三位変換反応を下記の条件にて行つた場
合の結果は表−3の通りである。
[Formula]), (2) The results when the three-position conversion reaction of (1) was carried out under the following conditions are shown in Table 3.

【表】 参考例 2 (1) 三弗化硼素27.13gを含むスルホラン溶液100
mlに、7−ACA27.2gおよび3−メチル−6
−オキソ−1,6−ジヒドロピリダジン13.2g
を加え室温で3時間反応させる。反応終了後、
反応液を氷冷下メタノール500ml中へ導入し、
ついでピリジン31.6gを滴下する。析出晶を
取し、メタノールで十分洗浄した後、乾燥すれ
ば、7−アミノ−3−{〔1−(3−メチル−6
−オキソ−1,6−ジヒドロピリダジニル)〕
メチル}−△3−セフエム−4−カルボン酸の結
晶29.5g、(収率91.6%)を得る。同様にして、
表−4の化合物を得た。
[Table] Reference example 2 (1) 100 sulfolane solution containing 27.13g of boron trifluoride
ml, 27.2 g of 7-ACA and 3-methyl-6
-oxo-1,6-dihydropyridazine 13.2g
and react at room temperature for 3 hours. After the reaction is complete,
The reaction solution was introduced into 500 ml of methanol under ice cooling,
Then, 31.6 g of pyridine was added dropwise. The precipitated crystals are collected, thoroughly washed with methanol, and then dried to give 7-amino-3-{[1-(3-methyl-6
-oxo-1,6-dihydropyridazinyl)]
29.5 g of crystals of methyl}-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid (yield 91.6%) are obtained. Similarly,
The compounds shown in Table 4 were obtained.

【表】【table】

【表】 (2) (1)で得られた7−アミノ−3−{〔1−(3−
メチル−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリダ
ジニル)〕メチル}−△3−セフエム−4−カル
ボン酸29.5gをメタノール300mlに懸濁させ、
これにp−トルエンスルホン酸・1水和物15.7
gを加え溶解させた後、ジフエニルジアゾメタ
ン53.3gを徐々に加え、室温下15分間反応させ
る。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物に酢酸エチル200mlおよび水200mlを
加え、炭酸水素ナトリウムでPH7.0に調整する。
ついで不溶物を別し、有機層を分取し無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を
留去する。残留物をカラムクロマトグラフイー
(和光シリカゲルC−200、展開溶媒;クロロホ
ルム:メタノール=100:1)で精製すれば、
融点90〜93℃(分解)を示すジフエニルメチル
=7−アミノ−3−{〔1−(3−メチル−6−
オキソ−1,6−ジヒドロピリダジニル)〕メ
チル}−△3−セフエム−4−カルボキシレート
10.5g(収率23.5%)を得る。 IR(KBr)cm-1:νC=O 1770、1720、1660 NMR(d2−DMSO)δ値: 22.5(3H、s、−CH2)、 3.43(2H、bs、C2−H)、 4.90(1H、d、J=5Hz、C6−H)、 4.92、5.28(2H、ABq、J=15Hz、
[Table] (2) 7-amino-3-{[1-(3-
29.5 g of methyl-6-oxo-1,6-dihydropyridazinyl)]methyl}-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid was suspended in 300 ml of methanol,
In this, p-toluenesulfonic acid monohydrate 15.7
After adding and dissolving 53.3 g of diphenyldiazomethane, the mixture was allowed to react for 15 minutes at room temperature. After the reaction is complete, the solvent is distilled off under reduced pressure, and 200 ml of ethyl acetate and 200 ml of water are added to the resulting residue, and the pH is adjusted to 7.0 with sodium hydrogen carbonate.
Then, insoluble matter is separated, the organic layer is separated and dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the solvent is distilled off under reduced pressure. If the residue is purified by column chromatography (Wako silica gel C-200, developing solvent: chloroform:methanol = 100:1),
Diphenylmethyl 7-amino-3-{[1-(3-methyl-6-
Oxo-1,6-dihydropyridazinyl)]methyl}-△ 3 -cephem-4-carboxylate
Obtain 10.5 g (yield 23.5%). IR (KBr) cm -1 : νC=O 1770, 1720, 1660 NMR (d 2 -DMSO) δ value: 22.5 (3H, s, -CH 2 ), 3.43 (2H, bs, C 2 -H), 4.90 (1H, d, J = 5Hz, C 6 -H), 4.92, 5.28 (2H, ABq, J = 15Hz,

【式】)、 5.10(1H、d、J=5Hz、C7−H)、 6.97、7.41(2H、ABq、J=10Hz、
[Formula]), 5.10 (1H, d, J=5Hz, C 7 -H), 6.97, 7.41 (2H, ABq, J=10Hz,

【式】)、 7.06(1H、s、CH)、 7.20〜7.84(10H、m、【formula】), 7.06 (1H, s, CH), 7.20~7.84 (10H, m,

【式】 ×2) 同様にして、表−5の化合物を得た。 [Formula] ×2) In the same manner, the compounds shown in Table 5 were obtained.

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 「式中、R1は、水素原子またはカルボキシル保
護基を、R2は、式【式】 【式】または【式】(式 中、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およ
びR14は、同一または異なつて、水素原子、ハロ
ゲン原子またはアルキル基を示す。)で表わされ
る基を、R3は、水素原子を、R4は、水素原子を、
R5は、保護されていてもよいアミノ基を、Aは、
式−CH2−または式【式】(式中、R15 は、保護されていてもよいカルボキシル基で置換
されていてもよいアルキル基を示し、〜は、シン
もしくはアンチ異性体またはそれらの混合物でも
よいことを示す。)で表わされる基を各々示す。」 で表わされるセフイロスポリンおよびその塩類。 2 R5が、アミノ基である特許請求の範囲第1
項記載のセフアロスポリンおよびその塩類。 3 Aが、式【式】(式中、R15および 〜は、それぞれ、前記した意味を有する。)で表
わされる基である特許請求の範囲第1項または第
2項記載のセフアロスポリンおよびその塩類。 4 Aが、式【式】(式中、シン異性 体である。)で表わされる基である特許請求の範
囲第1〜3項いずれかの項記載のセフアロスポリ
ンおよびその塩類。 5 Aが、式【式】(式中、シ ン異性体を、R1は、前記した意味を有する。)で
表わされる基である特許請求の範囲第1〜3項い
ずれかの項記載のセフアロスポリンおよびその塩
類。 6 R2が、式【式】(式中、R6、 R7およびR8は、それぞれ、前記した意味を有す
る。)で表わされる基である特許請求の範囲第1
〜5項いずれかの項記載のセフアロスポリンおよ
びその塩類。 7 R2が、式【式】(式中、R9、R10 およびR11は、それぞれ、前記した意味を有す
る。)で表わされる基である特許請求の範囲第1
〜5項いずれかの項記載のセフアロスポリンおよ
びその塩類。 8 R2が、式【式】(式中、R12、 R13およびR14は、それぞれ、前記した意味を有
する。)で表わされる基である特許請求の範囲第
1〜5項いずれかの項記載のセフアロスポリンお
よびその塩類。 9 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−{[1−(3,6−ジオキソ−1,2,3,
6−テトラヒドロピリダジニル)]メチル}−△3
−セフエム−4−カルボン酸、そのエステルまた
はそれらの塩である特許請求の範囲第6項記載の
化合物。 10 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド−3−{[1−(3,6−ジオキソ−1,
2,3,6−テトラヒドロピリダジニル)]メチ
ル}−△3−セフエム−4−カルボン酸、そのエス
テルまたはそれらの塩である特許請求の範囲第6
項記載の化合物。 11 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−{[1−(3−メチル−6−オキソ−1,6
−ジヒドロピリダジニル)]メチル}−△3−セフ
エム−4−カルボン酸、そのエステルまたはそれ
らの塩である特許請求の範囲第7項記載の化合
物。 12 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド]−3−{[1−(3−メチル−6−オキ
ソ−1,6−ジヒドロピリダジニル)]メチル}−
3−セフエム−4−カルボン酸、そのエステル
またはそれらの塩である特許請求の範囲第7項記
載の化合物。 13 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−{[1−(2−オキソ−1,2−ジヒドロピ
ラジニル)]メチル}−△3−セフエム−4−カル
ボン酸、そのエステルまたはそれらの塩である特
許請求の範囲第8項記載の化合物。
[Claims] 1. General formula "In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, R 2 is the formula [Formula] [Formula] or [Formula] (wherein R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group), R 3 is a hydrogen atom, and R 4 is a hydrogen atom. of,
R 5 is an optionally protected amino group, A is
Formula -CH 2 - or Formula [Formula] (wherein R 15 represents an alkyl group optionally substituted with a carboxyl group that may be protected, and ~ is a syn or anti isomer or a mixture thereof ). ” Cefirosporin and its salts. 2. Claim 1 in which R 5 is an amino group
Cephalosporin and its salts as described in Section. 3. The cephalosporin and its salts according to claim 1 or 2, wherein A is a group represented by the formula [Formula] (wherein R 15 and ~ each have the above-mentioned meanings) . 4. The cephalosporin and its salts according to any one of claims 1 to 3, wherein A is a group represented by the formula [Formula] (in which it is a syn isomer). 5. The cephalosporin according to any one of claims 1 to 3, wherein A is a group represented by the formula [Formula] (wherein R 1 represents the syn isomer and R 1 has the meaning described above). and its salts. 6 Claim 1, wherein R 2 is a group represented by the formula [Formula] (wherein R 6 , R 7 and R 8 each have the above-mentioned meanings)
Cephalosporin and its salts according to any one of items 1 to 5. 7 Claim 1, wherein R 2 is a group represented by the formula [Formula] (wherein R 9 , R 10 and R 11 each have the above-mentioned meanings)
Cephalosporin and its salts according to any one of items 1 to 5. 8. Any one of claims 1 to 5, wherein R 2 is a group represented by the formula [Formula] (wherein R 12 , R 13 and R 14 each have the above-mentioned meanings). Cephalosporin and its salts as described in Section. 9 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-{[1-(3,6-dioxo-1,2,3,
6-tetrahydropyridazinyl)]methyl}-△ 3
-Cefem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 10 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide-3-{[1-(3,6-dioxo-1,
Claim 6 which is 2,3,6-tetrahydropyridazinyl)]methyl}-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid, its ester or its salt
Compounds described in Section. 11 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-{[1-(3-methyl-6-oxo-1,6
-dihydropyridazinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 12 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-{[1-(3-methyl-6-oxo-1,6-dihydropyrin) dadinyl)]methyl}-
8. The compound according to claim 7, which is Δ3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 13 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-{[1-(2-oxo-1,2-dihydropyrazinyl)]methyl}-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof Claim 8 Compounds described.
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